KR102156462B1 - 광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름 - Google Patents

광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름 Download PDF

Info

Publication number
KR102156462B1
KR102156462B1 KR1020157031124A KR20157031124A KR102156462B1 KR 102156462 B1 KR102156462 B1 KR 102156462B1 KR 1020157031124 A KR1020157031124 A KR 1020157031124A KR 20157031124 A KR20157031124 A KR 20157031124A KR 102156462 B1 KR102156462 B1 KR 102156462B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
mass
less
group
sensitive adhesive
pressure
Prior art date
Application number
KR1020157031124A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20150140711A (ko
Inventor
사치 무로이
류타 오오카
Original Assignee
소켄 케미칼 앤드 엔지니어링 캄파니, 리미티드
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 소켄 케미칼 앤드 엔지니어링 캄파니, 리미티드 filed Critical 소켄 케미칼 앤드 엔지니어링 캄파니, 리미티드
Publication of KR20150140711A publication Critical patent/KR20150140711A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR102156462B1 publication Critical patent/KR102156462B1/ko

Links

Images

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J133/00—Adhesives based on homopolymers or copolymers of compounds having one or more unsaturated aliphatic radicals, each having only one carbon-to-carbon double bond, and at least one being terminated by only one carboxyl radical, or of salts, anhydrides, esters, amides, imides, or nitriles thereof; Adhesives based on derivatives of such polymers
    • C09J133/04—Homopolymers or copolymers of esters
    • C09J133/06—Homopolymers or copolymers of esters of esters containing only carbon, hydrogen and oxygen, the oxygen atom being present only as part of the carboxyl radical
    • C09J133/062—Copolymers with monomers not covered by C09J133/06
    • C09J133/066—Copolymers with monomers not covered by C09J133/06 containing -OH groups
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/02—Halogenated hydrocarbons
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/20—Adhesives in the form of films or foils characterised by their carriers
    • C09J7/22—Plastics; Metallised plastics
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J7/00—Adhesives in the form of films or foils
    • C09J7/30—Adhesives in the form of films or foils characterised by the adhesive composition
    • C09J7/38—Pressure-sensitive adhesives [PSA]
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/0008—Organic ingredients according to more than one of the "one dot" groups of C08K5/01 - C08K5/59
    • C08K5/0025—Crosslinking or vulcanising agents; including accelerators
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/29—Compounds containing one or more carbon-to-nitrogen double bonds
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
    • C08K5/00—Use of organic ingredients
    • C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
    • C08K5/34—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring
    • C08K5/3467—Heterocyclic compounds having nitrogen in the ring having more than two nitrogen atoms in the ring
    • C08K5/3477—Six-membered rings
    • C08K5/3492—Triazines
    • C08K5/34924—Triazines containing cyanurate groups; Tautomers thereof
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2203/00—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2203/318—Applications of adhesives in processes or use of adhesives in the form of films or foils for the production of liquid crystal displays
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2301/00—Additional features of adhesives in the form of films or foils
    • C09J2301/40—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components
    • C09J2301/408—Additional features of adhesives in the form of films or foils characterized by the presence of essential components additives as essential feature of the adhesive layer
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
    • C09J2433/00—Presence of (meth)acrylic polymer
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
    • G02B1/10—Optical coatings produced by application to, or surface treatment of, optical elements
    • G02B1/11—Anti-reflection coatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/02—Diffusing elements; Afocal elements
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/30—Polarising elements

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Medicinal Chemistry (AREA)
  • Polymers & Plastics (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Adhesive Tapes (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Polarising Elements (AREA)

Abstract

광학 필름용 점착제 조성물은 (A) (a1) 특정한 구조를 갖는 (메트)아크릴산에스테르 단량체 및 (a2) 분자 내에 1 개의 올레핀성 이중 결합과 적어도 1 개의 수산기를 갖는 단량체를 포함하는 단량체 혼합물의 중합체인 아크릴계 폴리머와, (B) 특정한 구조를 갖는 가교제를 포함한다.

Description

광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름{ADHESIVE AGENT COMPOSITION FOR OPTICAL FILMS, AND ADHESIVE OPTICAL FILM}
본 발명은 광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름에 관한 것이다.
화상 표시 장치는, 최근 다양한 용도나 조건하에 있어서 사용되고 있으며, 예를 들어, 실온 조건하 뿐만 아니라, 고온, 나아가서는 고온 다습과 같은 가혹한 조건하에 있어서도 사용되는 경우도 많아지고 있다. 고온 또는 고온 다습 조건에서의 사용으로는, 예를 들어, 열대 지역에 있어서의 사용, 차량 내부나 야외 계측 기기의 내부에서의 사용을 들 수 있다.
또, 화상 표시 장치를 구성하는 편광 필름 등의 광학 필름은, 이색성을 갖는 색소를 폴리비닐알코올 등의 고분자 필름에 흡착시키고, 연신 및 배향시킴으로써 제조된다. 이 때문에, 광학 필름은 고온이나 다습 환경하에서 수축하여, 치수 변형이 발생하기 쉽다. 또, 한번 광학 필름에 치수 변형이 발생한 경우, 비록, 온도 조건이나 습도 조건이 바꾸었다고 해도, 원래의 치수로는 완전하게 돌아가는 것은 곤란하다. 그 결과, 광학 필름의 치수 변화에 의해 발생한 응력의 영향으로 점착제층에 균열, 박리, 들뜸이 발생하거나, 편광축의 왜곡에 의한 광 누설이 화상 표시 장치에 발생해 버리거나 한다.
또한, 최근, 화상 표시 장치의 대화면화, 고화질화, 고내구성이 요구되고 있다. 이에 수반하여, 점착제 조성물에 대해, 편광 필름 등의 광학 필름의 치수 변화에 의해 발생하는 광 누설, 고온 고습 환경하에서의 박리, 발포 등의 외관의 결함을 해결하기 위해서, 각종 검토가 이루어지고 있다.
일본 공개특허공보 2007-169329호
본 발명은 고온 및 다습 조건하에서 우수한 내구성을 발휘하고, 또한, 액정 셀 등의 피착체와 편광 필름 등의 광학 필름의 접착에 사용된 경우, 광 누설을 저감할 수 있는 광학 필름용 점착제 조성물, 및 그것을 사용한 점착형 광학 필름을 제공하는 것을 목적으로 하고 있다.
본 발명자들은, 이와 같은 과제를 해결하기 위해서, 소정의 구조를 갖는 가교제를 포함하는 점착제 조성물을 사용하여 점착제층을 형성하고, 액정 셀 등의 피착체와 편광 필름 등의 광학 필름의 접착에 사용한 경우, 광 누설을 저감할 수 있는 것을 알아내었다.
1. 본 발명의 일 태양에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물은,
(A) (a1) 하기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체 및 (a2) 분자 내에 1 개의 올레핀성 이중 결합과 적어도 1 개의 수산기를 갖는 단량체를 포함하는 단량체 혼합물의 중합체인 아크릴계 폴리머와,
(B) 하기 일반식 (2) 또는 하기 일반식 (3) 으로 나타내는 가교제를 포함한다.
[화학식 1]
Figure 112015104912298-pct00001
(식 중, R1 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2 는 탄소수 1 이상 14 이하의 알킬기 또는 아르알킬기를 나타낸다.)
[화학식 2]
Figure 112015104912298-pct00002
(식 중, R1A, R1B, R1C 는 독립적으로, 하기 일반식 (4) 로 나타내는 기 및/또는 하기 일반식 (5) 로 나타내는 기를 포함하는 기이고, R2A, R2B, R2C 는 독립적으로, 탄소 원자수 2 이상 10 이하의 알킬렌기를 포함하는 기이다.)
[화학식 3]
Figure 112015104912298-pct00003
(식 중, R1A, R1B, R1C 는 독립적으로, 하기 일반식 (4) 로 나타내는 기 및/또는 하기 일반식 (5) 로 나타내는 기를 포함하는 기이고, R2A, R2B, R2C 는 독립적으로, 탄소 원자수 2 이상 10 이하의 알킬렌기를 포함하는 기이고, R3A, R3B, R3C, R3D, R3E, R3F 는 독립적으로, 탄소 원자수 2 이상 10 이하의 알킬렌기를 포함하는 기이다.)
[화학식 4]
Figure 112015104912298-pct00004
(식 중, x 는 2 이상 10 이하의 정수이고, m 은 1 이상 10 이하의 정수이다.)
