KR102438129B1

KR102438129B1 - 엠보싱 효과 안료 및 표면-개질 엠보싱 효과 안료를 함유하는 네일 바니시 조성물

Info

Publication number: KR102438129B1
Application number: KR1020207010782A
Authority: KR
Inventors: 크리스틴 실링; 안-카트린 겝하르트; 울리히 슈미트; 올리버 스트럭
Original assignee: 엑카르트 게엠베하
Priority date: 2017-10-18
Filing date: 2018-10-18
Publication date: 2022-09-01
Also published as: US20230190597A1; EP3791853A1; US11617707B2; US20200246232A1; KR20200055040A; EP3624755B1; JP2021500343A; WO2019077021A1; JP7043595B2; CN111225650A; EP3624755A1

Abstract

본 발명은 하기를 함유하는 네일 바니시 조성물에 관한 것이다: a) PVD 방법에 의해 제조되는, 회절성 요소에 의한 주기적인 패턴을 가지는 엠보싱 구조를 포함하는 소판-형 금속 기재, 및 임의적으로 기재에 적용되는 적어도 1종의 코팅을 포함하며, 여기서 기재는 기재 대비 80 내지 100 중량%의 원소 금속 함량을 가지고, 해당 효과 안료는 표면 개질용 리핑 첨가제로 처리된 것인 엠보싱 효과 안료, b) 바인더로서의 적어도 1종의 탄화수소 수지, c) 적어도 1종의 용매 또는 용매 혼합물, 및 d) 임의적으로 추가적인 보조 재료. 본 발명은 또한 상기 네일 바니시 조성물의 제조 방법에 관한 것이다.

Description

엠보싱 효과 안료 및 표면-개질 엠보싱 효과 안료를 함유하는 네일 바니시 조성물

본 발명은 표면-개질 효과 안료(effect pigment), 및 그의 제조 방법, 그리고 상기 표면-개질 효과 안료를 포함하는 네일 바니시(nail varnish) 조성물에 관한 것이다.

WO 2005/055965 A1호는 무지개 효과를 가지는 엠보싱 알루미늄 안료를 함유하는 네일 바니시와 같은 화장품 조성물에 대해 개시하고 있다. 그러나, 탄화수소 수지를 기재로 하는 바인더에 대한 개시내용은 존재하지 않는다.

EP 1 462 085 A1호는 네일 바니시 조성물 총 중량 기준 ≥ 2 중량% 비율의 금속성 광택제, 및 질감부여제(texturing agent)를 가지는 입자를 포함하는, 거울 효과가 있는 네일 바니시 조성물에 대해 개시하고 있다. EP 1 462 085 A1호는 어떠한 표면-개질 효과 안료도 개시하지 않고 있다. 또한, 이와 같은 지적 재산권은 회절 효과 안료에 대해서는 개시하지 않고 있다.

EP 1 299 066 A2호는 알루미늄 소판(platelet)을 포함하며 거울-유사 외관을 가지는 네일 바니시에 대해 기술하고 있다. EP 1 299 066 A2호에 따르면, 네일 바니시는 손톱상에서의 거울-유사 효과가 달성가능하도록 하기 위하여 필름 형성제로서 > 56000 g/mol의 분자량을 가지는 니트로셀룰로스를 포함해야 한다. 이와 같은 지적 재산권은 회절 효과 안료에 대해서는 개시하지 않고 있다.

EP 1 796 794 A1호는 화장품 조성물의 총 중량을 기준으로 0.05 중량% 내지 5.0 중량%인 착색 수준의 PVD 알루미늄 안료, 및 적어도 1종의 리핑(leafing) 첨가제를 포함하는 화장품 조성물에 대해 개시하고 있다. 사용되는 리핑 첨가제는 장-쇄 인산 에스테르, 또는 다수 장-쇄 인산 에스테르들의 혼합물이다. 그러나, 대부분의 네일 바니시에서 리핑 효과가 완전히 발현되지 않고 있다. 또한, 이와 같은 지적 재산권은 회절 효과 안료에 대해서는 개시하지 않고 있다.

EP 2 248 514 A2호는 고-광택 필름 형성제로서의 적어도 1종의 스티렌/말레산 무수물 공중합체, 공동-필름 형성제로서의 적어도 1종의 에폭시 수지, 적어도 1종의 반응성 성분 및 적어도 1종의 용매를 포함하는 무-니트로셀룰로스 네일 바니시 조성물에 대해 기술하고 있다. 상기 무-니트로셀룰로스 네일 바니시 조성물은 니트로셀룰로스-함유 네일 바니시 조성물에 필적하거나 그에 비해 더 우수한 접착 특성을 가지는 것으로 언급된다. EP 2 248 514 A2호에 개시되어 있는 유일한 착색제는 효과 안료로서의 진주광택 안료이다.

US 6692830 B2호는 다양한 간섭 층들과 함께 코팅될 수도 있는 무지개 효과를 가지는 본질적으로 회절성인 금속 효과 안료에 대해 개시하고 있다. 상기 안료는 다양한 라인 밀도(line density)를 가지고 있다.

EP 1901870 B1호는 75 μm를 초과하는 크기 중앙값 d₅₀을 가지는 회절성 금속 효과 안료의 제조에 대해 기술하고 있다.

EP 2598578 B1호는 어둡게 착색되는 엠보싱 금속 효과 안료에 대해 개시하고 있다.

엠보싱 금속 효과 안료에 대해서는 이와 같이 공지되어 있으며, 또한 네일 바니시에서 사용되고 있다. 그러나, 네일 바니시에서의 무지개 효과에 있어서는 향상의 필요성이 여전히 존재한다.

예를 들면 EP 1796794 B2호에 개시되어 있는 바와 같이, 상기 발명에 따른 표면-개질 효과 안료들이 모든 네일 바니시 시스템에서 우수한 결과를 나타내지는 않는다는 것이 밝혀졌다. 빈번하게, 효과 안료의 광학적 특성이 완전히 발현되지 않는다는 관련 효과를 동반하여, 적용시 또는 그 이후에 리핑 효과가 상실된다.

향상된 무지개 효과 및 향상된 채도(chroma)를 가지는 엠보싱 효과 안료를 포함하는 네일 바니시 조성물을 제공하는 것이 본 발명의 목적이다. 또한, 조금이라도 가능하다면, 광택도 향상되어야 한다.

다른 목적은 본 발명 네일 바니시의 제조 방법을 제공하는 것이다.

또한, 네일 바니시를 사용한 케라틴질 기재의 코팅 방법이 제공될 수 있다.

본 발명의 근원적인 목적은 하기를 포함하는 네일 바니시 조성물의 제공에 의해 달성된다:

a) PVD 방법에 의해 제조된, 회절성 요소에 의한 주기적인 패턴을 가지는 엠보싱 구조의 소판 형태인 금속성 기재, 및 임의적으로 기재에 적용되는 적어도 1종의 코팅을 포함하며, 여기서 기재는 기재 기준 80 중량% 내지 100 중량%의 원소 금속 함량을 가지고, 해당 효과 안료는 표면 개질용 리핑 첨가제로 처리된 것인 엠보싱 효과 안료,

b) 바인더로서의 적어도 1종의 탄화수소 수지,

c) 적어도 1종의 용매 또는 용매 혼합물, 및

d) 임의적으로 추가적인 보조제.

본 발명 네일 바니시 조성물의 바람직한 실시양태들은 종속 청구항 제2항 내지 제12항에서 찾아볼 수 있다.

본 발명의 근원적인 목적은 또한 하기의 단계들을 포함하는 본 발명 네일 바니시 조성물의 제조 방법에 의해 달성된다:

i) 용매 중 분산액에서 리핑 첨가제에 의해 효과 안료를 표면-개질시키는 단계,

ii) 용매 또는 용매 혼합물에 탄화수소 수지를 용해시키는 단계,

iii) i)에 따른 분산액을 ii)에 따른 바인더 용액과 혼합하여 균질화하는 단계, 및

iv) 임의적으로, 추가적인 용매 또는 용매 혼합물을 보충하는 단계.

이와 같은 방법의 바람직한 실시양태는 종속 청구항 제14항에서 찾아볼 수 있다.

또한, 상기 목적은 하기의 단계들을 포함하는 천연 또는 합성 손톱의 코팅 방법의 제공에 의해 달성된다:

a) 청구항 제1항 내지 제13항 중 어느 것에서 청구된 바와 같은 네일 바니시 조성물을 사용하여 천연 또는 합성 손톱을 코팅한 다음, 네일 바니시를 건조하는 단계,

b) 임의적으로 이후 클리어코트(clearcoat)를 사용하여 네일 바니시를 코팅하는 단계.

이와 같은 방법의 바람직한 실시양태는 종속 청구항 제16항에서 찾아볼 수 있다.

본 발명의 네일 바니시 조성물:

본 발명은 탁월한 방식으로 효과 안료의 리핑 효과를 가능케 하고 유지하는 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

이와 같은 본 발명의 네일 바니시 조성물은 하기를 포함한다:

a) PVD 방법에 의해 제조된, 회절성 요소에 의해 주기적인 패턴을 가지는 엠보싱 구조의 소판 형태인 금속성 기재, 및 임의적으로 기재에 적용되는 적어도 1종의 코팅을 포함하며, 여기서 기재는 기재 기준 80 중량% 내지 100 중량%의 원소 금속 함량을 가지고, 해당 효과 안료는 표면 개질용 리핑 첨가제로 처리된 것인 효과 안료,

b) 바인더로서의 적어도 1종의 탄화수소 수지,

c) 적어도 1종의 용매 또는 용매 혼합물, 및

d) 임의적으로 추가적인 보조제.

시중에서 가장 구하기 쉬운 네일 바니시 조성물과 대비하였을 때, 적어도 1종의 표면-개질 효과 안료를 포함하는 본 발명의 네일 바니시 조성물은 바람직하게는 어떠한 니트로셀룰로스 또는 어떠한 셀룰로스 아세테이트 부티레이트도 포함하지 않는다. 적용 및 건조 후의 본 발명 네일 바니시 조성물의 시각적인 외관은 결정적인 정도까지 상기 적어도 1종 표면-개질 엠보싱 효과 안료에 의해 결정된다.

본 발명의 네일 바니시 조성물은 바람직하게는 매 경우 네일 바니시 조성물의 총 중량 기준 0.2 중량% 내지 7.0 중량% 범위, 더 바람직하게는 0.3 중량% 내지 5.0 중량% 범위, 더욱 바람직하게는 0.35 중량% 내지 3.0 중량% 범위, 가장 바람직하게는 0.4 중량% 내지 2.0 중량% 범위의 비율로 적어도 1종의 표면-개질 엠보싱 효과 안료를 포함한다.

본 발명의 네일 바니시 조성물에서, 엠보싱 표면-개질 효과 안료는 바람직하게는 적용되는 네일 바니시의 표면에 배열된다. 본 발명에 있어서, "표면에 배열되다"는 표면-개질 효과 안료가 네일 바니시 기제상에서, 및/또는 네일 바니시 조성물/공기 또는 네일 바니시 조성물/오버코트 경계면에서 시작하여 바니싱된 기재 방향으로 이러한 경계면에 인접하는 네일 바니시 조성물의 3분의 1 내에 있다는 것을 의미한다. 바람직하게는, 표면-개질 효과 안료는 네일 바니시에서 부상하여, 네일 바니시 표면에 정렬된다. 표면-개질 효과 안료는 이에 따라 본 발명의 네일 바니시 조성물에서 현저한 리핑 특징을 나타낸다.

표면-개질 효과 안료의 이러한 현저한 리핑 특징으로 인하여, 본 발명에 따라 주로 네일 바니시 기제에 첨가되는 적어도 1종의 표면-개질 효과 안료에 그의 시각적 외관을 의존하는 네일 바니시 조성물을 제조하는 것이 가능하다. 이에 따라, 엠보싱 효과 안료의 무지개 효과 및 또한 채도가 훨씬 더 우수하게 발현된다.

다른 실시양태에서는, 추가적인 표면-개질 효과 안료, 바람직하게는 비-회절성 효과 안료가 네일 바니시 조성물에 첨가됨으로써 광학적 효과가 달성되는 것도 가능한데, 이 경우 표면 개질 안료 및 효과 안료 양자는 서로 다를 수 있다. 통상적인 유기 및/또는 무기 안료를 본 발명의 네일 바니시 조성물에 첨가하는 것 역시 가능하다.

