KR101757569B1 - 광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름, 그리고 적층체 - Google Patents

광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름, 그리고 적층체 Download PDF

Info

Publication number
KR101757569B1
KR101757569B1 KR1020157016082A KR20157016082A KR101757569B1 KR 101757569 B1 KR101757569 B1 KR 101757569B1 KR 1020157016082 A KR1020157016082 A KR 1020157016082A KR 20157016082 A KR20157016082 A KR 20157016082A KR 101757569 B1 KR101757569 B1 KR 101757569B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
pressure
sensitive adhesive
adhesive composition
optical film
mass
Prior art date
Application number
KR1020157016082A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20150087329A (ko
Inventor
사치 무로이
류타 오오카
Original Assignee
소켄 케미칼 앤드 엔지니어링 캄파니, 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 소켄 케미칼 앤드 엔지니어링 캄파니, 리미티드 filed Critical 소켄 케미칼 앤드 엔지니어링 캄파니, 리미티드
Publication of KR20150087329A publication Critical patent/KR20150087329A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101757569B1 publication Critical patent/KR101757569B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09J133/08—Homopolymers or copolymers of acrylic acid esters
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
    • C08F220/00—Copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and only one being terminated by only one carboxyl radical or a salt, anhydride ester, amide, imide or nitrile thereof
    • C08F220/02—Monocarboxylic acids having less than ten carbon atoms; Derivatives thereof
    • C08F220/10—Esters
    • C08F220/12—Esters of monohydric alcohols or phenols
    • C08F220/16—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms
    • C08F220/18—Esters of monohydric alcohols or phenols of phenols or of alcohols containing two or more carbon atoms with acrylic or methacrylic acids
    • C08F220/1804—C4-(meth)acrylate, e.g. butyl (meth)acrylate, isobutyl (meth)acrylate or tert-butyl (meth)acrylate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09J133/10—Homopolymers or copolymers of methacrylic acid esters
    • C09J7/0239—
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J2201/622—
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/318—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for the production of liquid crystal displays
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/30—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier
    • C09J2301/312—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the chemical, physicochemical or physical properties of the adhesive or the carrier parameters being the characterizing feature
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2433/00—Presence of (meth)acrylic polymer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Laminated Bodies (AREA)

Abstract

액정 셀 등의 피착체와 편광 필름 등의 광학 필름의 접착에 사용된 경우, 높은 점착력 및 우수한 내구성을 실현하며, 또한, 광 누설을 저감시킬 수 있는 광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름 그리고 적층체를 제공한다.
가교성 관능기를 갖는 아크릴계 폴리머 (A) 와, 가교제 (B) 를 함유하고, 최대 변형률이 10 ％ 이하이며, 또한, 변형 복원율이 50 ％ 이상인 광학 필름용 점착제 조성물이 제공된다.

