KR102074548B1 - 방사선 촬상 장치 및 방사선 촬상 시스템 - Google Patents

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Abstract

방사선 촬상 장치는 방사선 검출 패널, 방사선 검출 패널을 수용하도록 구성되는 하우징, 및 완충 부재를 포함한다. 하우징은 코너에 개구를 갖는다. 완충 부재는 하우징 내측에 고정되는 제1 부분 및 하우징의 개구로부터 하우징의 외측으로 돌출하는 제2 부분을 포함한다. 완충 부재의 제2 부분의 탄성률은 하우징 중 개구를 형성하는 부분의 탄성률보다 낮다.

Description

방사선 촬상 장치 및 방사선 촬상 시스템{RADIATION IMAGING APPARATUS AND RADIATION IMAGING SYSTEM}
본 발명은, 방사선 촬상 장치 및 방사선 촬상 시스템에 관한 것이다.
전자 카세트라고 불리는 이동식 방사선 촬상 장치가 실용화되고 있다. 이동식 방사선 촬상 장치를 낙하 시킨 경우에, 방사선 촬상 장치에의 충격에 의해, 방사선 촬상 장치의 하우징에 파손이나 변형이 발생할 수 있다. 이러한 파손이나 변형에 대한 다양한 대책이 제안되고 있다. 일본 특허 제4248940호는, 외측 쉘과 내측 쉘을 사용하여 하우징을 구성하고, 외측 쉘과 내측 쉘 사이에 충격 흡수재를 충전하는 것을 제안한다. 일본 특허 공개 제2013-257198호는, 하우징의 코너를 모따기하고, 모따기된 면에 착탈가능한 충격 흡수재를 부착하는 것을 제안한다.
일본 특허 제4248940호에 개시된 하우징 외면은 외측 쉘만으로 구성된다. 외측 쉘을 탄성률(elastic modulus)이 높은 재료로 구성했을 경우에, 낙하시의 하우징 전체의 변형은 경감할 수 있다. 하지만, 외측 쉘에 응력이 집중된다. 이는 외측 쉘을 파손시킬 수 있다. 한편, 외측 쉘의 탄성률을 저하시키면, 하우징 전체의 변형을 경감하는 것이 곤란해진다. 또한, 일본 특허 공개 제2013-257198호에 개시된 바와 같이, 충격 흡수재를 하우징의 외면에 부착했을 경우에, 방사선 촬상 장치의 낙하 충격이 충격 흡수재를 통해서 하우징에 전해진다. 이에 의해 하우징이 전체적으로 왜곡되거나 변형될 수 있다. 상술한 바와 같이, 기존의 방법에서는, 하우징의 파손과 변형의 양쪽을 경감하는 것이 곤란하다.
본 발명의 양태는, 방사선 촬상 장치에의 충격에 의한 하우징의 변형 및 파손을 경감하기 위한 기술을 제공한다.
일부 실시형태에 따르면, 방사선 검출 패널; 상기 방사선 검출 패널을 수용하도록 구성되는 하우징; 및 완충 부재를 포함하고, 상기 하우징은 코너에 개구를 갖고, 상기 완충 부재는, 상기 하우징의 내부에 고정된 제1 부분과, 상기 하우징의 상기 개구로부터 상기 하우징의 외측으로 돌출하는 제2 부분을 포함하고, 상기 완충 부재의 상기 제2 부분의 탄성률은, 상기 하우징 중 상기 개구를 형성하는 부분의 탄성률보다 낮은, 방사선 촬상 장치가 제공된다.
다른 실시형태에 따르면, 방사선 검출 패널; 상기 방사선 검출 패널을 수용하도록 구성되는 하우징; 및 완충 부재를 포함하고, 상기 하우징은 코너에 개구를 갖고, 상기 완충 부재는, 상기 하우징의 내부에 고정된 제1 부분과, 상기 하우징의 상기 개구로부터 상기 하우징의 외측으로 돌출하는 제2 부분을 포함하고, 상기 완충 부재의 상기 제2 부분의 탄성률은, 상기 하우징 중 상기 개구를 형성하는 부분의 탄성률보다 낮으며, 상기 완충 부재의 상기 제1 부분은 상기 방사선 촬상 패널을 둘러싸는 프레임 형상을 갖는, 방사선 촬상 장치가 제공된다.
또 다른 실시형태에 따르면, 방사선 검출 패널; 상기 방사선 검출 패널을 수용하도록 구성되는 하우징; 및 완충 부재를 포함하고, 상기 완충 부재는, 방사선 촬상 장치의 외측 쉘의 일부를 형성하고, 상기 하우징과 상이한 다른 부재를 통해 상기 하우징의 코너에 배치되는, 방사선 촬상 장치가 제공된다.
또 다른 실시형태에 따르면, 상술한 방사선 촬상 장치 중 하나와; 상기 방사선 촬상 장치에 의해 획득된 신호를 처리하기 위한 신호 처리 수단을 포함하는 방사선 촬상 시스템이 제공된다.
