JP2001323251A - 顆粒状紫外線吸収剤の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤につい
て、取扱作業中の粉塵発生のない充分な強度を有し、バ
インダー等の不純物を含まない顆粒状紫外線吸収剤を供
給すること。 【解決手段】 一般式（Ｉ）で表されるベンゾトリアゾ
ール系紫外線吸収剤をその１〜５０％質量の混練媒体と
混合して造粒した後、乾燥によって混練媒体を除去する
ことを特徴とする顆粒状ベンゾトリアゾール系紫外線吸
収剤の製造方法。 【化１】 （式中、ｎは１又は２を、Ｒ¹はｎが１の場合は水素原
子、炭素数１〜１８のアルキル基等を表し、ｎが２の場
合は炭素数１〜８のアルキレン基を表し、Ｒ²は水素原
子、炭素数１〜１８のアルキル基等を表し、Ｒ³或いは
Ｒ⁴は、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１
〜１８のアルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキ
シ基、アラルキル基を表し、またＲ³とＲ⁴は連結してベ
ンゼン環を形成してもよい。）

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、ベンゾトリアゾー
ル系紫外線吸収剤を造粒して、顆粒状製品を得る方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術および発明が解決しようとする課題】２−
（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール骨格
を有する化合物は、２６０〜３８０ｎｍに大きな吸収を
有し、種々の合成樹脂化合物を変質、分解させる紫外線
を運動エネルギーや熱エネルギーに変換する性質を有
し、優れた合成樹脂用の紫外線吸収剤として広く利用さ
れている。

【０００３】一方、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
に限らず、各種の合成樹脂用の添加剤は、５０℃以下で
固体の場合には通常、反応によって得られる化合物を有
機溶媒で晶析し、結晶を濾過した後に乾燥する方法又は
反応系を濃縮し得られた固形分を粉砕する方法により製
造されている。そして、こうして得られる粉体がそのま
ま製品として販売されることが多い。しかし粉体状の製
品では、粉塵が発生しやすいため、作業環境を汚染した
り、作業者が製品を吸入するおそれがあるといった取扱
上の問題がある。

【０００４】上記の問題に対して、粉体に少量の鉱油ま
たは鉱油エマルジョン（通常ダストレス化剤と呼ばれ
る）を添加して、発塵性を抑える方法が知られている。
しかしながらダストレス化剤を添加した場合、発塵性は
抑制できても、製品の流動性が悪く、最近の自動化され
た秤量機には適用が困難であるという欠点がある。又、
現在、乾燥コンパクト化装置及びペレットミルによる粒
化システムやワックス、パラフィン、ステラミド、ポリ
ビニルアルコール、カルボキシメチルセルロースナトリ
ウム、でん粉等のバインダーを使用する方法が検討され
ているが、上記粒化システムによる粒状物は機械的強度
が小さく砕けやすいので浮遊粉塵が発生し易く、また合
成樹脂への均一混合の点で不充分である。また、バイン
ダーの使用は合成樹脂中に不要な化合物が混入するので
好ましくない。

【０００５】バインダーを使用しない又はバインダーが
残留しない顆粒化技術としては、例えば、溶融造粒法や
圧縮造粒法がある。しかし、溶融造粒法は、添加剤をそ
の融点以上に加熱する必要があるために、融点の高い粉
体を加工する場合、変色等の変質が起こるという問題点
があり、圧縮造粒法は、得られる顆粒の強度が不足する
問題点がある。これらに対し、押出造粒法が提案されて
いる。これは、原料粉体と混練媒体を混練して押出造粒
機にかけ、円柱状の造粒物を得る方法であり、得られる
造粒物は、乾燥して混練媒体を除去し、製品とされる。
例えば特許第３００６０６０号に２，２，６，６−テト
ラメチルピペリジン系光安定化剤のイソプロピルアルコ
ールを用いた造粒法が記載されている。しかし、これに
は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤についての記載
はなく、また、得られる顆粒状添加剤の機械的強度につ
いては不充分であり、粉塵発生の問題解決には満足でき
るものを与えてはいない。

