KR102390244B1

KR102390244B1 - 도포 장치 및 도포 방법

Info

Publication number: KR102390244B1
Application number: KR1020200102028A
Authority: KR
Inventors: 유지 아베
Original assignee: 가부시키가이샤 스크린 홀딩스
Priority date: 2019-09-10
Filing date: 2020-08-13
Publication date: 2022-04-22
Also published as: JP2021041322A; CN112547415A; KR20210030859A; CN112547415B; JP6975754B2

Abstract

(과제) 노즐에 대해 클리닝 부재를 적절한 가압력으로 가압함으로써 클리닝 능력을 확보하면서, 미끄럼 마찰에서 기인하여 발생하는 미분의 도포층으로의 혼입을 효과적으로 방지한다.
(해결 수단) 슬릿상으로 개구되는 토출구가 형성된 노즐로부터 도포액을 토출하여 피도포물에 도포하는 도포 공정을 복수 회 실행하는 도포 방법에 있어서, 도포 공정의 종료시마다, 토출구의 주위의 노즐의 표면에 클리닝 부재를 맞닿게 하면서 노즐과 클리닝 부재를 상대 이동시키는 클리닝 공정을 실행하고, 클리닝 공정의 누적 실행 횟수가 소정의 임계값에 도달하면, 다음 번의 도포 공정의 실행에 앞서, 노즐과 클리닝 부재의 상대 위치를 양자가 접근하는 측으로 변경 설정하여, 클리닝 부재를 노즐에 대해 상대 이동시키는 예비 클리닝 공정을 실행한다.

Description

도포 장치 및 도포 방법{COATING APPARATUS AND COATING METHOD}

이 발명은, 노즐에 형성된 토출구로부터 도포액을 토출하여 피도포물에 도포하는 도포 장치 및 도포 방법에 관한 것이다. 피도포물로는, 예를 들어, 액정 표시 장치용 유리 기판, 반도체 기판, PDP 용 유리 기판, 포토마스크용 유리 기판, 컬러 필터용 기판, 기록 디스크용 기판, 태양 전지용 기판, 전자 페이퍼용 기판 등의 정밀 전자 장치용 기판, 사각형 유리 기판, 필름 액정용 플렉시블 기판, 유기 EL 용 기판 등의 각종 기판을 적용하는 것이 가능하다.

노즐에 대해 슬릿상으로 개구되도록 형성된 토출구로부터 도포액을 토출시켜 피도포물에 도포하는 기술에 있어서는, 도포 후의 토출구의 주위에 잔류 부착된 도포액을 클리닝하기 위한 동작이 형성되는 경우가 있다. 특히, 복수 회의 도포 동작을 반복하여 실행하는 경우, 앞의 도포 동작에 있어서 잔류된 도포액이 다음 번의 도포 동작에 있어서의 막두께의 변동이나 단부의 흐트러짐 등의 악영향의 원인이 되는 것을 방지하기 위해서, 도포 동작의 실행마다 클리닝 동작이 실시된다.

예를 들어, 일본 특허공보 제6290700호에 기재된 기술에서는, 슬릿상의 토출구를 갖는 노즐 선단부의 단면 형상에 대응하는 형상으로 성형된 실리콘 고무제의 클리닝용 패드를 노즐에 맞닿게 하여, 패드를 토출구의 길이 방향을 따라 이동시킴으로써, 노즐에 잔류 부착되는 도포액을 스크레이핑하여 제거한다. 일본 특허공보 제6290700호에는, 패드의 변형이나 마모에서 기인되는 가압력의 변동이 스크레이핑 불균일을 일으키는 것을 방지하기 위해서, 노즐에 대해 패드를 일정한 가압력으로 가압하기 위한 기구가 형성되어 있다.

상기 종래 기술에 있어서의 고무제 패드와 같은 클리닝용의 부재는, 노즐과의 미끄럼 마찰에 의해 점차 마모된다. 상기 종래 기술에서는 마모에 의한 가압력의 변화에만 주목되어 있다. 그러나, 실제로는, 미끄럼 마찰시에 클리닝 부재가 깍이는 것에 의해 생긴 미분 (微粉) 이 토출구의 주위에 부착되고, 이것이 이후의 도포 동작에 있어서 도포 완료층에 혼입된다는 문제도 발생할 수 있다. 특히, 상기 종래 기술과 같이 클리닝 부재가 항상 일정한 가압력으로 노즐에 미끄럼 마찰되는 경우, 이와 같은 미분의 발생이 클리닝 동작시마다 생기게 되어 있었다.

이 발명은 상기 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 노즐에 대해 클리닝 부재를 적절한 가압력으로 가압함으로써 클리닝 능력을 확보하면서, 미끄럼 마찰에서 기인하여 발생하는 미분의 도포층으로의 혼입을 효과적으로 방지할 수 있는 기술을 제공하는 것을 목적으로 한다.

이 발명의 제 1 양태는, 상기 목적을 달성하기 위해서, 제 1 방향을 길이 방향으로 하는 슬릿상으로 개구되어 도포액을 토출하는 토출구가 형성된 노즐과, 상기 제 1 방향에 있어서의 길이가 상기 토출구의 길이보다 작은 클리닝 부재와, 상기 토출구의 개구면과 교차하는 제 2 방향으로 상기 노즐과 상기 클리닝 부재를 상대 이동시켜, 상기 제 2 방향에 있어서의 상기 노즐과 상기 클리닝 부재의 상대 위치를 조절하는 위치 조절 기구와, 상기 노즐과 상기 클리닝 부재를 상기 제 1 방향으로 상대 이동시키는 주사 이동 기구와, 상기 위치 조절 기구에 의해 조절되는 상기 노즐에 대한 상기 클리닝 부재의 상대 위치 및 상기 주사 이동 기구에 의한 상기 상대 이동을 제어하여, 상기 노즐을 클리닝하는 클리닝 동작을 실행하는 제어부를 구비하는 도포 장치이다.

여기서, 상기 제어부는, 상기 상대 위치를 상기 클리닝 부재가 상기 토출구의 주위의 상기 노즐의 표면에 맞닿는 맞닿음 위치로 설정한 상태로, 상기 주사 이동 기구에 의해 상기 클리닝 부재를 상기 노즐에 대해 상기 제 1 방향으로 상대 이동시킴으로써 상기 클리닝 동작을 실행하고, 상기 클리닝 동작의 누적 실행 횟수가 소정의 임계값에 도달했을 때에, 상기 맞닿음 위치를 상기 노즐과 상기 클리닝 부재가 접근하는 측으로 변경 설정하여, 상기 상대 위치를 변경 후의 상기 맞닿음 위치로 설정한 상태로, 상기 주사 이동 기구에 의해 상기 클리닝 부재를 상기 노즐에 대해 상기 제 1 방향으로 상대 이동시키는 예비 클리닝 동작을 실행한다.

이와 같이 구성된 발명에서는, 복수 회의 클리닝 동작에 있어서, 노즐과 클리닝 부재의 상대 위치는 일정한 맞닿음 위치로 설정되어 있다. 요컨대, 이 발명에서는, 복수의 클리닝 동작 사이에, 노즐에 대한 클리닝 부재의 맞닿음압 (가압력) 이 일정하게 유지되는 것이 아니라, 양자의 상대적인 위치 관계가 일정하게 유지된다. 이 때문에, 클리닝 동작을 반복하여 실행하면, 노즐에 대한 클리닝 부재의 맞닿음압 (가압력) 은 조금씩 저하되어 온다. 이것은, 노즐과의 미끄럼 마찰에 의해 클리닝 부재가 깍이는 것에서 기인하는 미분의 발생이 시간 경과적으로 감소하는 것을 의미한다.

한편, 맞닿음압의 시간 경과적인 저하는 클리닝 불량의 발생 확률의 증가의 원인이 될 수 있다. 이 문제를 회피하기 위해서, 이 발명에서는, 클리닝 동작의 누적 실행 횟수가 소정의 임계값에 도달하면, 클리닝 동작시에 있어서의 노즐과 클리닝 부재의 맞닿음 위치가, 양자가 보다 접근하는 측으로 변경 설정된다. 이로써, 마모에 의해 저하된 맞닿음압을 회복시켜, 클리닝 능력의 저하를 억제할 수 있다. 이 때, 맞닿음압의 증가에 의해 일시적으로 미분의 발생량이 증대되기 때문에, 그대로 도포 동작 및 클리닝 동작을 실행하면, 도포층에 혼입되는 미분의 양이 증대되어 버린다. 그래서, 본 발명에서는, 클리닝 부재를 노즐에 대해 제 1 방향으로 상대 이동시킴으로써, 새로운 도포 동작에 앞서 의도적으로 미분을 발생시켜 이것을 제거한다.

이와 같이, 노즐과 클리닝 부재의 상대 위치를 보다 접근시키는 방향으로 변화시키고, 또한 예비적인 클리닝 동작을 실시해 둠으로써, 그 후의 도포 동작 및 클리닝 동작에 있어서는, 추가적인 미분의 발생을 억제하여 품질이 양호한 도포를 실행하는 것이 가능해진다.

또, 이 발명의 다른 양태는, 제 1 방향을 길이 방향으로 하는 슬릿상으로 개구되어 도포액을 토출하는 토출구가 형성된 노즐로부터 상기 도포액을 토출하여 피도포물에 도포하는 도포 공정을, 단속적으로 복수 회 실행하는 도포 방법에 있어서, 상기 목적을 달성하기 위해서, 상기 도포 공정의 종료시마다, 상기 토출구의 주위의 상기 노즐의 표면에 클리닝 부재를 맞닿게 하면서 상기 노즐과 상기 클리닝 부재를 상기 제 1 방향으로 상대 이동시키는 클리닝 공정과, 상기 클리닝 공정의 누적 실행 횟수가 소정의 임계값에 도달했을 때에, 다음 번의 상기 도포 공정의 실행에 앞서 실행되는 예비 클리닝 공정을 구비하고, 상기 예비 클리닝 공정에서는, 상기 클리닝 공정에 있어서의 상기 노즐과 상기 클리닝 부재의 상대 위치인 맞닿음 위치를 상기 노즐과 상기 클리닝 부재가 접근하는 측으로 변경 설정하여, 상기 상대 위치를 변경 후의 상기 맞닿음 위치로 설정한 상태로, 상기 클리닝 부재를 상기 노즐에 대해 상기 제 1 방향으로 상대 이동시킨다.