본 발명의 추가적인 특징은 (첨부된 도면과 관련한) 예시적인 실시형태에 대한 이하의 설명으로부터 명확해질 것이다.
도 1a 및 도 1b는 본 발명의 일부 실시형태에 따른 방사선 촬상 장치를 도시한다.
도 2a 및 도 2b는 본 발명의 일부 실시형태에 따른 완충 부재를 설명하는 도면이다.
도 3a 및 도 3b는 본 발명의 일부 다른 실시형태에 따른 완충 부재를 설명하는 도면이다.
도 4a 및 도 4b는 본 발명의 일부 다른 실시형태에 따른 완충 부재를 설명하는 도면이다.
도 5a 및 도5b는 본 발명의 일부 다른 실시형태에 따른 완충 부재를 설명하는 도면이다.
도 6a 내지 도 6c는 본 발명의 일부 다른 실시형태에 따른 완충 부재를 설명하는 도면이다.
도 7a 및 도 7b는 본 발명의 일부 다른 실시형태에 따른 방사선 촬상 장치를 설명하는 도면이다.
도 8은 본 발명의 일부 다른 실시형태에 따른 방사선 촬상 장치를 설명하는 도면이다.
도 9는 본 발명의 일부 실시형태에 따른 방사선 촬상 시스템을 설명하는 도면이다.
첨부의 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태에 대해서 이하에 설명한다. 여러가지 실시형태를 통해서 동일한 참조 부호는 동일한 요소를 나타내고, 반복되는 설명을 생략한다. 또한, 각 실시형태는 필요에 따라 변경 및 조합이 가능하다.
도 1a 및 도 1b를 참조하여, 본 발명의 일부 실시형태에 따른 방사선 촬상 장치(100)의 구성에 대해서 설명한다. 도 1a는 방사선 촬상 장치(100)의 사시도이다. 도 1b는 도 1a의 A-A 선을 따라 취한 단면도이다. 방사선 촬상 장치(100)는, 하우징(101)과, 하우징(101)에 수납된 구성 요소를 포함한다. 이하의 설명에서, 방사선 촬상 장치(100) 중, 방사선이 조사되는 면(도 1b에서는 상측의 면)을 입사면이라 칭한다. 입사면과 반대 측에 있는 면(도 1b에서는 하측의 면)을 이면이라 칭하고, 입사면과 이면을 접속하는 면을 측면이라 칭한다. 방사선 촬상 장치(100)의 입사면, 이면 및 측면은, 하우징(101)의 입사면, 이면 및 측면에 각각 대응한다. 하우징(101) 중, 입사면을 구성하는 부분을 표측 부분이라 칭한다. 마찬가지로, 하우징(101) 중 이면을 구성하는 부분을 이측 부분이라 칭하고, 측면을 구성하는 부분을 측벽이라 칭한다. 측벽은 표측 부분과 이측 부분을 접속한다. 방사선 촬상 장치(100)는 4개의 코너(100a)를 갖는다. 방사선 촬상 장치(100)의 코너(100a)는 하우징(101)의 코너에 대응한다.
하우징(101)은, 상측 커버 부재(102a)와, 하측 커버 부재(102b)와, 방사선 투과판(103)을 포함한다. 상측 커버 부재(102a)와 하측 커버 부재(102b)는 하우징의 외측 쉘(102)을 구성한다. 상측 커버 부재(102a)와 하측 커버 부재(102b)는 방사선 촬상 장치(100)의 측면에서 서로 접촉하고 있다. 상측 커버 부재(102a)와 하측 커버 부재(102b)는 방사선 촬상 장치(100)의 측면에서 서로 결합될 수 있거나, 다른 부분을 통해 서로 결합될 수 있다. 상측 커버 부재(102a)는 프레임 형상을 갖고, 프레임 형상에 형성된 개구에 방사선 투과판(103)이 끼워맞춰져 있다. 방사선 투과판(103)과 상측 커버 부재(102a)의 일부에 의해 하우징(101)의 표측 부재가 구성된다. 하측 커버 부재(102b)의 일부에 의해, 하우징(101)의 이면 부분이 구성된다. 상측 커버 부재(102a)의 일부와 하측 커버 부재(102b)의 일부에 의해 하우징(101)의 측벽이 구성된다.
