KR101102993B1

KR101102993B1 - 치과용 임플란트의 표면 처리 장치

Info

Publication number: KR101102993B1
Application number: KR1020110028367A
Authority: KR
Inventors: 박광범; 안현욱; 양창희
Original assignee: 주식회사 메가젠임플란트
Priority date: 2011-03-29
Filing date: 2011-03-29
Publication date: 2012-01-05

Abstract

본 발명의 실시예에 따른 치과용 임플란트의 표면 처리 장치는, 본 발명의 실시예에 따른 치과용 임플란트의 표면 처리 장치는, 표면 처리 대상물이 수용되는 처리 챔버를 구비하는 본체; 소정 곡률로 만곡되는 형태로 상기 본체에 회동 가능하게 결합되어, 상기 처리 챔버를 선택적으로 개방하는 커버; 상기 커버의 내주면에 장착되며,상기 표면 처리 대상물의 표면에 자외선을 조사하는 광원; 상기 처리 챔버의 바닥에 놓여서 상기 광원으로부터 방출되는 자외선을 상기 표면 처리 대상물 쪽으로 반사하는 반사판; 상기 처리 챔버의 하측에 해당하는 상기 본체의 내부에 제공되며, 상기 처리 챔버 내부에 존재하는 고온의 공기를 상기 본체 외부로 방출하여, 상기 처리 챔버 내부를 냉각시키는 냉각팬; 및 상기 본체로부터 분리 가능하게 결합되고, 다수의 표면 처리 대상물이 상기 챔버 내부에 수용된 상태에서 상기 다수의 표면 처리 대상물을 회전시키는 구동 메카니즘 및 상기 구동 메카니즘으로 선택적으로 전원을 공급하기 위한 터미널이 구비되는 장착 모듈을 포함한다.

Description

치과용 임플란트의 표면 처리 장치{A surface treating apparatus for dental implant}

본 발명은 치과용 임플란트의 표면 처리 장치에 관한 것이다.

고령화 사회의 진전에 따라 구강 건강에 대한 관심이 커지고 있는 추세에 있다.

치아 상실시 저작 기능이 제대로 이루어지지 않아 음식물 섭취의 제한, 소화 기능의 장애가 올 수 있고, 나아가 안면 변형과 부정확한 발음으로 인해 대인 관계에도 안 좋은 영향을 줄 수 있다.

이러한 문제를 해결하기 위하여 과거에는 틀니, 브릿지와 같은 보철 치료 방법이 주를 이루고 있었으며, 현재는 임플란트 시술 비용이 현저히 낮아지면서 자연치에 근접한 치료 방법인 임플란트 시술이 유행하고 있다. 그리고, 소비자들의 소득 수준 향상, 치의학 치과 기술의 발전으로 임플란트 시술이 치아 상실에 대한 보편적인 치료 방법으로 인식되고 있다.

치과용 임플란트는 인간의 턱뼈 위에 인공 치아를 영구적으로 이식하기 위해 사용되는 것으로서, 턱뼈와 인공 치아를 연결시키고, 음식의 저작시 발생하는 하중을 감당 및 분산시켜 실제 치아와 동일한 기능을 수행할 수 있도록 한다. 치과용 임플란트는 기존의 의치에 비하여 더욱 안정된 치아로서 역할하도록 기계적으로 제작된다. 따라서, 임플란트는 인간의 생체 조직에 대하여 매우 안정적인 생체 친화 재료로 제작되어야 한다. 뿐만 아니라, 인체 부작용, 기타 화학적 또는 생화학적 반응성이나 인체 거부 반응이 없어야 한다. 또한, 반복되는 하중 및 순간적인 압력의 작용에도 변형이나 파괴가 일어나지 않도록 기계적 강도가 매우 높아야 하기 때문에 적절한 소재를 선택하는 것이 매우 까다롭다.

임플란트의 적절한 소재로서 다양한 금속 및 합금의 개발이 시도되고 있으나, 현재는 티타늄 금속이나 티타늄 합금이 주로 이용되고 이다. 티타늄 또는 티타늄 합금은 가공이 요이할 뿐 아니라 인간의 생체 조직에 대한 높은 생체 친화성, 높은 기계적 강도 및 생체 불활성을 가진다. 그러나, 티타늄 및 그 합금 자체는 인체에 이식 시 골융합(osteointegration)에 시간이 오래 걸리고, 이식 후 시간이 지나면 금속 이온이 생체로 녹아 들어가는 단점이 있다.

