KR101770579B1 - 전기 부품에 사용하기 위한, 고주파에서 낮은 유전 손실을 갖는 열경화성 수지 시스템 - Google Patents

전기 부품에 사용하기 위한, 고주파에서 낮은 유전 손실을 갖는 열경화성 수지 시스템 Download PDF

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Abstract

본 발명은 2종 이상의 벤족사진 단량체 화합물들을 포함하는 벤족사진 성분, 및 적어도 하나의 에폭시 수지를 포함하는 열경화성 수지 조성물을 제공하며, 상기 열경화성 수지 조성물을 경화시킴으로써 형성된 경화물은 높은 내열성 및 고주파에서 낮은 유전 손실을 가짐을 특징으로 한다. 상기 열경화성 수지 조성물은 고속 인쇄 회로 기판 및 반도체 디바이스에 사용하기에 특히 적합하다.

Description

전기 부품에 사용하기 위한, 고주파에서 낮은 유전 손실을 갖는 열경화성 수지 시스템 {LOW DIELECTRIC LOSS THERMOSET RESIN SYSTEM AT HIGH FREQUENCY FOR USE IN ELECTRICAL COMPONENTS}
관련 출원에 관한 상호 참조
본 출원은 2010년 3월 5일자로 출원된 미국 특허 출원 제61/310,913호에 대해 우선권을 주장하며, 이는 본 명세서에 참조로서 인용된다.
정부 지원 연구 또는 개발에 대한 성명
해당 없음.
기술분야
본 발명은 벤족사진계 열경화성 수지 조성물; 및 다양한 분야에서의, 예를 들면, 프리프레그(prepreg), 인쇄 배선판용의 라미네이트된 판(laminated board), 성형 재료, 및 접착제의 제조에서의 이의 용도에 관한 것이다.
승온에 대한 개선된 내성 뿐만 아니라 낮은 유전 손실을 갖는 수지 조성물로부터 제조된 제품(article)은 다수의 분야에 바람직하다. 특히, 산업이 더 높은 회로 밀도, 증가된 보드 두께, 무연 땜납, 더 높은 온도 및 더 높은 주파수 사용 환경으로 향하고 있기 때문에, 이러한 제품은 인쇄 회로 기판(PCB) 및 반도체 분야를 위한 프리프레그 및 라미네이트(laminate)에 바람직하다.
라미네이트, 특히, 구조적 전기적 구리 클래드 라미네이트는, 일반적으로, 부분적으로 경화된 프리프레그의 다양한 층들을 승온 및 압력하에 가압하고 임의로 동판화(copper sheeting)함으로써 제조된다. 프리프레그는 일반적으로, 경화성 열경화성 에폭시 수지 조성물을 다공성 기판, 예를 들면, 유리 섬유 매트 내로 함침시킨 다음, 승온에서 가공하여 상기 매트 중의 상기 에폭시 수지의 부분적 경화를 "B-스테이지(B-stage)"로 촉진시킴으로써 제조된다. 유리 섬유 매트에 함침된 에폭시 수지의 완전한 경화는, 프리프레그 층이 고압 및 승온하에 특정한 기간의 시간 동안 가압되는 라미네이션 단계 동안 발생한다.
에폭시 수지 조성물은 프리프레그 및 라미네이트의 제조에 대해 향상된 열적 특성들을 부여하는 것으로 알려져 있지만, 이러한 에폭시 수지 조성물은 통상적으로 가공이 더 어렵고, 제형화 비용이 더 비싸며, 복잡한 인쇄 회로 기판 회로망 및 보다 높은 제작 및 사용 온도에 대한 보다 열등한 성능들로 인해 어려움을 겪을 수 있다.
상기 사항을 고려하면, 개선된 열적 특성 및 고주파에서의 낮은 유전 손실을 갖는 제품을 제조하는데 사용될 수 있는 수지 조성물 및 이러한 제품의 제조 방법이 당해 분야에서 요구된다.
본 발명은 열경화성 수지 조성물을 제공하며,
상기 열경화성 수지 조성물은,
(a) 2종 이상의 벤족사진 단량체 화합물들을 포함하는 벤족사진 성분; 및
(b) 적어도 하나의 에폭시 수지를 포함하고,
상기 열경화성 수지 조성물은, 당해 열경화성 수지 조성물을 경화시킴으로써 형성된 경화물이, 하기 균형 잡힌 특성들: (1) 약 170℃를 초과하는 유리 전이 온도(Tg); (2) 약 300℃를 초과하는 분해 온도(Td); (3) 약 1분을 초과하는, 288℃에서의 박리 시간(T288); (4) 적어도 V1의 UL94 난연성 등급; (5) 10GHz에서 약 0.010 미만의 유전 손실 탄젠트; 및 (6) 10GHz에서 약 4.00 미만의 유전 손실 상수 중의 적어도 2개 이상을 포함함을 특징으로 한다.
본 발명의 또 다른 측면은 프리프레그 또는 금속-피복된 호일을 수득하기 위한 상기 열경화성 수지 조성물의 용도; 및 프리프레그 및/또는 금속-피복된 호일을 라미네이트함으로써 수득된 라미네이트에 관한 것이다.
특정한 양태에 따라, 본 명세서에 공지된 열경화성 수지 조성물은 실질적으로 할로겐을 함유하지 않거나 또는 할로겐을 함유하지 않는다. 본 명세서에서 사용되는 "실질적으로 할로겐을 함유하지 않는"은, 최종 조성물에 임의의 공유 결합된 할로겐 그룹을 포함하지 않지만, 임의의 잔류 할로겐화 용매 중에 존재하는 잔류 할로겐의 최소량을 포함할 수 있거나 또는 상기 조성물을 합성 및/또는 저장하는데 사용되는 임의의 용기 또는 유리그릇으로부터 침출된 잔류량의 할로겐을 포함할 수 있는 조성물을 의미한다. 특정한 예에서, 실질적으로 할로겐을 함유하지 않는은, 최종 조성물 중의 약 0.12중량% 미만의 총 할로겐 함량, 보다 특히 최종 조성물 중의 약 0.09중량% 미만의 총 할로겐 함량을 의미한다. 잔류량의 할로겐이 최종 조성물에 존재할 수 있지만, 상기 잔류량은 상기 최종 조성물에 물리적 특성들, 예를 들면, 난연성, 박리 강도, 유전 특성 등을 부여하거나 철회하지 않는다. 또한, 존재하는 할로겐의 임의의 잔류량은, 발화 동안, 포유동물, 예를 들면, 사람에 대해 건강상 유해한 것으로 여겨지는 다이옥신 또는 기타 독성 성분들을 주목할만한 양으로 유발하지 않는다.