방사선 촬상 장치(100)는, 하우징(101)의 내부에, 센서 기판(107)과 신틸레이터층(106) 등의, 이하에 설명하는 구성 요소를 포함한다. 신틸레이터층(106)은, 센서 기판(107)과 방사선 투과판(103) 사이에 위치한다. 신틸레이터층(106)은, 방사선 투과판(103)을 통해서 하우징(101) 내에 입사한 방사선을 광으로 변환한다. 센서 기판(107)은, 신틸레이터층(106)에 의해 획득된 광을 전기 신호로 변환하는 센서(예를 들어, 광을 전하로 변환하는 광전 변환 소자)와, 이 전기 신호를 센서 기판(107)의 외부에 판독하기 위한 스위치 소자(예를 들어, TFT)를 포함한다. 센서 기판(107)은, 센서와 스위치 소자에 의해 각각 구성된 화소를 복수 포함해도 된다. 복수의 화소는 2차원 어레이 패턴으로 배치되어도 된다. 센서 기판(107)과 신틸레이터층(106)에 의해, 방사선을 검출하는 검출 패널(즉, 방사선 검출 패널)이 구성된다. 신틸레이터층(106)의 표면은 내습성을 갖는 보호층(105)에 의해 덮여 있다. 도 1a 및 도 1b에 예시적으로 도시된 방사선 촬상 장치(100)는 소위 간접형 검출 패널을 갖는다. 이를 대신하여, 방사선 촬상 장치(100)는 방사선을 전기 신호로 직접 변환하는 직접형 검출 패널을 가져도 된다.
센서 기판(107)은, 플렉시블 케이블(114)을 통해서, 회로 기판(113)에 접속되어 있다. 회로 기판(113)은, 플렉시블 케이블(112)을 통해서, 회로 기판(111)에 접속되어 있다. 회로 기판(111, 113)에는, 센서 기판(107)으로부터 신호를 판독하고, 이 판독한 신호를 처리하기 위한 회로와, 센서 기판(107)의 동작을 제어하기 위한 회로가 각각 배치된다. 센서 기판(107)과 회로 기판(111, 113)에는 배터리(110)로부터 전력이 공급된다. 방사선 촬상 장치(100)는, 배터리(110) 대신, 각 구성 요소에 외부에서 전력을 공급하는 전원 회로를 가져도 된다.
검출 패널(구체적으로는, 센서 기판(107))은 베이스(108)에 의해 지지되어 있다. 베이스(108)는, 지주(109)를 통해서 하측 커버 부재(102b)에 고정 또는 접촉되어 있다. 회로 기판(111, 113) 및 배터리(110)는, 베이스(108)의 이면측(검출 패널과 반대측)에 배치된다. 검출 패널(구체적으로는, 보호층(105))과 방사선 투과판(103) 사이에는, 발포제 등으로 구성된 완충층(104)이 배치된다.
도 2a 및 도 2b를 참조하여, 방사선 촬상 장치(100)의 코너(100a)의 구조에 대해서 설명한다. 도 2a는 방사선 촬상 장치(100)의 코너(100a)의 사시도이다. 도 2b는 도 2a의 B-B 선을 따라 취한 단면도이다. 도 2b에 도시한 바와 같이, 상측 커버 부재(102a) 중, 하우징(101)의 외부에 면한 면을 외면(102d)이라 칭하고, 상측 커버 부재(102a) 중 하우징(101)의 내부에 면한 면을 내면(102e)이라 칭한다. 하측 커버 부재(102b) 중, 하우징(101)의 외부에 면한 면을 외면(102g)이라 칭하고, 하측 커버 부재(102b) 중 하우징(101)의 내부에 면한 면을 내면(102f)이라 칭한다.
도 2a 및 도 2b에 도시한 바와 같이, 하우징(101)은 코너(100a)에 개구(102c)를 갖는다. 도 2b에서는, 참고를 위해서, 개구(102c)를 파선으로 나타낸다. 개구(102c)는, 상측 커버 부재(102a)와 하측 커버 부재(102b) 사이에 배치된다. 방사선 촬상 장치(100)는, 코너(100a)에 완충 부재(200)를 더 포함한다. 완충 부재(200)는, 하우징(101)의 내부에 위치되는 부분(이하, 내측 부분(200a)이라 칭한다)과, 하우징(101)의 개구(102c)로부터 하우징(101)의 외측으로 돌출하는 부분(이하, 외측 부분(200b)이라 칭한다)을 포함한다.
완충 부재(200)의 내측 부분(200a)은, 상측 커버 부재(102a)의 내면(102e) 및 하측 커버 부재(102b)의 내면(102f) 중 적어도 하나에, 하우징(101)으로부터 제거되지 않도록 결합되어 있다. 내측 부분(200a)은, 내면(102e) 및 내면(102f) 중 적어도 하나에, 예를 들어 접착제나 점착제에 의해 접착됨으로써 결합되어도 된다. 이 결합 방법을 사용하는 대신에, 내측 부분(200a)은, 상측 커버 부재(102a) 및 하측 커버 부재(102b) 중 하나에 그것에 일체로 형성됨으로써 결합되어도 된다.
완충 부재(200)의 외측 부분(200b)은, 외측 쉘(102)의 외면(102d, 102g)에 접촉하는 부분을 포함하지 않는다. 또한, 외측 부분(200b)은, 하우징(101) 중, 개구(102c)를 구성하는 부분에 대향하는 단차(200c)를 갖고, 단차(200c)와 이 부분 사이에는 공간이 존재한다. 단차(200c)는, 개구(102c)에 대응하는 형상을 갖고 있으며, 외측 부분(200b)의 전체 둘레에 형성된다. 단차(200c)는, 개구(102c) 로부터 이격되어 있다.