Description

광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름, 그리고 적층체 {ADHESIVE COMPOSITION FOR OPTICAL FILMS, ADHESIVE OPTICAL FILM, AND LAMINATE}
본 발명은 광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름, 그리고 적층체에 관한 것이다.
화상 표시 장치는 최근 다양한 용도나 조건하에서 사용되고 있고, 예를 들어, 실온 조건하에서뿐만 아니라 고온, 나아가서는 고온 다습과 같은 과혹한 조건하에서도 사용되는 경우도 많아지고 있다. 고온 또는 고온 다습 조건에서의 사용으로는, 예를 들어, 열대 지역에서의 사용, 차량 내부나 야외 계측 기기 내부에서의 사용을 들 수 있다.
또, 화상 표시 장치를 구성하는 편광 필름 등의 광학 필름은 이색성을 갖는 색소를 폴리비닐알코올 등의 고분자 필름에 흡착시키고, 연신 및 배향시킴으로써 제작된다. 이 때문에, 광학 필름은 고온이나 다습 환경하에서 수축되어, 치수 변형이 발생하기 쉽다. 또, 한번 광학 필름에 치수 변형이 발생한 경우, 설령 온도 조건이나 습도 조건과 바꾸었다고 해도, 원래 치수로는 완전하게 되돌아가는 것은 곤란하다. 그 결과, 광학 필름의 치수 변화로 인해 발생한 응력의 영향에 의해 점착제층에 균열, 박리, 들뜸이 발생하거나, 편광축의 변형으로 인한 광 누설이 화상 표시 장치에 발생해 버리거나 한다.
또한, 최근 화상 표시 장치의 대화면화, 고화질화, 고내구성이 요구되고 있다. 예를 들어, 화상 표시 장치가 액정 표시 장치인 경우, 전력 절약화의 요구에 응하기 위해, 광원에 LED 를 사용하는 방식이 많이 채용되고 있다. 광원에 LED 를 사용하는 방식의 액정 표시 장치의 경우, 고화질화의 요구나, 광원 유래의 열이나 광에 대한 고내구성이 현저하다. 그러나, 광원에 LED 를 사용하는 방식을 채용하는 액정 표시 장치의 경우, 광원인 LED 의 휘도가 높기 때문에 광 누설이 두드러지는 경향이 있다.
일본 공개특허공보 2007-169329호
본 발명은 고온 및 다습 조건하에서 우수한 내구성을 발휘하며, 또한, 액정 셀 등의 피착체와 편광 필름 등의 광학 필름의 접착에 사용된 경우, 광 누설을 저감시킬 수 있는 광학 필름용 점착제 조성물, 및 그것을 사용한 점착형 광학 필름 그리고 적층체를 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.
본 발명자들은 이와 같은 과제를 해결하기 위하여, 소정의 점탄 특성을 갖는 점착제 조성물을 사용하여 점착제층을 형성하고, 액정 셀 등의 피착체와 편광 필름 등의 광학 필름의 접착에 사용한 경우, 광 누설을 저감시킬 수 있는 것을 알아냈다.
1. 본 발명의 일 양태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물은 가교성 관능기를 갖는 아크릴계 폴리머 (A) 와, 가교제 (B) 를 함유하고, 하기에 정의되는 최대 변형률이 10 ％ 이하이며, 또한, 하기에 정의되는 변형 복원율이 50 ％ 이상이다.
최대 변형률 : 상기 광학 필름용 점착제 조성물을 평판 상에 도포하고 건조시켜 얻어지는 두께 1 ㎜ 의 점착 시트를 Φ 8 ㎜ 로 컷하여 얻어지는 시험편에 대해, 레오미터를 사용하여 하기 측정 공정 1 내지 3 을 순서대로 실시한 경우에 있어서, 변형률이 최대가 되는 시점의 변형률 (％)
최종 변형률 : 레오미터를 사용하여 하기 측정 공정 1 내지 3 을 순서대로 실시한 후의 그 시험편의 변형률 (％)
변형 복원율 : 상기 광학 필름용 점착제 조성물을 평판 상에 도포하고 건조시켜 얻어지는 두께 1 ㎜ 의 점착 시트를 Φ 8 ㎜ 로 컷하여 얻어지는 시험편에 대해, 하기 식 (1) 에 기초하여 산출된 값
변형 복원율 (％) ＝ (최대 변형률 － 최종 변형률)/최대 변형률 × 100 … (1)
측정 공정 1 : 상기 시료편의 온도를 23 ℃ 부터 80 ℃ 까지 15 분간 일정 속도로 증가시키면서, 그 시료편의 전단 응력을 0 ㎩ 부터 1000 ㎩ 까지 15 분간 일정 속도로 증가시킨다
측정 공정 2 : 상기 시료편의 온도를 80 ℃ 에서 30 분간 유지하면서, 전단 응력을 1000 ㎩ 부터 2000 ㎩ 까지 30 분간 일정 속도로 증가시킨다
측정 공정 3 : 상기 시료편의 온도를 80 ℃ 부터 23 ℃ 까지 15 분간 일정 속도로 감소시키면서, 그 시료편의 전단 응력을 2000 ㎩ 부터 0 ㎩ 까지 15 분간 일정 속도로 감소시킨다
2. 상기 1 에 기재된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서, 상기 가교성 관능기를 갖는 아크릴계 폴리머 (A) 가 가교성 관능기를 갖지 않으며, 또한, 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 이상인 (메트)아크릴산에스테르 (a1) 5 ∼ 55 질량％ 와, 가교성 관능기를 갖지 않으며, 또한, 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 미만인 (메트)아크릴산에스테르 (a2) 44.5 ∼ 94.5 질량％ 와, 가교성 관능기를 갖는 모노머 (a3) 0.5 ∼ 6 질량％ 를 함유하는 모노머 혼합물의 중합체 (여기서, 상기 모노머 혼합물 중에 있어서의 상기 (a1), (a2) 및 (a3) 의 합계량은 90 ∼ 100 질량％ 이다) 일 수 있다.
3. 상기 1 또는 2 에 기재된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서, 상기 (메트)아크릴산에스테르 (a1) 이 (메트)아크릴산알킬에스테르이고, 상기 (메트)아크릴산알킬에스테르의 알킬에스테르 부위를 구성하는 알킬 사슬 (여기서, 상기 알킬 사슬의 탄소 원자수는 1 ∼ 20 이다) 이 직사슬형 또는 분기형의 알킬 사슬일 수 있다.
4. 상기 1 내지 3 중 어느 하나에 기재된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서, 상기 가교성 관능기를 갖는 아크릴계 폴리머 (A) 는 Tg 가 -70 ∼ 0 ℃ 일 수 있다.
5. 상기 1 내지 4 중 어느 하나에 기재된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서, 상기 가교성 관능기를 갖는 아크릴계 폴리머 (A) 는 중량 평균 분자량이 50 만 ∼ 200 만일 수 있다.
6. 상기 1 내지 5 중 어느 하나에 기재된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서, 겔 분율이 70 ％ 이상일 수 있다.
7. 본 발명의 별도의 양태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물은 가교성 관능기를 갖는 아크릴계 폴리머 (A) 와, 가교제 (B) 를 함유하고,
상기 가교성 관능기를 갖는 아크릴계 폴리머 (A) 가,
가교성 관능기를 갖지 않으며, 또한, 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 이상인 (메트)아크릴산에스테르 (a1) 5 ∼ 55 질량％ 와,
가교성 관능기를 갖지 않으며, 또한, 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 미만인 (메트)아크릴산에스테르 (a2) 44.5 ∼ 94.5 질량％ 와,
가교성 관능기를 갖는 모노머 (a3) 0.5 ∼ 6 질량％ 를 함유하는 모노머 혼합물의 중합체이며 (여기서, 상기 모노머 혼합물 중에 있어서의 상기 (a1), (a2) 및 (a3) 의 합계량은 90 ∼ 100 질량％ 이다), 겔 분율 70 ％ 이상일 수 있다.
8. 본 발명의 다른 양태에 관련된 점착형 광학 필름은 상기 1 내지 7 중 어느 하나에 기재된 광학 필름용 점착제 조성물을 함유하는 점착제층을 광학 필름의 편면 또는 양면에 형성한다.
9. 상기 8 에 기재된 점착형 광학 필름은 편광 필름, 위상차 필름, 타원 편광 필름, 반사 방지 필름, 휘도 향상 필름 및 광 확산 필름으로 이루어지는 군에서 선택되는 광학 필름일 수 있다.
10. 본 발명의 다른 양태에 관련된 적층체는 유리 기판과, 편광판과, 상기 유리 기판과 상기 편광판 사이에 형성된 상기 1 내지 7 중 어느 하나에 기재된 광학 필름용 점착제 조성물을 막상으로 성형하고 가열하여 얻어지는 점착제층을 포함한다.
상기 광학 필름용 점착제 조성물은 적당한 점착력을 갖고, 고온 조건하 혹은 고온 다습 조건하에서 우수한 내구성을 발휘하며, 또한, 액정 셀 등의 피착체와 편광 필름 등의 광학 필름의 접착에 사용된 경우, 광 누설을 저감시킬 수 있다. 또, 상기 광학 필름용 점착제 조성물을 사용한 상기 점착형 광학 필름은 액정 셀 등의 피착체에 적당한 점착력으로 첩착 (貼着) 되고, 고온 조건하 혹은 고온 다습 조건하에서 우수한 내구성을 발휘하며, 또한, 액정 셀 등의 피착체와의 접착에 사용되는 경우, 광 누설을 저감시킬 수 있다.
도 1 은 레오미터를 사용하여 측정된, 본 발명의 일 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물의 변형률의 시간 경과적 변화를 모식적으로 설명하는 그래프이다.
도 2 는 본 발명의 실시예에 있어서의 화상 표시 장치 (액정 디스플레이 패널) 의 휘도의 측정 방법을 모식적으로 설명하는 도면이다.
도 3 은 본 발명의 점착제 조성물의 시험편에 대해, 레오미터를 사용하여 변형률을 측정하는 방법을 설명하는 도면이다.
도 4 는 본 발명의 일 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물을 사용하여 얻어진 점착제층을 포함하는 적층체의 일례를 모식적으로 나타내는 단면도이다.
이하, 도면을 참조하면서 본 발명을 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명에 있어서, 각별히 언급하지 않는 한 「부」는 「질량부」를 의미하고, 「％」는 「질량％」를 의미한다.
1. 광학 필름용 점착제 조성물
본 발명의 일 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물 (이하, 간단히 「점착제 조성물」이라고 기재하는 경우도 있다) 은 가교성 관능기를 갖는 아크릴계 폴리머 (A) (이하, 간단히 「(A) 성분」이라고 기재하는 경우도 있다) 와, 가교제 (B) (이하, 간단히 「(B) 성분」이라고 기재하는 경우도 있다) 를 함유한다.
본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물은 하기에 정의되는 최대 변형률이 10 ％ 이하이며, 또한, 하기에 정의되는 변형 복원율이 50 ％ 이상이다.
최대 변형률 : 상기 광학 필름용 점착제 조성물을 평판 상에 도포하고 건조시켜 얻어지는 두께 1 ㎜ 의 점착 시트를 Φ 8 ㎜ 로 컷하여 얻어지는 시험편에 대해, 레오미터를 사용하여 하기 측정 공정 1 내지 3 을 순서대로 실시한 경우에 있어서, 변형률이 최대가 되는 시점의 변형률 (％)
최종 변형률 : 레오미터를 사용하여 하기 측정 공정 1 내지 3 을 순서대로 실시한 후의 그 시험편의 변형률 (％)
변형 복원율 : 본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물을 평판 상에 도포하고 건조시켜 얻어지는 두께 1 ㎜ 의 점착 시트를 Φ 8 ㎜ 로 컷하여 얻어지는 시험편에 대해, 하기 식 (1) 에 기초하여 산출된 값
변형 복원율 (％) ＝ (최대 변형률 － 최종 변형률)/최대 변형률 × 100 … (1)
측정 공정 1 : 상기 시료편의 온도를 23 ℃ 부터 80 ℃ 까지 15 분간 일정 속도로 증가시키면서, 그 시료편의 전단 응력을 0 ㎩ 부터 1000 ㎩ 까지 15 분간 일정 속도로 증가시킨다
측정 공정 2 : 상기 시료편의 온도를 80 ℃ 에서 30 분간 유지하면서, 전단 응력을 1000 ㎩ 부터 2000 ㎩ 까지 30 분간 일정 속도로 증가시킨다
측정 공정 3 : 상기 시료편의 온도를 80 ℃ 부터 23 ℃ 까지 15 분간 일정 속도로 감소시키면서, 그 시료편의 전단 응력을 2000 ㎩ 부터 0 ㎩ 까지 15 분간 일정 속도로 감소시킨다.
1.1. 최대 변형률 및 변형 복원율
본 발명에 있어서의 「최대 변형률」은, 점착제 조성물의 변형 용이성의 지표로, 최대 변형률이 클수록 점착제 조성물이 변형되기 쉽다고 할 수 있다. 본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서, 상기 최대 변형률이 10 ％ 를 초과하면, 점착제의 피착체의 팽창 또는 수축에 점착제층이 추종할 수 없는 결과, 점착제층에 복굴절이 발생하여 광 누설을 방지할 수 없는 경우가 있다. 본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서, 점착제에 발생하는 복굴절을 보다 확실하게 방지하여, 광 누설을 보다 저감시킬 수 있는 점에서, 상기 최대 변형률은 10 ％ 이하인 것이 바람직하고, 8 ％ 이하인 것이 보다 바람직하다.
또, 본 발명에 있어서의 「변형 복원율」은, 변형된 점착제 조성물의 복원 용이성의 지표로, 변형 복원율이 클수록 점착제 조성물이 변형으로부터 복원되기 쉽다고 할 수 있다. 본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서, 상기 변형 복원율이 50 ％ 미만이면, 점착제층의 변형이 잘 복원되지 않기 때문에, 점착제에 발생한 복굴절이 해소되지 않아, 광 누설을 방지할 수 없는 경우가 있다. 본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서, 점착제에 발생한 복굴절을 신속하게 해소하여, 광 누설을 보다 저감시킬 수 있는 점에서, 상기 변형 복원율은 50 ％ 이상인 것이 바람직하고, 70 ％ 이상인 것이 보다 바람직하다.
또한, 본 발명에 있어서, 임의 시점의 「변형률 (％)」은 {레오미터에 설치된 φ 8 ㎜ 지그의 원주 이동량 M (㎛)}/{상기 측정 공정 1 내지 3 을 실시하기 전의 시료편의 두께 T (㎛)} × 100 (％) 을 의미하는 것으로 한다 (도 3 참조).