이와 같이 구성된 발명에서는, 상기한 도포 장치의 발명과 마찬가지로, 클리닝 공정의 누적 실행 횟수가 임계값에 도달하면, 노즐과 클리닝 부재의 상대 위치를 보다 접근시키는 방향으로 변화시키고, 또한 노즐과 클리닝 부재를 제 1 방향으로 상대 이동시키는 예비 클리닝 공정이 실행된다. 이로써, 그 후의 도포 공정 및 클리닝 공정에 있어서의 미분의 발생을 억제하여, 품질이 양호한 도포를 실행하는 것이 가능해진다. 또, 노즐에 대한 클리닝 부재의 맞닿음압의 저하는 어느 정도로 억제되기 때문에, 클리닝 능력의 저하도 방지할 수 있다.

상기와 같이, 이 발명에 의하면, 노즐에 대해 클리닝 부재를 적절한 가압력으로 가압함으로써 클리닝 능력을 확보하면서, 미끄럼 마찰에서 기인하여 발생하는 미분의 도포층으로의 혼입을 효과적으로 방지하는 것이 가능하다.

도 1 은, 본 발명에 관한 도포 장치의 일 실시형태의 전체 구성을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 2 는, 노즐을 기울어진 하방에서 본 사시도이다.
도 3 은, 도 1 에 나타내는 도포 장치의 측면도이다.
도 4a 는, 노즐 클리너의 구성을 나타내는 도면이다.
도 4b 는, 노즐 클리너의 구성을 나타내는 도면이다.
도 5a 는, 클리닝 처리에 있어서의 제거 유닛의 움직임을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 5b 는, 클리닝 처리에 있어서의 제거 유닛의 움직임을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 5c 는, 클리닝 처리에 있어서의 제거 유닛의 움직임을 모식적으로 나타내는 도면이다.
도 6 은, 이 도포 장치에 있어서의 도포 처리를 나타내는 플로 차트이다.
도 7 은, 클리닝 처리를 나타내는 플로 차트이다.
도 8a 는, 예비 클리닝 처리의 원리를 설명하는 도면이다.
도 8b 는, 예비 클리닝 처리의 원리를 설명하는 도면이다.

도 1 은 본 발명에 관한 도포 장치의 일 실시형태의 전체 구성을 모식적으로 나타내는 도면이다. 이 도포 장치 (1) 는, 도 1 의 좌측으로부터 우측을 향하여 수평 자세로 반송되는 기판 (W) 의 상면 (Wf) 에 도포액을 도포하는 슬릿 코터이다. 또한, 이하의 각 도면에 있어서 장치 각 부의 배치 관계를 명확하게 하기 위해서, 기판 (W) 의 반송 방향을 「X 방향」이라고 하고, 도 1 의 좌측으로부터 우측을 향하는 수평 방향을 「＋X 방향」이라고 칭하고, 역방향을 「-X 방향」이라고 칭한다. 또, X 방향과 직교하는 수평 방향 Y 중, 장치의 정면측을 「-Y 방향」이라고 칭함과 함께, 장치의 배면측을 「＋Y 방향」이라고 칭한다. 또한 연직 방향 Z 에 있어서의 상방향 및 하방향을 각각 「＋Z 방향」및「-Z 방향」이라고 칭한다.

먼저 도 1 을 사용하여 이 도포 장치 (1) 의 구성 및 동작의 개요를 설명하고, 그 다음에 메인터넌스 유닛의 보다 상세한 구조에 대해 설명한다. 또한, 도포 장치 (1) 의 기본적인 구성이나 동작 원리는, 본원 출원인이 먼저 개시한 일본 공개특허공보 2018-187597호에 기재된 것과 공통된다. 그래서, 본 명세서에서는, 도포 장치 (1) 의 각 구성 중 당해 공지 문헌에 기재된 것과 동일한 구성을 적용 가능한 것, 및 그 기재로부터 구조를 용이하게 이해할 수 있는 것에 대해서는 자세한 설명을 생략하는 경우가 있다.

도포 장치 (1) 에서는, 기판 (W) 의 반송 방향 (Dt) (＋X 방향) 을 따라, 입력 컨베이어 (100), 입력 이재부 (2), 부상 스테이지부 (3), 출력 이재부 (4), 출력 컨베이어 (110) 가 이 순서대로 근접하여 배치되어 있고, 이하에 상세히 서술하는 바와 같이, 이들에 의해 대략 수평 방향으로 연장되는 기판 (W) 의 반송 경로가 형성되어 있다. 또한, 이하의 설명에 있어서 기판 (W) 의 반송 방향 (Dt) 과 관련지어 위치 관계를 나타낼 때, 「기판 (W) 의 반송 방향 (Dt) 에 있어서의 상류측」을 간단히 「상류측」으로, 또 「기판 (W) 의 반송 방향 (Dt) 에 있어서의 하류측」을 간단히 「하류측」으로 약기하는 경우가 있다. 이 예에서는, 어느 기준 위치에서 보아 상대적으로 (-X) 측이 「상류측」, (＋X) 측이 「하류측」에 상당한다.

처리 대상인 기판 (W) 은 도 1 의 좌측으로부터 입력 컨베이어 (100) 에 반입된다. 입력 컨베이어 (100) 는, 롤러 컨베이어 (101) 와, 이것을 회전 구동시키는 회전 구동 기구 (102) 를 구비하고 있고, 롤러 컨베이어 (101) 의 회전에 의해 기판 (W) 은 수평 자세로 하류측, 요컨대 (＋X) 방향으로 반송된다. 입력 이재부 (2) 는, 롤러 컨베이어 (21) 와, 이것을 회전 구동시키는 기능 및 승강시키는 기능을 갖는 회전·승강 구동 기구 (22) 를 구비하고 있다. 롤러 컨베이어 (21) 가 회전함으로써, 기판 (W) 은 더욱 (＋X) 방향으로 반송된다. 또, 롤러 컨베이어 (21) 가 승강함으로써 기판 (W) 의 연직 방향 위치가 변경된다. 이와 같이 구성된 입력 이재부 (2) 에 의해, 기판 (W) 은 입력 컨베이어 (100) 로부터 부상 스테이지부 (3) 로 이재된다.

부상 스테이지부 (3) 는, 기판의 반송 방향 (Dt) 을 따라 3 분할된 평판상의 스테이지를 구비한다. 즉, 부상 스테이지부 (3) 는 입구 부상 스테이지 (31), 도포 스테이지 (32) 및 출구 부상 스테이지 (33) 를 구비하고 있고, 이들 각 스테이지의 상면은 서로 동일 평면의 일부를 이루고 있다. 입구 부상 스테이지 (31) 및 출구 부상 스테이지 (33) 의 각각의 상면에는 부상 제어 기구 (35) 로부터 공급되는 압축 공기를 분출하는 분출공이 매트릭스상으로 다수 형성되어 있고, 분출되는 기류로부터 부여되는 부력에 의해 기판 (W) 이 부상된다. 이렇게 하여 기판 (W) 의 하면 (Wb) 이 스테이지 상면으로부터 이간된 상태로 수평 자세로 지지된다. 기판 (W) 의 하면 (Wb) 과 스테이지 상면의 거리, 요컨대 부상량은, 예를 들어, 10 마이크로미터 내지 500 마이크로미터로 할 수 있다.

한편, 도포 스테이지 (32) 의 상면에서는, 압축 공기를 분출하는 분출공과, 기판 (W) 의 하면 (Wb) 과 스테이지 상면 사이의 공기를 흡인하는 흡인공이 교대로 배치되어 있다. 부상 제어 기구 (35) 가 분출공으로부터의 압축 공기의 분출량과 흡인공으로부터의 흡인량을 제어함으로써, 기판 (W) 의 하면 (Wb) 과 도포 스테이지 (32) 의 상면의 거리가 정밀하게 제어된다. 이로써, 도포 스테이지 (32) 의 상방을 통과하는 기판 (W) 의 상면 (Wf) 의 연직 방향 위치가 규정값으로 제어된다. 부상 스테이지부 (3) 의 구체적 구성으로는, 예를 들어, 일본 특허공보 제5346643호에 기재된 것을 적용 가능하다.

또한, 입구 부상 스테이지 (31) 에는, 도면에는 나타나지 않은 리프트 핀이 배치 형성되어 있고, 부상 스테이지부 (3) 에는 이 리프트 핀을 승강시키는 리프트 핀 구동 기구 (34) 가 형성되어 있다.

입력 이재부 (2) 를 통하여 부상 스테이지부 (3) 에 반입되는 기판 (W) 은, 롤러 컨베이어 (21) 의 회전에 의해 (＋X) 방향으로의 추진력이 부여되어, 입구 부상 스테이지 (31) 상으로 반송된다. 입구 부상 스테이지 (31), 도포 스테이지 (32) 및 출구 부상 스테이지 (33) 는 기판 (W) 을 부상 상태로 지지하지만, 기판 (W) 을 수평 방향으로 이동시키는 기능을 갖고 있지 않다. 부상 스테이지부 (3) 에 있어서의 기판 (W) 의 반송은, 입구 부상 스테이지 (31), 도포 스테이지 (32) 및 출구 부상 스테이지 (33) 의 하방에 배치된 기판 반송부 (5) 에 의해 실시된다.

기판 반송부 (5) 는, 기판 (W) 의 하면 주연부에 부분적으로 맞닿음으로써 기판 (W) 을 하방으로부터 지지하는 척 기구 (51) 와, 척 기구 (51) 의 지지부 (513) 에 형성된 흡착 패드 (도시 생략) 에 부압을 주어 기판 (W) 을 흡착 유지시키는 기능 및 척 기구 (51) 를 X 방향으로 왕복 주행시키는 기능을 갖는 흡착·주행 제어 기구 (52) 를 구비하고 있다. 척 기구 (51) 가 기판 (W) 을 유지한 상태에서는, 기판 (W) 의 하면 (Wb) 은 부상 스테이지부 (3) 의 각 스테이지의 상면보다 높은 위치에 위치하고 있다. 따라서, 기판 (W) 은, 척 기구 (51) 에 의해 주연부를 흡착 유지되면서, 부상 스테이지부 (3) 로부터 부여되는 부력에 의해 전체적으로 수평 자세를 유지한다.

입력 이재부 (2) 로부터 부상 스테이지부 (3) 에 반입된 기판 (W) 을 척 기구 (51) 가 유지하고, 이 상태로 척 기구 (51) 가 (＋X) 방향으로 이동함으로써, 기판 (W) 이 입구 부상 스테이지 (31) 의 상방으로부터 도포 스테이지 (32) 의 상방을 경유하여 출구 부상 스테이지 (33) 의 상방으로 반송된다. 반송된 기판 (W) 은, 출구 부상 스테이지 (33) 의 (＋X) 측에 배치된 출력 이재부 (4) 에 건네진다.