【０００６】従って、本発明の目的は、ベンゾトリアゾ
ール系紫外線吸収剤について、取扱作業中の粉塵発生の
ない充分な強度を有し、バインダー等の不純物を含まな
い顆粒状紫外線吸収剤を供給することにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明者等は、上記課題
を解決するため検討を重ねた結果、特定の混練媒体を使
用することにより、上記問題を解決できることを見出し
本発明に到達した。

【０００８】

【発明の実施の形態】本発明の第１は、下記一般式
（Ｉ）で表されるベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を
該紫外線吸収剤に対して１〜５０％質量の混練媒体と混
合して造粒した後、乾燥によって混練媒体を除去するこ
とを特徴とする顆粒状ベンゾトリアゾール系紫外線吸収
剤の製造方法に関する。

【０００９】

【化３】 （式中、ｎは１又は２を表し、Ｒ¹は、ｎが１の場合は
水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、アリール基、
アラルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基又
は−ＲＣＯＯＲ’を表し、ｎが２の場合は炭素数１〜８
のアルキレン基を表し、Ｒ²は、水素原子、炭素数１〜
１８のアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキ
ルオキシ基、アリールオキシ基又は−ＲＣＯＯＲ’を表
し、Ｒは、炭素数１〜８のアルキレン基を表し、Ｒ’は
炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ³或いはＲ⁴は、各
々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１８のア
ルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラ
ルキル基を表し、またＲ³とＲ⁴は、連結してベンゼン環
を形成してもよい。） また本発明の第２は、混練媒体が、芳香族系炭化水素を
含有するものである本発明の第１の顆粒状ベンゾトリア
ゾール系紫外線吸収剤の製造方法に関する。また本発明
の第３は、混練媒体が、キシレンを含有するものである
本発明の第１又は２の顆粒状ベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤の製造方法に関する。また本発明の第４は、造
粒を押出装置又はディスクペレッターにより行う本発明
の第１〜３の顆粒状ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
の製造方法に関する。また本発明の第５は、ベンゾトリ
アゾール系紫外線吸収剤が、下記式で表される化合物で
ある本発明の第１〜４の顆粒状ベンゾトリアゾール系紫
外線吸収剤の製造方法に関する。

【化４】

【００１０】本発明に係る上記の一般式（Ｉ）で表され
る化合物は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤とし
て、塗料、繊維、成形体、フィルム等に用いられる合成
樹脂に耐光性を付与する目的で用いられるものである。

