KR101879192B1 - 반송 장치 및 그것에 이용되는 기반 - Google Patents

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Abstract

반송 장치는 제1 기반(140)과 반송부(170)와 제1 구동부(130)와 제2 구동부(160)를 포함한다. 제1 기반(140)은 금속으로 구성되어 있다. 반송부(170)의 반송면에, 제1 기반(140)이 순차 반송한 복수의 워크(1)가 올려 놓여진다. 반송부(170) 반송면은 제1 기반(140)의 외주부의 하면과 미끄럼 접촉한다. 제1 기반(140)의 외주부의 하면의 표면 조도는 제1 기반(140)의 상면의 표면 조도보다 작다.

Description

반송 장치 및 그것에 이용되는 기반{TRANSPORTING APPARATUS AND BASE USED THEREFOR}
본 발명은 반송 장치 및 그것에 이용되는 기반에 관한 것이다.
복수의 워크를 반송하는 반송 장치의 구성을 개시한 선행문헌으로, 일본 공개특허공보 2008-105811호 및 일본 공개특허공보 2008-260594호(특허문헌 2)가 있다.
일본 공개특허공보 2008-105811호에 기재된 반송 장치에서는, 검사용 유리제 기반은, 복수의 워크를 정렬시켜 순차 공급하는 기반의 하방(下方)에 근접 배치되고, 워크가 둘레가장자리부에 올려 놓여진다.
일본 공개특허공보 2008-260594호에 기재된 반송 장치에서는, 검사용 유리제 기반은, 복수의 워크를 정렬시켜 순차 공급하는 리니어 피더의 하방에 근접 배치되고, 워크가 둘레가장자리부에 올려 놓여진다.
검사용 유리제 기반 등의 반송부의 반송면에 올려 놓여질 때의 워크의 낙차가 큰 경우, 워크의 위치 어긋남이 발생하기 쉬워, 워크를 안정적으로 반송할 수 없다. 또한, 반송부의 반송면에 흠이 나기 쉽다.
본 발명의 주된 목적은, 반송 중의 워크의 위치 어긋남을 억제하여 안정적으로 워크를 반송할 수 있음과 함께 반송부의 반송면의 흠집을 억제할 수 있는, 반송 장치 및 그것에 이용되는 기반을 제공하는 것에 있다.
본 발명의 제1 국면에 기초하는 반송 장치는, 복수의 워크를 정렬시켜 순차 반송하는 제1 기반과, 제1 기반으로부터 공급된 복수의 워크를 순차 반송하는 반송부와, 제1 기반을 회전시키는 제1 구동부와, 반송부를 구동하는 제2 구동부를 포함한다. 제1 기반은 금속으로 구성되어 있다. 반송부의 반송면에, 제1 기반이 순차 반송한 복수의 워크가 올려 놓여진다. 반송부의 반송면은 제1 기반의 외주부(外周部)의 하면(下面)과 미끄럼 접촉한다. 제1 기반의 외주부의 하면의 표면 조도는 제1 기반의 상면(上面)의 표면 조도보다 작다.
본 발명의 제2 국면에 기초하는 반송 장치는, 복수의 워크를 정렬시켜 순차 반송하는 제1 기반과, 제1 기반으로부터 공급된 복수의 워크를 순차 반송하는 반송부와, 제1 기반을 회전시키는 제1 구동부와, 반송부를 구동하는 제2 구동부를 포함한다. 제1 기반은 금속으로 구성되어 있다. 반송부의 반송면에, 제1 기반이 순차 반송한 복수의 워크가 올려 놓여진다. 반송부의 반송면은 제1 기반의 외주부의 하면과 미끄럼 접촉한다. 제1 기반의 외주부의 하면의 표면 조도는 반송부의 반송면의 표면 조도보다 작다.
본 발명의 한 형태에서는, 제1 기반은 도금막으로 구성되어 있다.
본 발명의 한 형태에서는, 반송부는 반송면을 가지는 제2 기반을 포함한다. 제2 구동부는 제2 기반을 회전시킨다. 제1 기반 및 제2 기반 각각이, 원반상의 외형을 가지고 있다. 제2 기반의 외주 길이는 제1 기반의 외주 길이보다 길다. 제2 기반에 의한 복수의 워크의 반송 속도는, 제1 기반에 의한 복수의 워크의 반송 속도보다 크다.
본 발명의 한 형태에서는, 제1 기반의 상방(上方)에 복수의 워크를 정렬시키는 가이드가 마련되어 있다. 가이드는, 제1 기반 상에 위치하는 복수의 워크가 제1 기반의 회전에 따라 제1 기반의 지름방향의 외측으로 이동하도록, 제1 기반의 둘레방향에 대하여 교차하는 방향으로 연장되어 있는 부분을 포함한다.
본 발명의 한 형태에서는, 제1 기반의 외주부의 두께가 10㎛ 이상 200㎛ 이하이다.
본 발명의 한 형태에서는, 제1 기반은 니켈 및 코발트를 포함하는 합금으로 구성되어 있다.
본 발명의 한 형태에서는, 제1 기반은, 외주부와 외주부로 주위를 둘러싸인 중앙부로 구성되어 있다. 중앙부는 외주부보다 두껍다.
본 발명의 제3 국면에 기초하는 기반은, 회전함으로써 복수의 워크를 정렬시켜 순차 반송하고, 반송부의 반송면에 복수의 워크를 올려 놓는 기반이다. 기반은 금속으로 구성되어 있다. 기반은, 하면이 반송부의 반송면과 미끄럼 접촉하는 외주부를 가지고 있다. 외주부의 하면의 표면 조도가 상면의 표면 조도보다 작다.
본 발명에 의하면, 반송 중의 워크의 위치 어긋남을 억제하여 안정적으로 워크를 반송할 수 있음과 함께 반송부의 반송면의 흠집을 억제할 수 있다.
이 발명의 상기 및 다른 목적, 특징, 국면 및 이점은, 첨부한 도면과 관련하여 이해되는 이 발명에 관한 다음의 상세한 설명으로부터 분명해질 것이다.
도 1은 본 발명의 실시형태 1에 따른 반송 장치가 적용된 검사 장치의 구성을 나타내는 평면도이다.
도 2는 도 1의 검사 장치의 II-II선 화살표방향에서 본 단면도이다.
도 3은 기판의 주면(主面)에 제1 마스크를 배치한 후, 제1 도금막을 형성한 상태를 나타내는 단면도이다.
도 4는 도금막을 기판으로부터 박리시킨 상태를 나타내는 단면도이다.
도 5는 본 발명의 실시형태 2에 따른 반송 장치에서의 제1 기반의 주위를 확대하여 나타내는 단면도이다.
도 6은 기판의 주면에 제1 마스크를 배치한 후, 제1 도금막을 형성하고, 또한 제1 도금막의 외주부의 상면에 제2 마스크를 배치한 후, 제2 도금막을 형성한 상태를 나타내는 단면도이다.
도 7은 제1 도금막을 기판으로부터 박리시킨 상태를 나타내는 단면도이다.
도 8은 본 발명의 실시형태 3에 따른 반송 장치가 적용된 검사 장치의 구성을 나타내는 평면도이다.
이하, 본 발명의 각 실시형태에 따른 반송 장치 및 그것에 이용되는 기반에 대해 도면을 참조하여 설명한다. 이하의 실시형태의 설명에서는 도면 중의 동일 또는 상당 부분에는 동일 부호를 붙이고, 그 설명은 반복하지 않는다.
또한, 실시형태의 설명에서는, 반송 장치를 포함하는 검사 장치에 대해 설명하지만, 반송 장치가 적용되는 것은 검사 장치에 한정되지 않고, 제조 장치 등이어도 된다. 또한, 반송되는 워크로서 대략 직방체상의 전자부품을 일례로 설명하지만, 워크는 전자부품에 한정되지 않고 워크의 외형도 직방체상에 한정되지 않는다. 전자부품으로는 콘덴서, 인덕터 또는 저항 등이 있다. 깨짐 또는 균열이 발생하기 쉬운 세라믹 전자부품이 워크로서 알맞다. 길이가 0.2㎜, 폭이 0.1㎜인 소형 전자부품부터 길이가 12㎜, 폭이 10㎜인 대형 전자부품까지, 워크로 적용 가능하다.
(실시형태 1)
도 1은 본 발명의 실시형태 1에 따른 반송 장치가 적용된 검사 장치의 구성을 나타내는 평면도이다. 도 2는 도 1의 검사 장치의 II-II선 화살표방향에서 본 단면도이다. 도 1에서는, 후술하는 공급부(110)를 도시하고 있지 않다.
도 1, 2에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 실시형태 1에 따른 반송 장치가 적용된 검사 장치(100)는 공급부(110)와 정렬부(120)와 반송 기구부(150)와 배출부(180)를 포함하고 있다. 검사 장치(100)에서는 공급부(110)로부터 공급된 복수의 워크(1)를 정렬부(120)에서 정렬하면서 반송 기구부(150)에 반송한다. 반송 기구부(150)에서는 복수의 워크(1) 각각을 반송하면서 검사하고, 배출부(180)에서 검사 후의 복수의 워크(1)를 선별한다. 본 발명의 실시형태 1에 따른 반송 장치는 정렬부(120)와 반송 기구부(150)를 포함하고 있다.
공급부(110)는 공급로(111)와 호퍼(hopper)(112)와 슈터(shooter)(113)를 포함한다. 검사 대상의 워크(1)는 호퍼(112) 내에 일시적으로 저장되어, 적량의 워크(1)가 공급로(111) 및 슈터(113)를 순차 통과하고, 정렬부(120)에 포함되는 본 발명의 실시형태 1에 따른 제1 기반(140) 상에 투입된다.
정렬부(120)는 제1 구동부(130)와 회전판(133)과 고정구(135)와 지지대(136)와 제1 기반(140)과 복수의 가이드를 포함한다. 단, 정렬부(120)의 구성은 상기에 한정되지 않고, 적어도 제1 구동부(130)와 제1 기반(140)을 포함하고 있으면 된다.
제1 기반(140)은 회전함으로써 복수의 워크(1)를 정렬시켜 순차 반송한다. 제1 기반(140)은 원반상의 외형을 가지고 있다. 단, 제1 기반(140)의 외형은 원반상에 한정되지 않고, 제1 기반(140)의 상면에 수직인 방향으로 봤을 때 다각형상이어도 된다. 제1 기반(140)의 직경은, 예를 들면 50㎜ 이상 500㎜ 이하이다. 제1 기반(140)의 중심부에는 관통 구멍이 마련되어 있다.
제1 기반(140)의 외주부의 두께는 워크(1)의 사이즈 및 중량에 의해 적절히 결정된다. 사이즈 및 중량이 큰 워크(1)의 경우, 제1 기반(140)의 외주부의 강성을 확보하기 위해, 제1 기반(140)의 외주부의 두께(T1)가 두껍게 설정된다. 예를 들면, 길이가 12㎜, 폭이 10㎜인 대형 워크(1)의 경우, 제1 기반(140)의 외주부의 두께(T1)는 200㎛로 설정된다.
사이즈 및 중량이 작은 워크의 경우, 후술하는 바와 같이 제1 기반(140) 상으로부터 제2 기반(170) 상으로 워크(1)가 갈아탈 때의 워크(1)의 위치 어긋남을 억제하기 위해, 제1 기반(140)의 외주부의 두께(T1)가 얇게 설정된다. 예를 들면, 길이가 0.2㎜, 폭이 0.1㎜인 소형 워크(1)의 경우, 제1 기반(140)의 외주부의 두께(T1)는 10㎛로 설정된다. 워크(1)의 위치 어긋남을 억제하기 위해서는, 제1 기반(140)의 외주부의 두께(T1)는 워크(1)의 길이의 1/20 이하인 것이 바람직하다.
상기의 관점에서, 제1 기반(140)의 외주부의 두께(T1)는 10㎛ 이상 200㎛ 이하인 것이 바람직하다. 본 실시형태에서는, 제1 기반(140)의 전체에서 두께(T1)가 10㎛ 이상 200㎛ 이하이다.
제1 기반(140)의 외주부의 하면이 되는 제2 주면(140b)의 표면 조도는, 제1 기반(140)의 상면이 되는 제1 주면(140t)의 표면 조도보다 작다. 본 실시형태에서의 표면 조도는 산술평균 조도 Ra이며, 예를 들면 레이저 현미경 또는 백색 간섭계 등에 의해 측정된다. 제1 기반(140)의 제2 주면(140b)의 표면 조도는, 예를 들면 기준 길이를 1㎜로 하여, 0.003㎛ 이상 0.03㎛ 이하이다. 제1 기반(140)의 제1 주면(140t)의 표면 조도는, 예를 들면 기준 길이를 1㎜로 하여, 0.03㎛ 이상 1㎛ 이하이다.
본 실시형태에서는, 제1 기반(140)은 금속으로 구성되어 있다. 제1 기반(140)은 니켈 및 코발트를 포함하는 합금으로 구성되어 있다. NiCo는 강성이 높고 유연함을 가지기 때문에, 제1 기반(140)을 구성하는 재료로 알맞다.
제1 구동부(130)는 제1 기반(140)을 회전시킨다. 제1 구동부(130)는 제1 베이스(131)와, 제1 베이스(131)에 회전 가능하게 지지되어 있는 회전부(132)를 포함한다. 본 실시형태에서는, 제1 구동부(130)는 다이렉트 드라이브 모터이다.
다이렉트 드라이브 모터는 모터 본체와 회전각 검출기와 모터 드라이버와 위치 지시기를 포함하고 있다. 모터 본체는, 예를 들면 SM(Synchronous motor)형 서보 모터이다. 회전각 검출기는, 예를 들면 엔코더이다. 모터 드라이버는, 예를 들면 서보 앰프이다. 위치 지시기는, 예를 들면 펄스 발생기이다.
다이렉트 드라이브 모터에서는, 위치 지시기에 의해 설정된 모터 본체의 회전각과, 회전각 검출기에 의해 검출된 실제의 모터 본체의 회전각의 차분을, 모터 드라이버에 피드백하여 출력을 조정함으로써, 모터 본체의 회전각이 설정값에 가까워지도록 제어하고 있다.
회전판(133)은, 회전판(133)의 상면에 수직인 방향으로 봤을 때 원반상의 외형을 가지고 있다. 회전판(133)의 중심부에는, 연직방향 상방으로 돌출한 축부(軸部)(134)가 마련되어 있다. 축부(134)가 제1 기반(140)의 관통 구멍을 삽입 통과한 상태에서, 회전판(133) 상에 제1 기반(140)이 올려 놓여져 있다. 회전판(133)의 직경은 제1 기반(140)의 직경보다 작고, 제1 기반(140)의 중심부 근처의 일부분이 회전판(133) 상에 올려 놓여져 있다.
축부(134)의 선단부에는, 축부(134)의 외형에 대응한 오목부가 형성된 고정구(135)가 끼워 맞춰진다. 제1 기반(140)은, 고정구(135)와 회전판(133) 사이에 끼여 회전판(133)에 대하여 고정되어 있다.
회전판(133)은 제1 구동부(130)의 회전부(132) 상에 올려 놓여져, 회전부(132)의 회전에 따라 회전한다. 따라서, 제1 구동부(130)의 회전부(132)의 회전에 따라, 축부(134)를 회전축으로 하여 제1 기반(140)이 화살표(12)로 나타내는 방향으로 회전한다.
지지대(136)는, 회전판(133)과 간격을 두고 회전판(133)의 주위를 둘러싸도록 고정 배치되어 있다. 지지대(136)의 상면은 제1 기반(140)의 하면과 미끄럼 접촉한다.
복수의 가이드는 제1 기반(140)의 상방에 배치되어 있다. 복수의 가이드 각각과 제1 기반(140)은 이간되어 있다. 복수의 가이드는 제1 기반(140) 상에 위치하는 복수의 워크(1)를 정렬시킨다. 본 실시형태에서는 제1 가이드(121), 제2 가이드(122), 제3 가이드(123), 제4 가이드(124) 및 제 5 가이드(125)의 5개의 가이드가 마련되어 있다.
제1 가이드(121), 제2 가이드(122), 제3 가이드(123), 제4 가이드(124) 및 제5 가이드(125) 각각은, 제1 기반(140) 상에 위치하는 복수의 워크(1)가 제1 기반(140)의 회전에 따라 제1 기반(140)의 지름방향의 외측으로 이동하도록, 제1 기반(140)의 둘레방향에 대하여 교차하는 방향으로 연장되어 있는 부분을 포함한다.
구체적으로는 제1 가이드(121), 제2 가이드(122), 제3 가이드(123), 제4 가이드(124) 및 제5 가이드(125) 각각은, 직방체상의 외형을 가지고, 제1 기반(140)의 상면에 수직인 방향으로 봤을 때 제1 기반(140)의 지름방향과 교차하는 방향으로 배치되어 있다. 제1 가이드(121), 제2 가이드(122), 제3 가이드(123), 제4 가이드(124) 및 제5 가이드(125)의 순으로, 제1 기반(140)의 지름방향의 외측을 향하여 배치되어 있다. 제1 가이드(121), 제2 가이드(122), 제3 가이드(123), 제4 가이드(124) 및 제5 가이드(125) 각각에서, 제1 기반(140)의 상면에 수직인 방향으로 봤을 때, 일단(一端)은 다른 단보다 제1 기반(140)의 중심으로부터 떨어져 위치하고 있다.
제1 기반(140) 상에 위치하는 복수의 워크(1)는, 제1 기반(140)의 회전에 따라, 제1 가이드(121), 제2 가이드(122), 제3 가이드(123), 제4 가이드(124) 및 제5 가이드(125) 중 적어도 어느 하나와 이 순으로 접함으로써, 보다 반경이 큰 원주 궤도로 이동하면서 최종적으로 1열로 정렬된다. 제5 가이드(125)의 일단은 제1 기반(140)의 가장자리 상에 위치하고 있다. 제5 가이드(125)를 따라 제5 가이드(125)의 일단에 접할 때까지 이동한 워크(1)는, 제2 기반(170) 상으로 갈아타 올려 놓여진다.
본 실시형태에서는, 반송 기구부(150)는 제2 구동부(160)와 회전판(163)과 고정구(165)와 지지대(166)와 제2 기반(170)을 포함한다. 단, 반송 기구부(150)의 구성은 상기에 한정되지 않고, 적어도 제2 구동부(160)와 제2 기반(170)을 포함하고 있으면 된다.
반송부인 제2 기반(170)은 반송면이 되는 상면을 가지고, 제1 기반(140)으로부터 공급된 복수의 워크(1)를 순차 반송한다. 반송면이 되는 제2 기반(170)의 외주부의 상면은, 제1 기반(140)의 외주부의 하면이 되는 제2 주면(140b)과 미끄럼 접촉한다. 제2 기반(170)의 외주부의 상면에, 제1 기반(140)이 순차 반송한 복수의 워크(1)가 올려 놓여진다.
제2 기반(170)의 외주부에서 제1 기반(140)과 미끄럼 접촉하는 미끄럼 접촉부(10)는 유리로 구성되어 있다. 본 실시형태에서는, 제2 기반(170)의 전체가 유리로 구성되어 있다. 검사 장치(100)에서는, 제2 기반(170) 상에서 워크(1)의 6면 각각의 외관 검사가 실시되기 때문에, 제2 기반(170)의 외주부를 구성하는 재료로는 광(光)을 투과하는 재료인 것이 바람직하다. 상기의 관점에서, 제2 기반(170)의 외주부를 구성하는 재료로는 투명한 유리가 특히 알맞다. 단, 제2 기반(170)의 외주부가 투명한 수지로 구성되어 있어도 된다.
제2 기반(170)은 원반상의 외형을 가지고 있다. 단, 제2 기반(170)의 외형은 원반상에 한정되지 않고, 제2 기반(170)의 상면에 수직인 방향으로 봤을 때 다각형상이어도 된다. 제2 기반(170)의 중심부에는 관통 구멍이 마련되어 있다. 제2 기반(170)의 직경은 제1 기반(140)의 직경보다 크다. 즉, 제2 기반(170)의 외주 길이는 제1 기반(140)의 외주 길이보다 길다. 제2 기반(170)의 직경은, 예를 들면 200㎜ 이상 1000㎜ 이하이다. 제2 기반(170)의 두께(T10)는 제1 기반(140)의 두께(T1)보다 두껍고, 예를 들면 2㎜ 이상 10㎜ 이하이다.
제1 기반(140)의 외주부의 하면의 표면 조도는, 제2 기반(170)의 외주부의 상면의 표면 조도보다 작다. 구체적으로는, 제1 기반(140)의 외주부의 하면의 표면 조도는, 제2 기반(170)의 미끄럼 접촉부(10)의 표면 조도보다 작다. 제2 기반(170)의 외주부의 상면의 표면 조도는, 예를 들면 기준 길이를 1㎜로 하여, 0.003㎛ 이상 0.03㎛ 이하이다.
제2 구동부(160)는 제2 기반(170)을 회전시킨다. 제2 구동부(160)는 제2 베이스(161)와, 제2 베이스(161)에 회전 가능하게 지지되어 있는 회전부(162)를 포함한다. 본 실시형태에서는, 제2 구동부(160)는 다이렉트 드라이브 모터이다.
회전판(163)은, 회전판(163)의 상면에 수직인 방향으로 봤을 때 원반상의 외형을 가지고 있다. 회전판(163)의 중심부에는 연직방향 상방으로 돌출한 축부(164)가 마련되어 있다. 축부(164)가 제2 기반(170)의 관통 구멍을 삽입 통과한 상태에서, 회전판(163) 상에 제2 기반(170)이 올려 놓여져 있다. 회전판(163)의 직경은 제2 기반(170)의 직경보다 작고, 제2 기반(170)의 중심부 근처의 일부분이 회전판(163)상에 올려 놓여져 있다.
축부(164)의 선단부에는, 축부(164)의 외형에 대응한 오목부가 형성된 고정구(165)가 끼워 맞춰진다. 제2 기반(170)은, 고정구(165)와 회전판(163) 사이에 끼여 회전판(163)에 대하여 고정되어 있다.
회전판(163)은 제2 구동부(160)의 회전부(162) 상에 올려 놓여져, 회전부(162)의 회전에 따라 회전한다. 따라서, 제2 구동부(160)의 회전부(162)의 회전에 따라, 축부(164)를 회전축으로 하여 제2 기반(170)이 화살표(15)로 나타내는 방향으로 회전한다. 제2 기반(170)의 회전 방향은 제1 기반(140)의 회전 방향과는 역방향이다.
지지대(166)는, 회전판(163)과 간격을 두고 회전판(163)의 주위를 둘러싸도록 고정 배치되어 있다. 지지대(166)의 상면은 제2 기반(170)의 하면과 미끄럼 접촉한다.
제2 기반(170)에 의한 복수의 워크(1)의 반송 속도는, 제1 기반(140)에 의한 복수의 워크(1)의 반송 속도보다 크다. 그 때문에, 제2 기반(170)의 외주부 상에 올려 놓여진 복수의 워크(1)는 서로 간격을 두고 위치하고 있다. 이로써, 워크(1)의 6면 각각의 외관 검사를 하는 것이 가능해진다.
제2 기반(170)의 외주부 상의, 제1 검사 영역(P1), 제2 검사 영역(P2), 제3 검사 영역(P3), 제4 검사 영역(P4), 제5 검사 영역(P5), 및 제6 검사 영역(P6)을 워크(1)가 순차 통과할 때에 하나의 검사 영역에서 워크(1)의 6면 중 1면에 대해 외관 검사가 실시되고, 제6 검사 영역(P6)을 통과했을 때에는 워크(1)의 6면 전부의 외관 검사가 종료된다.
검사 장치(100)는, 복수의 워크(1) 각각의 외관을 검사하기 위한 촬영 장치인 도시하지 않은 6대의 카메라를 포함한다. 구체적으로는 제2 기반(170)보다 높은 위치이면서 워크(1)가 반송되는 원주 궤도의 내측의 위치에 배치되어, 워크(1)의 한쪽의 측면을 촬영하는 제1 카메라를 포함한다. 제2 기반(170)보다 높은 위치이면서 워크(1)가 반송되는 원주 궤도의 외측의 위치에 배치되어, 워크(1)의 다른 쪽의 측면을 촬영하는 제2 카메라를 포함한다. 제2 기반(170)보다 높은 위치이면서 워크(1)가 반송되는 원주 궤도의 상방의 위치에 배치되어, 워크(1)의 한쪽의 주면을 촬영하는 제3 카메라를 포함한다. 제2 기반(170)보다 낮은 위치이면서 워크(1)가 반송되는 원주 궤도의 하방의 위치에 배치되어, 워크(1)의 다른 쪽의 주면을 촬영하는 제4 카메라를 포함한다. 제2 기반(170)보다 높은 위치이면서 워크(1)가 반송되는 원주 궤도의 내측 또는 외측의 위치에 배치되어, 워크(1)의 한쪽의 단면(端面)을 촬영하는 제5 카메라를 포함한다. 제2 기반(170)보다 높은 위치이면서 워크(1)가 반송되는 원주 궤도의 내측 또는 외측의 위치에 배치되어, 워크(1)의 다른 쪽의 단면을 촬영하는 제6 카메라를 포함한다.
배출부(180)는 3개의 용기와 2개의 에어브로워(air blower)와 1개의 가이드를 포함한다. 구체적으로는, 배출부(180)는, 외관 검사에서 불량품으로 판단된 워크(1)를 제1 용기(190) 내로 날리는 제1 에어브로워(181)와, 외관 검사에서 우량품으로 판단된 워크(1)를 제2 용기(191) 내로 날리는 제2 에어브로워(182)와, 제1 에어브로워(181) 또는 제2 에어브로워(182)에 의해 날려 파손된 워크(1)를 제3 용기(192) 내로 낙하시키는 가이드(183)를 포함하고 있다.
가이드(183)는 제2 기반(170)의 상방에 배치되어 있다. 가이드(183)와 제2 기반(170)은 이간되어 있다. 가이드(183)는, 직방체상의 외형을 가지고, 제2 기반(170) 상에 위치하는 복수의 워크(1)가 제2 기반(170)의 회전에 따라 제2 기반(170)의 지름방향의 외측으로 이동하여 제2 기반(170)으로부터 낙하하도록, 제2 기반(170)의 상면에 수직인 방향으로 봤을 때 제2 기반(170)의 지름방향과 교차하는 방향으로 배치되어 있다.
본 실시형태에서는, 제1 구동부(130) 및 제2 구동부(160) 각각이 다이렉트 드라이브 모터이다. 다이렉트 드라이브 모터에서는 상기한 바와 같이 피드백 제어가 실시되고 있다. 다이렉트 드라이브 모터에서는, 또한 리미터(limiter) 제어가 실시되고 있다.
구체적으로는, 제1 기반(140) 또는 제2 기반(170)과 가이드 사이에 워크(1)가 걸렸을 때 등의, 제1 구동부(130) 또는 제2 구동부(160)의 과부하 시에는, 위치 지시기에 의해 설정된 모터 본체의 회전각과, 회전각 검출기에 의해 검출된 실제 모터 본체의 회전각의 차분이 커진다. 이 회전각의 차분이 역치(threshold value)를 초과한 경우에는 모터 본체를 정지시키는 리미터가 작동한다. 또한, 피드백 제어에 의해, 모터 본체의 회전각이 설정값에 가까워지도록 모터 드라이버의 출력을 올렸을 때에 모터 드라이버의 구동 전류가 역치를 초과한 경우에는, 모터 본체를 정지시키는 리미터가 작동한다. 다이렉트 드라이브 모터에서 상기의 리미터 제어를 실시함으로써, 제1 기반(140) 및 제2 기반(170)의 파손을 방지할 수 있다.
여기서, 제1 기반(140)의 제조 방법에 대해 설명한다. 도 3은 기판의 주면에 제1 마스크를 배치한 후, 제1 도금막을 형성한 상태를 나타내는 단면도이다. 도 3에 나타내는 바와 같이, 우선, 스테인리스강 등으로 형성된 평판상의 기판(90)의 주면에 프레임 형상의 제1 마스크(91)가 배치된다. 제1 마스크(91)는 포토레지스트로 구성되어 있다. 제1 마스크(91)로 둘러싸인 내측의 영역은 원형의 외형을 가지고 있다. 다음으로, 기판(90)의 주면 상의 제1 마스크(91) 내의 영역에 제1 기반(140)이 되는 도금막을 형성한다.
도금막에서, 기판(90)과 접하고 있는 제1 주면(140t)은 기판(90)의 표면 형상을 그대로 베낀 표면 형상을 가지고 있다. 도금막에서, 기판(90)과 접하고 있지 않은 제2 주면(140b)은 매끄러운 표면 형상을 가지고 있다. 그 때문에, 도금막의 제2 주면(140b)의 표면 조도는, 도금막의 제1 주면(140t)의 표면 조도보다 작다.
도 4는 도금막을 기판으로부터 박리시킨 상태를 나타내는 단면도이다. 도 4에 나타내는 바와 같이, 제1 마스크(91)를 제거한 후, 도금막을 기판(90)으로부터 박리시킴으로써 제1 기반(140)이 제작된다. 즉, 본 실시형태에서는, 전주법(電鑄法; electroforming)에 의해 제1 기반(140)을 제조하고 있다. 또한, 제1 기반(140)의 중심부의 관통 구멍은 기계 가공에 의해 형성되어도 되고, 제1 마스크(91)에 의해 형성되어도 된다. 제작된 제1 기반(140)은 상하 반전된 상태로 회전판(133) 상에 올려 놓여진다.
상기한 바와 같이 제1 기반(140)을 제조함으로써, 제1 기반(140)의 외주부의 하면의 표면을 매끄럽게 할 수 있기 때문에, 제1 기반(140)의 외주부의 하면과 미끄럼 접촉하는 제2 기반(170)의 외주부의 상면에 흠이 나는 것을 억제할 수 있다.
본 실시형태에 따른 반송 장치에서는, 제1 기반(140)의 외주부의 하면과 제2 기반(170)의 외주부의 상면을 미끄럼 접촉시킴으로써, 제1 기반(140) 상으로부터 제2 기반(170) 상으로 워크(1)가 갈아탈 때의 워크(1)의 낙차를 저감할 수 있다. 그 결과, 워크(1)가 제1 기반(140) 상으로부터 제2 기반(170) 상으로 갈아탈 때의 워크(1)의 위치 어긋남을 억제하여, 워크(1)를 안정적으로 반송할 수 있다.
제1 기반(140)이 금속으로 구성되어 있음으로써, 복수의 워크(1)가 올려 놓여져 있는 제1 기반(140)의 상면이 대전(帶電)하는 것을 억제하여, 제1 기반(140) 상에서 복수의 워크(1)를 스무스하게 이동시켜 효율적으로 정렬할 수 있다.
또한, 제1 기반(140)의 상면에 피복부가 마련되어 있어도 된다. 예를 들면, 오염 및 먼지 등이 부착되기 어렵고 내구성이 뛰어난 테플론(등록 상표) 또는 폴리이미드 등의 수지로 이루어지는 피복부가 제1 기반(140)의 상면에 마련되어 있어도 된다. 이 경우, 제1 기반(140)의 상면이 워크(1)와의 마찰에 의해 마모되는 것을 억제할 수 있다. 제1 기반(140) 상으로부터 제2 기반(170) 상으로 워크(1)가 갈아탈 때의 워크(1)의 낙차를 저감한다는 관점에서, 피복부는 얇은 것이 바람직하다.
(실시형태 2)
이하, 본 발명의 실시형태 2에 따른 반송 장치에 대해 설명한다. 또한, 본 실시형태에 따른 반송 장치는, 제1 기반의 중앙부와 외주부의 두께가 다른 점만 실시형태 1에 따른 반송 장치와 다르기 때문에, 실시형태 1에 따른 반송 장치와 동일한 구성에 대해서는 설명을 반복하지 않는다.
도 5는 본 발명의 실시형태 2에 따른 반송 장치에서의 제1 기반의 주위를 확대하여 나타내는 단면도이다. 도 5에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 실시형태 2에 따른 반송 장치에서는, 제1 기반(140a)은 제1 도금막(141)과 제2 도금막(142)으로 구성되어 있다.
제1 도금막(141) 및 제2 도금막(142) 각각은, 원반상의 외형을 가지고 있다. 제1 도금막(141) 및 제2 도금막(142)은 서로의 중심이 겹치도록 적층되어 있다. 제1 기반(140a)의 상면에 수직인 방향으로 봤을 때, 제1 도금막(141)의 직경은 제2 도금막(142)의 직경보다 크다. 즉, 제1 기반(140a)은, 외주부와 외주부로 주위를 둘러싸인 중앙부로 구성되어 있다. 제1 기반(140a)에서, 중앙부는 외주부보다 두껍다.
여기서, 제1 기반(140a)의 제조 방법에 대해 설명한다. 도 6은 기판의 주면에 제1 마스크를 배치한 후, 제1 도금막을 형성하고, 또한 제1 도금막의 외주부의 상면에 제2 마스크를 배치한 후, 제2 도금막을 형성한 상태를 나타내는 단면도이다. 도 6에 나타내는 바와 같이, 우선, 스테인리스강 등으로 형성된 평판상의 기판(90)의 주면에, 프레임 형상의 제1 마스크(91)가 배치된다. 다음으로, 기판(90)의 주면 상의 제1 마스크(91) 내의 영역에 제1 도금막(141)을 형성한다.
다음으로, 제1 도금막(141)의 외주부 상 및 제1 마스크(91) 상에, 제2 마스크(92)가 배치된다. 제2 마스크(92)는 포토레지스트로 구성되어 있다. 제2 마스크(92)로 둘러싸인 내측의 영역은, 원형의 외형을 가지고 있다. 다음으로, 제2 마스크(92) 내의 영역에 제2 도금막(142)을 형성한다.
도 7은 제1 도금막을 기판으로부터 박리시킨 상태를 나타내는 단면도이다. 도 7에 나타내는 바와 같이, 제1 마스크(91) 및 제2 마스크(92)를 제거한 후, 제1 도금막(141)을 기판(90)으로부터 박리시킴으로써, 제1 기반(140a)이 제작된다.
제1 도금막(141)의 두께(T2)를 실시형태 1의 도금막의 두께(T1)보다 얇게 하면서, 제1 도금막(141)의 두께(T2)와 제2 도금막(142)의 두께(T3)의 합계의 두께(T2+T3)를 확보함으로써, 제1 기반(140a)의 강성을 유지할 수 있다. 이로써, 제1 기반(140a)의 상면과 제2 기반(170)의 상면의 단차를 작게 할 수 있다. 그 결과, 워크(1)가 제1 기반(140a) 상으로부터 제2 기반(170) 상으로 갈아탈 때의 워크(1)의 위치 어긋남을 억제하여, 워크(1)를 안정적으로 반송할 수 있다.
(실시형태 3)
이하, 본 발명의 실시형태 3에 따른 반송 장치에 대해 설명한다. 또한, 본 실시형태에 따른 반송 장치는, 반송 기구부가 벨트 컨베이어로 구성되어 있는 점만 실시형태 1에 따른 반송 장치와 다르기 때문에, 실시형태 1에 따른 반송 장치와 동일한 구성에 대해서는 설명을 반복하지 않는다.
도 8은 본 발명의 실시형태 3에 따른 반송 장치가 적용된 검사 장치의 구성을 나타내는 평면도이다. 도 8에 나타내는 바와 같이, 본 발명의 실시형태 3에 따른 반송 장치가 적용된 검사 장치(200)는, 반송 기구부(250)로 벨트 컨베이어를 포함하고 있다.
반송 기구부(250)는 직선상으로 마련되어 있다. 구체적으로는, 반송 기구부(250)는 제5 가이드(125)를 따르는 방향으로 연장되어 있다. 반송 기구부(250)는 반송부인 벨트를 포함하고 있다. 벨트는, 반송면이 되는 상면을 가지고, 제1 기반(140)으로부터 공급된 복수의 워크(1)를 순차 반송한다. 반송면이 되는 벨트의 상면은, 제1 기반(140)의 외주부의 하면이 되는 제2 주면(140b)과 미끄럼 접촉한다. 반송 기구부(250)의 벨트의 상면에, 제1 기반(140)이 순차 반송한 복수의 워크(1)가 올려 놓여진다. 반송 기구부(250)의 벨트는 워크(1)를 올려 놓은 상태로 화살표(25)로 나타내는 방향으로 구동된다.
반송 기구부(250)의 벨트에서 제1 기반(140)과 미끄럼 접촉하는 미끄럼 접촉부(20)는, 가황 고무 등의 투명한 고무로 구성되어 있다. 제1 기반(140)의 외주부의 하면의 표면 조도는, 반송 기구부(250)의 벨트의 상면의 표면 조도보다 작다. 구체적으로는, 제1 기반(140)의 외주부의 하면의 표면 조도는, 반송 기구부(250)의 벨트의 미끄럼 접촉부(20)의 표면 조도보다 작다.
본 실시형태에서도, 제1 기반(140)의 외주부의 하면의 표면을 매끄럽게 함으로써, 제1 기반(140)의 외주부의 하면과 미끄럼 접촉하는 반송 기구부(250)의 벨트의 상면에 흠이 나는 것을 억제할 수 있다.
본 실시형태에 따른 반송 장치에서는, 제1 기반(140)의 외주부의 하면과 반송 기구부(250)의 벨트의 상면을 미끄럼 접촉시킴으로써, 제1 기반(140) 상으로부터 반송 기구부(250)의 벨트 상으로 워크(1)가 갈아탈 때의 워크(1)의 낙차를 저감할 수 있다. 그 결과, 워크(1)가 제1 기반(140) 상으로부터 반송 기구부(250)의 벨트 상으로 갈아탈 때의 워크(1)의 위치 어긋남을 억제하여, 워크(1)를 안정적으로 반송할 수 있다.
상술한 실시형태의 설명에서, 조합 가능한 구성을 서로 조합시켜도 된다.
본 발명의 실시형태에 대해 설명했지만, 이번에 개시된 실시형태는 모든 점에서 예시이며 제한적인 것이 아니라고 생각되어야 한다. 본 발명의 범위는 청구범위에 의해 나타내고, 청구범위와 균등한 의미 및 범위 내에서의 모든 변경이 포함되는 것이 의도된다.

Claims (14)

  1. 복수의 워크를 정렬시켜 순차 반송하는 제1 기반과,
    상기 제1 기반으로부터 공급된 상기 복수의 워크를 순차 반송하는 반송부와,
    상기 제1 기반을 회전시키는 제1 구동부와,
    상기 반송부를 구동하는 제2 구동부를 포함하고,
    상기 제1 기반은 금속으로 구성되어 있으며,
    상기 반송부의 반송면에, 상기 제1 기반이 순차 반송한 상기 복수의 워크가 올려 놓여지고,
    상기 반송부의 상기 반송면은, 상기 제1 기반의 외주부(外周部)의 하면(下面)과 미끄럼 접촉하며,
    상기 제1 기반의 상기 외주부의 상기 하면의 표면 조도는, 상기 제1 기반의 상면(上面)의 표면 조도보다 작은 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  2. 복수의 워크를 정렬시켜 순차 반송하는 제1 기반과,
    상기 제1 기반으로부터 공급된 상기 복수의 워크를 순차 반송하는 반송부와,
    상기 제1 기반을 회전시키는 제1 구동부와,
    상기 반송부를 구동하는 제2 구동부를 포함하고,
    상기 제1 기반은 금속으로 구성되어 있으며,
    상기 반송부의 반송면에, 상기 제1 기반이 순차 반송한 상기 복수의 워크가 올려 놓여지고,
    상기 반송부의 상기 반송면은, 상기 제1 기반의 외주부의 하면과 미끄럼 접촉하며,
    상기 제1 기반의 상기 외주부의 상기 하면의 표면 조도는, 상기 반송부의 상기 반송면의 표면 조도보다 작은 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1 기반은 도금막으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 반송부는, 상기 반송면을 가지는 제2 기반을 포함하고,
    상기 제2 구동부는 상기 제2 기반을 회전시키며,
    상기 제1 기반 및 상기 제2 기반 각각이, 원반상의 외형을 가지고,
    상기 제2 기반의 외주 길이는 상기 제1 기반의 외주 길이보다 길며,
    상기 제2 기반에 의한 상기 복수의 워크의 반송 속도는, 상기 제1 기반에 의한 상기 복수의 워크의 반송 속도보다 큰 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  5. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1 기반의 상방(上方)에, 상기 복수의 워크를 정렬시키는 가이드가 마련되어 있고,
    상기 가이드는, 상기 제1 기반 상에 위치하는 상기 복수의 워크가 상기 제1 기반의 회전에 따라 상기 제1 기반의 지름방향의 외측으로 이동하도록, 상기 제1 기반의 둘레방향에 대하여 교차하는 방향으로 연장되어 있는 부분을 포함하는 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  6. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1 기반의 상기 외주부의 두께가 10㎛ 이상 200㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  7. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1 기반은 니켈 및 코발트를 포함하는 합금으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  8. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 제1 기반은, 상기 외주부와 상기 외주부로 주위를 둘러싸인 중앙부로 구성되어 있고,
    상기 중앙부는 상기 외주부보다 두꺼운 것을 특징으로 하는 반송 장치.
  9. 회전함으로써 복수의 워크를 정렬시켜 순차 반송하고, 반송부의 반송면에 상기 복수의 워크를 올려 놓는 기반으로서,
    금속으로 구성되어 있고,
    하면이 상기 반송부의 상기 반송면과 미끄럼 접촉하는 외주부를 가지며,
    상기 외주부의 상기 하면의 표면 조도가, 상면의 표면 조도보다 작은 것을 특징으로 하는 기반.
  10. 제9항에 있어서,
    도금막으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 기반.
  11. 제9항 또는 제10항에 있어서,
    원반상의 외형을 가지는 것을 특징으로 하는 기반.
  12. 제9항 또는 제10항에 있어서,
    상기 외주부의 두께가 10㎛ 이상 200㎛ 이하인 것을 특징으로 하는 기반.
  13. 제9항 또는 제10항에 있어서,
    니켈 및 코발트를 포함하는 합금으로 구성되어 있는 것을 특징으로 하는 기반.
  14. 제9항 또는 제10항에 있어서,
    상기 외주부와 상기 외주부로 주위를 둘러싸인 중앙부로 구성되어 있고,
    상기 중앙부는 상기 외주부보다 두꺼운 것을 특징으로 하는 기반.
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