KR102503896B1 - 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법 - Google Patents

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노리타케 스미
데츠오 이토
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마나부 다쿠사리
히로노리 고토
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가부시키가이샤 스크린 홀딩스
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Abstract

기판 처리 장치 (1) 의 재치 유닛 (40) 은, 처리 블록 (20) 과 인덱서 블록 (10) 의 접속부에 형성된다. 재치 유닛 (40) 은, 인덱서 블록 (10) 으로부터 센터 로봇 (22) 으로 건네지는 미처리의 기판 (9) 을 유지한다. 또, 재치 유닛 (40) 은, 센터 로봇 (22) 으로부터 인덱서 블록 (10) 으로 건네지는 처리가 끝난 기판 (9) 을 유지한다. 제 1 차폐부 (51) 는, 대기보다 산소 농도가 낮은 저산소 분위기의 인덱서 블록 (10) 및 재치 유닛 (40) 과, 처리 블록 (20) 에 있어서 처리 유닛 (21) 과 재치 유닛 (40) 을 접속하는 반송로 (23) 사이의 기체의 이동을 차단 가능하다. 이로써, 기판 처리 장치 (1) 에 있어서의 기판 (9) 의 산화를 억제할 수 있다.

Description

기판 처리 장치 및 기판 처리 방법
본 발명은, 기판을 처리하는 기판 처리 장치 및 기판 처리 방법에 관한 것이다.
종래, 기판을 처리하는 기판 처리 장치에서는, 후프 등의 캐리어에 수용되어 있는 기판이, 인덱서 로봇에 의해 반출되어 재치 (載置) 유닛에 재치되고, 센터 로봇에 의해 재치 유닛으로부터 처리 유닛으로 반송되어 다양한 처리가 실시된다.
예를 들어, 일본 특허공보 제6280837호 (문헌 1) 및 일본 특허공보 제5626249호 (문헌 2) 의 기판 처리 시스템에서는, 반출입 스테이션의 기판 반송 기구와 처리 스테이션의 기판 반송 기구 사이에 수수부에 형성되어 있다. 수수부의 양측의 개구부는 폐쇄 기구를 갖고 있지 않고 항상 개방되어 있기 때문에, 양 스테이션의 내부 공간은, 수수부를 통하여 항상 연통되어 있다. 당해 기판 처리 시스템은 클린 룸에 설치되어 있고, 양 스테이션의 내부 공간에는 클린 룸 내의 공기가 FFU 를 통하여 공급되고 있다.
문헌 1 의 기판 처리 시스템에서는, 반출입 스테이션의 내부 공간의 압력을, 처리 스테이션의 내부 공간의 압력보다 높게 함으로써, 반출입 스테이션으로부터 수수부를 통하여 처리 스테이션으로 향하는 공기의 흐름이 형성되어 있다. 이로써, 처리 유닛에 있어서 발생하는 약품 분위기 등이, 반출입 스테이션에 진입하는 것이 억제된다. 또, 수수부에서는, 웨이퍼 상의 디바이스에 대한 습도의 영향을 저감시키기 위해서, 수수부의 반출입 스테이션측의 개구부에, 드라이 에어를 공급하는 가스 토출부가 형성되어 있다.
한편, 일본 특허공보 제4669257호 (문헌 3) 의 기판 처리 장치에서는, 로드 록실, 반송 로봇이 배치되는 반송실, 및 웨이퍼에 대한 처리가 실시되는 처리실이, 진공 펌프에 의해 진공 배기된다. 또, 당해 기판 처리 장치에서는, 로드 록실, 반송실 및 처리실에, 질소를 공급 가능하다. 질소를 공급함으로써, 진공 펌프로부터의 오일의 역확산 등에 의한 기판의 오염이 억제된다.
또, 일본 특허공보 제3737604호 (문헌 4) 의 기판 처리 장치는, 복수의 미처리 기판이 수용된 캐리어가 재치되는 수취실과, 반송 로봇이 배치되는 반송실과, 복수의 처리실과, 복수의 처리가 끝난 기판이 수용되는 캐리어가 재치된 인도실을 구비한다. 당해 기판 처리 장치에서는, 각 실에 불활성 가스가 공급되고, 각 실 내의 압력이, 인도실의 압력 ＞ 반송실의 압력 ＞ 복수의 처리실의 압력이 된다.
그런데, 문헌 1 의 장치에서는, 반출입 스테이션으로부터 처리 스테이션으로 향하는 공기의 흐름은 형성되지만, 처리 유닛에서 발생한 약품 분위기는, 확산에 의해 처리 스테이션을 경유하여 반출입 스테이션으로 진입할 우려가 있다. 또, 수수부 등에 재치되어 있는 웨이퍼는, 비교적 장시간에 걸쳐 공기와 접촉하므로, 웨이퍼 표면이 산화될 우려가 있다.
또, 문헌 3 의 장치에서는, 로드 록실, 반송실 및 처리실을 저산소 분위기로 하는 것은 가능하지만, 로드 록실, 반송실 및 처리실이 모두 진공 분위기에 대응 가능한 구조를 가질 필요가 있기 때문에, 당해 장치의 구조를, 진공하에 있어서의 처리를 실시하지 않는 기판 처리 장치에 적용하는 것은, 장치의 복잡화 및 대형화 등의 관점에서 생각할 수 없다.
문헌 4 의 장치에서는, 인도실의 압력 ＞ 반송실의 압력으로 함으로써, 인도실과 반송실 사이의 셔터가 개방되어 있는 동안, 인도실로부터 반송실을 향하는 불활성 가스의 흐름은 형성되지만, 처리실에서 발생한 약품 분위기는, 확산에 의해 반송실을 경유하여 인도실 내로 진입할 우려가 있다.
본 발명은, 기판을 처리하는 기판 처리 장치에 관한 것이며, 기판이 비교적 긴 시간 재치되는 공간을 저산소 분위기로 함으로써, 기판의 산화를 억제하는 것을 목적으로 하고 있다.
본 발명의 하나의 바람직한 형태에 관련된 기판 처리 장치는, 기판을 처리하는 처리 유닛 및 상기 처리 유닛에 대한 기판의 반출입을 실시하는 제 1 반송 로봇이 배치되는 처리 블록과, 복수의 기판을 수용 가능한 캐리어에 대한 기판의 반출입을 실시하는 제 2 반송 로봇이 배치되는 인덱서 블록과, 상기 처리 블록과 상기 인덱서 블록의 접속부에 형성되고, 상기 제 2 반송 로봇으로부터 상기 제 1 반송 로봇으로 건네지는 미처리의 기판, 및 상기 제 1 반송 로봇으로부터 상기 제 2 반송 로봇으로 건네지는 처리가 끝난 기판을 유지하는 재치 유닛과, 대기보다 산소 농도가 낮은 저산소 분위기의 상기 인덱서 블록 및 상기 재치 유닛과, 상기 처리 블록에 있어서 상기 처리 유닛과 상기 재치 유닛을 접속하는 반송로 사이의 기체의 이동을 차단 가능한 제 1 차폐부를 구비한다. 당해 기판 처리 장치에 의하면, 기판의 산화를 억제할 수 있다.
바람직하게는, 상기 제 1 차폐부는, 상기 반송로의 내부 공간과 상기 재치 유닛의 내부 공간을 접속하는 개구를 개폐하는 도어체를 구비한다.
바람직하게는, 상기 기판 처리 장치는, 상기 재치 유닛에 불활성 가스를 공급함으로써 상기 재치 유닛을 저산소 분위기로 하는 제 1 가스 공급부를 추가로 구비한다.
바람직하게는, 상기 기판 처리 장치는, 상기 인덱서 블록과 상기 재치 유닛 사이의 기체의 이동을 차단 가능한 제 2 차폐부를 추가로 구비한다.
바람직하게는, 상기 제 2 차폐부는, 상기 인덱서 블록의 내부 공간과 상기 재치 유닛의 내부 공간을 접속하는 개구를 개폐하는 도어체를 구비한다.
바람직하게는, 상기 기판 처리 장치는, 상기 인덱서 블록에 불활성 가스를 공급함으로써 상기 인덱서 블록을 저산소 분위기로 하는 제 2 가스 공급부를 추가로 구비한다.
바람직하게는, 상기 기판 처리 장치는, 상기 인덱서 블록과 상기 재치 유닛 사이의 기체의 이동을 차단 가능한 제 2 차폐부와, 상기 재치 유닛에 불활성 가스를 공급함으로써 상기 재치 유닛을 저산소 분위기로 하는 제 1 가스 공급부와, 상기 인덱서 블록에 불활성 가스를 공급함으로써 상기 인덱서 블록을 저산소 분위기로 하는 제 2 가스 공급부와, 상기 제 1 가스 공급부로부터의 불활성 가스의 공급과, 상기 제 2 가스 공급부로부터의 불활성 가스의 공급을 개별적으로 제어하는 제어부를 추가로 구비한다.
바람직하게는, 상기 반송로의 산소 농도는, 상기 인덱서 블록의 산소 농도 및 상기 재치 유닛의 산소 농도보다 높다.
바람직하게는, 상기 반송로는 대기 분위기이다.
바람직하게는, 상기 기판 처리 장치는, 상기 재치 유닛에 불활성 가스를 공급함으로써 상기 재치 유닛을 저산소 분위기로 하는 제 1 가스 공급부와, 상기 인덱서 블록과 상기 재치 유닛 사이의 기체의 이동을 차단 가능한 제 2 차폐부와, 상기 제 1 반송 로봇, 상기 제 2 반송 로봇, 상기 제 1 차폐부, 상기 제 1 가스 공급부 및 상기 제 2 차폐부를 제어하는 제어부를 추가로 구비한다. 상기 제 1 차폐부는, 상기 반송로의 내부 공간과 상기 재치 유닛의 내부 공간을 접속하는 제 1 개구를 개폐하는 제 1 도어체를 구비한다. 상기 제 2 차폐부는, 상기 인덱서 블록의 내부 공간과 상기 재치 유닛의 내부 공간을 접속하는 제 2 개구를 개폐하는 제 2 도어체를 구비한다. 상기 제어부의 제어에 의해, 상기 제 1 도어체 및 상기 제 2 도어체에 의해 상기 제 1 개구 및 상기 제 2 개구가 폐쇄된 상태에서, 상기 재치 유닛이 저산소 분위기가 된 후, 상기 제 2 개구가 개방되고, 상기 제 2 개구를 통하여 상기 제 2 반송 로봇에 의해 미처리의 기판이 상기 재치 유닛에 반입되고, 상기 제 2 도어체에 의해 상기 제 2 개구가 폐쇄된 후, 상기 제 1 개구가 개방되고, 상기 제 1 개구를 통하여 상기 제 1 반송 로봇에 의해 상기 미처리의 기판이 상기 재치 유닛으로부터 반출된다.
바람직하게는, 상기 기판 처리 장치는, 상기 재치 유닛에 불활성 가스를 공급함으로써 상기 재치 유닛을 저산소 분위기로 하는 제 1 가스 공급부와, 상기 인덱서 블록과 상기 재치 유닛 사이의 기체의 이동을 차단 가능한 제 2 차폐부와, 상기 제 1 반송 로봇, 상기 제 2 반송 로봇, 상기 제 1 차폐부, 상기 제 1 가스 공급부 및 상기 제 2 차폐부를 제어하는 제어부를 추가로 구비한다. 상기 제 1 차폐부는, 상기 반송로의 내부 공간과 상기 재치 유닛의 내부 공간을 접속하는 제 1 개구를 개폐하는 제 1 도어체를 구비한다. 상기 제 2 차폐부는, 상기 인덱서 블록의 내부 공간과 상기 재치 유닛의 내부 공간을 접속하는 제 2 개구를 개폐하는 제 2 도어체를 구비한다. 상기 제어부의 제어에 의해, 상기 제 2 도어체에 의해 상기 제 2 개구가 폐쇄되어 있고, 상기 제 1 개구가 개방된 상태에서, 상기 제 1 개구를 통하여 상기 제 1 반송 로봇에 의해 처리가 끝난 기판이 상기 재치 유닛에 반입된 후, 상기 제 1 도어체에 의해 상기 제 1 개구가 폐쇄되고, 상기 제 1 도어체 및 상기 제 2 도어체에 의해 상기 제 1 개구 및 상기 제 2 개구가 폐쇄된 상태에서, 상기 재치 유닛이 저산소 분위기가 된 후, 상기 제 2 개구가 개방되고, 상기 제 2 개구를 통하여 상기 제 2 반송 로봇에 의해 상기 처리가 끝난 기판이 상기 재치 유닛으로부터 반출된다.