이러한 단점을 보완하기 위하여, 이들 재료의 표면을 적절히 처리함으로써 골융합을 강화할 수 있는 기술들이 개발 및 적용되고 있다. 골융합의 속도와 품질은 표면 조성, 표면 거칠기, 친수성 등과 같은 임플란트의 표면 특성 및 화학적 조성과 밀접한 관계가 있다. 특히 친수성이 높은 표면을 가진 임플란트가 생체 용액, 세포 및 조직들과의 상호 작용에 유리한 것으로 알려져 있다.

기존에는 티타늄 표면에 이산화티타늄(TiO₂) 산화막을 입힌 임플란트가 생체에 안정하고 생체 적합성이 우수하며 세포와의 반응에서도 긍정적인 면을 보인다고 보고되었으며, 산화 처리된 임플란트가 기계 가공만 수행한 임플란트보다 이식시 골융합력이 우수하다고 보고되 바 있다.

이러한 티타늄 산화막을 임플란트 표면에 입히기 위하여, 플라즈마 분사(Plazma spraying), 스퍼터링(Sputering), 이온 주입(Ion implantation) 등의 기술이 알려져 있다.

그러나, 이러한 방법에 의해 형성된 산화막은 골과의 접착 강도가 충분하지 못하고, 공정이 복잡하다는 단점을 안고 있다.

또한, 최근에는 표면 처리된 임플란트 픽스츄어(fixture)가 친수성을 장시간 유지되도록 하기 위한 보관 용기에 관한 제품이 출시되었다. 그러나, 이러한 보관 용기를 포함하는 픽스츄어는 고가여서 소비자에게 금전적 부담으로 다가오는 단점이 있다. 뿐만 아니라, 특정 회사의 제품을 사용하여야만 하므로, 고가임에도 소비자에게 선택의 폭이 매우 좁다는 단점이 있다.

본 발명은 상기와 같은 단점을 개선하기 위하여 제안된 것으로서, 임플란트의 표면에 형성된 티타늄 산화막에 자외선을 조사하는 간단한 공정으로 티타늄 산화막을 친수성으로 개질시켜 세포 활성화 및 골유착을 증진할 수 있는 치과용 임플란트 표면 처리 장되를 제공하는 것은 목적으로 한다.

또한, 임플란트 시술의가 시술 직전에 임플란트의 표면에 친수성을 높이는 처리를 수행하고, 곧바로 환자에게 식립 가능하도록 하여, 외부 오염물질이나 세균으로부터 임플란트가 감염되는 것을 방지할 수 있는 치과용 임플란트 표면 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

또한, 시중에 나와 있는 모든 종류의 임플란트 제품을 범용으로 사용 가능하도록 하여, 소비자에게 선택의 폭을 넓히고 저가의 임플란트를 제공할 수 있도록 하는 표면 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명의 실시예에 따른 치과용 임플란트의 표면 처리 장치는, 표면 처리 대상물이 수용되는 처리 챔버를 구비하는 본체; 소정 곡률로 만곡되는 형태로 상기 본체에 회동 가능하게 결합되어, 상기 처리 챔버를 선택적으로 개방하는 커버; 상기 커버의 내주면에 장착되며,상기 표면 처리 대상물의 표면에 자외선을 조사하는 광원; 상기 처리 챔버의 바닥에 놓여서 상기 광원으로부터 방출되는 자외선을 상기 표면 처리 대상물 쪽으로 반사하는 반사판; 상기 처리 챔버의 하측에 해당하는 상기 본체의 내부에 제공되며, 상기 처리 챔버 내부에 존재하는 고온의 공기를 상기 본체 외부로 방출하여, 상기 처리 챔버 내부를 냉각시키는 냉각팬; 및 상기 본체로부터 분리 가능하게 결합되고, 다수의 표면 처리 대상물이 상기 챔버 내부에 수용된 상태에서 상기 다수의 표면 처리 대상물을 회전시키는 구동 메카니즘 및 상기 구동 메카니즘으로 선택적으로 전원을 공급하기 위한 터미널이 구비되는 장착 모듈을 포함한다.

상기와 같은 구성을 이루는 본 발명의 실시예에 따른 치과용 임플란트의 표면 처리 장치에 의하면 다음과 같은 효과가 있다.

첫째, 임플란트의 표면에 자외선을 조사하는 간단한 공정으로 티타늄 산화막을 친수성으로 개질시켜 골유착이 증진되는 장점이 있다.

둘째, 시술의가 임플란트 시술 직전에 표면 처리를 하고, 표면 처리가 완료된 임플란트를 곧바로 환자에게 식립할 수 있으므로, 외부 오염 물질이나 세균에 의한 감염을 차단하여, 식립 부위가 감염되는 현상을 최소화할 수 있는 효과가 있다.