본 발명의 개시 내용의 혜택이 제공된다면, 상기 열경화성 수지 조성물 및 상기 열경화성 수지 조성물을 사용하여 제조된 제품이 당해 분야 조성물의 최신 기술 상태에 의해서는 달성되지 않는 뚜렷한 이점들을 제공한다는 것을 당해 분야의 숙련가는 인식할 수 있을 것이다. 상기 열경화성 수지 조성물은, 특히 고주파에서 난연성 및/또는 우수한 전기적 특성을 갖는 단층 또는 다층 제품을 사용하는 것이 바람직할 수 있는 고밀도 회로 배선 분야 및 다른 적합한 분야를 위한, 라미네이트, 인쇄 회로 기판, 성형된 제품, 항공기 플라스틱, 실리콘 칩 캐리어, 구조적 복합재, 수지 피복된 호일, 보강되지 않은 기판을 포함하지만 이에 한정되지 않는 다양한 단층 및 다층 제품들의 조립체에서 사용될 수 있다.
하나의 측면에 따라, 본 발명은, (a) 2종 이상의 벤족사진 단량체 화합물들을 포함하는 벤족사진 성분; 및 (b) 적어도 하나의 에폭시 수지를 포함하는 열경화성 수지 조성물에 관한 것으로, 상기 열경화성 수지 조성물은, 당해 열경화성 수지 조성물을 경화시킴으로써 형성된 경화물이, 하기 균형 잡힌 특성들: (1) 약 170℃를 초과하는 유리 전이 온도(Tg); (2) 약 300℃를 초과하는 분해 온도(Td); (3) 약 1분을 초과하는, 288℃에서의 박리 시간(T288); (4) 적어도 V1의 UL94 난연성 등급; (5) 10GHz에서 약 0.010 미만의 유전 손실 탄젠트; 및 (6) 10GHz에서 약 4.00 미만의 유전 손실 상수 중의 적어도 2개 이상을 포함함을 특징으로 한다.
벤족사진 성분
본 발명의 열경화성 수지 조성물은 2종 이상의 벤족사진 단량체 화합물들을 포함하는 벤족사진 성분을, 상기 열경화성 수지 조성물 100중량부 당 약 10 내지 90중량부, 바람직하게는 약 30 내지 50중량부, 더욱 바람직하게는 약 35 내지 45중량부 포함한다. 본 명세서에서 사용되는 "벤족사진 단량체"는 적어도 하나의 치환되거나 치환되지 않은 벤족사진 그룹을 갖는 단량체를 의미한다. 상기 벤족사진 단량체는 일관능성, 이관능성 또는 또는 삼관능성 벤족사진 화합물일 수 있다.
벤족사진 단량체는 하기 화학식으로 나타낼 수 있다.
화학식
Figure 112012080375325-pct00001
위의 화학식에서,
b는 1 내지 3의 정수이고;
R은 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20알킬 그룹, 치환되거나 치환되지 않은 C2-C20알케닐 그룹, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C20아릴 그룹, 치환되거나 치환되지 않은 C2-C20헤테로아릴 그룹, 치환되거나 치환되지 않은 C4-C20카보사이클릭 그룹, 치환되거나 치환되지 않은 C2-C20헤테로사이클릭 그룹, 또는 C3-C10사이클로알킬 그룹이고;
R1은 수소, 알킬 그룹 또는 알케닐 그룹이고;
Z는 직접 결합(b=2일 때), 치환되거나 치환되지 않은 C1-C20알킬렌 그룹, 치환되거나 치환되지 않은 C6-C20아릴렌 그룹, 치환되거나 치환되지 않은 C2-C20헤테로아릴렌 그룹, 또는 C=O이다.
하나의 양태에서, 벤족사진 단량체들 중의 적어도 하나는 화학식 I의 화합물이고 벤족사진 단량체의 적어도 다른 하나는 화학식 II의 화합물이다.
화학식 I
Figure 112012080375325-pct00002
화학식 II
Figure 112012080375325-pct00003
위의 화학식 I 및 II에서,
각각의 R은, 서로 독립적으로, 알릴, 치환되지 않거나 치환된 페닐, 치환되지 않거나 치환된 C1-C8알킬, 또는 치환되지 않거나 치환된 C3-C8사이클로알킬이고,
n은 0 내지 5의 정수이다.
R-그룹에 적합한 치환체는 아미노, C1-C4알킬 및 알릴을 포함한다. 1 내지 4개의 치환체가 R-그룹에 존재할 수 있다. 바람직하게는, R-그룹들은 동일하고, 더욱 바람직하게는 페닐이다.
화학식 I의 벤족사진 단량체 화합물과 화학식 II의 벤족사진 단량체 화합물의 상대적인 양은 90:10 내지 10:90(중량:중량), 바람직하게는 70:30 내지 30:70(중량:중량), 더욱 바람직하게는 60:40 내지 40:60(중량:중량), 더욱 더 바람직하게는 약 50:50(중량:중량)일 수 있다.