엠보싱 효과 안료:

본 발명에 있어서, 본 발명의 네일 바니시 조성물은 PVD 방법에 의해 제조되며 5000 내지 20000 라인/cm의 라인 밀도를 가지는, 회절성 요소에 의한 주기적인 패턴을 가지는 엠보싱 구조의 소판 형태인 금속성 기재, 및 임의적으로 기재에 적용되는 적어도 1종의 코팅을 포함하며, 여기서 기재는 기재 기준 80 중량% 내지 100 중량%의 원소 금속 함량을 가지는 효과 안료를 함유한다.

본 발명에 있어서, 상기 엠보싱 구조는 회절성 요소에 의한 주기적인 패턴을 가진다. 여기서, 상기 주기적인 패턴은 회절성 요소의 최소 단위와 관련된다. 주기적인 회절 구조는 바람직하게는 5000 내지 20000 회절성 요소/cm, 더욱 바람직하게는 9000-18000 회절성 요소/cm, 가장 바람직하게는 12000-16000 회절성 요소/cm를 가진다. 이와 같은 범위 내에서는, 회절 격자의 알려져 있는 원리에 의해 회절성 요소에서 주로 가시광 (약 400 내지 800 nm의 파장)이 회절되며, 그 결과 보는 사람은 무지개 효과를 지각한다. 그러나, IR 방사선 및/또는 UV 방사선 부분을 회절시키는 것 역시 가능하다.

주기성은 본질적으로 입사광의 회절되는 파장을 결정한다. 구체적으로, 예를 들면 US 6,692,830 B2호에서 추론될 수 있는 바와 같이, 이는 알려져 있는 공식에 의해 계산될 수 있다.

유용한 회절성 요소에는 예를 들면 대칭 삼각형, 비대칭 삼각형, 매우 다양한 상이한 형태의 홈, 직사각형 펑션(rectangular function), 원, 파형 라인, 원뿔, 원뿔대, 핌플(pimple), 프리즘, 삼각뿔, 삼각뿔대, 원통, 반구 등, 및 이러한 기하학적 형태 및 입체들의 조합이 포함된다.

안료 표면에 평행하게 배열된 하나 이상의 표면을 가지는 기하학적 입체, 예를 들면 원뿔대, 삼각뿔대, 원통 또는 직사각형 펑션이 해당 표면으로 인하여 더 높은 반사능을 가진다.

안료 표면을 기준으로 사선의 측면을 가지는 기하학적 입체는 무지개 효과를 강화한다. 사선의 측면은 5° 내지 89°, 바람직하게는 15° 내지 84°, 더욱 더 바람직하게는 27° 내지 80°, 더욱 더 바람직하게는 43° 내지 74°의 기재를 기준으로 한 각도를 가지는 측면을 의미하는 것으로 이해된다. 적합한 기하학적 입체는 예를 들면 원뿔, 원뿔대, 삼각뿔, 삼각뿔대 등이다.

예를 들어 원뿔대의 경우, 안료 표면에 평행한 상부 표면에서의 반사 및 측면 표면에서의 무지개 효과의 강화 양자가 존재한다. 마찬가지로, 삼각뿔대의 경우, 상부 표면에서의 반사 및 사선인 측면 표면에서의 무지개 효과의 강화가 존재한다.

원뿔대 또는 삼각뿔대의 경우 안료 표면에 대하여 비-평행인 방식으로써 오히려 안료 표면에 대하여 사선인 방식으로 상부 표면을 배열하는 것도 가능하다는 것을 알고 있을 것이다.

엠보싱 및/또는 성형에 의해 소판 형태인 금속성 기재의 표면상에 배열되는 기하학적 입체에 의해, 효과 안료의 무지개 효과 및/또는 반사능이 강화될 수 있거나, 또는 무지개 효과 대 반사의 상대적 비가 변경될 수 있다.

예를 들어, 기하학적 입체는 구역으로 분리되거나, 아니면 서로 혼합될 수 있다. 물론, 예를 들면 기하학적 입체가 파형 구조상에 추가적으로 배열되도록 겹치는 방식으로 기하학적 형태 및 기하학적 입체를 배열하는 것 역시 가능하다.

본 발명의 다른 변이에서는, 비엠보싱 또는 비성형이며 그에 따라 윤활한 구역이 소판 형태인 금속성 기재 표면상에서 엠보싱되고/거나 성형된 구역과 함께 존재하는 것이 가능하다. 이와 같은 방식에서도, 무지개 효과 대 반사의 상대적 비를 변경시키는 것이 가능하다.

바람직하게는, 소판 형태인 금속성 기재의 전체 표면에는 바람직하게는 엠보싱된 회절 구조가 제공되어 있다. 그러나, 금속 효과 안료 표면의 일부만이 바람직하게는 엠보싱된 회절 구조가 제공되는 것, 또는 회절 구조로 성형되는 것 역시 가능하다. 바람직하게는, 적어도 60 %, 더욱 바람직하게는 적어도 75 %, 가장 바람직하게는 적어도 90 %의 금속 효과 안료 표면이 회절 구조와 함께 엠보싱되거나, 또는 회절 구조로 형성되어 있다.

특히 바람직한 실시양태에서, 회절 구조는 파형 라인 예를 들면 사인파 라인, 원뿔 또는 원뿔대를 포함하거나, 또는 그것으로 이루어진다. 매우 특히 바람직한 실시양태에서, 회절 구조는 사인파 라인을 포함하거나 그것으로 이루어지는데, 이와 같은 형상이 첫 번째로 엠보싱하기가 특히 용이하고, 두 번째로는 매우 상당한 회절 효과를 초래하기 때문이다. 이러한 사인파 라인의 경우, 회절 구조는 바람직하게는 소판 형태인 금속성 기재 전체에서 엠보싱된다.

바람직한 실시양태에서, 본 발명의 네일 바니시 조성물은 엠보싱 구조의 소판 형태인 금속성 기재를 포함하는 효과 안료를 함유하며, 여기서 상기 금속은 알루미늄, 구리, 크로뮴, 철 또는 이들의 합금으로 이루어지는 군에서 선택된다.

더욱 바람직하게는, 엠보싱 구조의 소판 형태인 상기 금속성 기재는 특히 우수한 반사성을 제공하며 PVD 방법에 의해 용이하게 제조되는 알루미늄으로 구성되는 금속을 함유하거나, 그것으로 이루어진다.

분명하게 지각가능한 효과를 달성할 수 있기 위하여, 회절 구조, 바람직하게는 라인 구조는 바람직하게는 특정 최소 깊이를 가지는데, 그렇지 않을 경우 회절의 물리적 효과가 부적정하게만 발현될 수 있기 때문이다. 이에 따라, 회절 구조는 바람직하게는 적어도 40 nm, 바람직하게는 40 nm 내지 600 nm, 더욱 바람직하게는 50 nm 내지 400 nm, 가장 바람직하게는 100 nm 내지 250 nm의 깊이 (WO 2005/055965 A1호에 따라 "정점에서 골까지(peak to valley)"로 측정)를 가져야 한다.

600 nm 초과에서는, 구조가 더 이상 전체적인 안정성을 가지지 않을 수 있다. 40 nm 미만에서는, 회절 효과가 불충분하게 나타난다.

소판 형태인 금속성의 엠보싱된 기재는 PVD 방법에 의해 제조된다.

바람직하게는, 소판 형태인 금속성의 조각된 기재는 20 nm 내지 80 nm 범위, 더욱 바람직하게는 30 내지 60 nm 범위의 평균 두께 h₅₀ (중앙값)을 가진다.

상기 중앙값 h₅₀은 바람직하게는 WO 2004/087816 A2호 (페이지 24 및 25)에 기술되어 있는 SEM법에 의해 측정된다.

20 nm 미만에서는, 기재가 너무 어두워서 엠보싱 구조를 수득하는 데에 필요한 필수적인 기계적 강도를 상실할 수 있을 가능성이 있다.

80 nm 초과에서는, 금속성 기재가 필요한 광택 및 은폐력(hiding power)를 야기하기에 너무 두꺼워진다.

이에 따라, 회절 구조의 깊이는 소판 형태인 금속성 기재의 평균 층 두께 h₅₀을 초과할 수 있다.

엠보싱 구조를 가지는 효과 안료의 크기 중앙값 d₅₀은 5-120 μm 범위 이내, 바람직하게는 10-75 μm 범위 이내, 가장 바람직하게는 15-40 μm 범위 이내이다. 여기에서, d₅₀은 레이저 회절법에 의해 관련 기술분야 통상의 기술자에게 통상적인 방식에서 크기 분포의 부피-평균 누적 언더사이즈(undersize) 곡선 (프라운호퍼(Fraunhofer) 회절)으로 측정된다. 이는 측정 기기로서 호리바(Horiba) 사의 호리바 LA-950 기기를 사용하여 수행된다.

크기 분포 함수의 누적 빈도 분포의 h₅₀은 분석된 효과 안료 중 50 %가 특정 기록 값과 동일하거나 그보다 더 작은 크기를 가진다는 것을 표시한다.

5 μm 미만에서는, 안료 입자 당 회절 구조의 수가 효과적인 무지개 효과를 야기하기에는 너무 적다. 120 μm 초과에서는, 합성 또는 천연 손가락에의 적용 후 네일 바니시 제제에서 손가락 기재에 대하여 충분하게 평면-평행인 방식으로 배향되기에는 효과 안료가 너무 크다. 저조한 배향의 경우, 서로 다르게 배향된 효과 안료 입자에 의해 방출되는 회절 광의 겹침을 부분적으로 켄칭(quenching)하는 것으로 인하여, 무지개 효과 및 채도가 역시 왜곡된다.

금속 효과 안료가 화장품 제제에 사용되는 경우, 그것은 특정 순도 요건, 예를 들면 EU 화장품 조례 1223/2009 또는 FDA 21CFR 파트 73을 충족해야 한다. 예를 들어, 소판 형태인 금속성 기재로서 알루미늄 소판이 사용되는 경우, 그것은 바람직하게는 매 경우 알루미늄 소판의 총 중량 기준 ≥ 97 중량%, 더 바람직하게는 ≥ 98 중량%, 더욱 바람직하게는 ≥ 99 중량%, 가장 바람직하게는 ≥ 99.7 중량%의 알루미늄 함량을 가진다. 바람직한 실시양태에서, 알루미늄 소판은 또한 바람직하게는 ≤ 1 ppm의 수은 함량, 바람직하게는 ≤ 2 ppm의 비소 함량, 바람직하게는 ≤ 10 ppm의 납 함량, 바람직하게는 ≤ 1 ppm의 카드뮴 함량, 바람직하게는 ≤ 10 ppm의 바륨 함량, 바람직하게는 ≤ 20 ppm의 크로뮴 함량, 바람직하게는 ≤ 20 ppm의 니켈 함량, 바람직하게는 ≤ 20 ppm의 구리 함량, 바람직하게는 ≤ 20 ppm의 코발트 함량, 바람직하게는 ≤ 2 ppm의 안티모니 함량, 바람직하게는 ≤ 10 ppm의 셀레늄 함량 및 바람직하게는 ≤ 20 ppm의 아연 함량을 가진다. 특히, 알루미늄 소판은 바람직하게는 ≤ 1 ppm의 수은 함량, 바람직하게는 ≤ 2 ppm의 비소 함량, 바람직하게는 ≤ 10 ppm의 납 함량, 바람직하게는 ≤ 1 ppm의 카드뮴 함량을 가지는 것이 바람직하다.

소판 형태인 금속성 기재로서 구리 소판이 사용되는 경우, 그것은 바람직하게는 매 경우 구리 소판의 총 중량 기준 ≥ 95 중량%, 더 바람직하게는 ≥ 96 중량%, 더욱 바람직하게는 ≥ 97 중량%, 가장 바람직하게는 ≥ 98 중량%의 구리 함량을 가진다. 바람직한 실시양태에서, 구리 소판은 또한 바람직하게는 ≤ 1 ppm의 수은 함량, 바람직하게는 ≤ 3 ppm의 비소 함량, 바람직하게는 ≤ 20 ppm의 납 함량, 바람직하게는 ≤ 15 ppm의 카드뮴 함량, 바람직하게는 ≤ 10 ppm의 바륨 함량, 바람직하게는 ≤ 20 ppm의 크로뮴 함량, 바람직하게는 ≤ 20 ppm의 니켈 함량, 바람직하게는 ≤ 20 ppm의 코발트 함량, 바람직하게는 ≤ 2 ppm의 안티모니 함량 및 바람직하게는 ≤ 10 ppm의 셀레늄 함량을 가진다.