셋째, 기존에 출시된 모든 종류의 임플란트에 범용적으로 적용 가능하므로, 환자에게 맞는 임플란트를 용이하게 선택할 수 있고, 시술 비용이 현저히 낮아지므로, 환자의 부담을 최소화할 수 있는 장점이 있다.

넷째, 다수의 임플란트 부재를 한 번의 공정으로 표면 처리할 수 있으므로, 다수의 임플란트를 식립하는 환자의 시술 시간이 줄어드는 장점이 있다.

다섯째, 임플란트 부재를 회전시키면서 자외선을 조사하므로, 임플란트 표면 전체에 걸쳐 균일한 표면 개질 작업이 이루어질 수 있는 장점이 있다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 치과용 임플란트의 표면 처리 장치의 전면 사시도.
도 2는 상기 표면 처리 장치의 커버가 개방된 상태의 전면 사시도.
도 3은 상기 표면 처리 장치의 커버가 개방된 상태의 배면 사시도.
도 4는 상기 표면 처리 장치의 분해 사시도.
도 5는 도 1의 I-I를 따라 절개되는 종단면도.
도 6은 본 발명의 실시예에 따른 치과용 임플란트의 표면 처리 장치를 구성하는 제어 시스템을 개략적으로 보여주는 블록도.

이하에서는 본 발명의 실시예에 따른 치과용 임플란트의 표면 처리 장치에 대하여 도면을 참조하여 상세히 설명하도록 한다. 본 발명의 보호 범위는 이하에서 제시되는 실시예에 제한되지 않으며, 단지 본 발명의 사상을 구현하기 위한 하나의 예시적인 것에 불과하며, 당해 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 균등의 범위 내에서 다양한 변형 및 설계 변경이 가능할 것이다. 따라서, 본 발명의 보호 범위는 첨부된 청구 범위에 의해서만 정해져야 함을 밝혀 둔다.

일반적으로, 치과용 임플란트란 상실된 자연 치아의 대체물 자체를 말하거나, 나사 형상의 픽스츄어(fixture)를 치조골에 체결하여 일정 기간동안 뼈와 융합되도록 한 후, 그 위에 접합부인 어버트먼트(abutment)와 인공 치관(crown) 등의 보철물을 고정함으로써 치아의 본래 기능을 회복시켜 주는 치과 시술을 의미하는 것으로 해석될 수 있다. 본 발명에서 임플란트는 상실된 자연 치아의 대체물을 의미하는 것으로 정의하고, 그 중에서도 치조골에 식립되는 픽스츄어를 의미하는 것으로 정의한다. 단, 픽스츄어 이외에도 골세포와 결합하는 임플란트 부재는 모두 본 발명의 실시예에 따른 표면 처리 장치에 의하여 표면 처리가 가능함을 밝혀 둔다.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 치과용 임플란트의 표면 처리 장치의 전면 사시도이고, 도 2는 상기 표면 처리 장치의 커버가 개방된 상태의 전면 사시도이며, 도 3은 상기 표면 처리 장치의 커버가 개방된 상태의 배면 사시도이고, 도 4는 상기 표면 처리 장치의 분해 사시도이며, 도 5는 도 1의 I-I를 따라 절개되는 종단면도이다.

도 1 내지 도 5를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 치과용 임플란트의 표면 처리 장치(10)는, 표면 처리를 위한 처리 챔버(treatment chamber)(114)가 구비된 본체(11)와, 상기 처리 챔버(114)의 상측 개구부를 덮는 커버(12) 및 표면 처리 대상물이 장착된 상태로 상기 본체(11)의 일 측면으로부터 슬라이딩 삽입 및 인출되는 장착 모듈(20)을 포함한다. 그리고, 상기 본체(11)의 후면으로부터 파워 코드(13)가 연장되고, 상기 파워 코드(13)를 통하여 공급되는 전원은 후술하게 될 장착 모듈의 구동 모터와 냉각팬, 광원 및 컨트롤 패널 쪽으로 나뉘어 공급된다.

상세히, 상기 처리 챔버(114)는 상기 본체(11)의 상면으로부터 소정 깊이로 함몰되거나 단차지게 형성될 수 있다. 그리고, 상기 커버(12)에 의하여 상기 처리 챔버(114)가 선택적으로 개폐될 수 있다. 즉, 상기 커버(12)가 닫히는 것에 의하여 상기 처리 챔버(114)가 하나의 밀폐된 공간을 형성한다.

