KR101889973B1

KR101889973B1 - 픽스처 친수성 가공장치

Info

Publication number: KR101889973B1
Application number: KR1020170158339A
Authority: KR
Inventors: 최종훈
Original assignee: 최종훈
Priority date: 2017-11-24
Filing date: 2017-11-24
Publication date: 2018-08-20

Abstract

본 발명에 의한 픽스처 친수성 가공장치(100)는 다음과 같이 구성된다.
도어(115)가 장착되어 개폐 가능한 챔버(110)와, 상기 챔버(110)의 측방을 분사노즐(123)이 관통하도록 상기 챔버(110)에 장착되어 플라즈마가스를 분사하는 플라즈마가스발생부(도시하지 않음)와, 상기 분사노즐(123)의 전방에 배치되도록 상기 챔버(110) 내부에 장착되어, 픽스처(F)를 홀딩한 상태로 회전 및 승강하도록 작동하는 구동부(140)와, 상기 챔버(110)의 측방에 관통하도록 상기 챔버(110)에 장착되어, 상기 챔버 (110) 내부의 기체를 배기시키는 진공펌프(130)를 포함하는 픽스처 가공장치에 있어서;
상기 구동부(140)는,
상기 챔버(110)의 바닥면에 부착되어 상하방으로 승강 작동하는 승강장치(160)와, 상기 승강장치(160)의 상면에 부착되는 것으로서, 픽스처(F)가 홀딩되어 회전되도록 하는 회전장치(150)를 포함하고,
상기 승강장치(160)는,
상기 챔버(110)의 바닥면에 부착된 튜브(161)와, 상기 진공펌프(130)에서 상기 챔버(110)를 관통하여 상기 튜브(161)에 연결된 유입호스(165)와, 상기 유입호스(165)에 장착된 솔레노이드밸브(167)와, 상기 솔레노이드밸브(167)에 접속되어 솔레노이드밸브(167)의 개폐를 결정하는 제어부(도시하지 않음)와, 상기 튜브(161)에 연결되어 상기 챔버(110)를 관통하여 외부로 연장된 배기호스(169)를 포함한다.
따라서, 다음과 같은 효과를 발휘한다.
상기 구동부(140)가 배경기술처럼 모터 및 기어 등과 같은 복잡한 기계적인 구조가 아니고, 진공펌프(130)의 작동에 의해서 부수적으로 발생하는 기류에 의해서 픽스처(F)를 회전시키고, 진공펌프(130)를 통해서 배기되는 기체가 튜브(161)에 간헐적으로 공급되면서 배기되는 구조에 의해서 픽스처(F)가 승강하도록 하므로, 배경기술에 비해서 간단한 구조로서 회전 및 승강 작동이 가능하기 때문에 제작 비용이 배경기술에 비해서 절감되고 배경기술에 비해서 경량이기 때문에 이동이 용이하다. 또한, 별도로 전기를 공급받을 필요가 없기 때문에 에너지의 절약이 가능하다.

Description

픽스처 친수성 가공장치 {FIXTURE HYDROPHILICITY WORK DEVICE}

본 발명은 픽스처 친수성 가공장치에 관한 것으로서, 더욱 상세히는 픽스처의 표면에 고르게 플라즈마가스를 분사하기 위해서 픽스처를 회전 및 승강시키는 구동부가, 기계적인 작동이 아니고, 챔버 내에서 자체적으로 발생하는 기체의 흐름을 이용하도록 구성된 것을 특징으로 하는 픽스처 친수성 가공장치에 관한 것이다.

이하, 첨부되는 도면과 함께 배경기술에 의한 임플란트 산화막 제거장치(1)에 대해서 살펴보면 다음과 같다.

도 1은 배경기술에 의한 임플란트 산화막 제거장치를 도시한 사시도로서 함께 설명한다.

요즘은 이빨이 발치되더라도 임플란트 시술을 통해서 본래 자신의 이처럼 음식물을 씹을 수 있다. 이러한 임플란트 시술을 위해서는 우선 발치된 턱뼈에 픽스처(F, fixture)를 식립한 후에 상기 픽스처(F)에 어버트먼트(abutment)를 삽입한다. 그리고 상기 어버트먼트에 이빨 모양의 크라운(crown)을 씌워서 고정하므로 완료된다.