출력 이재부 (4) 는, 롤러 컨베이어 (41) 와, 이것을 회전 구동시키는 기능 및 승강시키는 기능을 갖는 회전·승강 구동 기구 (42) 를 구비하고 있다. 롤러 컨베이어 (41) 가 회전함으로써, 기판 (W) 에 (＋X) 방향으로의 추진력이 부여되어, 기판 (W) 은 반송 방향 (Dt) 을 따라 추가로 반송된다. 또, 롤러 컨베이어 (41) 가 승강함으로써 기판 (W) 의 연직 방향 위치가 변경된다. 출력 이재부 (4) 에 의해, 기판 (W) 은 출구 부상 스테이지 (33) 의 상방으로부터 출력 컨베이어 (110) 로 이재된다.

출력 컨베이어 (110) 는, 롤러 컨베이어 (111) 와, 이것을 회전 구동시키는 회전 구동 기구 (112) 를 구비하고 있고, 롤러 컨베이어 (111) 의 회전에 의해 기판 (W) 은 더욱 (＋X) 방향으로 반송되고, 최종적으로 도포 장치 (1) 밖으로 내보내진다. 또한, 입력 컨베이어 (100) 및 출력 컨베이어 (110) 는 도포 장치 (1) 의 구성의 일부로서 형성되어도 되는데, 도포 장치 (1) 와는 별체의 것이어도 된다. 또 예를 들어, 도포 장치 (1) 의 상류측에 형성되는 별도 유닛의 기판 반출 기구가 입력 컨베이어 (100) 로서 사용되어도 된다. 또, 도포 장치 (1) 의 하류측에 형성되는 별도 유닛의 기판 수용 기구가 출력 컨베이어 (110) 로서 사용되어도 된다.

이와 같이 하여 반송되는 기판 (W) 의 반송 경로 상에, 기판 (W) 의 상면 (Wf) 에 도포액을 도포하기 위한 도포 유닛 (7) 이 배치된다. 도포 유닛 (7) 은 슬릿 노즐인 노즐 (71) 을 갖고 있다. 노즐 (71) 에는, 도시되지 않은 도포액 공급부로부터 도포액이 공급되어, 노즐 하부에 하향으로 개구되는 토출구로부터 도포액이 토출된다.

노즐 (71) 은, 도포 유닛 (7) 의 위치 결정 기구 (79) 에 의해 X 방향 및 Z 방향으로 이동 위치 결정 가능하게 되어 있다. 위치 결정 기구 (79) 에 의해, 노즐 (71) 이 도포 스테이지 (32) 의 상방의 도포 위치 (점선으로 나타나는 위치) 에 위치 결정된다. 도포 위치에 위치 결정된 노즐 (71) 로부터 도포액이 토출되어, 도포 스테이지 (32) 사이를 반송되어 오는 기판 (W) 에 도포된다. 이렇게 하여 기판 (W) 으로의 도포액의 도포가 실시된다.

기판 (W) 의 반송 경로의 상방에는, 노즐 (71) 에 대해 메인터넌스를 실시하기 위한 메인터넌스 유닛 (8) 이 형성되어 있다. 메인터넌스 유닛 (8) 은, 배트 (80) 내에 형성된, 세정액 저류조 (82) 와, 노즐 클리너 (81) 와, 세정액 저류조 (82) 및 노즐 클리너 (81) 의 동작을 제어하는 메인터넌스 제어 기구 (89) 를 구비하고 있다.

노즐 (71) 이 노즐 클리너 (81) 의 상방 위치 (클리닝 위치) 에 있는 상태에서는, 노즐 클리너 (81) 에 의해 노즐 (71) 의 토출구의 주위에 부착된 도포액이 제거된다. 이와 같이 도포 위치에 이동시키기 전의 노즐 (71) 에 대해 클리닝 처리를 실시하게 함으로써, 도포 위치에서의 도포액의 토출을 그 초기 단계부터 안정시킬 수 있다. 또한, 노즐 (71) 및 노즐 클리너 (81) 의 자세한 구성, 그리고 노즐 클리너 (81) 에 의한 노즐 (71) 의 클리닝 처리에 대해서는 다음에 상세히 서술한다.

또, 위치 결정 기구 (79) 는, 노즐 (71) 을 노즐 하단이 세정액 저류조 (82) 내에 저류되는 세정액에 접액하는 위치 (대기 위치) 에 위치 결정하는 것이 가능하다. 노즐 (71) 을 사용한 도포 처리가 실행되지 않을 때에는, 노즐 (71) 은 이 대기 위치에 위치 결정된다. 또한, 상기 세정액에 초음파를 부여하여 노즐 하단을 세정하는 구성으로 해도 된다.

이 외, 도포 장치 (1) 에는, 장치 각 부의 동작을 제어하기 위한 제어 유닛 (9) 이 형성되어 있다. 제어 유닛 (9) 은 소정의 제어 프로그램이나 각종 데이터를 기억하는 기억 수단, 이 제어 프로그램을 실행함으로써 장치 각 부에 소정의 동작을 실행시키는 CPU 등의 연산 수단, 사용자나 외부 장치와의 정보 교환을 담당하는 인터페이스 수단 등을 구비하고 있다. 본 실시형태에서는, 후술하는 바와 같이 연산 수단이 장치 각 부를 제어하여 클리닝 처리를 실행한다.

도 2 는 노즐을 기울어진 하방에서 본 사시도이다. 또한, 동 도면에 있어서는, 클리닝 대상이 되는 노즐 (71) 의 토출구 (711) 의 근방의 구성을 명확하게 하기 위해서 노즐 선단의 치수를 실제와는 다르게 하여 나타내고 있다. 이 점에 대해서는 다음에 설명하는 도 4 에 있어서도 동일하다.

이 노즐 (71) 은 Y 방향으로 연장되는 장척 슬릿상의 개구부인 토출구 (711) 를 갖고 있다. 토출구 (711) 는 Y 방향에 있어서 노즐 (71) 의 전체 길이보다 짧은 토출구 범위 (71R) 에서 개구되어 있다. 한편, 노즐 (71) 의 Y 방향의 양 단에서는 토출구 (711) 가 개구되어 있지 않고, 토출구 (711) 의 (-Y) 측에서 경사부 (712) 가 형성됨과 함께, (＋Y) 측에서 단차부 (713) 가 형성되어 있다.

이 노즐 (71) 은 부상 스테이지부 (3) 에 의해 부상되면서 X 방향으로 반송되는 기판 (W) 의 상면 (Wf) 을 향하여 토출구 (711) 로부터 연직 하방, 요컨대 (-Z) 방향으로 도포액을 토출 가능한 구성을 갖는다. 구체적으로는, 노즐 (71) 은, 후술하는 노즐 지지 구조 (도 4a 및 도 4b) 에 의해 지지되는 노즐 본체부 (714) 와, 노즐 본체부 (714) 보다 하방으로 돌출되는 립부 (715) 를 갖고 있다. 그리고, 노즐 (71) 에 대해 도포액이 도면 밖의 공급 기구로부터 압송되면, 노즐 본체부 (714) 의 내부에 형성되는 내부 유로를 경유하여 토출구 (711) 에 송액되어, 토출구 (711) 로부터 (-Z) 방향으로 토출된다.

립부 (715) 는, 그 길이 방향인 Y 방향으로부터의 측면시에 있어서 끝으로 갈수록 가늘어지는 볼록 형상을 갖고, 그 선단 (하단) 에 형성된 립면 (716) 과, 립면 (716) 의 (＋X) 측에 형성되는 립측면 (717a) 과, (-X) 측에 형성되는 립측면 (717b) 을 갖고 있다. 이하의 설명에서는, 립측면 (717a) 과 립측면 (717b) 을 구별하지 않을 때에는, 간단히 립측면 (717) 이라고 부른다. 또, 립부 (715) 에는, 상기한 토출구 (711), 경사부 (712) 및 단차부 (713) 가 형성되어 있다.

상기 립면 (716) 의 중앙부는 연직 하방 (-Z 방향) 을 향하고, 요컨대 기판 (W) 의 상면 (Wf) 과 대향하도록 형성되고, 당해 립면 (716) 중 토출구 범위 (71R) 내의 영역에, 토출구 (711) 가 형성되어 있다. 따라서, 토출구 (711) 의 개구면은 수평면 (XY 평면) 으로 되어 있다.

또, 경사부 (712) 는, 토출구 (711) 의 (-Y) 측 단부 위치 (P2) 로부터 토출구 (711) 의 연장 형성 방향 Y 의 (-Y) 측 또한 도포액의 토출 방향의 반대측, 요컨대 (＋Z) 측으로 연장 형성되어 있다. 보다 상세하게는, 립부 (715) 의 (＋Y) 측 단부를 기울어진 상방으로부터 절결하여, 연직 하방으로부터 보았을 때에 경사부 (712) 가 대략 삼각 형상 (혹은 사다리꼴 형상) 을 나타내도록 형성되어 있다. 한편, 토출구 (711) 를 사이에 두고 경사부 (712) 의 반대측에는, 단차부 (713) 가 토출구 (711) 의 (＋Y) 측 단부 (P3) 로부터 (＋Z) 측으로 연장되어 형성되어 있다. 요컨대, 단차부 (713) 의 표면은 립면 (716) 을 (＋Y) 방향으로 연장시킨 가상 수평면보다 (＋Z) 방향으로 후퇴되고, 결과적으로 립면 (716) 과의 사이에 단차가 형성되어 있다.

또한, 도 2 중의 부호 P1 은 다음에 설명하는 노즐 클리너 (81) 의 스크레이퍼가 클리닝 동작에 있어서 최초로 맞닿는 접촉 개시 위치이고, 부호 P2 는 노즐 클리너 (81) 에 의한 토출구 (711) 의 클리닝 동작이 개시되는 클리닝 개시 위치, 요컨대 토출구 (711) 의 (-Y) 측 단부의 위치를 나타낸다. 또, 부호 P3 은 노즐 클리너 (81) 에 의한 토출구 (711) 의 클리닝 동작이 종료되는 위치, 요컨대 토출구 (711) 의 (＋Y) 측 단부의 위치를 나타내고 있다.

