KR101930617B1

KR101930617B1 - 임플란트 처리 장치

Info

Publication number: KR101930617B1
Application number: KR1020170005311A
Authority: KR
Inventors: 이현영; 김영민; 최정해; 최별보라
Original assignee: 주식회사 피글
Priority date: 2016-08-02
Filing date: 2017-01-12
Publication date: 2018-12-18
Also published as: KR20180015054A

Abstract

본 발명은 임플란트 처리 장치에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 처리 장치는, 임플란트를 처리하기 위한 처리 공간을 제공하는 챔버부; 상기 챔버부의 내부에 탈부착 가능하게 배치되어 상기 임플란트를 지지하는 지지부; 플라즈마를 발생시켜 상기 챔버부로 공급하는 플라즈마 발생부; 및 상기 챔버부로부터 가스를 배기하는 배기부를 포함할 수 있다.

Description

임플란트 처리 장치{IMPLANT PROCESSING APPARATUS}

본 발명은 임플란트 처리 장치에 관한 것이다.

인공 치아라고도 불리는 임플란트는 치아의 결손이 있는 부위나 치아를 뽑은 자리의 턱뼈에 골 이식, 골 신장술 등의 부가적인 수술을 실시한 뒤 생체 적합적인 임플란트 본체를 심어 자연치의 기능을 회복시켜준다. 임플란트 시술은 드릴링을 통해 턱뼈 안에 임플란트가 들어갈 공간을 만들어주어 주로 나사 형태의 골 내 임플란트를 턱뼈에 심는 과정으로 진행된다.

일반적으로 임플란트 시술에 사용되는 임플란트 픽스쳐(fixture)는 골형성을 바르게 유도하기 위하여 티타늄으로 코팅되고 있다. 그러나, 티타늄 임플란트는 공장에서 제작된 뒤 시간 경과에 의해 표면에 산화막이 형성되면 친수성에서 소수성을 띄게 되어 골 결합 능력이 현저하게 저하된다.

이에, 유통 과정 중 임플란트 표면에 형성된 산화막을 제거하여 시술 후 골 유착을 빠르게 유도할 수 있는 임플란트 산화막 제거 장치가 개발되고 있다. 이러한 임플란트 산화막 제거 장치는 플라즈마를 발생시켜 임플란트 표면에 형성된 산화막을 제거함으로써 임플란트가 친수성을 갖도록 한다.

본 발명의 실시예는 임플란트 처리 장치의 사용성을 개선하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 실시예는 임플란트를 처리한 후 시술하기 전까지 임플란트의 오염을 방지할 수 있는 임플란트 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 실시예는 플라즈마를 이용한 임플란트의 처리 효율을 향상시킬 수 있는 임플란트 처리 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 처리 장치는, 임플란트를 처리하기 위한 처리 공간을 제공하는 챔버부; 상기 챔버부의 내부에 탈부착 가능하게 배치되어 상기 임플란트를 지지하는 지지부; 플라즈마를 발생시켜 상기 챔버부로 공급하는 플라즈마 발생부; 및 상기 챔버부로부터 가스를 배기하는 배기부를 포함할 수 있다.

상기 챔버부는: 상기 지지부가 위치하며 상기 지지부와 접합하는 부위에 제 1 고정 수단을 갖는 거치대를 포함하고, 상기 지지부는: 상기 거치대의 상기 제 1 고정 수단이 구비된 부위와 접합하는 부위에 제 2 고정 수단을 가질 수 있다.

상기 제 1 고정 수단은 함몰부 또는 돌출부를 포함하고, 상기 제 2 고정 수단은 돌출부 또는 함몰부를 포함할 수 있다.

상기 제 1 및 제 2 고정 수단 중 어느 하나는 자석을 포함하고, 나머지 하나는 자석 또는 자성체를 포함할 수 있다.

상기 지지부는: 상기 임플란트가 위치하는 지지대; 및 상기 지지대를 수용하는 케이스를 포함할 수 있다.

