KR101950534B1 - 적층 조형 장치 및 적층 조형 방법 - Google Patents
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Abstract
분말층의 형성 완료를 기다리지 않고 광 빔의 조사를 개시함으로써 조형 시간의 단축화를 도모하는 것을 과제로 하고 있고, 적층 조형 장치는, 3차원 형상의 조형물이 조형되는 조형 테이블(23)을 구비하는 조형부(2)와, 조형 테이블(23) 상에 재료 분말을 공급하여 분말층(M)을 형성하는 분말층 형성부(3)와, 조형 테이블(23) 상에 적층된 분말층(M)에 광 빔을 조사하고 고화층 영역을 선택하여 형성하는 광 빔 조사부(4)와, 각 부의 동작을 제어하는 제어부(5)를 구비하고, 제어부(5)는, 분말층 형성부(3)가 분말층의 형성을 개시하고 나서 1층 분의 분말층을 형성 완료할 때까지의 사이에 이미 형성된 분말층 상에 조형 가능 영역을 인식하며, 이 조형 가능 영역 내에 광 빔을 조사함으로써, 상기 과제를 달성할 수 있는 적층 조형 장치 및 상기 장치를 실현하는 방법.
Description
본 발명은, 재료 분말에 광 빔 또는 전자빔을 조사하여 3차원 형상 조형물을 조형하는 적층 조형 장치 및 적층 조형 방법에 관한 것이다.
종래, 재료 분말로 형성한 분말층에 광 빔 또는 전자빔을 조사하여 고화층(固化層)을 형성하고, 이 고화층 상에 새로운 분말층을 형성하여 광 빔 또는 전자빔을 조사함으로써 고화층을 적층해 가는 것을 반복하여, 3차원 형상의 조형물을 제조하는 적층 조형 장치가 알려져 있다. 이러한 적층 조형 장치는, 3차원 형상의 조형물이 조형되는 조형 테이블을 구비하는 조형부와, 조형 테이블 상에 재료 분말을 공급하여 분말층을 형성하는 분말층 형성부와, 조형 테이블 상에 적층된 분말층에 광 빔 또는 전자빔을 조사하여 용융 고화시켜 고화층을 형성하는 광 빔 또는 전자빔 조사부와, 각 부의 동작을 제어하는 제어부를 구비하고 있다. 이러한 적층 조형 장치에 의한 기본 동작 공정은, 조형 테이블 상에 재료 분말의 분말층을 형성하는 공정, 분말층 상에서의 조형물의 단면 형상에 대응하는 영역에 광 빔 또는 전자빔을 조사하여 선택적으로 고화층을 형성하는 공정, 조형 테이블을 설정 높이 강하시켜 고화층 상에 새로운 재료 분말의 분말층을 형성하는 공정의 반복이 된다(예를 들면, 하기 특허문헌 1 참조).
상술한 종래의 적층 조형 장치의 동작은, 조형 테이블 상에 분말층을 형성하는 공정과 분말층 상의 조형 영역에 광 빔 또는 전자빔을 조사하여 고화층의 영역을 선택하여 형성하는 공정이 다른 시간에 행해지고 있고, 분말층이 완전히 형성되는 것을 기다려 그 분말층에 광 빔 또는 전자빔을 조사하는 것이 이루어져 있다. 이것에 의하면, 반복하여 행해지는 분말층의 형성 공정에 필요로 하는 시간이, 광 빔 또는 전자빔의 조사 공정의 대기 시간이 되므로, 전체 조형 시간이 장시간화 하는 문제가 있었다. 특히, 조형 테이블의 면적이 넓은 경우에는 1층 분의 분말층을 형성하는데 필요로 하는 시간이 길어지고, 그 시간이 여러 차례 반복되게 되므로, 조형 시간의 장시간화를 피할 수 없는 문제가 있었다.
본 발명은, 이러한 문제에 대처하여, 결국, 분말층의 형성 완료를 기다리지 않고 광 빔 또는 전자빔의 조사를 개시함으로써, 조형 시간의 단축화를 도모하는 것을 과제로 하고 있다.
이러한 목적을 달성하기 위해서, 본 발명에 의한 적층 조형 장치 및 적층 조형 방법은, 이하의 기본 구성에 입각하고 있다.