외측 쉘(102)은, 탄성률이 높은(즉, 강성이 높은) 재료, 예를 들어 알루미늄 합금, 마그네슘 합금, 섬유 강화 수지, 또는 섬유강화 금속으로 형성된다. 상측 커버 부재(102a)와 하측 커버 부재(102b)는 동일한 재료 또는 상이한 재료로 형성될 수 있다. 이와 같이, 외측 쉘(102)을 탄성률이 높은 재료를 사용하여 형성함으로써, 하우징(101) 전체의 변형이 경감된다. 그로 인해, 하우징(101)의 변형에 기인해서 방사선 촬상 장치(100)의 내부에 광이 진입되어 양호한 화상을 취득할 수 없어지거나, 방사선 촬상 장치(100)의 외형이 변화되어, 가대 등에 장치를 수납할 수 없게 되는 상황을 억제할 수 있다.
완충 부재(200)는, 외측 쉘(102) 보다도 탄성률이 낮은 재료, 예를 들어 수지로 형성된다. 완충 부재(200)의 외측 부분(200b)이 하우징(101)의 코너(100a)에서 하우징(101)으로부터 돌출되어 있다. 이런 이유로, 방사선 촬상 장치(100)가 낙하했을 경우에, 이 돌출되었던 완충 부재(200)가 바닥 등에 최초에 충돌한다. 이에 의해, 외측 쉘(102) 에의 충격을 억제할 수 있다. 또한, 완충 부재(200)는 외측 쉘(102)의 내면(102e, 102f)에 결합되어 있으므로, 충격이 완충 부재(200)를 통해서 외측 쉘(102)에 가해지는 영향이 경감된다.
예를 들어, 외측 쉘(102)이 프리프레그 등의 긴 섬유를 사용한 시트 형상 섬유 강화 수지로 형성되는 경우에, 당해 재료를 대략 직사각형 형상으로 형성하기 위해서, 당해 재료에 절취 부분을 형성한 상태에서 코너를 성형하는 경우가 있다. 이러한 절취 부분은 파괴 기점이 될 수 있다. 하지만, 본 실시형태의 구성에 의하면 절취 부분에 충격이 가해지는 것을 억제할 수 있다.
외측 쉘(102)이 섬유 강화 수지로 형성되는 경우에, 완충 부재(200)를 외측 쉘(102)과 일체 성형하기 쉬운 수지로 형성해도 된다. 예를 들어, 외측 쉘(102)이 에폭시를 사용한 탄소 섬유 강화 수지로 형성되는 경우에, 에폭시와 양립가능한 수지나 단섬유 탄소 섬유를 포함한 수지로 완충 부재(200)를 형성해도 된다. 외측 쉘(102)과 완충 부재(200)를 이렇게 형성함으로써, 이들이 서로 접착될 때와 비교하여 계면 강도가 더 높은, 소위 일체 성형품으로서 이들을 형성할 수 있다. 외측 쉘(102)이 금속 합금으로 형성되는 경우에, 완충 부재(200)는 수지 또는 다른 재료로 형성되어도 된다. 또한, 금속과 수지 사이의 접착 강도를 향상시키기 위해서, 기계적 또는 화학적인 표면 처리를 각각의 결합면에 적용해도 된다.
방사선 촬상 장치(100)는, 4개 모든 코너(100a) 또는 일부 코너(100a)에 완충 부재(200)를 가져도 된다. 방사선 촬상 장치(100)가 일부의 코너(100a)에 완충 부재(200)를 갖는 경우에, 코너(100a)에서의 내충격성이 높아진다.
도 3a 및 도 3b를 참조하여, 방사선 촬상 장치(100)의 변형예에 대해서 설명한다. 도 3a는 방사선 촬상 장치(100)의 코너(100a)의 사시도이다. 도 3b는 도 3a의 C-C 선을 따라 취한 단면도이다. 이 변형예는, 완충 부재(200) 대신에 완충 부재(300)를 갖는다. 기타의 점은 위에서 기술한 것과 동일하므로, 반복적인 설명을 생략한다. 완충 부재(300)는 완충 부재(200)에 대하여 형상이 상이하고, 재료 및 외측 쉘(102)과의 결합 방법 등의 다른 점에 대해서는 완충 부재(200)에 관한 것과 동일해도 된다. 완충 부재(300)도, 하우징(101)의 내부의 내측 부분(300a)과, 하우징(101)의 개구(102c)로부터 하우징(101)의 외측으로 돌출하는 외측 부분(300b)을 포함한다.
완충 부재(300)의 외측 부분(300b)은, 외측 쉘(102)의 외면(102d, 102g)에 접촉하는 부분을 포함하지 않는다. 또한, 외측 부분(300b)은, 하우징(101) 중 개구(102c)를 형성하는 부분에 간격을 두고 대향하는 단차(300c)를 갖는다. 단차(300c)는, 개구(102c) 중 입사면 측에 위치되는 부분에 대응하는 형상을 갖고 있으며, 외측 부분(300b)의 입사면 측에 형성된다. 단차(300c)는, 개구(102c) 로부터 이격되어 있다.