본 발명에 있어서의 「최대 변형률」 및 「변형 복원율」에 대해 도 1 을 참조하여 설명한다. 도 1 은, 레오미터를 사용하여 측정된, 본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물의 변형률의 시간 경과적 변화를 모식적으로 설명하는 그래프이다. 즉, 도 1 은, 본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물의 점탄 특성 (리올로지 특성) 에 대해, 레오미터를 사용하여 상기 측정 공정 1 내지 3 을 순서대로 실시하여 측정한 결과를 나타내고 있다. 즉, 본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물의 변형률은 레오미터를 사용하여 측정된 값이다.
측정 공정 1 내지 3 은 본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물의 점착제층이 피착체의 표면에 형성된 경우에 장기간에 걸쳐 발생하는 변형을 모방한 것이다.
측정 공정 1 에서는, 시료편의 온도 및 전단 응력을 소정 시간 (15 분간), 일정 속도로 증가시킨다. 측정 공정 2 에서는, 시료편을 일정한 온도 (80 ℃) 및 일정한 전단 응력 (1000 ㎩) 하에서 유지한다. 측정 공정 3 에서는, 시료편의 온도 및 전단 응력을 소정 시간 (15 분간), 일정 속도로 감소시킨다.
도 1 을 참조하면, 측정 공정 1 및 2 동안 변형률은 상승을 계속하여, 측정 공정 2 의 종료시에 변형률은 최대 (최대 변형률) 가 된다 (한편, 변형률이 최대가 되는 시점의 변형률이 최대 변형률이다). 그 후, 측정 공정 3 에 있어서, 시료편의 온도 및 전단 응력과 함께 변형률은 감소되어, 측정 공정 3 의 종료시에는 측정 공정 3 에 있어서의 변형률이 최소가 된다 (최종 변형률). 최종 변형률 및 최대 변형률로부터 식 (1) 에 기초하여 변형 복원율이 산출된다.
1.2. (A) 성분
본 발명에 있어서, 「아크릴계 폴리머」란, 아크릴산, 아크릴산염, 아크릴산에스테르, 메타아크릴산, 메타크릴산염, 및 메타크릴산에스테르에서 선택되는 적어도 1 종을 구성 단위 중에 50 질량％ 이상 함유하는 폴리머를 말한다. 또, 본 발명에 있어서, 「(메트)아크릴산」이란, 아크릴산 및 메타아크릴산을 포함하는 개념이다. 또, 본 발명에 있어서, 「가교성 관능기」란, 가교제 (B) 와 반응할 수 있는 관능기를 말하고, 보다 구체적으로는, 수산기, 카르복실기, 아미노기, 아미드기, 및 산 무수물기에서 선택되는 적어도 1 종의 기를 말한다.
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 있어서의 (A) 성분의 함유량은 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물 100 질량부에 대해 90 ∼ 99.99 질량부일 수 있고, 95 ∼ 99.8 질량부인 것이 바람직하다.
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 있어서, (A) 성분은 가교성 관능기를 갖지 않으며, 또한, 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 이상인 (메트)아크릴산에스테르 (a1) (이하, 간단히 「(a1) 성분」이라고 기재하는 경우도 있다) 5 ∼ 55 질량％ 와, 가교성 관능기를 갖지 않으며, 또한, 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 미만인 (메트)아크릴산에스테르 (a2) (이하, 간단히 「(a2) 성분」이라고 기재하는 경우도 있다) 44.5 ∼ 94.5 질량％ 와, 가교성 관능기를 갖는 모노머 (a3) (이하, 간단히 「(a3) 성분」이라고 기재하는 경우도 있다) 0.5 ∼ 6 질량％ 를 함유하는 모노머 혼합물의 중합체일 수 있다.
1.2.1. (a1) 성분
(a1) 성분은 예를 들어, 하기 일반식 (1) 로 나타내는, Tg 가 0 ℃ 이상인 (메트)아크릴산에스테르일 수 있다.
[화학식 1]
Figure 112015058637458-pct00011
(식 중, R1 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2 는 직사슬형 또는 분기형 알킬기, 지환기, 또는 방향 고리 함유기를 나타낸다)
(a1) 성분인, Tg 가 0 ℃ 이상인 (메트)아크릴산에스테르로는, 예를 들어, 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-프로필메타크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, n-헥사데실아크릴레이트, n-헥사데실메타크릴레이트, 스테아릴아크릴레이트, 스테아릴메타크릴레이트 등의 에스테르 부위에 직사슬형 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르 ;
t-부틸아크릴레이트, i-프로필메타크릴레이트, i-부틸메타크릴레이트, t-부틸메타크릴레이트 등의 에스테르 부위에 분기형 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르 ;
시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트 등의 에스테르 부위에 지환기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르 ;
벤질메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 2-나프틸아크릴레이트 등의 에스테르 부위에 방향 고리기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르를 들 수 있고, 이 중 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이 중, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용하여 형성된 점착제층이 화상 표시 장치의 광 누설을 보다 저감시킬 수 있는 점에서, (a1) 성분은 (메트)아크릴산알킬에스테르이고, 그 (메트)아크릴산알킬에스테르의 알킬에스테르 부위를 구성하는 알킬 사슬이 직사슬형 또는 분기형의 알킬 사슬인 것이 바람직하고, 분기형의 알킬 사슬을 갖는 것이 보다 바람직하다. 이 경우, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용하여 형성된 점착제층이 화상 표시 장치의 광 누설을 더욱 저감시킬 수 있는 점에서, 상기 알킬 사슬의 탄소 원자수는 1 ∼ 20 (바람직하게는 1 ∼ 10) 인 것이 더욱 바람직하다.
(A) 성분인 중합체를 얻기 위한 상기 모노머 혼합물 중에 있어서의 (a1) 성분의 함유량이 5 질량％ 미만이면, 광 누설을 충분히 억제할 수 없는 경우가 있고, 한편, 55 질량％ 를 초과하면, 점착제층이 지나치게 단단해져 첩부 작업성이 나빠지거나 내구성에 악영향을 미치거나 하는 경우가 있다. 광 누설을 충분히 억제하며, 또한, 내구성이 우수한 점착제층을 얻기 위해서는, (A) 성분인 중합체를 얻기 위한 상기 모노머 혼합물 중에 있어서의 (a1) 성분의 함유량은 5 ∼ 55 질량％ 인 것이 바람직하고, 10 ∼ 40 질량％ 인 것이 보다 바람직하다.
1.2.2. (a2) 성분
(a2) 성분은 예를 들어, 하기 일반식 (1) 로 나타내는, Tg 가 0 ℃ 미만인 (메트)아크릴산에스테르일 수 있다.
[화학식 2]
Figure 112015058637458-pct00012
(식 중, R1 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2 는 직사슬형 또는 분기형 알킬기, 지환기, 또는 방향 고리 함유기를 나타낸다)
(a2) 성분인, Tg 가 0 ℃ 미만인 (메트)아크릴산에스테르로는, 예를 들어, 에틸아크릴레이트, n-프로필아크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, n-펜틸아크릴레이트, n-헥실아크릴레이트, n-헥실메타크릴레이트, n-펜틸아크릴레이트, n-옥틸아크릴레이트, n-옥틸메타크릴레이트, n-노닐아크릴레이트, n-라우릴메타크릴레이트, n-라우릴아크릴레이트, n-테트라데실메타크릴레이트 등의 에스테르 부위에 직사슬형 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르 ; i-프로필아크릴레이트, i-부틸아크릴레이트, i-옥틸아크릴레이트, i-옥틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트 등의 에스테르 부위에 분기형 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르 ; 페녹시에틸아크릴레이트 등의 에스테르 부위에 방향 고리기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르를 들 수 있고, 이 중 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이 중, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용하여 형성된 점착제층이 광 누설을 보다 저감시킬 수 있는 점에서, (a2) 성분은 (메트)아크릴산알킬에스테르로서, 그 (메트)아크릴산알킬에스테르의 알킬에스테르 부위를 구성하는 알킬 사슬이 직사슬형 또는 분기형의 알킬 사슬인 것이 바람직하고, 직사슬형의 알킬 사슬을 갖는 것이 보다 바람직하다. 이 경우, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용하여 형성된 점착제층이 화상 표시 장치의 광 누설을 더욱 저감시킬 수 있는 점에서, 상기 알킬 사슬의 탄소 원자수는 1 ∼ 20 (바람직하게는 1 ∼ 10) 인 것이 더욱 바람직하다.
(A) 성분인 중합체를 얻기 위한 상기 모노머 혼합물 중에 있어서의 (a2) 성분의 함유량이 44.5 질량％ 미만이면, 점착 물성의 밸런스가 무너져 피착체에 대한 밀착력이 부족한 경우가 있고, 한편, 94.5 질량％ 를 초과하면, 광 누설을 충분히 억제할 수 없는 경우가 있다. 광 누설을 충분히 억제하며, 또한, 내구성이 우수한 점착제층을 얻기 위해서는, (A) 성분인 중합체를 얻기 위한 상기 모노머 혼합물 중에 있어서의 (a2) 성분의 함유량은 44.5 ∼ 94.5 질량％ 인 것이 바람직하고, 50 ∼ 89.5 질량％ 인 것이 보다 바람직하며, 60 ∼ 86 질량％ 인 것이 더욱 바람직하다.
1.2.3. (a3) 성분
(a3) 성분은, (a1) 성분 및 (a2) 성분 이외의 단량체로서, 가교성 관능기를 갖는다. (a3) 성분으로는, 예를 들어, 카르복시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸메타크릴레이트, N,N-디에틸아미노에틸메타크릴레이트, 아크릴아미드, N,N-디메틸아미노프로필아크릴아미드, 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산, 아크릴아마이드, 아크릴로니트릴을 들 수 있고, 이 중, 가교성 관능기를 갖는 모노머를 필수로 하는 1 종 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이 중, (a3) 성분은, (B) 성분인 가교제와의 가교 성능이 우수한 점에서, 가교성 관능기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트 및 알킬아마이드 혹은 어느 일방인 것이 바람직하고, 수산기를 갖는 알킬(메트)아크릴레이트, 아크릴산, 및 알킬아마이드에서 선택되는 적어도 1 종인 것이 보다 바람직하다.
1.2.4. (a1) 성분, (a2) 성분 및 (a3) 성분의 합계량
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에서는, 소정의 최대 변형률 및 변형 복원율을 달성할 수 있는 관점에서, (A) 성분인 중합체를 얻기 위한 상기 모노머 혼합물 중에 있어서의 상기 (a1) 성분, (a2) 성분 및 (a3) 성분의 합계량이 90 ∼ 100 질량％ 일 수 있고, 95 ∼ 100 질량％ 인 것이 바람직하다.
또한, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물은, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용하여 형성된 점착제층이 광 누설을 보다 저감시킬 수 있는 점에서, 알킬렌옥사이드기를 갖는 모노머의 함유량이 5 질량％ 이하인 것이 바람직하고, 알킬렌옥사이드기를 갖는 모노머를 함유하지 않는 것이 보다 바람직하다. 알킬렌옥사이드기를 갖는 모노머로는, 예를 들어, 측사슬에 알킬렌옥사이드기를 갖는 (메트)아크릴 모노머, 알킬렌옥사이드기를 갖는 반응성 유화제를 들 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서 「점착제 조성물이 알킬렌옥사이드기를 갖는 모노머를 함유하지 않는다」란, 점착제 조성물 중의 알킬렌옥사이드기를 갖는 모노머의 함유량이 2 질량％ 이하인 것을 말한다. 특히, 점착제 조성물 중의 알킬렌옥사이드기를 갖는 모노머의 함유량이 0 ∼ 2 질량％ 인 것이 바람직하다.
1.2.5. Tg
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에서는, 소정의 최대 변형률 및 변형 복원율을 달성함으로써, 광 누설을 방지하며, 또한 내구성을 높일 수 있는 관점에서, (A) 성분의 Tg 는 -70 ∼ 0 ℃ 인 것이 바람직하고, -40 ∼ -10 ℃ 인 것이 보다 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서, (A) 성분의 Tg 는 하기 식 (2) (FOX 의 식) 에 의해 산출된 값이다.
1/TgA ＝ Wa1/Tga1 ＋ Wa2/Tga2 ＋ Wa3/Tga3 … (2)
(식 중, TgA 는 (A) 성분의 유리 전이 온도 (K) 를 나타내고, Tga1, Tga2, Tga3 은 각각 구성 모노머 (a1), (a2), (a3) 으로부터 조제된 호모폴리머의 유리 전이 온도 (Tg (K)) 를 나타내고, Wa1, Wa2, Wa3 은 각각 (A) 성분 중에 함유되는, 구성 모노머 (a1), (a2), (a3) 의 중량 분율을 나타낸다)
또한, 상기 식 (2) 에 의해, TgA 는 절대 온도 (K) 로서 산출되므로, 필요에 따라 섭씨 온도 (℃) 로 환산된다.