[화학식 5]
Figure 112015104912298-pct00005
(식 중, X 는 단결합 또는 -O- 를 나타내고, y 는 2 이상 10 이하의 정수이고, n 은 1 이상 10 이하의 정수이다.)
2. 상기 1 의 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서, 상기 (A) 아크릴계 폴리머 100 질량부에 대해 상기 (B) 가교제 0.05 질량부 이상 5 질량부 이하를 포함할 수 있다.
3. 상기 1 또는 2 의 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서, 상기 단량체 혼합물은, 상기 (a1) 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체 90 질량％ 이상 99.9 질량％ 이하 및 (a2) 분자 내에 1 개의 올레핀성 이중 결합과 적어도 1 개의 수산기를 갖는 단량체 0.1 질량％ 이상 10 질량％ 이하를 포함할 수 있다.
4. 상기 1 내지 3 중 어느 하나에 기재된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서, 상기 단량체 혼합물은, 상기 (a1) 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체로서, (a1-1) 호모폴리머를 형성하였다고 가정한 경우의 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 이상인, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체 5 질량％ 이상 55 질량％ 이하와, (a1-2) 호모폴리머를 형성하였다고 가정한 경우의 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 미만인, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체 44.5 질량％ 이상 94.5 질량％ 이하 (여기서, 상기 (a1-1) 과 상기 (a1-2) 의 합계량은 90.1 질량％ 이상 100 질량％ 이하이다) 를 포함할 수 있다.
5. 상기 1 내지 4 중 어느 하나에 기재된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서, 상기 (A) 아크릴계 폴리머 100 질량부에 대해, (C) 실란 커플링제 0.01 질량부 이상 0.5 질량부 이하를 추가로 포함할 수 있다.
6. 상기 1 내지 5 중 어느 하나에 기재된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서, 상기 (A) 아크릴계 폴리머 100 질량부에 대해, (D) 이온성 화합물 0.01 질량부 이상 3 질량부 이하를 추가로 포함할 수 있다.
7. 상기 1 내지 6 중 어느 하나에 기재된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서, 60 ℃ 에 있어서의 미소 크리프 값이 0.50 ㎜ 이하일 수 있다.
8. 본 발명의 다른 양태에 관련된 점착형 광학 필름은, 상기 1 내지 7 중 어느 하나에 기재된 광학 필름용 점착제 조성물을 포함하는 점착제층을 광학 필름의 편면 또는 양면에 형성한다.
9. 상기 8 에 기재된 점착형 광학 필름은, 편광 필름, 위상차 필름, 타원 편광 필름, 반사 방지 필름, 휘도 향상 필름 및 광 확산 필름으로 이루어지는 군에서 선택되는 광학 필름일 수 있다.
상기 광학 필름용 점착제 조성물은 (B) 성분을 포함함으로써, (B) 성분에 포함되는 상기 일반식 (4) 로 나타내는 기 및/또는 상기 일반식 (5) 로 나타내는 기를 포함하는 기에 기인하여, 그 점착제 조성물이 어느 정도의 경도를 가진 상태로, 그 점착제 조성물에 적당한 응집력 및 탄성이 부여된다. 이에 따라, 그 점착제 조성물은, 원래는 트레이드오프의 관계가 되는 경우가 많은, 응집력과 탄성의 쌍방을 구비할 수 있다. 따라서, 그 점착제 조성물은 적당한 점착력을 갖고, 고온 조건하 혹은 고온 다습 조건하에서 우수한 내구성 (습열 내구성) 을 발휘하고, 또한, 액정 셀 등의 피착체와 편광 필름 등의 광학 필름의 접착에 사용된 경우, 광 누설을 저감할 수 있다. 또, 상기 광학 필름용 점착제 조성물을 사용한 상기 점착형 광학 필름은, 액정 셀 등의 피착체에 적당한 점착력으로 첩착 (貼着) 되고, 고온 조건하 혹은 고온 다습 조건하에서 우수한 내구성을 발휘하며, 또한, 액정 셀 등의 피착체와의 접착에 사용되는 경우, 광 누설을 저감할 수 있다.
도 1 은, 본 발명의 실시예에 있어서의 화상 표시 장치 (액정 디스플레이 패널, VA 방식) 의 휘도의 측정 방법을 모식적으로 설명하는 도면이다.
도 2 는, 본 발명의 실시예에 있어서의 화상 표시 장치 (액정 디스플레이 패널, TN 방식) 의 휘도의 측정 방법을 모식적으로 설명하는 도면이다.
이하, 도면을 참조하면서, 본 발명을 상세하게 설명한다. 또한, 본 발명에 있어서, 각별하게 언급하지 않는 한, 「부」 는 「질량부」 를 의미하며, 「％」 는 「질량％」 를 의미한다.
1. 광학 필름용 점착제 조성물
본 발명의 일 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물 (이하, 간단히 「점착제 조성물」 이라고 기재하는 경우도 있다.) 은, 아크릴계 폴리머 (A) (이하, 간단히 「(A) 성분」 이라고 기재하는 경우도 있다.) 와, 하기 일반식 (2) 또는 하기 일반식 (3) 으로 나타내는 가교제 (B) (이하, 간단히 「(B) 성분」 이라고 기재하는 경우도 있다.) 를 포함한다.
[화학식 6]
Figure 112015104912298-pct00006
(식 중, R1A, R1B, R1C 는 독립적으로, 하기 일반식 (4) 로 나타내는 기 및/또는 하기 일반식 (5) 로 나타내는 기를 포함하는 기이고, R2A, R2B, R2C 는 독립적으로, 탄소 원자수 2 이상 10 이하의 알킬렌기를 포함하는 기이다.)
[화학식 7]
Figure 112015104912298-pct00007
(식 중, R1A, R1B, R1C 는 독립적으로, 하기 일반식 (4) 로 나타내는 기 및/또는 하기 일반식 (5) 로 나타내는 기를 포함하는 기이고, R2A, R2B, R2C 는 독립적으로, 탄소 원자수 2 이상 10 이하의 알킬렌기를 포함하는 기이고, R3A, R3B, R3C, R3D, R3E, R3F 는 독립적으로, 탄소 원자수 2 이상 10 이하의 알킬렌기를 포함하는 기이다.)
[화학식 8]
Figure 112015104912298-pct00008
(식 중, x 는 2 이상 10 이하의 정수이고, m 은 1 이상 10 이하의 정수이다.)
[화학식 9]
Figure 112015104912298-pct00009
(식 중, X 는 단결합 또는 -O- 를 나타내고, y 는 2 이상 10 이하의 정수이고, n 은 1 이상 10 이하의 정수이다.)
1.1. (A) 성분
(A) 성분은, (a1) 하기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체 및 (a2) 분자 내에 1 개의 올레핀성 이중 결합과 적어도 1 개의 수산기를 갖는 단량체를 포함하는 단량체 혼합물로부터 얻어지는 아크릴계 폴리머이다.
[화학식 10]
Figure 112015104912298-pct00010
(식 중, R1 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2 는 탄소수 1 이상 14 이하의 알킬기 또는 아르알킬기를 나타낸다.)
본 발명에 있어서, 「아크릴계 폴리머」 란, 아크릴산, 아크릴산염, 아크릴산에스테르, 메타아크릴산, 메타크릴산염, 및 메타크릴산에스테르에서 선택되는 적어도 1 종을 구성 단위 중에 50 질량％ 이상 포함하는 폴리머를 말한다. 또, 본 발명에 있어서, 「올레핀성 이중 결합」 이란, 탄소-탄소 이중 결합 (C=C) 을 말한다. 이 때문에, 「분자 내에 1 개의 올레핀성 이중 결합을 갖는 단량체」 는, 탄소-탄소 이중 결합 부위를 갖는 단량체를 의미한다.
상기 일반식 (1) 에 있어서 R2 로 나타내는 탄소수 1 이상 14 이하의 알킬기로는, 탄소수 1 이상 14 이하의 직사슬형 또는 분기형의 알킬기, 예를 들어, 메틸기, 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, 이소부틸기, tert-부틸기, n-펜틸기, 이소펜틸기, 네오펜틸기, tert-펜틸기, 2-메틸부틸기, 1-메틸부틸기, n-헥실기, 이소헥실기, 3-메틸펜틸기, 2-메틸펜틸기, 1-메틸펜틸기, n-헵틸기, n-옥틸기, 이소옥틸기, 2-에틸헥실기, n-노닐기, n-데실기, n-운데실기, n-도데실기, n-트리데실기, n-테트라데실기 (미리스틸기) 등을 들 수 있다. 이 중, R2 로서 탄소수 1 이상 10 이하의 알킬기를 갖는 것이 바람직하고, 탄소수 1 이상 10 이하의 직사슬형 알킬기를 갖는 것이 보다 바람직하다.