도 3 은 도 1 에 나타내는 도포 장치의 측면도이고, 구체적으로는 도포 장치 (1) 의 주요부를 (＋X) 방향에서 본 도면이다. 도포 유닛 (7) 은, 도 3 에 나타내는 바와 같이 가교 구조를 갖고 있다. 구체적으로는, 도포 유닛 (7) 은, 부상 스테이지부 (3) 의 상방에서 Y 방향으로 연장되는 빔 부재 (731) 의 Y 방향 양 단부를, 기대 (10) 로부터 상방으로 세워져 형성된 1 쌍의 기둥 부재 (732, 733) 로 지지한 구조를 갖고 있다. 기둥 부재 (732) 에는 예를 들어, 볼 나사 기구에 의해 구성된 승강 기구 (734) 가 장착되어 있고, 승강 기구 (734) 에 의해 빔 부재 (731) 의 (＋Y) 측 단부가 자유롭게 승강하도록 지지되어 있다. 또, 기둥 부재 (733) 에는 예를 들어, 볼 나사 기구에 의해 구성된 승강 기구 (735) 가 장착되어 있고, 승강 기구 (735) 에 의해 빔 부재 (731) 의 (-Y) 측 단부가 자유롭게 승강하도록 지지되어 있다. 제어 유닛 (9) 으로부터의 제어 지령에 따라 승강 기구 (734, 735) 가 연동함으로써, 빔 부재 (731) 가 수평 자세인 채 연직 방향 (Z 방향) 으로 이동한다. 상기한 승강 기구로는, 볼 나사 기구 대신에 예를 들어, 리니어 모터, 직동 가이드, 에어 실린더, 솔레노이드와 같은 각종 액추에이터 등, 적절한 직선 운동 기구가 사용되어도 된다.

빔 부재 (731) 의 중앙 하부에는, 노즐 (71) 이 토출구 (711) 를 하향으로 하여 장착되어 있다. 따라서, 승강 기구 (734, 735) 가 작동함으로써, 노즐 (71) 의 Z 방향으로의 이동이 실현된다.

기둥 부재 (732, 733) 는 기대 (10) 상에 있어서 X 방향으로 이동 가능하게 구성되어 있다. 구체적으로는, 기대 (10) 의 (＋Y) 측 및 (-Y) 측 단부 상면의 각각에, X 방향으로 연장 형성된 1 쌍의 주행 가이드 (74L, 74R가) 가 장착되어 있다. 기둥 부재 (732) 는 그 하부에 장착된 슬라이더 (736) 를 통하여 (＋Y) 측의 주행 가이드 (74L) 에 걸어 맞춰진다. 슬라이더 (736) 는 주행 가이드 (74L) 를 따라 X 방향으로 자유롭게 이동하도록 되어 있다. 동일하게, 기둥 부재 (733) 는 그 하부에 장착된 슬라이더 (737) 를 통하여 (-Y) 측의 주행 가이드 (74R) 에 걸어맞춰져, X 방향으로 자유롭게 이동하도록 되어 있다.

또, 기둥 부재 (732, 733) 는 리니어 모터 (75L, 75R) 에 의해 X 방향으로 이동된다. 구체적으로는, 리니어 모터 (75L, 75R) 의 마그넷 모듈이 고정자로서 기대 (10) 에 X 방향을 따라 연장 형성되어, 코일 모듈이 이동자로서 기둥 부재 (732, 733) 각각의 하부에 장착되어 있다. 제어 유닛 (9) 으로부터의 제어 지령에 따라 리니어 모터 (75L, 75R) 가 작동함으로써, 도포 유닛 (7) 전체가 X 방향을 따라 이동한다. 이로써, 노즐 (71) 의 X 방향으로의 이동이 실현된다. 기둥 부재 (732, 733) 의 X 방향 위치에 대해서는, 슬라이더 (736, 737) 의 근방에 형성된 리니어 스케일 (76L, 76R) 에 의해 검출 가능하다. 승강 기구 (734, 735) 와 마찬가지로, 이 경우에 있어서도, 리니어 모터 대신에, 볼 나사 기구, 직동 가이드 등의 적절한 직선 운동 기구에 의해 도포 유닛 (7) 의 이동이 실현되어도 된다.

이와 같이, 승강 기구 (734, 735) 가 동작함으로써 노즐 (71) 이 Z 방향으로 이동하고, 리니어 모터 (75L, 75R) 가 동작함으로써 노즐 (71) 이 X 방향으로 이동한다. 즉, 제어 유닛 (9) 이 이들 기구를 제어함으로써, 노즐 (71) 의 각 정지 위치 (도포 위치, 대기 위치 등) 로의 위치 결정이 실현된다. 따라서, 승강 기구 (734, 735), 리니어 모터 (75L, 75R) 및 이들을 제어하는 제어 유닛 (9) 등이 일체로서, 도 1 의 위치 결정 기구 (79) 로서 기능하고 있다.

다음으로 메인터넌스 유닛 (8) 에 대해 설명한다. 도 1 에 나타낸 바와 같이, 메인터넌스 유닛 (8) 은, 배트 (80) 내에 노즐 클리너 (81) 및 세정액 저류조 (82) 가 수용된 구조를 갖고 있다. 도 3 에 나타내는 바와 같이, 배트 (80) 는 Y 방향으로 연장 형성된 빔 부재 (861) 에 의해 지지되고, 빔 부재 (861) 의 양 단부가 1 쌍의 기둥 부재 (862, 863) 에 의해 지지되어 있다. 1 쌍의 기둥 부재 (862, 863) 는 Y 방향으로 연장되는 플레이트 (864) 의 Y 방향 양 단부에 장착되어 있다.

플레이트 (864) 의 Y 방향 양 단부의 하방에는, 기대 (10) 상에 1 쌍의 주행 가이드 (84L, 84R) 가 X 방향으로 연장 형성되어 있다. 플레이트 (864) 의 Y 방향 양 단부는, 슬라이더 (866, 867) 를 통하여 주행 가이드 (84L, 84R) 에 걸어맞춰져 있다. 이 때문에, 메인터넌스 유닛 (8) 이 주행 가이드 (84L, 84R) 를 따라 X 방향으로 이동 가능하게 되어 있다.

이와 같이 메인터넌스 유닛 (8) 은 X 방향으로 이동 가능하다. 단, 후술하는 본 실시형태의 도포 장치 (1) 의 동작에 있어서는, 메인터넌스 유닛 (8) 을 X 방향으로 이동시키는 국면은 존재하지 않는다. 예를 들어, 장치 전체의 메인터넌스나 부품 교환 등을 할 때에, 사용자의 요구에 따라 메인터넌스 유닛 (8) 을 이동시키는 것은 가능하다. 이를 위한 이동은 오퍼레이터에 의해 수동으로 이루어져도 되고, 리니어 모터 등, 적절한 직선 운동 기구에 의해 구동되어도 된다.

다음으로 척 기구 (51) 의 구조에 대해 도 3 을 참조하여 설명한다. 척 기구 (51) 는, XZ 평면에 관해서 서로 대칭인 형상을 갖고, Y 방향으로 이격 배치된 1 쌍의 척 부재 (51L, 51R) 를 구비한다. 이들 중 (＋Y) 측에 배치된 척 부재 (51L) 는, 기대 (10) 에 X 방향으로 연장 형성된 주행 가이드 (57L) 에 의해 X 방향으로 주행 가능하게 지지되어 있다. 구체적으로는, 척 부재 (51L) 는, X 방향에 위치를 다르게 하여 형성된 2 개의 수평인 플레이트 부위와, 이들 플레이트 부위를 접속시키는 접속 부위를 갖는 베이스부 (512) 를 구비하고 있다. 베이스부 (512) 의 2 개의 플레이트 부위의 하부에는 각각 슬라이더 (511) 가 형성되고, 슬라이더 (511) 가 주행 가이드 (57L) 에 걸어맞춰짐으로써, 베이스부 (512) 는 주행 가이드 (57L) 를 따라 X 방향으로 주행 가능하게 되어 있다.

베이스부 (512) 의 2 개의 플레이트 부위의 상부에는, 상방으로 연장되고 그 상단부에 도시를 생략하는 흡착 패드가 형성된 지지부 (513) 가 형성되어 있다. 도 1 에 나타내는 바와 같이, 지지부 (513) 는, 기판 (W) 의 X 방향에 있어서의 양 단부 위치에 대응하고, X 방향에 위치를 다르게 하여 2 개 배치되어 있다. 베이스부 (512) 가 주행 가이드 (57L) 를 따라 X 방향으로 이동하면, 이것과 일체적으로 2 개의 지지부 (513, 513) 가 X 방향으로 이동한다. 또한, 베이스부 (512) 의 2 개의 플레이트 부위는 서로 분리되어, 이들 플레이트 부위가 X 방향으로 일정한 거리를 유지하면서 이동함으로써 외관상 일체의 베이스부로서 기능하는 구조여도 된다. 이 거리를 기판의 길이에 따라 설정하면, 여러 가지 길이의 기판에 대응하는 것이 가능해진다.

척 부재 (51L) 는, 리니어 모터 (58L) 에 의해 X 방향으로 이동 가능하게 되어 있다. 즉, 리니어 모터 (58L) 의 마그넷 모듈이 고정자로서 기대 (10) 에 X 방향으로 연장 형성되고, 코일 모듈이 이동자로서 척 부재 (51L) 의 하부에 장착되어 있다. 제어 유닛 (9) 으로부터의 제어 지령에 따라 리니어 모터 (58L) 가 작동함으로써, 척 부재 (51L) 가 X 방향을 따라 이동한다. 척 부재 (51L) 의 X 방향 위치에 대해서는 리니어 스케일 (59L) 에 의해 검출 가능하다.

(-Y) 측에 형성된 척 부재 (51R) 도 동일하게, 2 개의 플레이트 부위 및 접속 부위를 갖는 베이스부 (512) 와, 지지부 (513) 를 구비하고 있다. 단, 그 형상은, XZ 평면에 관해서 척 부재 (51L) 와는 대칭인 것으로 되어 있다. 각 플레이트 부위는 각각 슬라이더 (511) 에 의해 주행 가이드 (57R) 에 걸어맞춰진다. 또, 척 부재 (51R) 는, 리니어 모터 (58R) 에 의해 X 방향으로 이동 가능하게 되어 있다. 즉, 리니어 모터 (58R) 의 마그넷 모듈이 고정자로서 기대 (10) 에 X 방향으로 연장 형성되고, 코일 모듈이 이동자로서 척 부재 (51R) 의 하부에 장착되어 있다. 제어 유닛 (9) 으로부터의 제어 지령에 따라 리니어 모터 (58R) 가 작동함으로써, 척 부재 (51R) 가 X 방향을 따라 이동한다. 척 부재 (51R) 의 X 방향 위치에 대해서는 리니어 스케일 (59R) 에 의해 검출 가능하다.

제어 유닛 (9) 은, 척 부재 (51L, 51R) 가 X 방향에 있어서 항상 동일 위치가 되도록, 이들의 위치 제어를 실시한다. 이로써, 1 쌍의 척 부재 (51L, 51R) 가 외관상 일체의 척 기구 (51) 로서 이동하게 된다. 척 부재 (51L, 51R) 를 기계적으로 결합하는 경우에 비하여, 척 기구 (51) 와 부상 스테이지부 (3) 의 간섭을 용이하게 회피하는 것이 가능해진다.

