JP2008078094A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラズマ処理装置が作動して、プラズマ放出口6から処理台1上の対象物4に対してプラズマが照射される間、ガス噴出口8から、プラズマ照射ヘッド2と処理台の間に形成された空間内に噴出されたガスが、プラズマ放出口からのプラズマによるプラズマ処理後のガスとともに、第1および第2のガス排出口7、9からガス排出管17を通じて排出され、液体窒素トラップ18を経て浄化された後、適宜ガス源20から供給される新たなガスと混合され、再び送風手段19からガス供給管16を通じてガス噴出口8から空間内に噴出され、プラズマ照射ヘッド、処理台およびガス流のカーテンによって、プラズマ放出口を包囲する。
【選択図】図3
Description
また好ましくは、前記プラズマ照射ヘッドの支持手段は、前記プラズマ照射ヘッドを前記一対の垂直壁に沿って前記処理台に対して運動させるようになっており、あるいは、前記処理台の上面は、前記対象物を前記処理台の長さ方向に移動させる搬送面を形成している。
また好ましくは、前記プラズマ照射ヘッドの支持手段は、前記プラズマ照射ヘッドを前記処理台に対して運動させるようになっており、あるいは、前記処理台の上面は、前記対象物を移動させる搬送面を形成している。
バッファー8aは、ガス供給管16を介して、ファンまたはコンプレッサー等の送風手段19の送気口に接続され、送風手段19の吸気口には、ガス源20が接続される。ガス源20は、(図示されない)流量調節バルブを介して、プラズマ処理のための反応ガスまたはプラズマ処理に悪影響を及ぼさないガスまたはそれらの混合ガスを供給するようになっている。また、バッファー7a、9aには、ガス排出管17が接続され、さらに、ガス排出管17は、液体窒素トラップ18を介して送風手段19の吸気口に接続される。
そして、プラズマ処理装置が作動して、対象物32に対してプラズマ放出口35がスポット状のプラズマが照射されている間、ガス噴出口37から、プラズマ照射ヘッド31の先端面31aと、処理台30の上面とによって形成された空間内に噴出されたガスが、プラズマ放出口35からのプラズマによるプラズマ処理後のガスとともに、第1および第2のガス排出口36、38からガス排出管を通じて排出され、液体窒素トラップを経て浄化された後、適宜ガス源から供給される新たなガスと混合され、再び送風手段からガス供給管を通じてガス噴出口37から空間内に噴出される。
こうして、本実施例においても図1の実施例の場合と同様の効果が得られる。
2 プラズマ照射ヘッド
2b 先端面
3 支持手段
4 プラズマ処理すべき対象物
5a、5b 垂直壁
6 プラズマ放出口
6a バッファー
7 第1ガス排出口
8 ガス噴出口
8a バッファー
9 第2ガス排出口
9a バッファー
10 導波管
11 放電管
12 支持ブロック
13 ガス導入路
14 ガス供給パイプ
15 ガス供給源
16 ガス供給管
17 ガス排出管
18 液体窒素トラップ
19 送風手段
20 ガス源
24 ヒーター
Claims (11)
- プラズマ処理すべき対象物が置かれる処理台と、
前記処理台の上方に間隔をあけて配置され、前記処理台上の前記対象物に対して下向きにライン状のプラズマを照射するプラズマ照射ヘッドと、
前記プラズマ照射ヘッドを支持する支持手段と、を備え、
前記処理台の上面は一定の幅を有しかつ長さ方向両側に垂直壁を備え、前記プラズマ照射ヘッドの先端は、前記処理台の幅に対応する幅を有しかつ前記処理台の長さ方向にのびる形状を有していて、一対の前記垂直壁の間に挿入され、前記プラズマ照射ヘッドの先端面が前記処理台の上面に対向し、さらに、該先端面には、前記処理台の幅方向にのびるスリット状のプラズマ放出口が設けられるとともに、前記処理台の長さ方向における前記プラズマ放出口の両側に少なくとも各1つのガス噴出口およびガス排出口が設けられ、前記ガス噴出口は、ガス供給管を介してガス源に接続されて、プラズマ処理のための反応ガスまたはプラズマ処理に悪影響を及ぼさないガスを前記処理台の幅方向にライン状に噴出するようになっており、前記ガス排出口はガス排出管を介して排気手段に接続されているものであることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記プラズマ照射ヘッドの先端面の前記ガス噴出口および前記ガス排出口は、それぞれ、前記処理台の幅方向にのびるスリット状に形成されていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマ照射ヘッドの先端面の前記ガス噴出口および前記ガス排出口は、それぞれ、前記処理台の幅方向にのびる孔の列として形成されていることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマ照射ヘッドの支持手段は、前記プラズマ照射ヘッドを前記一対の垂直壁に沿って前記処理台に対して運動させるようになっていることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記処理台の上面は、前記対象物を前記処理台の長さ方向に移動させる搬送面を形成していることを特徴とする請求項1〜請求項3のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- プラズマ処理すべき対象物が置かれる処理台と、
前記処理台の上方に間隔をあけて配置され、前記処理台上の前記対象物に対して下向きにスポット状のプラズマを照射するプラズマ照射ヘッドと、
前記プラズマ照射ヘッドを支持する支持手段と、を備え、
前記プラズマ照射ヘッドの先端面は、前記処理台の上面に対向し、さらに、該先端面には、中央に円形のプラズマ放出口が設けられるとともに、前記プラズマ放出口の外側には、少なくとも各1つのガス噴出口およびガス排出口が前記プラズマ放出口に同心的に設けられ、前記ガス噴出口は、ガス供給管を介してガス源に接続されて、プラズマ処理のための反応ガスまたはプラズマ処理に悪影響を及ぼさないガスを前記プラズマ放出口を取り巻く環状に噴出するようになっており、前記ガス排出口はガス排出管を介して排気手段に接続されているものであることを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記プラズマ照射ヘッドの先端面の前記ガス噴出口および前記ガス排出口は、それぞれ、環状のスリットとして形成されていることを特徴とする請求項6に記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマ照射ヘッドの先端面の前記ガス噴出口および前記ガス排出口は、それぞれ、環状に配置された孔の列として形成されていることを特徴とする請求項6に記載のプラズマ処理装置。
- 前記プラズマ照射ヘッドの支持手段は、前記プラズマ照射ヘッドを前記処理台に対して運動させるようになっていることを特徴とする請求項6〜請求項8のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記処理台の上面は、前記対象物を移動させる搬送面を形成していることを特徴とする請求項6〜請求項8のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
- 前記処理台には、その上面を加熱するためのヒーター手段が組み込まれていることを特徴とする請求項1〜請求項10のいずれかに記載のプラズマ処理装置。
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