상기 케이스는: 상기 지지대를 노출시키도록 상기 케이스를 개방시키거나 상기 지지대를 감추도록 상기 케이스를 폐쇄시키는 커버를 포함할 수 있다.

상기 커버는: 상기 케이스와 회전 가능하게 결합되는 힌지부; 및 상기 커버에서 상기 힌지부와 마주보는 부분에 형성되어 상기 케이스의 폐쇄 시 상기 케이스의 접합하는 부위와 끼워맞춤을 이루는 체결부를 포함할 수 있다.

상기 커버는: 상기 케이스의 폐쇄 시 상기 케이스를 밀폐시키도록 상기 케이스와 접하는 부위에 패킹을 포함할 수 있다.

상기 케이스는: 상기 지지부가 상기 챔버부의 내부에 배치되었을 때 상기 임플란트를 사이에 두고 상기 플라즈마 발생부와 대향하는 부위에 오목부를 포함할 수 있다.

상기 케이스는: 상기 오목부의 면과 상기 오목부가 형성되는 상기 케이스의 벽을 포함하는 평면에 의해 둘러싸이는 공간에 상기 임플란트의 적어도 일부를 포함할 수 있다.

상기 오목부는: 상기 오목부의 곡면의 곡률이 상기 임플란트의 픽스쳐의 곡률보다 크거나 같도록 구성될 수 있다.

상기 오목부는: 상기 곡면에 걸쳐 상기 곡률이 변하도록 구성될 수 있다.

상기 오목부는: 상기 곡면 위의 점이 상기 오목부가 형성되는 상기 케이스의 벽에서 멀어질수록 상기 점에서의 곡률이 작아지도록 구성될 수 있다.

본 발명의 실시예에 따르면, 임플란트 처리 장치의 사용성이 개선될 수 있다.

본 발명의 실시예에 따르면, 임플란트를 처리한 후 시술하기 전까지 임플란트의 오염을 방지할 수 있다.

본 발명의 실시예에 따르면, 플라즈마를 이용한 임플란트의 처리 효율을 향상시킬 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 처리 장치의 예시적인 사시도이다.
도 2 내지 도 4는 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 처리 장치의 챔버부 및 지지부를 도시하는 예시적인 정면도, 측면도 및 평면도이다.
도 5는 본 발명의 일 실시예에 따라 지지부를 거치대에 위치시키는 모습을 나타내는 예시적인 도면이다.
도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 임플란트 처리 장치에서 지지부를 거치대에 위치시키는 모습을 나타내는 예시적인 도면이다.
도 7 및 도 8은 각각 본 발명의 다른 실시예에 따른 지지부에서 커버가 열린 상태와 닫힌 상태를 보여주는 예시적인 도면이다.
도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 지지부의 측면 모습과 커버의 체결부를 확대하여 도시한 예시적인 도면이다.
도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 케이스의 예시적인 평면도이다.
도 11 내지 도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 케이스의 예시적인 평면도이다.
도 14는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 케이스와 임플란트의 평면 모습을 나타내는 예시적인 도면이다.
도 15는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 케이스의 예시적인 평면도이다.

본 발명의 다른 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술 되는 실시 예를 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시 예에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시 예는 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다.

만일 정의되지 않더라도, 여기서 사용되는 모든 용어들(기술 혹은 과학 용어들을 포함)은 이 발명이 속한 종래 기술에서 보편적 기술에 의해 일반적으로 수용되는 것과 동일한 의미를 가진다. 일반적인 사전들에 의해 정의된 용어들은 관련된 기술 그리고/혹은 본 출원의 본문에 의미하는 것과 동일한 의미를 갖는 것으로 해석될 수 있고, 그리고 여기서 명확하게 정의된 표현이 아니더라도 개념화되거나 혹은 과도하게 형식적으로 해석되지 않을 것이다.