사용될 수 있는 벤족사진 단량체 화합물의 예는 헌츠만 어드밴스드 매터리얼 아메리카스 엘엘씨.(Huntsman Advanced Materials Americas LLC.), 조지아 퍼시픽 레진스 인크.(Georgia Pacific Resins Inc.) 및 시코쿠 케미칼스 코포레이션(Shikoku Chemicals Corporation)을 포함한 몇몇 공급원으로부터 구입 가능한 것들을 포함한다. 벤족사진 단량체 화합물은 또한, 페놀계 화합물, 예를 들면, 비스페놀 A 또는 페놀프탈레인 또는 디사이클로펜타디엔 노볼락을 알데히드, 예를 들면, 포름알데히드, 및 1급 아민과, 물이 제거되는 조건하에 반응시킴으로써 수득할 수 있다. 페놀계 화합물 대 알데히드의 몰 비는 약 1:3 내지 1:10, 바람직하게는 약 1:4: 내지 1:7, 더욱 바람직하게는 약 1:4.5 내지 1:5일 수 있다. 페놀계 화합물 대 1급 아민 반응물의 몰 비는 약 1:1 내지 1:3, 바람직하게는 약 1:1.4 내지 1:2.5, 더욱 바람직하게는 약 1:2.1 내지 1:2.2일 수 있다. 1급 아민의 예는 방향족 모노- 또는 디-아민, 지방족 아민, 사이클로지방족 아민 및 헤테로사이클릭 모노아민; 예를 들면, 아닐린, o-, m- 및 p-페닐렌 디아민, 벤지딘, 4,4'-디아미노디페닐 메탄, 사이클로헥실아민, 부틸아민, 메틸아민, 헥실아민, 알릴아민, 푸르푸릴아민 에틸렌디아민 및 프로필렌디아민을 포함한다. 아민은, 각각의 탄소 부분에서, C1-C8알킬 또는 알릴에 의해 치환될 수 있다. 바람직한 1급 아민은 화학식 RaNH2에 따르고, 여기서 Ra는 알릴, 치환되지 않거나 치환된 페닐, 치환되지 않거나 치환된 C1-C8알킬, 또는 치환되지 않거나 치환된 C3-C8사이클로알킬이다. Ra 그룹에 적합한 치환체는 아미노, C1-C4알킬 및 알릴을 포함한다. 통상적으로, 1 내지 4개의 치환체가 Ra 그룹에 존재할 수 있다. 바람직하게는 Ra는 페닐이다.
에폭시 수지
본 발명의 열경화성 수지 조성물은 또한 적어도 하나의 에폭시 수지를 상기 열경화성 수지 조성물 100중량부 당 약 2 내지 60중량부, 바람직하게는 약 10 내지 40중량부 포함한다.
본 발명에서 사용하기 위한 에폭시 수지는 특별히 제한되지는 않지만, 바람직하게는 하나의 분자에 2종 이상의 에폭시 그룹을 갖는 에폭시 수지이다. 이의 예는, 산성 촉매의 존재하에 페놀, 크레솔, 크실레놀, 레소르신, 카테콜, 비스페놀 A, 또는 비스페놀 F와 같은 페놀 및/또는 α-나프톨, β-나프톨, 또는 디하이드록시나프탈렌과 같은 나프톨을, 포름알데히드, 아세트알데히드, 프로피온알데히드, 벤즈알데히드 또는 살리실 알데히드과 같은 화합물을 포함하는 알데히드 그룹에 의해 축합 또는 공축합시킴으로써 수득된 노볼락 수지를 에폭시화시킴으로써 제조된 노볼락 에폭시 수지, 예를 들면, 페놀성 노볼락 에폭시 수지 및 오르토-크레솔 노볼락 에폭시 수지; 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S, 알킬-치환되거나 치환되지 않은 비페놀, 스틸벤계 페놀 등(비스페놀 에폭시 수지, 비페닐 에폭시 수지 및 스틸벤 에폭시 수지)의 디글리시딜 에테르, 및 부탄디올, 폴리에틸렌 글리콜 또는 폴리프로필렌 글리콜과 같은 알코올의 글리시딜 에테르; 프탈산, 이소프탈산, 테트라하이드로프탈산 등과 같은 카복실산을 사용하여 제조된 글리시딜 에스테르 에폭시 수지; 예를 들면, 아닐린 또는 이소시아누르산의 질소 원자를 갖고, 이에 결합된 활성 수소가 글리시딜 그룹으로 치환되는, 글리시딜 또는 메틸글리시딜 에폭시 수지; 올레핀 결합의 분자내 에폭시화에 의해 수득되는 지환식 에폭시 수지, 예를 들면, 비닐사이클로헥센 디에폭사이드, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥산카복실레이트, 및 2-(3,4-에폭시)사이클로헥실-5,5-스피로(3,4-에폭시)사이클로헥산-m-디옥산; 파라-크실렌 및/또는 메타 크실렌-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르; 테르펜-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르; 디사이클로펜타디엔-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르; 사이클로펜타디엔-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르; 폴리사이클릭 방향족 환-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르; 나프탈렌 환-함유 페놀 수지의 글리시딜 에테르; 할로겐화 페놀성 노볼락 에폭시 수지; 하이드로퀴논 에폭시 수지; 트리메틸올프로판 에폭시 수지; 올레핀 결합을 과아세트산과 같은 과산으로 산화시킴으로써 수득한 직쇄형 지방족 에폭시 수지; 디페닐메탄 에폭시 수지; 페놀 아르알킬 수지 및 나프톨 아르알킬 수지와 같은 아르알킬 페놀 수지의 에폭사이드; 황 원자-함유 에폭시 수지; 및 나프탈렌 에폭시 수지를 포함하고, 이들 수지는 단독으로 또는 2종 이상의 배합물로서 사용될 수 있다.
촉매
상기 열경화성 수지 조성물은 보다 효과적인 경화를 위해 촉매를 추가로 함유할 수 있다. 따라서, 또 다른 측면에서, 상기 열경화성 수지 조성물은 또한 촉매를 상기 열경화성 수지 조성물 100중량부 당 약 0.1 내지 50중량부, 바람직하게는 약 0.5 내지 45중량부 함유한다.
사용하기에 적합한 촉매의 예는 아민 화합물, 아민 화합물로부터 제조된 화합물, 3급 아민 화합물, 이미다졸 화합물, 하이드라지드 화합물, 멜라민 화합물, 산 무수물, 페놀계 화합물, 시아네이트 에스테르 화합물, 디시안디아미드, 및 이들의 혼합물을 포함한다.
아민 화합물의 예는 에틸렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라민, 테트라에틸렌펜타민, 디에틸아미노프로필아민, 메틸렌디아닐린, 벤질메틸아민, 폴리옥시프로필렌디아민, 폴리옥시프로필렌트리아민, 사이클로지방족 아민 및 이들의 유도체, 예를 들면, 멘텐디아민, 이소포론디아민, 비스(4-아미노-3-메틸사이클로헥실)메탄, 디아미노디사이클로헥실메탄, 비스(아미노메틸)사이클로헥산, 및 N-아미노에틸피페라진, m-크실렌디아민, 디아미노디페닐 설폰, m-페닐렌디아민 및 α-(m/p-아미노페닐)에틸아민을 포함하지만 이에 한정되지 않는다.