본 발명은, 기판 처리 장치에 의해 기판을 처리하는 기판 처리 방법에 관한 것이기도 하다. 당해 기판 처리 장치는, 기판을 처리하는 처리 유닛 및 상기 처리 유닛에 대한 기판의 반출입을 실시하는 제 1 반송 로봇이 배치되는 처리 블록과, 복수의 기판을 수용 가능한 캐리어에 대한 기판의 반출입을 실시하는 제 2 반송 로봇이 배치되는 인덱서 블록과, 상기 처리 블록과 상기 인덱서 블록의 접속부에 형성되고, 상기 제 2 반송 로봇으로부터 상기 제 1 반송 로봇으로 건네지는 미처리의 기판, 및 상기 제 1 반송 로봇으로부터 상기 제 2 반송 로봇으로 건네지는 처리가 끝난 기판을 유지하는 재치 유닛을 구비한다. 본 발명의 하나의 바람직한 형태에 관련된 기판 처리 방법은, a) 상기 제 2 반송 로봇에 의해 상기 인덱서 블록으로부터 상기 재치 유닛으로 기판을 반입하는 공정과, b) 상기 제 1 반송 로봇에 의해 상기 재치 유닛으로부터 상기 기판을 반출하여 상기 처리 유닛으로 반입하는 공정과, c) 상기 처리 유닛에 있어서 상기 기판에 대한 처리를 실시하는 공정과, d) 상기 제 1 반송 로봇에 의해 상기 처리 유닛으로부터 상기 기판을 반출하여 상기 재치 유닛으로 반입하는 공정과, e) 상기 제 2 반송 로봇에 의해 상기 재치 유닛으로부터 상기 인덱서 블록으로 상기 기판을 반출하는 공정을 구비한다. 대기보다 산소 농도가 낮은 저산소 분위기의 상기 인덱서 블록 및 상기 재치 유닛과, 상기 처리 블록에 있어서 상기 처리 유닛과 상기 재치 유닛을 접속하는 반송로 사이의 기체의 이동이 차단 가능하다. 당해 기판 처리 방법에 의하면, 기판의 산화를 억제할 수 있다.
상기 서술한 목적 및 다른 목적, 특징, 양태 및 이점은, 첨부한 도면을 참조하여 이하에 실시하는 본 발명의 상세한 설명에 의해 밝혀진다.
도 1 은, 일 실시형태에 관련된 기판 처리 장치의 평면도이다.
도 2 는, 기판 처리 장치의 내부를 나타내는 정면도이다.
도 3 은, 처리 유닛의 일례를 나타내는 도면이다.
도 4 는, 재치 유닛의 측면도이다.
도 5 는, 재치 유닛의 측면도이다.
도 6 은, 재치 유닛의 내부를 나타내는 도면이다.
도 7 은, 제어부의 구성을 나타내는 도면이다.
도 8A 는, 기판의 처리의 흐름을 나타내는 도면이다.
도 8B 는, 기판의 처리의 흐름을 나타내는 도면이다.
도 9 는, 다른 재치 유닛의 측면도이다.
도 10 은, 다른 재치 유닛의 측면도이다.
도 11 은, 다른 재치 유닛의 내부를 나타내는 도면이다.
도 12A 는, 기판의 처리의 흐름을 나타내는 도면이다.
도 12B 는, 기판의 처리의 흐름을 나타내는 도면이다.
도 1 은, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 기판 처리 장치 (1) 의 평면도이다. 도 2 는, 기판 처리 장치 (1) 를, 도 1 의 II-II 선에서 본 도면이다. 또한, 이하에 참조하는 각 도면에는, Z 축 방향을 연직 방향 (즉, 상하 방향) 으로 하고, XY 평면을 수평면으로 하는 XYZ 직교 좌표계가 적절히 부여되어 있다. 또한, 도 2 에서는, 기판 처리 장치 (1) 의 (＋X) 측의 일부의 도시를 생략하고 있다.
기판 처리 장치 (1) 는, 복수의 대략 원판상의 반도체 기판 (9) (이하, 간단히 「기판 (9)」이라고 한다.) 에 연속하여 처리를 실시하는 장치이다. 기판 처리 장치 (1) 에서는, 예를 들어 기판 (9) 에 대해 처리액을 공급하는 액 처리가 실시된다. 기판 처리 장치 (1) 는, 복수의 캐리어 스테이지 (11) 와, 인덱서 블록 (10) 과, 처리 블록 (20) 과, 재치 유닛 (40) 과, 제어부 (60) 를 구비한다. 인덱서 블록 (10) 및 처리 블록 (20) 은 각각, 인덱서 셀 및 처리 셀이라고도 불린다. 또, 인덱서 블록 (10) 은, Equipment Front End Module (EDEM) 유닛 등이라고도 불린다. 도 1 에 나타내는 예에서는, (-X) 측으로부터 (＋X) 측을 향하여, 복수 (예를 들어, 3 개) 의 캐리어 스테이지 (11), 인덱서 블록 (10) 및 처리 블록 (20) 이, 이 순서로 인접하여 배치되어 있다.
복수의 캐리어 스테이지 (11) 는, 인덱서 블록 (10) 의 (-X) 측의 측벽을 따라 Y 방향으로 배열된다. 복수의 캐리어 스테이지 (11) 는 각각, 캐리어 (95) 가 재치되는 재치대이다. 캐리어 (95) 는, 복수의 원판상의 기판 (9) 을 수납 가능하다. 캐리어 (95) 의 내부 공간에는, 불활성 가스 (예를 들어, 질소 (N2) 또는 아르곤 (Ar)) 가 채워져 있고, 저산소 분위기로 되어 있다. 인덱서 블록 (10) 의 (-X) 측의 측벽에는, 각 캐리어 스테이지 (11) 상의 캐리어 (95) 에 대응하는 위치에 개구부가 형성된다. 당해 개구부에는 캐리어용 셔터가 형성되어 있고, 캐리어 (95) 에 대한 기판 (9) 의 반출입이 실시될 때에는, 당해 캐리어용 셔터가 개폐된다.
각 캐리어 스테이지 (11) 에 대해서는, 복수의 미처리의 기판 (9) 을 수납한 캐리어 (95) 가, 기판 처리 장치 (1) 의 외부로부터, OHT (Overhead Hoist Transfer) 등에 의해 반입되어 재치된다. 또, 처리 블록 (20) 에 있어서의 처리가 종료된 처리가 끝난 기판 (9) 은, 캐리어 스테이지 (11) 에 재치된 캐리어 (95) 에 수납된다. 처리가 끝난 기판 (9) 이 수납된 캐리어 (95) 는, OHT 등에 의해 기판 처리 장치 (1) 의 외부에 반출된다. 즉, 캐리어 스테이지 (11) 는, 미처리의 기판 (9) 및 처리가 끝난 기판 (9) 을 집적하는 기판 집적부로서 기능한다.
캐리어 (95) 는, 예를 들어 기판 (9) 을 밀폐 공간에 수납하는 FOUP (Front Opening Unified Pod) 이다. 캐리어 (95) 는, FOUP 에는 한정되지 않고, 예를 들어 SMIF (Standard Mechanical Inter Face) 포드 등이어도 된다. 또, 캐리어 스테이지 (11) 의 수는, 1 개여도 되고, 2 개 이상이어도 된다.
인덱서 블록 (10) 은, 캐리어 (95) 로부터 미처리의 기판 (9) 을 수취하고, 처리 블록 (20) 에 건네준다. 또, 인덱서 블록 (10) 은, 처리 블록 (20) 으로부터 반출된 처리가 끝난 기판 (9) 을 수취하고, 캐리어 (95) 로 반입한다. 인덱서 블록 (10) 의 내부 공간 (100) 에는, 캐리어 (95) 에 대한 기판 (9) 의 반출입을 실시하는 인덱서 로봇 (12) 이 배치된다.
인덱서 로봇 (12) 은, 2 개의 반송 아암 (121a, 121b) 과, 아암 스테이지 (122) 와, 기대 (123) 를 구비한다. 2 개의 반송 아암 (121a, 121b) 은, 아암 스테이지 (122) 에 탑재된다. 기대 (123) 는, 인덱서 블록 (10) 의 프레임에 고정되어 있다.
아암 스테이지 (122) 는, 기대 (123) 상에 탑재된다. 기대 (123) 에는, 아암 스테이지 (122) 를 상하 방향 (즉, Z 방향) 으로 연장되는 회전축 둘레로 회전시키는 모터 (도시 생략), 및 아암 스테이지 (122) 를 상하 방향을 따라 이동시키는 모터 (도시 생략) 가 내장되어 있다. 아암 스테이지 (122) 상에는, 반송 아암 (121a, 121b) 이, 상하로 이간되어 배치되어 있다.
반송 아암 (121a, 121b) 의 선단에는 각각, 평면에서 보아 대략 U 자상의 핸드가 형성된다. 당해 핸드는, 예를 들어 폭 방향으로 넓어지는 기부와, 당해 기부의 폭 방향 양단부로부터 폭 방향에 수직인 길이 방향으로 대략 평행하게 연장되는 2 개의 걸이부를 구비한다. 반송 아암 (121a, 121b) 은 각각, 핸드에 의해 1 장의 기판 (9) 의 하면을 지지한다. 또, 반송 아암 (121a, 121b) 은, 아암 스테이지 (122) 에 내장된 구동 기구 (도시 생략) 에 의해 다관절 기구가 굴신 (屈伸) 됨으로써, 수평 방향 (즉, 아암 스테이지 (122) 의 회전축을 중심으로 하는 직경 방향) 을 따라 서로 독립적으로 이동한다. 바꾸어 말하면, 핸드는, 자유롭게 진퇴할 수 있도록, 자유롭게 승강할 수 있도록 또한 자유롭게 회전할 수 있도록 인덱서 로봇 (12) 에 형성된다.
인덱서 로봇 (12) 은, 핸드에 의해 기판 (9) 을 유지하는 반송 아암 (121a, 121b) 을 각각, 캐리어 스테이지 (11) 에 재치된 캐리어 (95), 및 재치 유닛 (40) 에 개별적으로 액세스시킴으로써, 캐리어 (95) 및 재치 유닛 (40) 의 사이에서 기판 (9) 을 반송하는 반송 로봇이다. 인덱서 로봇 (12) 에 있어서의 상기 이동 기구는, 상기 서술한 예에는 한정되지 않고, 다른 기구여도 된다. 예를 들어, 반송 아암 (121a, 121b) 을 상하 방향으로 이동하는 기구로서, 풀리와 타이밍 벨트를 사용한 벨트 이송 기구 등이 채용되어도 된다.
처리 블록 (20) 에는, 기판 (9) 의 반송에 이용되는 반송로 (23) 와, 반송로 (23) 의 주위에 배치되는 복수의 처리 유닛 (21) 이 형성된다. 도 1 에 나타내는 예에서는, 반송로 (23) 는, 처리 블록 (20) 의 Y 방향의 중앙에서 X 방향으로 연장된다. 반송로 (23) 의 내부 공간 (230) 에는, 각 처리 유닛 (21) 에 대한 기판 (9) 의 반출입을 실시하는 센터 로봇 (22) 이 배치된다.
센터 로봇 (22) 은, 2 개의 반송 아암 (221a, 221b) 과, 아암 스테이지 (222) 와, 지주 (223) 를 구비한다. 2 개의 반송 아암 (221a, 221b) 은, 아암 스테이지 (222) 에 탑재된다. 지주 (223) 는, 처리 블록 (20) 의 프레임에 고정되어 있다.
아암 스테이지 (222) 는, 지주 (223) 에 상하 방향으로 이동 가능하게 장착된다. 지주 (223) 에는, 아암 스테이지 (222) 를 상하 방향을 따라 이동시키는 승강 기구 (224) 가 내장되어 있다. 승강 기구 (224) 는, 예를 들어 모터와 볼 나사를 조합한 기구이다. 승강 기구 (224) 의 구조는, 다양하게 변경되면 된다. 아암 스테이지 (222) 상에는, 반송 아암 (221a, 221b) 이, 상하로 이간되어 배치되어 있다.
반송 아암 (221a, 221b) 의 선단에는 각각, 평면에서 보아 대략 U 자상의 핸드가 형성된다. 당해 핸드는, 예를 들어 폭 방향으로 넓어지는 기부와, 당해 기부의 폭 방향 양단부로부터 폭 방향에 수직인 길이 방향으로 대략 평행하게 연장되는 2 개의 걸이부를 구비한다. 반송 아암 (221a, 221b) 은 각각, 핸드에 의해 1 장의 기판 (9) 의 하면을 지지한다. 반송 아암 (221a, 221b) 은, 아암 스테이지 (222) 에 내장된 구동 기구 (도시 생략) 에 의해 다관절 기구가 굴신됨으로써, 수평 방향을 따라 서로 독립적으로 이동한다. 또, 반송 아암 (221a, 221b) 은, 아암 스테이지 (222) 에 내장된 당해 구동 기구에 의해, 서로 독립적으로 수평 방향으로 회전한다. 바꾸어 말하면, 핸드는, 자유롭게 진퇴할 수 있도록, 자유롭게 승강할 수 있도록 또한 자유롭게 회전할 수 있도록 센터 로봇 (22) 에 형성된다.
