KR20200136005A

KR20200136005A - 입상 자외선 흡수제 및 수지 조성물

Info

Publication number: KR20200136005A
Application number: KR1020207030517A
Authority: KR
Inventors: 요스케 이시마; 고헤이 오모리
Original assignee: 가부시키가이샤 아데카
Priority date: 2018-03-30
Filing date: 2019-03-25
Publication date: 2020-12-04
Also published as: TW201942112A; CN117143033A; US11780990B2; JPWO2019188987A1; US20210017360A1; TWI822747B; WO2019188987A1; JP2021050347A; JP2024045320A; JP6837147B2; CN111936594A; CN111936594B

Abstract

본 발명의 입상 자외선 흡수제는, 소정 트리아진계 화합물을 포함하는 입상 자외선 흡수제로서, 소정 측정 조건에 기초하여 측정되는, 루스 벌크 밀도를 D1 이라고 하고, 타이트 벌크 밀도를 D2 라고 했을 때, [(D2 - D1)/D2] × 100 으로 나타내는 압축도가 5.0 ％ 이상 40 ％ 이하이다.

Description

입상 자외선 흡수제 및 수지 조성물

본 발명은, 입상 자외선 흡수제 및 수지 조성물에 관한 것이다.

지금까지 자외선 흡수제에 있어서 여러 가지 개발이 이루어져 왔다. 이 종류의 기술로서, 예를 들어, 특허문헌 1 에 기재된 기술이 알려져 있다. 특허문헌 1 에는, 자외선 흡수제로서, 정석 (晶析) 에 의해 얻어진 트리아진계 화합물을 사용하는 것이 기재되어 있다 (특허문헌 1 의 단락 0102 등).

일본 공개특허공보 2011-6517호

그러나, 본 발명자가 검토한 결과, 상기 특허문헌 1 에 기재된 자외선 흡수제에 있어서, 분말체 특성의 점에서 개선의 여지가 있는 것이 판명되었다.

본 발명자는 더욱 검토한 결과, 트리아진계 화합물을 함유하는 입상 자외선 흡수제의 분말체 특성에 대하여, 압축도를 지침으로 함으로써 적절히 제어할 수 있는 것을 알아냈다. 이와 같은 지견에 기초하여 더욱 예의 연구한 결과, 압축도를 소정 수치 범위 내로 함으로써, 상기의 입상 자외선 흡수제에 있어서의 분말체 특성이 개선되는 것을 알아내고, 본 발명을 완성하기에 이르렀다.

본 발명에 의하면,

트리아진계 화합물을 포함하는 입상 자외선 흡수제로서,

하기의 측정 조건에 기초하여 측정되는, 루스 벌크 밀도를 D1 이라고 하고, 타이트 벌크 밀도를 D2 라고 했을 때, [(D2 - D1)/D2] × 100 으로 나타내는 압축도가 5.0 ％ 이상 40 ％ 이하인, 입상 자외선 흡수제가 제공된다.

(측정 조건)

당해 입상 자외선 흡수제를 소정 용기에 충전하고, 탭핑하지 않고 문질러 끊은 후, 상기 용기 중의 당해 입상 자외선 흡수제에 있어서의, 상기 루스 벌크 밀도 (g/㎤) 를 측정한다.

또한, 당해 입상 자외선 흡수제를 소정 용기에 충전하고, 18 ㎜ 의 높이로부터 180 회의 조건으로 탭핑하고, 문질러 끊은 후, 상기 용기 중의 당해 입상 자외선 흡수제에 있어서의, 상기 타이트 벌크 밀도 (g/㎤) 를 측정한다.

또한 본 발명에 의하면, 상기 입상 자외선 흡수제를 함유하는, 수지 조성물이 제공된다.

본 발명에 의하면, 분말체 특성이 우수한 입상 자외선 흡수제 및 그것을 사용한 수지 조성물이 제공된다.

상기 서술한 목적, 및 그 밖의 목적, 특징 및 이점은, 이하에 서술하는 바람직한 실시형태, 및 거기에 부수하는 이하의 도면에 의해 더욱 명확해진다.
도 1 은, 실시예 1 의 입상 자외선 흡수제의 X 선 회절 패턴이다.
도 2 는, 실시예 3 의 입상 자외선 흡수제의 X 선 회절 패턴이다.
도 3 은, 비교예 2 의 입상 자외선 흡수제의 X 선 회절 패턴이다.

본 실시형태의 입상 자외선 흡수제는, 트리아진계 화합물을 함유하는 것이다.

당해 트리아진계 화합물은, 하기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물을 함유하는 것이 바람직하다. 이들을 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.

또한, 입상 자외선 흡수제는 하기 트리아진계 화합물만으로 구성되어 있어도 된다.

[화학식 1]

상기 일반식 (I) 중,

R¹ 은, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소 원자수 3 ∼ 20 의 시클로알킬기, 탄소 원자수 6 ∼ 20 의 아릴기, 탄소 원자수 7 ∼ 20 의 알킬아릴기, 탄소 원자수 7 ∼ 20 의 아릴알킬기, 탄소 원자수 2 ∼ 8 의 알케닐기, 또는 하기 일반식 (II) 로 나타내는 치환기를 나타내고,

R² 및 R³ 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기, 또는 -O-R 을 나타내고, 이 R 은, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소 원자수 3 ∼ 20 의 시클로알킬기, 탄소 원자수 6 ∼ 20 의 아릴기, 탄소 원자수 7 ∼ 20 의 알킬아릴기, 또는 탄소 원자수 7 ∼ 20 의 아릴알킬기를 나타내고,

R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R¹⁰, R¹¹ 및 R¹² 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기 또는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 2 ∼ 8 의 알케닐기를 나타내고,

R¹³ 및 R¹⁴ 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 하이드록시기를 나타낸다.

단, R¹, R², R³ 및 R 로 나타내는 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R¹⁰, R¹¹ 및 R¹² 로 나타내는 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기 중의 메틸렌기는, 산소 원자, 황 원자, 탄소-탄소 이중 결합, -CO-, -CO-O-, -OC-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CR⁰¹=N- 및 -N=CR⁰²- 에서 선택되는 적어도 1 이상의 구조로 치환되어 있어도 되고, 상기 구조 중의 R⁰¹ 및 R⁰² 는, 각각 독립적으로, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기를 나타낸다.

[화학식 2]

상기 일반식 (II) 중,

R²¹ 및 R²² 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기, 또는 -O-R 을 나타내고, 이 R 은, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소 원자수 3 ∼ 20 의 시클로알킬기, 탄소 원자수 6 ∼ 20 의 아릴기, 탄소 원자수 7 ∼ 20 의 알킬아릴기, 또는 탄소 원자수 7 ∼ 20 의 아릴알킬기를 나타내고,

R²³, R²⁴, R²⁵, R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰ 및 R³¹ 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기, 또는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 2 ∼ 8 의 알케닐기를 나타내고,

R³² 및 R³³ 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 하이드록시기를 나타내고,

X¹ 은, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 8 이상 30 이하의 알킬렌기를 나타내고,

Y¹ 및 Y² 는, 각각 독립적으로, -CO-O-, -O-CO-, -L¹-, -O-L¹O-, -O-L¹-, -L¹-O-CO-, -L¹-CO-O-, -CO-CH=CH-, -CH=CH-CO-, -CH=CH-CO-O-, -CH=CH-O-CO-, -CO-O-CH=CH- 를 나타내고,

L¹ 은, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬렌기이고,

m 및 n 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 8 의 정수를 나타내고,

* 는, 식 (I) 중의 R¹ 과 연결하는 산소 원자와의 결합손을 나타낸다.

단, R²¹, R²² 및 R 로 나타내는 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기, R²³, R²⁴, R²⁵, R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰ 및 R³¹ 로 나타내는 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기 및 X¹ 로 나타내는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 8 이상 30 이하의 알킬렌기 중의 메틸렌기는, 산소 원자, 황 원자, 탄소-탄소 이중 결합, -CO-, -CO-O-, -OC-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CR⁰³=N- 및 -N=CR⁰⁴- 에서 선택되는 적어도 1 이상의 구조로 치환되어 있어도 되고, R⁰³ 및 R⁰⁴ 는, 각각 독립적으로, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기를 나타낸다.

상기 일반식 (I) 중의 R¹, R², R³, 상기 일반식 (II) 중의 R²¹, R²² 및 R 로 나타내는, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기로는, 예를 들어, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, 아밀, 이소아밀, tert-아밀, 헥실, 헵틸, n-옥틸, 이소옥틸, tert-옥틸, 2-에틸헥실, 노닐, 이소노닐, 데실, 운데실, 도데실 등의 직사슬 또는 분기의 알킬기를 들 수 있다.

상기 일반식 (I) 중의 R¹ 및 R 로 나타내는, 탄소 원자수 3 ∼ 20 의 시클로알킬기로는, 예를 들어, 시클로프로필, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸 등을 들 수 있다.

상기 일반식 (I) 중의 R¹ 및 R 로 나타내는, 탄소 원자수 6 ∼ 20 의 아릴기로는, 예를 들어, 페닐, 나프틸, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 4-비닐페닐, 3-이소프로필페닐, 4-이소프로필페닐, 4-부틸페닐, 4-이소부틸페닐, 4-tert-부틸페닐, 4-헥실페닐, 4-시클로헥실페닐, 4-옥틸페닐, 4-(2-에틸헥실)페닐, 2,3-디메틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,5-디메틸페닐, 2,4-디-tert-부틸페닐, 2,5-디-tert-부틸페닐, 2,6-디-tert-부틸페닐, 2,4-디-tert-펜틸페닐, 2,5-디-tert-아밀페닐, 2,5-디-tert-옥틸페닐, 비페닐, 2,4,5-트리메틸페닐 등을 들 수 있고,

상기 일반식 (I) 중의 R¹ 및 R 로 나타내는, 탄소 원자수 7 ∼ 20 의 아릴알킬기로는, 예를 들어, 벤질, 페네틸, 2-페닐프로판-2-일, 디페닐메틸 등을 들 수 있다.

상기 일반식 (I) 중의 R¹ 및 R 로 나타내는, 탄소 원자수 7 ∼ 20 의 알킬아릴기로는, 상기 알킬기의 1 개의 수소 원자가 아릴기로 치환된 기를 들 수 있고, 아릴기로는, 페닐, 크레질, 자일릴, 2,6-자일릴, 2,4,6-트리메틸페닐, 부틸페닐, 노닐페닐, 비페닐, 나프틸, 안트라세닐 등을 들 수 있다.

상기 일반식 (I) 중의 R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R¹⁰, R¹¹ 및 R¹² 그리고 상기 일반식 (II) 중의 R²³, R²⁴, R²⁵, R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰ 및 R³¹ 로 나타내는 할로겐 원자로는, 예를 들어, 불소, 염소, 브롬, 요오드 등을 들 수 있다.

상기 일반식 (I) 중의 R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R¹⁰, R¹¹ 및 R¹² 그리고 상기 일반식 (II) 중의 R²³, R²⁴, R²⁵, R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰ 및 R³¹ 로 나타내는, 치환 또는 무치환의 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기로는, 예를 들어, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, 아밀, 이소아밀, tert-아밀, 헥실, 헵틸, n-옥틸, 이소옥틸, tert-옥틸, 2-에틸헥실 등을 들 수 있다. 본 실시형태의 입상 자외선 흡수제에 있어서는, 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기가 바람직하다.

상기 일반식 (I) 중의 R¹, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R¹⁰, R¹¹ 및 R¹² 그리고 상기 일반식 (II) 중의 R²³, R²⁴, R²⁵, R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰ 및 R³¹ 로 나타내는, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 2 ∼ 8 의 알케닐기로는, 예를 들어, 직사슬 및 분기의 프로페닐, 부테닐, 펜테닐, 헥세닐, 헵테닐, 옥테닐을 불포화 결합의 위치에 상관없이 들 수 있다.

상기 일반식 (II) 중의 X¹ 로 나타내는, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 8 이상 30 이하의 알킬렌기로는, 메틸렌이 8 이상 30 이하로 연결된 알킬렌기, 혹은, 일부의 메틸렌의 수소 원자가 알킬기로 치환된 알킬렌기를 나타낸다. 본 실시형태의 입상 자외선 흡수제에 있어서는, 탄소 원자수 8 이상 20 이하의 알킬렌기가 바람직하다.

상기 일반식 (II) 에 있어서, L¹ 로 나타내는, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬렌기로는, 예를 들어, 메틸렌, 메틸메틸렌, 디메틸메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, 이소프로필렌, 부틸렌, 이소부틸렌, 펜틸렌 등을 들 수 있다.

상기 트리아진계 화합물은, 상기 일반식 (I) 에 있어서, R⁵, R⁶, R⁸, R⁹, R¹¹ 및 R¹² 가 수소 원자인 화합물을 함유해도 된다.