【００１１】上記一般式（Ｉ）において、Ｒ¹で表され
る炭素数１〜１８のアルキル基としては、メチル、エチ
ル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第
三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミ
ル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘプチル、イソヘプチ
ル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三
オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、
デシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタ
デシル、ヘキサデシル、ペプタデシル、オクタデシル等
が挙げられ、炭素数１〜１８のアリール基としては、フ
ェニル、ナフチル、２−メチルフェニル、３−メチルフ
ェニル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３
−イソプロピルフェニル、４−イソプロピルフェニル、
４−ブチルフェニル、４−イソブチルフェニル、４−第
三ブチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−シクロ
ヘキシルフェニル、４−オクチルフェニル、４−（２−
エチルヘキシル）フェニル、４−ステアリルフェニル、
２，３−ジメチルフェニル（キシリル）、２，４−ジメ
チルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジ
メチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−
ジメチルフェニル、２，４−ジ第三ブチルフェニル、
２，５−ジ第三ブチルフェニル、２，６−ジ−第三ブチ
ルフェニル、２，４−ジ第三アミルフェニル、２，５−
ジ第三アミルフェニル、２，４，５−トリメチルフェニ
ル等が挙げられ、炭素数１〜１８のアラルキル基として
は、ベンジル、フェネチル、２−フェニルプロパン−２
−イル、ジフェニルメチル等が挙げられ、炭素数１〜１
８のアルキルオキシ基としては、メチルオキシ、エチル
オキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチル
オキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブ
チルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、第三ア
ミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、
ｎ−オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、第三オクチ
ルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、
デシルオキシ、ドデシルオキシ、テトラデシルオキシ、
ヘキサデシルオキシ、オクタデシルオキシ等が挙げら
れ、アリールオキシ基としては、フェニルオキシ、ナフ
チルオキシ、２−メチルフェニルオキシ、３−メチルフ
ェニルオキシ、４−メチルフェニルオキシ、３−イソプ
ロピルフェニルオキシ等が挙げられ、−ＲＣＯＯＲ’中
のＲで表される炭素数１〜８のアルキレン基としては、
メチレン、エチレン、プロピレン、１−メチルエチレ
ン、２−メチルエチレン、ブチレン、１−メチルプロピ
レン、２−メチルプロピレン、３−メチルプロピレン、
１，２−ジメチルプロピレン、１，３−ジメチルプロピ
レン、ブチレン、１−メチルブチレン、２−メチルブチ
レン、３−メチルブチレン、４−メチルブチレン、２，
４−ジメチルブチレン、１，３−ジメチルブチレン、ペ
ンチレン、へキシレン、ヘプチレン、オクチレン等が挙
げられ、Ｒ’で表される炭素数１〜８のアルキル基とし
ては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イ
ソアミル、第三アミル、ヘキシル、シクロヘキシル、ヘ
プチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、
イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル等が
挙げられ、ｎが２の場合のアルキレン基としては、Ｒと
同様の基が挙げられる。

【００１２】また、Ｒ²としては、ｎが１の場合のＲ¹と
同様の基が挙げられ、Ｒ³或いはＲ⁴で表されるハロゲン
原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げら
れ、炭素数１〜１８のアルキル基、アラルキル基、アル
キルオキシ基、アリールオキシ基としては、上記Ｒ¹或
いはＲ²と同様の基が挙げられる。

【００１３】上記の一般式（Ｉ）で表されるベンゾトリ
アゾール系紫外線吸収剤の具体例としては、ｎが１の場
合は、以下に例示のものが挙げられる。

【００１４】

【化５】

【００１５】また、ｎが２の場合は、以下に例示のもの
が挙げられる。

【００１６】

【化６】

【００１７】上記例示のベンゾトリアゾール系紫外線吸
収剤の中でも、下記化合物が、特に強度について良好な
顆粒物性を示すので好ましい。

【００１８】

【化７】

【００１９】本発明の顆粒状ベンゾトリアゾール系紫外
線吸収剤の製造方法とは、（１）混合工程、（２）造粒
工程、（３）乾燥工程からなるものであり、その結果、
作業中の粉塵発生のない充分な強度を有する顆粒状紫外
線吸収剤を得ることができるものである。

【００２０】本発明の製造方法において、上記の（１）
混合工程は、上記の紫外線吸収剤と該紫外線吸収剤の１
〜５０％質量の混練媒体を混合する工程を指し、その方
法については、特に制限を受けずに周知一般の方法を用
いることができる。該混合方法としては、例えば、ニー
ダーやヘンシェルミキサー等の混練機を用いる方法が挙
げられる。