소판 형태인 금속성 기재로서 금동(gold-bronze) 소판이 사용되는 경우, 그것은 바람직하게는 매 경우 금동 소판의 총 중량 기준 70 중량% 내지 95 중량% 범위의 구리 함량, < 5 중량% 내지 < 30 중량% 범위의 아연 함량, 0.01 중량% 내지 ≤ 1.5 중량% 범위의 알루미늄 함량, 0.001 중량% 내지 ≤ 0.5 중량% 범위의 주석 함량을 가진다. 바람직한 실시양태에서, 금동 소판은 또한 바람직하게는 ≤ 1 ppm의 수은 함량, 바람직하게는 ≤ 3 ppm의 비소 함량, 바람직하게는 ≤ 20 ppm의 납 함량, 바람직하게는 ≤ 15 ppm의 카드뮴 함량, 바람직하게는 ≤ 10 ppm의 바륨 함량, 바람직하게는 ≤ 20 ppm의 크로뮴 함량, 바람직하게는 ≤ 20 ppm의 니켈 함량, 바람직하게는 ≤ 20 ppm의 코발트 함량, 바람직하게는 ≤ 2 ppm의 안티모니 함량 및 바람직하게는 ≤ 10 ppm의 셀레늄 함량을 가진다.

일 실시양태에서, 본 발명의 네일 바니시 조성물은 효과 안료로서 어떠한 추가적인 광학적으로 활성인 코팅도 포함하지 않는 회절성 요소가 있는 금속성 소판 형태의 금속성 조각 기재를 함유한다. 이와 같은 기재는 바람직하게는 알루미늄으로 구성된다.

다른 바람직한 실시양태에서, 본 발명에 따라 사용될 소판 형태의 금속성 엠보싱 기재는 본 발명에 따라 요구되는 코팅 이외에는 리핑 첨가제가 있는 추가적인 코팅을 포함하지 않는다. 이와 같은 경우, 공기하에서 자연적으로 형성되는 금속 산화물 층, 예를 들면 산화 알루미늄 층은 코팅으로 간주되지 않는다.

이와 같은 경우에서, 효과 안료는 전적으로 엠보싱 구조, 바람직하게는 라인 구조가 엠보싱된 금속성 층으로 이루어진다. 그와 같은 효과 안료는 특히 바람직한데, 추가적인 코팅의 부재로 인하여 그의 총 두께가 최소한이기 때문이다. 그와 같은 안료는 특히 효율적으로 네일 바니시에 혼입될 수 있다.

그와 같은 효과 안료의 제조에 대해서는 예를 들면 EP 643745 B1호 또는 EP 1901870 B1호에 기술되어 있다. 그와 같은 안료는 예를 들면 엑카르트 아메리카(Eckart America) 사로부터 메탈루어(Metalure)® 프리스마틱(Prismatic) 및 실버드림(Silverdream) 프리스마틱이라는 상표명하에 시중에서 구입가능하다.

본 발명의 다른 실시양태에서, 소판 형태인 금속성 조각 기재, 바람직하게는 알루미늄 기재는 하기로 구성되는 적어도 하나의 층 패키지를 포함하는 광학적으로 활성인 코팅을 포함한다:

A) < 1.8의 굴절률을 가지는 저-굴절 층, 및

B) 2.0을 초과하는 굴절률을 가지는 고-굴절 층.

이들 층 역시 바람직하게는 PVD 방법에 의해 제조된다.

상기 저-굴절 층은 바람직하게는 SiO₂, Al₂O₃, B₂O₃ 또는 MgF₂로 이루어진다.

이와 같은 실시양태에 존재하는 고-굴절 코팅은 금속 이온이 바람직하게는 Ti, Fe, Sn, Mn, Zr, Sr, Ba, Ni, Ag, Zn, Cu, Cr 및 Co로 이루어진 금속 군에서 선택되며, 더 바람직하게는 Ti, Fe, Sn, Zr, Zn 및 Cr으로 이루어진 금속 군에서 선택되고, 특히 바람직하게는 Ti 및 Fe로 이루어진 금속 군에서 선택되는 적어도 1종의 금속 산화물, 금속 히드록시드 및/또는 금속 산화물 수화물로 구성되거나 그것을 포함하는 적어도 하나의 고-굴절 층을 포함할 수 있다.

다른 실시양태에서는, 고-굴절 금속 술피드, 예를 들면 MoS₂를 사용하는 것 또한 가능하다.

다른 실시양태에서, 임의적으로 존재하는 상기 고-굴절 코팅은 적어도 1종의 금속 산화물, 금속 히드록시드 및/또는 금속 산화물 수화물을 포함하는 층에 대한 대안으로써, 또는 그에 더하여, 적어도 1종의 반투명 금속 층을 포함할 수 있다. 상기 반투명 금속 층의 금속은 Ag, Al, Cr, Ni, Au, Pt, Pd, Cu, Zn 및 Ti로 이루어지는 군에서 선택될 수 있으며, 바람직하게는 Ag, Au 및 Cu로 이루어지는 군에서 선택될 수 있다. 물론, 상기 반투명 금속 층은 상기-열거된 금속들의 합금 또는 혼합물을 포함할 수도 있다. 반투명 금속 층의 평균 두께는 바람직하게는 1 nm 내지 30 nm 범위 이내, 더욱 바람직하게는 4 nm 내지 26 nm 범위 이내, 더욱 바람직하게는 7 nm 내지 21 nm 범위 이내이다.

다른 실시양태에서, 소판 형태인 금속성 조각 기재, 바람직하게는 알루미늄 기재는 바람직하게는 저굴절률인, PVD 방법에 의해 양측에 적용된 층만을 가진다. 그와 같은 층들은 효과 안료의 광학적 활성에 기여하고자 하는 것이 아니라, 단순히 거기에 기계적 안정성을 부여하고자 하는 것이다. 그와 같은 효과 안료에 대해서는 예를 들면 WO 2000/34395호에 기술되어 있다.

예를 들면, 상응하는 코팅이 있는 엠보싱 효과 안료가 비아비(Viavi) 사 (미국 캘리포니아 산타 로사 소재)에 의해 스펙트라플레어(SpectraFlair)®라는 상표명하에 공급되고 있다.

그와 같은 효과 안료의 다른 예들은 하기의 층 구조를 가진다:

- Al/SiO₂/Al/SiO₂/Al

- Cr/MgF₂/Al/MgF₂/Cr

- MoS₂/SiO₂/Al/SiO₂/MoS₂

- Fe₂O₃/SiO₂/Al/SiO₂/Fe₂O₃

그와 같은 효과 안료의 제조에 대해서는 예를 들면 US 6,749,777 B2호에 기술되어 있다. 이러한 효과 안료에서, 색상 효과는 회절 구조에 의한 회절에 의해서뿐만 아니라 또한 추가적인 코팅의 간섭 현상에 의해서도 영향을 받는다. 이는 순수한 무지개 효과의 "교란"을 초래할 수 있다. 그럼에도 불구하고, 본 발명의 맥락에서, 수득되는 효과는 역시 "무지개 효과"로 기술된다.

다른 실시양태에서, 소판 형태인 금속성 엠보싱 기재는 바람직하게는 주로 나노금속 및 금속 산화물의 형태인 금속의 혼합 층으로 이루어지며, 여기서 금속 및 금속 산화물은 동일한 금속을 포함한다. 그와 같은 PVD 효과 안료에 대해서는 EP 2598578 B1호에 기술되어 있는데, 해당 안료의 반사가 매우 저도라는 것이 주목할만하다. 그것은 사실상 흑색 효과 안료이지만, 그럼에도 불구하고 그의 엠보싱으로 인하여 그것이 무지개 효과를 가진다. 여기에서 고려되는 금속은 바람직하게는 알루미늄 또는 크로뮴이다. 그와 같은 엠보싱 효과 안료의 평균 두께는 40 내지 130 nm 범위 이내이다.

다른 실시양태에서, 네일 바니시 조성물에 사용될 수 있는 코팅이 있는 소판 형태인 금속성 기재를 기재로 하는 본 발명의 표면-개질 효과 안료는 바람직하게는 20 nm 내지 4000 nm 범위, 더 바람직하게는 30 nm 내지 3000 nm 범위, 더욱 바람직하게는 70 nm 내지 2000 nm 범위, 가장 바람직하게는 230 nm 내지 1300 nm 범위의 평균 총 두께 h₅₀을 가진다. 평균 총 두께는 표면-개질 효과 안료, 즉 소판 형태의 금속성 기재 더하기 임의적인 코팅 더하기 표면 개질의 전체적인 평균 두께를 의미하는 것으로 이해된다.

리핑 첨가제:

본 발명의 본질적인 구성요소는 표면-개질 효과 안료의 리핑 특성이 매우 잘 발현되는 네일 바니시의 제공이다.

소판 형태인 금속성 기재의 표면 개질을 위한 바람직한 리핑 첨가제는 인산 에스테르-함유, 포스폰산-함유, 지방산-함유 및/또는 실란-함유 화합물 또는 이들의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 1종의 화합물이다.

바람직한 실시양태에서, 사용되는 표면 개질용으로 사용가능한 리핑 첨가제는 하기로 이루어지는 군으로부터의 것들이다:

하기 일반 화학식의 인산 에스테르:

(R-O)_x-P(O)(OR¹)_(3-x) (I)

및/또는 하기 일반 화학식의 포스폰산 에스테르 및/또는 포스폰산:

R-P(O)(OR²)(OR³) (II)

이와 같은 경우에서, x = 1 내지 3이며, R, R¹, R² 및 R³ 라디칼은 하기와 같이 정의된다:

R = C₈ 내지 C₂₀ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼이며,

R¹ = H, C₁ 내지 C₆, 바람직하게는 C₁ 내지 C₃ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼이고, 여기서 x = 1인 경우 R¹은 동일하거나 상이할 수 있으며,

R² = R³ = H, C₁ 내지 C₆, 바람직하게는 C₁ 내지 C₃ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼이고, 여기서 R² 및 R³는 동일하거나 상이할 수 있다.

화학식 (I)의 인산 에스테르에서, 바람직한 실시양태에서의 x는 1 또는 2이며, 이 경우 모노- 및 디인산 에스테르 사이의 혼합물 역시 가능하다. R은 더 바람직하게는 C₁₀ 내지 C₂₀, 특히 바람직하게는 C₁₂ 내지 C₁₈, 매우 특히 바람직하게는 C₁₂ 내지 C₁₆이다. 다른 바람직한 실시양태에서, R = C₁₂ 내지 C₁₈이며, R¹ = H이다.

다른 바람직한 실시양태에서, 엠보싱 효과 안료의 표면 개질에 사용되는 첨가제는 라우릴포스폰산 메틸 에스테르, 라우릴포스폰산 에틸 에스테르, 라우릴포스폰산 (R = 12) 또는 모노세틸인산 에스테르, 디세틸인산 에스테르 (R = 16) 및 이들의 혼합물의 군으로부터의 포스폰산, 포스폰산 에스테르 및 인산 에스테르이다.

리핑 첨가제로서 가장 바람직한 것은 모노세틸인산 에스테르이다. 디세틸인산 에스테르 (R = 16) 및 그의 혼합물이 사용된다.

표면 개질에 사용가능한 지방산은 하기 일반 화학식의 지방산일 수 있다:

R'-COOH (III)

(식 중 R' 라디칼은 C₁₂ 내지 C₂₆ 범위, C₁₄ 내지 C₂₄ 범위, 더 바람직하게는 C₁₆ 내지 C₂₂ 범위, 특히 바람직하게는 C₁₈ 내지 C₂₀ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼임).

바람직한 실시양태에서, 본 발명의 네일 바니시 조성물에서 사용가능한 효과 안료의 표면 개질은 C₁₂ 내지 C₂₀ 범위, 바람직하게는 C₁₄ 내지 C₁₈ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 비치환 알킬 잔기인 R'를 가지는 지방산을 사용하여 수행된다.

효과 안료는 PVD 방법에 의해 제조되기 때문에, 마쇄에 의해 수득되는 금속 효과 안료와 달리, 그것이 어떠한 지방산도 함유하지 않는다. 이에 따라, 상기 지방산 역시 표면 개질로서 엠보싱 효과 안료에 적용되어야 한다.

표면 개질에 사용가능한 실란은 하기 일반 화학식의 실란일 수 있다:

R"-Si(OR⁴)₃ (IV)

(식 중 R" 및 R⁴ 라디칼은 바람직하게는 하기와 같이 정의됨: R" = C₈ 내지 C₂₄ 범위, 바람직하게는 C₁₀ 내지 C₂₂ 범위, 특히 바람직하게는 C₁₂ 내지 C₁₈ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼이며, R⁴ = C₁ 내지 C₄ 범위, 바람직하게는 C₁ 내지 C₃ 범위, 특히 바람직하게는 C₁ 내지 C₂ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼임). 다른 실시양태에서, 상기 알킬 라디칼 R"는 -OH, -OCH₃, -OC₂H₅, -NH₂, C₁ 내지 C₆ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼로 이루어지는 군에서 선택되는 적어도 하나의 치환체를 포함할 수 있다.