상기 처리 챔버(114)의 바닥에는 트레이 안착홈(116)이 형성되고, 상기 트레이 안착홈(116)에는 트레이(115)가 안착된다. 상기 트레이(15)에는 표면 처리 대상물, 예컨대 임플란트 픽스츄어가 세워진 상태로 놓일 수 있다. 상세히, 상기 픽스츄어의 헤드 부분이 상기 트레이(15)에 접촉되는 상태로 세워진다.

또한, 상기 트레이(15)는, 상기 트레이 안착홈(116)에 놓이는 반사판(152)과, 상기 반사판(152)의 상면에 놓이는 투명판(151)을 포함한다. 상기 투명판(151)의 하측에 상기 반사판(152)이 놓이도록 함으로써, 광원(후술함)으로부터 조사되는 빛이 상기 투명판(151)을 통과한 뒤 상기 반사판(152)의 상면에서 반사되도록 한다. 그리고, 상기 반사판(152)으로부터 반사되는 빛의 일부가 상기 픽스츄어의 저면에 조사되도록 할 수 있다. 예를 들어, 상기 광원이 상기 트레이(15)의 상측에 장착될 경우, 상기 트레이(15)에 접촉되는 상기 픽스츄어의 표면 일부는 상기 광원으로부터 조사되는 빛을 수광하지 못하여 표면 처리가 고르게 이루어지지 못할 가능성이 있다. 이러한 현상을 방지하기 위하여, 상기 픽스츄어가 상기 투명판(151)에 놓이도록 하고, 상기 투명판(151)의 하측에 놓이는 반사판(152)으로부터 반사되는 빛이 상기 픽스츄어의 저면으로 조사되도록 한다. 이를 위해서는, 상기 투명판(151)과 상기 반사판(152)은 소정 간격 이격되게 배치되도록 하는 것이 좋다. 즉, 표면 처리 대상물이 상기 반사판(152)으로부터 이격되도록 하여, 상기 반사판(152)으로부터 반사되는 빛이 상기 표면 처리 대상물의 저면으로 충분히 조사되도록 할 수 있다.

또한, 상기 처리 챔버(114)의 바닥부 일측 가장자리에는 슬릿 형태의 흡입구(118)가 형성될 수 있다. 상세히, 표면 처리를 위하여 광원이 온(ON)되면, 상기 광원으로부터 방출되는 열에 의하여 상기 처리 챔버(114) 내부가 뜨거워지기 때문에, 상기 처리 챔버(114) 내부를 냉각시킬 필요가 있다. 이를 위하여, 상기 처리 챔버(114)의 내주면에 흡입구(118)가 형성되도록 하고, 상기 본체(11)의 어느 일면을 통하여 고온의 공기가 외부로 방출되도록 하는 공기 유동 구조가 제공된다.

더욱 상세히, 이러한 공기 유동 구조를 형성하기 위하여, 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 본체(11)의 내부, 구체적으로는 상기 처리 챔버(114)의 바닥부 하측에 해당하는 상기 본체(11)의 내부에 냉각팬(16)이 설치되고, 상기 본체(11)의 일면에는 배기 그릴(117)이 형성되도록 할 수 있다. 일실시예로서, 상기 처리 챔버(114)의 바닥부 후측 가장자리에 흡입구(118)가 형성되도록 하고, 상기 본체(11)의 후면에 배기 그릴(117)이 형성되도록 할 수 있다. 그리고, 상기 냉각팬(16)의 흡입구가 상기 흡입구(118)와 연통하고, 배기구가 상기 배기 그릴(117)과 연통하도록 할 수 있다. 상기 냉각팬(16)으로서 어떠한 종류의 팬이라도 가능하며, 구체적으로는 횡류팬, 원심팬 및 축류팬 중 어느 하나가 선택될 수 있다. 본 실시예에서는 횡류팬의 일종인 시로코팬이 적용되는 것이 가능하다.

한편, 상기 커버(12)의 저면에는 자외선을 방출하는 광원(14)이 장착된다. 상세히, 상기 광원(14)은 도시된 바와 같이 상기 커버(12)의 좌측 단부에서 우측 단부에 이르는 길이의 할로겐 램프, 고압 수은 램프(High pressure Mercury UV lamp), 자외선을 방출하는 발광다이오드(LED, Light Emitting Diode) 또는 유기발광다이오드(Organic Light Emitting Diode)를 포함할 수 있다.

