JPH05199056A - 圧電振動子の製造方法 - Google Patents

圧電振動子の製造方法

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JPH05199056A
JPH05199056A JP2583092A JP2583092A JPH05199056A JP H05199056 A JPH05199056 A JP H05199056A JP 2583092 A JP2583092 A JP 2583092A JP 2583092 A JP2583092 A JP 2583092A JP H05199056 A JPH05199056 A JP H05199056A
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Shigeru Kizaki
茂 木崎
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 支持部材14と蓋15とを接触させ、しかる
後に真空中、あるいは不活性ガス中にて直流電圧を両者
に印加し、陽極接合を行うことにより、支持部材と蓋と
を気密封止する。 【効果】 接合材を溶融させること無く支持部材と蓋と
の接合が可能なため、ガス発生がなく、経時変化の少な
い高安定な圧電振動子が得られる。さらに、圧電振動子
容器の小型化、薄型化が実現できる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、水晶振動子などの圧電
振動子を真空中あるいは不活性ガス中にて封止する気密
容器の封止方法と、圧電振動子片と支持部材との支持固
定方法とに関するものであり、とくに表面実装に適する
高安定、高品質な薄型の圧電振動子の製造方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】従来の圧電振動子の製造方法を、図3の
断面図を用いて説明する。以下の説明においては、圧電
振動子として、水晶振動子を例に説明する。
【0003】セラミックスからなる第1の支持部材11
上に導体膜19を形成し、その後第2の支持部材13を
接合して一体のセラミックス基板からなる支持部材14
を得る。
【0004】圧電振動子片17は、第1の支持部材11
に形成した導体膜19上に、導電性接着剤21を用いて
支持固定する。
【0005】しかる後にガラスや、セラミックスなどか
らなる蓋15を、真空中もしくは不活性ガス中にて、ハ
ンダや低融点ガラスなどからなるの接合材33を用い
て、温度200〜280℃に加熱し、支持部材14と蓋
15とを接合して気密封止を行っている。
【0006】図3を用いた気密封止方法では、支持部材
14と蓋15とを、たとえば接合材33にハンダを用い
て気密封止するときは、支持部材14と蓋15とにハン
ダとの濡れ性が良い材料からなる被接合層31を形成す
る。さらに接合材33を、支持部材14と蓋15との両
方、もしくはいずれか一方の被接合層31上に形成して
おく。このハンダからなる接合材33の形成方法として
は、湿式、あるいは乾式めっき法や、デイッピング法が
用いられる。
【0007】その後に真空中にて、ハンダを溶融して、
支持部材14と蓋15とを気密封止するものである。
【0008】一方、支持部材14に収納する圧電振動子
片17は、銀を混合した有機系の導電性接着剤21を用
いて、導体膜19に電気的接続と支持固定とを兼ねて接
着している。このとき、導電性接着剤21は、前述の気
密封止処理時の加熱温度である200〜280℃に耐え
ねばならない。
【0009】そこで、導電性接着剤21は、耐熱性が高
いポリイミド系の接着剤を用いている。このポリイミド
系の導電接着剤は、300℃以上の耐熱性を備えいる。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】近年、水晶振動子を用
いる電子製品、たとえば携帯電話などの通信機器におい
ては、水晶振動子に対し小型化、低消電化、表面実装型
化のみならず高安定化、つまり振動周波数の経時変化特
性は、1年間に1ppm以下のレベルが求められてい
る。しかし、従来の製造方法においては、この要求を満
足するには、下記の点で問題を有している。
【0011】図3を用いて説明した従来の製造方法で
は、前述のように、支持部材14と蓋15との接合を、
接合材33を用いて行っている。このため、気密封止の
接合材33として、ハンダや低融点ガラスを用いると、