또한, 상기 일반식 (I) 로 나타내는 트리아진계 화합물의 일례로서, 하기 일반식 (A) 로 나타내는 화합물, 또는 하기 일반식 (B) 로 나타내는 화합물을 들 수 있다.

또한, 본 실시형태의 입상 자외선 흡수제는, 하기 일반식 (A) 로 나타내는 화합물을 사용할 수 있다. 이들을 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.

[화학식 3]

상기 일반식 (A) 중,

R^A1 은, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소 원자수 3 ∼ 8 의 시클로알킬기, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 3 ∼ 8 의 알케닐기, 탄소 원자수 6 ∼ 18 의 아릴기, 탄소 원자수 7 ∼ 18 의 알킬아릴기 또는 탄소 원자수 7 ∼ 18 의 아릴알킬기를 나타내고,

R^A2 및 R^A3 은, 서로 동일해도 되고 상이해도 되고, 수소 원자, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 12 의 알킬기, 혹은, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 12 의 알콕시기를 나타내고,

R^A4, R^A7, R^A10 은, 서로 동일해도 되고 상이해도 되고, 수소 원자, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기 또는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 3 ∼ 8 의 알케닐기를 나타내고,

R^A13 및 R^A17 은, 서로 동일해도 되고 상이해도 되고, 수소 원자 또는 하이드록시기를 나타낸다.

단, R^A1, R^A2 및 R^A3 으로 나타내는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 12 의 알킬기, R^A2 및 R^A3 으로 나타내는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 12 의 알콕시기 중의 메틸렌기는, 산소 원자, 황 원자, 탄소-탄소 이중 결합, -CO-, -CO-O-, -OC-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CR⁰⁵=N- 및 -N=CR⁰⁶- 에서 선택되는 적어도 1 이상의 구조로 치환되어 있어도 되고, 상기 구조 중의 R⁰⁵ 및 R⁰⁶ 은, 각각 독립적으로, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기를 나타낸다.

상기 일반식 (A) 의 R^A1, R^A2 및 R^A3 으로 나타내는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 12 의 알킬기로는, 예를 들어, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, 아밀, 이소아밀, tert-아밀, 헥실, 헵틸, n-옥틸, 이소옥틸, tert-옥틸, 2-에틸헥실, 노닐, 이소노닐, 데실, 운데실, 도데실 등의 직사슬 또는 분기의 알킬기를 들 수 있다.

상기 일반식 (A) 의 R^A2 및 R^A3 으로 나타내는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 12 의 알콕시기로는, 예를 들어, 메틸옥시, 에틸옥시, 이소프로필옥시, 부틸옥시, sec-부틸옥시, tert-부틸옥시, 이소부틸옥시, 아밀옥시, 이소아밀옥시, tert-아밀옥시, 헥실옥시, 2-헥실옥시, 3-헥실옥시, 시클로헥실옥시, 4-메틸시클로헥실옥시, 헵틸옥시, 2-헵틸옥시, 3-헵틸옥시, 이소헵틸옥시, tert-헵틸옥시, 1-옥틸옥시, 이소옥틸옥시, tert-옥틸옥시 등을 들 수 있다.

상기 일반식 (A) 의 R^A1 로 나타내는 탄소 원자수 3 ∼ 8 의 시클로알킬기로는, 예를 들어, 시클로프로필, 시클로펜틸, 시클로헥실, 시클로헵틸 등을 들 수 있다.

상기 일반식 (A) 의 R^A1 로 나타내는, 탄소 원자수 6 ∼ 18 의 아릴기 또는 탄소 원자수 7 ∼ 18 의 알킬아릴기로는, 예를 들어, 페닐, 나프틸, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 4-비닐페닐, 3-이소프로필페닐, 4-이소프로필페닐, 4-부틸페닐, 4-이소부틸페닐, 4-tert-부틸페닐, 4-헥실페닐, 4-시클로헥실페닐, 4-옥틸페닐, 4-(2-에틸헥실)페닐, 2,3-디메틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,5-디메틸페닐, 2,4-디-tert-부틸페닐, 2,5-디-tert-부틸페닐, 2,6-디-tert-부틸페닐, 2,4-디-tert-펜틸페닐, 2,5-디-tert-아밀페닐, 2,5-디-tert-옥틸페닐, 비페닐, 2,4,5-트리메틸페닐 등을 들 수 있고, 탄소수 7 ∼ 18 의 아릴알킬기로는, 예를 들어, 벤질, 페네틸, 2-페닐프로판-2-일, 디페닐메틸 등을 들 수 있다.

상기 일반식 (A) 에 있어서, R^A1, R^A4, R^A7, 및 R^A10 으로 나타내는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 3 ∼ 8 의 알케닐기로는, 예를 들어, 직사슬 및 분기의 프로페닐, 부테닐, 펜테닐, 헥세닐, 헵테닐, 옥테닐을 불포화 결합의 위치에 상관없이 들 수 있다.

상기 일반식 (A) 에 있어서, R^A4, R^A7, R^A10 으로 나타내는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기로는, 예를 들어, 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 부틸, sec-부틸, tert-부틸, 이소부틸, 아밀, tert-아밀, 옥틸, tert-옥틸 등을 들 수 있다. 이 중에서도 메틸기가, 자외선 흡수 능력이 우수하기 때문에 바람직하다.

상기 일반식 (A) 로 나타내는 트리아진계 화합물은, 이하의 화합물 No. 1A 내지 화합물 No. 5A 의 어느 것으로 나타내는 1 또는 2 이상의 트리아진계 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.

[화학식 4]

또한, 상기 일반식 (A) 로 나타내는 트리아진계 화합물은, 이하의 화합물 No. 6A ∼ 화합물 No. 8A 의 어느 것으로 나타내는 1 또는 2 이상의 트리아진계 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.

[화학식 5]

또한, 본 실시형태의 입상 자외선 흡수제는, 하기 일반식 (B) 로 나타내는 화합물을 사용할 수 있다. 이들을 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.

[화학식 6]

상기 일반식 (B) 중,

R^B4, R^B5, R^B7 ∼ R^B9, R^B10 ∼ R^B12, R^B23, R^B24, R^B26 ∼ R^B28, R^B29 ∼ R^B31 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 하이드록시기, 할로겐 원자, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 2 ∼ 8 의 알케닐기, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알콕시기, 탄소 원자수 6 ∼ 20 의 아릴기를 나타내고, n 은 8 ∼ 14 의 정수를 나타낸다. 단, 트리아진 고리와 연결하는 3 개의 벤젠 고리 중, 2 개의 벤젠 고리의 파라 위치는, 수소 원자, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기, 혹은, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알콕시기를 나타내고, 또한, 오르토 위치의 1 개는, 수소 원자 또는 하이드록시기를 나타낸다.)

상기 일반식 (B) 중, R^B4, R^B5, R^B7 ∼ R^B9, R^B10 ∼ R^B12, R^B23, R^B24, R^B26 ∼ R^B28, R^B29 ∼ R^B31 로 나타내는 할로겐 원자로는, 예를 들어, 불소 원자, 염소 원자, 브롬 원자 등을 들 수 있다.

상기 일반식 (B) 중, R^B4, R^B5, R^B7 ∼ R^B9, R^B10 ∼ R^B12, R^B23, R^B24, R^B26 ∼ R^B28, R^B29 ∼ R^B31 로 나타내는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기로는, 메틸, 에틸, 프로필, 2-프로피닐, 부틸, 이소부틸, sec-부틸, tert-부틸, 펜틸, 이소펜틸, 헥실, 데실, 도데실, 옥타데실 등을 들 수 있다.

상기 일반식 (B) 중, R^B4, R^B5, R^B7 ∼ R^B9, R^B10 ∼ R^B12, R^B23, R^B24, R^B26 ∼ R^B28, R^B29 ∼ R^B31 로 나타내는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 2 ∼ 8 의 알케닐기로는, 비닐, 1-프로페닐, 이소프로페닐, 2-메틸-1-프로페닐, 1-부테닐, 2-부테닐, 3-부테닐, 2-에틸-1-부테닐, 1-펜테닐, 2-펜테닐, 3-펜테닐, 4-펜테닐, 4-메틸-3-펜테닐, 1-헥세닐, 2-헥세닐, 3-헥세닐, 4-헥세닐, 5-헥세닐 등을 들 수 있다.

상기 일반식 (B) 중, R^B4, R^B5, R^B7 ∼ R^B9, R^B10 ∼ R^B12, R^B23, R^B24, R^B26 ∼ R^B28, R^B29 ∼ R^B31 로 나타내는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알콕시기로는, 예를 들어, 메틸옥시, 에틸옥시, 이소프로필옥시, 부틸옥시, sec-부틸옥시, tert-부틸옥시, 이소부틸옥시, 아밀옥시, 이소아밀옥시, tert-아밀옥시, 헥실옥시, 2-헥실옥시, 3-헥실옥시, 시클로헥실옥시, 4-메틸시클로헥실옥시, 헵틸옥시, 2-헵틸옥시, 3-헵틸옥시, 이소헵틸옥시, tert-헵틸옥시, 1-옥틸옥시, 이소옥틸옥시, tert-옥틸옥시 등을 들 수 있다.

상기 일반식 (B) 중, R^B4, R^B5, R^B7 ∼ R^B9, R^B10 ∼ R^B12, R^B23, R^B24, R^B26 ∼ R^B28, R^B29 ∼ R^B31 로 나타내는 탄소 원자수 6 ∼ 20 의 아릴기로는, 페닐, 나프틸, 안트라세닐, 페난트릴, 플루오레닐, 인데닐, 2-메틸페닐, 3-메틸페닐, 4-메틸페닐, 4-비닐페닐, 3-이소프로필페닐, 4-이소프로필페닐, 4-부틸페닐, 4-이소부틸페닐, 4-tert-부틸페닐, 4-헥실페닐, 4-시클로헥실페닐, 4-옥틸페닐, 4-(2-에틸헥실)페닐, 4-스테아릴페닐, 2,3-디메틸페닐, 2,4-디메틸페닐, 2,5-디메틸페닐, 2,6-디메틸페닐, 3,4-디메틸페닐, 3,5-디메틸페닐, 2,4-디-tert-부틸페닐, 2,5-디-tert-부틸페닐, 2,6-디-tert-부틸페닐, 2,4-디-tert-펜틸페닐, 2,5-디-tert-아밀페닐, 2,5-디-tert-옥틸페닐, 2,4-디쿠밀페닐, 4-시클로헥실페닐, (1,1'-비페닐)-4-일, 2,4,5-트리메틸페닐, 페로세닐 등을 들 수 있다.

또한, 상기 일반식 (B) 로 나타내는 트리아진계 화합물은, 이하의 화합물 No. 1B 내지 화합물 No. 4B 의 어느 것으로 나타내는 1 또는 2 이상의 트리아진계 화합물을 포함하는 것이 바람직하다.

[화학식 7]

상기 화합물 No. 1B 내지 화합물 No. 4B 중, R^A1, R^A2, R^B1, R^B2, R^C1, R^C2, R^D1 및 R^D2 는, 서로 동일해도 되고 상이해도 되고, 수소 원자, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 4 의 알킬기 또는, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 4 의 알콕시기를 나타낸다.

상기의 트리아진계 화합물의 합성 방법은, 특별히 제한을 받는 것은 아니고, 트리아진 구조를 갖는 화합물의 합성에 통상적으로 사용되는 합성 방법 중 어느 것이어도 된다. 예를 들어, 염화시아누르에 페놀 유도체 또는 레조르시놀 유도체를, 삼염화알루미늄을 사용하여 부가 반응시키는 방법을 들 수 있다. 트리아진 고리에 단결합으로 연결된 벤젠 고리가 구비하는 치환기는, 트리아진 구조를 형성한 후에 도입해도 되고, 트리아진 구조를 형성하기 전에, 페놀 화합물 또는 레조르시놀 유도체에 도입해도 된다.

상기의 트리아진계 화합물의 합성 방법의 일례로는, 예를 들어, 2-[2-하이드록시-4-(2-하이드록시에틸옥시)페닐]-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진을 알코올 성분으로 하여, 해당하는 에스테르 유도성 화합물 (카르복실산, 카르복실산할라이드, 카르복실산에스테르) 과의 에스테르화 반응 또는 에스테르 교환 반응을 들 수 있고, 이들 반응은 축차 반응이어도 되고, 일괄 반응이어도 된다.

상기 알코올 성분으로는, 1 가 카르복실산의 에스테르 유도성 화합물 (1 가 카르복실산, 1 가 카르복실산할라이드 또는 1 가 카르복실산에스테르), 2 가 카르복실산의 에스테르 유도성 화합물 (2 가 카르복실산, 2 가 카르복실산할라이드 또는 2 가 카르복실산의 에스테르 등을 들 수 있다.