더욱 상세히, 상기 광원(14)은 할로겐 램프 또는 고압 수은 램프를 포함하는 제 1 광원(141)과, 상기 발광 다이오드 또는 유기 발광 다이오드를 포함하는 제 2 광원(142)을 포함할 수 있다. 본 실시예에서는 상기 제 1 광원(141)이 상기 커버(12)의 저면 중앙을 가로지르는 형태로 장착되고, 상기 제 2 광원(142)이 상기 제 1 광원(141) 영역을 제외한 상기 커버(12)의 저면에 다수 개가 장착되는 것으로 제시되었으나 이에 제한되지 않음을 밝혀 둔다. 즉, 상기 제 1 광원(141)과 제 2 광원(142) 중 하나만이 상기 커버(12)에 장착되는 것도 가능하다. 뿐만 아니라, 상기 처리 챔버(114)의 내부 측면부에 제 3 광원(143)이 더 장착되는 것도 가능하다. 상기 제 3 광원(143)은 상기에서 제시된 종류의 광원들 중 어느 하나 또는 모두가 적용 가능하다. 그리고, 상기 광원(14)은 300 ~ 400 nm의 파장을 갖는 자외선을 방출하며, 바람직하게는 365nm의 파장을 갖는 자외선을 방출하는 것이 좋다.

또한, 상기 커버(12)는 도시된 바와 같이 라운드지는 형태로 이루어져서, 상기 반사판(152)으로부터 반사되는 빛이 상기 커버(12)의 저면에 부딪혀서 여러 방향으로 재반사되도록 할 수 있다. 따라서, 상기 처리 챔버(114) 내에 놓인 표면 처리 대상물의 표면에 자외선이 골고루 조사되어 표면 처리 균일도를 높일 수 있다. 그리고, 상기 커버(12)의 전면부에는 로킹 부재(121)가 돌출되어, 사용자가 손가락으로 파지한 상태에서 상기 커버(12)를 쉽게 들어올리고, 상기 커버(12)가 닫힌 상태에서 저절로 개방되거나 흔들리는 현상을 방지한다. 상세히, 상기 로킹 부재(121)는, 상기 커버(12)의 전면부에에 돌출되는 돌기부(121)와, 상기 커버(12)의 전방 테두리부에 돌출되는 걸림 후크(122)를 포함한다. 상기 걸림 후크(122)는 상기 돌기부(121)와 한 몸으로 이루어질 수 있다. 그리고, 상기 처리 챔버(114)의 전면 가장자리에는 상기 걸림 후크(122)가 삽입되는 슬롯(115)이 형성될 수 있다. 그리고, 상기 걸림 후크(122)가 상기 슬롯(115)에 삽입된 상태에서, 상기 돌기부(121)를 누르는 동작에 의하여 상기 걸림 후크(122)가 상기 슬롯(115)으로부터 분리 가능한 상태가 되는 구조로 이루어질 수 있다. 그리고, 상기 커버(12)의 후측 가장자리는 상기 본체(11)의 후측, 구체적으로는 상기 처리 챔버(114)의 후측 가장자리에 회동 가능하게 연결된다. 따라서, 사용자, 구체적으로는 시술의가 상기 돌기부(121)를 누르면서 위로 들어올리면, 상기 커버(12)가 상측으로 회동하면서 개방된다.

또한, 상기 커버(12)의 내부에는 냉각 부재가 장착될 수 있다. 즉, 상기 냉각팬(16) 대신 상기 냉각 부재가 장착될 수도 있고, 상기 냉각팬(16)과 함께 상기 냉각 부재가 추가로 더 설치되는 것도 가능하다. 그리고, 상기 냉각 부재는, 전원이 공급되면 한쪽 면은 냉각되고 반대면은 열을 방출하는 방열면을 형성하는 열전 소자(thermoelectric element)를 포함할 수 있다. 열전 소자의 일예로서 펠티어 효과를 이용한 NTC 써미스터(Negative Temperature Coefficient thermister) 또는 PTC 써미스터(Positive Temperature Coefficient thermister)가 있다. 이러한 열전 소자는 플렉시블한 사각형 플레이트 형태로 이루어져서 상기 커버(12) 내부에서 상기 커버(12)의 형상을 따라 밀착될 수 있다.

한편, 상기 제 3 광원(143)이 장착되는 측면에 대향되는 상기 본체(11)의 측면부에는 상기 장착 모듈(20)이 삽입되는 모듈 홀(116)이 형성된다.

상세히, 상기 장착 모듈(20)은, 모듈 케이스(21)와, 상기 모듈 케이스(21)의 외주면에 형성되는 핸들(221)과, 상기 모듈 케이스(21) 내부에 수용되는 구동 메카니즘을 포함한다. 상기 구동 메카니즘은, 회전력을 제공하는 구동 모터(23)와, 상기 구동 모터(23)의 출력축에 연결되는 구동 기어(24)와, 상기 구동 기어(24)에 맞물리는 다수의 피동 기어(25)를 포함한다. 그리고, 상기 다수의 피동 기어(25) 중심에 픽스츄어와 같은 표면 처리 대상물이 연결된다.

