KR102477028B1 - 자외선 흡수제 및 합성 수지 조성물 - Google Patents

자외선 흡수제 및 합성 수지 조성물 Download PDF

Info

Publication number
KR102477028B1
KR102477028B1 KR1020177004722A KR20177004722A KR102477028B1 KR 102477028 B1 KR102477028 B1 KR 102477028B1 KR 1020177004722 A KR1020177004722 A KR 1020177004722A KR 20177004722 A KR20177004722 A KR 20177004722A KR 102477028 B1 KR102477028 B1 KR 102477028B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
group
carbon atoms
ultraviolet absorber
synthetic resin
alkyl group
Prior art date
Application number
KR1020177004722A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20170086460A (ko
Inventor
나오토 우에다
카즈키요 노무라
Original Assignee
가부시키가이샤 아데카
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 가부시키가이샤 아데카 filed Critical 가부시키가이샤 아데카
Priority claimed from PCT/JP2015/081711 external-priority patent/WO2016080259A1/ja
Publication of KR20170086460A publication Critical patent/KR20170086460A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102477028B1 publication Critical patent/KR102477028B1/ko

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3477—Six-membered rings
    • C08K5/3492—Triazines
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09K—MATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K3/00—Materials not provided for elsewhere
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D251/00—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings
    • C07D251/02—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings
    • C07D251/12—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members
    • C07D251/14—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom
    • C07D251/24—Heterocyclic compounds containing 1,3,5-triazine rings not condensed with other rings having three double bonds between ring members or between ring members and non-ring members with hydrogen or carbon atoms directly attached to at least one ring carbon atom to three ring carbon atoms
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
    • C08L101/00—Compositions of unspecified macromolecular compounds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/005—Stabilisers against oxidation, heat, light, ozone
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/05—Alcohols; Metal alcoholates
    • C08K5/053—Polyhydroxylic alcohols
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/13—Phenols; Phenolates
    • C08K5/132—Phenols containing keto groups, e.g. benzophenones
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/04—Oxygen-containing compounds
    • C08K5/13—Phenols; Phenolates
    • C08K5/134—Phenols containing ester groups

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)

Abstract

자외선을 광범위한 파장 영역에서 효율적으로 흡수하며, 특히 UV-A 영역에서도 강한 흡수성을 가지는 자외선 흡수제를 제공하는 것. 또한 내후성이 뛰어난 합성 수지 조성물을 제공하는 것. 하기 일반식(1)로 나타내는 트리아진계 화합물로 이루어지는 자외선 흡수제를 제공하는 것. 또한 상기 자외선 흡수제를 함유하는 합성 수지 조성물을 제공하는 것. 하기 일반식(1)로 나타내는 트리아진계 화합물 중의 R2, R3 및 R4는, 수소원자 또는 메틸기가 바람직하고, 수소원자가 특히 바람직하다.