본 명세서에서 사용된 용어는 실시 예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다. 본 명세서에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다. 명세서에서 사용되는 '포함한다' 및/또는 이 동사의 다양한 활용형들 예를 들어, '포함', '포함하는', '포함하고', '포함하며' 등은 언급된 조성, 성분, 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 조성, 성분, 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않는다. 본 명세서에서 '및/또는' 이라는 용어는 나열된 구성들 각각 또는 이들의 다양한 조합을 가리킨다.

이하, 본 명세서에 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세하게 설명한다.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 처리 장치(1)의 예시적인 사시도이다.

도 1을 참조하면, 상기 임플란트 처리 장치(1)는 챔버부(11), 지지부(12), 플라즈마 발생부(13) 및 배기부(14)를 포함한다.

상기 챔버부(11)는 임플란트(10)를 처리하기 위한 처리 공간을 제공한다. 상기 지지부(12)는 상기 챔버부(11)의 내부에 탈부착 가능하게 배치되어 상기 임플란트(10)를 지지한다. 상기 플라즈마 발생부(13)는 플라즈마를 발생시켜 상기 챔버부(11)로 공급한다. 상기 배기부(14)는 상기 챔버부(11)로부터 가스를 배기한다.

상기 챔버부(11)는 상기 플라즈마 발생부(13)에 의해 발생된 플라즈마가 임플란트(10)의 표면과 반응하여 임플란트(10)가 처리되는 공간을 제공한다. 상기 챔버부(11)는 임플란트(10)와 상기 임플란트(10)를 지지하는 지지부(12)가 드나들 수 있는 도어를 구비한다. 그리고, 상기 챔버부(11)는 플라즈마에 의해 임플란트(10)가 처리되는 동안에는 밀폐되어 상기 챔버부(11) 안의 가스가 밖으로 유출되지 않고, 반대로 상기 챔버부(11) 밖의 공기가 안으로 유입되지 않도록 한다.

상기 지지부(12)는 임플란트(10)를 지지한다. 상기 지지부(12)는 임플란트(10)에서 표면 처리가 요구되는 부분이 상기 플라즈마 발생부(13)에서 플라즈마가 분사되는 부분에 위치하도록 임플란트(10)를 지지할 수 있다. 예를 들어, 상기 지지부(12)는 임플란트(10)에서 턱뼈에 삽입되어 골 유착이 진행되는 나사 부분이 상기 챔버부(11)의 윗 부분을 향하도록 임플란트(10)의 크라운 또는 지대주 부분을 고정시킬 수 있다.

상기 플라즈마 발생부(13)는 플라즈마를 발생시켜 임플란트(10)에 제공한다. 상기 플라즈마 발생부(13)는 기체를 고전압으로 방전시켜 방전 공간 내 기체를 전자와 이온으로 분리시킬 수 있다. 이와 같이 상기 플라즈마 발생부(13)에 의해 플라즈마 상태로 여기된 기체는 상기 챔버부(11) 안으로 공급되어 상기 지지부(12)에 의해 지지된 임플란트(10)와 반응할 수 있다.

상기 플라즈마 발생부(13)는 플라즈마를 발생시키기 위한 소스 가스로 대기를 사용할 수 있다. 그러나, 상기 플라즈마 발생부(13)에 의해 사용되는 소스 가스는 대기로 제한되지 않고, 아르곤, 헬륨과 같은 불활성 기체를 포함할 수도 있다.

또한, 상기 플라즈마 발생부(13)는 소스 가스를 플라즈마 상태로 여기시키기 위해 전원 장치(미도시)를 포함할 수 있다. 상기 플라즈마 발생부(13)는 전원 장치로부터 전원 신호를 인가받아 서로 마주보는 전극 사이에서 소스 가스를 방전시킬 수 있다.

