JP3051852B2 - 生体インプラント用材料の製造法 - Google Patents
生体インプラント用材料の製造法Info
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Description
生体インプラント材料の製造方法に関する。
ス,ニッケル−クロム合金,クロム−コバルト合金,チ
タン,チタン合金,タンタル等の金属材料や,アルミ
ナ,炭素,アパタイト,バイオガラス等の無機質材料が
知られている。
使用に耐え得る十分な機械的強度と生体親和性(無害,
結合性)が要求される。しかし,金属材料は機械的強度
には優れているが生体との親和性に乏しいので,骨など
生体組織との結合性に問題がある。また,金属イオンが
溶出して細胞毒として作用したり,造骨作用を阻害した
りする。
トが知られており,各種のアパタイトの内でも水酸基を
もつカルシウムの燐酸塩からなるアパタイトが生体親和
性に優れている。だが,その焼結体は強度が弱いという
問題がある。
のセラミックスを芯材として,その表面にアパタイトを
コーティングする方法が提案された。提案されたコーテ
ィング法には,プラズマまたはフレーム溶射法,スパッ
ター法,電気泳動法,スラリー塗布法,化学析出法等が
ある。
トの付着強度の均一性や生体親和性の点から特にプラズ
マ溶射法が期待されている。これまで提案された溶射法
としては,アーク放電を利用した直流プラズマを用いる
ものが一般であり,例えば特開昭53−75209号公
報,特開昭62−34566号公報,特開昭62−57
548号公報,特開昭63−93851公報には,直流
プラズマにより発生するプラズマジェットフレームを用
いることを開示している。
芯材に対して,従来のように直流プラズマ法を適用して
アパタイト溶射した場合,得られるアパタイト溶射膜は
その配向度や不純物濃度において必ずしも所望の特性を
具備したものとはならず,また付着強度や膜厚の均一性
の点においても充分なものを得るのが困難であることを
本発明者らは経験した。その要因には種々の理由が考え
られるが,この点については後記の実施例で明らかにす
る。
し,より高品質のアパタイト系生体インプラント機能材
料を得ることを目的としたものである。
ラミツクスの芯材表面にアパタイト層を被着ししてなる
生体インプラント用材料を製造するにあたり,高周波プ
ラズマトーチ内に発生させた熱プラズマ反応部にアパタ
イト粉末を供給し,該トーチから発生するアパタイト同
伴の高周波誘導熱プラズマのフレームを該芯材の表面に
溶射することを特徴とする生体インプラント用材料の製
造法を提供する。そのさい,アパタイト粉末は平均粒径
が100〜200μmのものを使用し、熱プラズマ反応
部に該粉末を供給するために流量4〜15リットル/分
のキャリヤーガスを用い、該芯材の温度が900〜12
00℃となるようにプラズマへの電力供給量をコントロ
ールする。
挿入した場合,芯材とアパタイト層の付着強度が優れる
ことおよびアパタイト層の生体親和性が良好であること
が必要であるが,本発明によればこの両方の特性が同時
に達成できる。この点で本発明に従う材料は従来材にな
い作用を供する。
タイト層はアパタイトの分解生成物が少ない点と不純物
が少ない点で非常に純度が高く,しかも組織的には広範
囲にわたって均質で且つC軸配向性も付与される。この
ため,生体親和性と付着強度が良好となり,化学的安定
性と機械的強度を合わせもつ優れた生体材料が得られ
る。
生体内において安定で且つ害の少ない物質であればよ
く,金属材料としてはステンレス,クロム−コバルト合
金,ニッケル−クロム合金,チタン,チタン合金(但し
アルミニウムやバナジウムを含まないもの)等が適し,
セラミツクスとしてはアルミナやジルコニア等が適する
が,そのほかにも高強度と安定性を有するものであれば
適宜使用できる。
は,管の外周に巻いた高周波誘導コイルにより管内を通
流するガスに高周波エネルギーを供給して高温の熱プラ
ズマを発生させる通常の高周波トーチが使用でき,この
トーチの熱プラズマ反応部(高周波の誘導加熱を受けて
ガス流にプラズマが発生する帯域)にアパタイト粉末を
供給することにより,熱プラズマフレーム中にアパタイ
トを同伴させる。
とほぼ同一のキャリヤガスを用いて該反応部に供給する
のが好ましく,アパタイト粉末の粒径は100〜200
μmのものが良い。また,このアパタイト粉末は生体材
料に好適な水酸基含有のカルシウム燐酸塩を使用するこ
とができる。本発明によれば,アパタイトを高周波熱プ
ラズマによって溶射した場合,酸化カルシウムへの分解
を殆んど起こさないで純粋なアパタイトのまま溶射層を
形成できることがわかった。
た直流熱プラズマのように電極からの不純物の混入のお
それがなく,またプラズマのテールフレームが太く長い
という利点をもつ。前者の利点は高純度のアパタイト層
を形成するのに有利に作用し,後者の利点は溶射層の温