Description

자외선 흡수제 및 합성 수지 조성물{ULTRAVIOLET ABSORBER AND SYNTHETIC RESIN COMPOSITION}
본 발명은, 특정 구조를 가지는 트리아진계 화합물로 이루어지는 자외선 흡수제, 및 상기 자외선 흡수제가 배합된 합성 수지 조성물에 관한 것이다. 상세하게는, 자외선의 흡수 영역이 넓고, 자외선의 흡수성이 뛰어난 자외선 흡수제, 및 상기 자외선 흡수제가 배합된, 내후성이 뛰어난 합성 수지 조성물에 관한 것이다.
태양광 중에는 자외선이 포함되어 있고, 자외선에 의한 열화나 손상을 방지하기 위해, 합성 수지나 도료, 섬유, 고분자 필름, 화장품 등에 자외선 흡수제가 널리 사용되고 있다.
이 태양광 중의 자외선은, 그 파장에 의해 UV-A선(315~400㎚의 파장), UV-B선(280~315㎚의 파장), UV-C선(200~280㎚)의 파장이 포함되어 있다. 이 중 UV-C영역의 자외선은 지표에는 도달하지 않는다. 그 때문에, 자외선 흡수제에는, 상기 파장 중 UV-A 영역과 UV-B 영역의 자외선을 효율적으로 흡수하는 것이 요구되고 있다.
상기의 요구에 대하여 예를 들면, 트리아진계의 자외선 흡수제가 제안되고 있다(특허문헌 1 및 2). 그러나 이들 종래의 자외선 흡수제는, 그 자외선 흡수성이 만족스러운 것이 아니며, 특히 UV-A 영역 자외선의 흡수성에 문제가 있었다.
일본 공개특허공보 평11-71356호 일본 공개특허공보 2001-302926호
따라서 본 발명의 목적은, 자외선을 광범위한 파장 영역에서 효율적으로 흡수하며, 특히 UV-A 영역에서도 강한 흡수성을 가지는 자외선 흡수제를 제공하는 것이다. 또한 본 발명의 목적은, 상기 자외선 흡수제가 배합된, 내후성이 뛰어난 합성 수지 조성물을 제공하는 것이다.
본 발명자들은, 상기 과제를 해결하기 위해 예의 검토한 결과, 특정 구조를 가지는 트리아진계 자외선 흡수제를 찾아내어, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.
즉 본 발명은, 하기 일반식(1)로 나타내는 트리아진 화합물로 이루어지는 자외선 흡수제를 제공하는 것이다.
Figure 112017017405425-pct00001
(식 중 n은 1 또는 2를 나타내고,
n이 1일 때, R1은 수소원자, 탄소원자수 1~20의 알킬기, 탄소원자수 3~8의 시클로알킬기, 탄소원자수 3~8의 알케닐기, 탄소원자수 6~18의 아릴기, 탄소원자수 7~19의 알킬아릴기, 탄소원자수 7~19의 아릴알킬기, 글리시딜기를 나타내고,
n이 2일 때, R1은 탄소원자수 1~20의 알킬렌기, 탄소원자수 3~8의 시클로알킬렌기, 탄소원자수 6~18의 아릴렌기, 또는 이들 조합을 나타내며,
이들 R1이 나타내는 각 기는, 탄소원자수 1~8의 알킬기, 탄소원자수 1~8의 알콕시기, 탄소원자수 6~12의 아릴기, 탄소원자수 7~13의 알킬아릴기, 탄소원자수 7~13의 아릴알킬기, 하이드록시기, 할로겐원자, 글리시딜기로 치환되어 있어도 되고, 또한 산소원자, 황원자, 카르보닐기, 에스테르기, 아미드기, 이미도기로 중단(개재)되어 있어도 되고, 이들 치환 및 중단은 조합되어도 되고,
R2, R3 및 R4는, 서로 동일해도 되고 달라도 되고, 수소원자, 할로겐원자, 하이드록시기, 탄소원자수 1~4의 알킬기, 탄소원자수 1~4의 알콕시기를 나타낸다.)
또한 본 발명에서는, 상기 일반식(1)을, 하기 일반식(2)로 나타내는 트리아진계 화합물인 것이 바람직하다.
Figure 112017017405425-pct00002
(식 중 R5는 탄소원자수 1~12의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 나타내며,
R6, R7 및 R8은, 서로 동일해도 되고 달라도 되고, 수소원자, 또는 탄소원자수 1~4의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 나타낸다.)
또한 본 발명은, 합성 수지에 상기 자외선 흡수제를 배합하여 이루어지는 합성 수지 조성물을 제공하는 것이다.
이하 본 발명에 대해 상술한다.
본 발명의 자외선 흡수제인 트리아진계 화합물은, 하기 일반식(1)의 구조를 가진다.
Figure 112017017405425-pct00003
일반식(1) 중 n은 1 또는 2를 나타낸다. n이 1일 때, R1은 수소원자, 탄소원자수 1~20의 알킬기, 탄소원자수 3~8의 시클로알킬기, 탄소원자수 3~8의 알케닐기, 탄소원자수 6~18의 아릴기, 탄소원자수 7~19의 알킬아릴기, 탄소원자수 7~19의 아릴알킬기, 글리시딜기를 나타낸다. n이 2일 때, R1은 탄소원자수 1~20의 알킬렌기, 탄소원자수 3~8의 시클로알킬렌기, 탄소원자수 6~18의 아릴렌기, 또는 이들 조합을 나타낸다. 이들 R1이 나타내는 각 기는, 탄소원자수 1~8의 알킬기, 탄소원자수 1~8의 알콕시기, 탄소원자수 6~12의 아릴기, 탄소원자수 7~13의 알킬아릴기, 탄소원자수 7~13의 아릴알킬기, 하이드록시기, 할로겐원자, 글리시딜기로 치환되어 있어도 된다. 또한 이들 R1이 나타내는 각 기는, 산소원자, 황원자, 카르보닐기, 에스테르기, 아미드기, 이미도기로 중단되어 있어도 된다. 이들 치환 및 중단은 조합되어도 된다.
상기 일반식(1)에서, n이 1일 때의 R1로 나타내는, 탄소원자수 1~20의 알킬기로는, 직쇄의 알킬기이어도 되고 분기의 알킬기이어도 되고, 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, 제2부틸, 제3부틸, 아밀, 이소아밀, 제3아밀, 헥실, 헵틸, 1-에틸펜틸, 이소헵틸, 제3헵틸, 옥틸, 이소옥틸, 제2옥틸, 제3옥틸, 2-에틸헥실, 노닐, 이소노닐, 데실, 운데실, 도데실, 트리데실, 테트라데실, 펜타데실, 헥사데실, 헵타데실, 옥타데실, 노나데실, 이코실기 등을 들 수 있다.
n이 1일 때 R1로 나타내는, 탄소원자수 3~8의 시클로알킬기로는, 예를 들면 시클로프로필, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸, 시클로옥틸기 등을 들 수 있다.
n이 1일 때 R1로 나타내는, 탄소원자수 3~8의 알케닐기로는, 상기 탄소원자수 1~20의 알킬기 중 탄소원자수가 3~8인 것에 대응하는 알케닐기를 들 수 있다.
n이 1일 때 R1로 나타내는, 탄소원자수 6~18의 아릴기로는, 예를 들면 페닐, 나프틸, 비페닐기 등을 들 수 있다.
n이 1일 때 R1로 나타내는, 탄소원자수 7~19의 알킬아릴기로는, 예를 들면 메틸페닐, 디메틸페닐, 에틸페닐, 옥틸페닐기 등을 들 수 있다.
n이 1일 때 R1로 나타내는, 탄소원자수 7~19의 아릴알킬기로는, 예를 들면 벤질, 2-페닐에틸, 1-메틸-1-페닐에틸기, 2-페닐프로판-2-일기 등을 들 수 있다.
또한 상기 일반식(1)에서, n이 2일 때 R1로 나타내는, 탄소원자수 1~20의 알킬렌기로는, 예를 들면 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 펜틸렌, 헥실렌, 헵틸렌, 옥틸렌, 노닐렌, 데실렌, 운데실렌, 도데실렌, 트리데실렌, 테트라데실렌, 펜타데실렌, 헥사데실렌, 헵타데실렌, 옥타데실렌, 노나데실렌, 이코실렌기 등을 들 수 있다.
n이 2일 때 R1로 나타내는, 탄소원자수 3~8의 시클로알킬렌기로는, 시클로 프로필렌, 시클로펜틸렌, 시클로헥실렌, 시클로헵틸렌, 시클로옥틸렌기 등을 들 수 있다.
n이 2일 때 R1로 나타내는, 탄소원자수 6~18의 아릴렌기로는, 예를 들면 페닐렌, 톨릴렌, 크실릴렌, 나프틸렌, 비페닐렌을 들 수 있다.
R1을 나타내는 각 기를 치환해도 되는, 탄소원자수 1~8의 알킬기로는, 예를 들면 상기 탄소원자수 1~20의 알킬기 중 탄소원자수 1~8인 것을 들 수 있다.
R1을 나타내는 각 기를 치환해도 되는, 탄소원자수 1~8의 알콕시기로는, 예를 들면 상기 탄소원자수 1~20의 알킬기 중 탄소원자수가 1~8인 것에 대응한 알콕시기를 들 수 있다.