센터 로봇 (22) 은, 핸드에 의해 기판 (9) 을 유지하는 반송 아암 (221a, 221b) 을 각각, 재치 유닛 (40) 및 복수의 처리 유닛 (21) 에 개별적으로 액세스시킴으로써, 재치 유닛 (40) 및 처리 유닛 (21) 의 사이에서 기판 (9) 을 반송하는 반송 로봇이다. 이하의 설명에서는, 센터 로봇 (22) 및 인덱서 로봇 (12) 을 각각, 「제 1 반송 로봇」및 「제 2 반송 로봇」이라고도 부른다. 센터 로봇 (22) 에 있어서의 상기 이동 기구는, 상기 서술한 예에는 한정되지 않고, 다른 기구여도 된다. 예를 들어, 반송 아암 (221a, 221b) 을 상하 방향으로 이동하는 기구로서, 풀리와 타이밍 벨트를 사용한 벨트 이송 기구 등이 채용되어도 된다.
각 처리 유닛 (21) 에서는, 기판 (9) 에 대한 처리가 실시된다. 도 1 및 도 2 에 나타내는 예에서는, 처리 블록 (20) 에는, 12 개의 처리 유닛 (21) 이 형성된다. 구체적으로는, Z 방향으로 적층된 3 개의 처리 유닛 (21) 군이, 평면에서 본 처리 유닛 (21) 의 주위에 4 세트 배치된다.
도 3 은, 처리 유닛 (21) 의 일례를 나타내는 도면이다. 처리 유닛 (21) 은, 하우징 (211) 과, 처리부 (24) 를 구비한다. 처리부 (24) 는, 하우징 (211) 의 내부 공간에 수용된다. 처리부 (24) 는, 기판 유지부 (241) 와, 기판 회전 기구 (242) 와, 컵부 (243) 와, 노즐 (244) 과, 톱 플레이트 (245) 를 구비한다. 처리부 (24) 는, 예를 들어 기판 (9) 의 상면 (91) 에 대한 에칭 처리 등의 액 처리를 실시한다.
기판 유지부 (241) 는, 예를 들어 기판 (9) 을 수평 상태에서 유지한다. 기판 유지부 (241) 는, 예를 들어 기판 (9) 의 주연부에 접촉하여 유지하는 복수의 메카 척을 구비한다. 기판 회전 기구 (242) 는, 상하 방향을 향하는 회전축 (J1) 을 중심으로 하여 기판 유지부 (241) 를 회전시킴으로써, 기판 유지부 (241) 에 유지된 기판 (9) 을 회전시킨다. 기판 회전 기구 (242) 는, 예를 들어 기판 유지부 (241) 의 하면에 접속되는 전동 모터이다.
컵부 (243) 는, 기판 유지부 (241) 의 주위를 전체 둘레에 걸쳐 둘러싸는 대략 원통상의 부재이다. 컵부 (243) 는, 회전 중인 기판 (9) 으로부터 주위에 비산되는 액체를 받는다. 톱 플레이트 (245) 는, 기판 (9) 의 상방을 덮어 주위의 분위기로부터 차폐하는 차폐판이다. 톱 플레이트 (245) 는, 예를 들어 기판 유지부 (241) 에 의해 하방으로부터 지지되고, 기판 회전 기구 (242) 에 의해 기판 유지부 (241) 와 함께 회전한다. 노즐 (244) 은, 톱 플레이트 (245) 의 중앙부에 형성된 개구에 삽입되고, 기판 (9) 의 상면의 중앙부를 향하여 처리액을 공급한다.
도 1 및 도 2 에 나타내는 바와 같이, 인덱서 블록 (10) 과 처리 블록 (20) 사이에는, 대략 Y 방향으로 연장되는 분위기 차단용의 격벽 (30) 이 형성된다. 격벽 (30) 은, 인덱서 블록 (10) 의 Y 방향의 전체 길이 및 Z 방향의 전체 길이에 걸쳐 형성된다. 인덱서 블록 (10) 의 Y 방향의 중앙부에서는, 격벽 (30) 의 일부가, 처리 블록 (20) 측 (즉, (＋X) 측) 으로 돌출되어 있다. 이하의 설명에서는, 당해 돌출된 부위를 「연락부 (31)」라고 부른다. 연락부 (31) 의 대략 터널상의 내부 공간 (310) 은, 인덱서 블록 (10) 의 내부 공간 (100) 의 일부이고, 인덱서 블록 (10) 과 처리 블록 (20) 의 반송로 (23) 를 연락한다.
재치 유닛 (40) 은, 연락부 (31) 의 내부 공간 (310) 에 있어서 (＋X) 측의 단부에 재치된다. 바꾸어 말하면, 재치 유닛 (40) 은, 인덱서 블록 (10) 과 처리 블록 (20) 의 접속부에 형성된다. 상기 서술한 바와 같이, 인덱서 로봇 (12) 및 센터 로봇 (22) 은, 재치 유닛 (40) 에 액세스 가능하다. 재치 유닛 (40) 은, 센터 로봇 (22) 이 배치되는 반송로 (23) 를 개재하여 복수의 처리 유닛 (21) 에 접속된다.
인덱서 로봇 (12) 은, 캐리어 (95) 로부터 반출한 미처리의 기판 (9) 을 재치 유닛 (40) 에 재치한다. 센터 로봇 (22) 은, 재치 유닛 (40) 으로부터 미처리의 기판 (9) 을 반출하고, 처리 유닛 (21) 으로 반입한다. 또, 센터 로봇 (22) 은, 처리 유닛 (21) 으로부터 반출한 처리가 끝난 기판 (9) 을 재치 유닛 (40) 에 재치한다. 인덱서 로봇 (12) 은, 재치 유닛 (40) 으로부터 처리가 끝난 기판 (9) 을 반출하고, 캐리어 (95) 에 반입한다. 바꾸어 말하면, 재치 유닛 (40) 은, 인덱서 로봇 (12) 으로부터 센터 로봇 (22) 으로 건네지는 미처리의 기판 (9), 및 센터 로봇 (22) 으로부터 인덱서 로봇 (12) 으로 건네지는 처리가 끝난 기판 (9) 을 유지한다.
도 4 는, 재치 유닛 (40) 을 (＋X) 측으로부터 본 측면도이다. 도 5 는, 재치 유닛 (40) 을 (-X) 측으로부터 본 측면도이다. 도 6 은, 재치 유닛 (40) 의 내부를 (＋X) 측으로부터 본 도면이다. 도 6 에서는, 재치 유닛 (40) 의 케이싱 (434) 을 단면으로 나타내고, 재치 유닛 (40) 의 내부를 도시하고 있다. 또, 도 6 에서는, 재치 유닛 (40) 이외의 구성도 함께 나타낸다.
재치 유닛 (40) 은, 케이싱 (434) 과, 기판 지지부 (431) 와, 제 1 셔터 (432) 와, 제 2 셔터 (433) 를 구비한다. 케이싱 (434) 은, 대략 직방체상의 박스형 부재이다. 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 에는, 4 장의 기판 (9) 이 수용 가능하다. 당해 4 장의 기판 (9) 은, 상하 방향 (즉, Z 방향) 으로 서로 이간된 상태에서 배열되어 재치된다. 기판 지지부 (431) 는, 케이싱 (434) 의 내부에 수용된다. 기판 지지부 (431) 는, 각 기판 (9) 을 수평 상태로 지지한다. 기판 지지부 (431) 는, 예를 들어 케이싱 (434) 의 내측면으로부터 돌출되는 복수의 볼록부이고, 당해 복수의 볼록부 상에 기판 (9) 의 주연부가 재치된다. 기판 지지부 (431) 의 형상 및 구조는, 적절히 변경되어도 된다.
케이싱 (434) 의 (＋X) 측의 측벽에는, 처리 블록 (20) 의 반송로 (23) 의 내부 공간 (230) 과, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 을 접속하는 제 1 개구 (435) 가 형성된다. 제 1 개구 (435) 는, 대략 사각형상의 관통공이다. 제 1 개구 (435) 는, 센터 로봇 (22) 에 유지된 2 장의 기판 (9) 이 통과 가능하다. 케이싱 (434) 의 (-X) 측의 측벽에는, 인덱서 블록 (10) 의 내부 공간 (100) 과, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 을 접속하는 제 2 개구 (436) 가 형성된다. 제 2 개구 (436) 는, 대략 사각형상의 관통공이다. 제 2 개구 (436) 는, 인덱서 로봇 (12) 에 유지된 2 장의 기판 (9) 이 통과 가능하다.
제 1 셔터 (432) 는, 케이싱 (434) 의 제 1 개구 (435) 를 개폐하는 도어체 (즉, 제 1 도어체) 이다. 제 1 셔터 (432) 는, 대략 장방형의 판상 부재이다. 제 1 셔터 (432) 는, 제 1 셔터 이동 기구 (437) 에 의해 상하 방향 (즉, Z 방향) 으로 이동됨과 함께, X 방향으로도 이동된다. 제 1 셔터 이동 기구 (437) 는, 예를 들어 제 1 셔터 (432) 를 상하 방향으로 이동하는 전동 실린더 등의 액추에이터와, 제 1 셔터 (432) 를 케이싱 (434) 을 향하여 가압하는 전동 실린더 등의 액추에이터 (도시 생략) 를 구비한다. 또한, 도 2 에서는, 제 1 셔터 이동 기구 (437) 의 도시를 생략하고 있다.
도 4 중에 있어서 실선으로 나타내는 바와 같이, 제 1 셔터 (432) 가 제 1 개구 (435) 와 X 방향으로 겹침으로써, 제 1 개구 (435) 는 폐쇄된다. 제 1 셔터 (432) 는, 제 1 셔터 이동 기구 (437) 에 의해 케이싱 (434) 으로 가압되고, 제 1 개구 (435) 의 주위에서 케이싱 (434) 과 기밀하게 접촉한다. 이로써, 처리 블록 (20) 의 반송로 (23) 의 내부 공간 (230) 과 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 사이의, 제 1 개구 (435) 를 통한 기체의 이동이 차단된다. 또, 제 1 셔터 이동 기구 (437) 에 의해, 제 1 셔터 (432) 가, 케이싱 (434) 으로부터 (＋X) 방향으로 이간된 후, 도 4 중에 있어서 이점쇄선으로 나타내는 위치로 하강함으로써, 제 1 개구 (435) 는 개방된다. 이로써, 반송로 (23) 의 내부 공간 (230) 과 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 사이의, 제 1 개구 (435) 를 통한 기체의 이동이 가능해진다.
제 2 셔터 (433) 는, 케이싱 (434) 의 제 2 개구 (436) 를 개폐하는 도어체 (즉, 제 2 도어체) 이다. 제 2 셔터 (433) 는, 대략 장방형의 판상 부재이다. 제 2 셔터 (433) 는, 제 2 셔터 이동 기구 (438) 에 의해 상하 방향 (즉, Z 방향) 으로 이동됨과 함께, X 방향으로도 이동된다. 제 2 셔터 이동 기구 (438) 는, 예를 들어 제 2 셔터 (433) 를 상하 방향으로 이동하는 전동 실린더 등의 액추에이터와, 제 2 셔터 (433) 를 케이싱 (434) 을 향하여 가압하는 전동 실린더 등의 액추에이터 (도시 생략) 를 구비한다. 또한, 도 2 에서는, 제 2 셔터 이동 기구 (438) 의 도시를 생략하고 있다.
도 5 중에 있어서 실선으로 나타내는 바와 같이, 제 2 셔터 (433) 가 제 2 개구 (436) 와 X 방향으로 겹침으로써, 제 2 개구 (436) 는 폐쇄된다. 제 2 셔터 (433) 는, 제 2 셔터 이동 기구 (438) 에 의해 케이싱 (434) 으로 가압되고, 제 2 개구 (436) 의 주위에서 케이싱 (434) 과 기밀하게 접촉한다. 이로써, 인덱서 블록 (10) 의 내부 공간 (100) 과 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 사이의, 제 2 개구 (436) 를 통한 기체의 이동이 차단된다. 또, 제 2 셔터 이동 기구 (438) 에 의해, 제 2 셔터 (433) 가, 케이싱 (434) 으로부터 (-X) 방향으로 이간된 후, 도 5 중에 있어서 이점쇄선으로 나타내는 위치로 하강함으로써, 제 2 개구 (436) 는 개방된다. 이로써, 인덱서 블록 (10) 의 내부 공간 (100) 과 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 사이의, 제 2 개구 (436) 를 통한 기체의 이동이 가능해진다.