또, 본 발명에 있어서, 「아르알킬기 (aralkyl group)」 란, 알킬기의 수소 원자 1 개가 아릴기로 치환되어 있는 알킬기를 말한다. 상기 일반식 (1) 에 있어서 R2 로 나타내는 탄소수 1 이상 14 이하의 아르알킬기로는, 예를 들어, 벤질기 (페닐메틸기), 페네틸기 (페닐에틸기) 를 들 수 있다.
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 있어서의 (A) 성분의 함유량은, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물 100 질량부에 대해 90 질량부 이상 99.4 질량부 이하일 수 있고, 95 질량부 이상 99.4 질량부 이하인 것이 바람직하다.
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 있어서, 보다 양호한 점착력 및 보다 우수한 내구성을 발휘하고, 또한, 액정 셀 등의 피착체와 편광 필름 등의 광학 필름의 접착에 사용된 경우, 광 누설을 보다 효과적으로 저감할 수 있는 관점에서, (A) 성분은, (a1) 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체 (이하, 간단히 「(a1) 성분」 이라고 기재하는 경우도 있다.) 90 질량％ 이상 99.9 질량％ 이하 (바람직하게는 92 질량％ 이상 98.9 질량％ 이하) 및 (a2) 분자 내에 1 개의 올레핀성 이중 결합과 적어도 1 개의 수산기를 갖는 단량체 (이하, 간단히 「(a2) 성분」 이라고 기재하는 경우도 있다.) 0.1 질량％ 이상 10 질량％ 이하 (바람직하게는 0.6 질량％ 이상 7 질량％ 이하, 보다 바람직하게는 0.6 질량％ 이상 6 질량％ 이하) 를 포함하는 단량체 혼합물의 중합체인 것이 바람직하다. 이 경우, (a1) 성분과 (a2) 성분의 합계량은 90.1 질량％ 이상 100 질량％ 이하인 것이 바람직하다.
1.1.1. (a1) 성분
(a1) 성분은, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물의 점착력 및 내구성에 기여할 수 있다. (a1) 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체로서, 예를 들어, (a1-1) 호모폴리머를 형성하였다고 가정한 경우의 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 이상인, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체 (이하, 간단히 「(a1-1) 성분」 이라고 기재하는 경우도 있다.) 를 사용할 수 있다.
(a1-1) 성분인, 호모폴리머를 형성하였다고 가정한 경우의 Tg 가 0 ℃ 이상인, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체로는, 예를 들어, 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-프로필아크릴레이트, n-프로필메타크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, n-헥사데실아크릴레이트, n-헥사데실메타크릴레이트, 스테아릴아크릴레이트, 스테아릴메타크릴레이트 등의 직사슬형 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르；tert-부틸아크릴레이트, 이소프로필메타크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, tert-부틸메타크릴레이트 등의 분기형 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르 단량체；시클로헥실아크릴레이트, 시클로헥실메타크릴레이트, 이소보르닐아크릴레이트, 이소보르닐메타크릴레이트, 디시클로펜타닐아크릴레이트 등의 에스테르 부위에 지환기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르 단량체；벤질메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 2-나프틸아크릴레이트 등의 방향 고리기를 갖는 (메트)아크릴산에스테르 단량체를 들 수 있으며, 이 중 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이 중, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용하여 형성된 점착제층이 화상 표시 장치의 광 누설을 보다 저감할 수 있는 점에서, (a1-1) 성분은, 상기 일반식 (1) 로 나타내는, 호모폴리머를 형성하였다고 가정한 경우의 Tg 가 0 ℃ 이상인 (메트)아크릴산알킬에스테르 단량체로서, 그 (메트)아크릴산알킬에스테르 단량체를 구성하는 알킬 사슬이 직사슬형 또는 분기형의 알킬 사슬인 것이 바람직하고, 분기형의 알킬 사슬을 갖는 것이 보다 바람직하다. 이 경우, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용하여 형성된 점착제층이 화상 표시 장치의 광 누설을 더욱 저감할 수 있는 점에서, 상기 알킬 사슬의 탄소 원자수는 1 이상 10 이하인 것이 더욱 바람직하고, 1 이상 6 이하인 것이 특히 바람직하다.
(A) 성분인 중합체를 얻기 위한 상기 단량체 혼합물 중에 있어서의 (a1-1) 성분의 함유량이 5 질량％ 미만이면, 광 누설을 충분히 억제할 수 없는 경우가 있고, 한편, 55 질량％ 를 초과하면, 점착제층이 지나치게 단단해져, 첩부 (貼付) 작업성이 나빠지거나, 내구성에 악영향을 미치거나 하는 경우가 있다. 광 누설을 충분히 억제하고, 또한, 내구성이 우수한 점착제층을 얻기 위해서는, (A) 성분인 중합체를 얻기 위한 상기 단량체 혼합물 중에 있어서의 (a1-1) 성분의 함유량은, 5 질량％ 이상 55 질량％ 이하인 것이 바람직하고, 5 질량％ 이상 40 질량％ 이하인 것이 보다 바람직하다.
또, (a1) 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체로서, 예를 들어, (a1-2) 호모폴리머를 형성하였다고 가정한 경우의 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 미만인, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체 (이하, 간단히 「(a1-2) 성분」 이라고 기재하는 경우도 있다.) 를 사용할 수 있다.
(a1-2) 성분인, 호모폴리머를 형성하였다고 가정한 경우의 Tg 가 0 ℃ 미만인, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르로는, 예를 들어, 에틸아크릴레이트, n-프로필아크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, n-펜틸아크릴레이트, n-헥실아크릴레이트, n-헥실메타크릴레이트, n-옥틸아크릴레이트, n-옥틸메타크릴레이트, n-노닐아크릴레이트, 라우릴메타크릴레이트, 라우릴아크릴레이트, n-테트라데실메타크릴레이트 등의 직사슬형 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르 단량체；이소프로필아크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 이소옥틸아크릴레이트, 이소옥틸메타크릴레이트, 2-에틸헥실아크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트 등의 분기형 알킬기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르 단량체；페녹시에틸아크릴레이트 등의 방향 고리기를 갖는 (메트)아크릴산알킬에스테르 단량체를 들 수 있으며, 이 중 1 종을 단독으로 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이 중, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용하여 형성된 점착제층이 광 누설을 보다 저감할 수 있는 점에서, (a1-2) 성분은, 호모폴리머를 형성하였다고 가정한 경우의 Tg 가 0 ℃ 미만인, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산알킬에스테르 단량체로서, 그 (메트)아크릴산알킬에스테르를 구성하는 알킬 사슬이 직사슬형 또는 분기형의 알킬 사슬인 것이 바람직하고, 직사슬형의 알킬 사슬을 갖는 것이 보다 바람직하다. 이 경우, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용하여 형성된 점착제층이 화상 표시 장치의 광 누설을 더욱 저감할 수 있는 점에서, 상기 알킬 사슬의 탄소 원자수는 1 이상 10 이하인 것이 더욱 바람직하다.
(A) 성분인 중합체를 얻기 위한 상기 단량체 혼합물 중에 있어서의 (a1-2) 성분의 함유량이 44.5 질량％ 미만이면, 점착 물성의 밸런스가 무너져, 피착체에 대한 밀착력이 부족한 경우가 있고, 한편, 94.5 질량％ 를 초과하면, 광 누설을 충분히 억제할 수 없는 경우가 있다. 광 누설을 충분히 억제하고, 또한, 내구성이 우수한 점착제층을 얻기 위해서는, (A) 성분인 중합체를 얻기 위한 상기 단량체 혼합물 중에 있어서의 (a1-2) 성분의 함유량은, 44.5 질량％ 이상 94.5 질량％ 이하인 것이 바람직하고, 59.5 질량％ 이상 90 질량％ 이하인 것이 보다 바람직하며, 69.5 질량％ 이상 90 질량％ 이하인 것이 더욱 바람직하다.
(a1) 성분에 있어서의 (a1-1) 성분과 (a1-2) 성분의 합계량은, 49.5 질량％ 이상 100 질량％ 이하인 것이 바람직하고, 64.5 질량％ 이상 100 질량％ 이하인 것이 보다 바람직하다.