이러한 픽스처(F)의 경우, 친수성이라고 해서 턱뼈에 견고하게 부착되면서 골 형성을 빠르게 유도할 수 있도록 티타늄으로 제조된다. 그런데 상기 픽스처(F)는 시간이 경과하면서 표면에 산화막이 형성되므로 상기 친수성을 상실하게 되어 턱뼈에 잘 붙지 않고 골 형성을 유도하지 못하는 문제점이 있었다. 상기 산화막은 픽스처(F) 유통 일주일 이내에 표면적의 80%가 될 정도록 빠르게 진행된다.

이러한 현상을 해결할 목적으로 한국 특허공개 제10-2016-0049683호에서는 다음과 같은 임플란트 산화막 제거장치(1)를 제시한 바 있다.

상기 임플란트 산화막 제거장치(1)는 도어가 장착되어 개폐가 가능한 챔버(10)가 구성되고, 상기 챔버(10)의 측방을 관통하도록 형성되어 플라즈마가스를 분사하는 플라즈마가스발생부가 구성된다. 상기 플라즈마가스발생부에는 플라즈마가스를 분사하는 분사노즐(23)이 구성되어 챔버(10)를 관통하도록 장착된다.

또한, 상기 분사노즐(23)의 전방에는 픽스처(F)를 홀딩한 상태로 회전 및 승강시키는 구동부(30)가 구성된다.

상기 구동부(30)는 픽스처(F)를 회전시키는 회전장치(33)와, 상기 회전장치(33)의 하부에 장착되어 회전장치를 상하방으로 승강시키는 승강장치(35)로 구성된다. 상기 회전장치(33)와 승강장치(35)는 모두 모터 및 기어 등이 조합되어 기계적으로 작동하도록 구성된다.

또한, 상기 챔버(10) 내부는 진공 상태가 되어야만 플라즈마가 발생하기 때문에 챔버(10)의 측방에는 진공펌프(40)가 장착된다. 또한, 상기 챔버(10) 내부에는 플라즈마가스가 발생할 때 오존이 발생하기 때문에 상기 진공펌프(40)에는 오존을 걸러내는 오존필터가 장착된다. 오존은 인체에 치명적이므로 오존필터를 통해서 여과시키도록 구성된다.

이러한 배경기술에 의하면, 상기 구동부(30)의 회전장치(33)에 픽스처(F)를 홀딩시킨 상태에서 상기 플라즈마가스발생부에 전원을 인가하여 플라즈마가스가 분사되도록 한다. 이때, 픽스처(F)는 회전장치(33)와 승강장치(35)에 의해서 회전 및 승강하게 되므로 픽스처(F)의 표면에 코팅된 산화막을 고르게 박리시킬 수 있다.

그러나 상기 임플란트 산화막 제거장치(1)는 구동부(30)가 모터 및 기어 등으로 조합된 기계 구동방식이어서 구조가 복잡하므로 유지보수가 어렵고 제조단가가 비싼 문제점이 있었다. 또한, 복잡한 기계 구동방식이므로 사람이 들고 이동시킬 수 있도록 가볍지 못한 문제점이 있었다. 또한, 상기 구동부(30)는 전력을 사용하므로 에너지가 많이 소비되는 문제점이 있었다.

한국 특허공개 제10-2016-0049683호 (2016년 05월 10일)

본 발명에 의한 픽스처 친수성 가공장치는 다음 사항을 해결하고자 한다.

첫째, 상기 임플란트 산화막 제거장치는 구동부가 모터 및 기어 등으로 조합된 기계 구동방식이어서 구조가 복잡하므로 유지보수가 어렵고 제조단가가 비싼 문제점을 해결하고자 한다.

둘째, 복잡한 기계 구동방식이므로 중량이 무거워서 사람이 들고 이동시킬 수 없는 문제점을 해결하고자 한다.

셋째, 상기 구동부는 전력을 사용하므로 에너지가 많이 소비되는 문제점을 해결하고자 한다.

본 발명에 의한 피스처 친수성 가공장치는 상기 과제를 해결하기 위해서 다음과 같이 구성된다.