상기 배기부(14)는 상기 챔버부(11)로부터 임플란트(10)의 처리로 인해 발생되는 가스를 배기한다. 플라즈마를 이용하여 임플란트(10)의 표면을 처리하는 경우, 오존을 비롯한 각종 부산물들이 생성될 수 있다. 상기 배기부(14)는 이러한 부산물을 포함하는 가스를 밖으로 배기하여 상기 챔버부(11)의 내부 공간에 부산물이 남아 있지 않도록 한다. 도면에 도시되지는 않았으나, 상기 배기부(14)는 상기 챔버부(11)로부터 연장되는 배기관, 및 상기 배기관을 통해 상기 챔버부(11)로부터 가스를 흡입하는 흡입 펌프를 포함할 수 있다. 실시예에 따라, 상기 배기부(14)는 배기관에 부산물을 여과하여 제거하는 부산물 필터를 더 포함할 수 있다.

상기 지지부(12)는 상기 챔버부(11)의 내부에 탈부착 가능하게 배치된다. 다시 말해, 상기 지지부(12)는 상기 챔버부(11)에 고정적으로 설치되지 않고 상기 임플란트 처리 장치(1)를 사용하는 사용자에 의해 상기 챔버부(11)로부터 분리될 수 있다.

도 2 내지 도 4는 각각 본 발명의 일 실시예에 따른 임플란트 처리 장치(1)의 챔버부(11) 및 지지부(12)를 도시하는 예시적인 정면도, 측면도 및 평면도이다.

도 2 내지 도 4를 참조하면, 상기 챔버부(11)는 상기 지지부(12)가 위치하며 상기 지지부(12)와 접합하는 부위에 제 1 고정 수단(1111)을 갖는 거치대(111)를 포함할 수 있다. 그리고, 상기 지지부(12)는 상기 거치대(111)의 상기 제 1 고정 수단(1111)이 구비된 부위와 접합하는 부위에 제 2 고정 수단(1211)을 가질 수 있다.

이 실시예에 따르면, 상기 지지부(12)는 상기 거치대(111) 위에 위치하여 거치되되, 상기 거치대(111)의 제 1 고정 수단(1111)과 상기 지지부(12)의 제 2 고정 수단(1211)이 서로 접합함으로써 상기 지지부(12)가 상기 거치대(111)에 고정될 수 있다.

도 5는 본 발명의 일 실시예에 따라 지지부(12)를 거치대(111)에 위치시키는 모습을 나타내는 예시적인 도면이다.

도 5를 참조하면, 상기 거치대(111)에 구비되는 제 1 고정 수단(1111)은 소정의 깊이만큼 함몰된 함몰부를 포함하고, 상기 지지부(12)에 구비되는 제 2 고정 수단(1211)은 소정의 높이만큼 돌출된 돌출부를 포함할 수 있다.

상기 지지부(12)가 상기 거치대(111) 위에 거치되는 경우, 상기 지지부(12)의 돌출부가 상기 거치대(111)의 함몰부에 삽입되어 상기 지지부(12)와 상기 거치대(111)가 서로 접합할 수 있다.

이 실시예에 따르면, 상기 지지부(12)에 형성되는 돌출부의 높이는 상기 거치대(111)에 형성되는 함몰부의 깊이보다 작거나 같을 수 있다. 이 경우, 상기 거치대(111)에 상기 지지부(12)가 놓이면 상기 거치대(111)의 상면과 상기 지지부(12)의 하면이 서로 맞닿아, 상기 거치대(111) 위에 상기 지지부(12)가 안정적으로 배치되면서 상기 지지부(12)가 상기 거치대(111)를 벗어나지 않게 된다.

도 2 내지 도 5에서는 상기 거치대(111)에 구비되는 제 1 고정 수단(1111)이 함몰부이고 상기 지지부(12)에 구비되는 제 2 고정 수단(1211)이 돌출부였으나, 반대로 상기 제 1 고정 수단(1111)이 돌출부이고 상기 제 2 고정 수단(1211)이 함몰부일 수도 있다.

또한, 도 2 내지 도 5에서는 함몰부와 돌출부의 평면 모습이 사각형으로 도시되었으나, 상기 함몰부 및 상기 돌출부의 평면 모습은 이에 제한되지 않고 원형을 비롯한 다양한 형상을 가질 수 있다.