【００２１】また、上記の（１）混合工程において、使
用される混練媒体としては、メタノール、エタノール、
２−プロパノール、ｎ−ブタノール、第二ブタノール、
第三ブタノール、アミルアルコール、オクタノール等の
アルコール類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸メトキシ
エチル等の酢酸エステル類、エチレングリコールモノメ
チルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコー
ル類；テトラヒドロフラン、エチレングリコールジメチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、
トリエチレングリコールジメチルエーテル、ジブチルエ
ーテル等のエーテル類；メチルブチルケトン、メチルイ
ソブチルケトン、エチルブチルケトン、ジプロピルケト
ン、ジイソブチルケトン、メチルアミルケトン、シクロ
ヘキサノン、メチルシクロヘキサノン等のケトン類；ヘ
キサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ヘプ
タン、オクタン、デカン等の脂肪族及び脂環式炭化水素
類；トルエン、キシレン、クメン等の芳香族炭化水素
類；水等の乾燥により容易に除去可能な液体が挙げら
れ、これらは、一種類又は二種類以上混合で用いること
ができ、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤に対する溶
解性や製造工程中の安全性により適宜選択される。

【００２２】混練溶媒中に該紫外線吸収剤に対し溶解性
を有するものが最低一種類含まれると、混練及び／又は
造粒工程で粒子の表面溶解により密着性が増加し、機械
的強度の大きい顆粒が得られる効果がある。この効果が
特に顕著なので、芳香族炭化水素類が好ましく、キシレ
ンがより好ましい。また、２−プロパノール等の極性溶
媒を用いると顆粒の表面帯電を防止することができる。

【００２３】上記の混練媒体の使用量は、ベンゾトリア
ゾール系紫外線吸収剤に対して１質量％未満であると得
られる顆粒の機械的強度が不足するので１質量％以上で
あり、５０質量％を超えると、流動性が低くなり造粒が
困難になる、また乾燥工程に時間がかかるので５０質量
％以下である。特に、得られる顆粒の機械的な強度、造
粒に適する流動性が得られるので５〜４０質量％、更に
は１０〜２０質量％が好ましい。

【００２４】本発明の製造方法において、上記の（２）
造粒工程は、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤と混練
媒体の混合物を加圧して造粒する方法であれば、方法、
装置、温度等の製造条件により制限を受けることはなく
周知一般の方法、成形装置を用いることができる。該造
粒方法としては、製造された顆粒状添加剤の強度が特に
良好なのでディスクペレッター法、押出法が好ましい。
また、造粒装置のシリンダー温度については、特に加温
する必要がないが、必要に応じて使用する混練媒体の沸
点以下に加温してもよい。

【００２５】本発明の製造方法において、上記（３）乾
燥工程は、特に制限を受けずに加熱、送風、減圧等によ
る周知一般の方法を用いることができる。

【００２６】本発明の製造方法により得られる顆粒状紫
外線吸収剤は、塗料、繊維、成形体、フィルム等の合成
樹脂の耐光性付与剤として使用される場合に必要に応じ
て、以下に例示する他の添加剤と共に使用してもよい。
該添加剤は、合成樹脂中にそれぞれを個別に添加して用
いてもよく、顆粒状紫外線吸収剤中に予め含有させてお
いてもよい。

【００２７】ヒンダードアミン系光安定剤：２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステアレート、
１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルス
テアレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペ
リジルベンゾエート、ビス（２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケー
ト、ビス（１−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメ
チル−４−ピペリジル）セバケート、１，２，２，６，
６−ペンタメチル−４−ピペリジルメチルメタクリレー
ト、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメ
チルメタクリレート、テトラキス（２，２，６，６−テ
トラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタ
ンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，
６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，
３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ビス
（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボ
キシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル
−４−ピペリジル）・ビス（トリデシル）−１，２，
３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，
２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２
−ブチル−２−（３，５−ジ第三−ブチル−４−ヒドロ
キシベンジル）マロネート、１−（２−ヒドロキシエチ
ル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノ
ール／コハク酸ジエチル重縮合物、１，６−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘ
キサン／ジブロモエタン重縮合物、１，６−ビス（２，
２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘ
キサン／２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−ｓ−トリ
アジン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テト
ラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−
ジクロロ−６−第三オクチルアミノ−ｓ−トリアジン重
縮合物、１，５，８，１２−テトラキス[２，４−ビス
（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−
４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イ
ル]−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，
５，８，１２−テトラキス[２，４−ビス（Ｎ−ブチル
−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペ
リジル）アミノ）−ｓ−トリアジン−６−イル]−１，
５，８，１２−テトラアザドデカン、１，６，１１−ト
リス[２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，
６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−ｓ−ト
リアジン−６−イルアミノ]ウンデカン、１，６，１１
−トリス[２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，
２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）
−ｓ−トリアジン−６−イルアミノ]ウンデカン、３，
９−ビス〔１，１−ジメチル−２−[トリス（２，２，
６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニ
ルオキシ）ブチルカルボニルオキシ]エチル〕−２，
４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカ
ン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−[トリス
（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル
オキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ]エ
チル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．
５〕ウンデカン等。