R1을 나타내는 각 기를 치환해도 되는, 탄소원자수 6~12의 아릴기로는, 예를 들면 상기 탄소원자수 6~18의 아릴기 중 탄소원자수 6~12인 것을 들 수 있다.
R1을 나타내는 각 기를 치환해도 되는, 탄소원자수 7~13의 알킬아릴기로는, 예를 들면 상기 탄소원자수 7~19의 알킬아릴기 중 탄소원자수 7~13인 것을 들 수 있다.
R1을 나타내는 각 기를 치환해도 되는, 탄소원자수 7~13의 아릴알킬기로는, 예를 들면 상기 탄소원자수 7~19의 아릴알킬기 중 탄소원자수 7~13인 것을 들 수 있다.
R1을 나타내는 각 기를 치환해도 되는 할로겐원자, 및 R2, R3 및 R4로 나타내는 할로겐원자로는, 불소, 염소, 브롬, 요오드를 들 수 있다.
또한 상기 일반식(1)에서, R2, R3 및 R4로 나타내는 탄소원자수 1~4의 알킬기로는, 직쇄의 알킬기이어도 되고 분기의 알킬기이어도 되고, 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 제2부틸, 제3부틸, 이소부틸기를 들 수 있으며, 탄소원자수 1~4의 알콕시기로는, 상기 탄소원자수 1~4의 알킬기에 대응하는 알콕시기를 들 수 있다.
R2, R3 및 R4는, 자외선 흡수성과 합성 수지의 상용성 면에서, 수소원자 또는 메틸기가 바람직하고, 수소원자가 특히 바람직하다.
일반식(1)로 나타내는 트리아진계 화합물은, 자외선 흡수성과 합성 수지에 대한 상용성 면에서, 하기 일반식(2)로 나타내는 트리아진계 화합물이 바람직하다.
Figure 112017017405425-pct00004
일반식(2) 중 R5는 탄소원자수 1~12의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 나타낸다.
R6, R7 및 R8은, 서로 동일해도 되고 달라도 되고, 수소원자, 또는 탄소원자수 1~4의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 나타낸다.
일반식(2)에서, R5로 나타내는 탄소원자수 1~12의 직쇄 또는 분기의 알킬기로는, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, 제2부틸, 제3부틸, 아밀, 이소아밀, 제3아밀, 헥실, 헵틸, 1-에틸펜틸, 이소헵틸, 제3헵틸, 옥틸, 이소옥틸, 제2옥틸, 제3옥틸, 2-에틸헥실, 노닐, 이소노닐, 데실, 운데실, 도데실기 등을 들 수 있고, 그 중에서도, 자외선 흡수성과 합성 수지의 상용성 면에서, 1-에틸펜틸기가 바람직하다.
일반식(2)에서, R6, R7 및 R8로 나타내는, 탄소원자수 1~4의 직쇄 또는 분기의 알킬기로는, 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 제2부틸, 제3부틸, 이소부틸기를 들 수 있고, 자외선 흡수성과 합성 수지의 상용성 면에서, 수소원자 또는 메틸기가 바람직하고, 수소원자가 특히 바람직하다.
본 발명의 자외선 흡수제는, UV-A 영역과 UV-B 영역의 어느 자외선 영역의 파장에도 강한 흡수성을 가지며, 특히 UV-A 영역의 자외선에 강한 흡수성을 가지는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 상기 일반식(1)로 나타내는 트리아진계 화합물로는, 예를 들면 하기의 화합물 No. 1~No. 20 등의 화합물을 들 수 있다.
Figure 112017017405425-pct00005
Figure 112017017405425-pct00006
Figure 112017017405425-pct00007
Figure 112017017405425-pct00008
Figure 112017017405425-pct00009
Figure 112017017405425-pct00010
Figure 112017017405425-pct00011
Figure 112017017405425-pct00012
Figure 112017017405425-pct00013
Figure 112017017405425-pct00014
Figure 112017017405425-pct00015
Figure 112017017405425-pct00016
Figure 112017017405425-pct00017
Figure 112017017405425-pct00018
Figure 112017017405425-pct00019
Figure 112017017405425-pct00020
Figure 112017017405425-pct00021
Figure 112017017405425-pct00022
Figure 112017017405425-pct00023
Figure 112017017405425-pct00024
다음으로 본 발명의 합성 수지 조성물에 대해 설명한다.
본 발명의 합성 수지 조성물은, 상기 자외선 흡수제를 함유한다.
상기 자외선 흡수제의 배합량은, 합성 수지 100질량부에 대하여 0.001질량부~20질량부가 바람직하고, 0.01~10질량부가 보다 바람직하며, 0.1~5질량부가 보다 더 바람직하다. 상기 자외선 흡수제의 배합량이 0.001질량부 미만에서는, 충분한 효과가 얻어지지 않고, 또한 20질량부를 초과하면, 자외선 흡수제의 첨가 효과의 향상이 얻어지지 않을 뿐만 아니라, 수지의 물성에 영향을 끼칠 가능성이 있다.
본 발명의 합성 수지 조성물에 사용되는 합성 수지의 구체예로는, 폴리프로필렌, 고밀도 폴리에틸렌, 저밀도 폴리에틸렌, 직쇄 저밀도 폴리에틸렌, 가교 폴리에틸렌, 초고분자량 폴리에틸렌, 폴리부텐-1, 폴리-3-메틸펜텐 등의 α-올레핀 중합체 또는 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-에틸아크릴레이트 공중합체, 에틸렌-프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀 및 이들 공중합체, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 염소화 폴리에틸렌, 염소화 폴리프로필렌, 폴리불화비닐리덴, 염화 고무, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 염화비닐-에틸렌 공중합체, 염화비닐-염화비닐리덴 공중합체, 염화비닐-염화비닐리덴-아세트산비닐 삼원공중합체, 염화비닐-아크릴산에스테르 공중합체, 염화비닐-말레산에스테르 공중합체, 염화비닐-시클로헥실말레이미드 공중합체 등의 할로겐 함유 수지; 석유 수지, 쿠마론 수지, 폴리스티렌, 폴리아세트산비닐, 아크릴수지, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리비닐알코올, 폴리비닐포르말, 폴리비닐부티랄; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리시클로헥산디메틸렌테레프탈레이트 등의 폴리알킬렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌나프탈레이트 등의 폴리알킬렌나프탈레이트 등의 방향족 폴리에스테르 및 폴리테트라메틸렌테레프탈레이트 등의 직쇄 폴리에스테르; 폴리하이드록시부티레이트, 폴리카프로락톤, 폴리부틸렌숙시네이트, 폴리에틸렌숙시네이트, 폴리락트산 수지, 폴리말산, 폴리글리콜산, 폴리디옥산, 폴리(2-옥세타논) 등의 분해성 지방족 폴리에스테르; 폴리페닐렌옥사이드, 폴리카프로락탐 및 폴리헥사메틸렌아디파미드 등의 폴리아미드, 폴리카보네이트, 분기 폴리카보네이트, 폴리아세탈, 폴리페닐렌술파이드, 폴리우레탄, 섬유소계 수지 등의 열가소성 수지 및 이들 블렌드물 혹은 페놀 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지 등의 열변화성 수지, 불소계 수지, 실리콘 수지, 실리콘 고무 폴리에테르술폰, 폴리술폰, 폴리페닐렌에테르, 폴리에테르케톤, 폴리에테르에테르케톤, 액정 폴리머 등을 들 수 있다. 또한 이소프렌 고무, 부타디엔 고무, 아크릴로니트릴-부타디엔 공중합 고무, 스티렌-부타디엔 공중합 고무, 불소 고무, 실리콘 고무 등을 들 수 있다.