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 임플란트 처리 장치(1)에서 지지부(12)를 거치대(111)에 위치시키는 모습을 나타내는 예시적인 도면이다.

도 6을 참조하면, 상기 거치대(111)에 구비되는 제 1 고정 수단(1111)은 자석(1112)을 포함하고, 상기 지지부(12)에 구비되는 제 2 고정 수단(1211)은 자석 또는 자성체(1212)를 포함할 수 있다.

이 실시예에 따르면, 상기 거치대(111)와 상기 지지부(12)는 함몰부와 돌출부의 결합에 의한 고정 외에도 자기력을 이용하여 보다 안정적으로 고정되면서 손쉽게 탈착될 수 있다.

실시예에 따라, 상기 제 1 고정 수단(1111)은 자석 대신 자성체를 포함할 수 있으며, 이 경우 상기 제 2 고정 수단(1211)은 자석을 포함한다.

또한, 도 6에서 상기 거치대(111)는 함몰부(1111)와 자석(1112)을 모두 포함하고 상기 지지부(12)는 돌출부(1211)와 자석 또는 자성체(1212)를 모두 포함하였으나, 상기 거치대(111)와 상기 지지부(12)는 함몰부와 돌출부 없이 자석과 자성체 만으로 고정될 수도 있다.

이상에서 설명한 임플란트 처리 장치(1)는 임플란트(10)를 지지하는 지지부(12)가 챔버부(11)에 분리 가능하게 고정됨으로써 상기 임플란트 처리 장치(1)를 사용하는 사용자로 하여금 보다 편리하게 지지부(12)에 임플란트(10)를 끼우고 뺄 수 있는 장점이 있다.

나아가, 본 발명의 다른 실시예에 따르면, 상기 지지부(12)는 케이스를 포함할 수 있다.

도 7 및 도 8은 각각 본 발명의 다른 실시예에 따른 지지부(12)의 케이스(122)에서 커버(123)가 열린 상태와 닫힌 상태를 보여주는 예시적인 도면이고, 도 9는 본 발명의 다른 실시예에 따른 지지부(12)의 측면 모습과 커버(123)의 체결부(1232)를 확대하여 도시한 예시적인 도면이다.

이 실시예에 따르면, 상기 지지부(12)는 임플란트(10)가 위치하는 지지대(121), 및 상기 지지대(121)를 수용하는 케이스(122)를 포함할 수 있다.

그리고, 상기 케이스(122)는 상기 지지대(121)를 노출시키도록 케이스(122)를 개방시키거나(도 7 참조) 상기 지지대(121)를 감추도록 케이스(122)를 폐쇄시키는(도 8 참조) 커버(123)를 포함할 수 있다.

또한, 도 9를 참조하면, 상기 커버(123)는 힌지부(1231)와 체결부(1232)를 포함할 수 있다.

상기 힌지부(1231)는 상기 케이스(122)와 회전 가능하게 결합된다. 즉, 상기 커버(123)는 상기 힌지부(1231)를 중심으로 도 7 및 도 8과 같이 회전하여 케이스(122)를 개방시키거나 폐쇄시킬 수 있다.

상기 체결부(1232)는 상기 커버(123)에서 상기 힌지부(1231)와 마주보는 부분에 형성된다. 그리고, 상기 체결부(1232)는 상기 케이스(122)의 폐쇄 시 상기 케이스(122)의 접합하는 부위(m)와 끼워맞춤을 이룰 수 있다.

예를 들어, 상기 커버(123)의 체결부(1232)에는 홈이 형성되고 상기 체결부(1232)와 맞물리는 상기 케이스(122)의 접합 부위(m)는 돌출하도록 형성되어, 상기 체결부(1232)의 홈과 상기 케이스(122)의 접합 부위(m)가 서로 억지 끼워맞춤으로 결합될 수 있다.