재치 유닛 (40) 의 제 1 개구 (435) 가 제 1 셔터 (432) 에 의해 폐쇄된 상태에서는, 도 1 및 도 2 에 나타내는 연락부 (31) 를 포함하는 격벽 (30) 과, 재치 유닛 (40) 의 케이싱 (434) 과, 제 1 셔터 이동 기구 (437) 에 의해 이동되는 제 1 셔터 (432) 에 의해, 인덱서 블록 (10) 및 재치 유닛 (40) 과, 처리 블록 (20) 의 반송로 (23) 사이의 기체의 이동이 차단된다. 즉, 격벽 (30), 케이싱 (434), 제 1 셔터 (432) 및 제 1 셔터 이동 기구 (437) 는, 인덱서 블록 (10) 및 재치 유닛 (40) 과, 처리 블록 (20) 의 반송로 (23) 사이의 기체의 이동을 차단 가능한 제 1 차폐부 (51) 를 구성한다. 제 1 차폐부 (51) 는, 격벽 (30), 케이싱 (434), 제 1 셔터 (432) 및 제 1 셔터 이동 기구 (437) 이외의 구성을 포함하고 있어도 된다.
또, 재치 유닛 (40) 의 제 2 개구 (436) 가, 제 2 셔터 이동 기구 (438) 에 의해 이동하는 제 2 셔터 (433) 에 의해 폐쇄된 상태에서는, 재치 유닛 (40) 의 케이싱 (434) 및 제 2 셔터 (433) 에 의해, 인덱서 블록 (10) 과 재치 유닛 (40) 사이의 기체의 이동이 차단된다. 즉, 케이싱 (434), 제 2 셔터 (433) 및 제 2 셔터 이동 기구 (438) 는, 인덱서 블록 (10) 과 재치 유닛 (40) 사이의 기체의 이동을 차단 가능한 제 2 차폐부 (52) 를 구성한다. 제 2 차폐부 (52) 는, 케이싱 (434), 제 2 셔터 (433) 및 제 2 셔터 이동 기구 (438) 이외의 구성을 포함하고 있어도 된다.
도 6 에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치 (1) 는, 재치 유닛 (40) 에 불활성 가스 (예를 들어, 질소 또는 아르곤) 를 공급하는 제 1 가스 공급부 (55) 를 추가로 구비한다. 제 1 가스 공급부 (55) 는, 중앙 토출부 (551) 와, 주연 토출부 (552) 와, 측방 토출부 (553) 와, 배기 포트 (554) 를 구비한다. 중앙 토출부 (551) 및 주연 토출부 (552) 는, 재치 유닛 (40) 의 케이싱 (434) 의 상 덮개부 근방에 배치되고, 불활성 가스 공급원 (58) 에 밸브 (581) 를 개재하여 접속된다. 측방 토출부 (553) 는, 재치 유닛 (40) 내에 재치된 기판 (9) 의 주위에 배치되고, 불활성 가스 공급원 (58) 에 밸브 (582) 를 개재하여 접속된다. 배기 포트 (554) 는, 흡인 기구 (59) 에 접속된다. 불활성 가스 공급원 (58) 및 흡인 기구 (59) 는, 예를 들어 기판 처리 장치 (1) 의 외부에 형성된다.
중앙 토출부 (551) 는, 재치 유닛 (40) 내에 재치된 기판 (9) 의 중앙부 (즉, 주연부를 제외한 부위) 의 상방에 위치한다. 중앙 토출부 (551) 의 하면은, 예를 들어 복수의 토출구가 대략 균등하게 분산 배치된 대략 원판상의 펀칭 플레이트에 의해 형성된다. 주연 토출부 (552) 는, 재치 유닛 (40) 내에 재치된 기판 (9) 의 주연부의 상방에 위치한다. 주연 토출부 (552) 의 하면에는, 예를 들어 대략 원환상 또한 슬릿상의 토출구가 형성된다.
측방 토출부 (553) 는, 기판 (9) 의 주위에 있어서 둘레 방향 (즉, 기판 (9) 의 중심을 통과하여 법선 방향으로 연장되는 중심축을 중심으로 하는 둘레 방향) 으로 대략 등각도 간격으로 배치되는 복수의 토출 요소 (555) 를 구비한다. 각 토출 요소 (555) 는, 케이싱 (434) 의 상 덮개부로부터 대략 연직 하방으로 연장되는 바닥이 있는 대략 원통상의 부재이다. 각 토출 요소 (555) 의 하단은, 최하단 (즉, 가장 (-Z) 측) 에 위치하는 기판 (9) 보다 하측에 위치한다. 각 토출 요소 (555) 의 측면에는, 기판 (9) 이 재치되어 있는 방향을 향하는 (즉, 상기 중심축을 중심으로 하는 직경 방향 내방을 향하는) 복수의 토출구가 형성된다. 도 6 에 나타내는 예에서는, 각 토출 요소 (555) 에 3 개의 토출구가 형성되고, 당해 3 개의 토출구는, 상하 방향으로 배열되는 4 장의 기판 (9) 사이의 3 개의 간극과, 상하 방향에 있어서 대략 동일한 위치에 위치한다. 배기 포트 (554) 는, 4 장의 기판 (9) 보다 하방에 배치된다. 도 6 에 나타내는 예에서는, 복수의 배기 포트 (554) 가, 둘레 방향으로 대략 등각도 간격으로 배열된다.
재치 유닛 (40) 에 있어서, 제 1 셔터 (432) 및 제 2 셔터 (433) 에 의해 제 1 개구 (435) 및 제 2 개구 (436) 가 폐쇄되면, 상기 서술한 바와 같이, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 은, 인덱서 블록 (10) 의 내부 공간 (100) 및 반송로 (23) 의 내부 공간 (230) 으로부터 차단된다. 이 상태에서, 밸브 (581) 및 밸브 (582) 가 개방되어 재치 유닛 (40) 에 불활성 가스가 공급되고, 배기 포트 (554) 를 통하여 흡인 기구 (59) 에 의한 흡인이 실시됨으로써, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 의 공기가 불활성 가스로 치환되고, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 이 불활성 가스 분위기가 된다. 바꾸어 말하면, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 은, 대기보다 산소 농도가 낮은 저산소 분위기가 된다. 재치 유닛 (40) 의 산소 농도는, 예를 들어 100 ppm 이하이다.
구체적으로는, 밸브 (581) 가 개방되면, 중앙 토출부 (551) 로부터 대략 연직 하방을 향하여 불활성 가스가 공급된다. 중앙 토출부 (551) 로부터의 불활성 가스는, 중앙 토출부 (551) 로부터 최상단 (즉, 가장 (＋Z) 측) 에 위치하는 기판 (9) 을 향하여 대략 연직 하방으로 흐르고, 당해 기판 (9) 의 상면을 따라 직경 방향 외방으로 흐른다. 도 6 에서는, 불활성 가스의 흐름을 화살표로 나타낸다. 주연 토출부 (552) 로부터는, 직경 방향 외방 또한 하방을 향하여 불활성 가스가 공급된다. 주연 토출부 (552) 로부터의 불활성 가스의 상기 공급 방향은, 예를 들어 주연 토출부 (552) 의 토출구를 직경 방향 외방 또한 하방을 향하게 함으로써 실현된다. 주연 토출부 (552) 로부터의 불활성 가스는, 최상단의 기판 (9) 의 주연 근방을 통과하여 하방으로 흐른다. 이로써, 기판 (9) 의 상방 및 측방에 존재하는 공기가, 기판 (9) 보다 하방으로 흐르고, 배기 포트 (554) 를 통하여 재치 유닛 (40) 의 외부로 배출된다.
주연 토출부 (552) 로부터 토출되는 불활성 가스의 유속은, 예를 들어 중앙 토출부 (551) 로부터 토출되는 불활성 가스의 유속보다 크다. 이로써, 기판 (9) 보다 상방의 공기를, 급속히 배기 포트 (554) 로 흘러가게 할 수 있다. 또, 중앙 토출부 (551) 로부터 토출되는 불활성 가스의 유속을 비교적 작게 함으로써, 중앙 토출부 (551) 로부터의 불활성 가스에 의해 최상단의 기판 (9) 이 진동하는 것을 억제할 수 있다.
또, 재치 유닛 (40) 에서는, 밸브 (582) 가 개방되면, 측방 토출부 (553) 의 복수의 토출 요소 (555) 로부터 직경 방향 내방을 향하여 불활성 가스가 공급된다. 측방 토출부 (553) 로부터의 불활성 가스는, 상하 방향으로 배열된 4 장의 기판 (9) 의 간극을 통과하고, 기판 (9) 의 주위로부터 하방으로 흐른다. 이로써, 복수의 기판 (9) 의 사이에 존재하는 공기가, 기판 (9) 보다 하방으로 흐르고, 배기 포트 (554) 를 통하여 재치 유닛 (40) 의 외부로 배출된다.
도 2 에 나타내는 바와 같이, 기판 처리 장치 (1) 는, 인덱서 블록 (10) 에 불활성 가스 (예를 들어, 질소 또는 아르곤) 를 공급하는 제 2 가스 공급부 (56) 를 추가로 구비한다. 제 2 가스 공급부 (56) 는, 가스 토출부 (561) 와, 배기 포트 (562) 를 구비한다. 가스 토출부 (561) 는, 인덱서 블록 (10) 의 상 덮개부 근방에 배치되고, 불활성 가스 공급원 (58) (도 6 참조) 에 도시 생략한 밸브를 개재하여 접속된다. 배기 포트 (562) 는, 흡인 기구 (59) (도 6 참조) 에 접속된다. 또한, 가스 토출부 (561) 는, 불활성 가스 공급원 (58) 과는 상이한 다른 불활성 가스 공급원에 접속되어도 된다. 또, 배기 포트 (562) 는, 흡인 기구 (59) 와는 상이한 다른 흡인 기구에 접속되어도 된다.
가스 토출부 (561) 는, 인덱서 로봇 (12) 보다 상방에 위치하고, 인덱서 블록 (10) 의 상면의 대략 전체에 걸쳐 형성된다. 가스 토출부 (561) 는, 예를 들어 FFU (Fan Filter Unit) 이다. 배기 포트 (562) 는, 인덱서 블록 (10) 의 측벽의 바닥면 근방의 부위 (또는 바닥면) 에 배치된다.
재치 유닛 (40) 에 있어서, 제 2 셔터 (433) 에 의해 제 2 개구 (436) 가 폐쇄되면, 상기 서술한 바와 같이, 인덱서 블록 (10) 의 내부 공간 (100) 은, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 및 반송로 (23) 의 내부 공간 (230) 으로부터 차단된다. 이 상태에서, 상기 밸브가 개방되어 가스 토출부 (561) 로부터 인덱서 블록 (10) 에 불활성 가스가 공급되고, 배기 포트 (562) 를 통하여 흡인 기구 (59) 에 의한 흡인이 실시됨으로써, 인덱서 블록 (10) 의 내부 공간 (100) 의 공기가 불활성 가스로 치환되고, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 이 불활성 가스 분위기가 된다. 바꾸어 말하면, 인덱서 블록 (10) 의 내부 공간 (100) 은, 대기보다 산소 농도가 낮은 저산소 분위기가 된다. 인덱서 블록 (10) 의 산소 농도는, 예를 들어 100 ppm 이하이다.
제 2 가스 공급부 (56) 로부터의 불활성 가스의 공급은, 기판 처리 장치 (1) 에 의한 기판 (9) 의 처리 (후술) 동안, 계속적으로 실시되고 있고, 인덱서 블록 (10) 의 내부 공간 (100) 은, 저산소 분위기로 유지된다. 재치 유닛 (40) 에 있어서, 제 2 개구 (436) 가 개방되어 있는 경우에는, 제 1 가스 공급부 (55) 및 제 2 가스 공급부 (56) 로부터 불활성 가스가 공급됨으로써, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 및 인덱서 블록 (10) 의 내부 공간 (100) 이 저산소 분위기가 된다.
기판 처리 장치 (1) 는, 처리 블록 (20) 의 반송로 (23) 에 청정한 공기를 공급하는 공기 공급부 (57) 를 추가로 구비한다. 공기 공급부 (57) 는, 공기 토출부 (571) 와, 배기 포트 (572) (도 1 참조) 를 구비한다. 공기 토출부 (571) 는, 반송로 (23) 의 상 덮개부 근방에 배치되고, 기판 처리 장치 (1) 가 배치되어 있는 클린 룸 내의 청정한 공기를, 반송로 (23) 의 내부 공간 (230) 으로 공급한다. 공기 토출부 (571) 는, 센터 로봇 (22) 보다 상방에 위치하고, 반송로 (23) 의 상면의 대략 전체에 걸쳐 형성된다. 공기 토출부 (571) 는, 예를 들어 FFU 이다. 배기 포트 (572) 는, 반송로 (23) 의 (＋X) 측의 단부에 있어서, 반송로 (23) 의 측벽의 바닥면 근방의 부위 (또는 바닥면) 에 배치된다. 배기 포트 (572) 는, 도시 생략한 흡인 기구에 접속된다.