합계 4 개의 지지부 (513) 는 각각, 유지되는 기판 (W) 의 네 모서리에 대응하여 배치된다. 즉, 척 부재 (51L) 의 2 개의 지지부 (513, 513) 는, 기판 (W) 의 (＋Y) 측 주연부로서 반송 방향 (Dt) 에 있어서의 상류측 단부와 하류측 단부를 각각 유지한다. 한편, 척 부재 (51R) 의 2 개의 지지부 (513, 513) 는, 기판 (W) 의 (-Y) 측 주연부로서 반송 방향 (Dt) 에 있어서의 상류측 단부와 하류측 단부를 각각 유지한다. 각 지지부 (513) 의 흡착 패드에는 필요에 따라 부압이 공급되고, 이로써 기판 (W) 의 네 모서리가 척 기구 (51) 에 의해 하방으로부터 흡착 유지된다.

척 기구 (51) 가 기판 (W) 을 유지하면서 X 방향으로 이동함으로써 기판 (W) 이 반송된다. 이와 같이, 리니어 모터 (58L, 58R), 각 지지부 (513) 에 부압을 공급하기 위한 기구 (도시 생략), 이들을 제어하는 제어 유닛 (9) 등이 일체로서, 도 1 의 흡착·주행 제어 기구 (52) 로서 기능하고 있다.

도 1 및 도 3 에 나타내는 바와 같이, 척 기구 (51) 는, 부상 스테이지부 (3) 의 각 스테이지, 즉 입구 부상 스테이지 (31), 도포 스테이지 (32) 및 출구 부상 스테이지 (33) 의 상면보다 상방에 기판 (W) 의 하면을 유지한 상태로 기판 (W) 을 반송한다. 척 기구 (51) 는, 기판 (W) 중 각 스테이지 (31, 32, 33) 와 대향하는 중앙 부분보다 Y 방향에 있어서 외측의 주연부의 일부를 유지할 뿐이기 때문에, 기판 (W) 의 중앙부는 주연부에 대해 하방으로 휘게 된다. 부상 스테이지부 (3) 는, 이와 같은 기판 (W) 의 중앙부에 부력을 부여함으로써 기판 (W) 의 연직 방향 위치를 제어하여 수평 자세로 유지하는 기능을 갖는다.

도 4a 및 도 4b 는 노즐 클리너의 구성을 나타내는 도면이다. 구체적으로는, 도 4a 는 노즐 클리너 (81) 의 구성을 나타내는 사시도이고, 도 4b 는 노즐 클리너 (81) 와 노즐 (71) 의 맞닿음 상태를 나타내는 부분 확대 단면도이다. 노즐 클리너 (81) 는, 노즐 (71) 의 립부 (715) 을 따른 클리닝 방향 (Dc) 으로 노즐 클리닝 부재 (811) 를 수반하여 이동함으로써 립부 (715) 에 부착되는 부착물을 제거하는 제거 유닛 (810) 과, 제거 유닛 (810) 을 클리닝 방향 (Dc) 으로 구동시키는 구동 유닛 (818) 을 구비하고 있다. 여기서, 클리닝 방향 (Dc) 은 토출구 (711) 의 연장 형성 방향 Y 와 평행으로 (-Y) 측으로부터 (＋Y) 측을 향하는 방향을 의미하고 있고, 구동 유닛 (818) 은 제거 유닛 (810) 을 Y 방향으로 왕복 이동시키는 것이 가능하게 되어 있다. 또한, 제거 유닛 (810) 에 의한 제거 대상이 되는 부착물로는, 노즐 (71) 의 립부 (715) 에 부착될 수 있는 여러 가지의 물질을 들 수 있고, 예를 들어, 도포액의 용질이 건조·고화된 것이 있다. 예를 들어, 도포액이 컬러 필터용의 포토레지스트인 경우에는, 도포액에 포함되는 안료가 부착물로서 노즐 (71) 의 립부 (715) 에 부착된다.

또, 노즐 클리너 (81) 는 상기한 제거 유닛 (810) 및 구동 유닛 (818) 이외에, 세정부 (도시 생략) 및 린스액 공급부 (88) 를 구비하고 있다. 세정부는, 노즐 클리닝 부재 (811) 를 밀폐함으로써 형성한 밀폐 공간의 내부에서 노즐 클리닝 부재 (811) 를 세정하는 것이다. 요컨대, 세정부는, 노즐 (71) 의 립부 (715) 에 부착되는 부착물을 닦아내어 제거한 노즐 클리닝 부재 (811) 에 대하여, 상기 밀폐 공간 내에서 세정액을 공급함으로써 노즐 클리닝 부재 (811) 에 부착되는 상기 부착물을 씻어낸다. 이 세정부로는, 예를 들어, 일본 공개특허공보 2014-176812호에 기재된 것을 사용할 수 있다. 또, 린스액 공급부 (88) 는, 그 선단이 제거 유닛 (810) 에 장착된 가요성의 린스액 공급관을 통하여 제거 유닛 (810) 에 린스액을 공급하는 기능을 갖고 있다.

제거 유닛 (810) 은 주로, 노즐 (71) 의 립부 (715) 에 대응하는 오목부 (본 실시형태에서는 대략 V 자형의 V 자 홈) 를 갖는 노즐 클리닝 부재 (811) 와, 노즐 클리닝 부재 (811) 를 지지하는 지지부 (812) 를 갖는다. 또한, 도 4a 에서는, 노즐 (71) 의 클리닝 방향 (Dc) 의 상류측 단부보다 더욱 클리닝 방향 (Dc) 의 상류측의 위치에 제거 유닛 (810) 이 위치할 때의, 노즐 (71) 및 제거 유닛 (810) 의 구성이 나타나 있다.

제거 유닛 (810) 은, 스프레더 (811A) 및 스크레이퍼 (811B) 의 2 종류의 노즐 클리닝 부재 (811) 를 갖는다. 이들 노즐 클리닝 부재 (811) 중, 스프레더 (811A) 는 린스액을 노즐 (71) 의 립부 (715) 에 펴바르는 린스액 공급 기능을 담당하고, 스크레이퍼 (811B) 는 스프레더 (811A) 의 클리닝 방향 (Dc) 의 상류측에서, 노즐 (71) 의 립부 (715) 로부터 린스액을 제거하는 액제거 기능을 담당한다. 이로써, 노즐 (71) 의 립부 (715) 의 부착물을 린스액과 함께 제거할 수 있다. 요컨대, 건조하여 고화시킨 도포액 등의 부착물이 립측면 (717) 에 부착되어 있는 경우, 스프레더 (811A) 에 의해 펴발려진 린스액이 부착물을 어느 정도 용해시키고, 이 용해물 (부착물) 을 포함하는 린스액이 스크레이퍼 (811B) 에 의해 제거된다. 이와 같이 노즐 클리닝 부재 (811) 는, 스프레더 (811A) 및 스크레이퍼 (811B) 를 사용하여, 노즐 (71) 의 립부 (15) 로부터 부착물을 제거하는 클리닝 처리를 실행한다. 이들 스프레더 (811A) 및 스크레이퍼 (811B) 는 기본적으로 공통되는 외형을 갖는다. 그래서, 이하에서는 이들을 총칭한 노즐 클리닝 부재 (811) 의 구조에 대해 설명한다.

도 4a 에 나타내는 바와 같이, 노즐 클리닝 부재 (811) 는 지지부 (812) 에 의해 지지 가능한 본체를 갖는다. 스크레이퍼 (811B) 의 본체는 예를 들어, 900 ∼ 4000 ㎫ (메가파스칼) 의 탄성률을 갖는 탄성체로 형성되어 있다. 예를 들어, 탄성 수지제의 스크레이퍼 (811B) 를 사용할 수 있다. 이에 반하여, 스프레더 (811A) 의 본체는 스크레이퍼 (811B) 의 본체보다 단단한 경질체로 형성되어 있다. 그리고, 본체 중앙부가 지지부 (812) 에 지지되어 있다. 도 4b 에 나타내는 바와 같이, 노즐 클리닝 부재 (811) 의 상부에는, 대략 V 자형의 홈인 V 자 홈 (811a) 이 형성되어 있다. V 자 홈 (811a) 은 노즐 (71) 의 립부 (715) 에 대응한 형상을 하고 있다. 보다 구체적으로는, V 자 홈 (811a) 의 상면은, 립측면 (717) 의 경사에 따른 경사를 가진 경사면부와, 립면 (716) 에 대응하여 대략 수평으로 형성된 수평면부를 갖고 있다.

도 4b 에 점선 화살표로 나타내는 바와 같이, 노즐 클리닝 부재 (811) 는, 노즐 (71) 에 대해 상대적으로, 상하 방향 (Z 방향) 으로 접근·이간 이동한다. 이 이동은, 실제의 장치에 있어서는 승강 기구 (734, 735) 에 의한 노즐 (71) 의 승강 동작에 의해 실현되지만, 노즐 클리닝 부재 (811) 의 승강에 의해 실현되어도 등가이다.

노즐 클리닝 부재 (811) 중 스크레이퍼 (811B) 는, 도 4b 에 점선으로 나타내는 바와 같이, 노즐 (71) 에 최접근한 상태에서는 노즐 (71) 의 하면에 맞닿는다. 이 때, 스크레이퍼 (811B) 의 상면과 노즐 (71) 의 하면은 정 (正) 의 면압으로 맞닿는다. 요컨대, 스크레이퍼 (811B) 는, 노즐 (71) 과 접촉한 상태로부터 더욱 노즐 (71) 측으로 밀어넣어진 상태가 되어 있다. 보다 구체적으로는, 이와 같은 상태가 되도록, 노즐 (71) 의 상하 방향 위치가 설정된다. 이 때의 스크레이퍼 (811B) 에 대한 노즐 (71) 의 Z 방향에 있어서의 상대적인 위치를, 이하에서는 「맞닿음 위치」라고 칭한다. 한편, 도 4b 에 실선으로 나타내는 바와 같이, 스크레이퍼 (811B) 와 노즐 (71) 이 크게 이간되는 상태에 있어서의 노즐 (71) 의 Z 방향에 있어서의 위치를, 이하에서는 「이간 위치」라고 칭하는 것으로 한다.

이와 같은 구성에 의해, 스크레이퍼 (811B) 는 소정의 맞닿음압으로 노즐 (71) 에 맞닿는다. 이 때, 스크레이퍼 (811B) 는, 토출구 (711) 의 주위의 노즐 (71) 표면, 구체적으로는 립면 (716) 및 립측면 (717) 을 덮도록 노즐 (71) 에 맞닿는다. 또한, 이 때 스크레이퍼 (811B) 는 립면 (716) 에 맞닿아 있어도 되고, 또 미소한 갭을 두고 립면 (716) 으로부터 이간되어 있어도 된다.