(1) 3차원 형상의 조형물이 조형되는 조형 테이블을 구비하는 조형부와, 조형 테이블 상에 재료 분말을 공급하여 분말층을 형성하는 분말층 형성부와, 조형 테이블 상에 적층된 분말층에 광 빔 또는 전자빔을 조사하여 고화층의 영역을 선택하여 형성하는 광 빔 또는 전자빔 조사부와, 각 부의 동작을 제어하는 제어부를 구비하고, 상기 광 빔 또는 전자빔 조사부는, 광 빔 또는 전자빔을 반사하는 2매의 주사 미러와, 상기 미러를 다른 2축 주위로 회전시키는 주사 장치를 갖고 있는 광 빔 또는 전자빔 주사 수단을 구비하고 있고, 상기 제어부는, 상기 분말층 형성부가 분말층의 형성을 개시하고 나서 1층 분의 분말층을 형성 완료할 때까지의 사이에 이미 형성된 분말층 상에 조형 가능 영역을 인식하고, 상기 주사 장치를 제어함으로써, 상기 2매의 주사 미러의 각도를 2축 주위로 회전시켜 조정함으로써, 상기 조형 가능 영역 내에 광 빔 또는 전자빔의 조사 위치를 가동 데이터에 따라 주사함으로써, 광 빔 또는 전자빔을 조사하는 적층 조형 장치.
(2) 조형 테이블 상에 재료 분말의 분말층을 형성하는 분말층 형성 공정과, 분말층 상에 광 빔 또는 전자빔을 조사하고 고화층의 영역을 선택하여 형성하는 광 빔 또는 전자빔 조사 공정을 가지고, 상기 광 빔 또는 전자빔 조사 공정은, 상기 분말층 형성 공정에서 분말층의 형성을 개시하고 나서 1층 분의 분말층을 형성 완료할 때까지의 이미 형성된 분말층 상에 조형 가능 영역을 인식하고, 상기 조형 가능 영역 내에 광 빔 또는 전자빔을 조사하는 적층 조형 방법.
본 발명에 따르면, 분말층 형성 공정과 광 빔 또는 전자빔 조사 공정을 일부 동시에 진행시킬 수 있어 조형 시간의 단축화가 가능하게 된다. 특히, 복수의 분할 영역을 다른 광 빔 또는 전자빔으로 동시에 가공처리 할 수 있다. 이것에 의하면 한층 더 조형 시간의 단축화가 가능하게 된다.
도 1은, 본 발명의 일 실시형태에 따른 적층 조형 장치의 개략 구성을 나타낸 설명도이다.
도 2는, 본 발명의 실시형태에 따른 적층 조형 장치에 있어서의 제어부의 동작을 나타낸 설명도이다.
도 3은, 본 발명의 실시형태에 따른 적층 조형 장치의 제어부에 의한 주사(走査) 제어의 일례를 나타낸 설명도이다.
도 4는, 본 발명의 실시형태에 따른 적층 조형 장치의 제어부에 의한 주사 제어의 다른 예를 나타낸 설명도이다.
도 5는, 도 4에 나타낸 주사 제어에 이용되는 광 빔 또는 전자빔 주사 수단을 나타낸 설명도이다.
도 6은, 도 4에 나타낸 주사 제어에 있어서의 주사 형태예를 나타낸 설명도이다.
도 2는, 본 발명의 실시형태에 따른 적층 조형 장치에 있어서의 제어부의 동작을 나타낸 설명도이다.
도 3은, 본 발명의 실시형태에 따른 적층 조형 장치의 제어부에 의한 주사(走査) 제어의 일례를 나타낸 설명도이다.
도 4는, 본 발명의 실시형태에 따른 적층 조형 장치의 제어부에 의한 주사 제어의 다른 예를 나타낸 설명도이다.
도 5는, 도 4에 나타낸 주사 제어에 이용되는 광 빔 또는 전자빔 주사 수단을 나타낸 설명도이다.
도 6은, 도 4에 나타낸 주사 제어에 있어서의 주사 형태예를 나타낸 설명도이다.
이하, 도면을 참조하여 본 발명의 실시형태를 설명한다. 도 1은 본 발명의 일실시 형태에 따른 적층 조형 장치의 개략 구성을 나타낸 설명도이다. 적층 조형 장치(1)는, 기본 구성으로서 조형부(2), 분말층 형성부(3), 광 빔 또는 전자빔 조사부(4), 제어부(5)를 구비하고 있다.