度勾配が小さくなるという作用を供し,また溶射温度を
制御することが容易となる。このことが総合的に作用し
あって高純度で分解生成物が少ないアパタイトコーティ
ング層が広範囲に形成でき且つその密着性も高めること
になる。
アパタイト層はC軸配向性をもつ組織となるが,天然の
人歯のエナメル質もC軸配向をしており,この配向性に
よる表面設計が生体適合性の一要因となることから,C
軸配向性をもつアパタイト層が得られたことは従来の複
合材にない有利な点である。
チの例を図1に示した。図1に概略示すように,内径5
1mmで長さ196mmの石英製水冷二重管1の外周に
加熱コイル2が巻かれ,この加熱コイル2に20kW−
4MHzの高周波電源が接続される。管1の上部にはプ
ラズマガス導入機構が装着されており,これは,プラズ
マガス3を旋回しながら軸方向に吐出させる内回転ガス
吐出口4と,シースガス5を管内壁に沿って旋回しなが
ら吐出させる外回転ガス吐出口6を備えており,軸芯に
は水冷銅管製のパウダー送り管7を備えている。
チ8が直径500mm×高さ500mmの円筒型水冷チ
ャンバー9の上部に同軸的に垂直に設置され,該トーチ
8の下端開口から高周波熱プラズマがチヤンバー9内に
下向きに投射される。チヤンバー9内には,トーチ8内
の熱プラズマ発生部(反応部)10の直下100〜30
0mmの範囲に上下動可能で且つ軸回りに回転可能な水
冷試料台11が設置され,この試料台11の上に基板
(芯材)12が置かれる。基板12は装置稼動中は熱電
対13によって温度が計測され,その計測値は記録計1
4に記録される。また,チヤンバー9には排ガス導出口
15が設けられ,装置稼動中の発生ガスは系外に排出さ
れる。
り管7に水酸化アパタイトまたはアパタイトの粉末16
をキャリヤーガス17によって導入することによって,
金属またはセラミツクスの基板12の表面にアパタイト
を溶射することができる。その粒度は既述のように10
0〜200μmのものを使用する。100μmより細か
い粉末を用いると酸化カルシウムへの分解が顕著とな
り,200μmより粗い粉末を用いると粉末の溶融が不
十分で基板12との付着不良を起こすことがわかった。
0℃に設定するのが好ましい。この温度制御は,熱電対
13の計測値に基づきプラズマへの入力をコントロール
することによって行なうことができる。その際のプラズ
マへの入力値は4〜12kWの範囲となる。基板温度が
900℃未満では溶射膜が付着不良となり剥がれが生
じ,1200℃を超えると原料粉末が酸化カルシウムに
分解する量が多くなる。
リヤーガス17の流量は4〜15リットル/分(Ar内
O:1リットル/分)が適当である。4リットル/分未
満では粉末のプラズマ中での滞留時間が長くなり酸化カ
ルシウムに分解する。15リットル/分を超えると逆に
滞留時間が短くなり溶融が不十分で付着不良を起こすよ
うになる。
ガス3の流量は,プラズマがまっすぐ安定して発生する
よにプラズマフレーム18の状態を観察しながら調節す
る。このためその流量は他の条件の変化により多少変動
するが標準的には50リットル/分(Ar内O2:1.5
リットル/分)程度とする。
トコーティング材料が作製できるが付着不良および原料
分解を起こさない条件をまとめると表1のとおりであ
る。
ようなプラズマ溶射条件,すなわち粉末の粒度,基板温
度,キャリヤーガスの流量が適性な範囲内において,粉
末が溶融し易い条件とすればするほど配向度が高くな
る。すなわち粉末の粒度は細かい程,基板温度は高い
程,キャリヤーガス流量は少ない程C軸配向度が高くな
ることがわかった。その結果については次の実施例で示
す。
装置(日本高周波株式会社製:周波数4MHz,最大出
力20kW)により,溶射する原料粉末16として10
0〜200μmの粒度分布を持った水酸化アパタイトの
球状粉を使用し,基板12として22×22mmで厚さ
2mmの部分安定化ジルコニア(イットリア3モル%)
を使用して本発明法を実施した。
リットル/分), プラズマガス流量:50リットル/分 (Ar内O2:1.5
リットル/分), 溶射距離:25cm, 基板温度:1000℃, 水酸化アパタイト供給量:0.2g/分
トは酸化カルシウムへの分解を起こすことなく,付着強
度が14MPaでC軸配向性を持った良好な溶射層が得
られた。被覆アパタイト層の特性を表2に示した。
トーチを用いて同様の試験を行った。そのさい直流プラ
ズマは電流300A,電圧40V,ガス流量50リット
ル/分(Ar)の条件とし,実施例と同様に部分安定化
ジルコニアに水酸化アパタイトをコーティングした。得
られた被覆アパタイト層の特性を表2に併記した。
マ法では電極の構成成分である銅とタングステンが不純
物として混入した。銅はトーチの陽極ノズルから溶融し
て飛散微粒子となって混入し,またタングステンは陰極
がプラズマガスに含まれる少量の酸素と反応して酸化タ
ングステンとなって混入したものと思われる。タングス
テンは高融点金属で溶損し難いはずであるが酸化すると