엠보싱 효과 안료는 네일 바니시 시스템에 그것이 도입되기 전에 별도의 단계에서 첨가제로 코팅되는 것이 특히 바람직하다.

엠보싱 효과 안료의 표면 개질을 위한 본 발명의 방법은 하기의 단계들을 포함한다:

i. 엠보싱 구조의 소판 형태인 금속성 기재를 포함하는 엠보싱 효과 안료를 적어도 1종의 용매에 현탁시키는 단계,

ii. 단계 i로부터의 현탁액에 임의적으로 승온에서 리핑 첨가제를 첨가하고, 이후 수득되는 현탁액을 교반하는 단계,

iii. 단계 ii에서 수득된 표면-개질 효과 안료를 용매로부터 분리하고, 임의적으로 건조하는 단계.

여기에서 사용되는 용매는 첫 번째로 본 발명의 네일 바니시 시스템과 최대의 상용성을 가지며, 생리학적으로 상용성이고, 두 번째로 리핑 첨가제를 충분하게 용해시킬 수 있는 용매이다.

인산 에스테르, 포스폰산 에스테르, 포스폰산 또는 지방산이 리핑 첨가제로 사용되는 경우, 바람직한 용매는 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트, 및 이들의 혼합물이며, 매우 특히 바람직한 것은 부틸 아세테이트이다.

임의적인 승온은 용매에서의 첨가제의 더 우수한 용해를 도우며, 바람직하게는 40 내지 100 ℃의 범위 이내 또는 용매의 비점 이하, 더욱 바람직하게는 50 내지 90 ℃의 범위 이내이다.

사용되는 리핑 첨가제가 유기관능성 실란인 경우, 그것은 바람직하게는 졸-겔 반응에 의해 엠보싱 효과 안료의 표면에 적용된다. 여기에서 사용되는 용매는 바람직하게는 에탄올, 이소프로판올 또는 이들의 혼합물이다. 임의적으로는, 적합한 양의 물, 및 산 및/또는 염기성 촉매를 용매에 첨가하는 것이 가능하다. 물은 실란 알콕시 기의 더 우수한 가수분해를 초래한다.

표면 개질용 리핑 첨가제는 바람직하게는 매 경우 사용되는 엠보싱 효과 안료의 총 중량 기준 5 중량% 내지 50 중량% 범위, 더욱 바람직하게는 10 중량% 내지 40 중량% 범위, 가장 바람직하게는 15 중량% 내지 35 중량% 범위의 양으로 사용된다. 여기에서 열거된 첨가제의 양은 개시 재료를 기준으로 한 것이기 때문에, 사전-코팅된 엠보싱 효과 안료에서의 첨가제의 실제 양은 더 적을 수 있는데, 예를 들어 50 중량%인 양의 경우, 모든 첨가제가 안료 표면상으로 흡수될 수 있는 것이 아니기 때문이다. 이에 따라, 엠보싱 효과 안료를 포함하는 본 발명의 네일 바니시에서는 더 적은 양의 리핑 첨가제가 발견될 수 있다. 그러나, 상당히 많은 양의 개시 재료 중 첨가제의 효과는 매우 높아서, 첨가제에 의한 효과 안료 표면의 코팅을 조밀하게 한다.

본 발명의 다른 특히 바람직한 실시양태에 있어서, 코팅 방법에서, 엠보싱 효과 안료의 표면 개질에 사용되는 리핑 첨가제는 매 경우 엠보싱 효과 안료의 총 중량을 기준으로 총량이 10 중량% 내지 50 중량% 범위, 더욱 바람직하게는 15 중량% 내지 45 중량% 범위, 가장 바람직하게는 20 중량% 내지 40 중량% 범위인 화학식 (II)의 적어도 1종 포스폰산 에스테르 및/또는 포스폰산이다.

포스폰산 에스테르 및/또는 포스폰산의 열거되어 있는 양 미만에서는, 효과 안료의 불충분한 리핑이 이루어진다. 포스폰산 에스테르 및/또는 포스폰산의 열거되어 있는 양 초과에서는, 과도하게 많은 양의 포스폰산 에스테르 및/또는 포스폰산이 최종 네일 바니시 조성물에 도입될 가능성이 있을 수 있다. 여기에서 효과 안료는 네일 바니시 시스템에 그것이 도입되기 전에 별도의 단계에서 포스폰산 에스테르 및/또는 포스폰산으로 코팅되는 것이 특히 바람직하다.

특히 바람직한 실시양태에서, 본 발명에 따른 방법에서 사용되는 리핑 첨가제는 사용되는 엠보싱 효과 안료의 총 중량을 기준으로 총량 15 중량% 내지 40 중량% 범위, 더 바람직하게는 20 중량% 내지 35 중량% 범위의, 각 R이 바람직하게는 C₁₀ 내지 C₂₀, 더욱 바람직하게는 C₁₂ 내지 C₁₈을 가지는 선형 알킬 라디칼이며 R¹ = H인 화학식 (I)의 적어도 1종 인산 에스테르이다.

다른 바람직한 실시양태에서, 소판 형태인 금속성 엠보싱 기재를 기재로 하는 엠보싱 효과 안료의 표면 개질에 사용되는 리핑 첨가제는 매 경우 사용되는 효과 안료의 총 중량을 기준으로 총량이 바람직하게는 5 중량% 내지 40 중량% 범위, 더욱 바람직하게는 10 중량% 내지 38 중량% 범위, 가장 바람직하게는 20 중량% 내지 35 중량% 범위인 적어도 1종의 지방산이다.

다른 바람직한 실시양태에서, 소판 형태인 금속성 엠보싱 기재를 기재로 하는 엠보싱 효과 안료의 표면 개질에 사용되는 리핑 첨가제는 매 경우 사용되는 엠보싱 효과 안료의 총 중량을 기준으로 총량이 바람직하게는 5 중량% 내지 39 중량% 범위, 더 바람직하게는 10 중량% 내지 35 중량% 범위, 더욱 바람직하게는 15 중량% 내지 32 중량% 범위, 가장 바람직하게는 18 중량% 내지 30 중량% 범위인 적어도 1종의 실란이다.

본 발명의 표면-개질 엠보싱 효과 안료용으로, 또는 서로 다른 효과 안료 유형들 각각에 대하여 상기한 다양한 효과 안료/첨가제 조합용으로 열거된, 표면 개질에 개시 재료로 사용될 구체적인 물질들의 상기 양 미만에서는, 효과 안료의 불충분한 리핑이 이루어진다. 각 경우에서 열거된 첨가제의 양 초과에서는, 과도하게 많은 양의 첨가제가 최종 네일 바니시 조성물에 도입되어 거기에 이상 효과를 야기할 가능성이 있다.

사용되는 리핑 첨가제의 일부는 상기한 개시 농도 범위 중 더 높은 참조 값에서는 엠보싱 효과 안료의 표면에 부착되지 않게 되는데, 그 표면이 이미 포화되어 있기 때문이다. 그러나, 높고 균일한 피복을 위해서는, 별도의 과량을 포함할 수도 있는 충분한 양의 첨가제를 제공할 필요가 있는데, 그와 같은 경우에만 강렬한 리핑 효과가 기대될 것이기 때문이다.

당연히, 리핑 첨가제의 양은 엠보싱 효과 안료의 비표면적에 따라 감소될 수 있으며, 그 반대도 마찬가지이다. 더 작은 비표면적은 매우 크고/거나 두꺼운 엠보싱 효과 안료의 경우에 나타난다. 두꺼운 엠보싱 효과 안료는 특히 금속성 엠보싱 기재가 다른 층에 의해 코팅된 경우에서 수득된다.

본 발명에 있어서, "총량"은 개시 재료가 적어도 1종의 인산 에스테르 단독, 또는 적어도 1종의 포스폰산 또는 포스폰산 에스테르 단독, 또는 적어도 1종의 인산 에스테르와 적어도 1종의 포스폰산의 혼합물 또는 상이한 포스폰산들의 혼합물, 또는 상이한 지방산들의 혼합물, 또는 상이한 실란들의 혼합물인지 여부와 관계없이, 전체적인 개시 리핑 첨가제 재료의 양을 의미하는 것으로 이해된다.

본 발명에 따라 리핑 첨가제로 표면-개질된 엠보싱 효과 안료는 본 발명의 네일 바니시는 물론, 다른 화장품 제제에서도 사용될 수 있다. 상기 표면-개질 효과 안료는 네일 바니시 조성물, 특히 본 발명의 네일 바니시 조성물에서 그의 뛰어난 리핑 특징이 두드러진다.

바인더:

본 발명의 네일 바니시 조성물은 바인더로서 적어도 1종의 탄화수소 수지를 포함하며, 여기서 상기 바인더는 바람직하게는 매 경우 네일 바니시 조성물의 총 중량을 기준으로 25 중량% 내지 64 중량% 범위, 더 바람직하게는 25 중량% 내지 60 중량% 범위, 더 바람직하게는 28 중량% 내지 55 중량% 범위, 더욱 바람직하게는 29 중량% 내지 50 중량% 범위, 가장 바람직하게는 35 중량% 내지 43 중량% 범위의 바인더 고체 함량을 가진다. 바인더 함량 25 중량% 미만에서는, 적용되는 네일 바니시에서 효과 안료에서 기인하는 우수한 광학적 효과가 더 이상 드러나지 않았다. 63 중량% 초과에서는, 역시 효과 안료의 광학적 품질이 감소되었으며, 본 발명 네일 바니시 조성물의 점도가 점점 더 너무 높아졌다.

탄화수소 수지는 촉매로서의 알루미늄 클로라이드 또는 황산 존재하에서의 탄화수소 (올레핀 제외)의 그 자체와의 반응을 통하여 형성되는 합성 수지를 의미하는 것으로 이해된다 (https://www.spektrum.de/lexikon/chemie/kohlenwasserstoffharze/4959 참조). 그의 구조에 따라, 탄화수소 수지는 석유 수지, 콜타르 수지 및 테르펜 수지의 3개 군으로 나누어진다. 쿠마론-인덴 수지는 가장 중요한 콜타르 수지 군이다. 역시 탄화수소 수지로 간주되는 것은 크실렌과 포름알데히드의 반응 생성물인 크실렌-포름알데히드 수지이다. 바람직한 실시양태에서는, 방향족 탄화수소 수지를 포함하는 네일 바니시 조성물이 사용된다.

다른 특히 바람직한 방향족 탄화수소 수지는 주로 내지 전적으로 상이한 정제 스티렌 단량체들의 중합에 의해 수득되는 수지이다. 바람직하게는, 여기에서 스티렌 단량체는 광학적으로 매우 투명 ("무색투명")하다.

상기 탄화수소 수지는 특히 페인트 및 인쇄 잉크용으로 사용되는 수지의 군이다. 이와 같은 특정 수지 클래스는 결코 단순하게 완전히 일반적인 의미의 탄화수소를 기재로 하는 수지를 포함하지는 않는다.

탄화수소 수지는 알루미늄 클로라이드의 존재하에서 가솔린 열분해로부터의 고-비점 분획 (열분해 오일), 또는 가솔린 열분해로부터의 무-이소프렌 C₅ 분획을 가열하는 것에 의해 공지의 방식으로 제조된다. 탄화수소 수지는 대부분의 유기 용매, 예를 들면 에스테르, 에테르, 히드로클로로탄소 및 방향족 물질에 가용성이다.

이론에 얽매이고자 하는 것은 아니나, 본 발명자들은 극성 바인더 사용의 경우, 적합한 첨가제로 코팅된 효과 안료는 여전히 바인더에 의해 부분적으로 습윤화되며, 그에 따라 원하는 리핑 효과를 가지지 않는 것으로 생각하고 있다. 반면, 본 발명 네일 바니시 조성물 중 수지는 보통 네일 바니시 조성물에 대하여 비극성이며, 그에 따라 효과 안료를 습윤화하지 않는다. 결과적으로, 엠보싱 효과 안료가 리핑 효과를 더 잘 발현할 수 있을 가능성이 있다.

보통, "탄화수소 수지"는 2000 g/mol 미만의 몰질량을 가지는 매우 낮은 분자량의 중합체를 의미하는 것으로 이해된다. 반면, 더 높은 분자 몰질량을 가지는 탄화수소 수지가 놀랍게도 본 발명에 따라 사용될 수도 있다는 것이 발견되었다.