【００２８】紫外線吸収剤：２，４−ジヒドロキシベン
ゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェ
ノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノ
ン、５，５’−メチレンビス（２−ヒドロキシ−４−メ
トキシベンゾフェノン）等の２−ヒドロキシベンゾフェ
ノン類；２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニ
ル）−４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、
２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシロキシフェニル）−
４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン、２−
（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）−４，６
−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−ト
リアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−（３−Ｃ１２〜
１３混合アルコキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェ
ニル〕−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２−〔２−ヒドロキシ−４−
（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル〕−４，
６−ビス（４−メチルフェニル）−１，３，５−トリア
ジン、２−（２，４−ジヒドロキシ−３−アリルフェニ
ル）−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−
１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（２−ヒ
ドロキシ−３−メチル−４−ヘキシロキシフェニル）−
１，３，５−トリアジン等の２−（２−ヒドロキシフェ
ニル）−４，６−ジアリール−１，３，５−トリアジン
類；フェニルサリシレート、レゾルシノールモノベンゾ
エート、２，４−ジ第三ブチルフェニル−３，５−ジ第
三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル
−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエー
ト、ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シ）ベンゾエート等のベンゾエート類；２−エチル−
２’−エトキシオキザニリド、２−エトキシ−４’−ド
デシルオキザニリド等の置換オキザニリド類；エチル−
α−シアノ−β，β−ジフェニルアクリレート、メチル
−２−シアノ−３−メチル−３−（ｐ−メトキシフェニ
ル）アクリレート等のシアノアクリレート類；各種の金
属塩又は金属キレート、特にニッケル又はクロムの塩又
はキレート類等。

【００２９】リン系抗酸化剤：トリフェニルホスファイ
ト、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファ
イト、トリス（２，５−ジ第三ブチルフェニル）ホスフ
ァイト、トリス（ノニルフェニル）ホスファイト、トリ
ス（ジノニルフェニル）ホスファイト、トリス（モノ、
ジ混合ノニルフェニル）ホスファイト、ジフェニルアシ
ッドホスファイト、２，２'−メチレンビス（４，６−
ジ第三ブチルフェニル）オクチルホスファイト、ジフェ
ニルデシルホスファイト、ジフェニルオクチルホスファ
イト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホ
スファイト、フェニルジイソデシルホスファイト、トリ
ブチルホスファイト、トリス（２−エチルヘキシル）ホ
スファイト、トリデシルホスファイト、トリラウリルホ
スファイト、ジブチルアシッドホスファイト、ジラウリ
ルアシッドホスファイト、トリラウリルトリチオホスフ
ァイト、ビス（ネオペンチルグリコール）・１，４−シ
クロヘキサンジメチルジホスフィト、ビス（２，４−ジ
第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファ
イト、ビス（２，５−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエ
リスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブ
チル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホ
スファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタ
エリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエ
リスリトールジホスファイト、テトラ（Ｃ１２−１５混
合アルキル）−４，４’−イソプロピリデンジフェニル
ホスファイト、ビス[２，２’−メチレンビス(４，６−
ジアミルフェニル)]・イソプロピリデンジフェニルホス
ファイト、テトラトリデシル・４，４’−ブチリデンビ
ス(２−第三ブチル−５−メチルフェノール)ジホスファ
イト、ヘキサ（トリデシル）・１，１，３−トリス（２
−メチル−５−第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）
ブタン・トリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第
三ブチルフェニル）ビフェニレンジホスホナイト、トリ
ス（２−〔（２，４，７，９−テトラキス第三ブチルジ
ベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピン
−６−イル）オキシ〕エチル）アミン、９，１０−ジハ
イドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−
１０−オキサイド、２−ブチル−２−エチルプロパンジ
オール・２，４，６−トリ第三ブチルフェノールモノホ
スファイト等。