그러나, 위와 반대로, 실시예에 따라 상기 체결부(1232)가 돌출하도록 형성되고 상기 케이스(122)의 접합 부위(m)에 홈이 형성되어 서로 억지 끼워맞춤을 이룰 수도 있다. 또한, 상기 체결부(1232)와 상기 접합 부위(m) 간의 결합 관계는 억지 끼워맞춤으로 한정되지 않으며, 중간 끼워맞춤 또는 헐거운 끼워맞춤을 이룰 수도 있다.

나아가, 상기 커버(123)는 상기 케이스(122)와 접하는 부위에 패킹을 포함할 수 있다. 예를 들어, 도 8과 같이 커버(123)가 닫혔을 때 케이스(122)와 커버(123)가 서로 접하는 부위(L1, L2, L3)에 패킹이 구비되어 케이스(122)의 폐쇄 시 케이스(122)의 밀폐가 구현될 수 있다.

이상에서 설명한 실시예에 따르면, 임플란트(10)를 지지하는 지지부(12)에 케이스(122)가 형성되고 그 케이스(122)를 개폐할 수 있는 커버(123)가 마련된다. 그로 인해, 사용자는 임플란트(10)의 처리가 완료되면 커버(123)를 덮어 케이스(122)를 폐쇄시킨 뒤 지지부(12)를 챔버부(11)로부터 분리시켜 시술 장소로 이동시킴으로써, 임플란트(10)의 처리 후 시술 직전까지 임플란트(10)가 공기 중에 노출되어 산화막이 형성되거나 오염되는 것을 방지할 수 있는 효과를 거둘 수 있다.

도 10은 본 발명의 다른 실시예에 따른 케이스(122)의 예시적인 평면도이다.

도 10을 참조하면, 상기 케이스(122)는 오목부(1221)를 포함할 수 있다. 상기 오목부(1221)는 상기 지지부(12)가 상기 챔버부(11)의 내부에 배치되었을 때 임플란트(10)를 사이에 두고 상기 플라즈마 발생부(13)와 대향하는 부위에 형성될 수 있다. 즉, 상기 플라즈마 발생부(13)와 임플란트(10)와 상기 오목부(1221)는 일렬로 배치될 수 있다.

도 10에 도시된 바와 같이, 상기 오목부(1221)는 케이스(122)의 안쪽에서 움푹 들어간 형상으로 구현될 수 있다. 상기 오목부(1221)는 상기 케이스(122)의 높이 방향에 있어서 플라즈마에 의해 표면 처리되는 임플란트(10)의 부위(예컨대, 픽스쳐)를 포함하도록 형성될 수 있다. 바꾸어 말하면, 상기 케이스(122)에 형성되는 상기 오목부(1221)의 길이는 플라즈마에 의해 처리되는 임플란트(10) 부위의 길이보다 길거나 같을 수 있다.

도 11 내지 도 13은 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 케이스(122)의 예시적인 평면도이다.

앞서 도 10에서 상기 오목부(1221)는 평단면이 기 결정된 곡률을 갖는 호로 구현되었으나, 도 11 내지 도 13에 도시된 바와 같이 상기 오목부(1221)의 평단면은 곡률을 갖지 않는 임의의 형상, 예컨대 사다리꼴, 삼각형, 사각형 등으로 구성될 수도 있다.

다시 말해, 상기 오목부(1221)는 상기 플라즈마 발생부(13)에서 임플란트(10)가 위치하는 방향으로 케이스(122)를 바라보았을 때 소정의 깊이만큼 함몰된 형상으로 구현된다면 그 평단면은 다양한 모습을 가질 수 있다.

도 14는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 케이스(122)와 임플란트(10)의 평면 모습을 나타내는 예시적인 도면이다.

이 실시예에 따르면, 케이스(122)는 오목부(1221)의 면과 상기 오목부(1221)가 형성되는 상기 케이스(122)의 벽을 포함하는 평면에 의해 둘러싸이는 공간에 임플란트(10)의 적어도 일부를 포함하도록 구성될 수 있다.