상기 트리아진계 화합물은 합성 후에 정제될 수 있다. 정제 방법으로는, 증류, 재결정, 재침전, 여과제·흡착제를 사용하는 방법 등을 적절히 사용할 수 있다. 이들을 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.

상기 트리아진계 화합물은, 필요에 따라, 정제 후에 분쇄, 조립 (造粒), 분급, 용융 고화 등의 가공 처리를 실시할 수 있다. 이들을 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다. 이에 의해, 원하는 입상 트리아진계 화합물의 분말체 특성을 얻을 수 있다.

본 실시형태의 입상 자외선 흡수제의 입상은, 분말상 또는 과립상을 의미하는 것으로 한다. 이 입상 자외선 흡수제는, 분말상, 과립상인 채로 사용해도 되지만, 펠릿, 브리켓, 태블릿 등의 일정 형상으로 가공하여 사용될 수 있다.

본 실시형태의 입상 자외선 흡수제는, 이하의 압축도로 규정되는 특성을 갖는 것이다.

본 실시형태에 있어서, 압축도는 이하의 측정 조건으로 측정된다.

먼저, 당해 입상 자외선 흡수제를 소정 용기에 충전하고, 탭핑하지 않고 문질러 끊은 후, 용기 중의 당해 입상 자외선 흡수제에 있어서의, 루스 벌크 밀도 (g/㎤) 를 측정한다.

계속해서, 당해 입상 자외선 흡수제를 소정 용기에 충전하고, 18 ㎜ 의 높이로부터 180 회의 조건으로 탭핑하고, 문질러 끊은 후, 용기 중의 당해 입상 자외선 흡수제에 있어서의, 타이트 벌크 밀도 (g/㎤) 를 측정한다.

이상에 의해 얻어진, 루스 벌크 밀도를 D1 이라고 하고, 타이트 벌크 밀도를 D2 라고 했을 때, 식 : [(D2 - D1)/D2] × 100 에 기초하여, 압축도 (％) 를 산출한다.

본 실시형태의 입상 자외선 흡수제의 압축도의 하한치는, 5.0 ％ 이상, 바람직하게는 5.5 ％ 이상, 보다 바람직하게는 6.0 ％ 이상이다. 이에 의해, 압축 조립성을 높일 수 있다. 한편, 상기 입상 자외선 흡수제의 압축도의 상한치는, 40 ％ 이하, 바람직하게는 35 ％ 이하, 보다 바람직하게는 30 ％ 이하, 더욱 바람직하게는 25 ％ 이하이다. 이에 의해, 피드성을 높일 수 있다.

또한, 상기 입상 자외선 흡수제의 루스 벌크 밀도는, 예를 들어, 0.20 g/㎤ ∼ 0.70 g/㎤, 바람직하게는 0.30 g/㎤ ∼ 0.65 g/㎤, 보다 바람직하게는 0.42 g/㎤ ∼ 0.60 g/㎤ 이다. 이와 같은 수치 범위 내로 함으로써, 분말체 특성 및 자외선 흡수 특성이 우수한 입상 자외선 흡수제를 실현할 수 있다.

또한, 상기 입상 자외선 흡수제의 타이트 벌크 밀도는, 예를 들어, 0.40 g/㎤ ∼ 0.90 g/㎤, 바람직하게는 0.45 g/㎤ ∼ 0.80 g/㎤, 보다 바람직하게는 0.50 g/㎤ ∼ 0.70 g/㎤ 이다. 이와 같은 수치 범위 내로 함으로써, 분말체 특성 및 자외선 흡수 특성이 우수한 입상 자외선 흡수제를 실현할 수 있다.

본 실시형태에서는, 예를 들어 트리아진계 화합물의 종류나 형상, 트리아진계 화합물의 조제 방법 등을 적절히 선택함으로써, 상기 압축도, 루스 벌크 밀도 및 타이트 벌크 밀도를 제어하는 것이 가능하다. 이들 중에서도, 예를 들어, 용융 고화나 분쇄·분급 등의 트리아진계 화합물의 가공 처리 조건을 적절히 채용하는 것 등을, 상기 압축도, 루스 벌크 밀도 및 타이트 벌크 밀도를 원하는 수치 범위로 하기 위한 요소로서 들 수 있다.

또한, 본 발명자는 더욱 검토한 결과, 트리아진계 화합물이나 그것을 사용한 입상 자외선 흡수제의 분말체 특성에 대하여, X 선 회절 분석 패턴을 지침으로 함으로써 적절히 제어할 수 있는 것을 알아냈다. 이와 같은 지견에 기초하여 더욱 예의 연구한 결과, 분말 X 선 회절 분석 패턴에 있어서의 극대 피크가 존재하는 회절각 2θ 를 소정의 수치 범위 내로 함으로써, 상기의 트리아진계 화합물이나 그것을 사용한 입상 자외선 흡수제에 있어서의 분말체 특성이 개선되는 것을 알아냈다.

본 실시형태의 트리아진계 화합물 (입상 자외선 흡수제) 은, 이하의 분말 X 선 회절 분석 패턴으로 규정되는 특성을 가져도 된다.

본 실시형태의 트리아진계 화합물은, 분말 X 선 회절 분석 패턴에 있어서의 극대 피크를, 회절각 2θ 가 5.00°이상 6.50°이하의 범위 내, 바람직하게는 5.20°이상 6.00°이하, 보다 바람직하게는 5.40°이상 5.80°이하로 해도 된다. 이에 의해, 피드성 및 압축 조립성을 높일 수 있기 때문에, 분말체 특성이 우수한 트리아진계 화합물이나 입상 자외선 흡수제를 실현할 수 있다.

여기서, 극대 피크란, 분말 X 선 회절 측정에 있어서의 주사 범위 내 (예를 들어, 회절각 2θ = 3°∼ 60° 또는 3°∼ 90°) 에서 얻어진 X 선 회절 패턴에 있어서, 최대 피크 강도를 갖는 것이다.

또한, 상기 트리아진계 화합물의 분말 X 선 회절 분석 패턴에 있어서, 상기 극대 피크에 있어서의 반치폭은, 예를 들어, 0.05°이상 0.20°이하, 바람직하게는 0.10°이상 0.19°이하, 보다 바람직하게는 0.15°이상 0.18°이하이다. 이와 같은 수치 범위 내가 되도록 극대 피크 (최대 피크) 의 피크 폭에 적절히 설정함으로써, 분말체 특성 및 자외선 흡수 특성이 우수한 입상 자외선 흡수제를 실현할 수 있다.

또한, 상기 트리아진계 화합물의 분말 X 선 회절 분석 패턴에 있어서, 상기 극대 피크의 상대 강도를 100 으로 했을 때, 회절각 2θ 가 3.0°이상 45.0°이하의 범위 내에, 예를 들어, 상대 강도 30 이상 60 이하, 바람직하게는 상대 강도 25 이상 60 이하, 보다 바람직하게는 상대 강도 22 이상 60 이하의 회절 피크가 존재하지 않도록 구성된다. 즉, 극대 피크치의 피크 강도를 상대적으로 높게 함으로써, 분말체 특성 및 자외선 흡수 특성이 우수한 입상 자외선 흡수제를 실현할 수 있다.

또한, 상기 트리아진계 화합물의 분말 X 선 회절 분석 패턴에 있어서, 극대 피크의 상대 강도를 100 으로 했을 때, 당해 상대 강도 1 이상 5 이하의 회절 피크가, 예를 들어, 회절각 2θ 가 45.0°초과 60.0°이하, 바람직하게는 45.0°초과 90.0°이하의 범위 내에 존재하지 않도록 구성된다. 즉, 미세 강도의 피크가 존재하지 않는 영역을 적절한 수치 범위 내로 함으로써, 분말체 특성 및 자외선 흡수 특성이 우수한 입상 자외선 흡수제를 실현할 수 있다.

본 실시형태에서는, 예를 들어 트리아진계 화합물의 종류나 형상, 트리아진계 화합물의 조제 방법 등을 적절히 선택함으로써, 상기 극대 피크의 회절각 2θ, 극대 피크의 반치폭 등의 분말 X 선 회절 분석 패턴을 제어하는 것이 가능하다. 이들 중에서도, 예를 들어, 용융 고화나 분쇄·분급 등의 트리아진계 화합물의 가공 처리 조건을 적절히 채용하는 것 등을, 상기 극대 피크의 회절각 2θ, 극대 피크의 반치폭 등의 분말 X 선 회절 분석 패턴을 원하는 수치 범위로 하기 위한 요소로서 들 수 있다.

본 실시형태의 수지 조성물에 대하여 설명한다.

상기 수지 조성물은, 상기 입상 자외선 흡수제를 함유하는 것이다. 이 수지 조성물은, 합성 수지를 함유해도 된다. 이에 의해, 각종 용도에 따른 원하는 수지 특성이 얻어진다.

상기 합성 수지로서, 예를 들어, 열 가소성 수지, 열 경화성 수지, 엘라스토머 등을 들 수 있다. 이들을 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 조합하여 사용해도 된다.

상기 합성 수지의 구체예로서 이하의 것을 들 수 있다.

상기 열 가소성 수지로서, 예를 들어, 폴리프로필렌, 고밀도 폴리에틸렌, 저밀도 폴리에틸렌, 직사슬 저밀도 폴리에틸렌, 가교 폴리에틸렌, 초고분자량 폴리에틸렌, 폴리부텐-1, 폴리-3-메틸펜텐 등의 α-올레핀 중합체 또는 에틸렌-아세트산비닐 공중합체, 에틸렌-에틸아크릴레이트 공중합체, 에틸렌-프로필렌 공중합체 등의 폴리올레핀 및 이들의 공중합체, 폴리염화비닐, 폴리염화비닐리덴, 염소화폴리에틸렌, 염소화폴리프로필렌, 폴리불화비닐리덴, 염화 고무, 염화비닐-아세트산비닐 공중합체, 염화비닐-에틸렌 공중합체, 염화비닐-염화비닐리덴 공중합체, 염화비닐-염화비닐리덴-아세트산비닐 3 원 공중합체, 염화비닐-아크릴산에스테르 공중합체, 염화비닐-말레산에스테르 공중합체, 염화비닐-시클로헥실말레이미드 공중합체 등의 함할로겐 수지 ; 석유 수지, 쿠마론 수지, 폴리스티렌, 폴리아세트산비닐, 아크릴 수지, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리비닐알코올, 폴리비닐포르말, 폴리비닐부티랄 ; 폴리에틸렌테레프탈레이트, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리시클로헥산디메틸렌테레프탈레이트 등의 폴리알킬렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌나프탈레이트, 폴리부틸렌나프탈레이트 등의 폴리알킬렌나프탈레이트 등의 방향족 폴리에스테르 및 폴리테트라메틸렌테레프탈레이트 등의 직사슬 폴리에스테르 ; 폴리하이드록시부티레이트, 폴리카프로락톤, 폴리부틸렌숙시네이트, 폴리에틸렌숙시네이트, 폴리락트산 수지, 폴리말산, 폴리글리콜산, 폴리디옥산, 폴리(2-옥세타논) 등의 분해성 지방족 폴리에스테르 ; 폴리페닐렌옥사이드, 폴리카프로락탐 및 폴리헥사메틸렌아디파미드 등의 폴리아미드, 폴리카보네이트, 분기 폴리카보네이트, 폴리아세탈, 폴리페닐렌설파이드, 폴리우레탄, 섬유소계 수지 등을 들 수 있다.

상기 열 경화성 수지로서, 예를 들어, 페놀 수지, 우레아 수지, 멜라민 수지, 에폭시 수지, 불포화 폴리에스테르 수지 등을 들 수 있다.

또한, 상기 엘라스토머로서, 예를 들어, 불소계 수지, 실리콘 수지, 실리콘 고무 폴리에테르술폰, 폴리설폰, 폴리페닐렌에테르, 폴리에테르케톤, 폴리에테르에테르케톤, 액정 폴리머 등을 들 수 있다. 또한, 이소프렌 고무, 부타디엔 고무, 아크릴로니트릴-부타디엔 공중합 고무, 스티렌-부타디엔 공중합 고무, 불소 고무, 실리콘 고무 등을 들 수 있다.

보다 구체적인 엘라스토머로는, 예를 들어, 올레핀계 열 가소성 엘라스토머, 스티렌계 열 가소성 엘라스토머, 폴리에스테르계 열 가소성 엘라스토머, 니트릴계 열 가소성 엘라스토머, 나일론계 열 가소성 엘라스토머, 염화비닐계 열 가소성 엘라스토머, 폴리아미드계 열 가소성 엘라스토머, 폴리우레탄계 열 가소성 엘라스토머 등을 들 수 있다.