도어가 장착되어 개폐 가능한 챔버와, 상기 챔버의 측방을 분사노즐이 관통하도록 상기 챔버에 장착되어 플라즈마가스를 분사하는 플라즈마가스발생부와, 상기 분사노즐의 전방에 배치되도록 상기 챔버 내부에 장착되어, 픽스처를 홀딩한 상태로 회전 및 승강하도록 작동하는 구동부와, 상기 챔버의 측방에 관통하도록 상기 챔버에 장착되어, 상기 챔버 내부의 기체를 배기시키는 진공펌프를 포함하는 픽스처 가공장치에 있어서;

상기 구동부는,

상기 챔버의 바닥면에 부착되어 상하방으로 승강 작동하는 승강장치와, 상기 승강장치의 상면에 부착되는 것으로서, 픽스처가 홀딩되어 회전되도록 하는 회전장치를 포함한다.

상기 승강장치는,

상기 챔버의 바닥면에 부착된 튜브와, 상기 진공펌프에서 상기 챔버를 관통하여 상기 튜브에 연결된 유입호스와, 상기 유입호스에 장착된 솔레노이드밸브와,상기 솔레노이드밸브에 접속되어 솔레노이드밸브의 개폐를 결정하는 제어부와, 상기 튜브에 연결되어 상기 챔버를 관통하여 외부로 연장된 배기호스를 포함한다.

상기 회전장치는,

상기 튜브의 상면에 부착된 베이스판과, 상기 베이스판의 상면에 수직으로 세워지는 것으로서, 상기 분사노즐에 대응하도록 배치되고, 상기 베이스판의 상면에 회전하도록 장착된 회전축과, 상기 회전축의 상단에 고정된 임펠러와, 상기 임펠러의 상단에 형성된 삽입홈과, 상기 삽입홈에 끼워지는 핀 형상의 것으로서 픽스처에 삽입되도록 형성된 홀더를 포함한다.

본 발명에 의한 픽스처 친수성 가공장치는 상기 해결수단에 의해서 다음과 같은 효과를 발휘한다.

첫째, 본원은 상기 구동부 즉 회전장치와 승강장치의 작동이 배경기술처럼 모터 및 기어 등과 같은 복잡한 기계적인 구조가 아니고, 진공펌프의 작동에 의해서 부수적으로 발생하는 챔버 내부의 기류에 의해서 픽스처가 회전되고, 진공펌프를 통해서 배기되는 기체가 튜브에 간헐적으로 공급되면서 배기되는 구조에 의해서 픽스처(F)가 승강된다. 따라서, 배경기술에 비해서 간단한 구조가 가능하기 때문에 제조단가를 배경기술에 비해서 낮출 수 있는 효과가 있다.

둘째, 상기 구동부가 배경기술에 비해서 간단한 구조로서 경량이 가능하기 때문에 이동이 용이한 효과가 있다.

셋째, 상기 구동부는 별도의 전기 공급이 필요하지 않기 때문에 배경기술에 비해서 에너지를 절약할 수 있는 효과가 있다.

도 1은 배경기술에 의한 임플란트 산화막 제거장치를 도시한 사시도.
도 2는 본 발명에 의한 픽스처 친수성 가공장치로서 도어가 개방된 상태를 도시한 사시도.
도 3은 본 발명에 의한 픽스처 친수성 가공장치로서 도어가 닫힌 상태를 도시한 사시도.
도 4는 본 발명에 의한 픽스처 친수성 가공장치에 장착되는 구동부를 도시한 단면도.
도 5는 본 발명에 의한 픽스처 친수성 가공장치에 장착되는 구동부에서 픽스처와 임펠러를 연결하는 홀더를 도시한 사시도.
도 6은 본 발명에 의한 픽스처 친수성 가공장치에 장착되는 구동부에서 픽스처가 홀더에 의해서 임펠러에 연결된 것을 도시한 단면도.
도 7은 도 4를 상부에서 본 것을 도시한 평면도.

이하, 첨부되는 도면과 관련하여 상기 과제를 해결하기 위한 본 발명의 실시 구성과 작동례를 살펴보면 다음과 같다.