예를 들어, 도 14를 참조하면, 임플란트(10)는 오목부(1221)의 내측면(C)과 케이스(122)의 내벽을 포함하는 평면(P)에 의해 둘러싸이는 공간에 적어도 일부(해칭 부분)가 포함될 수 있다. 즉, 상기 오목부(1221)에 의해 확보되는 공간으로 임플란트(10)의 일부 또는 전부가 인입될 수 있다.

여기서, 도 10 및 도 14에 도시된 바와 같이 상기 오목부(1221)의 평단면이 소정의 곡률을 갖는 호인 경우, 상기 오목부(1221)를 구성하는 곡면의 곡률은 임플란트(10)의 픽스쳐의 곡률보다 크거나 같도록 구성될 수 있다.

도 15는 본 발명의 또 다른 실시예에 따른 케이스(122)의 예시적인 평면도이다.

이 실시예에 따르면, 상기 오목부(1221)는 오목부의 곡면에 걸쳐 곡률이 변하도록 구성될 수 있다. 다시 말해, 상기 오목부(1221)의 곡면은 일정한 곡률로 구부러지는 것이 아니라 곡면 상의 각 점마다 곡률이 서로 다르게 형성될 수 있다.

구체적으로, 상기 오목부(1221)는 곡면 위의 점이 상기 오목부(1221)가 형성되는 케이스(122)의 벽에서 멀어질수록 해당 점에서의 곡률이 작아지도록 구성될 수 있다.

예를 들어, 도 15를 참조하면, 오목부(1221)의 곡면 위 점(P1, P2, P3)이 케이스(122)의 벽(W)에서 멀어질수록 그 점에서의 곡률은 작아질 수 있다. 바꾸어 말하면, 상기 오목부(1221)의 가장자리에서 중앙으로 갈수록 곡면의 곡률은 작아진다.

도 10 내지 도 15를 참조하여 설명한 실시예들과 같이 임플란트(10)를 지지하는 지지부(12)의 케이스(122)에서 임플란트(10)를 사이에 두고 플라즈마 발생부(13)와 대향하는 부위에 오목부(1221)가 형성되는 경우, 상기 플라즈마 발생부(13)로부터 제공되는 플라즈마가 임플란트(10)에 도달한 뒤 임플란트(10)의 주위를 돌아 상기 오목부(1221)를 향해 진행하더라도, 상기 오목부(1221)로부터 반사되어 다시 임플란트(10)를 향해 되돌아와 임플란트(10)의 표면을 처리할 수 있다.

상기 플라즈마 발생부(13)로부터 제공되는 플라즈마 중 일부만 임플란트(10)의 처리에 사용되고 나머지는 임플란트(10)의 주위를 돌아 임플란트(10)를 지나가게 되는 경우, 임플란트(10)의 처리에 사용되는 플라즈마의 양은 그리 많지 않을 수 있다. 또한, 이 경우 임플란트(10)에서 플라즈마 발생부(13)를 향하는 면(정면)만 처리되고 플라즈마 발생부(13)를 등지는 면(후면)은 처리가 이루어지지 않아 임플란트(10)의 표면에 걸쳐 고른 처리가 달성되지 않는 문제가 발생할 수 있다.

그러나, 위 실시예들에 따르면, 상기 오목부(1221)는 플라즈마가 임플란트(10)를 지나가더라도 임플란트(10)로 되돌아가도록 플라즈마의 흐름을 개선시킬 수 있어 임플란트(10)의 처리에 사용되는 플라즈마의 양을 증대시킬 수 있다. 그와 동시에 상기 오목부(1221)로부터 반사되어 되돌아오는 플라즈마가 임플란트(10)의 후면에 집중될 수 있어 플라즈마 발생부(13)에 대한 임플란트(10)의 배향과 관계없이 임플란트(10)의 전체 표면에 걸쳐 처리가 고르게 달성될 수 있다.