이에 대하여, 스프레더 (811A) 는 노즐 (71) 에 접근하지만 접촉은 하지 않는다. 즉, 스프레더 (811A) 는 그 상단부가 스크레이퍼 (811B) 의 상단부보다 낮은 위치가 되도록 배치되어 있다. 그 때문에, 스크레이퍼 (811B) 가 노즐 (71) 에 맞닿은 상태에서는, 스프레더 (811A) 상단의 V 자 홈 (811a) 은 미소한 갭을 두고 립부 (715) 와 대향하고 있다. 또, 스프레더 (811A) 의 상단 부근에는, 린스액 공급부 (88) 로부터 공급되는 린스액을 삼출시키기 위한 액공급공 (도시 생략) 이 형성되어 있고, 스프레더 (811A) 와 노즐 (71) 사이의 갭 공간에 린스액이 공급된다.

이와 같이 구성된 각 노즐 클리닝 부재 (811) 는, 적절한 고정 부재, 예를 들어, 볼트에 의해 지지부 (812) 에 자유롭게 착탈되도록 고정되어 있다. 지지부 (812) 는 플레이트상의 승강부 (816) 에 장착되어 있다. 승강부 (816) 상에 지지된 스크레이퍼 (811B) 를 X 방향 사이에 두도록, 1 쌍의 개구 조정 기구 (817) 가 승강부 (816) 에 형성되어 있다. 개구 조정 기구 (817) 는 승강부 (816) 상에서 소정의 범위 내에서 X 방향으로 위치 조정 가능해져 있어, 스크레이퍼 (811B) 를 X 방향의 양측에서 사이에 둠으로써, 스크레이퍼 (811B) 의 V 자 홈 (811a) 을 원하는 형상으로 유지하는 것이 가능하게 되어 있다.

이와 같이 각 노즐 클리닝 부재 (811) 가 고정된 승강부 (816) 의 하방에 베이스부 (813) 가 배치된다. 그리고, 승강부 (816) 는 베이스부 (813) 에 의해 승강 가능하게 지지되어 있다. 요컨대, 제거 유닛 (810) 에서는, 베이스부 (813) 의 상면으로부터 Z 방향으로 세워져 형성된 가이드 레일 (814) 과, 베이스부 (813) 와 승강부 (816) 사이에 형성된 탄성 지지 부재 (815) (예를 들어, 압축 스프링) 가 형성되어 있다. 그리고, 가이드 레일 (814) 이 승강부 (816) 의 이동을 Z 방향으로 안내하면서, 탄성 지지 부재 (815) 가 베이스부 (813) 에 대해 승강부 (816) 를 상방으로 탄성 지지한다. 그 때문에, 승강부 (816) 에 고정된 각 노즐 클리닝 부재 (811) 는, 탄성 지지 부재 (815) 의 탄성력에 의해 상방으로 탄성 지지된다.

또, 베이스부 (813) 는, 구동 유닛 (818) 에 장착되어 있다. 이 구동 유닛 (818) 은, Y 방향에 있어서 노즐 (71) 의 양 외측에 배치된 1 쌍의 롤러 (818A) 와, 롤러 (818A) 에 건너질러 걸쳐진 무단 벨트 (818B) 를 갖고, 무단 벨트 (818B) 의 상면에 베이스부 (813) 가 장착되어 있다. 이와 같이 구성된 구동 유닛 (818) 은, 롤러 (818A) 를 회전시켜 무단 벨트 (818B) 의 상면을 Y 방향으로 구동시키고, 제거 유닛 (810) 과 일체적으로 각 노즐 클리닝 부재 (811) 를 Y 방향으로 이동시킨다.

그리고, 이상과 같이 구성된 노즐 클리너 (81) 는, 상기한 접촉 개시 위치 (P1) (도 2) 에 있어서 노즐 (71) 의 립부 (715) 에 각 노즐 클리닝 부재 (811) 를 하방으로부터 근접시키면, 노즐 클리닝 부재 (811) 중 스크레이퍼 (811B) 만이 노즐 (71) 의 하면에 맞닿고, 탄성 지지 부재 (815) 에 의해 노즐 (71) 에 가압된다. 요컨대, 스크레이퍼 (811B) 의 V 자 홈 (811a) 이 노즐 (71) 과 맞닿는다. 이와 같이 본 실시형태에서는, 스크레이퍼 (811B) 의 V 자 홈 (811a) 이 본 발명의 「맞닿음 부위」의 일례에 상당하고, 노즐 (71) 의 하면이 본 발명의 「피맞닿음 부위」의 일례에 상당한다.

상기한 바와 같이 노즐 (71) 의 립부 (715) 로부터 스프레더 (811A) 를 이간시키면서 스크레이퍼 (811B) 의 V 자 홈 (811a) 을 노즐 (71) 의 립부 (715) 에 가압한 상태로, 각 노즐 클리닝 부재 (811) 를 클리닝 방향 (Dc) 으로 이동시킴으로써, 노즐 (71) 의 립부 (715) 가 클리닝된다.

도 5a 내지 도 5c 는 클리닝 처리에 있어서의 제거 유닛의 움직임을 모식적으로 나타내는 도면이다. 도 5a 에 나타내는 바와 같이, 제거 유닛 (810) 은 노즐 (71) 의 (-Y) 측 단부 부근의 접촉 개시 위치 (P1) 에서 노즐 (71) 의 하단에 맞닿은 후, 화살표 Dc 로 나타내는 바와 같이 (＋Y) 방향으로 이동한다. 도 5b 에 나타내는 바와 같이, 제거 유닛 (810) 의 스크레이퍼 (811B) 가 토출구 (711) 의 (-Y) 측 단부 위치 (P2) 에 도달함으로써, 클리닝 동작이 개시된다.

제거 유닛 (810) 이 더욱 화살표 방향 Dc 로 이동함으로써 토출구 (711) 의 주위에 대한 클리닝이 진행되고, 도 5c 에 나타내는 토출구 (711) 의 (＋Y) 측 단부 위치 (P3) 에 스크레이퍼 (811B) 가 도달한 시점에서 토출구 (711) 에 대한 클리닝은 종료된다. 스크레이퍼 (811B) 가 더욱 (＋Y) 방향측으로 나아가, 도면에 점선으로 나타내는 바와 같이, 최종적으로는 단부 위치 (P3) 및 노즐 (71) 의 (＋Y) 측 단부 위치보다 (＋Y) 측의 정지 위치 (P4) 까지 나아가 정지되고, 이로써 클리닝 처리가 종료된다.

도 6 은 이 도포 장치에 있어서의 도포 처리를 나타내는 플로 차트이다. 이 도포 처리는, 반송 경로를 따라 순차 반송되는 복수의 기판 (W) 에 대하여, 노즐 (71) 로부터 도포액을 공급함으로써 각 기판 (W) 에 도포층을 형성하는 처리이다. 도포 처리 및 이하에 나타내는 각 처리는, 제어 유닛 (9) 에 형성된 연산 수단이 미리 준비된 제어 프로그램을 실행하고, 상기한 장치 각 부에 소정의 동작을 실행시킴으로써 실현된다.

외부의 기판 공급 장치로부터 복수의 기판 (W) 이 1 장씩 입력 컨베이어 (100) 에 공급되는 상태로, 노즐 (71) 을 도포 스테이지 (32) 의 상면과 대향하는 도포 위치에 위치 결정하고 (스텝 S101), 반송 기구가 기판 (W) 을 노즐 (71) 의 바로 아래 위치로 보내면서 노즐 (71) 로부터 소정 유량의 도포액을 토출시킴으로써 (스텝 S102, S103), 1 장의 기판 (W) 으로의 도포가 실행된다 (도포 동작).

1 장의 기판 (W) 에 대한 도포가 종료되면, 노즐 (71) 로부터의 도포액의 토출이 정지됨과 함께, 노즐 (71) 이 도포 스테이지 (32) 로부터 상방으로 퇴피하여 메인터넌스 유닛 (8) 과 대향하는 클리닝 위치에 위치 결정된다 (스텝 S104). 그리고, 노즐 클리너 (81) 에 의해, 노즐 (71) 에 잔류 부착되는 도포액에 대한 클리닝 처리가 실행된다 (스텝 S105).

도 7 은 클리닝 처리를 나타내는 플로 차트이다. 노즐 (71) 이 클리닝 위치에 위치 결정되는 것과 평행하게, 제거 유닛 (810) 이 접촉 개시 위치 (P1) 로 이동 위치 결정된다 (스텝 S201). 그리고, 노즐 (71) 의 토출구 (711) 로부터 미소한 소정량의 도포액이 토출되어 (스텝 S202), 노즐 (71) 이 맞닿음 위치까지 하강한다. 이로써, 접촉 개시 위치 (P1) 에 있어서, 노즐 (71) 과 스크레이퍼 (811B) 가 맞닿는다 (스텝 S203). 노즐 (71) 로부터 토출되는 도포액은, 노즐 (71) 과 스크레이퍼 (811B) 가 직접 접촉하는 것을 방지하고, 양자 사이에서 윤활액으로서 기능한다.

린스액 공급부 (88) 로부터 스프레더 (811A) 에 대해 린스액의 공급이 개시됨으로써 (스텝 S204), 스프레더 (811A) 와 노즐 (71) 의 갭 공간에 린스액이 공급된다. 토출된 도포액 및 린스액이, 토출구 (711) 의 주변에 잔류 부착되는 도포액을 용해시킴으로써 클리닝 효율을 향상시킬 수 있다. 이 상태로 제거 유닛 (810) 이 클리닝 방향 Dc 로 이동함으로써 (스텝 S205), 노즐 (71) 이 클리닝된다. 즉, 노즐 (71) 의 토출구 (711) 의 주위에 부착된 도포액이 스크레이퍼 (811B) 에 의해 스크레이핑되어, 노즐 (71) 로부터 제거된다.

제거 유닛 (810) 이 정지 위치 (P4) 까지 오면, 제거 유닛 (810) 의 이동 및 린스액의 공급이 정지되고 (스텝 S206, S207), 노즐 (71) 이 상방의 이간 위치로 퇴피함으로써 (스텝 S208), 클리닝 처리는 종료된다.

도 6 으로 돌아와 도포 처리의 설명을 계속한다. 단속적으로 반송되는 복수의 기판 (W) 으로의 도포를 계속하여 실시하는 경우 (스텝 S109 에 있어서 YES), 기본적으로는, 1 장의 기판 (W) 마다, 상기한 도포 동작과 클리닝 처리가 교대로 실행된다. 단, 이 실시형태에서는, 클리닝 처리의 실행 횟수가 카운트되고 있어, 누적 실행 횟수가 미리 설정된 임계값에 도달했을 때 (스텝 S106 에 있어서 YES), 특별한 클리닝 처리 (스텝 S108) 가 실행된다. 이하, 이 때의 클리닝 처리를 「예비 클리닝 처리」라고 칭하고, 그것을 실행하는 이유 및 처리 내용에 대해 설명한다.