본 발명의 네일 바니시 조성물은 바람직하게는 800 내지 6500 g/mol 범위, 바람직하게는 900 내지 6000 g/mol 범위, 또는 1200 내지 5500 g/mol 범위의 평균 분자량 (M_w)을 가지는 탄화수소 수지를 바인더로서 포함한다. 평균 분자량 M_w는 폴리스티렌 표준을 사용한 겔 투과 크로마토그래피 (GPC)에 의해 측정되었다.

바람직한 실시양태에서, 본 발명의 네일 바니시 조성물은 1000 내지 2000 g/mol 범위의 제1 평균 분자량 M_w 및 4000 내지 5900 g/mol 범위의 제2 평균 분자량 M_w를 가지는 적어도 2종의 서로 다른 탄화수소 수지를 2종의 서로 다른 탄화수소 수지 1:1 내지 1:10, 바람직하게는 1:1 내지 1:8, 더욱 바람직하게는 1:1 내지 1:4, 가장 바람직하게는 1:1 내지 1:2의 중량비로 포함한다.

특히 바람직한 실시양태에서, 본 발명의 네일 바니시 조성물은 1200 내지 1600 g/mol 범위의 제1 평균 분자량 M_w 및 4500 내지 5500 g/mol 범위의 제2 평균 분자량 M_w를 가지는 적어도 2종의 서로 다른 탄화수소 수지를 2종의 서로 다른 탄화수소 수지 1:1 내지 1:10, 바람직하게는 1:1 내지 1:8, 더욱 바람직하게는 1:1 내지 1:4, 가장 바람직하게는 1:1 내지 1:2의 중량비로 포함한다. 바람직하게는, 이러한 혼합물은 주로 내지 전적으로 상이한 정제 스티렌 단량체들의 중합에 의해 수득되는 방향족 탄화수소 수지와 관련된다.

본 발명의 네일 바니시 조성물은 바인더로서 예를 들면 각각 이스트만(Eastman) 사의 크리스탈렉스(Kristalex) F100 탄화수소 수지, 크리스탈렉스 5140 탄화수소 수지, 크리스탈렉스 3070 탄화수소 수지, 크리스탈렉스 3085 탄화수소 수지, 크리스탈렉스 F115 탄화수소 수지와 같은 탄화수소 수지를 포함할 수 있다. 이들은 주로 내지 전적으로 상이한 정제 스티렌 단량체들의 중합에 의해 수득되는 수지이다.

바람직하게는, 본 발명의 네일 바니시 조성물은 바인더로서 탄화수소 수지인 크리스탈렉스 F100 탄화수소 수지 및 크리스탈렉스 5140 탄화수소 수지를 포함한다.

특히 바람직한 실시양태에서, 본 발명의 네일 바니시 조성물은 전체 유기 바인더의 80 중량% 내지 100 중량%, 더 바람직하게는 90 중량% 내지 99 중량%, 특히 바람직하게는 95 중량% 내지 100 중량%를 구성하는 양으로 탄화수소-함유 수지를 함유한다.

바인더 주성분으로서의 네일 바니시에서의 탄화수소 수지의 사용은 본 발명자의 지식으로는 일반적이지 않다. 탄화수소 수지는 보통 매우 희귀한 네일 바니시 성분으로, 그것이 사용될 경우 그것은 다른 바인더와 함께 비교적 적은 비율로 사용된다.

이에 따라, 다른 실시양태에서, 본 발명의 네일 바니시 조성물은 니트로셀룰로스, 폴리에스테르 수지, 폴리비닐 수지, 알키드 수지, 에폭시 수지 또는 셀룰로스 아세테이트 부티레이트의 군으로부터의 추가적인 바인더를 있다 하더라도 사실상 함유하지 않는다. 이러한 바인더는 바람직하게는 매 경우 탄화수소 수지 및 추가적인 바인더의 총 중량 기준 10 중량% 미만, 더 바람직하게는 5 중량% 미만, 더욱 바람직하게는 1 중량% 미만, 가장 바람직하게는 0.1 중량% 미만의 비율로 존재한다. 이들 바인더는 진정으로 강한 무지개 효과의 달성에 대하여 오히려 방해가 되는 것으로 밝혀졌다.

이론에 얽매이고자 하는 것은 아니나, 본 발명자들은 상기언급된 바인더를 함유하는 네일 바니시 조성물에서는 그것이 그의 더 강한 극성으로 인하여 적어도 부분적으로 효과 안료를 습윤화하고 그에 따라 그것이 더 저조한 리핑 특성을 가지는 것으로 생각하고 있다.

용매:

본 발명의 네일 바니시 조성물은 바람직하게는 특정 용매를 함유한다. 본 발명의 네일 바니시 조성물에 첨가될 수 있는 용매는 예를 들면 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트 또는 이소프로판올이다.

바람직하게는, 본 발명의 네일 바니시 조성물은 용매로서 이소프로판올, 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트의 혼합물을 함유한다.

더욱 바람직하게는, 본 발명의 네일 바니시 조성물은 네일 바니시 조성물 중 총 용매 기준 70 중량% 내지 100 중량%, 더 바람직하게는 75 중량% 내지 98 중량%의 양으로 이소프로판올, 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트의 용매 혼합물을 함유한다.

본원에서, 이러한 바람직한 용매들이 바인더 또는 효과 안료 분산액에 의해 도입되는지 여부는 중요하지 않다.

다른 바람직한 실시양태에서, 이와 같은 용매 혼합물 중 부틸 아세테이트의 비율은 전체 용매를 기준으로 30 중량% 내지 60 중량%, 더욱 바람직하게는 35 중량% 내지 55 중량%이다.

다른 특히 바람직한 실시양태에서, 이소프로판올의 비율은 매 경우 총 용매를 기준으로 20 중량% 미만, 바람직하게는 15 중량% 미만, 더 바람직하게는 10 중량% 미만이다. 본 발명 네일 바니시 조성물에서의 과도하게 높은 이소프로판올 비율은 효과 안료의 저조한 시각적 외관으로 이어진다. 이는 해당 적용 후의 네일 바니시의 과도하게 빠른 건조에 기인할 가능성이 있다.

본 발명의 네일 바니시 조성물은 극히 단순한 방식으로 인간 또는 합성 손톱 및/또는 발톱에 적용가능하다. 적용시, 그것은 우수한 평탄화에 대하여 주목할만하며, 이어지는 건조 후에는 인간 또는 합성 손톱 및/또는 발톱상에 균질한 필름을 형성한다.

바람직한 실시양태에서, 본 발명의 네일 바니시는 매 경우 전체 네일 바니시의 중량을 기준으로 50 중량% 내지 70 중량%, 바람직하게는 55 중량% 내지 68 중량%, 더욱 바람직하게는 57 중량% 내지 65 중량%의 용매를 함유한다.

용매 함량 55 중량% 미만에서는, 네일 바니시 점도의 과도하게 상당한 상승이 존재하며 효과 안료가 최적의 배향을 취할 수 없는데, 이는 무지개 효과의 감소 내지 상실로까지 이어진다.

용매 함량 70 중량% 초과에서는, 네일 바니시 점도의 너무 큰 감소가 존재하며, 이는 손톱에의 네일 바니시 적용의 저조한 조절가능성으로 이어진다.

추가적인 성분:

본 발명의 네일 바니시 조성물은 추가적으로 1종 이상의 추가 성분을 함유할 수 있다. 본원에서 특히 언급되는 것은 가소제 및 항산화제이다.

사용되는 가소제는 예를 들면 글리콜 및 그의 유도체, 예를 들면 디에틸렌 글리콜 에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 메틸 에테르, 디에틸렌 글리콜 부틸 에테르 또는 추가적으로 디에틸렌 글리콜 헥실 에테르, 에틸렌 글리콜 에틸 에테르, 에틸렌 글리콜 메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 부틸 에테르, 에틸렌 글리콜 헥실 에테르, 글리콜 에스테르, 프로필렌 글리콜의 유도체 특히 프로필렌 글리콜 페닐 에테르, 프로필렌 글리콜 디아세테이트, 디프로필렌 글리콜 부틸 에테르, 트리프로필렌 글리콜 부틸 에테르, 프로필렌 글리콜 메틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 에틸 에테르, 트리프로필렌 글리콜 메틸 에테르 및 디에틸렌 글리콜 메틸 에테르, 프로필렌 글리콜 부틸 에테르 또는 이들의 혼합물일 수 있다.

또한, 가소제로는 특히 카르복실산의 에스테르, 예를 들면 시스테이트, 특히 트리메틸 시트레이트, 트리부틸 시트레이트, 트리메틸아세틸 시트레이트, 트리부틸아세틸 시트레이트, 트리-2-에틸헥실 아세틸 시트레이트, 또는 프탈레이트, 특히 디메톡시에틸 프탈레이트; 또는 포스페이트, 특히 트리크레질 포스페이트, 트리부틸 포스페이트, 트리페닐 포스페이트, 트리부톡시에틸 포스페이트, 또는 타르트레이트, 특히 디부톡시 타르트레이트; 아디페이트, 카르보네이트, 세바케이트; 벤질 벤조에이트, 부틸 아세틸 리시놀레에이트, 글리세릴 아세틸 리시놀레에이트, 부틸 글리콜레이트, 캄포, 글리세롤 트리아세테이트, N-에틸-o,p-톨루엔술폰아미드, 옥시에틸렌 화합물, 예를 들면 옥시에틸렌 오일, 특히 야채 오일, 예를 들면 피마자유, 탄화수소 오일 및 이들의 혼합물이 사용될 수 있다.

바람직한 가소제는 특히 탄화수소 오일이다.

전체 네일 바니시 조성물 중 가소제의 중량 비율은 바람직하게는 0 중량% 내지 15 중량%, 더 바람직하게는 1 중량% 내지 10 중량%, 더욱 바람직하게는 5 중량% 내지 10 중량%의 범위이다.

본 발명의 네일 바니시 조성물은 추가적으로 1종 이상의 항산화제를 함유할 수 있다.

"항산화제"는 산소, 열, 오존 및/또는 UV 방사선의 효과로부터 본 발명 네일 바니시의 성분, 특히 탄화수소 바인더를 보호하는 화합물을 의미하는 것으로 이해된다. 이와 같은 종류의 화합물 1종 이상을 사용하는 것이 가능하다. 이와 같은 종류의 화합물의 예로는 이르가녹스(IRGANOX)^® 1010, 이르가녹스^® 565, 이르가녹스^® 1076 (바스프(BASF) 사) 또는 황-함유 항산화제, 예를 들면 아연 디부틸디티오카르바메이트 (페르카시트(PERKACIT) ZDBC (퍼포먼스 어디티브스 이탤리(Performance additives Italy) S.p.A 사))가 있다. 항산화제는 바람직하게는 전체적인 네일 바니시 조성물 기준 0 중량% 내지 5 중량% 범위, 더 바람직하게는 0.05 중량% 내지 1 중량% 범위의 양으로 사용된다.

추가적인 첨가제:

본 발명의 네일 바니시 조성물은 추가적으로 관련 기술분야 통상의 기술자에게 알려져 있는 바와 같은 통상적인 추가 첨가제를 함유할 수 있다.

이와 같은 종류의 추가적인 첨가제로는 예를 들면 침강방지제, 보존제, 오일, 왁스, 유리-잔기 스캐빈저, 습윤화 첨가제, 분산 조제, 습윤화 조제, 소포제, 향수, 중화제, 증점제, UV 차단제, 습윤제, 비타민, 단백질 및 이들의 혼합물이 있다.

리핑 첨가제와 달리, 이러한 추가적인 첨가제들은 이와 같은 조성물의 제제화 동안까지는 네일 바니시 조성물에 첨가되지 않으며, 미리 엠보싱 효과 안료에 별도로 첨가되지 않는다.

다른 실시양태에서, 본 발명의 네일 바니시 조성물은 바람직하게는 어떠한 침강방지제도 함유하지 않는다. 놀랍게도, 침강 분리된 어떠한 표면-개질 효과 안료도 일반적으로 침강방지제의 첨가 없이도 단순하게 흔들어주는 것에 의해 재분산될 수 있다.

본 발명의 네일 바니시 조성물은 바람직하게는 DIN 53211에 따라 DIN 유동 컵 (DIN 4 mm)으로 측정하였을 때 10초 내지 16초의 점도를 가진다.