도 2는 본 발명에 의한 픽스처 친수성 가공장치로서 도어가 개방된 상태를 도시한 사시도, 도 3은 본 발명에 의한 픽스처 친수성 가공장치로서 도어가 닫힌 상태를 도시한 사시도, 도 4는 본 발명에 의한 픽스처 친수성 가공장치에 장착되는 구동부를 도시한 단면도, 도 5는 본 발명에 의한 픽스처 친수성 가공장치에 장착되는 구동부에서 픽스처와 임펠러를 연결하는 홀더를 도시한 사시도, 도 6은 본 발명에 의한 픽스처 친수성 가공장치에 장착되는 구동부에서 픽스처가 홀더에 의해서 임펠러에 연결된 것을 도시한 단면도, 도 7은 도 4를 상부에서 본 것을 도시한 평면도로서 함께 설명한다.

일반적으로 임플란트 시술에 사용되는 픽스처(F, fixture)는 산소에 의해 표면에 형성된 산화막을 제거하므로 친수성을 확보할 수 있다. 이를 위해서 다음과 같은 픽스처 가공장치가 사용된다.

도어(115)가 장착되어 개폐 가능한 챔버(110)가 구성된다. 상기 챔버(110)는 도어(115)가 닫힌 상태에서는 챔버(110)가 기밀 가능하도록 밀폐되므로 진공이 가능하도록 구성되며 이로 인해서 플라즈마가스의 분사가 가능하도록 구성된다.

또한, 상기 챔버(110)의 측방을 분사노즐(123)이 관통하도록 상기 챔버(110)에 장착되어 플라즈마가스를 분사하는 플라즈마가스발생부(도시하지 않음)가 구성된다. 상기 플라즈마가스발생부에 전기를 인가하면서 불활성가스를 공급하므로 상기 분사노즐(123)을 통해서 플라즈마가스가 분사되도록 구성된다.

또한, 상기 분사노즐(123)의 전방에 배치되도록 상기 챔버(110) 내부에 장착되어, 픽스처(F)를 홀딩한 상태로 회전 및 승강하도록 작동하는 구동부(140)가 구성된다. 즉, 상기 픽스처(F)가 수직으로 세워진 상태로 홀딩되어 회전 가능하도록 구성된다.

또한, 상기 챔버(110)의 측방에 관통하도록 상기 챔버(110)에 장착되어, 상기 챔버 (110) 내부의 기체를 배기시키는 진공펌프(130)가 구성된다. 상기 진공펌프(130)는 상기 도어(115)를 닫은 상태에서 챔버(110) 내부의 산소를 흡입하여 제거하는 기능을 하게 되고 플라즈마가스 발생 시에 발생하는 오존을 걸러서 배기시킬 수 있도록 오존필터(도시하지 않음)가 장착되어 구성된 것이다.

본 발명은 상기 픽스처 가공장치의 구동부(140)가 기계적인 구동방식을 취하지 않고, 상기 진공펌프(130)의 작동에 의해서 연동하도록 구성된 것을 특징으로 한다.

이를 위하여 본 발명에서는 다음과 같이 구성된다.

상기 구동부(140)는 상기 챔버(110)의 바닥면에 부착되어 상하방으로 승강 작동하는 승강장치(160)가 구성되고, 상기 승강장치(160)의 상면에 부착되는 것으로서, 픽스처(F)가 홀딩되어 회전되도록 하는 회전장치(150)가 구성된다.

상기 승강장치(160)는, 상기 챔버(110)의 바닥면에 부착된 튜브(161)가 구성되는데, 측면 둘레를 따라 상하방으로 접혔다가 펴지는 주름(163)이 상하방으로 배열된다. 그리고 공기가 충전된 상태에서 상면이 수평하도록 형성된다.