처리 블록 (20) 에서는, 공기 토출부 (571) 로부터 반송로 (23) 에 청정한 공기가 공급되고, 배기 포트 (572) 를 통하여 흡인이 실시됨으로써, 반송로 (23) 의 내부 공간 (230) 에, (-X) 측으로부터 (＋X) 측으로 향하는 공기의 하강 기류가 형성된다. 공기 공급부 (57) 로부터의 공기의 공급은, 기판 처리 장치 (1) 에 의한 기판 (9) 의 처리 (후술) 동안, 계속적으로 실시되고 있고, 처리 블록 (20) 의 반송로 (23) 의 내부 공간 (230) 은, 대기 분위기 (상세하게는, 클린 에어 분위기) 로 유지된다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 반송로 (23) 의 내부 공간 (230) 이 대기 분위기이기 때문에, 반송로 (23) 의 산소 농도는, 상기 서술한 바와 같이 저산소 분위기로 유지되어 있는 인덱서 블록 (10) 의 산소 농도보다 높다. 또, 반송로 (23) 의 산소 농도는, 상기 서술한 바와 같이 저산소 분위기가 되는 재치 유닛 (40) 의 산소 농도보다 높다. 또한, 반송로 (23) 의 기압은, 각 처리 유닛 (21) 의 기압보다 높게 유지되어 있다. 이로써, 각 처리 유닛 (21) 에 대한 기판 (9) 의 반출입시에, 처리 유닛 (21) 내의 분위기 (예를 들어, 약액 분위기) 등이 반송로 (23) 로 진입하는 것이 억제된다. 또, 인덱서 블록 (10) 및 재치 유닛 (40) 의 기압은, 반송로 (23) 의 기압보다 높게 유지되어 있다. 이로써, 반송로 (23) 내의 대기 분위기가, 재치 유닛 (40) 및 인덱서 블록 (10) 으로 진입하는 것이 억제된다. 처리 유닛 (21) 은, 예를 들어 음압이고, 반송로 (23), 재치 유닛 (40) 및 인덱서 블록 (10) 은, 예를 들어 양압이다.
도 7 은, 제어부 (60) 가 구비하는 컴퓨터 (8) 의 구성을 나타내는 도면이다. 컴퓨터 (8) 는, 프로세서 (81) 와, 메모리 (82) 와, 입출력부 (83) 와, 버스 (84) 를 구비하는 통상적인 컴퓨터이다. 버스 (84) 는, 프로세서 (81), 메모리 (82) 및 입출력부 (83) 를 접속하는 신호 회로이다. 메모리 (82) 는, 프로그램 및 각종 정보를 기억한다. 프로세서 (81) 는, 메모리 (82) 에 기억되는 프로그램 등에 따라서, 메모리 (82) 등을 이용하면서 다양한 처리 (예를 들어, 수치 계산) 를 실행한다. 입출력부 (83) 는, 조작자로부터의 입력을 접수하는 키보드 (85) 및 마우스 (86), 프로세서 (81) 로부터의 출력 등을 표시하는 디스플레이 (87), 그리고, 프로세서 (81) 로부터의 출력 등을 송신하는 송신부 (88) 를 구비한다. 또한, 제어부 (60) 는, 프로그래머블 로직 컨트롤러 (PLC : Programmable Logic Controller) 나 회로 기판 등이어도 된다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 제어부 (60) 에 의해, 인덱서 로봇 (12), 센터 로봇 (22), 처리 유닛 (21), 제 1 가스 공급부 (55), 제 2 가스 공급부 (56) 및 공기 공급부 (57) 등의 각 구성이 제어된다. 본 실시형태에서는, 제어부 (60) 는, 제 1 가스 공급부 (55) 로부터 재치 유닛 (40) 에 대한 불활성 가스의 공급과, 제 2 가스 공급부 (56) 로부터 인덱서 블록 (10) 에 대한 불활성 가스의 공급을 개별적으로 제어한다. 또, 제어부 (60) 는, 제 1 차폐부 (51) 의 제 1 셔터 이동 기구 (437), 및 제 2 차폐부 (52) 의 제 2 셔터 이동 기구 (438) 도 제어한다.
다음으로, 도 8A 및 도 8B 를 참조하면서, 기판 처리 장치 (1) 에 의한 기판 (9) 의 처리의 흐름의 일례에 대해 설명한다. 기판 (9) 의 처리 중의 기판 처리 장치 (1) 에서는, 상기 서술한 바와 같이, 인덱서 블록 (10) 의 내부 공간 (100) 은, 제 2 가스 공급부 (56) 에 의해 저산소 분위기로 유지되어 있고, 반송로 (23) 의 내부 공간 (230) 은, 공기 공급부 (57) 에 의해 대기 분위기로 유지되어 있다. 또, 재치 유닛 (40) 에서는, 기판 (9) 의 반출입이 실시될 때에만, 제 1 개구 (435) 또는 제 2 개구 (436) 가 개방되고, 그것 이외의 경우에는, 제 1 개구 (435) 및 제 2 개구 (436) 는 제 1 셔터 (432) 및 제 2 셔터 (433) 에 의해 폐쇄되어 있다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 먼저, 재치 유닛 (40) 에 있어서, 제 1 셔터 (432) 및 제 2 셔터 (433) 에 의해 제 1 개구 (435) 및 제 2 개구 (436) 가 폐쇄된 상태에서 (즉, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 이 밀폐된 상태에서), 제 1 가스 공급부 (55) 로부터 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 에 불활성 가스가 공급되고, 재치 유닛 (40) 이 저산소 분위기가 된다 (스텝 S11).
스텝 S11 에 있어서의 제 1 가스 공급부 (55) 로부터의 불활성 가스의 공급 유량은, 예를 들어 1000 리터/분 이하이다. 재치 유닛 (40) 이 원하는 저산소 분위기가 될 때까지 필요로 하는 시간은, 예를 들어 30 초 이내이다. 재치 유닛 (40) 에서는, 기판 처리 장치 (1) 에 있어서 기판 (9) 에 대한 처리가 실시되고 있는 동안, 제 1 가스 공급부 (55) 로부터의 불활성 가스의 공급이 계속적으로 실시되고 있다. 단, 제 1 가스 공급부 (55) 에 의한 불활성 가스의 공급 유량은, 후술하는 바와 같이 적절히 변경된다.
재치 유닛 (40) 이 저산소 분위기가 되면, 캐리어 (95) 로부터 인덱서 로봇 (12) 에 의해 미처리의 기판 (9) 이 반출된다 (스텝 S12). 상기 서술한 바와 같이, 캐리어 (95) 및 인덱서 블록 (10) 은 저산소 분위기이기 때문에, 기판 (9) 의 캐리어 (95) 로부터의 반출시에, 캐리어 (95) 및 인덱서 블록 (10) 의 산소 농도가 상승하는 일은 없다. 기판 처리 장치 (1) 에서는, 실제로는, 2 장의 기판 (9) 이 캐리어 (95) 로부터 반출되고, 후술하는 처리가 2 장의 기판 (9) 에 대해 병행하여 실시되는데, 이하에서는, 1 장의 기판 (9) 에 주목하여, 당해 기판 (9) 에 대한 처리에 대해 설명한다.
계속해서, 제어부 (60) 에 의해 제 2 셔터 이동 기구 (438) 가 구동되고, 제 2 셔터 (433) 가 하방으로 이동하여 제 2 개구 (436) 가 개방된다 (스텝 S13). 상기 서술한 바와 같이, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 은, 인덱서 블록 (10) 과 동일하게 저산소 분위기로 되어 있기 때문에, 제 2 개구 (436) 의 개방에 의해 인덱서 블록 (10) 의 산소 농도가 상승하는 일은 없다.
제 2 개구 (436) 가 개방되면, 미처리의 기판 (9) 이, 인덱서 로봇 (12) 에 의해 제 2 개구 (436) 를 통하여 재치 유닛 (40) 에 반입된다 (스텝 S14). 기판 (9) 은, 재치 유닛 (40) 내의 하측의 기판 지지부 (431) 에 의해 지지되고, 인덱서 로봇 (12) 은 재치 유닛 (40) 으로부터 퇴출된다. 그리고, 제어부 (60) 에 의해 제 2 셔터 이동 기구 (438) 가 구동되고, 제 2 셔터 (433) 가 상방으로 이동하여 제 2 개구 (436) 가 폐쇄된다 (스텝 S15). 이로써, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 이 밀폐된다. 상기 서술한 바와 같이, 재치 유닛 (40) 의 저산소 분위기는 유지되어 있다. 스텝 S15 가 종료되면, 제어부 (60) 에 의해 제 1 가스 공급부 (55) 가 제어됨으로써, 제 1 가스 공급부 (55) 로부터 재치 유닛 (40) 에 공급되는 불활성 가스의 공급 유량은 감소되고, 예를 들어 100 리터/분이 된다.
제 2 개구 (436) 가 폐쇄되면, 제어부 (60) 에 의해 제 1 셔터 이동 기구 (437) 가 구동되고, 제 1 셔터 (432) 가 하방으로 이동하여 제 1 개구 (435) 가 개방된다 (스텝 S16). 제 1 개구 (435) 가 개방된 후에도, 상기 서술한 바와 같이, 제 1 가스 공급부 (55) 로부터 재치 유닛 (40) 에 대한 불활성 가스의 공급은 계속적으로 실시되고 있는데, 반송로 (23) 내의 대기 분위기는, 확산 등에 의해 재치 유닛 (40) 내로 진입한다.
제 1 개구 (435) 가 개방되면, 센터 로봇 (22) 에 의해, 재치 유닛 (40) 내의 미처리의 기판 (9) 이 제 1 개구 (435) 를 통하여 재치 유닛 (40) 으로부터 반출된다 (스텝 S17). 그리고, 제어부 (60) 에 의해 제 1 셔터 이동 기구 (437) 가 구동되고, 제 1 셔터 (432) 가 상방으로 이동하여 제 1 개구 (435) 가 폐쇄된다 (스텝 S18). 그 후, 제 1 가스 공급부 (55) 에 의해 재치 유닛 (40) 이 저산소 분위기가 되고, 필요에 따라, 인덱서 로봇 (12) 에 의해 새로운 미처리의 기판 (9) 이 반입된다.
재치 유닛 (40) 으로부터 반출된 기판 (9) 은, 처리 유닛 (21) 으로 반입된다 (스텝 S19). 처리 유닛 (21) 에서는, 처리부 (24) 에 의한 기판 (9) 의 처리가 실시된다 (스텝 S20). 구체적으로는, 회전 중의 기판 (9) 의 상면 (91) 에 대해, 노즐 (244) 로부터 약액 (예를 들어, 에칭액 등) 이 공급되고, 기판 (9) 의 약액 처리가 실시된다. 계속해서, 노즐 (244) 로부터, 혹은 도시 생략한 다른 노즐로부터, 기판 (9) 의 상면 (91) 에 대해 린스액 (예를 들어, 순수 등) 이 공급되고, 기판 (9) 의 린스 처리가 실시된다. 그 후, 기판 (9) 의 회전 속도가 증대되고, 기판 (9) 의 건조 처리가 실시된다.
처리 유닛 (21) 에 있어서의 기판 (9) 의 처리가 종료되면, 센터 로봇 (22) 에 의해, 처리가 끝난 기판 (9) 이 처리 유닛 (21) 으로부터 반출된다 (스텝 S21). 계속해서, 제어부 (60) 에 의해 제 1 셔터 이동 기구 (437) 가 구동되고, 제 1 셔터 (432) 가 하방으로 이동하여 제 1 개구 (435) 가 개방된다 (스텝 S22). 이 때, 제 2 개구 (436) 는 제 2 셔터 (433) 에 의해 폐쇄되어 있다. 다음으로, 처리가 끝난 기판 (9) 이, 센터 로봇 (22) 에 의해 제 1 개구 (435) 를 통하여 재치 유닛 (40) 에 반입된다 (스텝 S23). 처리가 끝난 기판 (9) 은, 재치 유닛 (40) 내의 상측의 기판 지지부 (431) 에 의해 지지되고, 센터 로봇 (22) 은 재치 유닛 (40) 으로부터 퇴출된다. 그 후, 제어부 (60) 에 의해 제 1 셔터 이동 기구 (437) 가 구동되고, 제 1 셔터 (432) 가 상방으로 이동하여 제 1 개구 (435) 가 폐쇄된다 (스텝 S24). 이로써, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 이 밀폐된다.
제 1 개구 (435) 가 폐쇄되면, 제어부 (60) 에 의해 제 1 가스 공급부 (55) 가 제어되고, 제 1 가스 공급부 (55) 로부터 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 에 공급되는 불활성 가스의 유량이 증대한다. 예를 들어, 불활성 가스의 당해 공급 유량은, 1000 리터/분 이하이다. 그리고 당해 공급 유량의 불활성 가스의 공급이 소정 시간 실시됨으로써, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 의 산소 농도가 급속히 저하되고, 재치 유닛 (40) 이 저산소 분위기가 된다 (스텝 S25). 예를 들어, 재치 유닛 (40) 이 원하는 저산소 분위기가 될 때까지 필요로 하는 시간은, 30 초 이내이다.