바람직한 실시양태에서, 본 발명의 네일 바니시 조성물은 바람직하게는 11000 내지 16000 라인/cm의 라인 밀도를 가지는 라인인 회절성 요소에 의한 주기적인 패턴을 가지는 엠보싱 알루미늄 PVD 효과 안료를 함유한다. 이러한 엠보싱 알루미늄 PVD 효과 안료는 바람직하게는 리핑 첨가제로서의 라우릴포스폰산 메틸 에스테르, 라우릴포스폰산 에틸 에스테르, 라우릴포스폰산 (R = 12) 또는 모노세틸인산 에스테르, 디세틸인산 에스테르 (R = 16) 및 이들의 혼합물에 의해 코팅된다. 사용되는 바인더는 스티렌 단량체를 기재로 하는 방향족 탄화수소 수지이며, 사용되는 용매는 이소프로판올, 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트의 혼합물이고, 여기서 상기 용매 혼합물은 네일 바니시 조성물 총 용매의 70 중량% 내지 100 중량%를 차지한다.

다른 바람직한 실시양태에서, 본 발명의 네일 바니시 조성물은 14 내지 40 nm 범위, 바람직하게는 15 내지 35 nm 범위의 평균 두께 h₅₀을 가지는 알루미늄 PVD 효과 안료, 및 또한 적어도 2종의 서로 다른 방향족 탄화수소 수지, 그리고 용매로서의 이소프로판올, 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트의 혼합물을 함유하며, 여기서 상기 용매 혼합물은 네일 바니시 조성물 중 총 용매의 70 중량% 내지 100 중량%를 차지한다. 여기에서도, 사용되는 리핑 첨가제는 바람직하게는 인산 세틸 에스테르 또는 라우릴포스폰산이다.

방법:

본 발명은 또한 하기의 단계들을 포함하는 본 발명 네일 바니시 조성물의 제조 방법을 제공한다:

i) 용매 중 분산액에서 첨가제에 의해 엠보싱 효과 안료를 표면-개질시키는 단계,

iii) i)에 따른 분산액을 ii)에 따른 바인더 용액과 혼합하여 균질화하는 단계.

단계 ii)에서의 용매 중에서의 탄화수소 수지의 용해는 바람직하게는 1종의 용매 또는 적어도 2종, 바람직하게는 3종 용매의 혼합물 중에서 수행된다. 더욱 바람직하게는, 사용되는 용매 혼합물은 이소프로판올, 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트의 혼합물이다. 부틸 아세테이트는 바람직하게는 단독 용매로 사용된다.

다른 바람직한 실시양태에서는, 단계 i)의 용매 역시 네일 바니시에 파괴적일 수도 있는 추가적인 용매를 도입하지 않기 위하여 이소프로판올, 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트 또는 이들의 혼합물로 이루어지게 된다.

본원에서 바람직한 것은 상기에서 이미 추가 논의되었던 하기의 과정에 따라 단계 i)을 실행하는 것이다.

iii. 단계 ii에서 수득된 표면-개질 엠보싱 효과 안료를 용매로부터 분리하고, 임의적으로 건조하는 단계.

금속성 엠보싱 효과 안료의 선택에 있어서, 이소프로판올, 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트 또는 이들의 혼합물이라는 바람직한 군으로부터의 용매 중에 그의 원래의 분산액으로 존재하는 것을 선택하는 것 또한 바람직한데, 복잡한 재습윤화 단계가 사용되지 않는 한 금속 효과 안료 분산액의 용매 역시 소량으로 본 발명의 네일 바니시에 혼입되기 때문이다. 특히 단일-층 엠보싱 금속 효과 안료, 특히 단일-층 엠보싱 알루미늄 효과 안료가 사용되는 경우, PVD 방법에 의해 제조되는 해당 효과 안료는 항상 분산액 내에 존재하는데, 그것이 분말로서 응집하려는 경향이 있기 때문이다.

본 발명은 또한 하기의 단계들을 포함하는 천연 또는 합성 손톱의 코팅 방법을 제공한다:

a) 본 발명의 네일 바니시 조성물을 사용하여 천연 또는 합성 손톱을 코팅한 다음, 네일 바니시를 건조하는 단계,

b) 임의적으로 이후 클리어코트를 사용하여 네일 바니시를 코팅하는 단계.

클리어코트의 적용은 네일 바니시의 내마모성을 상당히 증가시킨다. 네일 바니시에서의 효과 안료의 현저한 리핑 효과로 인하여, 그것은 자연적으로는 비교적 낮은 내마모성을 가지고 있다.

매우 균일한 표면을 확립하기 위하여, 클리어코트를 사용한 천연 또는 합성 손톱의 코팅이 단계 a)에 선행할 수도 있다. 이와 같은 수행 과정은 손톱이 높은 조도를 가지고 있는 경우에 권장할만하다.

이후 단계 b)에서의 클리어코트를 사용한 코팅은 본 발명 네일 바니시에서의 것과 동일한 클리어코트 또는 상이한 클리어코트를 사용하여 수행될 수 있다. 그러나, 어떠한 경우에도 이와 같은 클리어코트가 효과 안료를 함유하지는 않는데, 그것이 본 발명 네일 바니시의 원하는 효과 상부를 피복하게 되기 때문이다.

그러나, 단계 b)에서의 클리어코트는 통상적인 색상 안료 또는 염료는 함유할 수 있다. 특히 금속성 PVD 알루미늄 안료, 또는 습윤화 마쇄에 의해 제조되며 20 내지 100 nm 미만의 h₅₀을 가지는 얇은 알루미늄 효과 안료와의 조합에서는, 매우 시각적으로 매력적인 효과를 달성하는 것이 가능하다. 이와 같은 경우, 효과 안료에 의해 착색된 본 발명의 네일 바니시 조성물은 바람직하게는 단계 a) 후 반사성 광택을 가진다.

다른 실시양태에서, 본 발명의 네일 바니시 조성물은 본 발명 네일 바니시 조성물의 내마모성을 증가시키기 위하여 저-점도 UV-경화 클리어코트를 사용하여 중복코팅될 수 있다.

바람직하게는, 용매-기재 클리어코트를 사용하는 것 또한 가능하다. 이론에 얽매이고자 하는 것은 아니나, 상기 클리어코트는 바람직하게는 미미한 정도로만 본 발명 클리어코트의 탄화수소 수지와 상호작용하는 극성 바인더를 기재로 한다. 특히 바람직한 실시양태에서, 이러한 클리어코트는 폴리비닐 부티랄 (PVB), 폴리비닐피롤리돈 (PVP) 또는 이들의 혼합물과 같은 바인더를 기재로 한다.

또한, 클리어코트는 바람직하게는 본 발명 바니시의 비극성인 탄화수소 수지를 (부분적으로) 용해시키지 않는 용매를 함유한다. 예를 들면, 바람직하게는 이소프로판올을 이와 같은 목적으로 사용하는 것이 가능하다. 그렇지 않을 경우, 리핑 효과 안료가 다시 부분적으로 용해될 수도 있으며, 그의 배향이 파괴될 수 있는데, 이는 반사성 광택 효과를 파괴한다.

놀랍게도, 이러한 바람직한 클리어코트는 본 발명의 네일 바니시에 대하여 매우 우수한 결합 강도를 가지고 있다.

본 발명의 엠보싱 표면-개질 효과 안료:

향상된 무지개 효과, 및 또한 향상된 채도 및 향상된 광택을 가지는 네일 바니시 조성물에서 사용하기 위한 엠보싱 효과 안료를 제공하는 것 또한 본 발명의 목적이다.

본 발명은 또한 PVD 방법에 의해, 그리고 하기 일반 화학식의 인산 에스테르로 구성되는 리핑 첨가제를 사용한 코팅에 의해 제조되는 엠보싱 구조의 소판 형태인 금속성 기재를 포함하는 엠보싱 효과 안료에 관한 것이다:

(R-O)_x-P(O)(OR¹)_(3-x) (I)

(식 중, x = 1 또는 2이며, R = C₁₂ 내지 C₂₀ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼이고, R¹ = H임).

바람직하게는, 이와 같은 엠보싱 효과 안료는 알루미늄으로 구성되는 금속성 기재를 가지는 단일-층 효과 안료이다. 또한 바람직하게는, 상기 엠보싱 구조는 5000 내지 20000 라인/cm의 라인 밀도를 가지는 라인이다. 상기 라인은 바람직하게는 파형 라인 ("사인파")인데, 이와 같은 구조가 제조하기가 특히 용이하기 때문이다.

본 발명에 있어서, 이와 같은 바람직한 엠보싱 효과 안료는 모노세틸인산 에스테르, 디세틸인산 에스테르 (R = 16) 및 이들의 혼합물로 이루어지는 표면 개질용 리핑 첨가제로 처리된다.

다른 바람직한 실시양태에서, 엠보싱 표면-개질 효과 안료는 하기의 단계들을 포함하는 방법에서 제조된다:

본원에서, 상기 리핑 첨가제는 기재 총량 기준 15 중량% 내지 50 중량% 범위 이내로 사용된다. 안정한 리핑 효과를 초래하기 위해서는, 과량의 첨가제가 필요하다.

본 발명의 다른 측면에서, 상기한 엠보싱 표면-개질 효과 안료는 다른 네일 바니시에서 사용될 수도 있다.

본 발명의 다른 측면에서, 상기한 엠보싱 표면-개질 효과 안료는 다른 화장품 적용분야에서 사용될 수 있다. 그 예로는 바디 파우더, 페이스 파우더, 경질(pressed) 또는 연질(loose) 파우더, 파우더 크림, 아이 메이크업, 예를 들면 아이섀도우, 마스카라, 아이라이너, 액체 아이라이너, 눈썹 펜슬, 립밤, 립스틱, 립글로스, 립라이너, 헤어스타일링 조성물 예컨대 헤어스프레이, 헤어 무스, 헤어 젤, 헤어 왁스, 헤어 마스카라, 영구 또는 반영구 모발 염료, 일시적 모발 염료 또는 스킨케어 조성물 예컨대 로션, 젤, 에멀션이 포함된다.

본원에서, 본 발명의 표면-개질 효과 안료는 각 적용분야에 적합한 원료, 보조제 및 활성 성분과 조합된다. 화장품 제제에서의 본 발명 표면-개질 효과 안료의 총 농도는 매 경우 제제의 총 중량을 기준으로 세정-제거 생성물의 0.001 중량% 내지 잔존 생성물의 40.0 중량%까지 사이일 수 있다.

측면:

본 발명의 제1 측면 1)은 하기를 포함하는 네일 바니시 조성물에 관한 것이다:

b) 바인더로서의 적어도 1종의 탄화수소 수지,

c) 적어도 1종의 용매 또는 용매 혼합물, 및

d) 임의적으로 추가적인 보조제.

일 측면 2)에서, 본 발명은 리핑 첨가제가 하기에서 선택되는, 측면 1에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다:

하기 일반 화학식의 인산 에스테르로 이루어지는 군:

(R-O)_x-P(O)(OR¹)_(3-x) (I)

및/또는 하기 일반 화학식의 포스폰산 에스테르 및/또는 포스폰산;

R-P(O)(OR²)(OR³) (II)

또는 하기 일반 화학식의 지방산:

R'-COOH (III)

또는 하기 일반 화학식의 유기관능성 실란:

R"-Si(OR⁴)₃ (IV)

(식들 중, x = 1 내지 3이며, R, R', R", R¹, R², R³ 및 R⁴ 라디칼은 하기와 같이 정의됨:

R = C₈ 내지 C₂₀ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼이고,

R' = C₁₂ 내지 C₂₆ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼이며,

R" = C₈ 내지 C₂₄ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼이고,

R¹ = H, C₁ 내지 C₆, 바람직하게는 C₁ 내지 C₃ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼이며, 여기서 x = 1인 경우 R¹은 동일하거나 상이할 수 있고,

R² = R³ = H, C₁ 내지 C₆, 바람직하게는 C₁ 내지 C₃ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼이며, 여기서 R² 및 R³는 동일하거나 상이할 수 있고,

R⁴ = C₁ 내지 C₄ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼임).