또한, 투명성이 우수한 합성 수지로는, 예를 들어, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리스티렌, 폴리에틸렌과 노르보르넨 등의 시클로올레핀의 공중합체, 폴리아크릴산, 폴리아크릴산에스테르, 폴리아세트산비닐, 폴리아크릴로니트릴, 폴리염화비닐, 폴리불화비닐 등 비닐 화합물 및 비닐 화합물의 부가 중합체, 폴리메타크릴산, 폴리메타크릴산에스테르, 폴리염화비닐리덴, 폴리불화비닐리덴, 폴리시안화비닐리덴, 불화비닐리덴/트리플루오로에틸렌 공중합체, 불화비닐리덴/테트라플루오로에틸렌 공중합체, 시안화비닐리덴/아세트산비닐 공중합체 등의 비닐 화합물 또는 불소계 화합물의 공중합체, 폴리트리플루오로에틸렌, 폴리테트라플루오로에틸렌, 폴리헥사플루오로프로필렌 등의 불소를 포함하는 화합물, 나일론 6, 나일론 66 등의 폴리아미드, 폴리이미드, 폴리우레탄, 폴리펩티드, 폴리부틸렌테레프탈레이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트 등의 폴리에스테르, 폴리카보네이트, 폴리옥시메틸렌, 폴리에틸렌옥사이드, 폴리프로필렌옥사이드 등의 폴리에테르, 에폭시 수지, 폴리비닐알코올, 폴리비닐부티랄 등을 들 수 있다.

또한, 상용성 및 투명성의 관점에서, 합성 수지로는, 예를 들어, 폴리카보네이트 수지, 폴리에스테르 수지, 아크릴 수지, ABS 수지 등을 들 수 있다.

이상의 합성 수지는, 단독으로 사용해도 되고 2 종 이상을 조합하여 사용해도 되고, 또한, 얼로이화되어 있어도 된다.

상기 수지 조성물에 있어서의 입상 자외선 흡수제의 배합량은, 합성 수지 100 질량부에 대하여, 예를 들어, 0.001 질량부 ∼ 20 질량부가 바람직하고, 0.01 ∼ 10 질량부가 보다 바람직하고, 0.1 ∼ 5 질량부가 더욱 보다 바람직하다. 상기 하한치 이상으로 함으로써, 입상 자외선 흡수제의 충분한 효과가 얻어진다. 또한, 상기 상한치 이하로 함으로써, 입상 자외선 흡수제의 첨가 효과의 향상을 얻으면서도, 원하는 수지 물성을 실현할 수 있다.

본 명세서 중, 「∼」 는, 특별히 명시하지 않는 한, 상한치와 하한치를 포함하는 것을 나타낸다.

본 실시형태의 수지 조성물은, 필요에 따라, 상기 서술한 성분 이외의 다른 첨가 성분을 포함할 수 있다. 이 다른 첨가 성분으로는, 예를 들어, 산화 방지제, 본 실시형태에 관련된 트리아진계 화합물 이외의 자외선 흡수제, 힌더드아민계 광 안정제, 근적외선 흡수제, 핵제 (투명화제), 대전 방지제, 활제, 가소제, 광 흡수성 색소, 충전제 (필러), 안료, 염료, 금속 비누, 가공 보조제, 난연제, 난연 보조제, 제올라이트 화합물, 발포제, (중) 금속 불활성화제, 가교제, 에폭시계 안정화제, 매트제, 방담제, 플레이트 아웃 방지제, 표면 처리제, 형광 증백제, 방미제, 항균제, 이형제 등을 들 수 있다.

상기 산화 방지제로서, 예를 들어, 페놀계 산화 방지제, 인계 산화 방지제, 황계 산화 방지제 등을 들 수 있다.

상기 페놀계 산화 방지제로는, 예를 들어, 2,6-디-tert-부틸-p-크레졸, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 디스테아릴(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)포스포네이트, 1,6-헥사메틸렌비스〔(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산아미드〕, 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-m-크레졸), 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-tert-부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4-에틸-6-tert-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴비스(6-tert-부틸-m-크레졸), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4-sec-부틸-6-tert-부틸페놀), 1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-tert-부틸페닐)부탄, 1,3,5-트리스(2,6-디메틸-3-하이드록시-4-tert-부틸벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 2-tert-부틸-4-메틸-6-(2-아크릴로일옥시-3-tert-부틸-5-메틸벤질)페놀, 스테아릴(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트, 테트라키스〔3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산메틸〕메탄, 티오디에틸렌글리콜비스〔(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트〕, 1,6-헥사메틸렌비스〔(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오네이트〕, 비스〔3,3-비스(4-하이드록시-3-tert-부틸페닐)부틸릭 애시드〕글리콜에스테르, 비스〔2-tert-부틸-4-메틸-6-(2-하이드록시-3-tert-부틸-5-메틸벤질)페닐〕테레프탈레이트, 1,3,5-트리스〔(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피오닐옥시에틸〕이소시아누레이트, 3,9-비스〔1,1-디메틸-2-{(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시}에틸〕-2,4,8,10-테트라옥사스피로〔5,5〕운데칸, 트리에틸렌글리콜비스〔(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐)프로피오네이트〕 등을 들 수 있다.

상기 인계 산화 방지제로는, 예를 들어, 트리스노닐페닐포스파이트, 트리스〔2-tert-부틸-4-(3-tert-부틸-4-하이드록시-5-메틸페닐티오)-5-메틸페닐〕포스파이트, 트리데실포스파이트, 트리이소데실포스파이트, 트리라우릴포스파이트, 옥틸디페닐포스파이트, 디(데실)모노페닐포스파이트, 디(트리데실)펜타에리트리톨디포스파이트, 디(노닐페닐)펜타에리트리톨디포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐)펜타에리트리톨디포스파이트, 비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페닐)펜타에리트리톨디포스파이트, 비스(2,4,6-트리-tert-부틸페닐)펜타에리트리톨디포스파이트, 비스(2,4-디쿠밀페닐)펜타에리트리톨디포스파이트, 테트라(트리데실)이소프로필리덴디페놀디포스파이트, 테트라(트리데실)-4,4'-n-부틸리덴비스(2-tert-부틸-5-메틸페놀)디포스파이트, 헥사(트리데실)-1,1,3-트리스(2-메틸-4-하이드록시-5-tert-부틸페닐)부탄트리포스파이트, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)비페닐렌디포스포나이트, 9,10-디하이드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 2,2'-메틸렌비스(4,6-tert-부틸페닐)-2-에틸헥실포스파이트, 2,2'-메틸렌비스(4,6-tert-부틸페닐)-옥타데실포스파이트, 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-tert-부틸페닐)플루오로포스파이트, 트리스(2-〔(2,4,8,10-테트라키스-tert-부틸디벤조〔d,f〕〔1,3,2〕디옥사포스페핀-6-일)옥시〕에틸)아민, 2-에틸-2-부틸프로필렌글리콜과 2,4,6-트리-tert-부틸페놀의 포스파이트 등을 들 수 있다.

상기 황계 산화 방지제로는, 예를 들어, 티오디프로피온산디라우릴, 티오디프로피온산디미리스틸, 티오디프로피온산디스테아릴 등의 디알킬티오디프로피오네이트류, 및, 펜타에리트리톨테트라(β-알킬티오프로피온산)에스테르류를 들 수 있다.

상기 본 실시형태에 관련된 트리아진계 화합물 이외의 다른 자외선 흡수제로는, 예를 들어, 2,4-디하이드록시벤조페논, 2-하이드록시-4-메톡시벤조페논, 2-하이드록시-4-옥톡시벤조페논, 5,5'-메틸렌비스(2-하이드록시-4-메톡시벤조페논) 등의 2-하이드록시벤조페논류 ; 2-(2'-하이드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디-tert-부틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3'-tert-부틸-5'-메틸페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-5'-tert-옥틸페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-하이드록시-3',5'-디쿠밀페닐)벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스(4-tert-옥틸-6-(벤조트리아졸릴)페놀), 2-(2'-하이드록시-3'-tert-부틸-5'-카르복시페닐)벤조트리아졸 등의 2-(2'-하이드록시페닐)벤조트리아졸류 ; 페닐살리실레이트, 레조르시놀모노벤조에이트, 2,4-디-tert-부틸페닐-3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 2,4-디-tert-아밀페닐-3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트, 헥사데실-3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤조에이트 등의 벤조에이트류 ; 2-에틸-2'-에톡시옥사닐리드, 2-에톡시-4'-도데실옥사닐리드 등의 치환 옥사닐리드류 ; 에틸-α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸-2-시아노-3-메틸-3-(p-메톡시페닐)아크릴레이트 등의 시아노아크릴레이트류를 들 수 있다.

상기 힌더드아민계 광 안정제로는, 예를 들어, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜스테아레이트, 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜스테아레이트, 2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜벤조에이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥톡시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 테트라키스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)·디(트리데실)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)·디(트리데실)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 비스(1,2,2,4,4-펜타메틸-4-피페리딜)-2-부틸-2-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시벤질)말로네이트, 1-(2-하이드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리디놀/숙신산디에틸 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/2,4-디클로로-6-모르폴리노-s-트리아진 중축합물, 1,6-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜아미노)헥산/2,4-디클로로-6-tert-옥틸아미노-s-트리아진 중축합물, 1,5,8,12-테트라키스〔2,4-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일〕-1,5,8,12-테트라아자도데칸, 1,5,8,12-테트라키스〔2,4-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일〕-1,5,8-12-테트라아자도데칸, 1,6,11-트리스〔2,4-비스(N-부틸-N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일〕아미노운데칸, 1,6,11-트리스〔2,4-비스(N-부틸-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)아미노)-s-트리아진-6-일〕아미노운데칸 등의 힌더드아민 화합물을 들 수 있다.

상기 근적외선 흡수제로는, 예를 들어, 폴리메틴계 색소 (시아닌 색소), 인돌리노시아닌계 색소, 프탈로시아닌계 색소, 나프탈로시아닌계 색소, 나프톨 금속 착물계 색소, 스쿠아릴륨 색소, 트리아조 색소, 디티올 금속 착염계 색소, 피릴륨 색소, 티아피릴륨 색소, 인도아닐린 색소, 아조안트라퀴논 색소, 나프토퀴논 색소, 안트로퀴논 색소, 비스(디티오렌) 색소, 트리페닐메탄계 색소, 아미늄 (알루미늄) 계 색소, 디이모늄계 색소 등의 색소를 들 수 있고, 또한, 무기계의 근적외선 흡수제를 사용해도 되고, 예를 들어 카본 블랙, 산화안티몬 또는 산화인듐을 도프한 산화주석, 주기표 4A, 5A 또는 6A 족에 속하는 금속의 산화물, 탄화물 또는 붕화물을 들 수 있다.

상기 핵제로는, 예를 들어, p-tert-부틸벤조산알루미늄, 벤조산나트륨 등의 벤조산류의 금속염, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐)인산에스테르나트륨, 메틸렌비스(2,4-디-tert-부틸페닐)인산에스테르나트륨, 비스〔메틸렌비스(2,4-디-tert-부틸페닐)인산에스테르〕하이드록시알루미늄 등의 방향족 인산에스테르 금속염 및 방향족 인산에스테르 금속염과 알칼리 금속 화합물의 혼합물, 디벤질리덴소르비톨, 비스(메틸벤질리덴)소르비톨, 비스(p-에틸벤질리덴)소르비톨, 비스(디메틸벤질리덴소르비톨) 등의 디벤질리덴소르비톨류, 아미노산 금속염, 로진산 금속염, N,N',N"-트리스[2-메틸시클로헥실]-1,2,3-프로판트리카르복사미드, N,N',N"-트리시클로헥실-1,3,5-벤젠트리카르복사미드, N,N'-디시클로헥실나프탈렌디카르복사미드, 1,3,5-트리(디메틸이소프로포일아미노)벤젠 등의 아미드 화합물 등을 들 수 있다.

상기 대전 방지제로는, 예를 들어, 지방산 제 4 급 암모늄 이온염, 폴리아민 4 급 염 등의 카티온계 대전 방지제 ; 고급 알코올 인산에스테르염, 고급 알코올 EO 부가물, 폴리에틸렌글리콜 지방산 에스테르, 아니온형의 알킬술폰산염, 고급 알코올 황산에스테르염, 고급 알코올 에틸렌옥사이드 부가물 황산에스테르염, 고급 알코올 에틸렌옥사이드 부가물 인산에스테르염 등의 아니온계 대전 방지제 ; 다가 알코올 지방산 에스테르, 폴리글리콜인산에스테르, 폴리옥시에틸렌알킬알릴에테르 등의 논이온계 대전 방지제 ; 알킬디메틸아미노아세트산베타인 등의 양쪽성형 알킬베타인, 이미다졸린형 양쪽성 활성제 등의 양쪽성 대전 방지제, 아이오노머나 폴리에틸렌글리콜을 친수부로 하는 블록 폴리머를 함유하는 고분자형 대전 방지제를 들 수 있다.