재치 유닛 (40) 이 저산소 분위기가 되면, 제어부 (60) 에 의해 제 2 셔터 이동 기구 (438) 가 구동되고, 제 2 셔터 (433) 가 하방으로 이동하여 제 2 개구 (436) 가 개방된다 (스텝 S26). 상기 서술한 바와 같이, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 은, 인덱서 블록 (10) 과 동일하게 저산소 분위기로 되어 있기 때문에, 제 2 개구 (436) 의 개방에 의해 인덱서 블록 (10) 의 산소 농도가 상승하는 일은 없다. 스텝 S26 에서는, 제 1 가스 공급부 (55) 로부터 재치 유닛 (40) 에 공급되는 불활성 가스의 공급 유량은, 스텝 S25 와 동일하다. 이와 같이, 재치 유닛 (40) 이 저산소 분위기가 된 후에도 불활성 가스의 공급 유량을 유지함으로써, 불활성 가스의 공급을 정지하는 경우 등에 비해, 재치 유닛 (40) 의 내압 저하를 억제할 수 있다. 그 결과, 재치 유닛 (40) 에 외기 등이 진입하여 산소 농도가 상승하는 것을 방지 또는 억제할 수 있다.
제 2 개구 (436) 가 개방되면, 처리가 끝난 기판 (9) 이, 인덱서 로봇 (12) 에 의해 제 2 개구 (436) 를 통하여 재치 유닛 (40) 으로부터 반출된다 (스텝 S27). 그리고, 제어부 (60) 에 의해 제 2 셔터 이동 기구 (438) 가 구동되고, 제 2 셔터 (433) 가 상방으로 이동하여 제 2 개구 (436) 가 폐쇄된다 (스텝 S28). 이로써, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 이 밀폐된다. 스텝 S28 이 종료되면, 제어부 (60) 에 의해 제 1 가스 공급부 (55) 가 제어됨으로써, 제 1 가스 공급부 (55) 로부터 재치 유닛 (40) 에 공급되는 불활성 가스의 공급 유량은 감소되고, 예를 들어 100 리터/분이 된다.
재치 유닛 (40) 으로부터 반출된 처리가 끝난 기판 (9) 은, 인덱서 로봇 (12) 에 의해 캐리어 (95) 로 반입되고, 이로써 기판 (9) 의 일련의 처리가 종료된다 (스텝 S29). 상기 서술한 바와 같이, 캐리어 (95) 및 인덱서 블록 (10) 은 저산소 분위기이기 때문에, 기판 (9) 의 캐리어 (95) 에 대한 반입시에, 캐리어 (95) 및 인덱서 블록 (10) 의 산소 농도가 상승하는 일은 없다.
이상에 설명한 바와 같이, 기판 처리 장치 (1) 는, 처리 블록 (20) 과, 인덱서 블록 (10) 과, 재치 유닛 (40) 과, 제 1 차폐부 (51) 를 구비한다. 처리 블록 (20) 에는, 기판 (9) 을 처리하는 처리 유닛 (21), 및 처리 유닛 (21) 에 대한 기판 (9) 의 반출입을 실시하는 제 1 반송 로봇 (즉, 센터 로봇 (22)) 이 배치된다. 인덱서 블록 (10) 에는, 복수의 기판 (9) 을 수용 가능한 캐리어 (95) 에 대한 기판 (9) 의 반출입을 실시하는 제 2 반송 로봇 (즉, 인덱서 로봇 (12)) 이 배치된다. 재치 유닛 (40) 은, 처리 블록 (20) 과 인덱서 블록 (10) 의 접속부에 형성된다. 재치 유닛 (40) 은, 인덱서 블록 (10) 으로부터 센터 로봇 (22) 으로 건네지는 미처리의 기판 (9) 을 유지한다. 또, 재치 유닛 (40) 은, 센터 로봇 (22) 으로부터 인덱서 블록 (10) 으로 건네지는 처리가 끝난 기판 (9) 을 유지한다. 제 1 차폐부 (51) 는, 대기보다 산소 농도가 낮은 저산소 분위기의 인덱서 블록 (10) 및 재치 유닛 (40) 과, 처리 블록 (20) 에 있어서 처리 유닛 (21) 과 재치 유닛 (40) 을 접속하는 반송로 (23) 사이의 기체의 이동을 차단 가능하다.
이와 같이, 기판 처리 장치 (1) 에서는, 기판 (9) 이 비교적 긴 시간 재치되는 공간인 인덱서 블록 (10) 및 재치 유닛 (40) 을 저산소 분위기로 할 수 있고, 이로써, 기판 처리 장치 (1) 에 있어서의 기판 (9) 의 산화를 억제할 수 있다. 또, 인덱서 블록 (10) 의 내부 공간 (100) 과 접속되는 캐리어 (95) 의 내부도 저산소 분위기로 유지할 수 있기 때문에, 캐리어 (95) 내에 있어서의 기판 (9) 의 산화도 억제할 수 있다.
상기 서술한 바와 같이, 기판 처리 장치 (1) 에서는, 인덱서 블록 (10) 및 재치 유닛 (40) 을 저산소 분위기로 할 수 있기 때문에, 기판 처리 장치 (1) 의 구조는, 반송로 (23) 의 산소 농도가 인덱서 블록 (10) 의 산소 농도 및 재치 유닛 (40) 의 산소 농도보다 높은 기판 처리 장치에 특히 적합하다. 예를 들어, 기판 처리 장치 (1) 의 구조는, 반송로 (23) 가 대기 분위기인 기판 처리 장치에 특히 적합하다.
상기 서술한 바와 같이, 제 1 개구 (435) 는, 반송로 (23) 의 내부 공간 (230) 과, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (400) 을 접속하는 개구이다. 제 1 차폐부 (51) 는, 제 1 개구 (435) 를 개폐하는 도어체 (즉, 제 1 셔터 (432)) 를 구비하는 것이 바람직하다. 이로써, 재치 유닛 (40) 과 반송로 (23) 사이의 기체의 이동을, 간소한 구조로 바람직하게 차단할 수 있다.
상기 서술한 바와 같이, 기판 처리 장치 (1) 는, 재치 유닛 (40) 에 불활성 가스를 공급함으로써 재치 유닛 (40) 을 저산소 분위기로 하는 제 1 가스 공급부 (55) 를 추가로 구비하는 것이 바람직하다. 이로써, 재치 유닛 (40) 을 용이하게 저산소 분위기로 할 수 있다.
상기 서술한 바와 같이, 기판 처리 장치 (1) 는, 인덱서 블록 (10) 과 재치 유닛 (40) 사이의 기체의 이동을 차단 가능한 제 2 차폐부 (52) 를 추가로 구비하는 것이 바람직하다. 이로써, 인덱서 블록 (10) 에 있어서의 저산소 분위기의 유지를 용이하게 할 수 있다.
상기 서술한 바와 같이, 제 2 개구 (436) 는, 인덱서 블록 (10) 의 내부 공간 (100) 과, 재치 유닛 (40) 의 내부 공간 (100) 을 접속하는 개구이다. 제 2 차폐부 (52) 는, 제 1 개구 (435) 를 개폐하는 도어체 (즉, 제 2 셔터 (433)) 를 구비하는 것이 바람직하다. 이로써, 재치 유닛 (40) 과 인덱서 블록 (10) 사이의 기체의 이동을, 간소한 구조로 바람직하게 차단할 수 있다.
상기 서술한 바와 같이, 기판 처리 장치 (1) 는, 인덱서 블록 (10) 에 불활성 가스를 공급함으로써 인덱서 블록 (10) 을 저산소 분위기로 하는 제 2 가스 공급부 (56) 를 추가로 구비하는 것이 바람직하다. 이로써, 인덱서 블록 (10) 을 용이하게 저산소 분위기로 유지할 수 있다.
상기 서술한 바와 같이, 기판 처리 장치 (1) 는, 처리 블록 (20), 인덱서 블록 (10), 재치 유닛 (40), 제 1 차폐부 (51), 제 2 차폐부 (52), 제 1 가스 공급부 (55) 및 제 2 가스 공급부 (56) 를 구비하고, 제어부 (60) 를 추가로 구비한다. 제어부 (60) 는, 제 1 가스 공급부 (55) 로부터의 불활성 가스의 공급과, 제 2 가스 공급부 (56) 로부터의 불활성 가스의 공급을 개별적으로 제어하는 것이 바람직하다. 이로써, 인덱서 블록 (10) 과 재치 유닛 (40) 을, 각각 원하는 저산소 분위기로 할 수 있다. 또, 인덱서 블록 (10) 의 기압을 재치 유닛 (40) 의 기압보다 높게 하고, 재치 유닛 (40) 의 기압을 반송로 (23) 의 기압보다 높게 할 수 있다.
상기 서술한 바와 같이, 기판 처리 장치 (1) 는, 처리 블록 (20), 인덱서 블록 (10), 재치 유닛 (40), 제 1 셔터 (432) 를 갖는 제 1 차폐부 (51), 제 2 셔터 (433) 를 갖는 제 2 차폐부 (52), 및 제 1 가스 공급부 (55) 를 구비하고, 제어부 (60) 를 추가로 구비한다. 제어부 (60) 는, 센터 로봇 (22), 인덱서 로봇 (12), 제 1 차폐부 (51), 제 2 차폐부 (52) 및 제 1 가스 공급부 (55) 를 제어한다. 바람직하게는, 제어부 (60) 의 제어에 의해, 제 1 셔터 (432) 및 제 2 셔터 (433) 에 의해 제 1 개구 (435) 및 제 2 개구 (436) 가 폐쇄된 상태에서, 재치 유닛 (40) 이 저산소 분위기가 된 후, 제 2 개구 (436) 가 개방된다. 계속해서, 제 2 개구 (436) 를 통하여 인덱서 로봇 (12) 에 의해 미처리의 기판 (9) 이 재치 유닛 (40) 에 반입된다. 다음으로, 제 2 셔터 (433) 에 의해 제 2 개구 (436) 가 폐쇄된 후, 제 1 개구 (435) 가 개방된다. 그리고, 제 1 개구 (435) 를 통하여 센터 로봇 (22) 에 의해 당해 미처리의 기판 (9) 이, 재치 유닛 (40) 으로부터 반출된다. 이로써, 인덱서 로봇 (12) 으로부터 센터 로봇 (22) 으로 미처리의 기판 (9) 이 수수될 때에, 인덱서 블록 (10) 을 바람직하게 저산소 분위기로 유지할 수 있다.
상기 서술한 바와 같이, 기판 처리 장치 (1) 는, 처리 블록 (20), 인덱서 블록 (10), 재치 유닛 (40), 제 1 셔터 (432) 를 갖는 제 1 차폐부 (51), 제 2 셔터 (433) 를 갖는 제 2 차폐부 (52), 및 제 1 가스 공급부 (55) 를 구비하고, 제어부 (60) 를 추가로 구비한다. 제어부 (60) 는, 센터 로봇 (22), 인덱서 로봇 (12), 제 1 차폐부 (51), 제 2 차폐부 (52) 및 제 1 가스 공급부 (55) 를 제어한다. 바람직하게는, 제어부 (60) 의 제어에 의해, 제 2 셔터 (433) 에 의해 제 2 개구 (436) 가 폐쇄되어 있고, 제 1 개구 (435) 가 개방된 상태에서, 제 1 개구 (435) 를 통하여 센터 로봇 (22) 에 의해 처리가 끝난 기판 (9) 이 재치 유닛 (40) 에 반입된 후, 제 1 셔터 (432) 에 의해 제 1 개구 (435) 가 폐쇄된다. 계속해서, 제 1 셔터 (432) 및 제 2 셔터 (433) 에 의해 제 1 개구 (435) 및 제 2 개구 (436) 가 폐쇄된 상태에서, 재치 유닛 (40) 이 저산소 분위기가 된 후, 제 2 개구 (436) 가 개방된다. 그리고, 제 2 개구 (436) 를 통하여 인덱서 로봇 (12) 에 의해 당해 처리가 끝난 기판 (9) 이 재치 유닛 (40) 으로부터 반출된다. 이로써, 센터 로봇 (22) 으로부터 인덱서 로봇 (12) 으로 처리가 끝난 기판 (9) 이 수수될 때에, 인덱서 블록 (10) 을 바람직하게 저산소 분위기로 유지할 수 있다.