気密封止工程において、接合材33自身からの放出ガス
が気密容器内に閉じ込められる。このため接合材33か
らの放出ガスにより水晶振動子特性を劣化させる。
【0012】この接合材33からの放出ガスの原因は、
ハンダを湿式めっきで製造する際、有機物が接合材33
に混入し、低融点ガラスではバインダに有機物が使用さ
れているためである。
【0013】図3に示す製造方法では、真空中や不活性
ガス中で気密封止しても、上記のように接合材33から
の放出ガスにより、圧電振動子片17に有機物が付着す
る。このため振動周波数の経時変化は、要求仕様である
1年間に1ppm以下の特性は実現できず、現状では1
年間に5〜10ppm程度の経時変化特性となってい
る。
【0014】さらに特性劣化は、上述の振動周波数の経
時変化だけではない。たとえば真空中にて測定する水晶
振動子特性の直列等価抵抗が20Ωの音叉型水晶振動子
を、上記の製造方法で接合材33としてハンダを用いて
気密封止した場合、直列等価抵抗は50Ωとなる。
【0015】この直列等価抵抗値の変化は、接合材33
からの放出ガスが、気密容器内の真空度を劣化させるた
めで、直列等価抵抗が真空度に大きく依存する音叉型水
晶振動子では、安定した特性を維持することができな
い。
【0016】さらに放出ガスは接合材33からだけでな
く、圧電振動子片17を導体膜19に支持固定する導電
性接着剤21からも放出される。
【0017】とくに表面実装型部品では、プリント基板
に各部品を実装する際、クリームハンダを用い、リフロ
ー炉の260℃の温度を数十秒通過させて、クリームハ
ンダを溶融させてハンダ付けを行う。
【0018】このため加熱処理によって、有機系の導電
性接着剤21からガス放出現象が発生し、水晶振動子の
経時変化特性や、直列等価抵抗値を劣化させる。
【0019】上記の説明のように、水晶振動子の製造過
程において、構成材料に有機物材料を用いたり、構成材
料に有機物が含有していると、この有機系材料からの放
出ガスが水晶振動子特性を劣化さる。とくに経時変化特
性を、1年間に1ppm以下に抑制することは困難であ
る。
【0020】したがって、表面実装に対応可能な薄型フ
ラット容器では、支持部材14と蓋15との封止方法
や、支持部材14と圧電振動子片17との支持固定方法
に良い方法が見いだせず、表面実装型の高安定水晶振動
子では、安価な製品を提供することができない。
【0021】そこで、本発明の目的とするところは、上
記課題を解決して、気密容器の気密封止工程においてガ
ス放出がなく、さらに圧電振動子片の支持固定材料から
のガス放出が発生しない圧電振動子の製造方法を提供す
ることである。
【0022】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
本発明の圧電振動子の製造方法は下記記載の方法を採用
する。
【0023】支持部材と蓋とを真空中もしくは不活性ガ
ス中にて接合する気密封止方法は、支持部材と蓋との間
に直流電圧を印加し、支持部材と蓋とを陽極接合するこ
とを特徴とする。
【0024】圧電振動子片と支持部材との接合方法は、
圧電振動子片と支持部材との間に直流電圧を印加し、圧
電振動子片と支持部材とを陽極接合することを特徴とす
る。
【0025】
【実施例】本発明の実施例を以下図面に基づき説明す
る。図1は本発明における支持部材と蓋との気密封止方
法の実施例を示す斜視図である。
【0026】蓋15の材料としては、ガラスセラミック
スを用いる。この蓋15の上にスパッタリング法によ
り、クロム(Cr)とシリコン(Si)からなる接合膜
23を全面に形成する。なお、この接合膜23は、蓋1
5の全面に形成せず、支持部材14と蓋15との接合面
にのみ形成しても良い。
【0027】クロムは蓋15と接合膜23との密着性を
確保するために形成する。したがって、密着性が得られ
れば、クロムの形成は省略することができる。
【0028】接合膜23を構成するシリコンとしては、
多結晶シリコンや、非晶質シリコンや、窒化シリコンを
用いる。シリコンにボロンなどの不純物を導入すると、
以下に説明する支持部材14と蓋15との接合における
信頼性が向上する効果を有する。
【0029】一方、支持部材14の材料としては、ガラ
スセラミックスを用いる。
【0030】蓋15と支持部材14とは、気密封止後に
歪が発生しないよう、それぞれの熱膨張係数を一致させ
ることが必要である。
【0031】その後、図2に示すように支持部材14に
圧電振動子片17を支持固定する。
【0032】その後、蓋15と支持部材14とを密着さ