완충 부재(300)의 외측 부분(300b)은, 하우징(101)의 이면 측에 비하여, 입사면 측에서 하우징(101)으로부터 멀리까지 연장되어 있다. 또한, 완충 부재(300)의 내측 부분(300a)은, 하우징(101)의 이면 측에 비하여, 입사면 측에서 하우징(101)의 내측까지 연장되어 있다. 방사선 촬상 장치(100)가 낙하했을 경우에, 외측 부분(300b) 중 하우징(101)으로부터 멀리까지 연장되어 있는 부분이 바닥 등에 최초에 충돌할 가능성이 높다. 이 연장되어 있는 부분이 바닥에 최초에 충돌했을 경우에, 완충 부재(300)와 상측 커버 부재(102a) 사이의 결합 부분에 큰 힘이 가해진다. 그로 인해, 이 결합 부분의 면적을 크게 함으로써, 완충 부재(300)가 하우징(101)으로부터 빠져버릴 가능성을 저감할 수 있다.
방사선 촬상 장치(100)의 다른 변형예는, 완충 부재(300)가 반전되도록 구성될 수 있다. 즉, 완충 부재(300)의 외측 부분(300b)이, 하우징(101)의 입사면 측에 비하여 이면 측에서 하우징(101)으로부터 멀리까지 연장되어도 되고, 완충 부재(300)의 내측 부분(300a)이, 하우징(101)의 입사면 측에 비하여 이면 측에서 하우징(101)의 내측까지 연장되어도 된다.
도 4a 및 도 4b를 참조하여, 방사선 촬상 장치(100)의 변형예에 대해서 설명한다. 도 4a는 방사선 촬상 장치(100)의 코너(100a)의 사시도이다. 도 4b는 도 4a의 D-D 선을 따라 취한 단면도이다. 이 변형예는, 완충 부재(200) 대신에 완충 부재(400)를 포함한다. 기타의 점은 위에서 기술된 것과 동일하며, 반복적인 설명을 생략한다. 완충 부재(400)는 완충 부재(200)에 대하여 형상이 상이하고, 재료 및 외측 쉘(102)과의 결합 방법 등의 다른 점에 대해서는 완충 부재(200)에 관한 것과 동일해도 된다. 완충 부재(400)도, 하우징(101)의 내부의 내측 부분(400a)과, 하우징(101)의 개구(102c)로부터 하우징(101)의 외측으로 돌출하는 외측 부분(400b)을 포함한다.
완충 부재(400)의 외측 부분(400b)은, 외측 쉘(102)의 외면(102d, 102g)에 접촉하는 부분을 포함하지 않는다. 또한, 외측 부분(400b)은, 하우징(101) 중 개구(102c)를 형성하는 부분에 간격을 두고 대향하는 단차(400c)를 갖는다. 단차(400c)는, 개구(102c) 중 입사면 측 및 이면 측에 위치되는 부분에 대응하는 형상을 갖고 있으며, 외측 부분(400b)의 입사면 측 및 이면 측에 형성된다. 단차(400c)는, 개구(102c)로부터 이격되어 있다.
완충 부재(400)의 외측 부분(400b)은, 입사면 측에 있는 부분과 이면 측에 있는 부분 사이에 오목부를 갖는다. 이에 의해, 완충 부재(400)를 경량화할 수 있고, 하우징(101)을 팽창시키는 굽힘 모멘트가 하우징(101)에 가해지기 어려워진다.
도 5a 및 도 5b를 참조하여, 방사선 촬상 장치(100)의 변형예에 대해서 설명한다. 도 5a는 방사선 촬상 장치(100)의 코너(100a)의 사시도이다. 도 5b는 도 5a의 E-E 선을 따라 취한 단면도이다. 이 변형예는 완충 부재(200) 대신에 완충 부재(500)를 포함한다. 기타의 점은 위에서 기술된 것과 동일하므로, 반복적인 설명을 생략한다. 완충 부재(500)는 완충 부재(200)에 대하여 형상이 상이하고, 재료 및 외측 쉘(102)과의 결합 방법 등의 다른 점에 대해서는 완충 부재(200)에 관한 것과 동일할 수 있다. 완충 부재(500)도, 하우징(101)의 내부의 내측 부분(500a)과, 하우징(101)의 개구(102c)로부터 하우징(101)의 외측으로 돌출하는 외측 부분(500b)을 포함한다.