또, 대표적인 모노머로부터 조제된 호모폴리머의 유리 전이 온도는 하기 표 1 에 나타내지만, 보다 구체적으로는, 예를 들어, 폴리머 핸드북 4 판 (Polymer Handbook Fourth Edition, Wiley-Interscience, 2003) 등에 기재되어 있다.
Figure 112015058389126-pct00003
1.2.6. 중량 평균 분자량 (Mw)
또, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 있어서, 소정의 최대 변형률 및 변형 복원율을 달성함으로써, 광 누설을 방지하며, 또한 내구성을 높일 수 있는 관점에서, (A) 성분은 중량 평균 분자량 (Mw) 이 50 만 ∼ 200 만인 것이 바람직하고, 80 만 ∼ 180 만인 것이 보다 바람직하다. 여기서, (A) 성분의 중량 평균 분자량은, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 를 사용하여, 하기의 조건에서 표준 폴리스티렌 환산에 의한 중량 평균 분자량 (Mw) 을 구한 것이다.
＜GPC 측정 조건＞
측정 장치 : HLC-8120GPC (토소사 제조)
GPC 칼럼 구성 : 이하의 5 련 칼럼(모두 토소사 제조)
(1) TSK-GEL HXL-H (가이드 칼럼)
(2) TSK-GEL G7000HXL
(3) TSK-GEL GMHXL
(4) TSK-GEL GMHXL
(5) TSK-GEL G2500HXL
샘플 농도 : 1.0 ㎎/㎤ 가 되도록, 테트라하이드로푸란으로 희석
이동상 용매 : 테트라하이드로푸란
유량 : 1.0 ㎤/min
칼럼 온도 : 40 ℃
또, 본 실시형태에 관련된 (A) 성분은, 상기 GPC 에 의해 구해지는 분자량 분포 (중량 평균 분자량/수평균 분자량) 가 4 ∼ 7 의 범위에 있는 것이 바람직하다.
1.2.7. 겔 분율
또한, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 있어서, 소정의 최대 변형률 및 변형 복원율을 달성함으로써, 광 누설을 방지하며, 또한 내구성을 높일 수 있는 관점에서, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물의 겔 분율이 70 ％ 이상인 것이 바람직하고, 77 ％ 이상인 것이 보다 바람직하다.
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 있어서, 상기 겔 분율은 예를 들어, 점착제 조성물을 조제할 때에 사용하는 모노머 혼합물 중의 (a3) 성분의 종류나 사용량, (B) 성분인 가교제의 종류나 사용량에 의해 조정할 수 있다. 또한, 상기 겔 분율은, 가교된 점착제를 건조 중량으로 0.1 g (건조 중량 (1)) 을 샘플병에 채취하고, 추가로, 샘플병에 아세트산에틸 30 ㏄ 를 첨가하여 24 시간 진탕한 후, 그 샘플병의 내용물을 200 메시의 스테인리스제 철망으로 여과 분리하고, 철망 상의 잔류물을 100 ℃ 에서 2 시간 건조시켜 건조 중량 (건조 중량 (2)) 을 측정하고, 하기 식 (3) 에 의해 구해진다.
겔 분율 (％) ＝ (건조 중량 (2)/건조 중량 (1)) × 100 … (3)
1.3. (B) 성분
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 있어서, (B) 성분인 가교제는 상온 또는 가열하에서 (A) 성분과 가교할 수 있는 가교제이면 특별히 한정되지 않지만, 예를 들어, 이소시아네이트계 가교제, 에폭시계 가교제, 금속 킬레이트 가교제를 들 수 있고, 이 중, 이소시아네이트계 가교제가 바람직하다.
이소시아네이트계 가교제로는, 구체적으로는, 자일릴렌디이소시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 클로르페닐렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 테트라메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 수소 첨가된 디페닐메탄디이소시아네이트 등의 이소시아네이트 모노머나, 그들을 트리메틸올프로판 등의 2 가 이상의 알코올 화합물 등에 부가 반응시킨 이소시아네이트 화합물이나 이소시아누레이트화물 등이 예시된다.
또, 공지된 폴리에테르폴리올이나 폴리에스테르폴리올, 아크릴폴리올, 폴리부타디엔폴리올, 폴리이소프렌폴리올 등에 이소시아네이트 화합물을 부가 반응시킨 우레탄 프레폴리머형의 이소시아네이트 등도 들 수 있다. 이들 중, 자일릴렌디이소시아네이트 및 그 유도체 등이 바람직하게 사용된다. 또, (A) 성분이 카르복실기를 갖는 경우에는, 이소시아네이트계 가교제와 에폭시 가교제를 병용하여 사용할 수도 있다.
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 있어서의 (B) 성분의 함유량은, 소정의 겔 분율 (예를 들어 70 ％ 이상) 을 달성할 수 있는 관점에서, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물 100 질량부에 대해 0.01 ∼ 3 질량부일 수 있고, 0.1 ∼ 1.5 질량부인 것이 바람직하다.
1.4. 다른 성분
본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물은, 필요에 따라, (A) 성분 및 (B) 성분 이외의 성분을 추가로 함유할 수 있다. 예를 들어, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, (C) 실란 커플링제 (이하, 간단히 「(C) 성분」이라고 기재하는 경우도 있다), (D) 이온성 화합물 (이하, 간단히 「(D) 성분」이라고 기재하는 경우도 있다), 산화 방지제, 자외선 흡수제, 점착 부여제, 가소제 등이 배합되어 있어도 된다.
1.4.1. (C) 실란 커플링제
본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물이 (C) 성분을 함유함으로써, 본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물을 사용하여 피착체의 표면에 점착제층을 형성한 경우, 피착체와의 접착을 양호하게 유지할 수 있다. (C) 성분은 예를 들어, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란 및 메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 중합성 불포화기 함유 규소 화합물 ; 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란 및 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시 구조를 갖는 규소 화합물 ; 3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)3-아미노프로필트리메톡시실란 및 N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란 등의 아미노기 함유 규소 화합물 ; 그리고 3-클로로프로필트리메톡시실란 ; 올리고머형 실란 커플링제 등이어도 되고, 그 중에서도 (메트)아크릴계 코폴리머 (A) 중에 함유되는 관능기와 반응하는 관능기를 갖고 있는 실란 커플링제가 습열 환경하에서 박리를 잘 발생시키지 않는다는 점에서 바람직하다.
본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서의 (C) 성분의 함유량은, 피착체와의 접착을 양호하게 유지할 수 있는 관점에서, 본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물 100 질량부에 대해 0 ∼ 0.5 질량부일 수 있고, 0.05 ∼ 0.3 질량부인 것이 바람직하다.
1.4.2. (D) 이온성 화합물
또, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물은 이온성 화합물 (D) 를 함유하고 있어도 된다. 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물이 (D) 성분을 함유함으로써, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용하여 피착체의 표면에 점착제층을 형성한 경우, 피착체의 대전을 효과적으로 방지할 수 있다. (D) 성분으로는, 예를 들어, 아니온과 카티온으로 이루어지는, 25 ℃ 에서 액체상 또는 고체상인 이온성 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는, 알칼리 금속염, 이온성 액체 (25 ℃ 에서 액체상), 계면 활성제 등을 들 수 있다.
상기 알칼리 금속염으로는, 리튬, 나트륨, 칼륨 등의 알칼리 금속 카티온과, 아니온으로 이루어지는 화합물을 들 수 있고, 구체적으로는, 염화나트륨, 염화칼륨, 염화리튬, 과염소산리튬, 염소산칼륨, 질산칼륨, 질산나트륨, 탄산나트륨, 티오시안산나트륨, LiBr, LiI, LiBF4, LiPF6, LiSCN, 아세트산나트륨, 알긴산나트륨, 리그닌술폰산나트륨, 톨루엔술폰산나트륨, LiCF3SO3, Li(CF3SO2)2N, Li(CF3SO2)IN, Li(C2F5SO2)2N, Li(C2F5SO2)IN, Li(CF3SO2)3C 등을 들 수 있다.
상기 이온성 액체를 구성하는 카티온으로는, 피페리디늄 카티온, 피롤리디늄 카티온, 피롤린 골격을 갖는 카티온, 피롤 골격을 갖는 카티온, 이미다졸륨 카티온, 테트라하이드로피리미디늄 카티온, 디하이드로피리미디늄 카티온, 피라졸륨 카티온, 피라졸리늄 카티온, 테트라알킬암모늄 카티온, 트리알킬술포늄 카티온, 테트라알킬포스포늄 카티온 등을 들 수 있고, 상기 이온성 액체를 구성하는 아니온으로는, Cl-, Br-, I-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, BF4 -, PF6 -, ClO4 -, NO3 -, CH3COO-, CF3COO-, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)2N-, (CF3SO2)3C-, AsF6 -, SbF6 -, NbF6 -, TaF6 -, F(HF)n- (n ＝ 2 ∼ 3), (CN)2N-, C4F9SO3 -, (C2F5SO2)2N-, C3F7COO-, (CF3SO2)(CF3CO)N- 등을 들 수 있다.
그리고, 상기 이온성 화합물로는, 이들 카티온과 아니온으로 구성되고, 25 ℃ 에서 액상인 이온성 화합물을 들 수 있다. 이와 같은 이온성 화합물로는, 구체적으로는, 2-메틸-1-피롤린테트라플루오로보레이트, 1-에틸-2-페닐인돌테트라 플루오로보레이트, 1,2-디메틸인돌테트라플루오로보레이트, 1-에틸카르바졸테트라 플루오로보레이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨아세테이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로아세테이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨헵타플루오로부틸레이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로메탄술포네이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨퍼플루오로부탄술포네이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨디시안아미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨트리스(트리플루오로메탄술포닐)메티드, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨헥사플루오로포스페이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로아세테이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨헵타플루오로부틸레이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로메탄술포네이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨퍼플루오로부탄술포네이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨브로마이드, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨 클로라이드, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨헥사플루오로포스페이트, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨트리플루오로메탄술포네이트, 1-옥틸-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-옥틸-3-메틸이미다졸륨헥사플루오로포스페이트, 1-헥실-2,3-디메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1,2-디메틸-3-프로필이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸피라졸륨테트라플루오로보레이트, 3-메틸피라졸륨테트라플루오로보레이트, 테트라헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 디알릴디메틸암모늄테트라플루오로보레이트, 디알릴디메틸암모늄트리플루오로메탄술포네이트, 디알릴디메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 디알릴디메틸암모늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄테트라플루오로보레이트, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄트리플루오로메탄술포네이트, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 글리시딜트리메틸암모늄트리플루오로메탄술포네이트, 글리시딜트리메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 글리시딜트리메틸암모늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-부틸 