1.1.2. (a2) 성분
(a2) 성분에 포함되는 수산기가 (B) 성분 중의 이소시아네이트기와 반응함으로써, 가교 구조를 형성할 수 있다. (a2) 성분으로는, 예를 들어, 2-하이드록시에틸아크릴레이트, 2-하이드록시에틸메타크릴레이트, 2-하이드록시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시프로필메타크릴레이트, 4-하이드록시부틸아크릴레이트, 4-하이드록시부틸메타크릴레이트, 2-하이드록시-3-클로로프로필아크릴레이트, 2-하이드록시-3-클로로프로필메타크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트, 2-하이드록시-3-페녹시프로필메타크릴레이트 등의 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르 단량체 등을 들 수 있으며, 이 중, 1 종 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 그 중에서도, 탄소수 1 내지 6 의 수산기 함유 (메트)아크릴산에스테르 단량체인 것이 바람직하다.
1.1.3. (a3) 성분
(A) 성분인 중합체를 얻기 위한 상기 단량체 혼합물은, (a3) 분자 내에 1 개의 올레핀성 이중 결합과 적어도 1 개의 수산기 이외의 반응성 관능기를 갖는 단량체 (이하, 간단히 「(a3) 성분」 이라고 기재하는 경우도 있다.) 를 추가로 포함할 수 있다. 본 발명에 있어서, 「반응성 관능기」 란, (B) 성분과 반응할 수 있는 관능기를 말하며, (a3) 성분에 포함되는 반응성 관능기로는, 예를 들어, 카르복실기, 아미노기, 아미드기, 및 산 무수물기에서 선택되는 적어도 1 종의 기를 말한다.
(a3) 성분에 포함되는 반응성 관능기는 (B) 성분 중의 이소시아네이트기와 (a2) 성분 중의 수산기에 작용함으로써, 가교 구조를 효율적으로 형성할 수 있다. (a3) 성분으로는, 예를 들어, 카르복시에틸아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸아크릴레이트, N,N-디메틸아미노에틸메타크릴레이트, N,N-디에틸아미노에틸메타크릴레이트, 아크릴아미드, N,N-디메틸아미노프로필아크릴아미드, 다이아세톤아크릴아미드, 아크릴로일모르폴린, 아크릴산, 메타크릴산, 말레산, 이타콘산을 들 수 있으며, 이 중, 1 종 또는 2 종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이 중 (a3) 성분은, 가교 구조 형성에 대한 효율이 우수한 점에서, 아크릴산, 및 알킬아미드에서 선택되는 적어도 1 종인 것이 보다 바람직하고, 아크릴산인 것이 더욱 바람직하다.
광 누설을 충분히 억제하고, 또한, 내구성이 우수한 점착제층을 얻기 위해서는, (A) 성분인 중합체를 얻기 위한 상기 단량체 혼합물 중에 있어서의 (a3) 성분의 함유량은, 0 질량％ 이상 5 질량％ 이하인 것이 바람직하고, 0.1 질량％ 이상 2 질량％ 이하인 것이 더욱 바람직하다.
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에서는, 양호한 접착성 및 내구성 그리고 광 누설의 저감을 보다 확실하게 달성할 수 있는 관점에서, (A) 성분인 중합체를 얻기 위한 상기 단량체 혼합물 중에 있어서의 상기 (a1) 성분, (a2) 성분 및 (a3) 의 합계량이 90.1 질량％ 이상 100 질량％ 이하일 수 있고, 95 질량％ 이상 100 질량％ 이하인 것이 보다 바람직하다.
1.1.4. (a4) 성분
또, (A) 성분인 중합체를 얻기 위한 상기 단량체 혼합물은, (a4) (a1) ∼ (a3) 성분 이외의 단량체로서, 분자 내에 1 개의 올레핀성 이중 결합을 갖는 단량체 (이하, 간단히 「(a4) 성분」 이라고 기재하는 경우도 있다.) 를 추가로 포함할 수 있다. (a4) 성분으로는, 예를 들어, 아세트산비닐, 스티렌, 아크릴로니트릴, 비닐기를 중합한 모노머 말단에 라디칼 중합성 비닐기를 갖는 매크로 모노머류 등을 들 수 있다. (A) 성분인 중합체를 얻기 위한 상기 단량체 혼합물 중에 있어서의 (a4) 성분의 함유량은, 0 질량％ 이상 2 질량％ 이하인 것이 바람직하다.
1.1.5. (a1) 성분, (a2) 및 (a3) 및 (a4) 의 합계량
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에서는, 양호한 접착성 및 내구성 그리고 광 누설의 저감을 보다 확실하게 달성할 수 있는 관점에서, (A) 성분인 중합체를 얻기 위한 상기 단량체 혼합물 중에 있어서의 상기 (a1) 성분, (a2) 및 (a3) 및 (a4) 의 합계량이 90.1 질량％ 이상 100 질량％ 이하일 수 있고, 95 질량％ 이상 100 질량％ 이하인 것이 보다 바람직하며, 더욱 바람직하게는 100 질량％ 이하이다.
또한, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물은, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용하여 형성된 점착제층이 광 누설을 보다 저감할 수 있는 점에서, 알킬렌옥사이드기를 갖는 모노머의 함유량이 5 질량％ 이하인 것이 바람직하고, 알킬렌옥사이드기를 갖는 모노머를 포함하지 않는 것이 보다 바람직하다. 알킬렌옥사이드기를 갖는 모노머로는, 예를 들어, 측사슬에 알킬렌옥사이드기를 갖는 (메트)아크릴 모노머, 알킬렌옥사이드기를 갖는 반응성 유화제를 들 수 있다. 또한, 본 발명에 있어서 「점착제 조성물이 알킬렌옥사이드기를 갖는 모노머를 포함하지 않는다」 라는 것은, 점착제 조성물 중의 알킬렌옥사이드기를 갖는 모노머의 함유량이 2 질량％ 이하인 것을 말한다. 특히, 점착제 조성물 중의 알킬렌옥사이드기를 갖는 모노머의 함유량이 0 질량％ 이상 2 질량％ 이하인 것이 바람직하다.
1.1.6. Tg
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에서는, 양호한 접착성 및 내구성 그리고 광 누설의 저감을 보다 확실하게 달성할 수 있는 관점에서, (A) 성분의 Tg 는 －70 ℃ 이상 0 ℃ 이하인 것이 바람직하고, －60 ℃ 이상 －10 ℃ 이하인 것이 보다 바람직하다. 또한, 본 발명에 있어서, (A) 성분의 Tg 는, 하기 식 (6) (FOX 의 식) 에 의해 산출된 값이다.
1/TgA = Wa1/Tga1 ＋ Wa2/Tga2 ＋ Wa3/Tga3 ＋ Wa4/Tga4 ···· (6)
(식 중, TgA 는, (A) 성분의 유리 전이 온도 (K) 를 나타내고, Tga1, Tga2, Tga3, Tga4 는 각각, 구성 모노머 (a1), (a2), (a3), (a4) 로부터 조제된 호모폴리머의 유리 전이 온도 (Tg (K)) 를 나타내고, Wa1, Wa2, Wa3, Wa4 는 각각, (A) 성분 중에 포함되는, 구성 모노머 (a1), (a2), (a3), (a4) 의 중량분율을 나타낸다.)
또한, 상기 식 (6) 에 의해, TgA 는, 절대 온도 (K) 로서 산출되므로, 필요에 따라 섭씨 온도 (℃) 로 환산된다.
또, 대표적인 모노머로부터 조제된 호모폴리머의 유리 전이 온도는, 하기 표 1 에 나타내지만, 보다 구체적으로는, 예를 들어, 폴리머 핸드북 4 판 (Polymer Handbook Fourth Edition, Wiley-Interscience, 1999) 등에 기재되어 있다.
Figure 112015107312914-pct00028
1.1.7. 중량 평균 분자량 (Mw)
또, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 있어서, 양호한 접착성 및 내구성 그리고 광 누설의 저감을 보다 확실하게 달성할 수 있는 관점에서, (A) 성분은, 중량 평균 분자량 (Mw) 이 50 만 이상 200 만 이하인 것이 바람직하고, 80 만 이상 180 만 이하인 것이 보다 바람직하다. 여기서, (A) 성분의 중량 평균 분자량은, GPC (겔 퍼미에이션 크로마토그래피) 를 이용하여, 하기의 조건으로 표준 폴리스티렌 환산에 의한 중량 평균 분자량 (Mw) 을 구한 것이다.