【００３０】フェノール系抗酸化剤：２，６−ジ第三ブ
チル−ｐ−クレゾール、２，６−ジフェニル−４−オク
タデシロキシフェノール、ステアリル（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ジ
ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベ
ンジル）ホスホネート、トリデシル・３，５−ジ第三ブ
チル−４−ヒドロキシベンジルチオアセテート、チオジ
エチレンビス［（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェニル）プロピオネート］、４，４’−チオビス
（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２−オクチルチ
オ−４，６−ジ（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シフェノキシ）−ｓ−トリアジン、２，２’−メチレン
ビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、ビス
[３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェ
ニル）ブチリックアシッド]グリコールエステル、４，
４’−ブチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノー
ル）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチ
ルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４
−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス
[２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ
−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル]テ
レフタレート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル
−３−ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシア
ヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル
−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，
３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキ
シベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，
３，５−トリス[（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロ
キシフェニル）プロピオニルオキシエチル]イソシアヌ
レート、テトラキス[メチレン−３−（３，５−ジ第三
ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート]メ
タン、２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクロ
イルオキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フ
ェノール、３，９−ビス[２−（３−第三ブチル−４−
ヒドロキシ−５−メチルヒドロシンナモイルオキシ）−
１，１−ジメチルエチル]−２，４，８，１０−テトラ
オキサスピロ［５．５］ウンデカン]、トリエチレング
リコールビス［β−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ
−５−メチルフェニル）プロピオネート］等。

【００３１】硫黄系抗酸化剤：チオジプロピオン酸のジ
ラウリル、ジミリスチル、ミリスチルステアリル、ジス
テアリルエステル等のジアルキルチオジプロピオネート
類及びペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメル
カプトプロピオネート）等のポリオールのβ−アルキル
メルカプトプロピオン酸エステル類等。

【００３２】その他：重金属不活性剤、ｐ−第三ブチル
安息香酸アルミニウム、ジベンジリデンソルビトール、
金属石けん、ハイドロタルサイト、ノニオン系界面活性
剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両
性界面活性剤等からなる帯電防止剤、ハロゲン系、リン
系、金属酸化物、フッ化樹脂等の難燃剤、エチレンビス
アルキルアマイド等の滑剤、染料、顔料等の着色剤、造
核剤、結晶促進剤等の結晶化剤、加工助剤、充填剤等。

【００３３】

【実施例】以下、実施例及び評価例をもって本発明を更
に詳細に説明する。しかしながら、本発明は以下の実施
例及び評価例によって何ら制限を受けるものではない。

【００３４】（実施例）下記表１に示す配合により、顆
粒状ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤を製造した。造
粒は、Ａ法：双腕ニーダー混練、ディスクペレッター
（不二パウダル株式会社製Ｆ−５型）、ダイス（孔径
３．０ｍｍ）、ペレットサイズ；直径３．０ｍｍ、長さ
６〜７ｍｍ、Ｂ法：混練押出機（株式会社池貝製ＰＣＭ
４６型）、ダイス（孔径２．５ｍｍ）、ペレットサイ
ズ；直径２．５ｍｍ、長さ５〜７ｍｍにより常温で行
い、乾燥は、流動型乾燥機を用いて８０℃にて送風乾燥
を２時間行った。