せ、しかる後に真空中もしくは不活性ガス中にて、直流
電源26により、蓋15に直流の正電圧電極25と、支
持部材14に負電圧電極27とを接続する。
【0033】負電圧電極27側には、加熱機構を設け、
100〜400℃程度の温度に加熱する。
【0034】正電圧電極25と負電圧電極27との両電
極間に、数十から数百ボルトの直流電圧を数十秒間印加
する。この直流電源26からの直流電圧は、パルス状の
電圧でも良い。
【0035】この直流電圧の印加により、蓋15に形成
したシリコンと支持部材14のガラスとが接合し、支持
部材14と蓋15とが気密封止される。
【0036】本発明の支持部材14と蓋15との気密封
止を行う接合方法は、陽極接合と言われる。
【0037】シリコンとガラスとが接合に至るメカニズ
ムは、シリコンとガラスとの表面どうしを密着させ、ガ
ラス側に数百Vの負電圧を印加すると、ガラスとシリコ
ンとの間に大きな静電引力が生じる。このため支持部材
14と蓋15とが気密封止することができる。
【0038】なお上記の陽極接合の組み合わせる材料
は、蓋15にシリコン、支持部材14にガラスセラミッ
クスを用いる例で説明したが、支持部材14をガラスセ
ラミックスで形成せず、支持部材14の蓋15との接合
面にガラス層、たとえば低融点ガラスを形成しても良
い。
【0039】上記の説明では、蓋15にシリコンを形成
し、支持部材14をガラスセラミックスとしたが、その
逆の構成、すなわち蓋15をガラスとし、支持部材14
にシリコンを形成する組み合わせでも、気密封止を行う
ことは可能である。ただし、この場合は、正電圧電極2
5と負電圧電極27との接続を逆にする。すなわち、支
持部材14に正電圧電極25、蓋15に負電圧電極をそ
れぞれ接続する。
【0040】またさらに、上記実施例の説明では、接合
膜23としてシリコン薄膜を使用したが、蓋15や支持
部材14としてシリコン基板を用いても良い。
【0041】本発明による水晶振動子容器の気密封止方
法では、蓋15と支持部材14との接合に、従来必要で
あったハンダや低融点ガラスなどの接合材が不要であ
る。さらに気密封止時に、従来のように、接合材を溶融
させていないため、接合時におけるガスの発生はない。
【0042】支持部材14と蓋15とを接合するとき、
100〜400℃程度の加熱を行うが、接合時間が数十
秒と短時間のため、ガス発生は抑えられる。さらに、気
密封止後の耐熱性は、ハンダや低融点ガラスなどの接合
材を使用していないので、高いという利点を有する。
【0043】以上の説明は支持部材14と蓋15との気
密封止に、本発明の製造方法を適用する実施例である
が、本発明の製造方法は支持部材と圧電振動子片との接
合にも適用可能である。この実施例を図4を用いて説明
する。
【0044】図4は、本発明の製造方法を圧電振動子片
の支持固定に適用した実施例を示す断面図である。
【0045】圧電振動子片17には、クロムとシリコン
との接合膜35を形成する。支持部材14はガラスセラ
ミックス、もしくはガラスで構成する。前述のように、
クロムは、圧電振動子片17とシリコンとの密着性が確
保できれば、クロムの形成は省略できる。
【0046】圧電振動子片17を支持部材14上に配置
し、しかる後圧電振動子片17側に正電圧電極25、支
持部材14側に負電圧電極27を、直流電源26から接
続する。
【0047】その後、直流電源26から数百ボルトの電
圧を数十秒間印加して、圧電振動子片17のシリコンと
支持部材14のガラスとを陽極接合して、圧電振動子片
17と支持部材14とを接合する。
【0048】この接合方法によれば、従来使用していた
有機系の導電性接着剤を使用していない。このため、圧
電振動子片17と支持部材14とを接合後、加熱処理を
行っても、ガスの発生は皆無である。
【0049】この圧電振動子片17と支持部材14との
接合において、前述の気密封止方法と同様に、圧電振動
子片17側にガラス層、支持部材14側にシリコンを、
それぞれ形成しても同様の効果が得られる。
【0050】本発明の他の実施例を図5に示す。図5
は、圧電振動子片17と、この圧電振動子片17の枠1
7aとが一体の枠付き水晶振動子に、本発明の製造方法
を適用した実施例を示す断面図である。
【0051】圧電振動子片17の枠17aに、クロムと
シリコンからなる接合膜35を、表裏両面に形成する。
その後ガラスセラミックスからなる蓋15を、圧電振動
子片17の両面に配置し、接合膜35と蓋15との間に
直流電圧を印加して、気密封止を行う。
【0052】
【発明の効果】以上の説明で明らかなように、シリコン
とガラスとの陽極接合を水晶振動子の気密封止と、圧電
振動子片の支持固定とに適用すれば、ガス発生が生じる
ことなく気密封止が可能であり、さらに気密封止後加熱
処理を行っても、圧電振動子片の固定部からガス発生も
ない。
【0053】したがって、経時変化特性が極めて少ない
高安定な水晶振動子が得られる。さらに、音叉型水晶振
動子のように、真空度に直列等価抵抗値が依存する水晶
振動子においては、ガス発生がないので、気密容器内の
真空度が劣化せず、安定した特性を有する水晶振動子を
製造することができる。
【0054】本発明により、表面実装型の薄型容器の製
造が可能となり、各種電子機器の小型化に大きく寄与で
きるものである。
【0055】なお、本発明を水晶振動子をもって説明し
たが、発振器やフイルターなどにも本発明の製造方法
は、応用可能である。
【0056】またさらに、以上の製造方法は、単個処理
でも良いが、1枚の基板に複数の支持部材、あるいは蓋
を形成し、基板の状態で両者を接合し、その後ダイシン
グなどの手段で単個に分離しても良い。
【0057】このように複数個処理を図5に示した製造
方法に適用すると、製造工程が大幅に簡略化される。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施例における圧電振動子の製造方法
を示す斜視図である。
【図2】本発明の実施例における圧電振動子の製造方法
を示す断面図である。
【図3】従来例における圧電振動子の製造方法を示す断
面図である。
【図4】本発明の実施例における圧電振動子の製造方法
を示す断面図である。
【図5】本発明の実施例における圧電振動子の製造方法
を示す断面図である。
【符号の説明】
14 支持部材 15 蓋 17 圧電振動子片 23 接合膜 35 接合膜

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 支持部材と蓋とを真空中もしくは不活性
    ガス中にて接合する気密封止方法において、前記支持部
    材と蓋との間に直流電圧を印加し、前記支持部材と蓋と
    を陽極接合することを特徴とする圧電振動子の製造方
    法。
  2. 【請求項2】 請求項1記載の圧電振動子の製造方法に
    おいて、支持部材と蓋とのいずれか一方には、シリコン
    を含む接合膜を形成し、他方はガラス、セラミックス、
    あるいはガラスセラミックスからなることを特徴とする
    圧電振動子の製造方法。
  3. 【請求項3】 請求項1記載の圧電振動子の製造方法に
    おいて、支持部材と蓋とのいずれか一方は、シリコンで
    形成することを特徴とする圧電振動子の製造方法。
  4. 【請求項4】 圧電振動子片と支持部材との接合方法に
    おいて、前記圧電振動子片と支持部材との間に直流電圧
    を印加し、前記圧電振動子片と支持部材とを陽極接合す
    ることを特徴とする圧電振動子の製造方法。
  5. 【請求項5】 請求項4記載の圧電振動子の製造方法に
    おいて、支持部材と圧電振動子片とのいずれか一方には
    シリコンを含む接合膜を形成し、他方はガラス、セラミ
    ックス、あるいはガラスセラミックスからなることを特
    徴とする圧電振動子の製造方法。
  6. 【請求項6】 請求項4に記載の圧電振動子の製造方法
    において、支持部材はシリコンで形成し、圧電振動子片
    にガラス層を形成することを特徴とする圧電振動子の製
    造方法。
  7. 【請求項7】 請求項4、5記載の圧電振動子の製造方
    法においてシリコンを含む接合膜は多結晶シリコン、非
    晶質シリコン、あるいは窒化シリコンからなることを特
    徴とする圧電振動子の製造方法。
  8. 【請求項8】 請求項1記載の圧電振動子の製造方法に
    おいて支持部材と蓋とのいずれか一方には、ガラス層を
    形成することを特徴とする圧電振動子の製造方法。
  9. 【請求項9】 請求項4記載の圧電振動子の製造方法に
    おいて圧電振動子片に枠を設け該枠にシリコンを含む接
    合膜を形成し、その後前記枠の表裏両面に蓋を配置し、
    前記蓋と接合膜との間に直流電圧を印加して、前記蓋と
    圧電振動子片の枠とを陽極接合することを特徴とする圧
    電振動子の製造方法。
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