＜GPC 측정 조건＞
측정 장치：HLC-8120GPC (토소사 제조)
GPC 칼럼 구성：이하의 5 련(連) 칼럼 (모두 토소사 제조)
(1) TSK-GEL HXL-H (가드 칼럼)
(2) TSK-GEL G7000HXL
(3) TSK-GEL GMHXL
(4) TSK-GEL GMHXL
(5) TSK-GEL G2500HXL
샘플 농도：1.0 ㎎/㎤ 가 되도록, 테트라하이드로푸란으로 희석
이동상 용매：테트라하이드로푸란
유량：1.0 ㎤/분
칼럼 온도：40 ℃
또, 본 실시형태에 관련된 (A) 성분은, 상기 GPC 에 의해 구해지는 분자량 분포 (중량 평균 분자량/수 평균 분자량) 가 4 이상 7 이하의 범위에 있는 것이 바람직하다. (A) 성분에 있어서, 상기 분자량 분포가 7 이하인 것은, 고분자량 성분의 비율이 높고, 저분자량 성분의 비율이 보다 적은 것을 의미하기 때문에, 내구 시험 조건하에 있어서, (A) 성분을 사용하여 얻어지는 점착제층의 응집력을 유지할 수 있기 때문에, 그 점착제층의 내구성을 보다 높일 수 있는 점에서 바람직하다. 또, (A) 성분에 있어서, 상기 분자량 분포가 4 이상임으로써, (A) 성분이, 분자량이 어느 정도의 분포를 갖는 폴리머가 되기 때문에, (A) 성분을 포함하는 점착제 조성물에 적당한 응력 완화성을 부여할 수 있다.
1.2. (B) 성분
상기 서술한 바와 같이, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 있어서, (B) 성분인 가교제는, 상기 일반식 (2) 또는 상기 일반식 (3) 으로 나타내는 가교제를 포함한다.
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 있어서, 보다 우수한 접착력 및 내구성을 부여하고, 또한, 광 누설을 보다 확실하게 방지할 수 있는 관점에서, 상기 일반식 (2) 또는 상기 일반식 (3) 에 포함되는 R1A, R1B, R1C 인 상기 일반식 (4) 로 나타내는 기에 있어서, x 는 2 이상 10 이하의 정수인 것이 보다 바람직하고 (더욱 바람직하게는 4 이상 8 이하의 정수), m 은 1 이상 10 이하의 정수인 것이 보다 바람직하다 (더욱 바람직하게는 1 이상 6 이하의 정수). 또, 상기 일반식 (2) 또는 상기 일반식 (3) 에 포함되는 R1A, R1B, R1C 인 상기 일반식 (5) 로 나타내는 기에 있어서, y 는 2 이상 10 이하의 정수인 것이 보다 바람직하고, 4 ∼ 8 의 정수인 것이 더욱 바람직하고, n 은 1 이상 10 이하의 정수인 것이 보다 바람직하며, 1 이상 6 이하의 정수인 것이 더욱 바람직하다. 또한, R1A, R1B, R1C 는 동일해도 되고, 또는 상이해도 되며, 복수의 조합이어도 된다.
상기 일반식 (2) 또는 상기 일반식 (3) 에 있어서 R2A, R2B, R2C, R3A, R3B, R3C, R3D, R3E, R3F 에 포함되는 알킬렌기로는, 예를 들어, 직사슬형, 분기형, 또는 고리형이어도 되고, 직사슬형인 것이 바람직하다. 그 알킬렌기로는, 예를 들어, 메틸렌기, 에틸렌기, 프로필렌기, 부틸렌기, 헥실렌기, 옥틸렌기, 도데실렌기, 시클로헥실렌기, 시클로헥산디메틸렌기 등을 들 수 있다. 그 알킬렌기의 탄소 원자수는, 2 이상 10 이하인 것이 바람직하고, 4 이상 8 이하인 것이 보다 바람직하다. 또, R2A, R2B, R2C, R3A, R3B, R3C, R3D, R3E, R3F 자체가 각각, 알킬렌기여도 된다. 또한, R2A, R2B, R2C 는 동일해도 되고, 또는 상이해도 된다. 또, R3A, R3B, R3C, R3D, R3E, R3F 는 동일해도 되고, 또는 상이해도 된다.
(B) 성분은 이소시아네이트계 가교제이며, 보다 구체적으로는, (B) 성분은 상기 일반식 (2) 또는 상기 일반식 (3) 으로 나타내는 바와 같이, 트리메틸올프로판에서 유래하는 골격 (-(O-CH2-)3-C-CH2CH3) 과 이소시아네이트 (-N=C=O) 기를 갖는다.
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 적당한 탄성을 부여할 수 있는 관점에서, (B) 성분은 예를 들어, 가교도 (1 분자의 (B) 성분 중에 포함되는 이소시아네이트기의 수) 가 1 이상 9 이하일 수 있고, 가교도가 3 이상 6 이하인 것이 바람직하다. (B) 성분은, 예를 들어, 트리메틸올프로판과, 이소시아네이트기를 갖는 산 할로이드 (또는 에스테르, 혹은 카르복실산) 를 축합시킴으로써, 얻을 수 있다.
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 있어서, 응집력과 탄성의 양립을 보다 확실하게 달성할 수 있는 관점에서, (B) 성분의 분자량은 500 이상 10,000 이하인 것이 바람직하고, 2,000 이상 7,000 이하인 것이 보다 바람직하다.
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물이 (B) 성분을 포함함으로써, (B) 성분에 포함되는 상기 일반식 (4) 로 나타내는 기 및/또는 상기 일반식 (5) 로 나타내는 기를 포함하는 기에 기인하여, 그 점착제 조성물에 적당한 응집력 및 탄성이 부여된다. 이에 따라, 그 점착제 조성물은, 원래는 트레이드오프의 관계가 되는 경우가 많은, 응집력과 탄성의 쌍방을 구비할 수 있다. 따라서, 그 점착제 조성물은 그 점착제 조성물을 사용하여 화상 표시 장치의 점착제층을 형성한 경우, 광 누설을 방지하고, 또한 접착력 및 내구성 (습열 내구성) 을 높일 수 있다.
일반적으로, 점착제 조성물이 지나치게 단단한 경우 (점착제 조성물의 응집력이 높고, 또한 탄성이 낮은 경우), 그 점착제 조성물을 사용하여 형성된 점착제층의 균열이 발생하는 경우가 있으며, 한편, 점착제 조성물이 지나치게 부드러운 경우 (점착제 조성물의 응집력이 낮고, 또한 탄성이 높은 경우), 그 점착제 조성물을 사용하여 형성된 점착제층에 기포가 들어가, 외관상 바람직하지 않은 경우가 있다. 이에 반해, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물이 (B) 성분을 포함함으로써, 그 점착제 조성이 적당한 응집력 및 탄성을 갖기 때문에, 점착제층의 균열을 방지하고, 또한, 점착제층에 기포가 들어가는 것을 방지할 수 있다.
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 있어서의 (B) 성분의 함유량은, 광 누설을 방지하고, 또한 접착력 및 내구성을 높일 수 있는 관점에서, 본 실시형태에 관련된 (A) 성분 100 질량부에 대해 0.05 질량부 이상 5 질량부 이하일 수 있고, 0.1 질량부 이상 4 질량부 이하인 것이 바람직하다.
(B) 성분으로는, 시판되는 가교제를 사용할 수 있다. 예를 들어, (B) 성분으로서, D-94 (판매원：소켄 화학 주식회사), E405-70B (판매원：아사히 화성 주식회사), MFA-75B (판매원：아사히 화성 주식회사) 등을 사용할 수 있다.
본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물에 의하면, 상기 일반식 (2) 또는 상기 일반식 (3) 으로 나타내는 (B) 가교제를 포함함으로써, 상기 일반식 (2) 또는 상기 일반식 (3) 으로 나타내는 구조를 갖지 않는 가교제 (예를 들어, 시판되는 이소시아네이트계 가교제인 NY730A (판매원：미츠비시 화학 주식회사), L-45 (판매원：소켄 화학 주식회사), 콜로네이트 HL (판매원：닛폰 폴리우레탄 주식회사) 등) 과 비교하여, 광 누설을 보다 확실하게 저감할 수 있고, 또한, 내구성 (습열 내구성) 이 우수하다.
1.3. 다른 성분
본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물은, 필요에 따라, (A) 성분 및 (B) 성분 이외의 성분을 추가로 포함할 수 있다. 예를 들어, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에는, 본 발명의 효과를 저해하지 않는 범위에서, (C) 실란 커플링제 (이하, 간단히 「(C) 성분」 이라고 기재하는 경우도 있다.), (D) 이온성 화합물 (이하, 간단히 「(D) 성분」 이라고 기재하는 경우도 있다.), 산화 방지제, 자외선 흡수제, 점착 부여제, 가소제 등이 배합되어 있어도 된다.