또한 합성 수지의 구체예를 들면, 올레핀계 열가소성 엘라스토머, 스티렌계 열가소성 엘라스토머, 폴리에스테르계 열가소성 엘라스토머, 니트릴계 열가소성 엘라스토머, 나일론계 열가소성 엘라스토머, 염화비닐계 열가소성 엘라스토머, 폴리아미드계 열가소성 엘라스토머, 폴리우레탄계 열가소성 엘라스토머 등을 들 수 있다. 이들 합성 수지는, 1종을 사용해도 되고 2종 이상을 사용해도 된다. 또한 합성 수지는 알로이화되어 있어도 된다.
본 발명에서 사용하는 상기 합성 수지는, 분자량, 중합도, 밀도, 연화점, 용매에 대한 불용분의 비율, 입체 규칙성의 정도, 촉매 잔사의 유무, 원료가 되는 모노머의 종류나 배합 비율, 중합 촉매의 종류(예를 들면, 치글러(Ziegler) 촉매, 메탈로센 촉매 등) 등에 상관없이 사용할 수 있다.
본 발명의 합성 수지 조성물에는, 필요에 따라 페놀계 산화방지제, 인계 산화방지제, 티오에테르계 산화방지제, 본 발명 이외의 자외선 흡수제, 힌더드아민계 광안정제 등의 각종 첨가제를 더 첨가할 수 있고, 이들을 첨가함으로써 본 발명의 수지 조성물을 안정화시킬 수 있다.
상기 페놀계 산화방지제로는, 예를 들면 2,6-디제3부틸-p-크레졸, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 디스테아릴(3,5-디제3부틸-4-하이드록시벤질)포스포네이트, 1,6-헥사메틸렌비스[(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산아미드], 4,4'-티오비스(6-제3부틸-m-크레졸), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-제3부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-제3부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(6-제3부틸-m-크레졸), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디제3부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4-제2부틸-6-제3부틸페놀), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-제3부틸페닐)부탄, 1,3,5-트리스(2,6-디메틸-3-하이드록시-4-제3부틸벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디제3부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디제3부틸-4-하이드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 2-제3부틸-4-메틸-6-(2-아크릴로일옥시-3-제3부틸-5-메틸벤질)페놀, 스테아릴(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 테트라키스[3-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산메틸]메탄, 티오디에틸렌글리콜비스[(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 1,6-헥사메틸렌비스[(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트], 비스[3,3-비스(4-하이드록시-3-제3부틸페닐)부티르산]글리콜에스테르, 비스[2-제3부틸-4-메틸-6-(2-하이드록시-3-제3부틸-5-메틸벤질)페닐]테레프탈레이트, 1,3,5-트리스[(3,5-디제3부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시에틸]이소시아누레이트, 3,9-비스[1,1-디메틸-2-{(3-제3부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시}에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]운데칸, 트리에틸렌글리콜비스[(3-제3부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트] 등을 들 수 있다. 이들 페놀계 산화방지제의 첨가량은, 합성 수지 100질량부에 대하여 0.001~10질량부인 것이 바람직하고, 0.05~5질량부인 것이 보다 바람직하다.
상기 인계 산화방지제로는, 예를 들면 트리스노닐페닐포스파이트, 트리스[2-제3부틸-4-(3-제3부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐티오)-5-메틸페닐]포스파이트, 트리데실포스파이트, 옥틸디페닐포스파이트, 디(데실)모노페닐포스파이트, 디(트리데실)펜타에리스리톨디포스파이트, 디(노닐페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,4-디제3부틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,6-디제3부틸-4-메틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,4,6-트리제3부틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,4-디쿠밀페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 테트라(트리데실)이소프로필리덴디페놀디포스파이트, 테트라(트리데실)-4,4'-n-부틸리덴비스(2-제3부틸-5-메틸페놀)디포스파이트, 헥사(트리데실)-1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-제3부틸페닐)부탄트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디제3부틸페닐)비페닐렌디포스포나이트, 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 2,2'-메틸렌비스(4,6-제3부틸페닐)-2-에틸헥실포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-제3부틸페닐)-옥타데실포스파이트, 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디제3부틸페닐)플루오로포스파이트, 트리스(2-[(2,4,8,10-테트라키스제3부틸디벤조[d,f][1,3,2]디옥사포스페핀-6-일)옥시]에틸)아민, 2-에틸-2-부틸프로피렌글리콜과 2,4,6-트리제3부틸페놀의 포스파이트 등을 들 수 있다. 이들 인계 산화방지제의 첨가량은, 합성 수지 100질량부에 대하여 0.001~10질량부인 것이 바람직하고, 0.05~5질량부인 것이 보다 바람직하다.
상기 티오에테르계 산화방지제로는, 예를 들면 티오디프로피온산디라우릴, 티오디프로피온산디미리스틸, 티오디프로피온산디스테아릴 등의 디알킬티오디프로피오네이트류, 및 펜타에리스리톨테트라(β-알킬티오프로피온산)에스테르류를 들 수 있다. 이들 티오에테르계 산화방지제의 첨가량은, 합성 수지 100질량부에 대하여 0.001~10질량부인 것이 바람직하고, 0.05~5질량부인 것이 보다 바람직하다.