또한, 상기 진공펌프(130)에서 상기 챔버(110)를 관통하여 상기 튜브(161)에 연결된 유입호스(165)가 구성되고, 상기 유입호스(165)에 장착되어 개폐 기능을 하는 솔레노이드밸브(167)가 구성되며, 상기 솔레노이드밸브(167)에 접속되어 솔레노이드밸브(167)의 개폐를 결정하는 제어부(도시하지 않음)가 구성된다. 또한, 상기 튜브(161)에 연결되어 상기 챔버(110)를 관통하여 외부로 연장된 배기호스(169)가 구성된다. 따라서, 진공펌프(130)의 작동에 의해서 튜브(161) 내부로 기체가 주입될 때 주입속도보다 늦게 배기되도록 상기 배기호스(169)의 내경이 설정된다. 그리고 상기 제어부는 주기적으로 솔레노이드밸브(167)를 개폐하도록 구성된 것이다. 따라서, 진공펌프(130)의 작동에 의해서 튜브(161)의 내부에 기체가 주입되면 튜브(161)는 상승하게 된다. 이때, 기체의 주입속도보다 늦게 배기호스(169)를 통해서 기체가 배기되므로 주입과 배기가 동시에 일어나면서도 튜브(161)는 상승하게 된다. 이 상태에서 제어부가 솔레노이드밸브(167)를 닫게 되면 상기 회전장치(150)의 중량에 의해서 튜브(161)는 하강하게 되고 튜브(161) 내부의 기체는 배기호스(169)를 통해서 배출된다. 따라서, 상기 제어부가 규정된 시간에 따라 솔레노이드밸브(167)의 개폐를 반복하므로 튜브(161)는 상승과 하강을 반복하도록 구성된다.

또한, 상기 회전장치(150)는, 상기 튜브(161)의 상면에 부착된 베이스판(151)이 구성되고, 상기 베이스판(151)의 상면에 수직으로 세워지는 것으로서, 상기 분사노즐(123)에 대응하도록 배치되고, 상기 베이스판(151)의 상면에 회전하도록 장착된 회전축(153)이 구성된다. 또한, 상기 회전축(153)의 상단에 고정된 임펠러(155)가 구성되고, 상기 임펠러(155)의 상단에 삽입홈(152)이 형성되고, 상기 삽입홈(152)에 끼워지는 핀 형상의 것으로서 픽스처(F)에 삽입되도록 형성된 홀더(170)가 구성된다.

상기 회전축(153)은 베이스판(151)의 상면에 삽입된 베어링에 억지끼워맞춤된 것으로서 자유롭게 회전할 수 있도록 구성된 것이다. 또한, 상기 임펠러(155)는 측면에 블레이드(157)가 다수 연결된 것으로서 기체의 흐름에 따라 회전할 수 있도록 구성된 것이다.

상기 삽입홈(152)은 내측에 단턱(154)이 형성되고, 상기 단턱(154)을 대향하는 지점에 탭홀(156)이 임펠러(155)의 측방으로 관통된다. 그리고 상기 탭홀(156)에는 볼플런저(158)가 체결되어 볼이 삽입홈(152)의 내측으로 돌출되도록 구성된다.

상기 홀더(170)는 핀 형상으로 길게 형성된 것으로서, 상부에 단면이 다각형인 헤드(171)가 형성되고, 하부에는 둘레를 따라 형성된 걸림홈(175)이 형성된다. 상기 걸림홈(175)은 홀더(170)를 삽입홈(152)에 끼웠을 때 상기 볼플런저(158)의 볼에 걸리도록 위치가 조정된 것이다. 또한, 상기 단턱(154)에 부합되도록 ㄱ형으로 절삭되어 측방과 하방으로 개방된 절삭면(173)이 구성된다.

또한, 상기 진공펌프(130)는 상기 구동부(140)의 측방에 배치되므로 흡입되는 기체에 의해서 상기 임펠러(155)가 회전하도록 구성된 것이다. 즉, 도 5에서처럼, 상기 회전축(153)의 측방에 진공펌프(130)가 배치되므로 흡입되는 기류에 의해서 상기 임펠러(155)가 회전하도록 구성된다. 상기 분사노즐(123)과 회전축(153)이 다수 개가 배치된 경우에는 일렬로 나열된 회전축(153)의 측방에 배치되므로 다수의 회전축(153)이 기류에 의해서 동시에 회전할 수 있도록 구성된다.

상기 실시예에 의한 본 발명의 픽스처 친수성 가공장치(100)의 작동과정을 살펴보면 다음과 같다.

먼저, 픽스처(F)에 대해서 살펴보면, 픽스처(F)는 일반적으로 외측면에 수나사산이 형성된 것으로서 일측 단부에서 내측으로 상기 홀더(170)의 헤드(171)에 부합하는 다각형 홀(V)이 형성된다. 그리고 상기 다각형 홀(V) 다음에는 임플란트를 체결하기 위한 탭홀(W)이 형성된다.