상기 아민 화합물로부터 제조된 화합물의 예는, 아민 화합물 및 카복실산 화합물, 예를 들면, 석신산, 아디프산, 아젤라산, 세박산, 도데칸디옥산, 이소프탈산, 테레프탈산, 디하이드로이소프탈산, 테트라하이드로이소프탈산, 헥사하이드로이소프탈산으로부터 제조된 폴리아미노아미드; 아민 화합물 및 말레이미드 화합물, 예를 들면, 디아미노디페닐메탄-비스말레이미드로부터 제조된 폴리아미노아미드 화합물; 아민 화합물 및 케톤으로부터 제조된 케티민 화합물; 및 아민 화합물 및 다른 화합물, 예를 들면, 에폭시 화합물, 우레아, 티오우레아, 알데히드 페놀 및 아크릴 화합물로부터 제조된 폴리아미노 화합물을 포함하지만 이에 한정되지 않는다.
3급 아민 화합물의 예는 N,N-디메틸피페라진, 피리딘, 피콜린, 벤질디메틸아민, 2-(디메틸아미노에틸)페놀, 2,4,6-트리스(디메틸아미노에틸)페놀 및 1,8-디아자비스사이클로(5,4,0)운데크-7-엔을 포함하지만 이에 한정되지 않는다.
이미다졸 화합물의 예는 1-메틸아미다졸, 2-메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-운데실이미다졸, 2-헵타데실이미다졸 및 2-페닐이미다졸을 포함하지만 이에 한정되지 않는다.
하이드라지드 화합물의 예는 1,3-비스(하이드라지노카보에틸)-5-이소프로필하이단토인, 7,11-옥타데카디엔-1,18-디카보하이드라지드, 에이코산-디에이시드 디하이드라지드 및 아디프산 무수물을 포함하지만 이에 한정되지 않는다.
멜라민 화합물의 예는 2,4-디아미노-6-비닐-1,3,5-트리아진을 포함하지만 이에 한정되지 않는다.
산 무수물의 예는 프탈산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 스티렌 말레산 무수물 공중합체, 피로멜리트산 무수물, 벤조페논테트라카복실산 무수물, 에틸렌 글리콜 비스안하이드로트리멜리테이트, 글리세롤 트리산하이드로트리멜리테이트, 메틸테트라하이드로프탈산 무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물, 나드산 무수물, 메틸나드산 무수물, 트리알크릴테트라하이드로프탈산 무수물, 헥사하이드로프탈산 무수물, 메틸헥사하이드로프탈산 무수물, 폴리아젤라산 무수물 및 클로렌드산 무수물을 포함하지만 이에 한정되지 않는다.
페놀계 화합물의 예는 페놀-노볼락, o-크레솔-노볼락, p-크레솔-노볼락, t-부틸페놀-노볼락, 및 디사이클로펜타디엔 구조를 갖는 크레솔-노볼락을 포함하지만 이에 한정되지 않는다.
시아네이트 에스테르 화합물의 예는 1,1'-비스(4-시아노토페닐)에탄, 비스(4-시아네이트-3,5-디메틸페닐)메탄, 1,3-비스(시아네이토페닐-1-(1-메틸-에틸에틸-에틸리덴)), 2,2'-비스(4-시아노토페닐)이스포프로필리덴을 포함하지만 이에 한정되지 않는 하나 이상의 시아네이트 에스테르 관능성 그룹, -OCN을 갖는 화합물을 포함한다.
난연제
또 다른 측면에서, 상기 열경화성 수지 조성물은 포스폰산화 난연제를 추가로 포함한다. 특정한 양태에서, 상기 열경화성 수지 조성물은 포스폰산화 난연제를 상기 열경화성 수지 조성물 100중량부 당 약 1중량부 내지 약 20중량부 포함한다. 다른 양태에서, 상기 열경화성 수지 조성물은 포스폰산화 난연제를 상기 열경화성 수지 조성물 100중량부 당 약 4중량부 내지 약 15중량부, 바람직하게는 약 5중량부 내지 약 10중량부 포함한다.
포스폰산화 난연제의 정확한 화학적 형태는 열경화성 수지 조성물에 따라 다양할 수 있다. 예를 들면, 특정한 양태에서, 상기 포스폰산화 난연제는 하기 도시된 바와 같은 화학식 III 내지 V의 화학식을 갖는다.
화학식 III
Figure 112012080375325-pct00004
화학식 IV
Figure 112012080375325-pct00005
화학식 V
Figure 112012080375325-pct00006
위의 화학식 III 내지 V에서,
각각의 R2, R3 및 R4는, 치환되거나 치환되지 않은 알킬, 치환되거나 치환되지 않은 아릴, 치환되거나 치환되지 않은 지환식, 및 질소, 산소 및/또는 인을 포함하는 치환되거나 치환되지 않은 헤테로사이클릭 그룹으로 이루어진 그룹으로부터 독립적으로 선택될 수 있고,
a는 1 내지 20의 정수이다.
사용될 수 있는 구입 가능한 재료의 예는, 암모니아 폴리포스페이트, 예를 들면, Exolit APP-422 및 APP-423(클라리안트(Clariant)로부터 구입 가능함), 및 Antiblaze® MC 난연제(알베말(Albemarle)로부터 구입 가능함); 멜라민 폴리포스페이트, 예를 들면, Melapurg-200 및 Melapurg-MP(시바(Ciba)로부터 구입 가능함) 및 Fyrol(V-MP)(아크조 노벨(Akzo Nobel)로부터 구입 가능함); 유기 포스페이트, 예를 들면, OP-930 및 OP-1230(클라리안트로부터 구입 가능함) 및 폴리페닐렌 포스페이트, 예를 들면, Fyrol PMP(아크조 노벨로부터 구입 가능함)를 포함하지만 이에 한정되지 않는다.
임의의 첨가제
열경화성 수지 조성물은 또한, 필요한 경우, 강도, 이형성, 내가수분해성, 전기전도성 및 기타 특성들을 증대시키기 위한 첨가제를 포함할 수 있다. 첨가제는 상기 열경화성 수지 조성물 100중량부 당 약 50중량부 미만, 바람직하게는 약 30중량부 미만, 가장 바람직하게는 약 20중량부 미만의 양으로 상기 열경화성 수지 조성물에 첨가될 수 있다.