상기 서술한 기판 처리 장치 (1) 에 의한 기판 처리 방법은, 인덱서 로봇 (12) 에 의해 인덱서 블록 (10) 으로부터 재치 유닛 (40) 으로 기판 (9) 을 반입하는 공정 (스텝 S14) 과, 센터 로봇 (22) 에 의해 재치 유닛 (40) 으로부터 기판 (9) 을 반출하여 (스텝 S17) 처리 유닛 (21) 으로 반입하는 공정 (스텝 S19) 과, 처리 유닛 (21) 에 있어서 기판 (9) 에 대한 처리를 실시하는 공정 (스텝 S20) 과, 센터 로봇 (22) 에 의해 처리 유닛 (21) 으로부터 기판 (9) 을 반출하여 (스텝 S21) 재치 유닛 (40) 으로 반입하는 공정 (스텝 S23) 과, 인덱서 로봇 (12) 에 의해 재치 유닛 (40) 으로부터 인덱서 블록 (10) 으로 기판 (9) 을 반출하는 공정 (스텝 S27) 을 구비한다. 그리고, 대기보다 산소 농도가 낮은 저산소 분위기의 인덱서 블록 (10) 및 재치 유닛 (40) 과, 처리 블록 (20) 에 있어서 처리 유닛 (21) 과 재치 유닛 (40) 을 접속하는 반송로 (23) 사이의 기체의 이동을 차단 가능하다. 이로써, 상기 서술한 바와 같이, 기판 (9) 이 비교적 긴 시간 재치되는 공간인 인덱서 블록 (10) 및 재치 유닛 (40) 을 저산소 분위기로 할 수 있고, 그 결과, 기판 처리 장치 (1) 에 있어서의 기판 (9) 의 산화를 억제할 수 있다.
상기 서술한 기판 처리 장치 (1) 및 기판 처리 방법에서는, 다양한 변경이 가능하다.
예를 들어, 재치 유닛 (40) 에 재치되는 기판 (9) 의 매수는, 적절히 변경되면 된다. 또, 재치 유닛 (40) 의 구조도 다양하게 변경되면 된다. 예를 들어, 케이싱 (434) 의 내부 공간 (400) 에 있어서, 4 개의 기판 지지부 (431) 를 상하 방향으로 이동시키는 지지부 이동 기구 (예를 들어, 전동 실린더 등의 액추에이터) 가 형성되고, 반입되는 기판 (9) 이 재치될 예정인 기판 지지부 (431), 또는 반출될 예정인 기판 (9) 이 재치되어 있는 기판 지지부 (431) 가, 케이싱 (434) 의 개구와 동일한 높이에 이동되어도 된다. 이로써, 당해 개구의 상하 방향의 높이를 소형화할 수 있다. 그 결과, 센터 로봇 (22) 에 의한 기판 (9) 의 반출입시에 있어서의 재치 유닛 (40) 에 대한 대기 분위기의 진입을 억제할 수 있다.
재치 유닛 (40) 에서는, 미처리의 기판 (9) 이 재치되는 공간과, 처리가 끝난 기판 (9) 이 재치되는 공간이, 독립적으로 형성되어도 된다. 도 9 내지 도 11 에 나타내는 재치 유닛 (40a) 에서는, 미처리의 기판 (9) 이 재치되는 하 재치부 (41) 와, 처리가 끝난 기판 (9) 이 재치되는 상 재치부 (42) 가 형성된다. 상 재치부 (42) 는, 하 재치부 (41) 의 상측에 배치된다. 하 재치부 (41) 의 내부 공간과, 상 재치부 (42) 의 내부 공간은, 서로 독립되어 있다. 하 재치부 (41) 및 상 재치부 (42) 는 각각, 기판 (9) 이 재치되는 재치 유닛으로도 인식된다.
하 재치부 (41) 및 상 재치부 (42) 는 각각, 내부에 2 장의 기판 (9) 이 재치 가능한 점을 제외하고, 상기 서술한 재치 유닛 (40) 과 대략 동일한 구조를 갖는다. 구체적으로는, 하 재치부 (41) 는, 케이싱 (414) 과, 기판 지지부 (411) 와, 제 1 셔터 (412) 와, 제 2 셔터 (413) 를 구비한다. 케이싱 (414) 에는, 제 1 셔터 (412) 에 의해 개폐되는 제 1 개구 (415), 및 제 2 셔터 (413) 에 의해 개구되는 제 2 개구 (416) 가 형성된다. 제 1 셔터 (412) 및 제 2 셔터 (413) 는 각각, 제 1 셔터 이동 기구 (417) 및 제 2 셔터 이동 기구 (418) 에 의해 이동된다. 케이싱 (414) 의 내부에는, 제 1 가스 공급부 (55) 와 동일한 구조를 갖는 하 가스 공급부 (419) 가 형성된다.
상 재치부 (42) 는, 케이싱 (424) 과, 기판 지지부 (421) 와, 제 1 셔터 (422) 와, 제 2 셔터 (423) 를 구비한다. 케이싱 (424) 에는, 제 1 셔터 (422) 에 의해 개폐되는 제 1 개구 (425), 및 제 2 셔터 (423) 에 의해 개구되는 제 2 개구 (426) 가 형성된다. 제 1 셔터 (422) 및 제 2 셔터 (423) 는 각각, 제 1 셔터 이동 기구 (427) 및 제 2 셔터 이동 기구 (428) 에 의해 이동된다. 케이싱 (424) 의 내부에는, 제 1 가스 공급부 (55) 와 동일한 구조를 갖는 상 가스 공급부 (429) 가 형성된다.
하 재치부 (41) 의 제 1 셔터 (412) 및 제 2 셔터 (413), 그리고, 상 재치부 (42) 의 제 1 셔터 (422) 및 제 2 셔터 (423) 는, 각각 독립적으로 이동 가능하다. 또, 하 가스 공급부 (419) 에 의한 하 재치부 (41) 에 대한 불활성 가스의 공급, 및 상 가스 공급부 (429) 에 의한 상 재치부 (42) 에 대한 불활성 가스의 공급은, 제어부 (60) 에 의해 각각 독립적으로 제어된다.
재치 유닛 (40) 대신에 재치 유닛 (40a) 이 형성되는 기판 처리 장치 (1) 에 있어서의 기판 (9) 의 처리의 흐름은, 도 8A 및 도 8B 에 나타내는 것과 대략 동일하다. 구체적으로는, 도 12A 및 도 12B 에 나타내는 바와 같이, 먼저, 하 가스 공급부 (419) 에 의해, 하 재치부 (41) 가 저산소 분위기가 된다 (스텝 S31). 이 때, 상 재치부 (42) 는, 하 재치부 (41) 와는 달리, 대기 분위기여도 된다. 계속해서, 캐리어 (95) 로부터 인덱서 로봇 (12) 에 의해 미처리의 기판 (9) 이 반출된다 (스텝 S32). 다음으로, 하 재치부 (41) 의 제 2 개구 (416) 가 개방되고, 미처리의 기판 (9) 이 하 재치부 (41) 로 반입된 후, 제 2 개구 (416) 가 폐쇄된다 (스텝 S33 ∼ S35).
계속해서, 하 재치부 (41) 의 제 1 개구 (415) 가 개방되고, 센터 로봇 (22) 에 의해 하 재치부 (41) 로부터 미처리의 기판 (9) 이 반출된 후, 제 1 개구 (415) 가 폐쇄된다 (스텝 S36 ∼ S38). 그리고, 센터 로봇 (22) 에 의해 기판 (9) 이 처리 유닛 (21) 에 반입되고, 처리 유닛 (21) 에 있어서 기판 (9) 에 대한 처리가 실시된 후, 기판 (9) 이 처리 유닛 (21) 으로부터 반출된다 (스텝 S39 ∼ S41).
다음으로, 상 재치부 (42) 의 제 1 개구 (425) 가 개방되고, 센터 로봇 (22) 에 의해 처리가 끝난 기판 (9) 이 반입된 후, 제 1 개구 (425) 가 폐쇄된다 (스텝 S42 ∼ S44). 그리고, 상 가스 공급부 (429) 에 의해, 상 재치부 (42) 가 저산소 분위기가 된다 (스텝 S45). 그 후, 상 재치부 (42) 의 제 2 개구 (426) 가 개방되고, 인덱서 로봇 (12) 에 의해 처리가 끝난 기판 (9) 이 상 재치부 (42) 로부터 반출되고, 제 2 개구 (426) 가 폐쇄된다 (스텝 S46 ∼ S48). 또한, 인덱서 로봇 (12) 에 의해, 처리가 끝난 기판 (9) 이 캐리어 (95) 에 반입되어 기판 (9) 에 대한 일련의 처리가 종료된다 (스텝 S49).
재치 유닛 (40a) 에서는, 미처리의 기판 (9) 이 재치되는 공간과, 처리가 끝난 기판 (9) 이 재치되는 공간을 분할함으로써, 센터 로봇 (22) 에 의한 기판 (9) 의 반출입 후에 저산소 분위기가 되는 공간이 소형화된다. 이 때문에, 불활성 가스의 사용량을 저감시킬 수 있다. 또, 당해 공간을 저산소 분위기로 하기 위해서 필요로 하는 시간을 짧게 할 수도 있기 때문에, 기판 (9) 의 처리에 필요로 하는 시간을 단축할 수도 있다. 또한, 기판 (9) 을 반출입하기 위한 개구를 소형화할 수 있기 때문에, 센터 로봇 (22) 에 의한 기판 (9) 의 반출입시에 있어서의 재치 유닛 (40a) 에 대한 대기 분위기의 진입을 억제할 수 있다.
도 4 내지 도 6 에 나타내는 재치 유닛 (40) 에서는, 제 1 셔터 (432) 대신에, 제 1 개구 (435) 를 통한 기체의 이동을 차단 가능한 다른 구조 (예를 들어, 에어 커튼) 가 형성되어도 된다. 또, 제 2 셔터 (433) 대신에, 제 2 개구 (436) 를 통한 기체의 이동을 차단 가능한 다른 구조 (예를 들어, 에어 커튼) 가 형성되어도 된다. 재치 유닛 (40a) 에 있어서도 동일하다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 재치 유닛 (40, 40a) 이 인덱서 블록 (10) 과 처리 블록 (20) 의 접속부에 형성되는 것이면, 연락부 (31) 는 반드시 형성될 필요는 없다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 반송로 (23) 는, 반드시 대기 분위기일 필요는 없고, 예를 들어 센터 로봇 (22) 의 주위에만 불활성 가스가 공급되고, 반송로 (23) 의 일부 (즉, 센터 로봇 (22) 의 주위) 가 저산소 분위기로 되어 있어도 된다. 또, 반송로 (23) 의 산소 농도는, 반드시 인덱서 블록 (10) 의 산소 농도 및 재치 유닛 (40, 40a) 의 산소 농도보다 높을 필요는 없다. 어느 경우라도, 기판 처리 장치 (1) 에서는, 반송로 (23) 의 분위기가 재치 유닛 (40, 40a) 을 통하여 인덱서 블록 (10) 으로 진입하는 것을 억제할 수 있다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 제 2 차폐부 (52) 는 생략되어도 된다. 또, 제 1 가스 공급부 (55) 로부터의 불활성 가스의 공급과, 제 2 가스 공급부 (56) 로부터의 불활성 가스의 공급은, 반드시 개별적으로 제어될 필요는 없다.
재치 유닛 (40) 의 저산소 분위기는, 제 1 가스 공급부 (55) 로부터의 불활성 가스의 공급 이외의 수단에 의해 실현되어도 된다. 재치 유닛 (40a) 에 있어서도 동일하다. 또, 인덱서 블록 (10) 의 저산소 분위기도 동일하게, 제 2 가스 공급부 (56) 로부터의 불활성 가스의 공급 이외의 수단에 의해 실현되어도 된다.
기판 처리 장치 (1) 에서는, 센터 로봇 (22) 의 구조는 다양하게 변경되면 된다. 예를 들어, 센터 로봇 (22) 에 의해 1 번에 반송 가능한 기판 (9) 의 매수는, 1 장이어도, 3 장 이상이어도 된다. 또, 센터 로봇 (22) 의 핸드의 형상 및 구조는, 다양하게 변경되면 된다. 인덱서 로봇 (12) 에 대해서도 동일하다.
기판 처리 장치 (1) 의 처리 블록 (20) 에는, 상기 서술한 처리 유닛 (21) 이외의 다양한 구조의 처리 유닛이 형성되고, 기판 (9) 에 대한 다양한 처리 (예를 들어, 기판 (9) 의 하면에 대한 세정 처리) 가 실시되면 된다.
상기 서술한 기판 처리 장치 (1) 는, 반도체 기판 이외에, 액정 표시 장치 또는 유기 EL (Electro Luminescence) 표시 장치 등의 평면 표시 장치 (Flat Panel Display) 에 사용되는 유리 기판, 혹은 다른 표시 장치에 사용되는 유리 기판의 처리에 이용되어도 된다. 또, 상기 서술한 기판 처리 장치 (1) 는, 광 디스크용 기판, 자기 디스크용 기판, 광 자기 디스크용 기판, 포토마스크용 기판, 세라믹 기판 및 태양 전지용 기판 등의 처리에 이용되어도 된다.
상기 실시형태 및 각 변형예에 있어서의 구성은, 서로 모순되지 않는 한 적절히 조합되면 된다.
발명을 상세하게 묘사하여 설명했지만, 이미 서술한 설명은 예시적이며 한정적인 것은 아니다. 따라서, 본 발명의 범위를 일탈하지 않는 한, 다수의 변형이나 양태가 가능하다고 할 수 있다.