완충 부재(500)의 외측 부분(500b)은, 완충 부재(400)의 외측 부분(400b)의 것과 동일한 형상을 갖는다. 이 형상을 대신하여, 완충 부재(500)의 외측 부분(500b)은 위에서 기술된 다른 완충 부재의 외측 부분의 것과 동일한 형상을 가져도 된다. 완충 부재(500)의 내측 부분(500a)은, 하우징(101)에 접촉하지 않는 면(즉, 하우징(101)의 내부에 대향하는 면)에 오목부를 갖는다. 이에 의해, 완충 부재(500)와 하우징(101) 사이의 결합력을 유지하면서, 완충 부재(500)를 경량화할 수 있다.
도 6a 내지 도 6c를 참조하여, 방사선 촬상 장치(100)의 변형예에 대해서 설명한다. 도 6a는 방사선 촬상 장치(100)의 코너(100a)에 착안한 평면도이다. 도 6b는 도 6a의 F-F 선을 따라 취한 단면도이다. 도 6c는 제2 부재(602)가 제1 부재(601)로부터 제거된 상태를 도시한다. 이 변형예는, 완충 부재(200) 대신에 완충 부재(600)를 포함한다. 완충 부재(600)는, 하우징(101)의 내부의 내측 부분과, 하우징(101)의 개구(102c)로부터 하우징(101)의 외측으로 돌출하는 외측 부분을 포함한다.
완충 부재(600)의 외측 부분은, 외측 쉘(102)의 외면(102d, 102g)에 접촉하는 부분을 포함하지 않는다. 또한, 완충 부재(600)의 외측 부분은, 하우징(101) 중 개구(102c)를 형성하는 부분에 간격을 두고 대향하는 단차(600c)를 갖는다. 단차(600c)는, 개구(102c)에 대응하는 형상을 갖고 있으며, 외측 부분(600b)의 전체 둘레에 형성된다. 단차(600c)는 개구(102c)로부터 이격되어 있다.
완충 부재(600)는, 제1 부재(601)와 제2 부재(602)에 의해 구성된다. 제1 부재(601)는, 완충 부재(200)의 것과 동일한 재료로 형성되고, 완충 부재(200)와 마찬가지로, 상측 커버 부재(102a)의 내면(102e) 및 하측 커버 부재(102b)의 내면(102f) 중 적어도 하나에, 하우징(101)으로부터 제거되지 않도록 결합되어 있다. 완충 부재(600)의 외측 부분은, 제1 부재(601)의 일부와 제2 부 재(602)의 일부에 의해 구성된다. 제2 부재(602)는, 제1 부재(601)보다 탄성률이 낮은 재료, 예를 들어 폼이나 겔로 형성된다. 제2 부재(602)는, 제1 부재(601)의 오목부(601a)에 대응한 형상을 갖는 볼록부(602a)를 갖는다. 볼록부(602a)를 오목부(601a)에 삽입함으로써, 제2 부재(602)가 제1 부재(601)에 부착된다. 제2 부재(602)는, 접착제나 점착제에 의해 또는 기계적으로 제1 부재(601)에 접착되어도 된다. 방사선 촬상 장치(100)가 낙하했을 경우에, 완충 부재(600)의 제2 부재(602)가 최초에 바닥 등에 충돌한다. 제2 부재(602)는 제1 부재(601) 보다 낮은 탄성률을 가지므로, 완충 부재(600)의 완충 능력이 더 높아진다.
도 7a 및 도 7b를 참조하여, 본 발명의 일부 실시형태에 따른 방사선 촬상 장치(700)의 구성에 대해서 설명한다. 도 7a는 방사선 촬상 장치(700)의 평면도이다. 도 7b는 도 7a의 G-G 선을 따라 취한 단면도이다. 방사선 촬상 장치(700)는, 완충 부재(200)대신 완충 부재(701)를 포함하는 점을 제외하고는 방사선 촬상 장치(100)와 동일할 수 있다. 완충 부재(701)는 완충 부재(200)에 대하여 형상이 상이하고, 재료 및 외측 쉘(102)과의 결합 방법 등의 다른 점에 대해서는 완충 부재(200)에 관한 것과 동일할 수 있다. 완충 부재(701)도, 하우징(101)의 내부의 내측 부분과, 하우징(101)의 개구(102c)로부터 하우징(101)의 외측으로 돌출하는 외측 부분을 포함한다. 완충 부재(701)의 외측 부분의 형상은, 상술한 완충 부재 중 임의의 것의 형상과 동일할 수 있다.
완충 부재(701)는, 센서 기판(107)과 신틸레이터층(106)에 의해 구성되는 검출 패널을 둘러싸는 프레임 형상을 갖는다. 완충 부재(701)는, 일체의 부재이어도 되거나, 또는 복수의 부재를 서로 결합함으로써 형성되어도 된다. 또한, 완충 부재(701)는, 프레임 형상의 일부에 절단된 부분을 가져도 된다. 완충 부재(701)의 내측 부분은, 외측 쉘(102)의 측벽(102h)(즉, 하우징(101)의 측벽)을 따라 연장된다. 완충 부재(701)는 외측 쉘(102)에 의해 위치결정되어 있으므로, 외측 쉘(102)에 결합되어도 되고, 결합되지 않아도 된다. 완충 부재(701)가 프레임 형상을 가짐으로써, 낙하 충격에 의한 방사선 촬상 장치(700)의 변형을 억제할 수 있을 뿐 아니라, 방사선 촬상 장치(700) 전체의 굴곡 강성을 향상시킬 수 있다.