도 8a 및 도 8b 는 예비 클리닝 처리의 원리를 설명하는 도면이다. 도 8a 에 나타내는 바와 같이, 클리닝 처리에서는, 승강 기구 (734, 735) (도 3 참조) 에 의해, 노즐 (71) 이 제거 유닛 (810) 의 상방으로 이간된 이간 위치 (실선으로 나타내는 위치) 로부터 맞닿음 위치 (점선으로 나타내는 위치) 까지 하강함으로써, 제거 유닛 (810) 의 스크레이퍼 (811B) 와 맞닿는다. 이 때의 노즐 (71) 의 하강량을 부호 Zd 에 의해 나타낸다.

노즐 (71) 을 맞닿음 위치에 위치 결정함으로써, 스크레이퍼 (811B) 는 미리 규정된 맞닿음압으로 노즐 (71) 에 가압될 것이다. 그러나, 노즐 (71) 로의 미끄럼 마찰에 의해 스크레이퍼 (811B) 가 마모되어 변형되는 것에서 기인하여, 도 8b 에 나타내는 바와 같이, 클리닝 처리의 실행 횟수의 증가에 수반하여 맞닿음압은 점차 저하되어 온다. 충분한 맞닿음압이 확보되지 않으면, 잔류 도포액에 대한 스크레이핑 효과의 효율, 요컨대 클리닝 능력이 저하된다.

이 문제를 해소하기 위해서, 이 실시형태에서는, 동일한 스크레이퍼 (811B) 를 사용한 클리닝 처리의 누적 실행 횟수가 소정의 임계값에 도달하면, 다음의 클리닝 처리에 있어서의 노즐 (71) 의 하강량 (Zd) 을 1 단계 증가시킨다. 이것은, 클리닝 처리로 이행할 때의 노즐 (71) 의 위치 (맞닿음 위치) 를, 노즐 (71) 과 스크레이퍼 (811B) 가 보다 접근하는 측으로 변경하는 것과 등가이다.

이렇게 함으로써, 도 8b 상단의 그래프에 나타내는 바와 같이, 마모에 의해 저하된 맞닿음압이 회복되어, 이로써, 그 이상의 클리닝 능력의 저하를 방지할 수 있다. 필요 충분한 클리닝 능력이 얻어지지 않을 때까지 맞닿음압이 저하되는 것보다도 이전에 이것을 실행함으로써, 항상 필요한 클리닝 능력을 확보하는 것이 가능하다.

이렇게 하여 일시적으로 맞닿음압을 회복할 수 있었다고 해도, 더욱 클리닝 처리를 반복함으로써 맞닿음압은 다시 저하되어 온다. 그래서, 클리닝 처리의 누적 실행 횟수에 대해 복수의 임계값을 설정해 두어, 어느 하나의 임계값에 도달할 때마다 맞닿음 위치의 변경 설정을 실시하도록 하면, 안정적인 클리닝 능력을 장기에 걸쳐 얻을 수 있다. 이 실시형태에서는, 도 8b 중단 그래프에 나타내는 바와 같이, 동일한 스크레이퍼 (811B) 를 사용한 클리닝 처리의 누적 실행 횟수에 대해 3 개의 임계값 C1, C2, C3 (C3 ＞ C2 ＞ C1) 을 설정하고, 누적 실행 횟수의 카운트값이 어느 임계값에 도달하면, 그때마다 맞닿음 위치를 변경할 수 있도록, 하강량 (Zd) 의 변경 설정을 실시한다.

스크레이퍼 (811B) 의 마모나 열화가 더욱 진행되면, 하강량 (Zd) 을 조정해도 충분한 맞닿음압을 얻을 수 없게 된다고 생각된다. 그래서, 누적 실행 횟수가 임계값 C4 (＞ C3) 에 도달하였을 때에는 스크레이퍼 (811B) 의 교환 시기가 도래한 것으로 한다. 즉, 그 취지를 사용자에 알리고, 교환을 재촉하도록 한다. 이 때 스크레이퍼 (811B) 만이 교환되어도 되고, 또 다른 부재가 함께 교환되어도 된다. 스크레이퍼 (811B) 가 교환되면, 누적 실행 횟수의 카운트값은 리셋되어, 새로운 카운트가 개시된다. 또, 하강량 (Zd) 에 대해서도 초기 설정값으로 되돌려진다.

이렇게 함으로써, 1 개의 스크레이퍼 (811B) 를 보다 장기간에 걸쳐서 사용하고, 그 교환 빈도를 줄임으로써 장치의 러닝 코스트를 낮춘다는 효과도 기대된다. 본 실시형태와 달리, 맞닿음 위치가 항상 동일해지는 제어를 실시한 경우에는, 상기와 같이 스크레이퍼 (811B) 의 마모에서 기인하여 맞닿음압이 점차 저하되고, 이에 수반하여 클리닝 능력이 저하된다. 이 때문에, 충분한 클리닝 능력을 확보할 수 없게 된 시점에서 스크레이퍼의 교환을 실시할 필요가 있다. 이에 반하여, 본 실시형태에서는, 맞닿음 위치에서 변경 설정에 의해 맞닿음압을 회복시키는 것이 가능하기 때문에, 동일한 스크레이퍼 (811B) 를 보다 장기에 걸쳐 사용하고, 게다가 충분한 클리닝 능력을 확보하는 것이 가능하다.

또, 예를 들어 스프링이나 탄성체 등의 수동적인 탄성 지지 부재에 의해 스크레이퍼를 노즐측에 탄성 지지하는 구성이어도, 스크레이퍼의 마모가 진행되면 (예를 들어, 스프링이 신장됨으로써) 탄성력은 저하되어 온다. 이로써 맞닿음압도 저하되기 때문에, 이와 같은 경우에도 맞닿음 위치를 변경하여 맞닿음압을 회복시키는 것은 유효하다.

이와 같이, 클리닝 처리의 누적 실행 횟수가 임계값에 도달했을 때에 노즐 (71) 의 하강량 (Zd) 을 증가시킴으로써, 맞닿음압의 저하에 대해서는 회복하는 것이 가능하다. 그러나, 도 8b 하단 그래프에 나타내는 바와 같이, 맞닿음압을 증가시키면, 스크레이퍼 (811B) 가 노즐 (71) 과 미끄럼 마찰되어 깎이는 것에서 기인하여 발생되는 미분의 발생량이 일시적으로 증가한다. 이와 같은 미분이 기판 (W) 에 도포되는 도포층에 혼입되면, 도포층의 변질 저하를 초래하는 것이 된다.

동그래프에 실선으로 나타내는 바와 같이, 본원 발명자의 지견에 의하면, 미분의 발생량은 하강량 (Zd) 의 증가 직후의 클리닝 처리에 있어서 일시적으로 증대되지만, 하강량 (Zd) 을 일정하게 유지함으로써, 이후의 클리닝 처리에 있어서는 급격하게 작아진다. 하강량 (Zd) 을 일정하게 하여 맞닿음 위치를 불변으로 함으로써 맞닿음압이 시간 경과적으로 저하된다는 현상이, 미분의 발생을 억제하고 있는 것으로 생각된다.

동그래프에 나타내는 점선은, 전술한 종래 기술과 같이, 맞닿음압이 항상 일정해지도록 제어된 경우의 미분의 발생량을 추정한 것이다. 이 경우, 마모의 진행에 관계없이 일정한 맞닿음압으로 스크레이퍼가 노즐에 가압됨으로써, 초기 단계로부터 마모가 진행된 종기까지, 항상 일정량의 미분이 발생하고 있는 것으로 추정된다.

이와 같이, 간단히 클리닝 능력을 확보할 뿐만 아니라 미분의 혼입도 억제 한다는 관점에서는, 맞닿음압을 일정하게 유지하는 것보다, 맞닿음압의 저하를 허용하여 맞닿음 위치를 일정하게 유지하는 편이 오히려 바람직하다고 말할 수 있다. 맞닿음압의 저하에서 기인하는 클리닝 능력의 저하는, 클리닝 처리의 누적 실행 횟수에 따라 맞닿음 위치를 단계적으로 변경 설정함으로써 회복 가능하다.

단, 맞닿음 위치의 변경, 즉 하강량 (Zd) 의 변경 설정에 의해 일시적으로 발생량이 증가하는 미분이 도포층에 혼입되는 것은 피하지 않으면 안된다. 이 목적을 위해, 이 실시형태에서는, 하강량 (Zd) 을 변경했을 때 (스텝 S107), 변경 후의 맞닿음 위치에 노즐 (71) 을 위치 결정한 상태로 추가적인 클리닝 처리, 요컨대 예비 클리닝 처리를 실행한다 (스텝 S108). 예비 클리닝 처리의 내용은, 통상적인 클리닝 처리와 동일하게 할 수 있다.

맞닿음압의 증가에서 기인하여 일시적으로 발생량이 증가하는 미분은, 예비 클리닝 처리에 의해 노즐 (71) 로부터 제거된다. 그리고, 이후의 도포 동작에서는, 미분의 발생이 저감된 상태로 스크레이퍼 (811B) 가 노즐 (71) 에 맞닿기 때문에, 도포 동작간의 클리닝 처리에 있어서 미분이 대량으로 발생하여 도포층에 혼입되는 것은 회피된다.

이상과 같이, 이 실시형태에 있어서는, 노즐 (71), 스크레이퍼 (811B) 가 각각 본 발명의 「노즐」, 「클리닝 부재」로서 기능하고 있다. 또, 승강 기구 (734, 735) 가 일체로서 본 발명의 「위치 조절 기구」로서 기능하는 한편, 구동 유닛 (818) 이 본 발명의 「주사 이동 기구」로서 기능하고 있다. 또, 제어 유닛 (9) 이 본 발명의 「제어부」로서 기능하고 있다. 또, 상기 실시형태에 있어서의 린스액이 본 발명의 「세정액」에 상당하고, 린스액 공급부 (88) 가 본 발명의 「세정액 공급부」로서 기능하고 있다.

또, 상기 실시형태에서는, Y 방향 및 Z 방향이 각각 본 발명의 「제 1 방향」및 「제 2 방향」에 상당하고 있다. 또, 도 6 의 스텝 S103 이 본 발명의 「도포 공정」에 상당하고 있고, 스텝 S105 가 본 발명의 「클리닝 동작」및 「클리닝 공정」에 상당하고 있다. 또, 스텝 S108 이 본 발명의 「예비 클리닝 동작」및 「예비 클리닝 공정」에 상당하고 있다. 또, 기판 (W) 이 본 발명의 「피도포물」에 상당하고 있다.