일 측면 3)에서, 본 발명은 첨가제가 R = C₁₂ 내지 C₁₈이며 R¹ = H인 화학식 (I)의 인산 에스테르인, 측면 2에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 4)에서, 본 발명은 기재 또는 코팅의 표면 개질에 사용되는 첨가제가 라우릴포스폰산 메틸 에스테르, 라우릴포스폰산 에틸 에스테르, 라우릴포스폰산 (R = 12) 및 이들의 혼합물, 또는 모노세틸인산 에스테르, 디세틸인산 에스테르 (R = 16) 및 이들의 혼합물인, 측면 2 및 3 중 어느 하나에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 5)에서, 본 발명은 엠보싱 구조의 소판 형태인 금속성 기재가 알루미늄, 구리, 크로뮴, 철 및 이들의 합금으로 이루어지는 군에서 선택되는 금속인, 선행 측면들 중 어느 것에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 6)에서, 본 발명은 엠보싱 구조의 소판 형태인 금속성 기재가 알루미늄인, 측면 5에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 7)에서, 본 발명은 엠보싱 구조의 소판 형태인 금속성 기재가 5000 내지 20000 회절성 요소/cm를 가지는, 선행 측면들 중 어느 것에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 8)에서, 본 발명은 알루미늄으로 구성되는 소판 형태인 금속성 조각 기재가 어떠한 광학적으로 활성인 코팅도 가지지 않는, 측면 6)에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 9)에서, 본 발명은 알루미늄으로 구성되는 소판 형태인 금속성 조각 기재가 하기로 구성되는 적어도 하나의 층 패키지를 함유하는 광학적으로 활성인 코팅을 가지는, 측면 1 내지 6에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다:

A) < 1.8의 굴절률을 가지는 저-굴절 층, 및

B) 2.0을 초과하는 굴절률을 가지는 고-굴절 층.

일 측면 10)에서, 본 발명은 소판 형태인 금속성 조각 기재가 20 nm 내지 80 nm 범위의 평균 두께 h₅₀을 가지는, 선행 측면들 중 어느 것에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 11)에서, 본 발명은 소판 형태인 금속성 조각 기재가 5-120 μm 범위의 크기 중앙값 d₅₀을 가지는, 선행 측면들 중 어느 것에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 12)에서, 본 발명은 엠보싱 효과 안료가 15-40 μm 범위의 크기 중앙값 d₅₀을 가지는, 측면 11)에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 13)에서, 본 발명은 소판 형태인 금속성 조각 기재가 주로 나노금속 및 금속 산화물의 형태인 금속의 혼합 층으로 이루어지며, 여기서 금속 및 금속 산화물은 동일한 금속을 가지고, 알루미늄 및 크로뮴으로 이루어지는 군에서 선택되는, 측면 1 내지 4 중 어느 것에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 14)에서, 본 발명은 탄화수소 수지가 쿠마론-인덴 수지, 폴리스티렌-함유 수지, 중축합에 의해 포름알데히드 수지로부터 유도되는 수지, 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는, 선행 측면들 중 어느 것에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 15)에서, 본 발명은 탄화수소 수지가 주로 내지 전적으로 상이한 스티렌 단량체들, 특히 거의 광학적으로 투명한 스티렌 단량체들의 중합에 의해 수득되는 폴리스티렌-함유 수지인, 측면 14에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 16)에서, 본 발명은 탄화수소 수지가 전체 유기 바인더의 80 중량% 내지 100 중량%를 차지하는, 선행 측면들 중 어느 것에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 17)에서, 본 발명은 탄화수소 수지가 중량비 1:1 내지 1:10인 1000 내지 2000 g/mol 범위의 제1 평균 분자량 M_w 및 4000 내지 5900 g/mol 범위의 제2 평균 분자량 M_w를 가지는 적어도 2종의 서로 다른 탄화수소 수지로 이루어지는, 선행 측면들 중 어느 것에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 18)에서, 본 발명은 탄화수소 수지가 중량비 1:1 내지 1:10인 1200 내지 1600 g/mol 범위의 평균 분자량 M_w 및 4500 내지 5500 g/mol 범위의 평균 분자량 M_w를 가지는 적어도 2종의 서로 다른 탄화수소 수지로 이루어지는, 측면 17에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 19)에서, 본 발명은 탄화수소 수지의 함량이 전체 네일 바니시 조성물을 기준으로 25 중량% 내지 63 중량% 범위 이내인, 선행 측면들 중 어느 것에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 20)에서, 본 발명은 용매로서 이소프로판올, 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트의 혼합물을 포함하며, 여기서 이소프로판올, 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트의 상기 용매 혼합물은 전체 용매의 70 중량% 내지 100 중량%를 차지하는, 선행 측면들 중 어느 것에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 21)에서, 본 발명은 이소프로판올의 비율이 전체 용매를 기준으로 20 중량% 미만, 바람직하게는 15 중량% 미만인, 측면 20에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 22)에서, 본 발명은 추가적인 보조제로서 가소제, 항산화제, 침강방지제, 보존제, 오일, 왁스, 유리 라디칼 스캐빈저, 습윤화 첨가제, 분산 조제, 습윤화 조제, 소포제, 향수, 중화제, 증점제, UV 차단제, 습윤제, 비타민, 단백질 및 이들의 혼합물을 포함하는, 선행 측면들 중 어느 것에 따른 네일 바니시 조성물에 관한 것이다.

일 측면 23)에서, 본 발명은 하기의 단계들을 포함하는, 측면 1 내지 22에 따른 네일 바니시 조성물의 제조 방법에 관한 것이다:

i) 용매 중 분산액에서 리핑 첨가제에 의해 엠보싱 효과 안료를 표면-개질시키는 단계,

일 측면 24)에서, 본 발명은 단계 i)이 하기의 단계들을 포함하는 과정에 의해 수행되는, 측면 23에 따른 방법에 관한 것이다:

일 측면 25)에서, 본 발명은 하기의 단계들을 포함하는, 천연 또는 합성 손톱의 코팅 방법에 관한 것이다:

a) 측면 1 내지 22 중 어느 것에 따른 네일 바니시 조성물을 사용하여 천연 또는 합성 손톱을 코팅한 다음, 네일 바니시를 건조하는 단계,

일 측면 26)에서, 본 발명은 네일 바니시가 폴리비닐 부티랄, 폴리비닐피롤리돈 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터의 바인더를 기재로 하는 용매-기재 클리어코트로 코팅되는 것을 특징으로 하는, 측면 25에 따른 방법에 관한 것이다.

일 측면 27)에서, 본 발명은 PVD 방법에 의해, 그리고 하기 일반 화학식의 인산 에스테르로 구성되는 리핑 첨가제를 사용한 코팅에 의해 제조되는 엠보싱 구조의 소판 형태인 금속성 기재를 포함하는 엠보싱 효과 안료에 관한 것이다:

(R-O)_x-P(O)(OR¹)_(3-x)

일 측면 28)에서, 본 발명은 금속성 기재가 알루미늄으로 이루어지며, 엠보싱 구조가 5000 내지 20000 라인/cm의 라인 밀도를 가지는 라인인, 측면 27에 따른 엠보싱 효과 안료에 관한 것이다.

일 측면 29)에서, 본 발명은 금속성 엠보싱 기재의 표면 개질에 사용되는 리핑 첨가제가 모노세틸인산 에스테르, 디세틸인산 에스테르 (R = 16) 및 이들의 혼합물인, 측면 27 및 28 중 어느 하나에 따른 엠보싱 효과 안료에 관한 것이다.

일 측면 30)에서, 본 발명은 리핑 첨가제가 하기의 단계들을 포함하는 방법에 의해 적용되며, 여기서 리핑 첨가제는 기재의 총량 기준 15 중량% 내지 50 중량% 범위 이내로 사용되는, 측면 27 내지 29 중 어느 것에 따른 엠보싱 효과 안료에 관한 것이다:

추가적인 측면 31)에서, 본 발명은 측면 27 내지 30에 따른 표면-개질 엠보싱 효과 안료의, 바디 파우더, 페이스 파우더, 경질 또는 연질 파우더, 파우더 크림, 아이 메이크업, 예를 들면 아이섀도우, 마스카라, 아이라이너, 액체 아이라이너, 눈썹 펜슬, 립밤, 립스틱, 립글로스, 립라이너, 헤어스타일링 조성물 예컨대 헤어스프레이, 헤어 무스, 헤어 젤, 헤어 왁스, 헤어 마스카라, 영구 또는 반영구 모발 염료, 일시적 모발 염료 또는 스킨케어 조성물 예컨대 로션, 젤, 에멀션으로 이루어지는 군에서 선택되는 다른 화장품 적용분야에서의 용도에 관한 것이다.

[ 실시예 ]

하기하는 실시예는 본 발명의 추가적인 기술을 위해 사용되는 것으로써, 어떠한 방식으로도 제한하고자 하는 것은 아니다. 모든 백분율은 중량 기준 백분율이다. NVC (비휘발성물질 함량), 고체 비율 및 고체 함량이라는 용어들은 호환가능하게 사용가능하다.

I. 본 발명 표면-개질 효과 안료의 제조

실시예 1:

1 L 자켓구비 반응기에서, 시중에서 구입가능한 메탈루어 프리스마틱 H-50550 AE (에틸 아세테이트 중 분산액, 고체 함량 5.05 중량%, D₅₀ (호리바(Horiba) LA-950) = 약 50 μm, 엑카르트 아메리카 사)의 PVD 알루미늄 효과 안료 분산액 198 g을 하기 표 1에 따른 용매 중에 200 rpm/분으로 분산시키고, 80 ℃로 가열하였다. 이어서, 분산에 사용된 용매 (AE) 20 g에 용해된 하기 표 1에 따른 인산 세틸 에스테르 첨가제 (CAS 번호: 3539-43-3, 호스타파트(Hostaphat) CC 100, 클라리안트(Clariant) 사)를 알루미늄 효과 안료 분산액에 첨가하였다. 80 ℃에서 6시간 동안 교반한 후, 혼합물을 냉각하고, 부크너(Buechner) 깔때기를 통하여 여과하였다. 5-25 % 분산액으로서 표면-개질된 PVD 알루미늄 효과 안료를 수득하였다. 여기에 에틸 아세테이트를 보충하여, 5 %의 NVC를 가지는 안료 분산액을 생성시켰다.

실시예 2 내지 10:

일부 경우에서 사용된 PVD 알루미늄 효과 안료가 시중에서 구입가능한 실버드림 프리스마틱 H-50720 (에틸 아세테이트 중 분산액, 고체 함량 7.05 중량%, D₅₀ (호리바 LA-950) = 약 20 μm, 엑카르트 아메리카 사)이었으며 사용된 첨가제가 일부 경우에서 라우릴포스폰산 (약어: LPS)이었고, 사용된 용매가 에틸 아세테이트 (AE)가 아닌 부틸 아세테이트 (BA)이었다는 것 이외에, 절차는 실시예 1에서와 같았다. 사용된 물질과 관련된 세부사항, 그의 양 및 흡수 온도는 하기 표 1에서 찾아볼 수 있다. 안료 분산액을 생성시키기 위하여 흡입 여과에 의해 분리된 생성물의 최종 보충에 사용된 용매 및 완성된 분산액의 비휘발성물질 함량 (NVC)은 각각 표 2 및 표 3의 컬럼 4 및 3에서 찾아볼 수 있다.

비교 실시예 1: 여기에서는, 조각된 파형 라인 격자 (라인 밀도: 12 500 라인/cm)가 있는 코팅되지 않은 시중에서 구입가능한 PVD 알루미늄 효과 안료 분산액 메탈릭 프리스마틱(Metallic Prismatic) H-50550 AE를 사용하였다.

비교 실시예 2: 여기에서는, 조각된 파형 라인 격자 (라인 밀도: 12 500 라인/cm)가 있는 코팅되지 않은 시중에서 구입가능한 PVD 알루미늄 효과 안료 분산액 실버드림 프리스마틱 H-50720을 사용하였다.

<표 1>

II. 본 발명 네일 바니시 조성물의 제조

IIa . 본 발명 네일 바니시 클리어코트의 제조

적합한 교반 용기에서, 70 중량% 바인더 용액 BM1을 제조하였다. 이와 같은 목적으로, 디스퍼매트(Dispermat) CNf2 용해기 (겟츠만(Getzmann) GmbH 사)를 사용하여 교반 및 냉각하면서 (12 ℃), 70 g의 바인더 크리스탈렉스 F100 탄화수소 수지 (M_w = 약 1300 g/mol, 이스트만 사)를 부틸 아세테이트 85/15 30 g의 최초 충전물에 첨가한 다음, 혼합물을 3000 내지 4000 rpm/분으로 추가 30분 동안 교반하였다. 제2의 적합한 교반 용기에서, 60 중량% 바인더 용액 BM2를 제조하였다. 이와 같은 목적으로, 디스퍼매트 CNf2 용해기 (겟츠만 GmbH 사)를 사용하여 교반 및 냉각하면서 (12 ℃), 60 g의 바인더 크리스탈렉스 5140 탄화수소 수지 (M_w = 약 4900 g/mol, 이스트만 사)를 부틸 아세테이트 85/15 40 g의 최초 충전물에 첨가한 다음, 혼합물을 3000 내지 4000 rpm/분으로 추가 30분 동안 교반하였다. DIN EN ISO 3251:2008에 따라 상기한 바인더 용액의 비휘발성물질 함량 (바인더 고체 함량)을 측정하였다.