도 7b에 도시한 바와 같이, 베이스(108)가 완충 부재(701)에 접촉하고 있어도 된다. 이에 의해, 방사선 촬상 장치(700)를 소형화할 수 있다. 또한, 완충 부재(701)는, 하우징(101)에 접촉하지 않고 있는 면(즉, 하우징(101)의 내부에 대향하는 면)에 오목부를 가져도 된다. 이 오목부는 프레임 형상을 갖는 완충 부재(701)의 전체 둘레에 배치되어도 된다. 베이스(108)의 테두리는 완충 부재(701)의 오목부에 끼워맞춰져도 된다.
완충 부재(701)는, 금속 등의 도체를 부분적으로 포함해도 되고, 섬유 강화 수지 등의 도전성을 갖는 재료로 형성되어도 된다. 방사선 검출 패널을 둘러싸는 프레임 형상에 도전 부재를 배함으로써, 방사선 촬상 장치(700)의 외부에서 도래하는 방사선 검출 패널에의 노이즈를 저감할 수 있다.
도 8을 참조하여, 본 발명의 일부 실시형태에 따른 방사선 촬상 장치(800)의 구성에 대해서 설명한다. 방사선 촬상 장치(800)의 하우징은 육각형의 형상을 갖고, 파지부를 갖는다. 방사선 촬상 장치(800)는, 상술한 완충 부재 중 어느 하나를 포함한다. 완충 부재는, 방사선 촬상 장치(800)의 코너부(800a) 중 적어도 하나에 있는 개구로부터 돌출하는 부분을 갖는다.
도 9는 본 발명에 따른 방사선 촬상 장치의 X선 진단 시스템(방사선 촬상 시스템)에의 응용예를 도시한 도면이다. X선 튜브(6050)(방사선원)에 의해 발생한 방사선으로서의 X선(6060)은, 피험자 또는 환자(6061)의 흉부(6062)를 투과하고, 상기 방사선 촬상 장치 중 하나인 검출 장치(6040)에 입사한다. 이 입사한 X선에는 환자(6061)의 체내에 대한 정보가 포함된다. X선이 입사함에 따라 신틸레이터는 발광하고, 광전 변환에 의해 전기적 정보를 얻는다. 이 정보는 디지털 신호로 변환된다. 신호 처리 유닛인 이미지 프로세서(6070)에 의해 신호의 화상 처리가 행해진다. 제어 실의 표시 유닛인 디스플레이(6080)에서 결과적인 화상을 관찰할 수 있다. 또한, 방사선 촬상 시스템은, 검출 장치와, 검출 장치로부터의 신호를 처리하는 신호 처리 유닛을 적어도 포함한다.
또한, 이 정보를 전화 회선(6090) 등의 전송 처리 유닛을 통해 원격지에 전송할 수 있다. 정보는 의사 실 등의 다른 장소의 표시 유닛인 디스플레이(6081)에 표시될 수 있거나 또는 광 디스크 등의 기록 유닛에 저장될 수 있다. 이에 의해 원격지의 의사가 진단하는 것도 가능하다. 또한, 기록 유닛인 필름 프로세서(6100)에 의해 기록 매체인 필름(6110)에 정보를 기록할 수 있다.
다른 실시형태
본 발명의 실시형태(들)는 상술한 실시형태(들) 중 하나 이상의 기능을 실행하기 위해 저장 매체(보다 완전하게는 '비-일시적 컴퓨터-판독가능 저장 매체'라 칭할 수도 있음)에 기록된 컴퓨터 실행가능 명령어(예를 들어, 하나 이상의 프로그램)을 판독 및 실행하고 그리고/또는 상술한 실시형태(들) 중 하나 이상의 기능을 실행하기 위한 하나 이상의 회로(예를 들어, 응용 특정 집적 회로(ASIC))를 포함하는 시스템 또는 장치의 컴퓨터에 의해, 그리고 예를 들어 상술한 실시형태(들) 중 하나 이상의 기능을 실행하기 위해 저장 매체로부터의 컴퓨터 실행가능 명령어를 판독 및 실행하고 그리고/또는 상술한 실시형태(들) 중 하나 이상의 기능을 실행하기 위해 하나 이상의 회로를 제어함으로서 상기 시스템 또는 장치의 컴퓨터에 의해 실행되는 방법에 의해 실현될 수도 있다. 컴퓨터는 하나 이상의 프로세서(예를 들어, 중앙 처리 유닛(CPU), 마이크로 처리 유닛(MPU))를 포함할 수 있고 컴퓨터 실행가능 명령어를 판독 및 실행하기 위해 별도의 컴퓨터 또는 별도의 프로세서의 네트워크를 포함할 수 있다. 컴퓨터 실행가능 명령어는 예를 들어 네트워크 또는 저장 매체로부터 컴퓨터에 제공될 수 있다. 저장 매체는 예를 들어 하드 디스크, 랜덤-액세스 메모리(RAM), 리드 온리 메모리(ROM), 분산형 컴퓨팅 시스템의 저장장치, 광학 디스크(예를 들어, 콤팩트 디스크(CD), 디지털 다기능 디스크(DVD), 또는 블루-레이 디스크(BD)TM), 플래시 메모리 장치, 메모리 카드 등 중 하나 이상을 포함할 수 있다.