상기 활제로는, 예를 들어, 유동 파라핀, 파라핀 왁스, 폴리에틸렌 왁스 등의 탄화수소계 활제 ; 스테아릴알코올, 스테아르산, 12-하이드록시스테아르산 등의 지방족계 활제 ; 스테아르산아미드, 올레산아미드, 에루스산아미드, 메틸렌비스스테아르산아미드, 에틸렌스테아르산아미드 등의 아미드계 활제 ; 스테아르산칼슘, 스테아르산아연, 스테아르산마그네슘, 스테아르산납, 스테아르산알루미늄, 스테아르산바륨, 스테아르산바륨/스테아르산아연 복합체, 스테아르산아연/스테아르산칼슘 복합체 등의 금속 비누계 활제 ; 경화 유지, 글리세린모노스테아레이트, 스테아르산부틸, 펜타에리트리톨스테아레이트, 스테아르산스테아릴 등의 에스테르계 활제를 들 수 있다.

상기 가소제로는, 예를 들어, 프탈산에스테르, 이염기산에스테르, 염소화파라핀, 폴리에스테르, 에폭시화에스테르, 인산에스테르, 트리멜리트산에스테르 등을 들 수 있다.

상기 광 흡수성 색소로는, 예를 들어, 시아닌계, 퀴놀린계, 쿠마린계, 티아졸계, 옥소놀계, 아줄렌계, 스쿠아릴륨계, 아조메틴계, 아조계, 벤질리덴계, 크산텐계, 프탈로시아닌계, 디티올 금속 착물계 화합물 등을 들 수 있다.

상기 충전제로는, 예를 들어, 탄산칼슘, 산화칼슘, 수산화칼슘, 수산화아연, 탄산아연, 황화아연, 산화마그네슘, 수산화마그네슘, 탄산마그네슘, 산화알루미늄, 수산화알루미늄, 알루미나규산나트륨, 하이드로칼루마이트, 규산알루미늄, 규산마그네슘, 규산칼슘, 제올라이트 등의 규산 금속염, 활성 백토, 탤크, 클레이, 벵갈라, 아스베스토, 삼산화안티몬, 실리카, 유리 비드, 마이카, 셀리사이트, 유리 플레이크, 아스베스토, 월라스토나이트, 티탄산칼륨, PMF (광물 섬유), 석고 섬유, 조놀라이트, MOS (Magnesium Hydroxide Sulfate Hydrate, 섬유상 마그네슘 화합물), 포스페이트 파이버, 유리 섬유, 탄소 섬유, 아라미드 섬유, 셀룰로오스 나노 파이버 등을 들 수 있다.

상기 안료로는, 예를 들어, 시판되는 안료를 사용할 수도 있고, 예를 들어, 피그먼트 레드 1, 2, 3, 9, 10, 17, 22, 23, 31, 38, 41, 48, 49, 88, 90, 97, 112, 119, 122, 123, 144, 149, 166, 168, 169, 170, 171, 177, 179, 180, 184, 185, 192, 200, 202, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 254 ; 피그먼트 오렌지 13, 31, 34, 36, 38, 43, 46, 48, 49, 51, 52, 55, 59, 60, 61, 62, 64, 65, 71 ; 피그먼트 옐로 1, 3, 12, 13, 14, 16, 17, 20, 24, 55, 60, 73, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 100, 109, 110, 113, 114, 117, 120, 125, 126, 127, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 166, 168, 175, 180, 185 ; 피그먼트 그린 7, 10, 36 ; 피그먼트 블루 15, 15 : 1, 15 : 2, 15 : 3, 15 : 4, 15 : 5, 15 : 6, 22, 24, 56, 60, 61, 62, 64 ; 피그먼트 바이올렛 1, 19, 23, 27, 29, 30, 32, 37, 40, 50 등을 들 수 있다.

상기 염료로는, 예를 들어, 아조 염료, 안트라퀴논 염료, 인디고이드 염료, 트리아릴메탄 염료, 크산텐 염료, 알리자린 염료, 아크리딘 염료, 스틸벤 염료, 티아졸 염료, 나프톨 염료, 퀴놀린 염료, 니트로 염료, 인다민 염료, 옥사진 염료, 프탈로시아닌 염료, 시아닌 염료 등의 염료 등을 들 수 있다.

상기 금속 비누로는, 예를 들어, 리튬, 나트륨, 칼륨, 마그네슘, 칼슘, 알루미늄, 하이드록시알루미늄, 바륨, 아연 등의 금속과, 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 베헨산, 올레산 등의 포화 또는 불포화 지방산의 염이 사용된다.

상기 가공 보조제로는, 공지된 가공 보조제 중에서 적절히 선택할 수 있지만, 아크릴산계 가공 보조제가 바람직하다. 가공 보조제의 예를 들면, 예를 들어 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 부틸메타크릴레이트 등의 알킬메타크릴레이트의 단독 중합체 또는 공중합체 ; 상기 알킬메타크릴레이트와, 메틸아크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 부틸아크릴레이트 등의 알킬아크릴레이트의 공중합체 ; 상기 알킬메타크릴레이트와, 스티렌, α-메틸스티렌, 비닐톨루엔 등의 방향족 비닐 화합물의 공중합체 ; 상기 알킬메타크릴레이트와, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴 등의 비닐시안 화합물 등의 공중합체 등을 들 수 있다.

상기 난연제나 상기 난연 보조제의 예로는, 하기의 트리아진 고리 함유 화합물, 금속 수산화물, 그 외 무기 인, 할로겐계 난연제, 실리콘계 난연제, 인산에스테르계 난연제, 축합 인산에스테르계 난연제, 인투메센트계 난연제, 삼산화안티몬 등의 산화안티몬, 그 밖의 무기계 난연 보조제, 유기계 난연 보조제 등을 들 수 있다.

상기 트리아진 고리 함유 화합물로는, 예를 들어, 멜라민, 암멜린, 벤즈구아나민, 아세토구아나민, 프탈로디구아나민, 멜라민시아누레이트, 피로인산멜라민, 부틸렌디구아나민, 노르보르넨디구아나민, 메틸렌디구아나민, 에틸렌디멜라민, 트리메틸렌디멜라민, 테트라메틸렌디멜라민, 헥사메틸렌디멜라민, 1,3-헥실렌디멜라민 등을 들 수 있다.

상기 금속 수산화물로는, 수산화마그네슘, 수산화알루미늄, 수산화칼슘, 수산화바륨, 수산화아연, 키스마 5A (수산화마그네슘 : 쿄와 화학 공업 (주) 제조) 등을 들 수 있다.

상기 인산에스테르계 난연제의 예로는, 예를 들어, 트리메틸포스페이트, 트리에틸포스페이트, 트리부틸포스페이트, 트리부톡시에틸포스페이트, 트리스클로로에틸포스페이트, 트리스디클로로프로필포스페이트, 트리페닐포스페이트, 트리크레질포스페이트, 크레질디페닐포스페이트, 트리자일레닐포스페이트, 옥틸디페닐포스페이트, 자일레닐디페닐포스페이트, 트리스이소프로필페닐포스페이트, 2-에틸헥실디페닐포스페이트, tert-부틸페닐디페닐포스페이트, 비스-(tert-부틸페닐)페닐포스페이트, 트리스-(tert-부틸페닐)포스페이트, 이소프로필페닐디페닐포스페이트, 비스-(이소프로필페닐)디페닐포스페이트, 트리스-(이소프로필페닐)포스페이트 등을 들 수 있다.

상기 축합 인산에스테르계 난연제의 예로는, 1,3-페닐렌비스(디페닐포스페이트), 1,3-페닐렌비스(디자일레닐포스페이트), 비스페놀 A 비스(디페닐포스페이트) 등을 들 수 있고, 인투메센트계 난연제로는, 폴리인산암모늄, 폴리인산멜라민, 폴리인산피페라진, 피로인산암모늄, 피로인산멜라민, 피로인산피페라진 등의, (폴리)인산의 암모늄염이나 아민염을 들 수 있다.

상기 그 밖의 무기계 난연 보조제로는, 예를 들어, 산화티탄, 산화알루미늄, 산화마그네슘, 탤크 등의 무기 화합물, 및 그 표면 처리품을 들 수 있고, 예를 들어, TIPAQUE R-680 (산화티탄 : 이시하라 산업 (주) 제조), 쿄와마그 150 (산화마그네슘 : 쿄와 화학 공업 (주) 제조) 등의 여러 가지 시판품을 사용할 수 있다.

또한, 그 밖의 유기계 난연 보조제로는, 예를 들어, 펜타에리트리톨, 디펜타에리트리톨 등을 들 수 있다.

상기 제올라이트 화합물은, 독특한 삼차원의 제올라이트 결정 구조를 갖는 알칼리 또는 알칼리 토금속의 알루미노규산염이고, 그 대표예로는, A 형, X 형, Y 형 및 P 형 제올라이트, 모노데나이트, 아널사이트, 소달라이트족 알루미노규산염, 클리노프틸로라이트, 에리오나이트 및 캐버자이트 등을 들 수 있고, 이들 제올라이트 화합물의 결정수 (이른바 제올라이트수) 를 갖는 함수물 또는 결정수를 제거한 무수물의 어느 것이어도 되고, 또한 그 입경이 0.1 ∼ 50 ㎛ 인 것을 사용할 수 있고, 특히, 0.5 ∼ 10 ㎛ 의 것이 바람직하다.

상기 발포제로는, 예를 들어, 아조디카르본아미드, 아조비스이소부티로니트릴, p,p'-옥시비스벤젠술포닐히드라지드, n,n'-디니트로소펜타메틸렌테트라민, p-톨루엔술포닐세미카르바지드, 트리히드라조트리아진 등의 분해형 유기 발포제 및 중탄산나트륨, 탄산암모늄, 중탄산암모늄, 아질산암모늄, 아지드 화합물, 붕수소화나트륨 등의 분해형 무기 발포제를 들 수 있다.

상기 (중) 금속 불활성화제로는, 살리실아미드-1,2,4-트리아졸-3-일, 비스사리실산히드라지드, 도데칸디오일비스(2-(2-하이드록시벤조일)히드라지드), 비스(3-(3,5-디-tert-부틸-4-하이드록시페닐)프로피온산)히드라지드 등을 들 수 있다.

상기 가교제로는, 벤조일퍼옥사이드, 디-tert-부틸퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 2,5-디메틸-2,5-디(tert-부틸퍼옥시)헥산, 2,5-디메틸-2,5-디(tert-부틸퍼옥시)헥신, 1,3-비스(tert-부틸퍼옥시이소프로필)벤젠-tert-부틸-하이드로퍼옥사이드, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, 폴리술폰아지드, 아지드포르메이트, 테트라메틸이소프탈릴디-tert-부틸비스퍼옥사이드, 테트라메틸이소프탈릴디쿠밀비스퍼옥사이드, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 알칸올아민, 헥사메틸렌디아민, 4,4'-디아미노디페닐메탄 등을 들 수 있다.

상기 에폭시계 안정제로는, 지방족, 방향족, 지환족, 방향족 지방족 또는 헤테로 고리형 구조를 갖고, 측사슬로서 에폭시기를 갖는 화합물을 들 수 있다. 에폭시기는 바람직하게는, 글리시딜기로서 에테르 또는 에스테르 결합에 의해 분자의 잔기에 결합하거나, 혹은 헤테로 고리형 아민, 아미드 또는 이미드의 N-글리시딜 유도체여도 된다. 구체적으로는, 에폭시화 대두유, 에폭시화 아마인유, 에폭시화 모노에스테르 등을 들 수 있다. 에폭시계 안정제의 시판품으로는, 예를 들어, 주식회사 ADEKA 제품명 「아데카 사이저 O-130P」, 「아데카 사이저 O-180A」, 「아데카 사이저 D-32」, 「아데카 사이저 EP-13」, 「아데카 사이저 FEP-13」 등을 들 수 있다.

상기 매트제로는, 이산화규소의 미립자가 바람직하다. 이산화규소의 미립자의 예에는, 아에로질 R972, R972V, R974, R812, 200, 200V, 300, R202, OX50, TT600 (이상 닛폰 아에로질 (주) 제조) 을 들 수 있고, 필름의 헤이즈를 낮게 유지하면서 마찰 계수를 낮추는 효과가 큰 것으로부터, 바람직하게는 아에로질 200V, 아에로질 R972V, 아에로질 R812 이다.

상기 방담제로는, 예를 들어, 글리세린 지방산 에스테르, 알킬디에탄올아민, 알킬디에탄올아민 지방산 에스테르 등을 들 수 있다.

상기 플레이트 아웃 방지제로는, 예를 들어, 이산화규소, 에틸렌-포화 카르복실산비닐에스테르 공중합체 비누화물의 알킬렌옥사이드 부가물을 유효 성분으로 한 것을 들 수 있다.