蒸気圧が大きくなり蒸発し易くなるからである。また,
直流プラズマ法では配向度が低く,均一性および付着強
度の点でも本発明法には及ばない。
基板12として20×27mm,厚さ2mmのアルミナ
を使用し,実施例1と同じアパタイト原料粉末16を用
いて本発明法を実施した。装置の稼動条件は次のとおり
であった。
リットル/分), プラズマガス流量:50リットル/分 (Ar内O2:1.5
リットル/分), 溶射距離:25cm, 基板温度:900℃, 水酸化アパタイト供給量:0.2g/分
結果を図2に示した。図2の結果に見られるように,生
成相の大半が水酸化アパタイトであり,一部はリン酸カ
ルシウムに分解しているが酸化カルシウムは検出されな
かった。また図3に,得られた複合材料の表面部断面の
SEM写真を示した。図3において,横方向に見える線
は溶射層と基板との界面であり,この界面上部の層が溶
射層である。図3に見られるように界面の剥離は見られ
ず,基板の上に厚さ70〜80μmの多孔質の膜が形成
されているのがわかる。
体インプラント材料として強度的にも生体親和性の点で
も好適な複合材料が得られる。とくに,芯材表面に形成
されるアパタイト層は不純物の混入がなく且つアパタイ
トの分解生成物が少ない高純度のアパタイトからなり,
その層は広範囲に渡って均質でC軸配向性を持つという
組織的な特徴がある。したがって,生体インプラント材
料に要求される化学的安定性と機械的強度を合わせ持つ
材料が得られ,この分野に大きく貢献できる。
ラズマ発生装置の例を示す略断面図である。
X線回折結果を示す同定図である。
示すSEM写真である。
Claims (1)
- 【請求項1】 金属またはセラミツクスの芯材表面にア
パタイト層を被着ししてなる生体インプラント用材料を
製造するにあたり,高周波プラズマトーチ内に発生させ
た熱プラズマ反応部に平均粒径100〜200μmのア
パタイト粉末を流量4〜15リットル/分のキャリヤー
ガスを用いて供給し,該芯材の温度が900〜1200
℃となるようにプラズマへの電力供給量をコントロール
して該トーチから発生するアパタイト同伴の高周波誘導
熱プラズマのフレームを該芯材の表面に溶射することを
特徴とする生体インプラント用材料の製造法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5269887A JP3051852B2 (ja) | 1993-10-01 | 1993-10-01 | 生体インプラント用材料の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5269887A JP3051852B2 (ja) | 1993-10-01 | 1993-10-01 | 生体インプラント用材料の製造法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07100158A JPH07100158A (ja) | 1995-04-18 |
JP3051852B2 true JP3051852B2 (ja) | 2000-06-12 |
Family
ID=17478602
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5269887A Expired - Lifetime JP3051852B2 (ja) | 1993-10-01 | 1993-10-01 | 生体インプラント用材料の製造法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3051852B2 (ja) |
Families Citing this family (5)
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KR101930617B1 (ko) * | 2016-08-02 | 2018-12-18 | 주식회사 피글 | 임플란트 처리 장치 |
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CN108588626B (zh) * | 2017-03-07 | 2020-12-11 | 中国科学院上海硅酸盐研究所 | 一种具有优良生物相容性的微米/纳米多级结构二氧化钛涂层及其制备方法 |
CN109640504B (zh) * | 2018-12-14 | 2023-09-05 | 四川大学 | 一种多孔射流种植体活化亲水装置 |
-
1993
- 1993-10-01 JP JP5269887A patent/JP3051852B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPH07100158A (ja) | 1995-04-18 |
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