1 : 기판 처리 장치
9 : 기판
10 : 인덱서 블록
12 : 인덱서 로봇
20 : 처리 블록
21 : 처리 유닛
22 : 센터 로봇
23 : 반송로
40, 40a : 재치 유닛
41 : 하 재치부
42 : 상 재치부
51 : 제 1 차폐부
52 : 제 2 차폐부
55 : 제 1 가스 공급부
56 : 제 2 가스 공급부
60 : 제어부
95 : 캐리어
100 : (인덱서 블록의) 내부 공간
230 : (반송로의) 내부 공간
400 : (재치 유닛의) 내부 공간
412, 422, 432 : 제 1 셔터
413, 423, 433 : 제 2 셔터
415, 425, 435 : 제 1 개구
416, 426, 436 : 제 2 개구
419 : 하 가스 공급부
429 : 상 가스 공급부
S11 ∼ S29, S31 ∼ S49 : 스텝

Claims (12)

  1. 기판을 처리하는 기판 처리 장치로서,
    기판을 처리하는 처리 유닛 및 상기 처리 유닛에 대한 기판의 반출입을 실시하는 제 1 반송 로봇이 배치되는 처리 블록과,
    복수의 기판을 수용 가능한 캐리어에 대한 기판의 반출입을 실시하는 제 2 반송 로봇이 배치되는 인덱서 블록과,
    상기 처리 블록과 상기 인덱서 블록의 접속부에 형성되고, 상기 제 2 반송 로봇으로부터 상기 제 1 반송 로봇으로 건네지는 미처리의 기판, 및 상기 제 1 반송 로봇으로부터 상기 제 2 반송 로봇으로 건네지는 처리가 끝난 기판을 유지하는 재치 유닛과,
    대기보다 산소 농도가 낮은 저산소 분위기의 상기 인덱서 블록 및 상기 재치 유닛과, 상기 처리 블록에 있어서 상기 처리 유닛과 상기 재치 유닛을 접속하는 반송로 사이의 기체의 이동을 차단 가능한 제 1 차폐부를 구비하고,
    상기 재치 유닛에 불활성 가스를 공급함으로써 상기 재치 유닛을 저산소 분위기로 하는 제 1 가스 공급부와,
    상기 인덱서 블록과 상기 재치 유닛 사이의 기체의 이동을 차단 가능한 제 2 차폐부와,
    상기 제 1 반송 로봇, 상기 제 2 반송 로봇, 상기 제 1 차폐부, 상기 제 1 가스 공급부 및 상기 제 2 차폐부를 제어하는 제어부를 추가로 구비하고,
    상기 제 1 차폐부는, 상기 반송로의 내부 공간과 상기 재치 유닛의 내부 공간을 접속하는 제 1 개구를 개폐하는 제 1 도어체를 구비하고,
    상기 제 2 차폐부는, 상기 인덱서 블록의 내부 공간과 상기 재치 유닛의 내부 공간을 접속하는 제 2 개구를 개폐하는 제 2 도어체를 구비하고,
    상기 제어부의 제어에 의해,
    상기 제 1 도어체 및 상기 제 2 도어체에 의해 상기 제 1 개구 및 상기 제 2 개구가 폐쇄된 상태에서, 상기 재치 유닛이 저산소 분위기가 된 후, 상기 제 2 개구가 개방되고,
    상기 제 2 개구를 통하여 상기 제 2 반송 로봇에 의해 미처리의 기판이 상기 재치 유닛에 반입되고,
    상기 제 2 도어체에 의해 상기 제 2 개구가 폐쇄된 후, 상기 제 1 개구가 개방되고,
    상기 제 1 개구를 통하여 상기 제 1 반송 로봇에 의해 상기 미처리의 기판이 상기 재치 유닛으로부터 반출되며,
    상기 반송로는 대기 분위기인, 기판 처리 장치.
  2. 기판을 처리하는 기판 처리 장치로서,
    기판을 처리하는 처리 유닛 및 상기 처리 유닛에 대한 기판의 반출입을 실시하는 제 1 반송 로봇이 배치되는 처리 블록과,
    복수의 기판을 수용 가능한 캐리어에 대한 기판의 반출입을 실시하는 제 2 반송 로봇이 배치되는 인덱서 블록과,
    상기 처리 블록과 상기 인덱서 블록의 접속부에 형성되고, 상기 제 2 반송 로봇으로부터 상기 제 1 반송 로봇으로 건네지는 미처리의 기판, 및 상기 제 1 반송 로봇으로부터 상기 제 2 반송 로봇으로 건네지는 처리가 끝난 기판을 유지하는 재치 유닛과,
    대기보다 산소 농도가 낮은 저산소 분위기의 상기 인덱서 블록 및 상기 재치 유닛과, 상기 처리 블록에 있어서 상기 처리 유닛과 상기 재치 유닛을 접속하는 반송로 사이의 기체의 이동을 차단 가능한 제 1 차폐부를 구비하고,
    상기 재치 유닛에 불활성 가스를 공급함으로써 상기 재치 유닛을 저산소 분위기로 하는 제 1 가스 공급부와,
    상기 인덱서 블록과 상기 재치 유닛 사이의 기체의 이동을 차단 가능한 제 2 차폐부와,
    상기 제 1 반송 로봇, 상기 제 2 반송 로봇, 상기 제 1 차폐부, 상기 제 1 가스 공급부 및 상기 제 2 차폐부를 제어하는 제어부를 추가로 구비하고,
    상기 제 1 차폐부는, 상기 반송로의 내부 공간과 상기 재치 유닛의 내부 공간을 접속하는 제 1 개구를 개폐하는 제 1 도어체를 구비하고,
    상기 제 2 차폐부는, 상기 인덱서 블록의 내부 공간과 상기 재치 유닛의 내부 공간을 접속하는 제 2 개구를 개폐하는 제 2 도어체를 구비하고,
    상기 제어부의 제어에 의해,
    상기 제 2 도어체에 의해 상기 제 2 개구가 폐쇄되어 있고, 상기 제 1 개구가 개방된 상태에서, 상기 제 1 개구를 통하여 상기 제 1 반송 로봇에 의해 처리가 끝난 기판이 상기 재치 유닛에 반입된 후, 상기 제 1 도어체에 의해 상기 제 1 개구가 폐쇄되고,
    상기 제 1 도어체 및 상기 제 2 도어체에 의해 상기 제 1 개구 및 상기 제 2 개구가 폐쇄된 상태에서, 상기 재치 유닛이 저산소 분위기가 된 후, 상기 제 2 개구가 개방되고,
    상기 제 2 개구를 통하여 상기 제 2 반송 로봇에 의해 상기 처리가 끝난 기판이 상기 재치 유닛으로부터 반출되며,
    상기 반송로는 대기 분위기인, 기판 처리 장치.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 인덱서 블록에 불활성 가스를 공급함으로써 상기 인덱서 블록을 저산소 분위기로 하는 제 2 가스 공급부를 추가로 구비하는, 기판 처리 장치.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 제어부는, 상기 제 1 가스 공급부로부터의 불활성 가스의 공급과, 상기 제 2 가스 공급부로부터의 불활성 가스의 공급을 개별적으로 제어하는, 기판 처리 장치.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 반송로의 산소 농도는, 상기 인덱서 블록의 산소 농도 및 상기 재치 유닛의 산소 농도보다 높은, 기판 처리 장치.
  6. 기판을 처리하는 처리 유닛 및 상기 처리 유닛에 대한 기판의 반출입을 실시하는 제 1 반송 로봇이 배치되는 처리 블록과, 복수의 기판을 수용 가능한 캐리어에 대한 기판의 반출입을 실시하는 제 2 반송 로봇이 배치되는 인덱서 블록과, 상기 처리 블록과 상기 인덱서 블록의 접속부에 형성되고, 상기 제 2 반송 로봇으로부터 상기 제 1 반송 로봇으로 건네지는 미처리의 기판, 및 상기 제 1 반송 로봇으로부터 상기 제 2 반송 로봇으로 건네지는 처리가 끝난 기판을 유지하는 재치 유닛, 상기 처리 블록에 있어서 상기 처리 유닛과 상기 재치 유닛을 접속하는 반송로, 상기 반송로의 내부 공간과 상기 재치 유닛의 내부 공간을 접속하는 제 1 개구를 개폐하는 제 1 도어체와, 상기 인덱서 블록의 내부 공간과 상기 재치 유닛의 내부 공간을 접속하는 제 2 개구를 개폐하는 제 2 도어체를 구비하는 기판 처리 장치에 의해 기판을 처리하는 기판 처리 방법으로서,
    a) 상기 제 1 도어체 및 상기 제 2 도어체에 의해 상기 제 1 개구 및 상기 제 2 개구가 폐쇄된 상태에서, 상기 재치 유닛이 저산소 분위기가 된 후, 상기 제 2 개구가 개방되고, 상기 제 2 개구를 통하여 상기 제 2 반송 로봇에 의해 상기 인덱서 블록으로부터 상기 재치 유닛으로 기판을 반입하는 공정과,
    b) 상기 제 2 도어체에 의해 상기 제 2 개구가 폐쇄된 후, 상기 제 1 개구가 개방되고, 상기 제 1 개구를 통하여 상기 제 1 반송 로봇에 의해 상기 재치 유닛으로부터 상기 기판을 반출하여 상기 처리 유닛으로 반입하는 공정과,
    c) 상기 처리 유닛에 있어서 상기 기판에 대한 처리를 실시하는 공정과,
    d) 상기 제 1 반송 로봇에 의해 상기 처리 유닛으로부터 상기 기판을 반출하여 상기 재치 유닛으로 반입하는 공정과,
    e) 상기 제 2 반송 로봇에 의해 상기 재치 유닛으로부터 상기 인덱서 블록으로 상기 기판을 반출하는 공정을 구비하고,
    대기보다 산소 농도가 낮은 저산소 분위기의 상기 인덱서 블록 및 상기 재치 유닛과, 상기 처리 블록에 있어서 상기 처리 유닛과 상기 재치 유닛을 접속하는 반송로 사이의 기체의 이동이 차단 가능하며,
    상기 반송로는 대기 분위기인, 기판 처리 방법.
  7. 기판을 처리하는 처리 유닛 및 상기 처리 유닛에 대한 기판의 반출입을 실시하는 제 1 반송 로봇이 배치되는 처리 블록과, 복수의 기판을 수용 가능한 캐리어에 대한 기판의 반출입을 실시하는 제 2 반송 로봇이 배치되는 인덱서 블록과, 상기 처리 블록과 상기 인덱서 블록의 접속부에 형성되고, 상기 제 2 반송 로봇으로부터 상기 제 1 반송 로봇으로 건네지는 미처리의 기판, 및 상기 제 1 반송 로봇으로부터 상기 제 2 반송 로봇으로 건네지는 처리가 끝난 기판을 유지하는 재치 유닛, 상기 처리 블록에 있어서 상기 처리 유닛과 상기 재치 유닛을 접속하는 반송로, 상기 반송로의 내부 공간과 상기 재치 유닛의 내부 공간을 접속하는 제 1 개구를 개폐하는 제 1 도어체와, 상기 인덱서 블록의 내부 공간과 상기 재치 유닛의 내부 공간을 접속하는 제 2 개구를 개폐하는 제 2 도어체를 구비하는 기판 처리 장치에 의해 기판을 처리하는 기판 처리 방법으로서,
    a) 상기 제 2 반송 로봇에 의해 상기 인덱서 블록으로부터 상기 재치 유닛으로 기판을 반입하는 공정과,
    b) 상기 제 1 반송 로봇에 의해 상기 재치 유닛으로부터 상기 기판을 반출하여 상기 처리 유닛으로 반입하는 공정과,
    c) 상기 처리 유닛에 있어서 상기 기판에 대한 처리를 실시하는 공정과,
    d) 상기 제 2 도어체에 의해 상기 제 2 개구가 폐쇄되어 있고, 상기 제 1 개구가 개방된 상태에서, 상기 제 1 개구를 통하여 상기 제 1 반송 로봇에 의해 상기 처리 유닛으로부터 상기 기판을 반출하여 상기 재치 유닛으로 반입하는 공정과,
    e) 상기 제 1 도어체 및 상기 제 2 도어체에 의해 상기 제 1 개구 및 상기 제 2 개구가 폐쇄된 상태에서, 상기 재치 유닛이 저산소 분위기가 된 후, 상기 제 2 개구가 개방되고, 상기 제 2 개구를 통하여 상기 제 2 반송 로봇에 의해 상기 재치 유닛으로부터 상기 인덱서 블록으로 상기 기판을 반출하는 공정을 구비하고,
    대기보다 산소 농도가 낮은 저산소 분위기의 상기 인덱서 블록 및 상기 재치 유닛과, 상기 처리 블록에 있어서 상기 처리 유닛과 상기 재치 유닛을 접속하는 반송로 사이의 기체의 이동이 차단 가능하며,
    상기 반송로는 대기 분위기인, 기판 처리 방법.

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