상기 표면 처리제로는, 예를 들어, 아미노실란 화합물, 에폭시 수지의 1 종 이상을 포함하는 표면 처리제가 바람직하게 사용된다.

상기 아미노실란 화합물로는, 예를 들어, γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-아미노프로필트리메톡시실란 및 γ-(2-아미노에틸)아미노프로필트리메톡시실란 등을 들 수 있다.

상기 표면 처리제에 포함되는 에폭시 수지로는, 예를 들어, 노볼락형 에폭시 수지, 비스페놀형 에폭시 수지 등을 들 수 있고, 노볼락형 에폭시 수지가 바람직하게 사용된다. 노볼락형 에폭시 수지로는, 페놀노볼락형 에폭시 수지, 크레졸 노볼락형 에폭시 수지 등의 다관능형 에폭시 수지를 들 수 있다.

또한 표면 처리제에는, 상기 아미노실란 화합물, 에폭시 수지 외에, 성질을 저해하지 않는 범위에서, 우레탄 수지, 아크릴 수지, 내전 방지제, 윤활제, 및 발수제 등의 성분을 배합해도 된다. 또한, 다른 표면 처리제로서, 노볼락형 및 비스페놀형 이외의 에폭시 수지, 커플링제 등을 들 수 있다.

상기 형광 증백제란, 태양광이나 인공 광의 자외선을 흡수하여, 이것을 보라색 ∼ 청색의 가시 광선으로 바꾸어 복사하는 형광 작용에 의해, 성형체의 백색도나 청색미를 조장시키는 화합물이다. 형광 증백제로는, 벤조옥사졸계 화합물 C. I. Fluorescent Brightner184 ; 쿠마린계 화합물 C. I. Fluorescent Brightner52 ; 디아미노스틸벤디술폰산계 화합물 C. I. Fluorescent Brightner24, 85, 71 등을 들 수 있다.

상기 방미제로는, 예를 들어, 함질소 함황계, 유기 브롬계, 함질소계, 비소계 등의 유기계 방미제, 은 화합물 등의 무기계 방미제 등을 들 수 있다.

상기 항균제로는, 예를 들어, 염소계, 페놀계, 이미다졸계 또는 티아졸계의 화합물이나 제 4 급 암모늄 화합물 등 등의 유기계 항균제, 은, 아연 등의 금속을 유지 함유시킨 제올라이트계, 아파타이트계, 실리카알루미나계, 세라믹계, 인산지르코늄계, 실리카 겔계, 하이드록시아파타이트계 또는 규산칼슘계 등의 무기계 항균제를 들 수 있다.

상기 이형제로는, 예를 들어, 몬탄산나트륨, 몬탄산칼륨, 몬탄산칼슘, 몬탄산마그네슘 등을 들 수 있다.

본 실시형태의 수지 조성물의 제조 방법은, 특별히 제한은 없고, 종래 공지된 임의의 수법을 채용할 수 있다.

상기 수지 조성물의 제조 방법의 일례로는, 본 실시형태의 입상 자외선 흡수제, 상기 서술한 합성 수지, 필요에 따라 다른 첨가 성분 등의 각 성분을, 텀블러나 헨셸 믹서 등의 각종 혼합기를 이용하여 미리 혼합한 후, 밴버리 믹서, 롤, 브라벤더, 단축 혼련 압출기, 2 축 혼련 압출기, 니더 등으로 용융 혼련하는 방법을 들 수 있다.

또한 각 성분을 미리 혼합하지 않고, 또는 일부의 성분만 미리 혼합하여, 피더를 사용하여 압출기에 공급하여 용융 혼련하여, 수지 조성물을 제조해도 된다. 나아가서는, 일부의 성분을 미리 혼합하여 압출기에 공급하여 용융 혼련함으로써 얻어지는 수지 조성물을 마스터 배치로 하고, 재차, 다른 성분과 혼합하여 용융 혼련함으로써 수지 조성물을 제조할 수도 있다.

또한, 상기의 혼합·혼련 공정에 사용하는 합성 수지는, 분말상, 펠릿상 등의 소정 형상, 또는 섬유상을 갖는 것이어도 된다.

본 실시형태의 수지 조성물은, 실온에서 고형상이어도 되고, 형상으로서, 분말상, 과립상, 펠릿, 브리켓, 태블릿 등의 일정 형상, 또는 시트상을 가지고 있어도 된다.

본 실시형태의 수지 조성물을 성형함으로써 성형체를 얻을 수 있다.

성형 방법으로는, 특별히 한정되는 것이 아니고, 사출 성형법, 압출 성형법, 블로우 성형법, 회전 성형법, 진공 성형법, 인플레이션 성형법, 캘린더 성형법, 슬래시 성형법, 딥 성형법, 발포 성형법 등을 들 수 있다.

상기 성형체는, 용도에 따라 각종 형태를 가질 수 있지만, 예를 들어, 수지판, 시트, 필름, 용기 (보틀, 트레이, 봉투), 섬유, 각종 성형품 등의 여러 가지 형상을 가질 수 있다.

또한, 본 실시형태의 수지 조성물은, 본 실시형태의 입상 자외선 흡수제, 바인더 수지로서 사용하는 상기 서술한 합성 수지, 필요에 따라 다른 첨가 성분 등의 각 성분을, 용매에 용해시켜 바니시 수지 (실온에서 액상인 바니시상 수지 조성물) 로 해도 된다. 용제로서, 유기계 용제나 수계 용매를 사용할 수 있다. 필요에 따라 유화제를 사용하여, 분말상의 자외선 흡수제를 분산시킨 에멀션으로서 수지 바니시를 사용해도 된다.

상기 수지 바니시를 조제하는 방법으로는, 각 성분의 혼합의 순서는 특별히 제한되지 않고, 모든 성분을 동시에 혼합해도 되고, 미리 본 실시형태의 입상 자외선 흡수제 및 다른 첨가 성분을 혼합하여 얻어진 혼합물에 합성 수지를 혼합해도 되고, 미리 조제해 둔 복수의 성분을 다른 성분과 혼합해도 되고, 혹은 미리 조제해 둔 복수의 성분끼리를 추가로 혼합해도 된다.

상기 수지 바니시는, 예를 들어, 캐스트 필름법을 사용하여, 필름이나 시트로 가공할 수도 있다. 또한 상기 수지 바니시는, 소정 기재 상에 코팅하기 위한 도료 재료로서 사용할 수도 있다.

본 실시형태의 수지 조성물은, 전기·전자·통신, 농림 수산, 광업, 건설, 식품, 섬유, 의류, 의료, 석탄, 석유, 고무, 피혁, 자동차, 정밀 기기, 목재, 건재, 토목, 가구, 인쇄, 악기 등의 폭넓은 산업 분야에 사용할 수 있다.

보다 구체적인 용도로서, 예를 들어, 프린터, PC, 워드 프로세서, 키보드, PDA (소형 정보 단말기), 전화기, 복사기, 팩시밀리, ECR (전자식 금전 등록기), 전자식 탁상 계산기, 전자 수첩, 카드, 홀더, 문구 등의 사무, OA 기기, 세탁기, 냉장고, 청소기, 전자 레인지, 조명 기구, 게임기, 다리미, 코타츠 등의 가전 기기, TV, VTR, 비디오 카메라, 라디오 카세트, 테이프 레코더, 미니 디스크, CD 플레이어, 스피커, 액정 디스플레이 등의 AV 기기, 커넥터, 릴레이, 콘덴서, 스위치, 프린트 기판, 코일 보빈, 반도체 봉지 재료, LED 봉지 재료, 전선, 케이블, 트랜스, 편향 요크, 분전반, 시계 등의 전기·전자 부품 및 통신 기기, 자동차용 내외장재, 제판용 필름, 점착 필름, 보틀, 식품용 용기, 식품 포장용 필름, 제약·의약용 랩 필름, 제품 포장 필름, 농업용 필름, 농업용 시트, 온실용 필름 등을 들 수 있다.

또한, 구체적인 용도로서, 좌석 (충전물, 표지 등), 벨트, 천정 커버, 컨버터블 탑, 아암레스트, 도어 트림, 리어 패키지 트레이, 카펫, 매트, 선 바이저, 포일 커버, 매트리스 커버, 에어백, 절연재, 매다는 끈, 매다는 끈의 밴드, 전선 피복재, 전기 절연재, 도료, 코팅재, 도배재, 플로어재, 코너 월, 카펫, 벽지, 벽장재, 외장재, 내장재, 지붕재, 데크재, 벽재, 기둥재, 깔판, 담의 재료, 골조 및 조형, 창 및 도어형재, 지붕널, 사이딩, 테라스, 발코니, 방음판, 단열판, 창재 등의 자동차, 차량, 선박, 항공기, 건물, 주택 및 건축용 재료나 토목 재료, 의료, 커튼, 시트, 부직포, 합판, 합성 섬유판, 융단, 현관 매트, 시트, 버킷, 호스, 용기, 안경, 가방, 케이스, 고글, 스키판, 라켓, 텐트, 악기 등의 생활 용품, 스포츠 용품 등의 각종 용도를 들 수 있다. 이 외에, 도료, 화장품 등을 들 수 있다.

또한, 의약품, 비타민제, 드링크제, 안약 등의 약품 용기 ; 화장수, 유액, 자외선 차단제 등의 화장품 용기 ; 식품 용기, 술, 와인, 맥주, 프루츠 주스, 소프트 드링크, 차, 홍차, 커피 등의 음료 용기 ; 샴푸, 린스, 구강 청결액, 치약제, 소독액 등의 일용품 용기 등의 용도도 들 수 있다.

또한, 본 실시형태의 수지 조성물은, 특별히 제한되지 않지만, 시트나 필름 등으로 성형하여, 광학 필름이나 광학 시트 등의 광학 재료로서 바람직하게 사용할 수 있다. 광학 재료로는 예를 들어, 액정 표시 장치 (LCD), 플라즈마 디스플레이 패널 (PDP), 일렉트로 루미네선스 디스플레이 (ELD), 음극관 표시 장치 (CRT), 형광 표시관, 전계 방사형 디스플레이 등의 화상 표시 장치에 사용하는 광학 필름 또는 광학 시트로서 유용하고, 특히 표시 소자에 자외선 내성이 열등한 유기 재료를 사용하는 액정 표시 장치나 유기 EL 디스플레이의 광학 보정 필름, 발광체 보호 필름 등의 광학 필름으로서 유용하다. 액정 표시 장치 용도로는, 편광판 보호 필름 또는 보호 시트, 위상차 필름, 시야각 확대 필름, 방현 필름, 휘도 향상 필름, 광 확산 필름 및 광 확산 시트, 렌즈 필름 및 렌즈 시트, 방담 필름, 대전 방지 필름, 광학 보정 필름, 반사 방지 필름, 색조 조정 필름이나 도광판 등을 들 수 있고, 특히 액정 표시 소자에 접하고 있는 편광판의 외표면측에 설치되는 광학 필름 혹은 광학 시트, 또는, 편광판 보호 필름 혹은 광학 시트에 바람직하게 사용할 수 있다.

이상, 본 발명의 실시형태에 대하여 서술했지만, 이들은 본 발명의 예시이고, 상기 이외의 여러 가지 구성을 채용할 수도 있다.

실시예

이하, 본 발명에 대하여 실시예를 참조하여 상세하게 설명하지만, 본 발명은, 이들 실시예의 기재에 전혀 한정되는 것은 아니다.

[입상 자외선 흡수제의 조제]

(실시예 1)

이하의 순서에 의해 2,4,6-트리스[2-하이드록시-3-메틸-4-헥실옥시페닐]트리아진을 합성하였다.

300 ㎖ 의 4 구 플라스크에 2,4,6-트리스(2,4-디하이드록시-3-메틸페닐)트리아진을 10.00 g, 수산화나트륨을 22.68 g, 디메틸포름아미드를 80.00 g, 1-브로모헥산을 11.07 g 첨가하고, 80 ℃ 까지 승온하고, 9 시간 반응시켰다. 염산을 사용하여 중화 처리를 실시한 후, 수세, 감압 탈용매하고, 잔류물을 톨루엔 : 이소프로필알코올 = 1 : 1 로부터 재결정함으로써, 결정을 얻었다. 그 후, 금속제 플레이트에 용융시킨 목적물 (결정) 을 적하하고, 냉각시킴으로써 플레이크를 얻었다 (용융 고화 처리). 얻어진 플레이크를 유발 분쇄함으로써, 융점 145 ℃ 의 담황색 분말 11.89 g (수율 76 ％) 을 얻었다.

얻어진 화합물 (담황색 분말) 에 대하여, ¹H-NMR 측정을 실시하였다. 하기 분석 결과에 의해 얻어진 담황색 분말은, 하기 식 No. 1 로 나타내는 분말상의 화합물 (입상 자외선 흡수제) 로 동정되었다.