비교용 네일 클리어코트: 인터내셔널 래커스(International Lacquers) 사의 비착색 네일 연마 베이스 18840 네일 클리어코트를 비교용 래커로 사용하였다. 이와 같은 네일 래커는 바인더로서의 니트로셀룰로스, 용매인 에틸 아세테이트, n-부틸 아세테이트 및 프로판-2-올을 함유한다.

IIb . 본 발명의 착색된 네일 바니시 조성물의 제조

실시예 11에 따른 본 발명 네일 바니시 조성물의 제조를 위하여, BM1 5.49 g 및 BM2 12.84 g의 최초 충전물 전체를 교반에 의해 잘 분산시켰다. 다음에, 2.08 g의 실시예 1로부터의 표면-개질된 PVD 안료, 그리고 이어서 2.04 g의 이소프로필 알콜, 3.27 g의 N-부틸 아세테이트 85/15 및 0.87 g의 에틸 아세테이트를 첨가하고, 네일 바니시를 잘 분산시켰다.

각각 전체 네일 바니시 조성물을 기준으로 한 중량 기준 중량%인 하기 표 2에 열거된 양 비를 달성하도록 개별 성분들의 양을 선택하여, 실시예 11과 유사하게 실시예 11 내지 20에 따른 네일 바니시 조성물을 제조하였다.

비교 실시예 3 내지 12로는, 하기 표 3에 따라 정해진 양의 각 표면-개질 엠보싱 PVD 알루미늄 효과 안료 (실시예 1 내지 10에 따른 것) 및 비-표면-개질 엠보싱 PVD 알루미늄 효과 안료 (비교 실시예 1 및 2)를 똑같이 최초로 제공하고, 비교용 네일 바니시에 혼입하였다.

추가적인 비교용 실시예로서, 비교 실시예 1 및 2로부터의 첨가제에 의해 표면-개질되지 않은 효과 안료를 각각 본 발명의 네일 바니시 (비교 실시예 14 및 15) 및 비교용 네일 클리어코트 (비교 실시예 16 및 17)과 혼합하였다.

정확한 양 (중량%로 나타냄)은 하기 표 2 및 3에서 찾아볼 수 있다 (비교 실시예 13은 없음).

<표 2>

<표 3>

<표 4>

III. 네일 바니시 조성물 광학적 특성의 특성화

IIIa . 채도의 측정 (25 °배열 )

본 발명 네일 바니시 조성물 및 비교 실시예 네일 바니시 조성물의 시각적 외관을 측정하기 위하여, 각 네일 바니시 조성물을 나선형 적용기 (K 콘트롤 코터(Control Coater) 모델 623, 에릭센(Erichsen) 사)에 의해 100 μm의 습윤 필름 두께로 대조 차트에 적용한 다음, 실온에서 건조하였다. 리핑 특징의 간접적 척도로서, BYK Mac 기기 (BYK 가드너(Gardner) 사)에 의해 그렇게 적용된 네일 바니시 조성물의 채도 (25 °배열)를 분석하였다. 네일 바니시 적용의 적어도 5개의 서로 다른 부위에서 값을 측정하였다. 채도 (25 °배열)에 대하여 그로부터 형성된 평균을 하기 표 5에 열거하였다. 이와 같은 비색 파라미터는 안료의 리핑 효과가 상승함에 따라 상승하는 것으로 되어 있기 때문에, 그것은 엠보싱 PVD 안료 리핑 특징의 간접적 척도로 간주될 수 있다.

IIIb . 무지개 효과 및 광택:

무지개 효과의 품질을 적용기 드로우다운(drawdown)에서 0 (무지개 효과 없음) 내지 10 (뛰어난 무지개 효과)의 등급으로 시각적으로 평가하였다. 시중에서 구입가능한 비색계를 사용하면, 회절 과정을 바탕으로 하는 엠보싱 효과 안료의 광학적 효과 측정은 거의 실행가능하지 않기 때문에, 여기에서는 시각적 평가가 바람직하였다. 또한, 마찬가지로 통상적인 비색계를 사용하여 측정되는 값이 역시 그렇게 의미가 있을 수 없는 광택을 동일한 등급 시스템으로 평가하였다.

<표 5>

IV. 결과:

본 발명 실시예 1 내지 10 모두가 시중에서 구입가능한 네일 바니시 시스템에서 상응하는 비교 실시예에 비해 더 높은 무지개 효과를 가졌다. 차이는 약 20 μm의 d₅₀을 가지는 엠보싱 PVD 안료 (실시예 7 내지 10)의 경우에서 특히 컸다. 이들 실시예에서, 눈에 띄는 차이는 두 페인트 시스템에서의 광택 및 채도에서도 마찬가지로 분명하였다. 더 조질인 엠보싱 PVD 안료의 경우에서는, 광택에 있어서는 향상이 없는 것이 분명하였지만, 더 높은 채도 값의 경향은 마찬가지로 분명하였다. 호스타파트 CC100 (세틸인산 에스테르)로 코팅된 실시예인 약 20 μm의 d₅₀을 가지는 엠보싱 PVD 안료에서 라우릴포스폰산으로 코팅된 실시예와 비교하였을 때 (cf. 실시예 7 및 8과 실시예 8 및 10) 최상의 결과를 제공하는 경향이 있다는 것도 발견되었다. 그러나, 더 조질인 엠보싱 PVD 안료에서는 이와 같은 경향이 분명하지 않았다.

모든 경우에서, 첨가제 사전처리 없이 사용된 엠보싱 PVD 안료는 비교용 메일 바니시 시스템 및 본 발명 네일 바니시 시스템 모두에서 무지개 효과 및 광택과 관련하여 저조하였다 (비교 실시예 1 및 2). 첨가제 처리에 의해 유도되는 엠보싱 PVD 안료의 리핑 효과가 매력적인 무지개 효과의 출현에 필수적인 것은 분명하였다.

Claims

a) PVD 방법에 의해 제조된, 회절성 요소에 의한 주기적인 패턴을 가지는 엠보싱 구조의 소판 형태인 금속성 기재, 및 임의적으로 기재에 적용되는 적어도 1종의 코팅을 포함하는 엠보싱 효과 안료이며, 여기서 기재는 기재 기준 80 중량% 내지 100 중량%의 원소 금속 함량을 가지고, 효과 안료는 표면 개질용 리핑 첨가제로 처리된 것인 엠보싱 효과 안료,
b) 바인더로서의 적어도 1종의 탄화수소 수지,
c) 적어도 1종의 용매 또는 용매 혼합물, 및
d) 임의적으로 추가적인 보조제
를 포함하는 네일 바니시 조성물.
제1항에 있어서, 리핑 첨가제가
하기 일반 화학식의 인산 에스테르로 이루어지는 군
(R-O)_x-P(O)(OR¹)_(3-x) (I)
또는 하기 일반 화학식의 포스폰산 에스테르 및/또는 포스폰산
R-P(O)(OR²)(OR³) (II)
또는 하기 일반 화학식의 지방산
R'-COOH (III)
또는 하기 일반 화학식의 유기관능성 실란
R"-Si(OR⁴)₃ (IV)
에서 선택되며,
여기서, x = 1 내지 3이고, R, R', R", R¹, R², R³ 및 R⁴ 라디칼은 하기와 같이 정의되며:
R = C₈ 내지 C₂₀ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼이고,
R' = C₁₂ 내지 C₂₆ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼이며,
R" = C₈ 내지 C₂₄ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 또는 분지형 알킬 라디칼이고,
R¹ = H, C₁ 내지 C₆, 또는 C₁ 내지 C₃ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼이며, 여기서 x = 1인 경우 R¹은 동일하거나 상이할 수 있고,
R² = R³ = H, C₁ 내지 C₆, 또는 C₁ 내지 C₃ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼이며, 여기서 R² 및 R³는 동일하거나 상이할 수 있고,
R⁴ = C₁ 내지 C₄, 또는 C₁ 내지 C₂ 범위의 탄소 사슬을 가지는 선형 및/또는 분지형 알킬 라디칼인
네일 바니시 조성물.
제2항에 있어서, 첨가제가 R = C₁₂ 내지 C₁₈이며 R¹ = H인 화학식 (I)의 인산 에스테르인 네일 바니시 조성물.
제2항에 있어서, 효과 안료의 표면 개질에 사용되는 첨가제가 라우릴포스폰산 메틸 에스테르, 라우릴포스폰산 에틸 에스테르, 라우릴포스폰산 (R = 12) 또는 모노세틸인산 에스테르, 디세틸인산 에스테르 (R = 16) 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터의 것인 네일 바니시 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 엠보싱 구조의 소판 형태인 금속성 기재가 5000 내지 20000 회절성 요소/cm를 가지는 것인 네일 바니시 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 엠보싱 구조의 소판 형태인 금속성 기재가 알루미늄, 구리, 크로뮴, 철 및 이들의 합금으로 이루어지는 군에서 선택되는 금속인 네일 바니시 조성물.
제6항에 있어서, 엠보싱 구조의 소판 형태인 금속성 기재가 알루미늄인 네일 바니시 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 탄화수소 수지가 쿠마론-인덴 수지, 폴리스티렌-함유 수지, 크실렌-포름알데히드 수지, 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군에서 선택되는 것인 네일 바니시 조성물.
제8항에 있어서, 탄화수소 수지가 상이한 스티렌 단량체들의 중합에 의해 수득되는 폴리스티렌-함유 수지인 네일 바니시 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 탄화수소 수지가 전체 유기 바인더의 80 중량% 내지 100 중량%를 차지하는 것인 네일 바니시 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 탄화수소 수지의 함량이 전체 네일 바니시 조성물을 기준으로 25 중량% 내지 63 중량% 범위 이내인 네일 바니시 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 탄화수소 수지가 중량비 1:1 내지 1:10로 1000 내지 2000 g/mol 범위의 제1 평균 분자량 M_w 및 4000 내지 5900 g/mol 범위의 제2 평균 분자량 M_w를 가지는 적어도 2종의 서로 다른 탄화수소 수지로 이루어지는 것인 네일 바니시 조성물.
제12항에 있어서, 탄화수소 수지가 중량비 1:1 내지 1:10로 1200 내지 1600 g/mol 범위의 평균 분자량 M_w 및 4500 내지 5500 g/mol 범위의 평균 분자량 M_w를 가지는 적어도 2종의 서로 다른 탄화수소 수지로 이루어지는 것인 네일 바니시 조성물.
제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 용매로서 이소프로판올, 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트의 혼합물을 포함하며, 여기서 이소프로판올, 에틸 아세테이트 및 부틸 아세테이트의 상기 용매 혼합물은 전체 용매의 70 중량% 내지 100 중량%를 차지하는 것인 네일 바니시 조성물.
i) 용매 중 분산액에서 리핑 첨가제에 의해 엠보싱 효과 안료를 표면-개질시키는 단계,
ii) 용매 또는 용매 혼합물에 탄화수소 수지를 용해시키는 단계,
iii) i)에 따른 분산액을 ii)에 따른 바인더 용액과 혼합하여 균질화하는 단계, 및
iv) 임의적으로, 추가적인 용매 또는 용매 혼합물을 보충하는 단계
를 포함하는, 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 따른 네일 바니시 조성물의 제조 방법.
제15항에 있어서, 단계 i)이 하기를 포함하는 과정에 의해 수행되는 것인 방법:
i. 엠보싱 구조의 소판 형태인 금속성 기재를 포함하는 엠보싱 효과 안료를 적어도 1종의 용매에 현탁시키는 단계,
ii. 단계 i로부터의 현탁액에 임의적으로 승온에서 리핑 첨가제를 첨가하고, 이후 수득되는 현탁액을 교반하는 단계,
iii. 단계 ii에서 수득된 표면-개질 엠보싱 효과 안료를 용매로부터 분리하고, 임의적으로 건조하는 단계.
a) 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 따른 네일 바니시 조성물을 사용하여 천연 또는 합성 손톱을 코팅한 다음, 네일 바니시를 건조하는 단계,
b) 임의적으로 이후 클리어코트를 사용하여 네일 바니시를 코팅하는 단계
를 포함하는, 천연 또는 합성 손톱의 코팅 방법.
제17항에 있어서, 네일 바니시를 폴리비닐 부티랄, 폴리비닐피롤리돈 및 이들의 혼합물로 이루어지는 군으로부터의 바인더를 기재로 하는 용매-기재 클리어코트로 코팅하는 것을 특징으로 하는 방법.
제9항에 있어서, 탄화수소 수지가 광학적으로 투명한 스티렌 단량체들의 중합에 의해 수득되는 폴리스티렌-함유 수지인 네일 바니시 조성물.