따라서, 상기 다각형 홀(V)에 상기 홀더(170)의 헤드(171)를 끼운다. 그리고 상기 절삭면(173)이 상기 삽입홈(152)의 단턱(154)에 조합되도록 홀더(170)를 삽입홈(152)에 끼운다. 따라서, 임펠러(155)의 회전력이 홀더(170)에 전달되고 홀더(170)의 회전력이 픽스처(F)에 전달될 수 있도록 한다. 이때, 상기 볼플런저(158)의 볼이 상기 홀더(170)의 걸림홈(175)에 걸리게 되므로 홀더(170)가 상방으로 이탈되는 현상이 방지되도록 한다. 물론, 상기 홀더(170)를 잡고 상방으로 인출하게 되면 볼플런저(158)의 볼이 수용되면서 분리된다.

상기 도어(115)를 열고 상기 언급한 것처럼 픽스처(F)에 홀더(170)를 끼운 후에 상기 홀더(170)가 임펠러(155)에 장착되도록 하므로 픽스처(F)의 홀딩이 완료된다.

이처럼, 픽스처(F)에 홀더(170)를 끼우게 되므로 작업자는 홀더(170)를 잡고 임펠러(155)에 픽스처(F)를 탈착시킬 수 있다. 따라서, 픽스처(F)를 손으로 잡게 되므로 손의 유분이나 습기 등의 이물질이 묻게 되어 산화막이 제거되는 데 방해가 되는 현상을 방지할 수 있다.

다음으로, 상기 도어(115)를 닫은 후에 상기 진공펌프(130)를 작동시켜서 상기 챔버(110) 내부의 산소가 배기되도록 한다. 그리고 상기 플라즈마가스발생부(도시하지 않음)에 전기를 인가하여 상기 분사노즐(123)에서 플라즈마가스가 분사되도록 한다. 이때, 챔버(110) 내부의 산소와 플라즈마가스로 인해서 발생한 오존이 상기 진공펌프(130)를 통해서 흡입되므로 이들 산소와 오존 가스의 흐름으로 인해서 발생한 기류에 의해서 상기 회전장치(150)의 임펠러(155)를 회전시키게 되어 회전축(153)이 회전하게 된다.

또한, 상기 진공펌프(130)를 통해서 흡입된 가스는 유입호스(165)를 통해서 상기 튜브(161)의 내부로 주입된다. 이때, 오존은 상기 오존필터(도시하지 않음)를 통해서 걸러지므로 인체에 해가 되지 않도록 한다. 이렇게 해서 튜브(161)의 내부로 기체가 주입되면 튜브(161)는 상승하게 된다. 이때 배기호스(169)를 통해서 가스는 배출이 동시에 이루어지지만, 가스의 주입속도보다 배기속도가 늦도록 배기호스(169)의 내경이 설정되므로 주입과 배기가 동시에 일어나면서도 튜브(161) 내부에는 기체가 충전되는 현상이 발생한다. 이때, 제어부(도시하지 않음)는 솔레노이드밸브(167)를 개방시킨 상태이다.

이 상태에서 상기 제어부(도시하지 않음)가 솔레노이드밸브(167)를 닫게 되면 기체의 주입이 중단되고 상기 회전장치(150)의 중량에 의해서 튜브(161)를 누르게 된다. 그러면, 상기 배기호스(169)로 기체가 배출되면서 튜브(161)가 하강하면서 회전장치(150)도 동시에 하강하게 된다.

상기 회전장치(150)와 승강장치(160)가 이러한 작동을 반복하므로 픽스처(F)는 회전과 동시에 승강이 가능하게 된다. 따라서, 픽스처(F)의 표면에 고르게 플라즈마가스를 분사시킬 수 있기 때문에 픽스처(F)의 표면에 형성된 산화막을 효율적으로 박리시킬 수 있는 효과가 있다.

이상, 살펴본 것처럼, 본원은 상기 구동부(140) 즉 회전장치(150)와 승강장치(160)의 작동이 배경기술처럼 모터 및 기어 등과 같은 복잡한 기계적인 구조가 아니고, 진공펌프(130)의 작동에 의해서 부수적으로 발생하는 챔버(110) 내부의 기류에 의해서 픽스처(F)를 회전시킨다. 그리고 진공펌프(130)를 통해서 배기되는 기체가 튜브(161)에 간헐적으로 공급되면서 배기되는 구조에 의해서 픽스처(F)가 승강된다. 따라서, 배경기술에 비해서 간단한 구조로서 회전 및 승강 작동이 가능하기 때문에 제작 비용이 배경기술에 비해서 절감되고, 배경기술에 비해서 경량이기 때문에 이동이 용이하다. 또한, 별도로 전기를 공급받을 필요가 없기 때문에 에너지의 절약이 가능하다.