[화학식 8]

(실시예 2)

실시예 1 에서 얻어진 플레이크를, 조 (粗) 분쇄·분급함으로써, 상기 식 No. 1 로 나타내는 과립상의 화합물 (입상 자외선 흡수제) 을 얻었다.

(실시예 3)

이하의 순서에 의해, 2-(4-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-3-하이드록시페녹시)에틸 2-에틸헥사노에이트를 합성하였다.

300 ㎖ 의 4 구 플라스크에 2-(4,6-디페닐-1,3,5-트리아진-2-일)-5-(2-하이드록시에톡시)페놀을 10.00 g, 파라톨루엔술폰산 1 수화물을 0.25 g, 톨루엔을 70.00 g, 2-에틸헥산산을 4.12 g 첨가하여 환류하, 10 시간 반응시켰다. 수세하고, 톨루엔 : 이소프로필알코올 = 1 : 2 로부터 재결정함으로써, 결정을 얻었다. 그 후, 금속제 플레이트에 용융시킨 목적물 (결정) 을 적하하고, 냉각시킴으로써 플레이크를 얻었다 (용융 고화 처리). 얻어진 플레이크를 유발 분쇄함으로써, 융점 108 ℃ 의 담황색 분말 9.56 g (수율 72 ％) 을 얻었다.

얻어진 화합물 (담황색 분말) 에 대하여, ¹H-NMR 측정을 실시하였다. 하기 분석 결과에 의해 얻어진 담황색 분말은, 하기 식 No. 2 로 나타내는 분말상의 화합물로 동정되었다.

얻어진 플레이크를, 조분쇄·분급함으로써, 상기 식 No. 2 로 나타내는 과립상의 화합물 (입상 자외선 흡수제) 을 얻었다.

[화학식 9]

(비교예 1)

실시예 1 에서 얻어진 결정을 톨루엔에 용해시키고, 실온에서 2 주간 정치 (靜置) 함으로써, 입상 결정을 얻었다. 그 후, 분급함으로써 균일한 입도의 분말체로서, 상기 식 No. 1 로 나타내는 분말상의 화합물 (입상 자외선 흡수제) 을 얻었다.

(비교예 2)

실시예 1 에서 얻어진 결정을, 용융 고화 처리를 실시하지 않고, 유발 분쇄함으로써, 상기 식 No. 1 로 나타내는 분말상의 화합물 (입상 자외선 흡수제) 을 얻었다.

이상에 의해 얻어진 입상 자외선 흡수제에 대하여, 이하의 평가 항목에 기초하여 평가를 실시하였다. 평가 결과를 표 1 에 나타낸다.

(압축도)

분말체 특성 평가 장치 (세이신 기업사 제조, 멀티 테스터 MT-02) 를 사용하여, 직경 5 ㎝, 체적 100 ㎤, 원 기둥 형상의 「용기」 를 사용하여, 얻어진 입상 자외선 흡수제 (시료) 의 벌크 밀도를 측정하였다.

먼저, 용기에 시료를 마운팅이 될 때까지 조심스럽게 충전하고, 용기면보다 위에 있는 여분의 시료를 문질러 끊고, 용기 내에 조 (粗) 충전한 시료의 중량을 측정하였다. 이 때, 루스 벌크 밀도 (g/㎤) 를, 용기 내에 조충전된 시료의 중량 (g) ÷ 100 (㎤) 으로부터 산출하였다.

계속해서, 용기에 캡을 장착하고, 18 ㎜ 의 높이로부터 180 회의 조건으로 탭핑을 실시한 후, 용기면보다 위에 있는 여분의 분말체를 문질러 끊고 중량을 측정하였다. 이 때, 타이트 벌크 밀도 (g/㎤) 를, 탭핑 후의 용기 내에 충전된 시료의 중량 (g) ÷ 100 (㎤) 으로부터 산출하였다.

또한, 압축도 (％) 는, 루스 벌크 밀도를 D1 이라고 하고, 타이트 벌크 밀도를 D2 라고 했을 때, 식 : [(D2 - D1)/D2] × 100 에 기초하여 산출하였다. 평가 결과를 표 1 에 나타낸다.

(피드성)

얻어진 입상 자외선 흡수제 1 ㎏ 을 호퍼에 투입하고, 중량식 피더 (K-트론사 제조, 세로 : 25 ㎝ × 외경 : 1.4 ㎝, 홈의 폭 : 2.0 ㎝, 홈의 깊이 : 0.3 ㎝ 의 Twin spiral type 의 2 축 스크루) 를 사용하여, 피더 배출량 : 0.3 ㎏/h 의 조건으로, 30 분간 배출하였다 (피드성 시험).

· 정량성

중량식 피더로부터 배출된 양 (피더량) 을, 10 분 간격으로 시간 경과적으로 측정하였다. 피드량의 편차가 작은 경우를 ○, 피드량의 편차가 큰 경우를 × 라고 하였다.

· 롱런성

배출 시간의 조건을 30 분간으로부터 3 시간으로 변경한 것 이외에는 동일하게 하여, 상기의 피드 시험을 실시하였다. 3 시간 계속 배출했을 경우를 ○, 3 시간 경과 전에 운전이 정지했을 경우를 × 라고 하였다.

(압축 조립성)

롤러 컴팩터 (호소카와 미크론사 제조, 조립기 M-25 형) 를 사용하여, 롤 갭 : 3.2 ㎜, 롤 회전 속도 : 14 rpm 의 조건으로, 얻어진 입상 자외선 흡수제를 압축 조립하여, 판 두께 : 4 ㎜ 의 판상 과립을 얻었다. 얻어진 판상 과립을 분쇄하고, 5 메시의 진동체로 조분말을 제거하고, 이어서 24 메시의 진동체로 미세 분말을 제거한 후 (정립), 24 메시의 진동 체 위에 잔존한 판상의 조립물을 얻었다.

얻어진 조립물에 대하여 외관 관찰을 실시하여, 조립물의 붕괴 정도를 하기의 기준에 기초하여 평가하였다.

10 개 중 10 개의 조립물에 있어서 붕괴를 관찰할 수 없었던 것을 ○ 라고 하고, 10 개 중 1 개 이상 4 개 이하의 조립물에 있어서 일부의 붕괴가 관찰된 것을 △ 라고 하고, 10 개 중 5 개 이상의 조립물의 일부 또는 전체의 붕괴가 관찰된 것을 × 라고 하였다.

또한, 얻어진 실시예 1 ∼ 3, 비교예 2 의 입상 자외선 흡수제에 대하여, X 선 회절 분석을 실시하였다. 평가 결과를 표 2 ∼ 5 에 나타낸다.

(X 선 회절)

얻어진 입상 자외선 흡수제에 대하여, UltimaIV (주식회사 리가쿠) 를 이용하여, 이하의 측정 조건으로, 분말 X 선 회절 측정을 실시하였다.

(측정 조건)

X 선 관구 : CuKα 선 (CuKα1 = 1.540562 Å, CuKα2 = 1.544398 Å, CuKα2 제거 없음)

관 전압/관 전류 : 40 ㎸/40 ㎃

어태치먼트 : 다목적 박막 시료대

모노크로메이터 : 고정

필터 : 없음

발산 슬릿 : 2/3°

발산 세로 제한 슬릿 : 10 ㎜

산란 슬릿 : 1.17 ㎜

수광 슬릿 : 0.3 ㎜

스캔 타입 : 연속 스캔

스캔 스피드 : 4°/min

샘플링 폭 : 0.02°

주사 축 : 2θ/ω

주사 범위 : = 3° ∼ 90°

실시예 1 의 입상 자외선 흡수제에 있어서의 분말 X 선 회절 분석의 결과를 도 1 에 나타낸다. 도 1 의 각 피크에 대응하는 회절각 2θ, d 값, 상대 강도를 표 3 에 나타낸다. 표 3 중, deg 는, °를 나타내고, 피크 강도의 임계값을 극대 피크의 1/100 로 설정하였다.

실시예 2 의 입상 자외선 흡수제에 있어서의 X 선 회절 패턴은, 분말 X 선 회절 분석의 결과, 실시예 1 의 입상 자외선 흡수제의 X 선 회절 패턴과 대략 동일하였다.

실시예 3 의 입상 자외선 흡수제에 있어서의 분말 X 선 회절 분석의 결과를 도 2 에 나타낸다. 도 2 의 각 피크에 대응하는 회절각 2θ, d 값, 상대 강도를 표 4 에 나타낸다. 표 4 중, 피크 강도의 임계값을 극대 피크의 1/100 로 설정하였다.

단, 실시예 3 의 분말 X 선 회절 측정의 측정 조건으로서, 하기의 조건을 채용한 것 이외에는 실시예 1 과 동일하게 하였다.

발산 슬릿 : 1/2°

발산 세로 제한 슬릿 : 10 ㎜

산란 슬릿 : 0.93 ㎜

주사 범위 : = 2° ∼ 60°

비교예 2 의 입상 자외선 흡수제에 있어서의 분말 X 선 회절 분석의 결과를 도 3 에 나타낸다. 도 3 의 각 피크에 대응하는 회절각 2θ, d 값, 상대 강도를 표 5 에 나타낸다. 표 5 중, 피크 강도의 임계값을 1/100 로 설정하였다.

[수지 조성물의 조제]

(필름의 제작)

합성 수지 (폴리카보네이트 수지 : 미츠비시 엔지니어링 플라스틱스 (주) 제조, 제품명 E-2000) 100 질량부에 대하여, 얻어진 각 실시예의 입상 자외선 흡수제를 0.2 질량부 배합한 것을, 용매 (톨루엔/시클로헥산 = 9/1) 230 질량부에 용해시킴으로써, 수지 조성물을 조제하였다. 얻어진 수지 조성물로, 캐스트법에 의해 두께 40 ㎛ 의 필름을 제작하여, 1 변 2 ㎝ 의 정방형의 필름 시험편을 얻었다.

얻어진 필름 시험편을, 선샤인 웨더 미터 (83 ℃, 비 없음, 광원 카본 아크) 로, 240, 360 및 480 시간 후의 전광선 투과율 (％) 의 유지율 (％) 을 측정하여, 내광성을 평가하였다.

240, 360 및 480 시간 후의 유지율 (％) 이 높은 값을 나타낸 결과로부터, 각 실시예의 입상 자외선 흡수제를 사용함으로써, 우수한 내광성을 실현할 수 있는 것을 알 수 있었다.

또한, 합성 수지로서, 폴리카보네이트 수지 대신에, 메타크릴 수지, 노르보르넨 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 또는 폴리스티렌 수지를 사용한 경우에도, 동일하게 우수한 내광성을 실현할 수 있는 것을 알 수 있었다.

(용기의 제작)

폴리에틸렌테레프탈레이트 (고유 점도 : 0.8 ㎗/g) 100 질량부에 대하여, 얻어진 각 실시예의 입상 자외선 흡수제를 0.3 질량부 첨가하여 혼합하여, 수지 조성물을 얻었다. 얻어진 수지 조성물에 대하여, 160 ℃ 의 기어 오븐으로 4 시간 건조 후, 사출 성형기로, 사출 온도 280 ℃ 의 성형 온도에서, 프리폼 (입구 외경 25 ㎜, 중량 23 g) 을 성형하였다. 다음으로, 얻어진 프리폼에 대하여, 금형 온도 130 ℃ 에서 2 축 연신 블로우 성형하여, 용량 500 ㎖, 두께 0.7 ㎜ 의 플라스틱 보틀을 제작하였다. 얻어진 플라스틱 보틀에 대하여, 파장 500 ㎚ 의 가시 광선의 투과율, 파장 400 ㎚ 의 자외선의 투과율을 측정하였다. 파장 500 ㎚ 의 투과율이 높고, 파장 400 ㎚ 의 투과율이 낮은 결과로부터, 얻어진 플라스틱 보틀 (용기) 은, 자외선을 효율적으로 흡수하고, 또한, 가시 광선의 투과성도 충분히 확보되어 있는 것을 알 수 있었다.

(코팅재의 제작)

· 자외선 흡수층

노르보르넨 수지 (JSR (주) 제조, 제품명 : ARTON F5023) 100 질량부에 대하여, 얻어진 각 실시예의 입상 자외선 흡수제를 0.5 질량부, 그리고 용매로서 디클로로메탄 2000 질량부를 혼합하여, 수지 용액 (수지 조성물) 을 얻었다. 얻어진 수지 용액을, 표면 연마한 유리판 위에 바 코터를 사용하여 유연 (流延) 하고, 50 ℃ 에서 20 분의 예비 건조, 90 ℃ 에서 30 분의 건조를 거쳐, 막 두께 80 ∼ 90 ㎛ 의 필름을 제작한 후, 1 변 2 ㎝ 의 정방형의 필름 시험편 (자외선 흡수층) 을 얻었다.