이러한 임의의 첨가제는 비활성의 미립자 충전재, 예를 들면, 활석, 점토, 운모, 실리카, 알루미나 및 탄산칼슘을 포함할 수 있다. 또한 직물 습윤성 개선제(예를 들면, 습윤제 및 커플링제)가 특정한 조건하에 이로울 수 있다. 추가로, 항산화제, 열 및 자외선 안정제, 윤활제, 대전방지제, 미립구 또는 중공구, 염료 및 안료와 같은 물질이 또한 존재할 수 있다.
유기 용매
몇몇 양태에서, 상기 열경화성 수지 조성물은 유기 용매 중에 용해되거나 분산될 수 있다. 용매의 양은 한정되지 않지만, 통상적으로 적어도 30% 내지 90% 이하의 고체, 바람직하게는 약 55% 내지 약 85%의 고체, 더욱 바람직하게는 약 60% 내지 약75%의 고체의, 용매 중 고체 농도를 제공하기에 충분한 양이다.
유기 용매는 특별히 제한되지 않고, 케톤, 방향족 탄화수소, 에스테르, 아미드 또는 알코올일 수 있다. 보다 특히, 사용될 수 있는 유기 용매의 예는 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 사이클로헥산온, 톨루엔, 크실렌, 메톡시에틸 아세테이트, 에톡시에틸 아세테이트, 부톡시에틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, N-메틸피롤리돈 포름아미드, N-메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 메탄올, 에탄올, 에틸렌 글리콜, 에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 디에틸렌 글리콜, 트리에틸렌 글리콜 모노메틸 에테르, 트리에틸렌 글리콜 모노에틸 에테르, 트리에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜 모노메틸 에테르, 디프로필렌 글리콜 모노에틸 에테르, 프로필렌 글리콜 모노프로필 에테르, 디프로필렌 글리콜 모노프로필 에테르, 및 이들의 혼합물을 포함한다.
본 발명의 열경화성 수지 조성물은 공지된 방식으로 제조할 수 있으며, 예를 들면, 개별 성분들을 미리 혼합한 후 이들 프리믹스를 혼합하거나, 통상적인 장치, 예를 들면, 교반 용기, 교반 막대, 볼 밀, 샘플 믹서, 고정식 믹서 또는 리본 블렌더를 사용하여 모든 성분을 함께 혼합함으로써 제조할 수 있다. 제형화한 다음, 본 발명의 열경화성 수지 조성물을 각종 용기, 예를 들면, 강철, 주석, 알루미늄, 플라스틱, 유리 또는 판지 용기 안에 포장할 수 있다.
또 다른 양태에 따라, 본 발명의 열경화성 수지 조성물은 벤족사진 성분 약 10 내지 90중량부 및 에폭시 수지 약 2 내지 60중량부를 함께 혼합하여 제조한다. 또 다른 양태에서, 상기 열경화성 수지 조성물은, 상기 열경화성 수지 조성물 100중량부 당, 벤족사진 성분 약 10 내지 90중량부, 에폭시 수지 약 2 내지 60중량부, 촉매 약 0.1 내지 50중량부, 포스폰산화 난연제 약 1 내지 20중량부, 및 용매 약 1 내지 50중량부를 함께 혼합함으로써 제조한다. 이어서, 혼합된 열경화성 수지 조성물을 제품 또는 기판에 도포하고 150℃를 초과하는 온도에서 경화시켜 복합체 제품을 형성할 수 있다.
본 발명의 열경화성 수지 조성물은 인발(pultrusion), 성형, 캡슐화 또는 피복과 같은 당해 산업에서 잘 알려진 기술에 의해 복합체 제품을 제조하는데 사용될 수 있다. 본 발명의 열경화성 수지 조성물은, 이의 열적 특성 때문에, 고온 연속 사용 분야에서 사용되기 위한 제품의 제조에 특히 유용하다. 이의 예는 전기 라미네이트 및 전기 캡슐화를 포함한다. 다른 예는 몰딩 파우더, 피복, 구조적 복합 부품 및 가스켓을 포함한다.
또 다른 측면에서, 본 발명은 수지 피복된 제품을 제조하는 공정을 제공한다. 공정 단계는 제품 또는 기판을 본 발명의 열경화성 수지 조성물과 접촉시킴을 포함한다. 본 발명의 조성물은 당해 분야의 숙련가에게 알려진 임의의 방법에 의해 제품 또는 기판과 접촉될 수 있다. 이러한 접촉 방법의 예는 분말 피복, 분무 피복, 다이 피복, 롤 피복, 수지 투입 공정, 및 열경화성 수지 조성물을 함유하는 욕(bath)과 제품의 접촉을 포함한다. 하나의 양태에서, 상기 제품 또는 기판은 바니시 욕에서 열경화성 수지 조성물과 접촉한다. 또 다른 양태에서, 본 발명은 본 발명의 공정에 의해 제조된 제품 또는 기판, 특히 프리프레그 및 라미네이트를 제공한다.
또 다른 측면에서, 본 발명은 보강재를 본 발명의 열경화성 수지 조성물로 함침함으로써 수득된 프리프레그를 제공한다.
본 발명은 또한 금속 호일을 본 발명의 열경화성 수지 조성물로 피복함으로써 수득된 금속-피복된 호일을 제공한다.
또 다른 측면에서, 본 발명은 또한 상기 프리프레그 및/또는 상기 금속-피복된 호일을 라미네이트함으로써 수득된 향상된 특성들을 갖는 라미네이트를 제공한다.