더욱 상세히, 상기 다수의 피동 기어(25)의 중심에는 각각 드릴 샤프트(27)의 일단이 삽입된다. 상기 피동 기어들(25)의 중심에는 커넥터(26)가 삽입되고, 상기 커넥터(26)는 상기 모듈 케이스(21)의 내측면으로부터 돌출될 수 있다. 그리고, 상기 커넥터(26)에 상기 드릴 샤프트(27)의 일단이 삽입된다. 본 실시예에서는 픽스츄어(30)를 포함하는 표면 처리 대상물이 드릴 샤프트(27)의 타단에 결합된 상태에서 상기 드릴 샤프트(27)의 일단이 상기 커넥터(26)를 통하여 상기 다수의 피동 기어(25) 각각에 한 개씩 끼워지는 것으로 개시되어 있으나, 이에 제한될 필요는 없다. 즉, 별도의 취부 수단을 이용하여 상기 픽스츄어(30)를 연결한 다음 상기 커넥터(26)에 삽입되는 방법도 가능하다. 상기 드릴 샤프트(27)가 취부 수단의 일 예로서 제시된 것은, 일반적으로 임플란트 시술 과정에서 치조골에 형성된 드릴 홈에 상기 픽스츄어(30)를 식립하기 위해서 핸드 드릴이 사용되기 때문이다. 즉, 상기 핸드 드릴에 끼워지는 드릴 샤프트의 단부에 상기 픽스츄어(30)를 끼운 상태에서 표면 처리를 하고, 상기 표면 처리된 픽스츄어(30)를 분리할 필요없이 상기 드릴 샤프트를 상기 핸드 드릴의 몸체에 연결한 다음 상기 픽스츄어(30)를 치조골에 식립할 수 있도록 하기 위함이다.

또한, 상기 모듈 케이스(21)의 일 면에는 터미널(211)이 돌출되고, 상기 터미널(211)에 대응하는 상기 모듈 홀(116)의 일 면에는 상기 터미널(211)이 삽입되기 위한 소켓이 형성될 수 있다. 따라서, 상기 장착 모듈(20)을 상기 모듈홀(116)에 삽입하면, 상기 터미널(211)이 상기 소켓에 삽입된다. 그러면, 상기 파워 코드(13)를 통하여 공급되는 전원이 상기 구동 모터(23)로 공급 가능한 상태가 된다. 그리고, 상기 장착 모듈(20)을 상기 모듈홀(116)로부터 분리되는 동시에 상기 구동 모터(23)로의 전원 공급이 차단된다. 나아가, 상기 장착 모듈(20)이 분리됨과 동시에 상기 광원(14)으로의 전원 공급도 차단되도록 제어 회로가 설계되는 것이 좋다. 이렇게 함으로써, 상기 광원(14)으로부터 조사되는 자외선의 일부가 상기 모듈홀(116)을 통하여 외부로 누출되는 현상을 차단할 수 있다.

한편, 상기 본체(11)에는 각종 명령을 설정 및 조절할 수 있는 입력부(111)와, 상기 입력부를 통하여 입력된 명령 및 상기 처리 장치(10)의 작동 상황을 확인할 수 있는 디스플레이부(112)가 제공된다. 상기 각종 명령은 상기 광원(14)의 조사 시간과 파장, 상기 구동 모터(23)의 회전 속도 및 상기 냉각팬(16)의 회전 속도(풍량)를 포함한다. 상기 입력부(111)와 디스플레이부(112)의 배면에는 PCB 회로 기판이 연결되고, 이들을 통칭하여 컨트롤 패널 또는 컨트롤러로 정의할 수 있다.

또한, 상기 본체(11)의 전면에는 스피커(113)가 장착될 수 있다. 상세히, 입력된 조사 시간에 도달한 경우, 또는 우발적으로(inadvertently) 상기 커버(12)가 열리거나, 상기 장착 모듈(20)이 본체(11)로부터 분리되는 경우 또는 상기 처리 챔버(114) 내부가 과열되는 경우에 상기 스피커(113)를 통하여 경고음이 출력되도록 할 수 있다.

도 6은 본 발명의 실시예에 따른 치과용 임플란트의 표면 처리 장치를 구성하는 제어 시스템을 개략적으로 보여주는 블록도이다.