본 명세서에서 설명되는 실시예와 첨부된 도면은 본 발명에 포함되는 기술적 사상의 일부를 예시적으로 설명하는 것에 불과하다. 따라서, 본 명세서에 개시된 실시예들은 본 발명의 기술적 사상을 한정하기 위한 것이 아니라, 설명하기 위한 것이므로, 이러한 실시예에 의하여 본 발명의 기술사상의 범위가 한정되는 것은 아님은 자명하다. 본 발명의 명세서 및 도면에 포함된 기술적 사상의 범위 내에서 당업자가 용이하게 유추할 수 있는 변형례와 구체적인 실시예는 모두 본 발명의 권리범위에 포함되는 것으로 해석되어야 할 것이다.

100: 픽스처 친수성 가공장치 110: 챔버
115: 도어 123: 분사노즐
130: 진공펌프 140: 구동부
150: 회전장치 151: 베이스판
153: 회전축 155: 임펠러
157: 블레이드 159: 삽입축
160: 승강장치 161: 튜브
163: 주름 165: 유입호스
167: 솔레노이드밸브 169: 배기호스

Claims

도어(115)가 장착되어 개폐 가능한 챔버(110)와,
상기 챔버(110)의 측방을 분사노즐(123)이 관통하도록 상기 챔버(110)에 장착되어 플라즈마가스를 분사하는 플라즈마가스발생부(도시하지 않음)와,
상기 분사노즐(123)의 전방에 배치되도록 상기 챔버(110) 내부에 장착되어, 픽스처(F)를 홀딩한 상태로 회전 및 승강하도록 작동하는 구동부(140)와,
상기 챔버(110)의 측방에 관통하도록 상기 챔버(110)에 장착되어, 상기 챔버 (110) 내부의 기체를 배기시키는 진공펌프(130)를 포함하는 픽스처 가공장치에 있어서;
상기 구동부(140)는,
상기 챔버(110)의 바닥면에 부착되어 상하방으로 승강 작동하는 승강장치(160)와,
상기 승강장치(160)의 상면에 부착되는 것으로서, 픽스처(F)가 홀딩되어 회전되도록 하는 회전장치(150)를 포함하고,
상기 승강장치(160)는,
상기 챔버(110)의 바닥면에 부착된 튜브(161)와,
상기 진공펌프(130)에서 상기 챔버(110)를 관통하여 상기 튜브(161)에 연결된 유입호스(165)와,
상기 유입호스(165)에 장착된 솔레노이드밸브(167)와,
상기 솔레노이드밸브(167)에 접속되어 솔레노이드밸브(167)의 개폐를 결정하는 제어부(도시하지 않음)와,
상기 튜브(161)에 연결되어 상기 챔버(110)를 관통하여 외부로 연장된 배기호스(169)를 포함하는 것을 특징으로 하는 픽스처 친수성 가공장치.
제1항에 있어서,
상기 회전장치(150)는,
상기 튜브(161)의 상면에 부착된 베이스판(151)과,
상기 베이스판(151)의 상면에 수직으로 세워지는 것으로서, 상기 분사노즐(123)에 대응하도록 배치되고, 상기 베이스판(151)의 상면에 회전하도록 장착된 회전축(153)과,
상기 회전축(153)의 상단에 고정된 임펠러(155)와,
상기 임펠러(155)의 상단에 형성된 삽입홈(152)과,
상기 삽입홈(152)에 끼워지는 핀 형상의 것으로서 픽스처(F)에 삽입되도록 형성된 홀더(170)를 포함하는 것을 특징으로 하는 픽스처 친수성 가공장치.
제2항에 있어서,
상기 진공펌프(130)는 상기 구동부(140)의 측방에 배치되므로 흡입되는 기체에 의해서 상기 임펠러(155)가 회전하도록 구성된 것을 특징으로 하는 픽스처 친수성 가공장치.