본 발명의 열경화성 수지 조성물은, 보강재, 예를 들면, 유리 천(glass cloth)의 함침이 쉽고, 균형 잡힌 특성들을 갖고 기계적 강도에 대해 신뢰할 만하고 고온에서 전기적으로 절연되는 라미네이트의 제조에 상기 조성물이 적합하도록, 내열성 및/또는 고주파에서의 낮은 유전 손실을 갖는 생성물로의 경화가 쉽다. 본 발명의 열경화성 수지 조성물로 피복될 수 있는 보강재 또는 보강 물질은, 복합체, 프리프레그 및 라미네이트의 형성시에 당해 분야의 숙련가에 의해 사용될 수 있는 임의의 물질을 포함한다. 적절한 기판의 예는 섬유-함유 물질, 예를 들면, 직물, 메쉬, 매트, 섬유 및 부직포 아라미드 보강재를 포함한다. 바람직하게는, 이러한 물질은 유리, 유리섬유, 석영, 셀룰로오스성이거나 합성일 수 있는 종이, 열가소성플라스틱 수지 기판(예를 들면, 아라미드 보강재), 폴리에틸렌, 폴리(p-페닐렌테레프탈아미드), 폴리에스테르, 폴리테트라플루오로에틸렌 및 폴리(p-페닐렌벤조비스티아졸), 신디오택틱 폴리스티렌, 탄소, 흑연, 세라믹 또는 금속으로부터 제조된다. 바람직한 물질은 직물이나 매트 형태의 유리 또는 유리섬유를 포함한다.
하나의 양태에서, 보강 물질은, 용매 또는 용매 혼합물에 용해되고 긴밀하게 혼합된 본 발명의 열경화성 수지 조성물을 포함하는 바니시 욕과 접촉한다. 피복은 보강 물질이 열경화성 수지 조성물로 피복되는 조건하에 발생한다. 그 후, 피복된 보강 물질은, 용매의 증발을 야기하기에 충분한 온도이지만 열경화성 수지 조성물이 가열 영역에서 체류 시간 동안 상당한 경화를 겪게 되는 온도보다는 낮은 온도에서, 가열 영역을 통과한다.
보강 물질은, 바람직하게는 욕에서 체류 시간이 1초 내지 300초, 더욱 바람직하게는 1초 내지 120초, 가장 바람직하게는 1초 내지 30초이다. 이러한 욕의 온도는 바람직하게는 0℃ 내지 100℃, 더욱 바람직하게는 10℃ 내지 40℃, 가장 바람직하게는 15℃ 내지 30℃이다. 가열 영역에서의, 피복된 보강 물질의 체류 시간은 0.1분 내지 15분, 더욱 바람직하게는 0.5분 내지 10분, 가장 바람직하게는 1분 내지 5분이다.
이러한 영역의 온도는, 임의의 잔류 용매의 휘발을 야기하기에는 충분하지만 체류 시간 동안 성분들의 완전한 경화를 야기할 만큼은 높지 않다. 이러한 영역의 바람직한 온도는 80℃ 내지 250℃, 더욱 바람직하게는 100℃ 내지 225℃, 가장 바람직하게는 150℃ 내지 210℃이다. 바람직하게는, 오븐을 통해 불활성 기체를 통과시키거나 오븐에 약간의 진공을 빨아들임으로써, 가열 영역에서 용매를 제거하는 수단이 존재한다. 많은 양태에서, 피복된 물질은 증가하는 온도의 영역에 노출된다. 제1 영역은 용매의 휘발을 야기하여 용매가 제거될 수 있도록 설계된다. 나중 영역은 열경화성 수지 성분의 부분적인 경화를 야기하도록 설계된다(B-스테이지 수행).
프리프레그의 하나 이상의 시트는 바람직하게는, 구리와 같은 전기적-전도성 물질의 하나 이상의 시트에 의해 라미네이트로 가공된다. 이러한 추가의 가공에서, 피복된 보강 물질의 하나 이상의 조각(segment) 또는 부분(part)은 서로 접촉하고/하거나 전도성 물질과 접촉하게 된다. 그 후, 상기 접촉된 부분은, 성분들의 경화를 야기하기에 충분한 승압 및 승온에 노출되고, 여기서, 인접한 부분들의 수지가 반응하여, 보강 물질 사이에 연속 수지 매트릭스를 형성한다. 경화되기 전에, 상기 부분들은 목적하는 모양 및 두께의 부분으로 절단되고 쌓이거나, 접혀지고 쌓일 수 있다. 사용된 압력은 1psi 내지 1000psi일 수 있고, 10psi 내지 800psi이 바람직하다. 상기 부분 또는 라미네이트 중의 수지를 경화시키는데 사용되는 온도는 특정한 체류 시간, 사용된 압력, 및 사용된 수지에 따라 좌우된다. 사용될 수 있는 바람직한 온도는 100℃ 내지 250℃, 더욱 바람직하게는 120℃ 내지 220℃, 가장 바람직하게는 170℃ 내지 200℃이다. 체류 시간은 바람직하게는 10분 내지 120분이고, 더욱 바람직하게는 20분 내지 90분이다.
하나의 양태에서, 상기 공정은 보강 물질을 오븐에서 꺼내서 목적하는 형태와 두께로 적절하게 배열하고 매우 높은 온도에서 짧은 시간 동안 가압하는 연속적인 공정이다. 특히 이러한 높은 온도는 1분 내지 10분, 2분 내지 5분의 시간 동안 180℃ 내지 250℃, 더욱 바람직하게는 190℃ 내지 210℃이다. 이러한 고속 가압은 가공 장치의 보다 효율적인 사용을 허용한다. 이러한 양태에서 바람직한 보강 물질은 유리 웹 또는 직물이다.
몇몇 양태에서, 라미네이트 또는 최종 생성물을 프레스의 밖에서 후경화시키는 것이 바람직하다. 당해 단계는 경화 반응을 완료하도록 설계된다. 후경화는 일반적으로 130℃ 내지 220℃에서 20분 내지 200분 시간 기간 동안 수행된다. 당해 후 경화 단계는 진공하에 수행하여, 휘발될 수 있는 임의의 성분들을 제거할 수 있다.