상기 본 발명 이외의 자외선 흡수제로는, 예를 들면 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-옥톡시벤조페논, 5,5'-메틸렌비스(2-하이드록시-4-메톡시벤조페논) 등의 2-하이드록시벤조페논류; 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디제3부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-제3부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-제3옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디쿠밀페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스(4-제3옥틸-6-(벤조트리아졸릴)페놀), 2-(2'-하이드록시-3'-제3부틸-5'-카르복시페닐)벤조트리아졸 등의 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸류; 페닐살리실레이트, 레조르시놀모노벤조에이트, 2,4-디제3부틸페닐-3,5-디제3부틸-4-하이드록시벤조에이트, 2,4-디제3아밀페닐-3,5-디제3부틸-4-하이드록시벤조에이트, 헥사데실-3,5-디제3부틸-4-하이드록시벤조에이트 등의 벤조에이트류; 2-에틸-2'-에톡시옥사닐리드, 2-에톡시-4'-도데실옥사닐리드 등의 치환 옥사닐리드류; 에틸-α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸-2-시아노-3-메틸-3-(p-메톡시페닐)아크릴레이트 등의 시아노아크릴레이트류; 2-(2-하이드록시-4-옥톡시페닐)-4,6-비스(2,4-디제3부틸페닐)-s-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-메톡시페닐)-4,6-디페닐-s-트리아진, 2-(2-하이드록시-4-프로폭시-5-메틸페닐)-4,6-비스(2,4-디제3부틸페닐)-s-트리아진 등의 트리아릴트리아진류를 들 수 있다. 이들 본 발명 이외의 자외선 흡수제의 첨가량은, 합성 수지 100질량부에 대하여 0.001~30질량부인 것이 바람직하고, 0.05~10질량부인 것이 보다 바람직하다.
상기 힌더드아민계 광안정제로는, 예를 들면 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜스테아레이트, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜스테아레이트, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜벤조에이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥톡시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)ㆍ디(트리데실)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)ㆍ디(트리데실)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(1,2,2,4,4-펜타메틸-4-피페리딜)-2-부틸-2-(3,5-디제3부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트, 1-(2-하이드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디놀/숙신산디에틸 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/2,4-디클로로-6-모르폴리노-s-트리아진 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/2,4-디클로로-6-제3옥틸 아미노-s-트리아진 중축합물, 1,5,8,12-테트라키스[2,4-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일]-1,5,8,12-테트라아자도데칸, 1,5,8,12-테트라키스[2,4-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일]-1,5,8-12-테트라아자도데칸, 1,6,11-트리스[2,4-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일]아미노운데칸, 1,6,11-트리스[2,4-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일]아미노운데칸 등의 힌더드아민 화합물을 들 수 있다. 이들 힌더드아민계 광안정제의 첨가량은, 합성 수지 100질량부에 대하여 0.001~30질량부인 것이 바람직하고, 0.05~10질량부인 것이 보다 바람직하다.
또한 합성 수지로서 폴리올레핀계 수지를 사용하는 경우는, 필요에 따라 또한, 폴리올레핀 수지 중의 잔사 촉매를 중화하기 위해, 공지의 중화제를 첨가하는 것이 바람직하다. 중화제로는, 예를 들면 스테아르산칼슘, 스테아르산리튬, 스테아르산나트륨 등의 지방산 금속염, 또는 에틸렌비스(스테아로아미드), 에틸렌비스(12-하이드록시스테아로아미드), 스테아르산아미드 등의 지방산 아미드 화합물을 들 수 있고, 이들 중화제는 혼합하여 사용해도 된다.
본 발명의 합성 수지 조성물에는, 필요에 따라 또한, 방향족 카르복실산 금속염, 지환식 알킬카르복실산 금속염, p-제3부틸안식향산알루미늄, 방향족 인산에스테르 금속염, 디벤질리덴소르비톨류 등의 조핵제, 금속 비누, 하이드로탈사이트, 트리아진환 함유 화합물, 금속 수산화물, 인산에스테르계 난연제, 축합 인산에스테르계 난연제, 포스페이트계 난연제, 무기 인계 난연제, (폴리)인산염계 난연제, 할로겐계 난연제, 실리콘계 난연제, 3산화안티몬 등의 산화안티몬, 그 밖의 무기계 난연조제, 그 밖의 유기계 난연조제, 충전제, 안료, 윤활제, 발포제, 대전 방지제 등을 첨가해도 된다.
상기 트리아진환 함유 화합물로는, 예를 들면 멜라민, 암멜린, 벤조구아나민, 아세토구아나민, 프탈로디구아나민, 멜라민시아누레이트, 피로인산멜라민, 부틸렌디구아나민, 노보넨디구아나민, 메틸렌디구아나민, 에틸렌디멜라민, 트리메틸렌디멜라민, 테트라메틸렌디멜라민, 헥사메틸렌디멜라민, 1,3-헥실렌디멜라민 등을 들 수 있다.
상기 금속 수산화물로는, 예를 들면 수산화마그네슘, 수산화알루미늄, 수산화칼슘, 수산화바륨, 수산화아연, 키스마 5A(수산화마그네슘: 쿄와 카가쿠코교(주)제) 등을 들 수 있다.
상기 인산에스테르계 난연제로는, 예를 들면 트리메틸포스페이트, 트리에틸포스페이트, 트리부틸포스페이트, 트리부톡시에틸포스페이트, 트리스클로로에틸포스페이트, 트리스디클로로프로필포스페이트, 트리페닐포스페이트, 트리크레질포스페이트, 크레질디페닐포스페이트, 트리크실레닐포스페이트, 옥틸디페닐포스페이트, 크실레닐디페닐포스페이트, 트리스이소프로필페닐포스페이트, 2-에틸헥실디페닐포스페이트, t-부틸페닐디페닐포스페이트, 비스-(t-부틸페닐)페닐포스페이트, 트리스-(t-부틸페닐)포스페이트, 이소프로필페닐디페닐포스페이트, 비스-(이소프로필페닐)디페닐포스페이트, 트리스-(이소프로필페닐)포스페이트 등을 들 수 있다.
상기 축합 인산에스테르계 난연제의 예로는, 1,3-페닐렌비스(디페닐포스페이트), 1,3-페닐렌비스(디크실레닐포스페이트), 비스페놀A비스(디페닐포스페이트) 등을 들 수 있다.
상기 (폴리)인산염계 난연제의 예로는, 폴리인산암모늄, 폴리인산멜라민, 폴리인산피페라진, 피로인산멜라민, 피로인산피페라진 등의 (폴리)인산의 암모늄염이나 아민염을 들 수 있다.
그 밖의 무기계 난연조제로는, 예를 들면 산화티탄, 산화알루미늄, 산화마그네슘, 하이드로탈사이트, 탤크, 몬모릴로나이트 등의 무기 화합물, 및 그 표면 처리품을 들 수 있고, 예를 들면 TIPAQUE R-680(산화티탄: 이시하라 산교(주)제), 쿄와마그 150(산화마그네슘: 쿄와 카가쿠코교(주)제), DHT-4A(하이드로탈사이트: 쿄와 카가쿠코교(주)제), 알카마이저 4(아연 변성 하이드로탈사이트: 쿄와 카가쿠코교(주)제), 등의 다양한 시판품을 사용할 수 있다. 또한 그 밖의 유기계 난연조제로는, 예를 들면 펜타에리스리톨을 들 수 있다.
그 밖의, 본 발명의 합성 수지 조성물에는, 필요에 따라 통상 합성 수지에 사용되는 첨가제, 예를 들면 가교제, 방담제, 플레이트아웃 방지제, 표면 처리제, 가소제, 윤활제, 난연제, 형광제, 방미제, 살균제, 발포제, 금속 불활성제, 이형제, 안료, 가공 조제, 산화방지제, 광안정제 등을, 본 발명의 효과를 손상하지 않는 범위에서 배합할 수 있다.