피리디늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 1-부틸-3-메틸피리디늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 디알릴디메틸암모늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 글리시딜트리메틸암모늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-노닐암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N,N-디프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-부틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-부틸-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-펜틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N,N-디헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-프로필-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N-메틸-N-에틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N-메틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N-부틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N,N-디헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디부틸-N-메틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디부틸-N-메틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리옥틸메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N-메틸-N-에틸-N-프로필-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 등을 들 수 있다.
상기 계면 활성제로는, 논이온계 계면 활성제, 카티온계 계면 활성제, 아니온계 계면 활성제 및 양쪽성 계면 활성제 중 어느 것도 사용할 수 있다.
상기 논이온계 계면 활성제로는, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌스테아릴에테르 등의 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 등의 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 소르비탄모노라우레이트, 소르비탄모노스테아레이트, 소르비탄트리올레에이트 등의 소르비탄 고급 지방산 에스테르류, 폴리옥시에틸렌소르비탄모노라우레이트 등의 폴리옥시에틸렌소르비탄 고급 지방산 에스테르류, 폴리옥시에틸렌모노라우레이트, 폴리옥시에틸렌모노스테아레이트 등의 폴리옥시에틸렌 고급 지방산 에스테르류 ; 예를 들어, 올레산모노글리세라이드, 스테아르산모노글리세라이드 등의 글리세린 고급 지방산 에스테르류, 폴리옥시에틸렌, 폴리옥시프로필렌, 폴리옥시부틸렌 등의 폴리옥시알킬렌류 및 그들의 블록 코폴리머를 들 수 있다.
상기 카티온계 계면 활성제로는, 염화알킬트리메틸암모늄, 염화디알킬디메틸암모늄, 염화벤잘코늄염, 알킬디메틸암모늄에토술페이트 등을 들 수 있다.
상기 아니온계 계면 활성제로는, 라우르산나트륨, 올레산나트륨, N-아실-N-메틸글리신나트륨염, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르카르복실산나트륨 등의 카르복실산염, 도데실벤젠술폰산나트륨, 디알킬술포숙신산에스테르염, 디메틸-5-술포이소프탈레이트나트륨 등의 술폰산염, 라우릴황산나트륨, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르황산나트륨, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르황산나트륨 등의 황산에스테르염, 폴리옥시에틸렌라우릴인산나트륨, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르인산나트륨 등의 인산에스테르염 등을 들 수 있다.
상기 양쪽성 계면 활성제로는, 카르복시베타인형 계면 활성제, 아미노카르복실산염, 이미다졸리늄베타인, 레시틴, 알킬아민옥사이드를 들 수 있다. 또, 그 외에, 전도성 폴리머, 전도성 카본, 염화암모늄, 염화알루미늄, 염화구리, 염화철, 황산암모늄 등을 사용할 수 있다.
이 중에서도 알칼리 금속염이 바람직하고, 특히 과염소산리튬이 바람직하게 사용된다.
본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서의 (D) 성분의 함유량은 본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물 100 질량부에 대해 0 ∼ 3 질량부일 수 있고, 0.05 ∼ 2.5 질량부인 것이 바람직하다.
1.5. (A) 성분의 중합 방법
(A) 성분의 중합 방법은 특별히 제한되는 것은 아니고, 용액 중합, 유화 중합, 현탁 중합 등의 공지된 방법에 의해 중합할 수 있는데, 중합에 의해 얻어진 공중합체의 혼합물을 사용하여 본 발명의 점착제 조성물을 제조함에 있어서, 처리 공정이 비교적 간단하며 또한 단시간에 실시할 수 있는 관점에서, 용액 중합에 의해 중합하는 것이 바람직하다.
용액 중합은, 일반적으로, 중합조 내에 소정의 유기 용매, 각 단량체, 중합 개시제, 및 필요에 따라 사용되는 연쇄 이동제 등을 주입하고, 질소 기류 또는 유기 용매의 환류 온도하에서 교반하면서 수 시간 가열 반응시킴으로써 실시된다.
또한, 이 경우에 있어서, 유기 용매, 단량체 및/또는 중합 개시제의 적어도 일부를 순차적으로 첨가해도 된다. 유기 용매로는, 예를 들어, 벤젠, 톨루엔, 에틸벤젠, n-프로필벤젠, t-부틸벤젠, o-자일렌, m-자일렌, p-자일렌, 테트랄린, 데칼린, 방향족 나프타 등의 방향족 탄화수소류 ; 예를 들어, n-헥산, n-헵탄, n-옥탄, i-옥탄, n-데칸, 디펜텐, 석유 스피릿, 석유 나프타, 테레빈유 등의 지방계 혹은 지환족계 탄화수소류 ; 예를 들어, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산n-아밀, 아세트산2-하이드록시에틸, 아세트산2-부톡시에틸, 아세트산3-메톡시부틸, 벤조산메틸 등의 에스테르류 ; 예를 들어, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸-i-부틸케톤, 이소포론, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논 등의 케톤류 ; 예를 들어, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 글리콜에테르류 ; 예를 들어, 메틸알코올, 에틸알코올, n-프로필알코올, i-프로필알코올, n-부틸알코올, i-부틸알코올, s-부틸알코올, t-부틸알코올 등의 알코올류 등을 들 수 있다. 이들 유기 용매는 각각 단독으로, 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
이들 중합용 유기 용매 중, (A) 성분의 중합시에는, 중합 반응 중에 연쇄 이동을 잘 발생시키지 않는 유기 용매, 예를 들어, 에스테르류, 케톤류를 사용하는 것이 바람직하고, 특히, (A) 성분의 용해성, 중합 반응의 용이함 등의 면에서, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤, 아세톤 등의 사용이 바람직하다.
상기 중합 개시제로는, 통상적인 용액 중합에서 사용할 수 있는 유기 과산화물, 아조 화합물 등을 사용하는 것이 가능하다. 이와 같은 유기 과산화물로는, 예를 들어, t-부틸하이드로퍼옥사이드, 쿠멘하이드로옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, 카프로일퍼옥사이드, 디-i-프로필퍼옥시디카보네이트, 디-2-에틸헥실퍼옥시디카보네이트, t-부틸퍼옥시피발레이트, 2,2-비스(4,4-디-t-부틸퍼옥시시클로헥실)프로판, 2,2-비스(4,4-디-t-아밀퍼옥시시클로헥실)프로판, 2,2-비스(4,4-디-t-옥틸퍼옥시시클로헥실)프로판, 2,2-비스(4,4-디-α-쿠밀퍼옥시시클로헥실)프로판, 2,2-비스(4,4-디-t-부틸퍼옥시시클로헥실)부탄, 2,2-비스(4,4-디-t-옥틸퍼옥시시클로헥실)부탄 등을 들 수 있고, 아조 화합물로는, 예를 들어, 2,2'-아조비스-i-부티로니트릴, 2,2'-아조비스-2,4-디메틸발레로니트릴, 2,2'-아조비스-4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴 등을 들 수 있다.
이들 유기 과산화물 중, (A) 성분의 중합 반응 중에 그래프트 반응을 일으키지 않는 중합 개시제가 바람직하고, 특히 아조계가 바람직하다. 그 사용량은, 통상, 단량체 합계 100 중량부에 대해 0.01 ∼ 2 중량부이고, 바람직하게는 0.1 ∼ 1.0 중량부이다.
또, 본 발명의 점착제 조성물에 함유되는 (A) 성분의 제조시에는, 연쇄 이동제를 사용하지 않는 것이 보통이지만, 본 발명의 목적 및 효과를 저해하지 않는 범위에서 필요에 따라 사용하는 것은 가능하다.
이와 같은 연쇄 이동제로는, 예를 들어, 시아노아세트산 ; 시아노아세트산의 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬에스테르류 ; 브로모아세트산 ; 브로모아세트산의 탄소수 1 ∼ 8 의 알킬에스테르류 ; 안트라센, 페난트렌, 플루오렌, 9-페닐플루오렌 등의 방향족 화합물류 ; p-니트로아닐린, 니트로벤젠, 디니트로벤젠, p-니트로벤조산, p-니트로페놀, p-니트로톨루엔 등의 방향족 니트로 화합물류 ; 벤조퀴논, 2,3,5,6-테트라메틸-p-벤조퀴논 등의 벤조퀴논 유도체류 ; 트리부틸보란 등의 보란 유도체 ; 사브롬화탄소, 사염화탄소, 1,1,2,2-테트라브로모에탄, 트리브로모에틸렌, 트리클로로에틸렌, 브로모트리클로로메탄, 트리브로모메탄, 3-클로로-1-프로펜 등의 할로겐화 탄화수소류 ; 클로랄, 푸르알데히드 등의 알데히드류 : 탄소수 1 ∼ 18 의 알킬메르캅탄류 ; 티오페놀, 톨루엔메르캅탄 등의 방향족 메르캅탄류 ; 메르캅토아세트산, 메르캅토아세트산의 탄소수 1 ∼ 10 의 알킬에스테르류 ; 탄소수 1 ∼ 12 의 하이드록시알킬메르캅탄류 ; 피넨, 테르피놀렌 등의 테르펜류 등을 들 수 있다.
(A) 성분의 중합 온도로는, 일반적으로 약 30 ∼ 180 ℃ 이고, 바람직하게는 40 ∼ 150 ℃ 이며, 보다 바람직하게는 50 ∼ 90 ℃ 의 범위이다. 또한, 용액 중합법 등으로 얻어진 중합물 중에 미반응의 단량체가 함유되는 경우에는, 그 단량체를 제거하기 위해, 메탄올 등에 의한 재침전법으로 정제할 수도 있다.
1.6. 점착제 조성물의 제조
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물은, 통상, 상기 (A) 및 (B) 성분 및 필요에 따라 임의 성분을, 동시에 혹은 임의의 순서로 혼합하여 조제된다. 또, (A) 성분과 (B) 성분을 혼합함에 있어서, (A) 성분을 용액 중합에 의해 조제한 경우에는, 중합 완료 후의 (A) 성분을 함유하는 용액에 (B) 성분을 첨가해도 되고, (A) 성분을 괴상 중합에 의해 조제하는 경우에는, 중합 완료 후에는 균일 혼합이 곤란해지기 때문에, 이 중합 도중에 (B) 성분을 첨가하여 혼합하는 것이 바람직하다.
1.7. 용도 및 작용 효과
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물은 광학 필름 (상세하게는 후술한다) 의 접착제로서 바람직하게 사용할 수 있다. 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 의하면, 고온 및 다습 조건하에서 우수한 내구성을 발휘하며, 또한, 액정 셀 등의 피착체와 편광 필름 등의 광학 필름의 접착에 사용된 경우, 광 누설을 저감시킬 수 있다. 또한, 화상 표시 장치가 위상차 필름을 포함하는 경우, 액정 셀과 편광 필름 사이에 위상차 필름이 형성되기 때문에, 위상차 필름과 편광 필름 사이에, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용한 접착제층을 형성할 수 있다.
예를 들어, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 광원에 LED 를 채용하는 LED 방식의 화상 표시 장치 (액정 표시 장치) 에 있어서, 액정 셀 등의 피착체와 편광 필름 등의 광학 필름의 접착에 사용된 경우, 양호한 광 누설 방지 특성 및 고내구성을 실현할 수 있기 때문에, 화상 표시 장치의 고화질화를 달성할 수 있다. 이 경우, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물은 VA 모드용 편광 필름 또는 IPS 모드용 편광 필름을 피착체로 하는 접착제로서 사용할 수 있지만, 고화질화를 달성할 수 있는 점에서, VA 모드용 편광 필름을 피착체로 하는 접착제로서 바람직하게 사용할 수 있다.
예를 들어, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을, VA 모드용 편광 필름을 피착체로 하는 접착제로서 사용하는 경우로서, 대형 (예를 들어 10 인치 이상, 바람직하게는 19 인치 이상) 의 화상 표시 장치의 접착제층을 형성하기 위해 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용하는 경우, 대형의 화상 표시 장치는 특히 편광 필름의 수축이 크기 때문에, 치수 변형에 의해 발생한 응력의 영향으로 인한 들뜸, 박리의 영향이 크고, 편광축의 변형으로 인한 광 누설의 영향이 크다. 이 때문에, 그 접착제층이 내구성이 우수하며, 또한, 광 누설을 저감시킬 수 있음으로써, 고화질화를 달성할 수 있는 점에서 유용하다.