1.3.1. (C) 실란 커플링제
본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물이 (C) 성분을 포함함으로써, 본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물을 사용하여 피착체의 표면에 점착제층을 형성한 경우, 피착체와의 접착을 양호하게 유지할 수 있다. (C) 성분은 예를 들어, 비닐트리메톡시실란, 비닐트리에톡시실란 및 메타크릴옥시프로필트리메톡시실란 등의 중합성 불포화기 함유 규소 화합물；3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필메틸디메톡시실란 및 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란 등의 에폭시 구조를 갖는 규소 화합물；3-아미노프로필트리메톡시실란, N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필트리메톡시실란 및 N-(2-아미노에틸)-3-아미노프로필메틸디메톡시실란 등의 아미노기 함유 규소 화합물；그리고 3-클로로프로필트리메톡시실란；올리고머형 실란 커플링제 등이어도 되고, 그 중에서도, (메트)아크릴계 코폴리머 (A) 중에 포함되는 관능기와 반응하는 관능기를 갖고 있는 실란 커플링제가 습열 환경하에서 박리를 잘 발생시키지 않는다는 점에서 바람직하다.
본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서의 (C) 성분의 함유량은, 피착체와의 접착을 양호하게 유지할 수 있는 관점에서, (A) 성분 100 질량부에 대해 0.01 질량부 이상 0.5 질량부 이하일 수 있고, 0.05 질량부 이상 0.3 질량부 이하인 것이 바람직하다.
1.3.2. (D) 이온성 화합물
또, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물은, 이온성 화합물 (D) 를 포함하고 있어도 된다. 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물이 (D) 성분을 포함함으로써, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용하여 피착체의 표면에 점착제층을 형성한 경우, 피착체의 대전을 효과적으로 방지할 수 있다. (D) 성분으로는, 예를 들어, 아니온과 카티온으로 이루어지는, 25 ℃ 에서 액체상, 또는 고체상의 이온성 화합물을 들 수 있으며, 구체적으로는, 알칼리 금속염, 이온성 액체 (25 ℃ 에서 액체상), 계면 활성제 등을 들 수 있다.
상기 알칼리 금속염으로는, 리튬, 나트륨, 칼륨 등의 알칼리 금속 카티온과, 아니온으로 이루어지는 화합물을 들 수 있으며, 구체적으로는, 염화나트륨, 염화칼륨, 염화리튬, 과염소산리튬, 염소산칼륨, 질산칼륨, 질산나트륨, 탄산나트륨, 티오시안산나트륨, LiBr, LiI, LiBF4, LiPF6, LiSCN, 아세트산나트륨, 알긴산나트륨, 리그닌술폰산나트륨, 톨루엔술폰산나트륨, LiCF3SO3, Li(CF3SO2)2N, Li(CF3SO2)IN, Li(C2F5SO2)2N, Li(C2F5SO2)IN, Li(CF3SO2)3C 등을 들 수 있다.
상기 이온성 액체를 구성하는 카티온으로는, 피페리디늄 카티온, 피롤리디늄 카티온, 피롤린 골격을 갖는 카티온, 피롤 골격을 갖는 카티온, 이미다졸륨카티온, 테트라하이드로피리미디늄 카티온, 디하이드로피리미디늄 카티온, 피라졸륨 카티온, 피라졸리늄 카티온, 테트라알킬암모늄 카티온, 트리알킬술포늄 카티온, 테트라알킬포스포늄 카티온 등을 들 수 있으며, 상기 이온성 액체를 구성하는 아니온으로는, Cl-, Br-, I-, AlCl4 -, Al2Cl7 -, BF4 -, PF6 -, ClO4 -, NO3 -, CH3COO-, CF3COO-, CH3SO3 -, CF3SO3 -, (CF3SO2)2N-, (CF3SO2)3C-, AsF6 -, SbF6 -, NbF6 -, TaF6 -, F(HF)n- (n = 2 ∼ 3), (CN)2N-, C4F9SO3 -, (C2F5SO2)2N-, C3F7COO-, (CF3SO2)(CF3CO)N- 등을 들 수 있다.
그리고, 상기 이온성 화합물로는, 이들 카티온과 아니온으로 구성되고, 25 ℃ 에서 액상인 이온성 화합물을 들 수 있다. 이와 같은 이온성 화합물로는, 구체적으로는, 2-메틸-1-피롤린테트라플루오로보레이트, 1-에틸-2-페닐인돌테트라플루오로보레이트, 1,2-디메틸인돌테트라플루오로보레이트, 1-에틸카르바졸테트라플루오로보레이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨아세테이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로아세테이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨헵타플루오로부틸레이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로메탄술포네이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨퍼플루오로부탄술포네이트, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨디시안아미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨트리스(트리플루오로메탄술포닐)메티드, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨헥사플루오로포스페이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로아세테이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨헵타플루오로부틸레이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨트리플루오로메탄술포네이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨퍼플루오로부탄술포네이트, 1-부틸-3-메틸이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨브로마이드, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨클로라이드, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨헥사플루오로포스페이트, 1-헥실-3-메틸이미다졸륨트리플루오로메탄술포네이트, 1-옥틸-3-메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1-옥틸-3-메틸이미다졸륨헥사플루오로포스페이트, 1-헥실-2,3-디메틸이미다졸륨테트라플루오로보레이트, 1,2-디메틸-3-프로필이미다졸륨비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 1-메틸피라졸륨테트라플루오로보레이트, 3-메틸피라졸륨테트라플루오로보레이트, 테트라헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 디알릴디메틸암모늄테트라플루오로보레이트, 디알릴디메틸암모늄트리플루오로메탄술포네이트, 디알릴디메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 디알릴디메틸암모늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄테트라플루오로보레이트, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄트리플루오로메탄술포네이트, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 글리시딜트리메틸암모늄트리플루오로메탄술포네이트, 글리시딜트리메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 글리시딜트리메틸암모늄비스(펜타플루오로에탄술포닐)이미드, 1-부틸피리디늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 1-부틸-3-메틸피리디늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 1-에틸-3-메틸이미다졸륨(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-(2-메톡시에틸)암모늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 디알릴디메틸암모늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, 글리시딜트리메틸암모늄(트리플루오로메탄술포닐)트리플루오로아세트아미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-에틸-N-노닐암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N,N-디프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-부틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-프로필-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-부틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-부틸-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N-펜틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디메틸-N,N-디헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리메틸헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-메틸-N-헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디에틸-N-프로필-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸프로필암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리에틸헵틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N-메틸-N-에틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N-메틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N-부틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디프로필-N,N-디헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디부틸-N-메틸-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N,N-디부틸-N-메틸-N-헥실암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, 트리옥틸메틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드, N-메틸-N-에틸-N-프로필-N-펜틸암모늄비스(트리플루오로메탄술포닐)이미드 등을 들 수 있다.
상기 계면 활성제로는, 논이온계 계면 활성제, 카티온계 계면 활성제, 아니온계 계면 활성제 및 양쪽성 계면 활성제 중 어느 것도 사용할 수 있다.
상기 논이온계 계면 활성제로는, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르, 폴리옥시에틸렌스테아릴에테르 등의 폴리옥시에틸렌알킬에테르류, 폴리옥시에틸렌옥틸페닐에테르, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르 등의 폴리옥시에틸렌알킬페닐에테르류, 소르비탄모노라우레이트, 소르비탄모노스테아레이트, 소르비탄트리올레에이트 등의 소르비탄 고급 지방산 에스테르류, 폴리옥시에틸렌소르비탄모노라우레이트 등의 폴리옥시에틸렌소르비탄 고급 지방산 에스테르류, 폴리옥시에틸렌모노라우레이트, 폴리옥시에틸렌모노스테아레이트 등의 폴리옥시에틸렌 고급 지방산 에스테르류；예를 들어, 올레산모노글리세라이드, 스테아르산모노글리세라이드 등의 글리세린 고급 지방산 에스테르류, 폴리옥시에틸렌, 폴리옥시프로필렌, 폴리옥시부틸렌 등의 폴리옥시알킬렌류 및 그들의 블록 코폴리머를 들 수 있다.
상기 카티온계 계면 활성제로는, 염화알킬트리메틸암모늄, 염화디알킬디메틸암모늄, 염화벤잘코늄염, 알킬디메틸암모늄에토술페이트 등을 들 수 있다.