조형부(2)는, 3차원 형상의 조형물이 형성되는 조형 테이블(23)을 구비한다. 또, 조형부(2)는, 장치의 토대가 되는 기대(基台)(21), 기대(21) 상에 장비되어 조형 테이블(23)을 상하로 승강시키는 승강 장치(22) 등을 구비한다. 조형 테이블(23)은 그 위에 공급되는 재료 분말과 유사한 재질로 형성되거나, 혹은 용융 고화된 재료 분말과 밀착하는 재질로 형성된다.
분말층 형성부(3)는, 조형 테이블(23) 상에 재료 분말을 공급하여 분말층(M)을 형성함으로써, 조형 테이블(23)의 한 방향(도시한 Y축 방향)을 따라서 이동하면서 조형 테이블(23) 상에 차례차례 분말층(M)을 형성하는 분말 적층 장치(30)를 구비하고 있다. 이 분말 적층 장치(30)는, 재료 분말이 저류(貯留)되어 조형 테이블(23)의 한 변(도시한 X축 방향을 따른 변)을 따라서 선 형상으로 재료 분말을 공급하는 것이다. 또, 분말층 형성부(3)는, 분말 적층 장치(30)를 조형 테이블(23)의 한 방향(도시한 Y축 방향)을 따라서 이동시키는 이동 장치(31)를 구비하고 있고, 이동 장치(31)에는, 분말 적층 장치(30)의 한 방향(도시한 Y축 방향)을 따른 이동 위치를 검지하는 이동 위치 검지 수단(32)을 구비하고 있다.
광 빔 또는 전자빔 조사부(4)는, 조형 테이블(23) 상에 적층된 분말층(M)에 광 빔 또는 전자빔(L)을 조사하여 선택적으로 고화층을 형성하는 것이며, 광 빔 또는 전자빔(L)을 발진하는 광 빔 또는 전자빔 발진기(40)와, 광 빔 또는 전자빔 발진기(40)로부터 출사한 광 빔 또는 전자빔(L)을 광 빔 또는 전자빔 주사 수단(42)으로 이끄는 반사광학계(41)와, 광 빔 또는 전자빔(L)을 가공 데이터를 따라서 분말층(M) 상의 임의의 위치에 조사하는 광 빔 또는 전자빔 주사 수단(42)을 구비하고 있다. 광 빔 또는 전자빔 발진기(40)는, 탄산 가스 레이저나 YAG 레이저 등에 의하여 구성할 수 있다. 광 빔 또는 전자빔 주사 수단(42)은, 광 빔 또는 전자빔(L)을 반사하는 2매의 주사 미러(42A)와 이 주사 미러(42A)를 다른 2축 주위로 회전시키는 주사 장치(42B)를 구비하고 있다. 광 빔 또는 전자빔 주사 수단(42)은, 주사 장치(42B)를 제어하여 2매의 주사 미러(42A)의 각도를 조정함으로써, 분말층(M) 상에서의 광 빔 또는 전자빔(L)의 조사 위치를 가공 데이터에 따라 임의의 위치에 주사할 수 있다.
제어부(5)는, 분말 적층 장치(30)의 위치를 검출하고, 가공 데이터에 따라서 광 빔 또는 전자빔 주사 수단(42)을 제어하는 것이다. 또, 제어부(5)는, 분말층 형성부(3)가 조형 테이블(23) 상에 1층 분의 분말층을 형성하고 광 빔 또는 전자빔 주사 수단(4)이 1층 분의 가공 처리를 행할 때마다 승강 장치(22)를 제어하여, 조형 테이블(23)의 높이를 서서히 하강시키는 제어를 행하는 것이다.