본 발명의 합성 수지 조성물을 성형함으로써 성형체를 얻을 수 있다. 성형 방법으로는, 특별히 한정되는 것이 아니며, 압출 가공, 캘린더 가공, 사출 성형, 롤, 압축 성형, 블로(blow) 성형, 회전 성형 등을 들 수 있고, 수지판, 시트, 필름, 보틀, 섬유, 이형품 등의 다양한 형상의 성형품을 제조할 수 있다. 또한 캐스트 필름법에 의해 필름이나 시트를 제조할 수도 있다.
본 발명의 합성 수지 조성물 및 이를 사용한 성형체는, 전기ㆍ전자ㆍ통신, 농림수산, 광업, 건설, 식품, 섬유, 의류, 의료, 석탄, 석유, 고무, 피혁, 자동차, 정밀기기, 목재, 건재, 토목, 가구, 인쇄, 악기 등의 폭넓은 산업 분야에 사용할 수 있다.
보다 구체적으로는, 본 발명의 합성 수지 조성물 및 그 성형체는, 프린터, PC, 워드프로세서, 키보드, PDA(소형 정보단말기), 전화기, 복사기, 팩시밀리, ECR(전자식 금전 등록기), 전자계산기, 전자수첩, 카드, 홀더, 문구 등의 사무, OA기기, 세탁기, 냉장고, 청소기, 전자레인지, 조명 기구, 게임기, 다리미, 코타츠 등의 가전기기, TV, VTR, 비디오카메라, 라디오카세트, 테이프리코더, 미니디스크, CD플레이어, 스피커, 액정 디스플레이 등의 AV기기, 커넥터, 릴레이, 콘덴서, 스위치, 프린트 기판, 코일 보빈, 반도체 밀봉재료, LED 밀봉재료, 전선, 케이블, 트랜스, 편향 요크(deflection yoke), 분전반, 시계 등의 전기ㆍ전자부품 및 통신기기, 자동차용 내외장재, 제판(製版)용 필름, 점착 필름, 보틀, 식품용 용기, 식품 포장용 필름, 제약ㆍ의약용 랩 필름, 제품 포장 필름, 농업용 필름, 농업용 시트, 온실용 필름 등의 용도에 사용된다.
또한 본 발명의 합성 수지 조성물 및 그 성형체는, 좌석(충전물, 겉감(upholstery) 등), 벨트, 천장 덮개, 컨버터블 탑, 암 레스트, 도어 트림, 리어 패키지 트레이, 카펫, 매트, 선 바이저, 휠 커버, 매트리스 커버, 에어백, 절연 재, 핸드 스트랩(hand strap), 핸드 스트랩 밴드(hand strap band), 전선 피복재, 전기 절연재, 도료, 코팅재, 오버레이재, 바닥재, 코너벽, 카펫, 벽지, 벽장재, 외장재, 내장재, 지붕재, 덱(deck)재, 벽재, 기둥재, 발판, 담 재료, 골조 및 조형, 창문 및 도어형재, 지붕널, 외벽널, 테라스, 발코니, 방음판, 단열판, 창문재 등의 자동차, 차량, 선박, 항공기, 건물, 주택 및 건축용 재료나 토목 재료, 의류, 커튼, 시트, 부직포, 합판, 합성 섬유판, 융단, 현관 매트, 시트, 양동이, 호스, 용기, 안경, 가방, 케이스, 고글, 스키판, 라켓, 텐트, 악기 등의 생활 용품, 스포츠 용품 등의 각종 용도에 사용할 수 있다.
본 발명의 자외선 흡수제는, 합성 수지 조성물이나 그 성형체, 필름, 섬유 등으로 사용하는 것 이외에, 도료, 화장품 등에도 사용할 수 있다.
실시예
이하, 실시예에 의해 본 발명을 상세하게 나타낸다. 단, 본 발명은 이하의 실시예에 의해 조금도 제한되는 것이 아니다.
[실시예 1]
200㎖ 용량의 4구 플라스크에 2-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-1,3,5-트리하이드록시벤젠을 15g, 에틸렌카르보네이트 6.8g, 탄산나트륨 1g, 디메틸아세트아미드 50㎖를 더하여 140℃에서 7시간 반응시켰다. 반응 종료 후 실온까지 냉각한 후, 여과에 의해 2-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-5-(2-하이드록시에톡시)-1,3-디하이드록시벤젠을 얻었다.
다음으로, 200㎖ 용량의 4구 플라스크에 2-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-5-(2-하이드록시에톡시)-1,3-디하이드록시벤젠 15g, 2-에틸헥산산 5.7g, 파라톨루엔술폰산 1.36g, 크실렌 43g을 더하여 환류 상태에서 9시간 반응시켰다. 반응 종료 후 이소프로판올을 더하면 황색 분말이 석출됐다. 이를 여과, 건조하여 본 발명의 자외선 흡수제인 하기 화합물 No. 1을 얻었다.
상기 화합물 No. 1의 구조는 NMR(BRUKER사제 ASCEND 500)을 사용하여 NMR 측정을 실시하고, 이하의 피크에 의해 동정(同定)했다.
1H NMR(CDCl3, δ in ppm) 13.677(m, 1H, Ph-OH), 11.097(d, 4H, Ar), 7.665-7.285(m, 6H, Ar), 7.258(s, 1H, Ph-OH), 6.121(s, 2H, Ar), 4.462(d, 2H, -CH2-), 4.422(d, 2H, -CH2-), 2.341(s, 1H, COCH-), 1.546-1.200(m 8H, CH2), 0.915(t, 6H, CH3)
또한 화합물 No. 1의 극대 흡수 파장을, 분광 광도계(니혼분코 가부시키가이샤제 V670)를 사용하여 측정했다. 극대 흡수 파장은 279㎚, 323㎚이며, 각각의 파장에서의 몰 흡광계수는 각각, 3.65×104, 2.18×104이었다.
Figure 112017017405425-pct00025
[비교예 1]
종래 공지의 트리아진계 자외선 흡수제인 하기 비교 화합물-1의 극대 흡수 파장을, 분광 광도계(니혼분코 가부시키가이샤제 V670)를 사용하여 측정했다. 극대 흡수 파장은 278㎚, 340㎚이며, 각각의 파장에서의 몰 흡광계수는 각각, 3.04×104, 1.41×104이었다.
Figure 112017017405425-pct00026
실시예 1과 비교예 1에서 얻어진 결과로부터, 본 발명의 자외선 흡수제인 화합물 No. 1은, 비교 화합물-1의 트리아진계 자외선 흡수제보다도, UV-A 영역에 강한 흡수성을 가지고 있어, 유용한 자외선 흡수제라고 할 수 있다.
[실시예 2]
실시예 1에서 얻어진 화합물 No. 1의 33.8㎎과 폴리메틸메타크릴레이트의 1.125g을 25㎖ 용량의 메스 플라스크에 넣고, 디클로로메탄을 표시선까지 더했다. 1시간 실온에서 방치하여 용해한 후, 이 용액을 4㎖ 홀 피펫으로 샬레(지름: 60㎜)에 넣고 30분간 실온에서 건조시켰다. 건조 후 샬레로부터 필름을 벗겨내고, 두께 50㎛의 폴리메틸메타크릴레이트 필름을 얻었다.
얻어진 폴리메틸메타크릴레이트 필름을, 메탈 웨더(다이플라 윈테스(DAIPLA WINTES) 회사제)를 이용하여, 온도 63℃, 습도 50% RH, 295-780㎚, 75㎽/㎠의 자외선 조사 조건으로 내후성 시험을 실시하여 100시간, 200시간, 300시간 조사 후의, L*a*b*표 색계에 의한 색차(ΔE)를, 스가시켄키 가부시키가이샤제 분광 측색계 SC-T를 이용하여 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[비교예 2]
화합물 No. 1 대신에 상기 비교 화합물-1을 사용한 것 이외에는, 실시예 2와 동일하게 하여 폴리메틸메타크릴레이트 필름을 만들고, 실시예 2와 동일하게 내후성 시험을 실시했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
Figure 112017017405425-pct00027
실시예 2와 비교예 2에서 얻어진 색차(ΔE)의 결과로부터, 본 발명의 화합물 No. 1을 사용한 폴리메틸메타크릴레이트 필름은, 비교 화합물-1을 사용한 것보다, 자외선 조사에 의한 변색이 적고, 내후성이 뛰어난 것을 알 수 있다. 이에 따라, 본 발명의 자외선 흡수제는 합성 수지에 뛰어난 내후성을 부여할 수 있는 것을 알 수 있었다.
본 발명에 의하면, 자외선을 광범위한 파장 영역에서 효율적으로 흡수할 수 있는, 특히 UV-A 영역에서도 강한 흡수성을 가지는 자외선 흡수제를 제공할 수 있다. 또한 본 발명에 의하면, 내후성이 뛰어난 합성 수지 조성물을 제공할 수 있다.