도 6을 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 표면 처리 장치(10)는, 제어부(100)와, 상기 제어부(100)로 각종 명령을 입력하기 위한 입력부(111)와, 입력된 명령 내용 및/또는 상기 표면 처리 장치(10)의 작동 상태를 보여주는 디스플레이부(112)와, 자외선을 조사하는 상기 광원(14)과, 상기 구동 모터(23)와 냉각팬을 구동하는 팬모터(104)를 포함하는 구동부(103)와, 경고음이 출력되는 경고부(105) 및 상기 커버(12)의 개방을 감지하는 커버 개방 감지 센서(102)를 포함한다.

상세히, 상기 경고부(105)는 위에서 설명한 스피커(113)를 포함할 수 있다. 그리고, 상기 커버 개방 감지 세서(102)는 상기 커버(12)와 상기 본체(11)가 접촉되는 부위에 설치될 수 있다. 다른 방법으로, 상기 커버(12)의 걸림 후크(122)가 삽입되는 상기 슬롯(115) 내부에 설치될 수도 있다. 즉, 상기 걸림 후크(122)가 상기 슬롯(115)으로부터 탈거되면 상기 커버 개방 감지 세서(102)가 이를 감지하도록 할 수 있다. 그리고, 상기 커버 개방 감지 세서(102)에 의하여 커버 개방이 감지되는 순간 상기 광원(12)으로의 전원 공급이 차단되어, 자외선 조사가 중단되도록 프로그램될 수 있다.

위와 같은 구성을 이루는 제어 시스템에 따르면, 상기 입력부(111)를 통하여 광조사 시간, 상기 구동 모터(23)의 회전 속도 및 냉각팬(16)의 풍량을 입력할 수 있다. 그리고, 입력된 풍량은 상기 제어부(100)로 전송되고, 상기 제어부(100)에서는 입력된 명령에 대응하는 전기 신호를 상기 구동부(103)로 전송한다. 이와 함께 입력된 명령 정보가 상기 디스플레이부(112)를 통하여 출력되도록 상기 제어부(100)에서 제어 가능하다. 그리고, 입력된 명령에 대응하는 광조사 시간이 설정되고, 상기 제어부(100)에 연결된 타이머(미도시)의 시간 계수가 시작된다.

한편, 상기 경고부(105)를 통해서 다양한 형태의 오디오 정보가 출력되도록 프로그램될 수 있다. 예컨대, 명령 입력이 완료되고 시작 버튼을 누르면 "표면 처리가 시작됩니다."라는 음성 정보가 출력되고, 표면 처리가 완료되면 "표면 처리가 완료되었습니다. 커버를 개방하여 대상물을 꺼내십시요."라는 음성 정보가 출력되도록 할 수 있다. 또는, 표면 처리 도중에 상기 커버(12)를 개방하는 동작이 발생하면, 커버 개방을 차단하는 오토락(Auto-Lock) 기능이 설정됨과 동시에 "지금은 자외선 조사 중이므로 커버를 열 수 없습니다."라는 경고 메세지가 출력되도록 할 수 있다. 또는, 표면 처리가 완료되기 전에 상기 장착 모듈(20)이 본체(11)로부터 인출되면, 광원(14)으로부터 자외선 조사가 중단됨과 동시에 "장착 모듈이 분리되어 광조사를 중단합니다."라는 음성 정보가 출력되도록 할 수 있다. 이때, 상기 냉각팬(16)도 함께 중단하도록 프로그램될 수 있을 뿐 아니라, 자외선 조사 중단 시점부터 설정 시간 동안 작동을 유지한 뒤에 중단하도록 프로그램될 수도 있을 것이다.

이와 같이, 임플란트 픽스츄어(30)에 자외선을 조사함으로써 친수성이 향상되어 골유착이 증진되는 효과가 있다. 뿐만 아니라, 시술 직전에 자외선 조사 과정을 수행하고 자외선 조사가 완료되면 바로 환자에게 식립함으로써, 임플란트 부재가 시술 전 공기 중에 노출되는 시간을 최소화할 수 있는 장점이 있다.

또한, 처리 대상물, 즉 픽스츄어(30)를 핸드 드릴의 드릴 샤프트에 끼운 상태로 자외선 조사가 가능하므로, 픽스츄어 식립 과정에서 시술의가 손으로 직접 만지거나 파지하는 동작이 필요 없으며, 그 결과 세균 감염의 위험성을 최소화할 수 있는 장점이 있다.