· NIR 흡수층의 제작

노르보르넨 수지 (JSR (주) 제조, 제품명 : ARTON F5023) 100 질량부에 대하여, 근적외선 흡수제로서 디이모늄계 화합물 (닛폰 화약 (주) 제조, 제품명 : IRG-068) 0.3 질량부, 용매로서 디클로로메탄 2000 질량부로 이루어지는 수지 용액을, 표면 연마한 유리판 위에 바 코터를 사용하여 유연하고, 50 ℃ 에서 20 분의 예비 건조, 90 ℃ 에서 30 분의 건조를 거쳐, 막 두께 50 ∼ 60 ㎛ 의 필름을 제작한 후, 1 변 2 ㎝ 의 정방형의 필름 시험편을 얻었다.

얻어진 NIR 흡수층 및 자외선 흡수층을 중합한 시험편에 대하여, 선샤인 웨더 미터 (스가 시험기 주식회사 제조 ; 83 ℃, 비 없음, 광원 카본 아크) 로, 자외선 흡수층측으로부터 시험 광이 닿도록 하여, 360 (또는 540) 시간 노출하였다. 내광 시험 전후의 NIR 영역의 극대 파장 (NIR 흡수층 : 1100 ㎚) 에 있어서의 투과율을 측정하고, 투과율의 감쇠율 (Δ 투과율) 에 의해 내광성 평가를 실시하였다.

각 실시예에 있어서, Δ 투과율을 저감시킬 수 있었던 결과로부터, 근적외선 흡수제의 광 열화에 대하여 효과를 나타내는 것이 확인되었다. 이에 의해, 근적외선 흡수층에 있어서의 근적외선 흡수제의 광 열화 방지가 우수한 것을 알 수 있었다.

실시예 1 ∼ 3 의 입상 자외선 흡수제는, 비교예 1 과 비교하여 압축 조립성이 우수하고, 비교예 2 와 비교하여 피드성이 우수한 것으로부터, 양호한 분말체 특성을 나타내는 것을 알 수 있었다. 또한, 실시예 1 ∼ 3 의 화합물은, 자외선 흡수 특성이 우수하기 때문에, 자외선 흡수제로서 바람직하게 이용할 수 있는 것을 알 수 있었다.

이 출원은, 2018년 3월 30일에 출원된 일본 특허출원 2018-067807호 및 2018년 3월 30일에 출원된 일본 특허출원 2018-067830호를 기초로 하는 우선권을 주장하고, 그 개시의 모두를 여기에 받아들인다.

Claims

트리아진계 화합물을 포함하는 입상 자외선 흡수제로서,
하기의 측정 조건에 기초하여 측정되는, 루스 벌크 밀도를 D1 이라고 하고, 타이트 벌크 밀도를 D2 라고 했을 때, [(D2 - D1)/D2] × 100 으로 나타내는 압축도가 5.0 ％ 이상 40 ％ 이하인, 입상 자외선 흡수제.
(측정 조건)
당해 입상 자외선 흡수제를 소정 용기에 충전하고, 탭핑하지 않고 문질러 끊은 후, 상기 용기 중의 당해 입상 자외선 흡수제에 있어서의, 상기 루스 벌크 밀도 (g/㎤) 를 측정한다.
또한, 당해 입상 자외선 흡수제를 소정 용기에 충전하고, 18 ㎜ 의 높이로부터 180 회의 조건으로 탭핑하고, 문질러 끊은 후, 상기 용기 중의 당해 입상 자외선 흡수제에 있어서의, 상기 타이트 벌크 밀도 (g/㎤) 를 측정한다.
제 1 항에 있어서,
상기 트리아진계 화합물이, 하기 일반식 (I) 로 나타내는 화합물을 포함하는, 입상 자외선 흡수제.

[상기 일반식 (I) 중,
R¹ 은, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소 원자수 3 ∼ 20 의 시클로알킬기, 탄소 원자수 6 ∼ 20 의 아릴기, 탄소 원자수 7 ∼ 20 의 알킬아릴기, 탄소 원자수 7 ∼ 20 의 아릴알킬기, 탄소 원자수 2 ∼ 8 의 알케닐기, 또는 하기 일반식 (II) 로 나타내는 치환기를 나타내고,
R² 및 R³ 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기, 또는 -O-R 을 나타내고, 이 R 은, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소 원자수 3 ∼ 20 의 시클로알킬기, 탄소 원자수 6 ∼ 20 의 아릴기, 탄소 원자수 7 ∼ 20 의 알킬아릴기, 또는 탄소 원자수 7 ∼ 20 의 아릴알킬기를 나타내고,
R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R¹⁰, R¹¹ 및 R¹² 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기 또는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 2 ∼ 8 의 알케닐기를 나타내고,
R¹³ 및 R¹⁴ 는, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 하이드록시기를 나타낸다.
단, R¹, R², R³ 및 R 로 나타내는 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기, R⁴, R⁵, R⁶, R⁷, R⁸, R⁹, R¹⁰, R¹¹ 및 R¹² 로 나타내는 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기 중의 메틸렌기는, 산소 원자, 황 원자, 탄소-탄소 이중 결합, -CO-, -CO-O-, -OC-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CR⁰¹=N- 및 -N=CR⁰²- 에서 선택되는 적어도 1 이상의 구조로 치환되어 있어도 되고, 상기 구조 중의 R⁰¹ 및 R⁰² 는, 각각 독립적으로, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기를 나타낸다.]

[상기 일반식 (II) 중,
R²¹ 및 R²² 는, 각각 독립적으로, 수소 원자, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기, 또는, -O-R 을 나타내고, 이 R 은, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소 원자수 3 ∼ 20 의 시클로알킬기, 탄소 원자수 6 ∼ 20 의 아릴기, 탄소 원자수 7 ∼ 20 의 알킬아릴기, 또는 탄소 원자수 7 ∼ 20 의 아릴알킬기를 나타내고,
R²³, R²⁴, R²⁵, R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰ 및 R³¹ 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 할로겐 원자, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기, 또는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 2 ∼ 8 의 알케닐기를 나타내고,
R³² 및 R³³ 은, 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 하이드록시기를 나타내고,
X¹ 은, 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 8 이상 30 이하의 알킬렌기를 나타내고,
Y¹ 및 Y² 는, 각각 독립적으로, -CO-O-, -O-CO-, -L¹-, -O-L¹O-, -O-L¹-, -L¹-O-CO-, -L¹-CO-O-, -CO-CH=CH-, -CH=CH-CO-, -CH=CH-CO-O-, -CH=CH-O-CO-, -CO-O-CH=CH- 를 나타내고,
L¹ 은, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬렌기이고,
m 및 n 은, 각각 독립적으로, 0 ∼ 8 의 정수를 나타내고,
* 는, 식 (I) 중의 R¹ 과 연결하는 산소 원자와의 결합손을 나타낸다.
단, R²¹, R²² 및 R 로 나타내는 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기, R²³, R²⁴, R²⁵, R²⁶, R²⁷, R²⁸, R²⁹, R³⁰ 및 R³¹ 로 나타내는 상기 치환 또는 무치환의, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기 및 X¹ 로 나타내는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 8 이상 30 이하의 알킬렌기 중의 메틸렌기는, 산소 원자, 황 원자, 탄소-탄소 이중 결합, -CO-, -CO-O-, -OC-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CR⁰³=N- 및 -N=CR⁰⁴- 에서 선택되는 적어도 1 이상의 구조로 치환되어 있어도 되고, R⁰³ 및 R⁰⁴ 는, 각각 독립적으로, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기를 나타낸다.]
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 트리아진계 화합물이, 하기 일반식 (A) 로 나타내는 화합물을 포함하는, 입상 자외선 흡수제.

(상기 일반식 (A) 중,
R^A1 은, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 12 의 알킬기, 탄소 원자수 3 ∼ 8 의 시클로알킬기, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 3 ∼ 8 의 알케닐기, 탄소 원자수 6 ∼ 18 의 아릴기, 탄소 원자수 7 ∼ 18 의 알킬아릴기 또는 탄소 원자수 7 ∼ 18 의 아릴알킬기를 나타내고,
R^A2 및 R^A3 은, 서로 동일해도 되고 상이해도 되고, 수소 원자, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 12 의 알킬기, 혹은, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 12 의 알콕시기를 나타내고,
R^A4, R^A7, R^A10 은, 서로 동일해도 되고 상이해도 되고, 수소 원자, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기 또는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 3 ∼ 8 의 알케닐기를 나타내고,
R^A13 및 R^A17 은, 서로 동일해도 되고 상이해도 되고, 수소 원자 또는 하이드록시기를 나타낸다.
단, R^A1, R^A2 및 R^A3 으로 나타내는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 12 의 알킬기, R^A2 및 R^A3 으로 나타내는 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 12 의 알콕시기 중의 메틸렌기는, 산소 원자, 황 원자, 탄소-탄소 이중 결합, -CO-, -CO-O-, -OC-O-, -CO-NH-, -NH-CO-, -CR⁰⁵=N- 및 -N=CR⁰⁶- 에서 선택되는 적어도 1 이상의 구조로 치환되어 있어도 되고, 상기 구조 중의 R⁰⁵ 및 R⁰⁶ 은, 각각 독립적으로, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 8 의 알킬기를 나타낸다.)
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 트리아진계 화합물이, 하기의 화합물 No. 1A 내지 화합물 No. 8A 의 어느 것으로 나타내는 1 또는 2 이상의 화합물을 포함하는, 입상 자외선 흡수제.
제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 트리아진계 화합물이, 하기 일반식 (B) 로 나타내는 화합물을 포함하는, 입상 자외선 흡수제.

(상기 일반식 (B) 중, R^B4, R^B5, R^B7 ∼ R^B9, R^B10 ∼ R^B12, R^B23, R^B24, R^B26 ∼ R^B28, R^B29 ∼ R^B31 은, 각각 독립적으로, 수소 원자, 하이드록시기, 할로겐 원자, 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기, 탄소 원자수 2 ∼ 20 의 알케닐기, 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알콕시기, 탄소 원자수 6 ∼ 20 의 아릴기를 나타내고, n 은 8 ∼ 14 의 정수를 나타낸다. 단, 트리아진 고리와 연결하는 3 개의 벤젠 고리 중 2 개의 벤젠 고리의 파라 위치는, 수소 원자, 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알킬기 또는 탄소 원자수 1 ∼ 20 의 알콕시기를 나타내고, 또한, 오르토 위치의 1 개는, 수소 원자 또는 하이드록시기를 나타낸다.)
제 5 항에 있어서,
상기 트리아진계 화합물이, 하기의 화합물 No. 1B 내지 화합물 No. 4B 의 어느 것으로 나타내는 1 또는 2 이상의 화합물을 포함하는, 입상 자외선 흡수제.

(상기 화합물 No. 1B 내지 화합물 No. 4B 중, R^A1, R^A2, R^B1, R^B2, R^C1, R^C2, R^D1 및 R^D2 는, 서로 동일해도 되고 상이해도 되고, 수소 원자, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 4 의 알킬기, 혹은, 직사슬 또는 분기의 탄소 원자수 1 ∼ 4 의 알콕시기를 나타낸다.)
제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 루스 벌크 밀도 D1 이, 0.20 g/㎤ 이상 0.70 g/㎤ 이하인, 입상 자외선 흡수제.
제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 타이트 벌크 밀도 D2 가, 0.40 g/㎤ 이상 0.90 g/㎤ 이하인, 입상 자외선 흡수제.
제 2 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 트리아진계 화합물이, 분말 X 선 회절 분석 패턴에 있어서, 회절각 2θ 가 5.00°이상 6.50°이하의 범위 내에 극대 피크를 갖는 것을 특징으로 하는, 입상 자외선 흡수제.
제 9 항에 있어서,
상기 트리아진계 화합물의 극대 피크의 반치폭이, 0.05°이상 0.20°이하인, 입상 자외선 흡수제.
제 9 항 또는 제 10 항에 있어서,
상기 트리아진계 화합물의 극대 피크의 상대 강도를 100 으로 했을 때, 당해 상대 강도 30 이상 60 이하의 회절 피크가, 회절각 2θ 가 3.0°이상 45.0°이하의 범위 내에 존재하지 않는 것을 특징으로 하는, 입상 자외선 흡수제.
제 9 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 트리아진계 화합물의 극대 피크의 상대 강도를 100 으로 했을 때, 당해 상대 강도 1 이상 5 이하의 회절 피크가, 회절각 2θ 가 45.0°초과 60.0°이하의 범위 내에 존재하지 않는 것을 특징으로 하는, 입상 자외선 흡수제.
제 1 항 내지 제 12 항 중 어느 한 항에 기재된 입상 자외선 흡수제를 함유하는, 수지 조성물.
제 13 항에 있어서,
합성 수지를 함유하는, 수지 조성물.