Claims (3)

  1. 하기 일반식(1)로 나타내는 트리아진계 화합물로 이루어지는 자외선 흡수제.
    Figure 112022096663660-pct00028

    (식 중 n은 1 또는 2를 나타내고,
    n이 1일 때, R1은 수소원자, 탄소원자수 1~20의 알킬기, 탄소원자수 3~8의 시클로알킬기, 탄소원자수 3~8의 알케닐기, 탄소원자수 6~18의 아릴기, 탄소원자수 7~19의 알킬아릴기, 탄소원자수 7~19의 아릴알킬기, 글리시딜기를 나타내고,
    n이 2일 때, R1은 탄소원자수 1~20의 알킬렌기, 탄소원자수 3~8의 시클로알킬렌기, 탄소원자수 6~18의 아릴렌기, 또는 이들 조합을 나타내며,
    이들 R1이 나타내는 각 기는, 탄소원자수 1~8의 알킬기, 탄소원자수 1~8의 알콕시기, 탄소원자수 6~12의 아릴기, 탄소원자수 7~13의 알킬아릴기, 탄소원자수 7~13의 아릴알킬기, 하이드록시기, 할로겐원자, 글리시딜기로 치환되어 있어도 되고, 또한 산소원자, 황원자, 카르보닐기, 에스테르기, 아미드기, 이미도기로 중단되어 있어도 되고, 이들 치환 및 중단은 조합되어도 되고,
    R2, R3 및 R4는, 서로 동일해도 되고 달라도 되고, 수소원자, 할로겐원자, 탄소원자수 1~4의 알킬기, 탄소원자수 1~4의 알콕시기를 나타낸다.)
  2. 제1항에 있어서,
    상기 일반식(1)을 하기 일반식(2)로 나타내는 트리아진계 화합물인 자외선 흡수제.
    Figure 112017017405425-pct00029

    (식 중 R5는 탄소원자수 1~12의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 나타내며,
    R6, R7 및 R8은, 서로 동일해도 되고 달라도 되고, 수소원자, 또는 탄소원자수 1~4의 직쇄 또는 분기의 알킬기를 나타낸다.)
  3. 합성 수지에, 제1항 또는 제2항에 기재된 자외선 흡수제를 배합하여 이루어지는 합성 수지 조성물.
KR1020177004722A 2014-11-17 2015-11-11 자외선 흡수제 및 합성 수지 조성물 KR102477028B1 (ko)

