JP2010129197A - プラズマ処理装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】
一対の電極31a,32aと、電極間に所定の電力を供給する電源6と、電極間に処理ガスを供給する処理ガス供給装置5と、電極を覆うように設けられたダクト7と、ダクト内71に冷却ガス8を供給する冷却ガス供給装置9を備え、放電による熱で加熱された電極31a,32aを冷却ガス8で冷却すると共に、冷却の際に暖められた冷却ガス8’を、被処理物10の被処理面10aのうち、少なくともプラズマ化された処理ガスにより処理される被処理領域10bよりも移動方向の上流側に噴射して、被処理物10を加熱する。
【選択図】図1
Description
本発明の第1実施形態に係るプラズマ処理装置について、図面を参照しつつ説明する。図1は、第1実施形態における間接型プラズマ処理装置1の構成を示す。
次に、本発明の第2実施形態に係るプラズマ処理装置について、図面を参照しつつ説明する。図3は、第2実施形態における直接型プラズマ処理装置の構成を示す。直接型プラズマ装置20は、一対の電極のうち、一方の第1電極21は被処理物10の被処理領域10bにおいて、被処理面10aの裏面に接触するローラであり、他方の第2電極22は被処理物10の被処理面10aに対向する板状の電極である。被処理物10は、ローラ状の第1電極21の回転によって第2電極22に対して相対的に移動される。被処理物10は、例えばシート状など、比較的厚みの薄いものであり、表面の凹凸も比較的小さいものに限定されるが、連続的に表面処理を行うことができる。
2 筐体
2a 開口
4 処理ガス
4’ プラズマ化された処理ガス
41 ガス流路
5 処理ガス供給装置
6 電源
7 ダクト
71 ダクトの内部
72 ダクトと筐体の隙間
11 紫外線光源
8 冷却ガス
8’ 暖められた冷却ガス
9 冷却ガス供給装置
10 被処理物
10a 被処理面
10b 被処理領域
20 直接型プラズマ処理装置
21 (ローラ状の)第1電極
22 (板状の)第2電極
23 ヒータ
24 紫外線光源
27 ダクト
28 ダクトと第2電極の隙間
31、32 電極体
31a、32a 電極
31b、32b 誘電体(絶縁体)
Claims (4)
- 一対の電極と、前記電極間に所定の電力を供給する電源と、前記電極間に処理ガスを供給する処理ガス供給装置とを備え、前記電極間でプラズマ化された処理ガスを所定方向に移動される被処理物の一つの被処理面に反応させて、前記被処理面を処理するプラズマ処理装置であって、
前記一対の電極のうち、前記被処理物の被処理面に対向する側に設けられた少なくとも1つの電極を覆うように設けられたダクトと、前記ダクト内に冷却ガスを供給する冷却ガス供給装置をさらに備え、
放電による熱で加熱された前記少なくとも1つの電極を前記冷却ガスで冷却すると共に、冷却の際に暖められた冷却ガスを、前記被処理物の被処理面のうち、少なくともプラズマ化された処理ガスにより処理される被処理領域よりも移動方向の上流側に噴射して、前記被処理物を加熱することを特徴とするプラズマ処理装置。 - 前記一対の電極のいずれも前記被処理物とは非接触であり、かつ前記被処理物の被処理面に対して同じ側に設けられ、プラズマ化された処理ガスが前記被処理物の表面に対してほぼ垂直に噴射される間接型プラズマ処理装置であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記一対の電極のうち、一方の第1電極は前記被処理物の被処理面の裏面に接触するローラであり、前記第1電極の回転によって前記被処理物が他方の第2電極に対して相対的に移動され、前記処理ガスが前記第2電極と前記被処理物の被処理面の間に供給され、前記処理ガスが前記被処理物の被処理面上で直接プラズマ化される直接型プラズマ処理装置であることを特徴とする請求項1に記載のプラズマ処理装置。
- 前記第1電極の内部に加熱用のヒータをさらに設け、前記被処理物の被処理面の裏面からも前記被処理物を加熱することを特徴とする請求項3に記載の直接型プラズマ処理装置。
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