또 다른 측면에서, 혼합 및 경화시, 상기 열경화성 수지 조성물은 탁월하게 균형 잡힌 특성들을 갖는 경화물, 예를 들면, 라미네이트를 제공한다. 본 발명에 따라 균형 잡힌 경화물의 특성은, 약 170℃를 초과, 바람직하게는 약 175℃를 초과, 더욱 바람직하게는 약 180℃를 초과하는 유리 전이 온도(Tg); 약 300℃를 초과, 바람직하게는 약 310℃를 초과, 더욱 바람직하게는 약 325℃를 초과하는 분해 온도(Td); 약 1분을 초과, 바람직하게는 약 10분을 초과, 더욱 바람직하게는 약 30분을 초과하는, 288℃(T288)에서의 박리 시간; 적어도 V1, 바람직하게는 V0의 UL94 등급의 난연성; 10GHz에서 약 0.010 미만, 바람직하게는 10GHz에서 약 0.0097 미만, 더욱 바람직하게는 10GHz에서 약 0.0095 미만의 유전 손실 탄젠트; 및 10GHz에서 약 4.00 미만, 바람직하게는 10GHz에서 약 3.80 미만, 더욱 바람직하게는 10GHz에서 약 3.70 미만, 더욱 더 바람직하게는 10GHz에서 약 3.55 미만의 유전상수 중 2종 이상을 포함한다.
실시예
표 1의 성분을 유리 용기에 첨가하고 균질하게 충분히 혼합하여 본 발명에 따른 열경화성 수지 조성물을 형성하였다.
Figure 112012080375325-pct00007
이어서, 상기 열경화성 수지 조성물을 분석적으로 시험하고 다음의 특성들을 나타내었다.
Figure 112012080375325-pct00008
이어서, 아민 경화제 및 용매를 추가로 첨가하여, 실시예 1 내지 6의 열경화성 수지 조성물을 함유하는 바니시를 제조하였다. 이어서, 각각의 바니시를 사용하여 유리 직물을 함침하였다(35 내지 50중량%의 수지 함량으로). 함침된 기판을, 171℃에서 1 내지 2분 동안 가열함으로써 B-스테이지를 수행하여 5 내지 10% 수지 유동을 갖는 프리프레그를 제조하였다. 이어서, 프리프레그의 시트들을 쌓은 다음 약 185℃ 온도에서 약 250psi의 압력하에 1.5 내지 3시간 동안 가열함으로써, 라미네이트를 제조하였다. 이어서, 라미네이트를 분석 시험하여 하기 특성들을 나타내었다.
Figure 112012080375325-pct00009
본 발명의 다양한 양태들의 제조 및 사용이 위에 상세히 기재되어 있지만, 본원 명세서의 개시 내용은 광범위한 특정한 상황들로 구현될 수 있는 많은 적용가능한 본 발명의 개념들을 제공한다. 본 명세서에서 논의된 특정한 양태들은 본 발명을 제조하고 사용하는 방식의 예들을 단지 설명하는 것일 뿐이며 본 발명의 범위를 한정하지는 않는다.

Claims (15)

  1. 열경화성 수지 조성물로서,
    상기 열경화성 수지 조성물은,
    (a) 2개의 벤족사진 단량체 화합물들을 포함하는 벤족사진 성분 (여기서, 상기 벤족사진 단량체 화합물들의 서로에 대한 상대적인 양은 90:10 내지 10:90 (중량:중량)이고, 상기 벤족사진 단량체들의 적어도 하나는 화학식 I의 화합물이고, 상기 벤족사진 단량체의 적어도 다른 하나는 화학식 II의 화합물이다); 및
    (b) 비페닐 에폭시 수지, 스틸벤 에폭시 수지, 부탄디올의 글리시딜 에테르, 폴리에틸렌 글리콜의 글리시딜 에테르, 폴리프로필렌 글리콜의 글리시딜 에테르, 글리시딜 에스테르 에폭시 수지, 비닐사이클로헥센 디에폭사이드, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥산카복실레이트, 2-(3,4-에폭시)사이클로헥실-5,5-스피로(3,4-에폭시)사이클로헥산-m-디옥산, 파라-크실렌-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 메타 크실렌-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 테르펜-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 디사이클로펜타디엔-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 사이클로펜타디엔-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 폴리사이클릭 방향족 환-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 나프탈렌 환-함유 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 하이드로퀴논 에폭시 수지, 트리메틸올프로판 에폭시 수지, 올레핀 결합을 과아세트산으로 산화시킴으로써 수득한 직쇄형 지방족 에폭시 수지, 디페닐메탄 에폭시 수지, 페놀 아르알킬 수지의 에폭사이드, 나프톨 아르알킬 수지의 에폭사이드, 나프탈렌 에폭시 수지 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나의 에폭시 수지를 포함하고,
    상기 열경화성 수지 조성물은,
    상기 열경화성 수지 조성물을 경화시킴으로써 형성된 경화물이, 하기 균형 잡힌 특성들: (1) 170℃를 초과하는 유리 전이 온도(Tg); (2) 300℃를 초과하는 분해 온도(Td); (3) 1분을 초과하는, 288℃(T288)에서의 박리(delamination) 시간; (4) 적어도 V1의 UL94 난연성 등급; (5) 10GHz에서 0.010 미만의 유전 손실 탄젠트(dielectric loss tangent); 및 (6) 10GHz에서 4.00 미만의 유전 손실 상수(dielectric loss constant) 중의 적어도 2개 이상을 포함함을 특징으로 하는, 열경화성 수지 조성물.
    화학식 I
    Figure 112017003147388-pct00010

    화학식 II
    Figure 112017003147388-pct00011

    위의 화학식 I 및 II에서,
    각각의 R은, 서로 독립적으로, 알릴, 치환되지 않거나 치환된 페닐, 치환되지 않거나 치환된 C1-C8알킬, 또는 치환되지 않거나 치환된 C3-C8사이클로알킬이고,
    n은 0 내지 5의 정수이다.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서, 각각의 R이 페닐인, 열경화성 수지 조성물.
  4. 삭제
  5. 제1항에 있어서, 아민 화합물, 아민 화합물로부터 제조된 화합물, 이미다졸 화합물, 하이드라지드 화합물, 멜라민 화합물, 산 무수물, 페놀계 화합물, 시아네이트 에스테르 화합물, 디시안디아미드, 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 촉매를 추가로 포함하는, 열경화성 수지 조성물.
  6. 제5항에 있어서, 포스폰산화 난연제를 추가로 포함하는, 열경화성 수지 조성물.