Applications Claiming Priority (5)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2014-233084 2014-11-17
JP2014233084 2014-11-17
JP2015209682A JP6586346B2 (ja) 2014-11-17 2015-10-26 紫外線吸収剤及び合成樹脂組成物
JPJP-P-2015-209682 2015-10-26
PCT/JP2015/081711 WO2016080259A1 (ja) 2014-11-17 2015-11-11 紫外線吸収剤及び合成樹脂組成物

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20170086460A KR20170086460A (ko) 2017-07-26
KR102477028B1 true KR102477028B1 (ko) 2022-12-13

Family

ID=56088495

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020177004722A KR102477028B1 (ko) 2014-11-17 2015-11-11 자외선 흡수제 및 합성 수지 조성물

Country Status (6)

Country Link
US (1) US10144814B2 (ko)
EP (1) EP3222693B1 (ko)
JP (1) JP6586346B2 (ko)
KR (1) KR102477028B1 (ko)
CN (1) CN106661421B (ko)
TW (1) TWI665191B (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI790231B (zh) * 2017-05-25 2023-01-21 日商東亞合成股份有限公司 披覆電線密封用組成物與披覆電線
CN112839988B (zh) * 2018-09-26 2023-06-06 株式会社Adeka 成核剂、包含其的合成树脂组合物及其成形体
KR20220121794A (ko) * 2019-12-24 2022-09-01 토요잉크Sc홀딩스주식회사 수지 조성물, 및 성형체
CN113444344B (zh) * 2020-03-26 2023-08-18 上海紫丹食品包装印刷有限公司 一种耐高温高韧性全生物基降解塑料及其制备方法

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0165608B1 (de) * 1984-06-22 1991-01-02 Ilford Ag Hydroxyphenyltriazine, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung als UV-Absorber
JPH1171326A (ja) 1997-08-28 1999-03-16 Mitsubishi Chem Corp 不飽和グリコールジエステルの製造方法
JP4070157B2 (ja) 1997-08-29 2008-04-02 株式会社Ａｄｅｋａ トリアジン系化合物および紫外線吸収剤
JP4375878B2 (ja) 2000-04-24 2009-12-02 株式会社Ａｄｅｋａ 成形加工用樹脂組成物
WO2002081559A1 (fr) 2001-04-06 2002-10-17 Asahi Denka Kogyo K. K. Absorbant d'ultraviolet pour resine synthetique et composition de resine synthetique le contenant
JP4868651B2 (ja) * 2001-04-06 2012-02-01 株式会社Ａｄｅｋａ 熱可塑性樹脂組成物
JP4526255B2 (ja) 2003-10-16 2010-08-18 株式会社Ａｄｅｋａ 高純度ピロリン酸ピペラジンの製造方法
KR101231967B1 (ko) 2004-05-12 2013-02-08 가부시키가이샤 아데카 광학필름
DE102007035417A1 (de) 2007-07-28 2009-01-29 Chemische Fabrik Budenheim Kg Halogenfreies Flammschutzmittel
CN102047154A (zh) * 2008-07-10 2011-05-04 株式会社艾迪科 光学薄膜
JP5411525B2 (ja) * 2009-02-18 2014-02-12 株式会社Ａｄｅｋａ 耐熱性の改善された紫外線吸収剤組成物及びこれを含有してなる合成樹脂組成物
DE102009055434A1 (de) 2009-12-31 2011-07-07 Chemische Fabrik Budenheim KG, 55257 Flammenschutzmittelzusammensetzung für thermoplastische Formmassen
WO2013001750A1 (ja) 2011-06-29 2013-01-03 東レ株式会社 熱可塑性樹脂組成物ならびにそれらからなる成形品
JP5793068B2 (ja) 2011-12-06 2015-10-14 株式会社Adeka 難燃性ポリオレフィン系樹脂組成物

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Organic Letters. Vol. 13, No. 19, 2011, pp. 5080-5083.*

Also Published As

Publication number Publication date
TWI665191B (zh) 2019-07-11
KR20170086460A (ko) 2017-07-26
TW201619140A (zh) 2016-06-01
EP3222693A4 (en) 2018-05-02
EP3222693B1 (en) 2019-04-17
EP3222693A1 (en) 2017-09-27
JP2016102199A (ja) 2016-06-02
US10144814B2 (en) 2018-12-04
CN106661421A (zh) 2017-05-10
CN106661421B (zh) 2020-07-07
JP6586346B2 (ja) 2019-10-02
US20170233551A1 (en) 2017-08-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2311908B1 (en) Flame-retardant thermoplastic resin composition
JP6649363B2 (ja) 樹脂添加剤組成物および帯電防止性熱可塑性樹脂組成物
TWI448493B (zh) A flame retardant plastic resin composition and a molded article thereof
KR102477028B1 (ko) 자외선 흡수제 및 합성 수지 조성물
US10301519B2 (en) Anti-static agent, anti-static agent composition, anti-static resin composition, and molding
JP4204342B2 (ja) 難燃性合成樹脂組成物
KR102516905B1 (ko) 신규 트리아진 화합물 및 이것을 이용하여 이루어지는 합성수지 조성물
JP5558898B2 (ja) 帯電防止剤及び熱可塑性樹脂組成物
KR20220131240A (ko) 난연제조성물, 난연성 수지 조성물 및 성형체
WO2016093108A1 (ja) 新規トリアジン化合物及びこれを用いてなる合成樹脂組成物
JP5578723B2 (ja) 帯電防止性ポリオレフィン系樹脂組成物及びそれを用いた成形体
JP2011256293A (ja) 帯電防止性ポリオレフィン系樹脂組成物
WO2016080259A1 (ja) 紫外線吸収剤及び合成樹脂組成物
KR20200136005A (ko) 입상 자외선 흡수제 및 수지 조성물
JP5700658B2 (ja) 帯電防止性ポリオレフィン系樹脂組成物
JP5503514B2 (ja) 帯電防止性ポリオレフィン系樹脂組成物
WO2023199865A1 (ja) 難燃剤組成物、難燃性樹脂組成物および成形品
KR20200136006A (ko) 입상 자외선 흡수제 및 수지 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant