KR101841767B1 - 전자 디바이스 패키지의 제조 방법, 전자 디바이스 패키지 및 발진기 - Google Patents

전자 디바이스 패키지의 제조 방법, 전자 디바이스 패키지 및 발진기 Download PDF

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Abstract

절연물의 베이스 기판과 절연물의 덮개 기판을 금속막을 개재하여 안정적으로 양극 접합할 수 있는 전자 디바이스 패키지의 제조 방법을 제공한다. 덮개 기판(3)의 양면에 서로 도통하는 금속막을 성막하는 공정과, 덮개 기판(3)과 베이스 기판(2)을 얼라인먼트하여 서로 겹치게 하는 공정과, 베이스 기판(2)에서의 덮개 기판(3)에 접합되는 면과는 반대의 면 전체면에 음전극판(21)을 접촉시키고, 덮개 기판(3)에서의 베이스 기판(2)에 접합되는 면과는 반대의 면 전체면에 양전극판(22)을 접촉시키고, 양전극판(22)과 음전극판(21)과의 사이에 전압을 인가함으로써 베이스 기판(2)과 덮개 기판(3)을 양극 접합하는 공정을 구비한다.

Description

전자 디바이스 패키지의 제조 방법, 전자 디바이스 패키지 및 발진기{MANUFACTURING METHOD OF ELECTRONIC DEVICE PACKAGE, ELECTRONIC DEVICE PACKAGE, AND OSCILLATOR}
본 발명은, 접합된 2매의 기판의 사이에 형성된 캐비티 내에 전자 디바이스가 밀봉된 표면 실장형(SMD)의 패키지에 관한 것이다. 특히 2매의 기판을 양극 접합하기 위한 구조에 대하여 제안한다.
최근, 휴대 전화나 휴대 정보 단말 기기에는, 표면 실장형의 소형 패키지를 이용한 전자 디바이스가 많이 이용되고 있다. 이 중에서, 진동자나 MEMS, 자이로 센서, 가속도 센서 등, 중공의 캐비티 구조의 패키지가 필요한 부품도 많다. 중공의 캐비티 구조의 패키지에는, 절연물의 베이스 기판과 절연물의 덮개 기판이 금속막을 개재하여 접합된 구조가 알려져 있다. 또한 접합 방법도, 공정 결합이나 심 접합, 양극 접합이 알려져 있다(특허 문헌 1 참조).
여기서 종래의 절연물의 베이스 기판과 절연물의 덮개 기판이 금속막을 개재하여 양극 접합된 패키지의 제조 방법에 대하여 설명한다. 특히, 복수의 패키지 요소가 1매의 시트 형상의 베이스 기판 상에 어레이 형상으로 형성되고, 덮개 기판을 베이스 기판에 접합한 후에 1개1개의 패키지로 분할하는 제법에 대하여 설명한다.
도 8에 도시한 바와 같이 종래의 전자 디바이스 패키지는, 전자 디바이스(47)와, 오목부가 형성된 베이스 기판(41)과, 평판 형상의 덮개 기판(42)과, 베이스 기판(41)과 덮개 기판(42)을 접합하기 위한 접합막인 금속막(49)으로 구성되어 있다. 베이스 기판(41)에는 오목부가 형성되고, 덮개 기판(42)으로 베이스 기판(41)을 밀봉함으로써 캐비티(46)가 구성된다. 전자 디바이스(47)는 캐비티(46) 내에 수납된다.
베이스 기판(41)은, 가동 이온을 포함하는 절연물, 예를 들면 글래스 재료 등으로 구성되고, 오목부를 갖도록 형성되어 있다. 베이스 기판(41)의 표면에는 전자 디바이스(47)를 실장하기 위한 배선(43)이 실장되는 전자 디바이스(47)의 수에 따라서 형성되고, 베이스 기판(41)의 대응하는 이면에는 외부 전극(45)이 형성되어 있다. 베이스 기판(41)의 표면의 배선(43)과 이면의 외부 전극(45)을 접속하기 위해서, 패키지의 임의의 장소에 관통 구멍 및 이것을 메우는 관통 전극(44)이 형성되고, 관통 전극(44)을 개재하여 배선(43)과 외부 전극(45)이 접속되어 있다.
덮개 기판(42)은, 베이스 기판(41)과 마찬가지로 가동 이온을 포함하는 절연물, 예를 들면 글래스 재료 등으로 구성되고, 평판 형상으로 형성되어 있다. 베이스 기판(41)과 덮개 기판(42)이 접합되어 캐비티(46)를 형성할 때, 베이스 기판(41)과 덮개 기판(42)이 접하는 부분에는 접합막으로서의 금속막(49)이 형성되어 있다. 본래는 베이스 기판(41)과 덮개 기판(42)이 접하는 부분에만 금속막(49)을 형성하면 되지만, 공정의 간소화를 고려한 경우, 도 8의 (D)에 도시한 바와 같이 덮개 기판(42)의 한쪽 면 전체면에 금속막(49)을 형성한다.
제조 방법에 대하여 설명한다. 웨이퍼 형상의 베이스 기판(41)에 복수의 전자 디바이스(47)를 실장할 수 있도록 오목형의 캐비티(46)를 복수 형성하고, 그 후, 전자 디바이스(47)를 실장하기 위한 배선(43)과 외부 전극(45)과 관통 전극(44)을 형성한다(도 8의 (A)). 다음으로 캐비티(46) 내에 전자 디바이스(47)를 실장하고, 전자 디바이스(47)와 배선(43)을 와이어 본딩에 의한 와이어(48)로 접속한다(도 8의 (B)). 평판 형상의 덮개 기판(42)(도 8의 (C))의 한쪽 면에 접합막으로서의 금속막(49)을 형성한다(도 8의 (D)). 이 금속막으로서 적합한 것은, 알루미늄, 크롬, 실리콘, 구리 등이다.
그리고, 베이스 기판(41)과 덮개 기판(42)을 얼라인먼트하여 서로 겹치게 하여, 양극 접합을 행한다. 양극 접합에서는 도 8의 (E)에 도시한 바와 같이, 얼라인먼트된 베이스 기판(41)과 덮개 기판(42)을 히터 겸 전극의 기판(50, 51) 사이에 끼워 넣는다. 그리고 금속막(49)에 접촉하도록 정극 프로브(52)를 세트하고, 히터 겸 전극의 기판(50, 51)의 온도를 상승시키고, 정극 프로브(52)와 히터 겸 전극의 기판(50)과의 사이에 전압을 인가함으로써, 베이스 기판(41)과 덮개 기판(42)이 금속막(49)을 개재하여 접합된다. 후에는 다이싱 장치 등에 의해 패키지 요소를 개별로 절단하여, 개개의 전자 디바이스 패키지가 완성된다.
특허 문헌 1 : 일본 특허 공개 평09-002845호 공보
그러나, 종래의 전자 디바이스 패키지의 제조 방법에는, 이하의 과제가 남겨져 있다. 우선, 양극 접합을 행할 때, 정극 프로브(52)를 접합막인 금속막(49)의 일부에 접촉시키고 있지만, 금속막(49)의 시트 저항이 높은 경우, 웨이퍼인 덮개 기판(42)의 전체면을 동일한 전위로 유지하는 것이 어려워, 웨이퍼 면내에서 접합 강도에 변동이 생긴다고 하는 과제가 있었다. 시트 저항을 내리는 대책으로서, 금속막(49)의 막 두께를 두껍게 하여 저항값을 내리는 대책을 채용하거나 하고 한다. 그러나 금속막(49)의 막 두께를 두껍게 하게 되면, 금속막(49)과 베이스 기판(41)과의 접합 강도가 저하되게 된다. 또한 덮개 기판(42)의 한쪽 면에 금속막(49)을 형성하기 때문에, 금속막(49)의 막 두께가 두꺼우면, 덮개 기판(42)이 휘어지게 된다고 하는 과제가 있다.
또한, 정극 프로브(52)를 금속막(49)의 일부에 접촉시키기 위해서, 도 8의 (E)에 도시한 바와 같이 베이스 기판(41)과 덮개 기판(42)을 어긋나게 하여 정극 프로브(52)를 접촉시켜야만 한다. 이 때문에, 베이스 기판(41)과 덮개 기판(42)과의 얼라인먼트에는 큰 제약이 있다고 하는 과제가 있다. 특히, 덮개 기판(42) 측에 패턴이 형성된 패키지의 경우, 얼라인먼트 시의 제약은 웨이퍼로부터의 제품 취득 개수에 크게 영향을 준다고 하는 과제가 있다.
본 발명은, 이와 같은 사정을 고려하여 이루어진 것으로, 그 목적은, 절연물의 베이스 기판과 절연물의 덮개 기판을 금속막을 개재하여 안정적으로 양극 접합할 수 있는 전자 디바이스 패키지의 제조 방법을 제공하는 것이다.
본 발명에 따른 전자 디바이스 패키지의 제조 방법은, 가동 이온을 포함하는 절연물로 이루어지는 베이스 기판과, 상기 베이스 기판에 대향시킨 상태에서 그 베이스 기판에 접합되는 가동 이온을 포함하는 절연물로 이루어지는 덮개 기판과, 상기 베이스 기판과 상기 덮개 기판과의 사이에 복수 형성된 캐비티 내의 각각에 수납됨과 함께 상기 베이스 기판 상에 실장된 전자 디바이스를 구비한 전자 디바이스 패키지의 제조 방법으로서, 상기 덮개 기판의 양면에 서로 도통하는 금속막을 형성하는 공정과, 상기 덮개 기판과 상기 베이스 기판을 얼라인먼트하여 서로 겹치게 하는 공정과, 상기 베이스 기판에서의 상기 덮개 기판에 접합되는 면과는 반대의 면에 한쪽의 전극판을 접촉시키고, 상기 덮개 기판에서의 상기 베이스 기판에 접합되는 면과는 반대의 면에 다른 쪽의 전극판을 접촉시키고, 상기 한쪽의 전극판과 상기 다른 쪽의 전극판과의 사이에 전압을 인가함으로써 상기 베이스 기판과 상기 덮개 기판을 상기 금속막을 개재하여 양극 접합하는 공정을 구비한 것이다.
본 발명에 따른 전자 디바이스 패키지의 제조 방법에 의하면, 덮개 기판으로 되는 웨이퍼의 양면에 서로 도통하는 금속막을 형성하고 있다. 그 때문에, 덮개 기판에서의 베이스 기판에 대하여 접합되는 면과는 반대의 면에 전극판을 접촉시킬 수 있어, 접합부의 전위를 확실하게 유지할 수 있다고 하는 효과가 있다. 특히 금속막의 재료로서 시트 저항이 높은 금속을 이용하거나, 매우 얇은 금속막을 이용하거나 하는 경우에 유효하다. 또한 금속막의 재료로서 시트 저항이 높은 금속을 이용한 경우, 금속막의 두께를 두껍게 할 필요가 없어지기 때문에, 금속막에 의한 덮개 기판의 휘어짐을 억제할 수 있어, 베이스 기판과 덮개 기판의 얼라인먼트 정밀도를 향상시킬 수 있다고 하는 효과가 있다. 또한 덮개 기판에서의 베이스 기판에 접합되는 면과는 반대의 면에 전극을 접촉시키면 되기 때문에, 베이스 기판과 덮개 기판과의 얼라인먼트에 큰 제약이 가해지는 일도 없어진다.
또한 양극 접합 시, 덮개 기판에서의 베이스 기판에 접합되는 면과는 반대의 면 전체면에 전극판을 접촉시키면, 덮개 기판을 덮고 있는 금속막의 효과뿐만 아니라, 절연물인 덮개 기판의 용량에 의한 전하의 교환 효과도 있기 때문에, 양극 접합 시에 이동하는 전하량이 증가하여, 보다 강고한 접합 강도를 얻을 수 있다고 하는 효과가 있다.
도 1은 본 발명에 따른 전자 디바이스 패키지의 일 실시 형태를 도시하는 사시도.
도 2는 본 발명에 따른 전자 디바이스 패키지의 일 실시 형태를 도시하는 단면도.
도 3은 본 발명에 따른 전자 디바이스 패키지의 제조 방법의 일 실시 형태를 설명하는 플로우 공정도.
도 4는 본 발명에 따른 전자 디바이스 패키지의 제조 방법의 일 실시 형태를 도시하는 단면 공정도.
도 5는 본 발명에 따른 전자 디바이스 패키지의 제조 방법의 일 실시 형태를 도시하는 단면 공정도.
도 6은 본 발명에 따른 전자 디바이스 패키지의 다른 일 실시 형태를 도시하는 단면도.
도 7은 본 발명에 따른 발진기의 일 실시 형태를 도시하는 도면.
도 8은 종래의 전자 디바이스 패키지의 제조 방법을 도시하는 단면 공정도.
이하, 본 발명에 따른 실시 형태를, 도 1 내지 도 5를 참조하여 설명한다. 본 실시 형태의 전자 디바이스 패키지(1)는, 도 1 및 도 2에 도시한 바와 같이, 베이스 기판(2)과 덮개 기판(3)이 2층으로 적층된 상자 형상으로 형성되어 있고, 내부의 캐비티(5) 내에 전자 디바이스(4)가 수납된 표면 실장형 패키지이다. 전자 디바이스(4)란, LSI나 MEMS, 센서, 압전 진동자, 혹은 그 복합체이다.
베이스 기판(2) 및 덮개 기판(3)은 모두 가동 이온을 포함하는 절연물, 예를 들면 소다 석회 글래스로 이루어지는 절연 기판이다. 도 1 및 도 2에 도시한 예에서는, 베이스 기판(2)에 전자 디바이스(4)가 들어가는 사각 형상의 오목부(캐비티)(5)가 형성되고, 덮개 기판(3)은 평판 형상으로 형성되어 있다. 오목부(5)는, 양 기판(2, 3)이 서로 겹쳐졌을 때에, 전자 디바이스(4)를 수납하는 캐비티(5)로 되는 오목부이다. 그리고, 베이스 기판(2)은, 이 오목부(5)를 덮개 기판(3) 측에 대향시킨 상태에서 그 덮개 기판(3)에 대하여 접합막인 금속막(6)을 개재하여 양극 접합되어 있다.
도 2에 도시한 바와 같이 전자 디바이스(4)와 외부 전극(10)을 전기적으로 접속하기 위해서 관통 전극(9)이 베이스 기판(2)에 형성되어 있다. 관통 전극(9)을 내기 위한 관통 구멍은, 캐비티(5) 내에 개구하도록 형성되어 있다. 도 2에서는, 관통 구멍은 대략 일정한 직경을 유지하면서 베이스 기판(2)을 똑바로 관통한 관통 구멍을 예로 들어 설명하지만, 이 경우에 한정되지 않고, 예를 들면 베이스 기판(2)의 하면을 향하여 점차적으로 직경이 직경 축소 혹은 직경 확장되는 테이퍼 형상으로 형성해도 무방하다. 어쨌든, 베이스 기판(2)을 관통하고 있으면 된다.
그리고 관통 구멍에는, 그 관통 구멍을 메우도록 관통 전극(9)이 형성되어 있다. 이 관통 전극(9)은, 관통 구멍을 완전하게 메워 캐비티(5) 내의 기밀을 유지하고 있음과 함께, 외부 전극(10)과 전자 디바이스(4)를 전기적으로 도통시키는 역할을 담당하고 있다. 관통 구멍과 관통 전극(9)과의 간극은 베이스 기판(2)의 글래스 재료와 열팽창 계수를 맞춘 글래스 프릿재를 이용하여 완전하게 메워져 있다.