상기 아니온계 계면 활성제로는, 라우르산나트륨, 올레산나트륨, N-아실-N-메틸글리신나트륨염, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르카르복실산나트륨 등의 카르복실산염, 도데실벤젠술폰산나트륨, 디알킬술포숙신산에스테르염, 디메틸-5-술포이소프탈레이트나트륨 등의 술폰산염, 라우릴황산나트륨, 폴리옥시에틸렌라우릴에테르황산나트륨, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르황산나트륨 등의 황산에스테르염, 폴리옥시에틸렌라우릴인산나트륨, 폴리옥시에틸렌노닐페닐에테르인산나트륨 등의 인산에스테르염 등을 들 수 있다.
상기 양쪽성 계면 활성제로는, 카르복시 베타인형 계면 활성제, 아미노 카르복실산염, 이미다졸리늄베타인, 레시틴, 알킬아민옥사이드를 들 수 있다. 또, 그 외에, 전도성 폴리머, 전도성 카본, 염화암모늄, 염화알루미늄, 염화구리, 염화철, 황산암모늄 등을 사용할 수 있다.
이 중에서도, 25 ℃ 에서 액체의 유기염이 바람직하게 사용된다.
본 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물에 있어서의 (D) 성분의 함유량은, 본 실시형태에 관련된 (A) 성분 100 질량부에 대해 0.01 질량부 이상 3 질량부 이하일 수 있고, 0.05 질량부 이상 2.5 질량부 이하인 것이 바람직하다.
1.4. (A) 성분의 중합 방법
(A) 성분의 중합 방법은, 특별히 제한되는 것이 아니라, 용액 중합, 유화 중합, 현탁 중합 등의 공지된 방법에 의해 중합할 수 있지만, 중합에 의해 얻어진 공중합체의 혼합물을 사용하여, 본 발명의 점착제 조성물을 제조함에 있어서, 처리 공정이 비교적 간단하고 또한 단시간에 실시할 수 있는 관점에서, 용액 중합에 의해 중합하는 것이 바람직하다.
용액 중합은, 일반적으로, 중합조 내에 소정의 유기 용매, 각 단량체, 중합 개시제, 및 필요에 따라 사용되는 연쇄 이동제 등을 투입하고, 질소 기류 또는 유기 용매의 환류 온도하에서, 교반하면서 수 시간 가열 반응시킴으로써 실시된다.
또한, 이 경우에 있어서, 유기 용매, 단량체 및/또는 중합 개시제의 적어도 일부를 축차 첨가해도 된다. 유기 용매로는, 예를 들어, 벤젠, 톨루엔, 에틸 벤젠, n-프로필벤젠, tert-부틸벤젠, o-자일렌, m-자일렌, p-자일렌, 테트라린, 데칼린, 방향족 나프타 등의 방향족 탄화수소류；예를 들어, n-헥산, n-헵탄, n-옥탄, 이소옥탄, n-데칸, 디펜텐, 석유 스피릿, 석유 나프타, 테레빈유 등의 지방계 혹은 지환족계 탄화수소류；예를 들어, 아세트산에틸, 아세트산n-부틸, 아세트산n-아밀, 아세트산2-하이드록시에틸, 아세트산2-부톡시에틸, 아세트산3-메톡시부틸, 벤조산메틸 등의 에스테르류；예를 들어, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 이소포론, 시클로헥사논, 메틸시클로헥사논 등의 케톤류；예를 들어, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 글리콜에테르류；예를 들어, 메틸알코올, 에틸알코올, n-프로필 알코올, 이소프로필알코올, n-부틸알코올, 이소부틸알코올, s-부틸알코올, tert-부틸알코올 등의 알코올류；등을 들 수 있다. 이들 유기 용매는 각각 단독으로, 또는 2 종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.
이들 중합용 유기 용매 중, (A) 성분의 중합시에는, 중합 반응 중에 연쇄 이동을 잘 발생하지 않는 유기 용매, 예를 들어, 에스테르류, 케톤류를 사용하는 것이 바람직하고, 특히, (A) 성분의 용해성, 중합 반응의 용이함 등의 점에서, 아세트산에틸, 메틸에틸케톤, 아세톤 등의 사용이 바람직하다.
상기 중합 개시제로는, 통상적인 용액 중합에서 사용할 수 있는 유기 과산화물, 아조 화합물 등을 사용하는 것이 가능하다. 이와 같은 유기 과산화물로는, 예를 들어, tert-부틸하이드로퍼옥사이드, 쿠멘하이드로퍼옥사이드, 디쿠밀퍼옥사이드, 벤조일퍼옥사이드, 라우로일퍼옥사이드, 카프로일퍼옥사이드, 디이소프로필퍼옥시디카보네이트, 디-2-에틸헥실퍼옥시디카보네이트, tert-부틸퍼옥시피발레이트, 2,2-비스(4,4-디-tert-부틸퍼옥시시클로헥실)프로판, 2,2-비스(4,4-디-tert-아밀퍼옥시시클로헥실)프로판, 2,2-비스(4,4-디-tert-옥틸퍼옥시시클로헥실)프로판, 2,2-비스(4,4-디-α-쿠밀퍼옥시시클로헥실)프로판, 2,2-비스(4,4-디-tert-부틸퍼옥시시클로헥실)부탄, 2,2-비스(4,4-디-tert-옥틸퍼옥시시클로헥실)부탄 등을 들 수 있고, 아조 화합물로는, 예를 들어, 2,2'-아조비스-이소부티로니트릴, 2,2'-아조비스-2,4-디메틸발레로니트릴, 2,2'-아조비스-4-메톡시-2,4-디메틸발레로니트릴 등을 들 수 있다.
이들 중합 개시제 중,(A) 성분의 중합 반응 중에, 그래프트 반응을 일으키지 않는 중합 개시제가 바람직하고, 특히 아조계 중합 개시제가 바람직하다. 그 사용량은, 통상적으로 단량체 합계 100 질량부에 대해 0.01 질량부 이상 2 질량부 이하이고, 바람직하게는 0.1 질량부 이상 1.0 질량부 이하이다.
또, 본 발명의 점착제 조성물에 포함되는 (A) 성분의 제조시에는, 연쇄 이동제를 사용하지 않는 것이 보통이지만, 본 발명의 목적 및 효과를 저해하지 않는 범위에서, 필요에 따라 사용하는 것은 가능하다.
이와 같은 연쇄 이동제로는, 예를 들어, 시아노아세트산；시아노아세트산의 탄소수 1 이상 8 이하의 알킬에스테르류；브로모아세트산；브로모아세트산의 탄소수 1 이상 8 이하의 알킬에스테르류；안트라센, 페난트렌, 플루오렌, 9-페닐플루오렌 등의 방향족 화합물류；p-니트로아닐린, 니트로벤젠, 디니트로벤젠, p-니트로벤조산, p-니트로페놀, p-니트로톨루엔 등의 방향족 니트로 화합물류；벤조퀴논, 2,3,5,6-테트라메틸-p-벤조퀴논 등의 벤조퀴논 유도체류；트리부틸보란 등의 보란 유도체；4브롬화탄소, 4염화탄소, 1,1,2,2-테트라브로모에탄, 트리브로모에틸렌, 트리클로로에틸렌, 브로모트리클로로메탄, 트리브로모메탄, 3-클로로-1-프로펜 등의 할로겐화 탄화수소류；클로랄, 푸르알데히드 등의 알데히드류：탄소수 1 이상 18 이하의 알킬메르캅탄류；티오페놀, 톨루엔메르캅탄 등의 방향족 메르캅탄류；메르캅토아세트산, 메르캅토아세트산의 탄소수 1 이상 10 이하의 알킬에스테르류；탄소수 1 이상 12 이하의 하이드록시알킬메르캅탄류；피넨, 터피놀렌 등의 테르펜류；등을 들 수 있다.
(A) 성분의 중합 온도로는, 일반적으로 약 30 ℃ 이상 180 ℃ 이하이고, 바람직하게는 40 ℃ 이상 150 ℃ 이하이며, 보다 바람직하게는 50 ℃ 이상 90 ℃ 이하의 범위이다. 또한, 용액 중합법 등으로 얻어진 중합물 중에 미반응의 단량체가 포함되는 경우에는, 그 단량체를 제거하기 위해서, 메탄올 등에 의한 재침전법으로 정제하는 것도 가능하다.