  7. 열경화성 수지 조성물로서,
    상기 열경화성 수지 조성물은,
    (a) 상기 열경화성 수지 조성물 100중량부 당, 2종 이상의 벤족사진 단량체 화합물들을 포함하는 벤족사진 성분 10 내지 90중량부(여기서, 상기 벤족사진 단량체들 중의 적어도 하나는 화학식 I의 화합물이고 벤족사진 단량체의 적어도 다른 하나는 화학식 II의 화합물이고, 상기 화학식 I의 벤족사진 단량체 화합물과 상기 화학식 II의 벤족사진 단량체 화합물의 상대적인 양은 90:10 내지 10:90 (중량:중량)이다); 및
    (b) 상기 열경화성 수지 조성물 100중량부 당 비페닐 에폭시 수지, 스틸벤 에폭시 수지, 부탄디올의 글리시딜 에테르, 폴리에틸렌 글리콜의 글리시딜 에테르, 폴리프로필렌 글리콜의 글리시딜 에테르, 글리시딜 에스테르 에폭시 수지, 비닐사이클로헥센 디에폭사이드, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥산카복실레이트, 2-(3,4-에폭시)사이클로헥실-5,5-스피로(3,4-에폭시)사이클로헥산-m-디옥산, 파라-크실렌-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 메타 크실렌-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 테르펜-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 디사이클로펜타디엔-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 사이클로펜타디엔-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 폴리사이클릭 방향족 환-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 나프탈렌 환-함유 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 하이드로퀴논 에폭시 수지, 트리메틸올프로판 에폭시 수지, 올레핀 결합을 과아세트산으로 산화시킴으로써 수득한 직쇄형 지방족 에폭시 수지, 디페닐메탄 에폭시 수지, 페놀 아르알킬 수지의 에폭사이드, 나프톨 아르알킬 수지의 에폭사이드, 나프탈렌 에폭시 수지 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나의 에폭시 수지 2 내지 60중량부를 포함하고,
    상기 열경화성 수지 조성물은,
    상기 열경화성 수지 조성물을 경화시킴으로써 형성된 경화물이, 하기 균형 잡힌 특성들: (1) 170℃를 초과하는 유리 전이 온도(Tg); (2) 300℃를 초과하는 분해 온도(Td); (3) 1분을 초과하는, 288℃(T288)에서의 박리 시간; (4) 적어도 V1의 UL94 난연성 등급; (5) 10GHz에서 0.010 미만의 유전 손실 탄젠트; 및 (6) 10GHz에서 4.00 미만의 유전 손실 상수 중의 적어도 2개 이상을 포함함을 특징으로 하는, 열경화성 수지 조성물.
    화학식 I
    Figure 112017003147388-pct00012

    화학식 II
    Figure 112017003147388-pct00013

    위의 화학식 I 및 II에서,
    R은, 서로 독립적으로, 알릴, 치환되지 않거나 치환된 페닐, 치환되지 않거나 치환된 C1-C8알킬, 또는 치환되지 않거나 치환된 C3-C8사이클로알킬이고,
    n은 0 내지 5의 정수이다.
  8. 삭제
  9. (a) 2종 이상의 벤족사진 단량체 화합물들을 포함하는 벤족사진 성분(여기서, 벤족사진 단량체들 중의 적어도 하나는 화학식 I의 화합물이고 벤족사진 단량체의 적어도 다른 하나는 화학식 II의 화합물이며, 상기 화학식 I의 벤족사진 단량체 화합물과 상기 화학식 II의 벤족사진 단량체 화합물의 상대적인 양은 90:10 내지 10:90 (중량:중량)이다); 및
    (b) 비페닐 에폭시 수지, 스틸벤 에폭시 수지, 부탄디올의 글리시딜 에테르, 폴리에틸렌 글리콜의 글리시딜 에테르, 폴리프로필렌 글리콜의 글리시딜 에테르, 글리시딜 에스테르 에폭시 수지, 비닐사이클로헥센 디에폭사이드, 3,4-에폭시사이클로헥실메틸-3,4-에폭시사이클로헥산카복실레이트, 2-(3,4-에폭시)사이클로헥실-5,5-스피로(3,4-에폭시)사이클로헥산-m-디옥산, 파라-크실렌-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 메타 크실렌-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 테르펜-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 디사이클로펜타디엔-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 사이클로펜타디엔-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 폴리사이클릭 방향족 환-개질된 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 나프탈렌 환-함유 페놀 수지의 글리시딜 에테르, 하이드로퀴논 에폭시 수지, 트리메틸올프로판 에폭시 수지, 올레핀 결합을 과아세트산으로 산화시킴으로써 수득한 직쇄형 지방족 에폭시 수지, 디페닐메탄 에폭시 수지, 페놀 아르알킬 수지의 에폭사이드, 나프톨 아르알킬 수지의 에폭사이드, 나프탈렌 에폭시 수지 및 이들의 혼합물로 이루어진 그룹으로부터 선택되는 적어도 하나의 에폭시 수지; 및 임의로
    (c) 촉매;
    (d) 난연제; 및
    (e) 유기 용매
    를 함께 혼합함을 포함하는, 열경화성 수지 조성물의 제조 방법.
    화학식 I
    Figure 112017003147388-pct00014

    화학식 II
    Figure 112017003147388-pct00015

    위의 화학식 I 및 II에서,
    R은, 서로 독립적으로, 알릴, 치환되지 않거나 치환된 페닐, 치환되지 않거나 치환된 C1-C8알킬, 또는 치환되지 않거나 치환된 C3-C8사이클로알킬이고,
    n은 0 내지 5의 정수이다.
  10. 제9항의 방법에 따라 제조된 열경화성 수지 조성물.
  11. 제1항에 따른 열경화성 수지 조성물로 제품(article)을 피복하고, 상기 제품을 가열하여 상기 열경화성 수지 조성물을 경화시킴을 포함하는, 피복된 제품의 제조 방법.
  12. (a) 직물(woven fabric) 및 (b) 제1항에 따른 열경화성 수지 조성물을 포함하는 프리프레그(prepreg).
  13. (a) 제1항에 따른 열경화성 수지 조성물을 포함하는 기판 및 (b) 상기 기판의 적어도 하나의 표면 위에 침착된 금속 층을 포함하는, 라미네이트(laminate).
  14. 제13항에 있어서, 상기 기판이 유리 직물(woven glass fabric)의 보강재를 추가로 포함하고, 상기 열경화성 수지 조성물이 유리 직물 위에 함침된, 라미네이트.
  15. 제13항의 라미네이트로 만들어진 인쇄 회로 기판(PCB).
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