【００３５】

【表１】

【００３６】（評価例）上記の実施例により得られた顆
粒状紫外線吸収剤について以下の評価を行った。結果を
表２に示す。 （１）混合媒体含有量の測定 キシレンのみを使用したものについては、ＨＰＬＣによ
りキシレン量の測定を行い、キシレンと２−プロパノー
ルを使用したものについては１２０℃、１０ｔｏｒｒ、
３時間の減圧乾燥を行い質量変化率を測定した。 （２）粒度分布の評価 全試料の質量に対して、１２メッシュのふるいを通過し
ない試料の質量の割合（％）により評価した。 （３）顆粒強度の評価 粉化率：５００ｍｌポリ容器に３２メッシュのふるい
を通過しない試料を１００ｇ入れ、振幅４０ｍｍ、振と
う速度３００サイクル／分で２時間振とうした後、４２
メッシュのふるいを通過した質量％により評価した。 硬度：木屋式手動硬度計を使用し、粒子１個が破壊さ
れる時の力により評価した。 尚、比較試料１及び２は、上記の顆粒状紫外線吸収剤の
原料の粉体を用いたものであり、番号は上記表１欄外の
紫外線吸収剤１および２に対応する。

【００３７】

【表２】

【００３８】

【発明の効果】本発明は、ベンゾトリアゾール系紫外線
吸収剤について作業中の粉塵発生のない充分な強度を有
し、バインダー等の不純物を含まない顆粒状紫外線吸収
剤を供給できる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 飛田 悦男 埼玉県浦和市白幡５丁目２番13号 旭電化 工業株式会社内 (72)発明者 山田 芳雄 埼玉県浦和市白幡５丁目２番13号 旭電化 工業株式会社内 Ｆターム(参考） 4G004 AA02 AA03 LA00 LA09 NA04

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 下記一般式（Ｉ）で表されるベンゾトリ
   アゾール系紫外線吸収剤を該紫外線吸収剤の１〜５０％
   質量の混練媒体と混合して造粒した後、乾燥によって混
   練媒体を除去することを特徴とする顆粒状ベンゾトリア
   ゾール系紫外線吸収剤の製造方法。 【化１】 （式中、ｎは１又は２を表し、Ｒ¹は、ｎが１の場合は
   水素原子、炭素数１〜１８のアルキル基、アリール基、
   アラルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基又
   は−ＲＣＯＯＲ’を表し、ｎが２の場合は炭素数１〜８
   のアルキレン基を表し、Ｒ²は、水素原子、炭素数１〜
   １８のアルキル基、アリール基、アラルキル基、アルキ
   ルオキシ基、アリールオキシ基又は−ＲＣＯＯＲ’を表
   し、Ｒは、炭素数１〜８のアルキレン基を表し、Ｒ’は
   炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ³或いはＲ⁴は、各
   々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１８のア
   ルキル基、アルキルオキシ基、アリールオキシ基、アラ
   ルキル基を表し、またＲ³とＲ⁴は、連結してベンゼン環
   を形成してもよい。）
2. 【請求項２】 混練媒体が、芳香族系炭化水素を含有す
   るものである請求項１に記載の顆粒状ベンゾトリアゾー
   ル系紫外線吸収剤の製造方法。
3. 【請求項３】 混練媒体が、キシレンを含有するもので
   ある請求項１又は２に記載の顆粒状ベンゾトリアゾール
   系紫外線吸収剤の製造方法。
4. 【請求項４】 造粒を押出装置又はディスクペレッター
   により行う請求項１〜３に記載の顆粒状ベンゾトリアゾ
   ール系紫外線吸収剤の製造方法。
5. 【請求項５】 ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が、
   下記式で表される化合物である請求項１〜４に記載の顆
   粒状ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤の製造方法。 【化２】