또한, 본 발명은 상기한 실시형태에 한정되는 것이 아니고, 그 취지를 일탈하지 않는 한에 있어서 상기 서술한 것 이외에 여러 가지의 변경을 실시하는 것이 가능하다. 예를 들어, 상기 실시형태에서는, 클리닝 처리 및 예비 클리닝 처리에 있어서, 토출구 (711) 로부터의 도포액의 토출 및 스프레더 (811A) 로부터의 린스액 공급의 양방을 실시하고 있다. 그러나, 이들은 각각 단독으로도 클리닝 효율을 높이는 효과를 갖는 것이고, 클리닝마다 이들의 양방을 사용하지 않아도 된다.

예를 들어, 복수의 도포 동작 사이의 클리닝 동작에서는 도포액의 공급만을 실시하고, 예비 클리닝 동작에서는 린스액을 단독으로, 또는 도포액의 공급과 함께 공급하도록 해도 된다. 이 반대여도 된다. 또 예를 들어, 클리닝 처리 및 예비 클리닝 처리에서는 도포액의 공급만을 실시하고, 이들과는 별도로, 린스액으로 노즐을 세정하는 린스 처리를 정기적으로 실행하도록 해도 된다. 이 의미에 있어서, 제거 유닛에 스프레더를 형성하지 않는 구성에 의해 본 발명을 실시한다는 양태도 생각된다.

또 예를 들어, 상기 실시형태의 예비 클리닝 동작에서는, 노즐 (71) 에 대한 제거 유닛 (810) 의 주사 이동을 1 회만 실시하고 있지만, 이것을 복수 회 실시하여 미분의 제거 효과를 더욱 높이도록 해도 된다.

또 예를 들어, 상기 실시형태에서는, 노즐 (71) 이 상하동함으로써 제거 유닛 (810) 과의 상대 위치인 본 발명의 「맞닿음 위치」가 규정되지만, 이것 대신에, 혹은 이것에 더하여, 제거 유닛 (810) 이 노즐 (71) 에 대해 접근·이간 방향으로 이동하는 구성이어도 된다. 예를 들어, 노즐 (71) 에 대한 제거 유닛 (810) 의 이동량에 의해 「맞닿음 위치」가 규정되는 구성이어도 된다. 또, 그들 이동 방향은 연직 방향에 한정되지 않고, 노즐 (71) 과 제거 유닛 (810) 이 접근·이간 방향으로 상대 이동하는 한에 있어서, 토출구 (711) 의 연장 형성 방향과 교차하는 여러 가지의 방향에서의 이동이 가능하다.

또, 상기에서는 특히 언급하고 있지 않지만, 스크레이퍼가 교환된 직후에도, 미분의 발생량이 일시적으로 증가한다고 생각된다. 따라서, 스크레이퍼 교환 후에 있어서도 본 실시형태의 예비 클리닝 처리는 유효하게 기능한다.

또 예를 들어, 노즐 (71) 로의 도포액의 공급 경로에 있어서 어떠한 변경이 있었을 경우라도 예비 클리닝 처리는 유효하다. 그렇다는 것은, 예를 들어, 도포액의 보충이나 배관의 메인터넌스 등이 실시된 직후에 있어서는 토출량이 안정적이지 않고, 노즐 (71) 과 스크레이퍼 (811B) 가 사이에 도포액을 개재시키지 않고 직접 접촉하는 경우가 있기 때문이다. 이와 같은 직접 접촉에서는 스크레이퍼 (811B) 가 깍이기 쉬워, 미분의 발생량이 많아진다. 이와 같은 경우에 예비 클리닝 처리를 몇 번 실행하도록 하면, 이후의 도포 처리에 있어서는 미분의 발생을 효과적으로 억제하는 것이 가능하다.

또, 상기 실시형태에서는, 클리닝 처리의 누적 실행 횟수에 대해 3 단계의 임계값을 설정하고 있지만, 임계값의 설정 양태는 이것에 한정되지 않고 임의이다. 누적 실행 횟수에 대해 적어도 1 개 설정된 임계값에 기초하여 맞닿음 위치의 변경이 실시되는 실시양태는, 본 발명의 기술 사상의 범주에 포함되는 것이다.

또, 상기 실시형태의 도포 장치 (1) 는, 기판 (W) 을 부상 반송하고, 1 개의 노즐 (71) 에 의해 기판 (W) 에 도포를 실시하는 것이지만, 기판의 반송 방식 및 노즐의 배치 형성수에 대해서는 이것에 한정되는 것은 아니고 임의이다.

이 발명은, 노즐의 선단부에 형성된 토출구로부터 도포액을 토출하여 도포하는 도포 장치 및 도포 방법 전반에 적용할 수 있다.

1 : 도포 장치
9 : 제어 유닛 (제어부)
71 : 노즐
88 : 린스액 공급부 (세정액 공급부)
711 : 토출구
734, 735 : 승강 기구 (위치 조절 기구)
811B : 스크레이퍼 (클리닝 부재)
818 : 구동 유닛 (주사 이동 기구)
C1 ∼ C3 : 임계값
S103 : 도포 공정
S105 : 클리닝 동작, 클리닝 공정
S108 : 예비 클리닝 동작, 예비 클리닝 공정
W : 기판 (피도포물)
Y : 제 1 방향
Z : 제 2 방향

Claims

제 1 방향을 길이 방향으로 하는 슬릿상으로 개구되어 도포액을 토출하는 토출구가 형성된 노즐과,
상기 제 1 방향에 있어서의 길이가 상기 토출구의 길이보다 작은 클리닝 부재와,
상기 토출구의 개구면과 교차하는 제 2 방향으로 상기 노즐과 상기 클리닝 부재를 상대 이동시켜, 상기 제 2 방향에 있어서의 상기 노즐과 상기 클리닝 부재의 상대 위치를 조절하는 위치 조절 기구와,
상기 노즐과 상기 클리닝 부재를 상기 제 1 방향으로 상대 이동시키는 주사 이동 기구와,
상기 위치 조절 기구에 의해 조절되는 상기 노즐에 대한 상기 클리닝 부재의 상대 위치 및 상기 주사 이동 기구에 의한 상기 상대 이동을 제어하여, 상기 노즐을 클리닝하는 클리닝 동작을 실행하는 제어부를 구비하고,
상기 제어부는,
상기 상대 위치를 상기 클리닝 부재가 상기 토출구의 주위의 상기 노즐의 표면에 맞닿는 맞닿음 위치로 설정한 상태로, 상기 주사 이동 기구에 의해 상기 클리닝 부재를 상기 노즐에 대해 상기 제 1 방향으로 상대 이동시킴으로써 상기 클리닝 동작을 실행하고,
상기 클리닝 동작의 누적 실행 횟수가 소정의 임계값에 도달했을 때에, 상기 클리닝 동작에 계속해서 예비 클리닝 동작을 실행한 후에, 피도포물에 대한 상기 도포액의 도포를 실행하고,
상기 예비 클리닝 동작에서는, 상기 맞닿음 위치를 상기 노즐과 상기 클리닝 부재가 접근하는 측으로 변경 설정하여, 상기 상대 위치를 변경 후의 상기 맞닿음 위치로 설정한 상태로, 상기 주사 이동 기구에 의해 상기 클리닝 부재를 상기 노즐에 대해 상기 제 1 방향으로 상대 이동시킴으로써, 상기 맞닿음 위치의 변경 설정에 의해 발생하는 미분을 상기 노즐로부터 제거하는, 도포 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 제어부는, 상기 예비 클리닝 동작의 실행 후에 실행하는 상기 클리닝 동작에서는, 변경 후의 상기 맞닿음 위치를 상기 상대 위치로 설정하는 도포 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 제 2 방향은, 상기 제 1 방향 및 상기 개구면에 직교하는 방향인 도포 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 제 1 방향에 직교하는 단면에 있어서, 상기 클리닝 부재 중 상기 노즐에 맞닿는 맞닿음 부위는, 상기 노즐 중 상기 클리닝 부재가 맞닿는 피맞닿음 부위의 형상에 대응한 형상을 갖는 도포 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 클리닝 부재는 탄성 수지제이고, 상기 맞닿음 위치에서는 정의 맞닿음압으로 상기 노즐과 맞닿는 도포 장치.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 예비 클리닝 동작에서는, 상기 토출구로부터 소정량의 상기 도포액을 토출시키고 나서 상기 상대 이동을 실행하는 도포 장치.
제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 클리닝 부재와 상기 노즐 사이에 세정액을 공급하는 세정액 공급부를 구비하고, 상기 예비 클리닝 동작에서는, 상기 세정액 공급부로부터 상기 세정액을 공급하고 나서 상기 상대 이동을 실행하는 도포 장치.
제 1 방향을 길이 방향으로 하는 슬릿상으로 개구되어 도포액을 토출하는 토출구가 형성된 노즐로부터 상기 도포액을 토출하여 피도포물에 도포하는 도포 공정을, 단속적으로 복수 회 실행하는 도포 방법에 있어서,
상기 도포 공정의 종료시마다, 상기 토출구의 주위의 상기 노즐의 표면에 클리닝 부재를 맞닿게 하면서 상기 노즐과 상기 클리닝 부재를 상기 제 1 방향으로 상대 이동시키는 클리닝 공정과,
상기 클리닝 공정의 누적 실행 횟수가 소정의 임계값에 도달했을 때에, 상기 클리닝 공정에 계속해서 실행되는 예비 클리닝 공정과,
상기 예비 클리닝 공정 후에 실행되는 다음번의 상기 도포 공정을 구비하고,
상기 예비 클리닝 공정에서는, 상기 클리닝 공정에 있어서의 상기 노즐과 상기 클리닝 부재의 상대 위치인 맞닿음 위치를 상기 노즐과 상기 클리닝 부재가 접근하는 측으로 변경 설정하여, 상기 상대 위치를 변경 후의 상기 맞닿음 위치로 설정한 상태로, 상기 클리닝 부재를 상기 노즐에 대해 상기 제 1 방향으로 상대 이동시킴으로써, 상기 맞닿음 위치의 변경 설정에 의해 발생하는 미분을 상기 노즐로부터 제거하는, 도포 방법.
제 8 항에 있어서,
상기 누적 실행 횟수에 대해 복수의 상기 임계값이 미리 설정되어, 상기 누적 실행 횟수가 어느 상기 임계값에 도달할 때마다, 상기 예비 클리닝 공정이 실행되는 도포 방법.