상기 실시 형태에서는 관통 구멍과 관통 전극(9)과의 간극을 글래스 프릿재로 메우고 있지만, 그것에 한정되는 것이 아니라, 도전성 접착제나 수지계의 충전 재를 이용해도 무방하다. 그러나, 장기적인 신뢰성을 고려하면, 도전성 접착제나 수지계의 충전재는 경시 변화나 아웃 가스의 발생을 야기하기 때문에, 관통 구멍과 관통 전극(9)의 간극을 메우기 위해서는 글래스 프릿재 혹은 글래스재 그 자체가 바람직하다.
다음으로 본 발명에 따른 일 실시 형태의 전자 디바이스 패키지의 제조 방법에 대하여 도 3의 플로우 공정도, 도 4 및 도 5를 참조하여 설명한다.
우선, 베이스 기판(2)에 대해서는, 웨이퍼 형상의 절연 기판을 연마, 에칭하여 목적의 두께로 하고, 세정을 행한다(S10). 다음으로 평판 형상의 절연물인 베이스 기판(2)에 캐비티(5)로 되는 오목부를 형성한다(S11). 오목부의 형성 방법에 대해서는, 포토리소그래피에 의한 에칭에 의한 형성이나 프레스 가공에 의한 형성 등, 방법은 불문한다. 다음으로, 캐비티(5)의 저부에 관통 구멍을 형성한다. 관통 구멍의 형성 방법에 대해서는, 포토리소그래피에 의한 에칭에 의한 형성이나 프레스 가공에 의한 형성 등, 방법은 불문한다(S12). 그리고, 캐비티(5)의 저부 표면에 전자 디바이스(4)를 실장하기 위한 배선(8)을 형성한다(S13). 다음으로 캐비티(5)의 저부에 형성된 관통 구멍에 관통 전극(9)을 형성한다(S14). 또한 캐비티(5)의 저부 표면과는 반대의 면에 외부 전극(10)을 형성한다(S15). 외부 전극(10)까지 형성된 베이스 기판(2)이 도 4의 (D)에 도시되어 있다.
한편, 덮개 기판(3)에 대해서는, 웨이퍼 형상의 절연 기판을 연마, 에칭하여 목적의 두께로 하고, 세정을 행한다(S20). 다음으로 도 4의 (B)에 도시한 바와 같이 평판 형상의 덮개 기판(3)의 한쪽의 표면 전체와 덮개 기판(3)의 두께 방향의 측면에 접합막으로서의 금속막(6)을 형성한다(S21). 금속막(6)의 형성 방법으로서는, 증착법이나 스퍼터링법, CVD법 등이 이용된다. 금속막(6)에는, Al, Si, Cr 등이 이용되고, 그 두께는 200Å∼2000Å의 범위로 설정되어 있다. 다음으로 도 4의 (C)에 도시한 바와 같이, 덮개 기판(3)의 다른 쪽의 표면 전체와 덮개 기판(3)의 두께 방향의 측면에 접합막으로서의 금속막(6)을 형성한다(S22). 형성하는 방법으로서는, 마찬가지로 증착법이나 스퍼터링법, CVD법 등을 이용하여 형성한다. 금속막에는, Al, Si, Cr 등이 이용되고, 그 두께는 200Å∼2000Å의 범위로 설정되어 있다. 이에 의해, 덮개 기판(3)의 표리 양면의 전체면에 금속막(6)이 형성되고, 표면의 금속막(6)과 이면의 금속막(6)이 덮개 기판(3)의 측면의 전체면에 형성된 금속막(6)을 개재하여 서로 도통한 상태로 된다. 즉, 덮개 기판(3)이 금속막(6)에 의해 덮여진 상태로 된다.
그리고, 도 4의 (E)에 도시한 바와 같이, 전자 디바이스(4)를 베이스 기판(2)의 캐비티(5) 내에 수납하여 베이스 기판(2) 상에 실장한다(S30). 도 4에서는 와이어(7)를 이용한 와이어 본딩으로 배선(8)과 전자 디바이스(4)를 접속하고 있지만, 반드시 이 공법에 한정되는 것이 아니라, 플립 칩 본딩이나 땜납 접합 등, 전기의 도통이 확보되는 접속 공법이면 어느 것이라도 된다.