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물의 일 작용 효과인 광 누설 방지 특성은 이하의 두 가지 작용 기전에 의한 것으로 추측된다. 첫째로, 편광 필름의 수축에서 유래하는 응력이 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 가해지는 경우, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물의 변형률이 작기 (본 실시형태에 관련된 점착제 조성물의 상기 최대 변형률이 10 ％ 이하이다) 때문에, 편광 필름의 수축을 적당히 억제하여, 편광 필름의 편광축의 변형을 작게 할 수 있고, 그 결과, 광 누설을 줄일 수 있다. 둘째로, 상기 편광 필름의 응력이 개방될 때에, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물의 상기 변형 복원율이 50 ％ 이상임으로써, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물의 변형이 신속하게 복원되기 때문에, 편광 필름의 수축 에서 기인하는 편광축의 변형이 신속하게 복원되고, 그 결과, 화상 표시 장치의 광 누설을 줄일 수 있다.
즉, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용하여 광학 필름 (편광 필름) 의 표면에 점착제층이 형성되는 경우, 그 점착제층의 변형률이 작음 (본 실시형태에 관련된 점착제 조성물의 상기 최대 변형률이 10 ％ 이하이다) 으로써, 그 광학 필름의 수축을 적당히 억제하는 제 1 특성과, 그 점착제층의 변형이 신속하게 복원되는 제 2 특성 (본 실시형태에 관련된 점착제 조성물의 상기 변형 복원율이 50 ％ 이상이다) 의 양방을 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물이 구비함으로써, 화상 표시 장치의 고내구성을 실현하며, 또한, 화상 표시 장치의 광 누설을 줄일 수 있다.
2. 점착형 광학 필름 및 적층체
2.1. 점착형 광학 필름
본 발명의 다른 일 실시형태에 관련된 점착형 광학 필름은, 상기 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물을 함유하는 점착제층을, 광학 필름의 편면 또는 양면에 형성한다. 본 실시형태에 관련된 점착형 광학 필름을 제작함에 있어서, 상기 점착제층은, 광학 필름 상에, 상기 점착제 조성물을 그라비아 코터, 메이어 바 코터, 에어 나이프 코터, 롤 코터 등에 의해 도포하고, 광학 필름 상에 도포된 점착제 조성물을 상온 또는 가열에 의해 건조 및 가교시켜 형성되어도 되고, 또는, 점착제층을 박리 필름 상에 형성하고, 이것을 상기 광학 필름에 전사하여 형성되어도 된다. 또, 점착제층의 두께는 통상은 1 ∼ 50 ㎛, 바람직하게는 5 ∼ 30 ㎛ 정도이다. 또한, 점착형 광학 필름의 사용 전에, 점착제층을 보호하기 위해 그 점착제층의 표면에 박리 필름을 적층시켜도 된다.
또, 본 실시형태에 관련된 점착형 광학 필름은 FPD 등의 화상 표시 장치 등에서 사용되는 것을 들 수 있고, 예를 들어, 편광 필름, 위상차 필름, 타원 편광 필름, 반사 방지 필름, 휘도 향상 필름 및 광 확산 필름으로 이루어지는 군에서 선택되는 광학 필름일 수 있다. 광학 필름의 두께는 사용 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 통상, 10 ∼ 500 ㎛ 이고, 바람직하게는 15 ∼ 300 ㎛ 정도이다.
2.2. 적층체
본 발명의 일 실시형태에 관련된 적층체는 유리 기판과, 편광판과, 상기 유리 기판과 상기 편광판 사이에 형성된, 상기 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물을 막상으로 성형하고 가열하여 얻어지는 점착제층 (점착 시트) 을 포함한다.
2.2.1. 적층 구조
도 4 는 본 발명의 일 실시형태에 관련된 적층체의 일례 (적층체 (200)) 를 모식적으로 나타내는 단면도이다. 적층체 (200) 는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 유리 기판 (110) 과, 편광 필름 (편광판) (130) 과, 유리 기판 (110) 과 편광 필름 (130) 사이에 형성된 점착제층 (120) 을 포함한다.
보다 구체적으로는, 적층체 (200) 는 유리 기판 (110) 과, 유리 기판 (110) 상에 형성된 점착제층 (120) 과, 유리 기판 (110) 상에 점착제층 (120) 을 개재하여 형성된 편광 필름 (130) 을 포함한다. 유리 기판 (110) 과 편광 필름 (130) 은 점착제층 (120) 을 개재하여 접착되어 있다.
도 4 에 있어서, 점착제층 (120) 은 피착체 (유리 기판 (110)) 의 표면에 형성되어 있다. 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 피착체의 표면에 형성하는 방법으로는, 평활성이 양호한 박리 필름 (세퍼레이터) 의 표면에 점착제 조성물을 도포하고, 도막을 건조시킨 후, 당해 도막을 특정 수지 필름의 표면에 전사하는 전사법을 들 수 있다.
본 실시형태에 관련된 적층체는 예를 들어, 화상 표시 장치 (특히 액정 표시 장치) 에 포함된다. 이 경우, 본 실시형태에 관련된 적층체에 포함되는 유리 기판은 액정 표시 장치용 유리 기판이다.
2.2.2. 유리 기판
본 실시형태에 관련된 적층체를 구성하는 유리 기판은 화상 표시 장치용으로 사용되는 유리 기판일 수 있다. 화상 표시 장치로는, 예를 들어, 액정 텔레비젼, 컴퓨터의 모니터, 휴대 전화, 태블릿 등에 사용되는 TFT (박막 트랜지스터) 액정 표시 장치일 수 있다.
2.2.3. 작용 효과
본 실시형태에 관련된 적층체는 유리 기판과, 편광 필름과, 상기 유리 기판과 상기 편광 필름 사이에 형성된, 상기 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물을 막상으로 성형하고 적절히 가열, 건조시켜 얻어지는 점착제층을 포함함으로써, 고온 다습 조건하에서 우수한 내구성을 발휘하며, 또한, 광 누설을 저감시킬 수 있다.
3. 실시예
이하, 본 발명을 하기 실시예에 기초하여 설명하지만, 본 발명은 실시예에 한정되지 않는다.
3.1. (A) 성분의 조제
교반기, 환류 냉각기, 온도계 및 질소 도입관을 구비한 반응 장치에, 하기 표 2 및 표 3 에 나타내는 배합 비율을 갖는 모노머 혼합물을 주입하고, 다음으로, 아세트산에틸을 모노머 농도가 50 질량％ 가 되는 배합량으로 주입하였다. 다음으로, 아조비스이소부티로니트릴 0.1 질량부를 첨가하고, 반응 용기 내의 공기를 질소 가스로 치환하면서 교반을 실시하여 60 ℃ 로 승온시킨 후, 4 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 아세트산에틸로 희석하여, (A) 성분 (아크릴계 폴리머 A ∼ L) 을 얻었다.
3.2. 평가용 점착 가공 편광판의 제작
상기 3.1. 에서 얻어진 (A) 성분을 사용하여, 하기 표 3 및 표 4 의 배합 (고형 분배합) 으로 각 성분을 첨가하여, 실시예 1 ∼ 15 및 비교예 1 ∼ 5 의 점착제 조성물의 용액을 얻었다. 이 점착제 조성물의 용액을 박리 처리한 폴리에스테르 필름의 표면에 도포하고 건조시킴으로써, 두께 20 ㎛ 의 점착제층을 갖는 점착 시트를 얻었다. 이 점착 시트를 VA 모드용 편광 필름의 편면에 첩부한 후, 23 ℃/50 ％RH 의 조건에서 어두운 곳에서 7 일간 숙성시켜, 평가용 점착 가공 편광판을 얻었다.
각 평가용 점착 가공 편광판에 대하여, 하기 표 3 및 표 4 에 나타내는 최대 변형률, 변형 복원율, 광 누설 (광원에 LED 를 사용한 것 : LED 방식), 광 누설 (광원에 LED 를 사용하지 않는 것 : 비 LED 방식), 습열 내구성 (발포 및 단열) 에 대해 이하의 방법으로 평가하였다.
3.3. 평가 방법
3.3.1. 최대 변형률 및 변형 복원율
표 3 및 표 4 에 나타내는 실시예 1 ∼ 15 및 비교예 1 ∼ 5 의 아크릴계 공중합체 용액을 박리 처리한 폴리에스테르 필름의 표면에 도포하여 건조시키고, 공기가 들어가지 않도록 하여 두께 1 ㎜ 로 성막하고, Φ 8 ㎜ 로 컷하여, 시험편으로 하였다. 이 시험편에 대해 레오미터 (형명 : MCR300, 일본 시버헤그너사 제조) 를 사용하여 상기 측정 공정 1 내지 3 을 순서대로 실시하여 상기 최대 변형률을 측정하며, 또한, 상기 (1) 에 기초하여 변형 복원율을 산출하였다.
3.3.2. 광 누설
19 인치 사이즈의 VA 형 액정 패널 (I·O 데이터사 제조, 형식 : LCD-A191EW 로부터 떼어낸 것) 에, 박리 처리된 폴리에스테르 필름을 벗긴 평가용 점착 가공 편광판을, 점착제층이 상기 액정 패널에 접하도록, 또한, 상기 평가용 점착 가공 편광판이 크로스니콜이 되도록 첩합 (貼合) 하여, 80 ℃ 의 분위기하에서 240 시간 방치한 후, 23 ℃/50 ％RH 분위기하에서 2 시간 방치하였다. 그 후, 상기 편광판을 첩합한 VA 형 액정 패널을 암실에서 퍼스널 컴퓨터에 접속하여 전체 화면 흑색 표시로 하였다. 본 시험에서는, 광원 (백라이트) 으로서 LED (LED 방식) 및 형광등 (비 LED 방식) 의 2 종을 사용하여 평가를 실시하였다. 이 전체 화면 흑색 표시의 디스플레이 모니터에 대해, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 각 코너 부근의 직경 1 ㎝ 의 영역에 있어서의 휘도 (La, Lb, Lc, Ld) 및 모니터 중앙 부분의 직경 1 ㎝ 의 영역에 있어서의 휘도 (Lcenter) 를 휘도계 (하이랜드사 제조, 형명 : RISA-COLOR/CD8) 를 사용하여 측정하고, 하기 식 (4) 에 기초하여 광 누설성 (ΔL) 을 산출하였다. ΔL 이 작을수록 (백라이트로부터의) 광 누설이 적은 것을 의미하고, 통상, ΔL 이 2.0 미만이면 액정 표시용 패널로서의 사용이 가능하다.
ΔL ＝ (La ＋ Lb ＋ Lc ＋ Ld)/4 － Lcenter … (4)
또, 도 2 에서 점선으로 나타내는 바와 같이, 디스플레이 모니터의 코너 부근에 있어서 광 누설이 발생한 범위 (R) 를 육안으로 측정하였다. 광 누설이 발생한 범위는 작을수록 광 누설이 적은 것을 의미하고, 통상, R 이 20 ㎜ 미만이면, 액정 표시용 패널로서의 사용이 가능하다.
3.3.3. 습열 내구성
박리 처리된 폴리에스테르 필름을 벗긴 평가용 점착 가공 편광판을 15 인치 사이즈 (233 ㎜ × 309 ㎜) 로 재단하고, 두께 0.5 ㎜ 의 무알칼리 유리판의 편면에, 점착제층이 상기 유리판에 접하도록 하여, 라미네이터 롤을 사용하여 첩부하였다. 첩부 후, 오토클레이브 (쿠리하라 제작소 제조) 로 0.5 ㎫, 50 ℃, 20 분의 조건에서 가압 처리하여 시험용 플레이트를 얻었다. 이렇게 하여 얻어진 시험용 플레이트를 60 ℃/90 ％RH 의 조건하에 500 시간 방치하였다. 시험 종료 후, 시험용 플레이트를 시험 환경으로부터 꺼내고, 23 ℃/50 ％RH 분위기하에서 2 시간 정치한 후, 점착제층에 있어서의 발포 (응집력 부족), 단열 (과가교) 을 육안으로 관찰하여, 습열 내구성을 하기 평가 기준으로 평가하였다.
(발포-사이즈)
○ : 발포가 전혀 관찰되지 않는다
△ : 발포 직경이 1 ㎜ 이하
× : 발포 직경이 1 ㎜ 보다 크다
(발포-발생량)
○ : 발포가 전혀 관찰되지 않는다
△ : 발포 개수가 10 개 이하
× : 발포 개수가 10 개보다 많다
(단열-사이즈)
○ : 단열이 전혀 관찰되지 않는다
△ : 단열이 발생한 면적이 시험용 플레이트에 있어서의 첩합 부분 전체 (100 ％) 에 대해 5 ％ 미만
× : 단열이 발생한 면적이 시험용 플레이트에 있어서의 첩합 부분 전체 (100 ％) 에 대해 5 ％ 이상
(단열-위치)
○ : 단열이 전혀 없다
△ : 시험용 플레이트의 각 단부 부근의 1 ㎝ 폭 영역에만 결점이 있다
× : 시험용 플레이트의 각 단부 부근의 1 ㎝ 영역과 영역 외에 결점이 있다.
Figure 112015058389126-pct00004
Figure 112015058389126-pct00005
Figure 112015058389126-pct00006
또한, 표 2, 표 3 및 표 4 에 있어서의 약어는 이하의 의미이다.
AA : 아크릴산
AM : 아크릴아미드
BA : n-부틸아크릴레이트
t-BA : 터셔리부틸아크릴레이트
i-BMA : 이소부틸메타크릴레이트
HEA : 2-하이드록시에틸아크릴레이트
L-45 : TDI 계 이소시아네이트 화합물 (소켄 화학사 제조 L-45)
MA : 메틸아크릴레이트
MEA : 메톡시에틸아크릴레이트
i-PMA : 이소프로필메타아크릴레이트
TD : XDI 계 이소시아네이트 화합물 (미츠이 타케다 약품사 제조 TD-75)
KBM-403 : 3-글리시독시프로필트리메톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조)
대전 방지제 ((D) 성분 : 이온성 화합물) : 1-옥틸-4-메틸피리디늄·비스(플루오로술포닐)이미드
표 1 내지 4 의 결과로부터, 상기 실시예 1 내지 15 의 조성물은 최대 변형률이 10 ％ 이하이며, 또한, 변형 복원율이 50 ％ 이상임으로써, 그 조성물을 사용하여 얻어지는 접착제층이 광학 필름의 수축을 적당히 억제하는 제 1 특성과, 그 점착제층의 변형이 신속하게 복원되는 제 2 특성의 양방을 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물이 구비함으로써, 높은 점착력 및 우수한 내구성을 실현하며, 또한, 광 누설을 저감시킬 수 있다. 이에 반하여, 상기 비교예 1 내지 6 의 조성물은, 최대 변형률이 10 ％ 이하임으로써, 변형 복원율이 50 ％ 이상인 것과의 양방을 만족시키지 않는 점에서, 그 조성물을 사용하여 얻어지는 접착제층이 상기 제 1 특성 및 제 2 특성을 양립시키지 않기 때문에, 광 누설의 저감을 충분히 달성할 수 없음을 이해할 수 있다.
1 : 시료편
2 : 지그
10 : 최종 변형률
20 : 최대 변형률
100 : 화상 표시 장치
La, Lb, Lc, Ld : 화상 표시 장치의 코너 근방의 휘도
Lcenter : 화상 표시 장치의 중앙부에 있어서의 휘도
M : 원주 이동량
T : 시료편의 두께
110 : 유리 기판
120 : 점착제층
130 : 편광 필름
200 : 적층체

Claims (10)

  1. 가교성 관능기를 갖는 아크릴계 폴리머 (A) 와, 가교제 (B) 를 함유하고,
    하기에 정의되는 최대 변형률이 10 ％ 이하이며, 또한, 하기에 정의되는 변형 복원율이 50 ％ 이상인 광학 필름용 점착제 조성물로서,
    상기 아크릴계 폴리머 (A) 는 (메트)아크릴산에스테르 (a1) 을 함유하는 모노머 혼합물의 중합체로서,
    상기 가교성 관능기를 갖는 아크릴계 폴리머 (A) 가,
    가교성 관능기를 갖지 않으며, 또한, 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 이상인 (메트)아크릴산에스테르 (a1) 5 ∼ 55 질량％ 와,
    가교성 관능기를 갖지 않으며, 또한, 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 미만인 (메트)아크릴산에스테르 (a2) 44.5 ∼ 94.5 질량％ 와,
    가교성 관능기를 갖는 모노머 (a3) 0.5 ∼ 6 질량％ 를 함유하는 모노머 혼합물의 중합체이며 (여기서, 상기 모노머 혼합물 중에 있어서의 상기 (a1), (a2) 및 (a3) 의 합계량은 90 ∼ 100 질량％ 이다),
    상기 아크릴계 폴리머 (A) 의 중량 평균 분자량이 50 만 ∼ 200 만이고,
    상기 아크릴계 폴리머 (A) 의 함유량이 점착제 조성물 100 질량부에 대해 95 ∼ 99.8 질량부이고,
    상기 가교제 (B) 가 이소시아네이트 가교제이고,
    상기 가교제 (B) 의 함유량이 점착제 조성물 100 질량부에 대해 0.01 ∼ 3 질량부이며,
    점착제 조성물 중에 중량 평균 분자량이 1 만 ∼ 5 만인 아크릴계 폴리머를 함유하지 않는 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제 조성물.
    최대 변형률 : 상기 광학 필름용 점착제 조성물을 평판 상에 도포하고 건조시켜 얻어지는 두께 1 ㎜ 의 점착 시트를 Φ 8 ㎜ 로 컷하여 얻어지는 시험편에 대해, 레오미터를 사용하여 하기 측정 공정 1 내지 3 을 순서대로 실시한 경우에 있어서, 변형률이 최대가 되는 시점의 변형률 (％)
    최종 변형률 : 레오미터를 사용하여 하기 측정 공정 1 내지 3 을 순서대로 실시한 후의 그 시험편의 변형률 (％)
    변형 복원율 : 상기 광학 필름용 점착제 조성물을 평판 상에 도포하고 건조시켜 얻어지는 두께 1 ㎜ 의 점착 시트를 Φ 8 ㎜ 로 컷하여 얻어지는 시험편에 대해, 하기 식 (1) 에 기초하여 산출된 값
    변형 복원율 (％) ＝ (최대 변형률 － 최종 변형률)/최대 변형률 × 100 … (1)
    측정 공정 1 : 상기 시료편의 온도를 23 ℃ 부터 80 ℃ 까지 15 분간 일정 속도로 증가시키면서, 그 시료편의 전단 응력을 0 ㎩ 부터 1000 ㎩ 까지 15 분간 일정 속도로 증가시킨다
    측정 공정 2 : 상기 시료편의 온도를 80 ℃ 에서 30 분간 유지하면서, 전단 응력을 1000 ㎩ 부터 2000 ㎩ 까지 30 분간 일정 속도로 증가시킨다
    측정 공정 3 : 상기 시료편의 온도를 80 ℃ 부터 23 ℃ 까지 15 분간 일정 속도로 감소시키면서, 그 시료편의 전단 응력을 2000 ㎩ 부터 0 ㎩ 까지 15 분간 일정 속도로 감소시킨다.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 (메트)아크릴산에스테르 (a1) 이 (메트)아크릴산알킬에스테르이고,
    상기 (메트)아크릴산알킬에스테르의 알킬에스테르 부위를 구성하는 알킬 사슬 (여기서, 상기 알킬 사슬의 탄소 원자수는 1 ∼ 20 이다) 이 직사슬형 또는 분기형의 알킬 사슬인 광학 필름용 점착제 조성물.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 가교성 관능기를 갖는 아크릴계 폴리머 (A) 는 Tg 가 -70 ∼ 0 ℃ 인 광학 필름용 점착제 조성물.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 가교성 관능기를 갖는 아크릴계 폴리머 (A) 는 중량 평균 분자량이 80 만 ∼ 200 만인 광학 필름용 점착제 조성물.
  5. 제 1 항에 있어서,
    겔 분율이 70 ％ 이상인 광학 필름용 점착제 조성물.
  6. 가교성 관능기를 갖는 아크릴계 폴리머 (A) 와, 가교제 (B) 를 함유하고,
    상기 아크릴계 폴리머 (A) 의 중량 평균 분자량이 50 만 ∼ 200 만이고,
    상기 아크릴계 폴리머 (A) 의 함유량이 점착제 조성물 100 질량부에 대해 95 ∼ 99.8 질량부 함유하고,
    상기 아크릴계 폴리머 (A) 가,
    가교성 관능기를 갖지 않으며, 또한, 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 이상인 (메트)아크릴산에스테르 (a1) 5 ∼ 55 질량％ 와,
    가교성 관능기를 갖지 않으며, 또한, 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 미만인 (메트)아크릴산에스테르 (a2) 44.5 ∼ 94.5 질량％ 와,
    가교성 관능기를 갖는 모노머 (a3) 0.5 ∼ 6 질량％ 를 함유하는 모노머 혼합물의 중합체이며 (여기서, 상기 모노머 혼합물 중에 있어서의 상기 (a1), (a2) 및 (a3) 의 합계량은 90 ∼ 100 질량％ 이다), 또한, 겔 분율 70 ％ 이상이고,
    상기 가교제 (B) 가 이소시아네이트 가교제이고,
    상기 가교제 (B) 의 함유량이 점착제 조성물 100 질량부에 대해 0.01 ∼ 3 질량부이며,
    점착제 조성물 중에 중량 평균 분자량이 1 만 ~ 5 만인 아크릴계 폴리머를 함유하지 않는 것을 특징으로 하는 광학 필름용 점착제 조성물.
  7. 제 1 항 또는 제 6 항에 기재된 광학 필름용 점착제 조성물을 함유하는 점착제층을 광학 필름의 편면 또는 양면에 형성하는 점착형 광학 필름.
  8. 제 7 항에 있어서,
    편광 필름, 위상차 필름, 타원 편광 필름, 반사 방지 필름, 휘도 향상 필름 및 광 확산 필름으로 이루어지는 군에서 선택되는 광학 필름인 점착형 광학 필름.
  9. 유리 기판과,
    편광판과,
    상기 유리 기판과 상기 편광판 사이에 형성된 제 1 항 또는 제 6 항에 기재된 광학 필름용 점착제 조성물을 막상으로 성형하고 가열하여 얻어지는 점착제층을 포함하는 적층체.
  10. 삭제
KR1020157016082A 2012-12-14 2013-11-27 광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름, 그리고 적층체 KR101757569B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2012-273724 2012-12-14
JP2012273724 2012-12-14
PCT/JP2013/081882 WO2014091927A1 (ja) 2012-12-14 2013-11-27 光学フィルム用粘着剤組成物および粘着型光学フィルム、ならびに積層体

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150087329A KR20150087329A (ko) 2015-07-29
KR101757569B1 true KR101757569B1 (ko) 2017-07-12

Family

ID=50934221

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020157016082A KR101757569B1 (ko) 2012-12-14 2013-11-27 광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름, 그리고 적층체

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP5887404B2 (ko)
KR (1) KR101757569B1 (ko)
CN (1) CN104837945B (ko)
TW (1) TWI608064B (ko)
WO (1) WO2014091927A1 (ko)

Families Citing this family (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6325538B2 (ja) * 2013-06-19 2018-05-16 綜研化学株式会社 偏光板用粘着剤組成物、偏光板用粘着シート、粘着剤層付き偏光板、積層体及びフラットパネルディスプレイ
CN106459710B (zh) * 2014-04-04 2019-09-03 3M创新有限公司 湿润和干燥表面粘合剂
KR101622071B1 (ko) * 2014-11-01 2016-05-19 삼성에스디아이 주식회사 점착제 조성물, 이로부터 형성된 점착필름 및 이를 포함하는 디스플레이 부재
KR102307244B1 (ko) * 2014-12-02 2021-10-01 삼성디스플레이 주식회사 표시 장치
WO2016160250A1 (en) * 2015-03-31 2016-10-06 Rohm And Haas Company Methods of making pressure sensitive adhesive compositions
KR102665600B1 (ko) * 2015-03-31 2024-05-10 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤 광학 적층체 및 액정 표시 장치
JP6341889B2 (ja) * 2015-07-06 2018-06-13 綜研化学株式会社 遮光性両面粘着部材用のアクリル系粘着剤組成物、遮光性両面粘着部材および画像表示装置
KR101596664B1 (ko) * 2015-11-18 2016-03-07 정찬수 보호필름
KR102417115B1 (ko) 2015-12-04 2022-07-06 삼성디스플레이 주식회사 플렉서블 디스플레이 장치
JP6907860B2 (ja) * 2017-09-25 2021-07-21 王子ホールディングス株式会社 偏光板用光学粘着シート及び偏光板
KR102301938B1 (ko) * 2017-10-20 2021-09-14 동우 화인켐 주식회사 플렉서블 디스플레이 장치
CN109358390B (zh) * 2018-10-30 2024-03-22 东莞市谷麦光学科技有限公司 一种出光均匀的导光组件
TW202030084A (zh) * 2019-02-12 2020-08-16 日商住友化學股份有限公司 積層體及圖像顯示裝置
JP7078685B2 (ja) * 2020-10-05 2022-05-31 藤森工業株式会社 光学フィルム用粘着剤層
JP7078686B2 (ja) * 2020-10-08 2022-05-31 藤森工業株式会社 光学フィルム用粘着剤層

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101089434B1 (ko) * 2005-02-16 2011-12-07 닛폰고세이가가쿠고교 가부시키가이샤 광학 부재용 점착제, 광학 부재용 점착제의 제조 방법

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005187677A (ja) * 2003-12-26 2005-07-14 Toyo Ink Mfg Co Ltd マーキングフィルム
JP4750410B2 (ja) * 2004-12-17 2011-08-17 三菱樹脂株式会社 光学部材貼合用粘着シート
EP2048214B1 (en) * 2006-07-20 2012-01-11 Soken Chemical & Engineering Co. Ltd., Pressure-sensitive adhesive composition for pdp front filter and use
KR101638207B1 (ko) * 2008-09-01 2016-07-08 닛뽕 카바이도 고교 가부시키가이샤 점착제 조성물, 점착제, 및 광학필름
JP2011038055A (ja) * 2009-08-18 2011-02-24 Nippon Carbide Ind Co Inc 粘着剤組成物及び光学フィルム

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101089434B1 (ko) * 2005-02-16 2011-12-07 닛폰고세이가가쿠고교 가부시키가이샤 광학 부재용 점착제, 광학 부재용 점착제의 제조 방법

Also Published As

Publication number Publication date
WO2014091927A1 (ja) 2014-06-19
TW201428073A (zh) 2014-07-16
CN104837945A (zh) 2015-08-12
CN104837945B (zh) 2017-08-25
TWI608064B (zh) 2017-12-11
KR20150087329A (ko) 2015-07-29
JP5887404B2 (ja) 2016-03-16
JPWO2014091927A1 (ja) 2017-01-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101757569B1 (ko) 광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름, 그리고 적층체
JP6106205B2 (ja) 光学フィルム用粘着剤組成物、光学フィルム用粘着剤層、粘着剤層付光学フィルムおよび画像表示装置
KR101950056B1 (ko) 광학 부재용 점착제 조성물 그리고 그것을 사용한 점착 시트, 점착제층 부착 광학 부재 및 플랫 패널 디스플레이
JP6283355B2 (ja) 積層体
JP5583001B2 (ja) 光学フィルム用粘着剤組成物および粘着型光学フィルム
KR101946695B1 (ko) 광학 필름용 점착제 조성물, 점착형 광학 필름 및 적층체
WO2018062288A1 (ja) 光学用粘着剤層、光学用粘着剤層の製造方法、粘着剤層付光学フィルム、及び、画像表示装置
JP6457547B2 (ja) 粘着剤層、粘着剤層付き偏光板および積層体
WO2017056927A1 (ja) 光学フィルム用粘着剤組成物、光学フィルム用粘着剤層、粘着剤層付光学フィルムおよび画像表示装置
KR102156462B1 (ko) 광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름
WO2018062289A1 (ja) 光学用粘着剤層、光学用粘着剤層の製造方法、粘着剤層付光学フィルム、及び、画像表示装置
KR20150140719A (ko) 광학용 점착제 조성물, 광학용 점착 시트 및 그 제조 방법
KR101947864B1 (ko) 광학 부재용 점착제 조성물, 점착 시트 및 적층체

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
AMND Amendment
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
X701 Decision to grant (after re-examination)
GRNT Written decision to grant