(기타의 실시예)
본 발명은, 상기의 실시형태의 1개 이상의 기능을 실현하는 프로그램을, 네트워크 또는 기억 매체를 개입하여 시스템 혹은 장치에 공급하고, 그 시스템 혹은 장치의 컴퓨터에 있어서 1개 이상의 프로세서가 프로그램을 읽어 실행하는 처리에서도 실현가능하다.
또한, 1개 이상의 기능을 실현하는 회로(예를 들어,ASIC)에 의해서도 실행가능하다.
본 발명을 예시적인 실시형태를 참고하여 설명하였지만, 본 발명은 개시된 예시적인 실시형태로 제한되지 않음을 이해해야 한다. 이하의 청구항의 범위는 이러한 모든 변형 및 동등한 구조 및 기능을 포함하도록 최광의로 해석되어야 한다.

Claims (13)

  1. 방사선 촬상 장치이며,
    방사선 검출 패널;
    상기 방사선 검출 패널을 수용하도록 구성되는 하우징; 및
    완충 부재를 포함하고,
    상기 하우징은 코너에 개구를 갖고,
    상기 완충 부재는, 상기 하우징의 내부에 고정된 제1 부분과, 상기 하우징의 상기 개구로부터 상기 하우징의 외측으로 돌출하는 제2 부분을 포함하고,
    상기 제2 부분은, 상기 하우징 중, 개구를 형성하는 부분에 대향하는 단차를 갖고, 상기 단차는 상기 개구에 대응하는 모양을 갖고,
    상기 완충 부재의 상기 제2 부분의 탄성률은, 상기 하우징 중 상기 개구를 형성하는 부분의 탄성률보다 낮은, 방사선 촬상 장치.
  2. 제1항에 있어서, 상기 완충 부재의 상기 제1 부분은 상기 하우징의 내면에 결합되는, 방사선 촬상 장치.
  3. 제1항에 있어서, 상기 완충 부재의 상기 제1 부분은 상기 하우징에 일체로 성형되어 있는, 방사선 촬상 장치.
  4. 제1항에 있어서, 상기 완충 부재의 상기 제1 부분은, 상기 방사선 검출 패널을 둘러싸는 프레임 형상을 갖는, 방사선 촬상 장치.
  5. 제1항에 있어서, 상기 완충 부재의 상기 제1 부분은 상기 하우징의 측벽을 따라 연장되는, 방사선 촬상 장치.
  6. 제1항에 있어서, 상기 완충 부재의 상기 제1 부분은 상기 하우징에 접촉하지 않는 면에 오목부를 갖는, 방사선 촬상 장치.
  7. 제1항에 있어서, 상기 단차와 상기 개구를 형성하는 부분 사이에 공간이 존재하는, 방사선 촬상 장치.
  8. 제1항에 있어서, 상기 방사선 검출 패널을 지지하도록 구성되는 베이스를 더 포함하며,
    상기 베이스는 상기 완충 부재에 접촉하는, 방사선 촬상 장치.
  9. 제1항에 있어서, 상기 완충 부재는 제1 부재 및 상기 제1 부재보다 낮은 탄성률을 갖는 제2 부재를 포함하고,
    상기 제1 부재는 상기 하우징의 내면에 결합되며,
    상기 완충 부재의 상기 제2 부분은 상기 제2 부재의 적어도 일부를 포함하는, 방사선 촬상 장치.
  10. 방사선 촬상 장치이며,
    방사선 검출 패널;
    상기 방사선 검출 패널을 수용하도록 구성되는 하우징; 및
    완충 부재를 포함하고,
    상기 하우징은 코너에 개구를 갖고,
    상기 완충 부재는, 상기 하우징의 내측에 존재하는 제1 부분, 및 상기 하우징의 상기 개구로부터 상기 하우징의 외측으로 돌출하는 제2 부분을 포함하고,
    상기 제2 부분은, 상기 하우징 중, 개구를 형성하는 부분에 대향하는 단차를 갖고, 상기 단차는 상기 개구에 대응하는 모양을 갖고,
    상기 완충 부재의 상기 제2 부분의 탄성률은, 상기 하우징 중, 상기 개구를 형성하는 부분의 탄성률보다 낮으며,
    상기 완충 부재의 상기 제1 부분은 상기 방사선 검출 패널을 둘러싸는 프레임 형상을 갖는, 방사선 촬상 장치.
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