Claims

표면 처리 대상물이 수용되는 처리 챔버를 구비하는 본체;
소정 곡률로 만곡되는 형태로 상기 본체에 회동 가능하게 결합되어, 상기 처리 챔버를 선택적으로 개방하는 커버;
상기 커버의 내주면에 장착되며,상기 표면 처리 대상물의 표면에 자외선을 조사하는 광원;
상기 처리 챔버의 바닥에 놓여서 상기 광원으로부터 방출되는 자외선을 상기 표면 처리 대상물 쪽으로 반사하는 반사판;
상기 처리 챔버의 하측에 해당하는 상기 본체의 내부에 제공되며, 상기 처리 챔버 내부에 존재하는 고온의 공기를 상기 본체 외부로 방출하여, 상기 처리 챔버 내부를 냉각시키는 냉각팬; 및
상기 본체로부터 분리 가능하게 결합되고, 다수의 표면 처리 대상물이 상기 챔버 내부에 수용된 상태에서 상기 다수의 표면 처리 대상물을 회전시키는 구동 메카니즘 및 상기 구동 메카니즘으로 선택적으로 전원을 공급하기 위한 터미널이 구비되는 장착 모듈을 포함하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 본체의 일측에는 상기 장착 모듈을 수용하는 수용부가 형성되고,
상기 장착 모듈은, 상기 표면 처리 대상물이 장착된 상태에서 상기 수용부에 슬라이딩 삽입 및 인출되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.
삭제
제 2 항에 있어서,
상기 장착 모듈은,
상기 구동 메카니즘을 수용하는 모듈 케이스와,
상기 모듈 케이스의 외주면에 형성되는 손잡이를 포함하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.
제 4 항에 있어서,
상기 구동 메카니즘은,
상기 터미널을 통하여 공급되는 전원으로 회전력을 발생하는 구동 모터와,
상기 구동 모터의 회전축에 연결되는 구동 기어와,
상기 구동 기어에 맞물리는 다수의 피동 기어를 포함하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.
제 5 항에 있어서,
상기 구동 메카니즘은,
상기 피동 기어의 중심부에 끼워지는 커넥터와,
일단이 상기 커넥터에 분리 가능하게 삽입되고, 타단에 상기 다수의 표면 처리 대상물이 분리 가능하게 연결되는 다수의 샤프트 부재를 더 포함하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.
삭제
제 2 항에 있어서,
상기 장착 모듈이 상기 본체로부터 분리되면 상기 광원으로의 전원 공급이 차단되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.
삭제
제 1 항에 있어서,
상기 처리 챔버의 바닥부 일측에는 상기 처리 챔버 내부 공기를 흡입하는 흡입구가 형성되고,
상기 본체의 일면에는 상기 처리 챔버 내부 공기를 외부로 방출하기 위한 배기 그릴이 형성되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.
제 10 항에 있어서,
상기 냉각팬의 흡입구는 상기 처리 챔버 바닥의 흡입구와 연통하고,
상기 냉각팬의 토출구는 상기 본체의 배기 그릴과 연통하는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 커버 내부에 장착되어, 상기 처리 챔버를 냉각하는 열전 소자를 더 포함하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 광원은,
할로겐 램프 또는 고압 수은 램프를 적어도 포함하는 제 1 광원과,
발광 다이오드 또는 유기 발광 다이오드를 적어도 포함하는 제 2 광원 중 어느 하나 또는 모두를 포함하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.
제 13 항에 있어서,
상기 처리 챔버의 내주면 일측에 장착되는 제 3 광원을 더 포함하고,
상기 제 3 광원은 상기 제 1 광원 또는 제 2 광원 중 어느 하나의 광원과 동일한 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.
삭제
제 1 항에 있어서,
상기 반사판의 상측에 놓이는 투명판을 더 포함하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.
제 16 항에 있어서,
상기 투명판은 상기 반사판으로부터 상측으로 이격된 상태로 배치되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 커버의 개방을 감지하는 센서를 더 포함하고,
상기 센서에 의하여 상기 커버의 개방이 감지되는 순간 상기 광원으로의 전원 공급이 차단되는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 본체의 어느 일측에 형성되는 컨트롤 패널을 더 포함하며,
상기 컨트롤 패널은,
각종 명령을 입력하기 위한 입력부와,
상기 입력부를 통하여 입력된 명령 정보와, 상기 표면 처리 장치의 작동 상태 중 적어도 하나를 보여주는 디스플레이부를 포함하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.
제 1 항에 있어서,
표면 처리 과정의 시작과 종료 시점, 오작동 여부, 상기 처리 챔버 내부 과열, 돌발 상황 발생 중 적어도 하나를 알려주기 위한 경고부를 더 포함하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 광원은 365nm 파장을 가지는 자외선을 방출하는 것을 특징으로 하는 치과용 임플란트의 표면 처리 장치.