이상에서 실시예를 통해 본 발명을 설명하였으나, 위 실시예는 단지 본 발명의 사상을 설명하기 위한 것으로 이에 한정되지 않는다. 통상의 기술자는 전술한 실시예에 다양한 변형이 가해질 수 있음을 이해할 것이다. 본 발명의 범위는 첨부된 특허청구범위의 해석을 통해서만 정해진다.

1: 임플란트 처리 장치
10: 임플란트
11: 챔버부
12: 지지부
13: 플라즈마 발생부
14: 배기부
111: 거치대
121: 지지대
122: 케이스
123: 커버
1221: 오목부
1231: 힌지부
1232: 체결부

Claims

임플란트를 처리하기 위한 처리 공간을 제공하는 챔버부;
상기 챔버부의 내부에 탈부착 가능하게 배치되어 상기 임플란트를 지지하는 지지부;
플라즈마를 발생시켜 상기 챔버부로 공급하는 플라즈마 발생부; 및
상기 챔버부로부터 가스를 배기하는 배기부를 포함하되,
상기 지지부는:
상기 임플란트가 위치하는 지지대; 및
상기 지지대를 수용하는 케이스를 포함하고,
상기 케이스는:
상기 지지대를 노출시키도록 상기 케이스를 개방시키거나 상기 지지대를 감추도록 상기 케이스를 폐쇄시키는 커버를 포함하는 임플란트 처리 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 챔버부는:
상기 지지부가 위치하며 상기 지지부와 접합하는 부위에 제 1 고정 수단을 갖는 거치대를 포함하고,
상기 지지부는:
상기 거치대의 상기 제 1 고정 수단이 구비된 부위와 접합하는 부위에 제 2 고정 수단을 갖는 임플란트 처리 장치.
제 2 항에 있어서,
상기 제 1 고정 수단은 함몰부 또는 돌출부를 포함하고,
상기 제 2 고정 수단은 돌출부 또는 함몰부를 포함하는 임플란트 처리 장치.
제 2 항 또는 제 3 항에 있어서,
상기 제 1 및 제 2 고정 수단 중 어느 하나는 자석을 포함하고, 나머지 하나는 자석 또는 자성체를 포함하는 임플란트 처리 장치.
삭제
삭제
제 1 항에 있어서,
상기 커버는:
상기 케이스와 회전 가능하게 결합되는 힌지부; 및
상기 커버에서 상기 힌지부와 마주보는 부분에 형성되어 상기 케이스의 폐쇄 시 상기 케이스의 접합하는 부위와 끼워맞춤을 이루는 체결부를 포함하는 임플란트 처리 장치.
제 7 항에 있어서,
상기 커버는:
상기 케이스의 폐쇄 시 상기 케이스를 밀폐시키도록 상기 케이스와 접하는 부위에 패킹을 포함하는 임플란트 처리 장치.
제 1 항에 있어서,
상기 케이스는:
상기 지지부가 상기 챔버부의 내부에 배치되었을 때 상기 임플란트를 사이에 두고 상기 플라즈마 발생부와 대향하는 부위에 오목부를 포함하는 임플란트 처리 장치.
제 9 항에 있어서,
상기 케이스는:
상기 오목부의 면과 상기 오목부가 형성되는 상기 케이스의 벽을 포함하는 평면에 의해 둘러싸이는 공간에 상기 임플란트의 적어도 일부를 포함하도록 구성되는 임플란트 처리 장치.
제 9 항에 있어서,
상기 오목부는:
상기 오목부의 곡면의 곡률이 상기 임플란트의 픽스쳐의 곡률보다 크거나 같도록 구성되는 임플란트 처리 장치.
제 11 항에 있어서,
상기 오목부는:
상기 곡면에 걸쳐 상기 곡률이 변하도록 구성되는 임플란트 처리 장치.
제 12 항에 있어서,
상기 오목부는:
상기 곡면 위의 점이 상기 오목부가 형성되는 상기 케이스의 벽에서 멀어질수록 상기 점에서의 곡률이 작아지도록 구성되는 임플란트 처리 장치.