도 2는, 본 발명의 실시형태에 따른 적층 조형 장치에서의 제어부의 동작을 나타낸 설명도이다. 제어부(5)는, 기본적으로는, 입력된 가공 데이터에 기초하여 광 빔 또는 전자빔 주사 수단(52)을 제어하고, 조형 테이블(23)에 적층된 분말층(M) 상의 광 빔 또는 전자빔 조사 위치(Ls)를 조형물의 단면 형상(F) 내에서 주사한다. 제어부(5)에 입력되는 가공 데이터의 X-Y평면 좌표는 조형 테이블(23) 상의 평면위치에 대응하도록 초기설정이 이루어져 있고, 제어부(5)가 가공 데이터에 따라 광 빔 또는 전자빔 주사 수단(42)을 제어함으로써, 조형 테이블(23) 상에 가상적으로 그려진 단면 형상(F)의 내측에서 광 빔 또는 전자빔 조사 위치(Ls)가 주사된다.
이것에 대하여, 제어부(5)는, 이동 위치 검지 수단(32)의 검지 신호에 의하여, 분말 적층 장치(30)가 도시된 소정의 Y축 방향의 어떤 위치까지 이동하고 있으며, 조형 테이블(23) 상의 어디까지가 조형 가능 영역이며 어디까지가 조형 불가능 영역인지를 인식하고 있다.
제어부(5)는, 분말층 형성부(3)가 조형 테이블(23) 상에 1층 분의 분말층을 형성하기 시작하고 나서 형성 완료할 때까지의 사이에, 이미 형성된 분말층(M) 상에 조형 가능 영역을 인식하고, 이 조형 가능 영역 내에서 광 빔 또는 전자빔(L)을 조사하도록 광 빔 또는 전자빔 주사 수단(42)을 제어한다. 구체적으로는, 분말 적층 장치(30)는, 도시한 Y축 방향을 따라서 연속적으로 이동하므로, 조형 테이블(23) 상에 이미 분말층(M)이 형성된 조형 가능 영역은, 분말 적층 장치(30)가 이동을 개시하고 나서 Y축 방향을 따라서 서서히 확대하게 되며, 조형 가능 영역이 단면 형상(F) 내의 좌표와 겹친 시점에서 그 겹친 범위 내에서 광 빔 또는 전자빔의 조사가 개시된다. 그 다음은, 분말 적층 장치(30)의 이동에 따른 조형 가능 범위의 확대에 수반하여, 단면 형상(F) 내에서의 광 빔 또는 전자빔 조사 위치(Ls)의 주사 범위가 차례차례 변경된다.
도 3은, 제어부에 의한 주사 제어의 일례를 나타내고 있다. 도시의 예에서는, 광 빔 또는 전자빔 조사 위치(Ls)의 주사는, X축 방향에 따른 주(主)주사와 Y축 방향에 따른 부(副)주사에 의하여 구성되어 있다. 도 3(a)는, 단면 형상(F) 내의 좌표 영역과 조형 가능 영역이 겹친 직후의 상태를 나타내고 있고, 조형 가능 영역의 Y좌표(Y1)가 단면 형상(F)의 Y좌표의 최소치(Y0)를 초과한 직후를 나타내고 있다. 도 3(b)에는, 분말 적층 장치(30)가 더 이동하여, 조형 가능 영역의 Y좌표(Y2)가 단면 형상(F)의 Y좌표 범위의 중간 정도까지 이동한 상태를 나타내고 있다. 도시한 바와 같이, 단면 형상(F) 내의 좌표 영역과 조형 가능 영역이 겹친 시점에서, 그 겹친 영역 내에 광 빔 또는 전자빔이 조사되고, 가공 데이터에 따라서 단면 형상(F) 내의 X좌표 범위에서 X축 방향의 주주사가 행해진다. 그리고, 분말 적층 장치(30)의 이동에 수반하는 조형 가능 영역의 확대에 따라서, 광 빔 또는 전자빔 조사 위치(Ls)의 부주사 범위를 서서히 소정의 Y축 방향을 따라서 확대한다.
이하, 실시예에 따라서 고찰한다.
[실시예]
실시예에 있어서는, 도 4에 나타내는 바와 같이, 제어부(5)는, 조형 테이블(23) 상에 복수의 분할 영역(가상 그리드에 의하여 분할된 영역)을 인식하고, 조형 가능 영역 내에서의 분할 영역을 선택하며, 선택된 분할 영역 내에서 광 빔 또는 전자빔을 조사하는 것을 특징으로 하고 있다. 도 4에 나타내는 구체적 예의 경우에는, 조형 테이블(23) 상의 X-Y평면 영역은, X축 방향으로 5분할되고, Y축 방향으로 6분할되어 있다. 그리고, 도 5에 나타내는 바와 같이, 광 빔 또는 전자빔 조사부(4)가, 분할 영역에 대응하여 광 빔 또는 전자빔(L)을 조사하는 복수의 광 빔 또는 전자빔 주사 수단(42)을 구비하고, 제어부(5)는, 복수의 광 빔 또는 전자빔 주사 수단(42)을 개별의 주사 지령으로 동시에 제어한다. 복수의 광 빔 또는 전자빔 주사 수단(42)은, 각각 구동 수단(43)을 구비하고 있으며, 제어부(5)로부터의 주사 지령에 따라서 각 구동 수단(43)이 각 광 빔 또는 전자빔 주사 수단(42)을 개별적으로 제어한다.
실시예에 있어서는, 도 4, 도 5에 나타내는 바와 같이, X축 방향으로 복수 분할(도 4, 도 5의 경우에는 5분할)된 분할 영역마다 광 빔 또는 전자빔 주사 수단(42)을 배치하고, X축 방향에 따른 복수의 분할 영역에 복수의 광 빔 또는 전자빔(L(A), L(B), L(C), L(D))이 조사되며, 복수의 분할 영역은 복수의 광 빔 또는 전자빔으로 동시에 가공 처리가 이루어진다.
구체적으로는, 도 4(a)에 나타내는 바와 같이, X축 방향을 따라서, 분할된 복수의 분할 영역(A, B, C, D)이 조형 가능 영역이 되면, 각 분할 영역(A~D) 내에서의 단면 형상(F) 내의 좌표 영역에 대하여 광 빔 또는 전자빔 조사 위치의 주사가 행해진다. 이때, 분할 영역 내에서의 광 빔 또는 전자빔의 주사는, 여러 가지 주사 형태(패스)를 채용할 수 있다. 도 6은 그 일례를 나타내고 있다. 도 6(a)에 나타낸 예는 안쪽으로 감는 소용돌이 패스이고, 도 6(b)에 나타낸 예는 바깥으로 감는 소용돌이 패스이다. 또, 도 6(c)에 나타낸 예는 X축 방향을 주주사로 하고 Y축 방향을 부주사로 하는 꾸불꾸불한 패스이다.
도 4(b)에 나타내는 바와 같이, 분말 적층 장치(30)의 이동에 의하여 조형 가능 영역이 서서히 확대되면, 광 빔 또는 전자빔(L(A))은, 분할 영역 A 다음에 분할 영역 F, 분할 영역 K를 차례차례 처리 대상으로 하고, 다른 광 빔 또는 전자빔도 마찬가지로, 각각 Y축 방향으로 늘어선 복수의 분할 영역을 차례차례 처리 대상으로 한다.
이상 설명한 각 실시형태 및 실시예에서도 분명한 바와 같이, 본 발명에 따른 적층 조형 장치는, 조형 테이블 상에 재료 분말의 분말층(M)을 형성하는 분말층 형성 공정과, 분말층(M) 상에 광 빔 또는 전자빔(L)을 조사하여 선택적으로 고화층을 형성하는 광 빔 또는 전자빔 조사 공정과, 조형 테이블을 설정 높이 강하시켜 형성된 고화층 상에 새로운 분말층(M)을 형성하는 공정을 반복함으로써, 조형 테이블 상에 3차원 형상의 조형물을 형성한다. 이때, 광 빔 또는 전자빔 조사 공정은, 분말층 형성 공정에 있어서 분말층(M)의 형성을 개시하고 나서 1층 분의 분말층(M)을 형성 완료할 때까지의 사이에 이미 형성된 분말층(M) 상에 조형 가능 영역을 인식하고, 이 조형 가능 영역 내에 광 빔 또는 전자빔(L)을 조사한다. 이것에 의하여, 분말층 형성 공정과 광 빔 또는 전자빔 조사 공정을 일부 동시에 진행시킬 수 있어 조형 시간의 단축화가 가능하게 된다.
특히, 실시예의 경우와 같은 제어부(5)가 조형 테이블 상에 복수의 분할 영역을 인식하고, 조형 가능 영역 내에서의 분할 영역을 선택하며, 선택된 분할 영역 내에 광 빔 또는 전자빔(L)의 조사를 행함으로써, 복수의 분할 영역을 다른 광 빔 또는 전자빔(L)으로 동시에 가공처리 할 수 있다. 이것에 의하면 한층 더 조형 시간의 단축화가 가능하게 된다.
이렇게 하여, 본 발명은, 적층 조형 장치 및 적층 조형 방법 분야에서 그 이용의 가능성은 절대적이라고 해도 과언은 아니다.
1:적층 조형 장치 2: 조형부
21:기대 22:승강 장치
23:조형 테이블 3:분말층 형성부
30:분말 적층 장치 31:이동 장치
32:이동 위치 검지 수단 4:광 빔 또는 전자빔 조사부
40:광 빔 또는 전자빔 발진기 41:반사광학계
42:광 빔 또는 전자빔 주사 수단 42A:주사 미러
42B:주사 장치 5:제어부
L:광 빔 또는 전자빔 M:분말층
La:광 빔 또는 전자빔 조사 위치 F:단면 형상
21:기대 22:승강 장치
23:조형 테이블 3:분말층 형성부
30:분말 적층 장치 31:이동 장치
32:이동 위치 검지 수단 4:광 빔 또는 전자빔 조사부
40:광 빔 또는 전자빔 발진기 41:반사광학계
42:광 빔 또는 전자빔 주사 수단 42A:주사 미러
42B:주사 장치 5:제어부
L:광 빔 또는 전자빔 M:분말층
La:광 빔 또는 전자빔 조사 위치 F:단면 형상
Claims (5)
- 3차원 형상의 조형물이 조형되는 조형 테이블을 구비하는 조형부와, 조형 테이블 상에 재료 분말을 공급하여 분말층을 형성하는 분말층 형성부와, 조형 테이블 상에 적층된 분말층에 광 빔 또는 전자빔을 조사하여 고화층(固化層)의 영역을 선택하여 형성하는 광 빔 또는 전자빔 조사부와, 각 부의 동작을 제어하는 제어부를 구비하고,
상기 광 빔 또는 전자빔 조사부는, 광 빔 또는 전자빔을 반사하는 2매의 주사 미러와, 상기 미러를 다른 2축 주위로 회전시키는 주사 장치를 갖고 있는 광 빔 또는 전자빔 주사 수단을 구비하고 있고,
상기 제어부는, 상기 분말층 형성부가 분말층의 형성을 개시하고 나서 1층 분의 분말층을 형성 완료할 때까지의 사이에 이미 형성된 분말층 상에 조형 가능 영역을 인식하고, 상기 주사 장치를 제어함으로써, 상기 2매의 주사 미러의 각도를 2축 주위로 회전시켜 조정함으로써, 상기 조형 가능 영역 내에 광 빔 또는 전자빔의 조사 위치를 가동 데이터에 따라 주사함으로써, 광 빔 또는 전자빔을 조사하는 적층 조형 장치. - 제 1 항에 있어서,
상기 분말층 형성부는, 상기 조형 테이블에서의 소정의 방향을 따라서 이동함으로써 상기 조형 테이블 상에 분말층을 차례차례 형성하는 분말 적층 장치와, 상기 분말 적층 장치에서의 상기 소정의 방향을 따른 이동 위치를 검지하는 이동 위치 검지 수단을 구비하고,
상기 제어부는, 상기 이동 위치 검지 수단의 출력에 의하여 상기 조형 가능 영역을 인식하는 것을 특징으로 하는 적층 조형 장치. - 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
상기 제어부는, 상기 조형 테이블 상에 복수의 분할 영역을 인식하고, 상기 조형 가능 영역 내에서의 상기 분할 영역을 선택하며, 선택된 상기 분할 영역 내에 광 빔 또는 전자빔의 조사를 행하는 것을 특징으로 하는 적층 조형 장치. - 제 3 항에 있어서,
상기 광 빔 또는 전자빔 조사부는, 상기 분할 영역에 대응하여 광 빔 또는 전자빔을 조사하는 복수의 광 빔 또는 전자빔 주사 수단을 구비하고,
상기 제어부는, 복수의 상기 광 빔 또는 전자빔 주사 수단을 개별의 주사 지령으로 동시에 제어하는 것을 특징으로 하는 적층 조형 장치. - 삭제
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