금속막(6)의 막 두께를 200Å∼2000Å의 범위로 하는 것은 막 형성의 안정성 및 접합 강도와의 관계에 의한 것이다. 막 두께 200Å 미만에서는, 절연물과 금속막(6)과의 밀착 강도가 약하기 때문에, 접합 강도를 확보하기 위해서는 200Å 이상의 막 두께가 필요하다. 한편, 2000Å 이상의 막 두께로 하면, 접합 강도가 막의 분자간 결합력에 의해 좌우되게 되기 때문에, 양극 접합으로서의 효과가 약해지게 된다.
다음으로 도 5의 (A)에 도시한 바와 같이, 전자 디바이스(4)가 실장된 상태의 베이스 기판(2)과 금속막(6)이 형성된 덮개 기판(3)을, 금속막(6)을 개재한 상태에서 양극 접합한다(S31). 여기서, 도 4 및 도 5에 도시한 예에서는, 베이스 기판(2)은 덮개 기판(3)에 대하여 겹침 가능한 크기로 형성되어 있다.
양극 접합에서는, 우선 덮개 기판(3)과 베이스 기판(2)을 얼라인먼트하여 서로 겹치게 한다. 다음으로 베이스 기판(2)에서의 덮개 기판(3)과 접합되는 면과는 반대의 면 전체면에 카본 등으로 형성된 음전극판(21)을 접촉시키고, 덮개 기판(3)에서의 베이스 기판(2)과 접합되는 면과는 반대의 면 전체면에 카본 등으로 형성된 양전극판(22)을 접촉시킨다. 또한 양전극판(22)과 음전극판(21)과의 사이에 일정한 하중을 인가한다. 이 상태에서 양전극판(22), 음전극판(21), 베이스 기판(2), 및 덮개 기판(3)을 히터 등으로 200∼300℃로 가열하고, 양전극판(22)과 음전극판(21)과의 사이에 500∼1000V의 전압을 인가하여 베이스 기판(2)과 덮개 기판(3)을 양극 접합한다.
이 상태에서는, 웨이퍼 형상의 베이스 기판(2)과 웨이퍼 형상의 덮개 기판(3)이 접합되어 이루어지는 1매의 웨이퍼 내에 복수의 전자 디바이스 패키지 요소가 존재하고 있다. 따라서 도 5의 (B)에 도시한 바와 같이, 다이싱 소우나 와이어 소우를 이용하여, 전자 디바이스 패키지(1)를 개별로 절단한다(S32). 전자 디바이스 패키지(1)를 개별로 절단한 상태의 단면도가 도 2에 도시되어 있다. 개별로 절단된 전자 디바이스 패키지(1)에서는 덮개 기판(3)의 두께 방향 측면에 금속막(6)은 형성되어 있지 않다. 이것은, 전자 디바이스 패키지(1)를 개별로 절단하기 전의 웨이퍼 상태일 때, 덮개 기판(3)의 최외주부의 두께 방향 측면의 전체면에 접합막이 형성되어 있어, 덮개 기판(3)에서의 베이스 기판(2)과의 접합면측의 금속막(6)과 접합면과는 반대측의 금속막(6)이 외주부의 측면에서 접속하고 있었기 때문이다. 이에 의해 양극 접합 시의 금속막(6)의 전위 고정이나 전하의 이동을 스무스하게 행할 수 있지만, 양극 접합이 종료된 후에는, 덮개 기판(3)의 두께 방향 측면의 금속막(6)은 필요 없으므로, 개별로 절단된 전자 디바이스 패키지(1)에서는 덮개 기판(3)의 두께 방향 측면에 금속막(6)은 형성되어 있지 않다. 즉, 개별로 절단된 전자 디바이스 패키지(1)에서는, 덮개 기판(3)의 양면의 전체면에 형성된 금속막(6)은 서로 도통하고 있지 않다. 그 후, 내부의 전기 특성 검사를 행함으로써 전자 디바이스 패키지(1)가 제조된다(S33).
여기서 베이스 기판(2)과 덮개 기판(3)을 양극 접합하는 효과에 대하여 설명한다. 지금까지 세라믹 기판을 이용한 베이스 기판에서는 전자 디바이스 1개1개에 덮개를 접합할 필요가 있었다. 그 때문에, 베이스 기판과 덮개와의 접합 시에 베이스 기판에 큰 압력이 가해져, 접합면의 폭이 작으면 압력에 견딜 수 없어, 균열이나 이지러짐이 생긴다고 하는 과제가 있었다. 본 실시 형태의 전자 디바이스 패키지(1)는, 베이스 기판(2)과 덮개 기판(3)과의 접합에 양극 접합을 이용하고 있기 때문에, 복수의 전자 디바이스(4)를 동시에 실장할 수 있다. 이 때문에, 접합 시에 1개1개의 베이스 기판에 인가되는 압력은 작아져, 접합면이 작아도 균열이나 이지러짐이 생기는 일은 없다. 이 때문에, 소형화의 패키지를 만들기에는 매우 유효하다.
또한, 본 발명의 기술 범위는 상기 실시 형태에 한정되는 것이 아니라, 본 발명의 취지를 일탈하지 않는 범위에서 다양한 변경을 가하는 것이 가능하다. 전술한 실시 형태에서는, 베이스 기판(2)에서의 덮개 기판(3)이 접합되는 접합면측에, 전자 디바이스(4)가 수납되는 캐비티(5)로 되는 사각 형상의 오목부가 형성되어 있지만, 이에 한정되는 것은 아니다. 예를 들면, 도 6에 도시한 바와 같이, 덮개 기판(3)에서의 베이스 기판(2)이 접합되는 접합면측에, 전자 디바이스(4)가 수납되는 캐비티(5)로 되는 사각 형상의 오목부가 형성되어 있어도 된다. 베이스 기판(2)에 캐비티(5)를 형성하는 경우, 베이스 기판(2) 상의 전자 디바이스(4)를 실장하기 위한 배선(8)의 형성이 어려운 경우가 있기 때문에, 도 6에 도시한 바와 같이 덮개 기판(3)에 캐비티(5)를 형성하는 쪽이 보다 간편하게 배선(8)을 형성할 수 있는 경우가 있다.
다음으로, 본 발명에 따른 발진기의 일 실시 형태에 대하여, 도 7을 참조하면서 설명한다. 본 실시 형태의 발진기(100)는, 도 7에 도시한 바와 같이, 전자 디바이스(4)로서 예를 들면 수정으로 이루어지는 압전 진동편을 이용한 전자 디바이스 패키지(1)(압전 진동자)를, 집적 회로(101)에 전기적으로 접속된 발진자로서 구성한 것이다. 이 발진기(100)는, 컨덴서 등의 전자 부품(102)이 실장된 기판(103)을 구비하고 있다. 기판(103)에는, 발진기용의 상기 집적 회로(101)가 실장되어 있고, 이 집적 회로(101)의 근방에, 전자 디바이스 패키지(1)(압전 진동자)가 실장되어 있다. 이들 전자 부품(102), 집적 회로(101) 및 전자 디바이스 패키지(1)(압전 진동자)는, 도시하지 않은 배선 패턴에 의해 각각 전기적으로 접속되어 있다. 또한, 각 구성 부품은, 도시하지 않은 수지에 의해 몰드되어 있다.
이와 같이 구성된 발진기(100)에서, 압전 진동자에 전압을 인가하면, 그 압전 진동자 내의 압전 진동편이 진동한다. 이 진동은, 압전 진동편이 갖는 압전 특성에 의해 전기 신호로 변환되어, 집적 회로(101)에 전기 신호로서 입력된다. 입력된 전기 신호는, 집적 회로(101)에 의해 각종 처리가 이루어져, 주파수 신호로서 출력된다. 이에 의해, 압전 진동자가 발진자로서 기능한다. 또한, 집적 회로(101)의 구성을, 예를 들면, RTC(리얼 타임 클럭) 모듈 등을 요구에 따라서 선택적으로 설정함으로써, 시계용 단기능 발진기 등의 외에, 그 기기나 외부 기기의 동작일이나 시각을 제어하거나, 시각이나 캘린더 등을 제공하거나 하는 기능을 부가할 수 있다.
1 : 전자 디바이스 패키지
2 : 베이스 기판
3 : 리드 기판
4 : 전자 디바이스
5 : 캐비티
6 : 금속막(접합막)
7 : 와이어
8 : 배선
9 : 관통 전극
10 : 외부 전극
21 : 음전극판
22 : 양전극판

Claims (6)

  1. 가동 이온을 포함하는 절연물로 이루어지는 오목부를 갖는 베이스 기판과, 상기 베이스 기판에 대향시킨 상태에서 그 베이스 기판에 접합되는 가동 이온을 포함하는 절연물로 이루어지는 평판의 덮개 기판과, 상기 베이스 기판과 상기 덮개 기판과의 사이에 복수형성된 캐비티 내의 각각에 수납됨과 함께 상기 베이스 기판 상에 실장된 전자 디바이스를 구비한 전자 디바이스 패키지의 제조 방법에 있어서,
    상기 덮개 기판의 양면에 서로 도통하도록 금속막을 형성하는 공정과,
    상기 덮개 기판과 상기 베이스 기판을 얼라인먼트하여 서로 겹치게 하는 공정과,
    상기 베이스 기판에서의 상기 덮개 기판에 접합되는 면과는 반대의 면에, 양전극판 및 음전극판 중의 어느 한쪽의 전극판을 접촉시키고, 상기 덮개 기판에서의 상기 베이스 기판에 접합되는 면과는 반대의 면에 다른 쪽의 전극판을 접촉시키고, 상기 양전극판과 상기 음전극판과의 사이에 전압을 인가함으로써 상기 베이스 기판과 상기 덮개 기판을 상기 금속막을 개재하여 양극 접합하는 공정과,
    상기 베이스 기판과 상기 덮개 기판을 상기 전자 디바이스마다 절단하고, 상기 덮개 기판의 두께 방향의 측면을 노출하는 공정
    을 구비한 전자 디바이스 패키지의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 한쪽의 전극판을 상기 베이스 기판에서의 상기 덮개 기판에 접합되는 면과는 반대의 면 전체면에 접촉시키고, 상기 다른 쪽의 전극판을 상기 덮개 기판에서의 상기 베이스 기판에 접합되는 면과는 반대의 면 전체면에 접촉시키는 전자 디바이스 패키지의 제조 방법.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 금속막이 알루미늄, 크롬, 실리콘, 구리, 또는 이들의 조합인 전자 디바이스 패키지의 제조 방법.
  4. 제1항 또는 제2항에 있어서,
    상기 금속막의 막 두께가, 200Å∼2000Å의 범위로 설정되어 있는 것을 특징으로 하는 전자 디바이스 패키지의 제조 방법.
  5. 제1항에 따른 방법에 의해 제조되는 전자 디바이스 패키지로서,
    가동 이온을 포함하는 절연물로 이루어지는 베이스 기판과,
    양면에 금속막이 형성되고, 상기 베이스 기판에 대향시킨 상태에서 그 베이스 기판에 양극 접합됨으로써 상기 베이스 기판과의 사이에 캐비티를 형성하는, 가동 이온을 포함하는 절연물로 이루어지는 덮개 기판과,
    상기 캐비티 내에 수납됨과 함께 상기 베이스 기판 상에 실장된 전자 디바이스
    를 구비한 전자 디바이스 패키지.
  6. 제5항에 기재된 전자 디바이스 패키지와,
    상기 전자 디바이스 패키지가 발진자로서 전기적으로 접속되는 집적 회로
    를 구비하고, 상기 전자 디바이스 패키지에 포함되는 전자 디바이스는 압전 진동편인 발진기.
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