1.5. 미소 크리프 값
또한, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 있어서, 광 누설을 보다 확실하게 방지하고, 또한 접착력 및 내구성을 더욱 높일 수 있는 관점에서, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물의 60 ℃ 에 있어서의 미소 크리프 값은, 800 g 하중을 1000 초 부가했을 때에 0.50 ㎜ 이하인 것이 바람직하고, 0.35 ㎜ 이하인 것이 보다 바람직하다. 본 발명에 있어서, 미소 크리프 값은, 실시예에 기재된 방법을 이용하여 측정할 수 있다.
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물은, 그 점착제 조성물로부터 형성되는 점착제층의 수축이 억제되는 결과, 그 점착제층이 형성된 광학 필름의 수축이 억제됨으로써, 광 누설을 보다 확실하게 방지할 수 있는 관점에서, 60 ℃ 에 있어서의 미소 크리프 값과 23 ℃ 에 있어서의 미소 크리프 값의 차가 작은 쪽이 바람직하고, 예를 들어, 60 ℃ 에 있어서의 미소 크리프 값과 23 ℃ 에 있어서의 미소 크리프 값의 차가 0.30 ㎜ 이내인 것이 바람직하다.
1.6. 점착제 조성물의 제조
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물은, 통상적으로 상기 (A) 및 (B) 성분 및 필요에 따라 임의 성분을, 동시에 혹은 임의의 순번으로 혼합하여 조제된다. 또, (A) 성분과 (B) 성분을 혼합함에 있어서, (A) 성분을 용액 중합에 의해 조제한 경우에는, 중합 완료 후의 (A) 성분을 포함하는 용액에 (B) 성분을 첨가해도 되고, (A) 성분을 괴상 (塊狀) 중합에 의해 조제하는 경우에는, 중합 완료 후에는 균일 혼합이 곤란해지기 때문에, 이 중합의 도중에 (B) 성분을 첨가하여 혼합하는 것이 바람직하다.
1.7. 용도 및 작용 효과
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물은, 광학 필름 (상세한 내용은 후술한다) 의 접착제로서 적합하게 사용할 수 있다. 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물에 의하면, 고온 및 다습 조건하에서 우수한 내구성을 발휘하고, 또한, 액정 셀 등의 피착체와 편광 필름 등의 광학 필름의 접착에 사용된 경우, 광 누설을 저감할 수 있다. 또한, 화상 표시 장치가 위상차 필름을 포함하는 경우, 액정 셀과 편광 필름 사이에 위상차 필름이 형성되기 때문에, 위상차 필름과 편광 필름 사이에, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용한 접착제층을 형성할 수 있다.
예를 들어, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물이, 액정 셀 등의 피착체와 편광 필름 등의 광학 필름의 접착에 사용된 경우, 양호한 광 누설 방지 특성 및 고내구성을 실현할 수 있기 때문에, 화상 표시 장치의 고화질화를 달성할 수 있다. 이 경우, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물은, VA 모드용 편광 필름, TN 모드용 편광 필름 또는 IPS 모드용 편광 필름을 피착체로 하는 접착제로서 사용할 수 있지만, 고화질화를 달성할 수 있는 점에서, VA 모드용 편광 필름 또는 TN 모드용 편광 필름을 피착체로 하는 접착제로서 적합하게 사용할 수 있다.
본 실시형태에 관련된 점착제 조성물의 일 작용 효과인 광 누설 방지 특성은, 이하의 작용 기전에 의한 것으로 추측된다.
즉, 본 실시형태에 관련된 점착제 조성물을 사용하여 광학 필름 (편광 필름) 의 표면에 점착제층이 형성되는 경우, 그 점착제 조성물이 (B) 성분을 가짐으로써, (B) 성분에 포함되는 상기 일반식 (4) 로 나타내는 기 및/또는 상기 일반식 (5) 로 나타내는 기를 포함하는 기에 기인하여, 그 점착제 조성물이 어느 정도의 경도를 가진 상태로, 그 점착제 조성물에 적당한 응집력 및 탄성이 부여된다. 이에 따라, 그 점착제 조성물은, 원래는 트레이드오프의 관계가 되는 경우가 많은, 응집력과 탄성의 쌍방을 구비할 수 있다. 따라서, 그 점착제 조성물을 사용하여 화상 표시 장치의 점착제층을 형성한 경우, 광 누설을 방지하고, 또한 접착력 및 내구성 (습열 내구성) 을 높일 수 있다.
2. 점착형 광학 필름
본 발명의 다른 일 실시형태에 관련된 점착형 광학 필름은, 상기 실시형태에 관련된 광학 필름용 점착제 조성물을 포함하는 점착제층을 광학 필름의 편면 또는 양면에 형성한다. 본 실시형태에 관련된 점착형 광학 필름을 제조함에 있어서, 상기 점착제층은, 광학 필름 상에, 상기 점착제 조성물을 그라비아 코터, 메이어 바 코터, 에어 나이프 코터, 롤 코터 등에 의해 도포하고, 광학 필름 상에 도포된 점착제 조성물을 상온 또는 가열에 의해 건조 및 가교하여 형성되어도 되고, 또는, 점착제층을 박리 필름 상에 형성하고, 이것을 상기 광학 필름에 전사하여 형성되어도 된다. 또, 점착제층의 두께는, 통상적으로는 1 ㎛ 이상 50 ㎛ 이하, 바람직하게는 5 ㎛ 이상 30 ㎛ 이하 정도이다. 또한, 점착형 광학 필름의 사용 전에, 점착제층을 보호하기 위해서, 그 점착제층의 표면에 박리 필름을 적층시켜도 된다.
또, 본 실시형태에 관련된 점착형 광학 필름은, FPD 등의 화상 표시 장치 등에서 사용되는 것을 들 수 있으며, 예를 들어, 편광 필름, 위상차 필름, 타원 편광 필름, 반사 방지 필름, 휘도 향상 필름 및 광 확산 필름으로 이루어지는 군에서 선택되는 광학 필름일 수 있다. 광학 필름의 두께는, 사용 목적에 따라 적절히 선택할 수 있지만, 통상적으로 10 ㎛ 이상 500 ㎛ 이하이고, 바람직하게는 15 ㎛ 이상 300 ㎛ 이하 정도이다.
3. 실시예
이하, 본 발명을 하기 실시예에 기초하여 설명하는데, 본 발명은 실시예에 한정되지 않는다.
3.1. (A) 성분의 조제
교반기, 환류 냉각기, 온도계 및 질소 도입관을 구비한 반응 장치에, 하기 표 2 에 나타내는 배합 비율을 갖는 단량체 혼합물을 투입하고, 다음으로, 아세트산에틸을 모노머 농도가 50 질량％ 가 되는 배합량으로 투입하였다. 다음으로, 아조비스이소부티로니트릴 0.1 질량부를 첨가하고, 반응 용기 내의 공기를 질소 가스로 치환하면서 교반을 실시하고 60 ℃ 로 승온시킨 후, 8 시간 반응시켰다. 반응 종료 후, 아세트산에틸로 희석하여, (A) 성분 (아크릴계 폴리머 A ∼ G) 을 얻었다.
3.2. 평가용 점착 가공 편광판의 제조
상기 3.1. 에서 얻어진 (A) 성분을 사용하여, 하기 표 3 및 표 4 의 배합 (고형분 배합) 으로 각 성분을 첨가하여, 실시예 1 내지 15 및 비교예 1 내지 11 의 점착제 조성물의 용액을 얻었다. 이 점착제 조성물의 용액을 박리 처리한 폴리에스테르 필름의 표면에 도포하여 건조시킴으로써, 두께 20 ㎛ 의 점착제층을 갖는 점착 시트를 얻었다. 이 점착 시트를 VA 모드용 편광 필름의 편면에 첩부한 후, 23 ℃／50 ％RH 의 조건으로 어두운 곳에서 7 일간 숙성시켜, 평가용 점착 가공 편광판을 얻었다. 또한, (B) 성분으로서, 하기 표 3 및 표 4 에 나타내는 바와 같이, 가교제 1 내지 6 을 사용하였다. 가교제 1 내지 6 은 각각, 하기의 구조식 (7) 내지 (12) 로 나타내는 구조를 갖는다. 또한, 가교제 1 의 중량 평균 분자량 (MW) 은 약 3,700 이고, 가교제 2 의 중량 평균 분자량 (MW) 은 약 4,000 이고, 가교제 3 의 중량 평균 분자량 (MW) 은 약 4,000 이다.
[가교제 1]
[화학식 11]
Figure 112015104912298-pct00012
(식 중, l 은 1 이상 10 이하이고, m 은 1 이상 10 이하이고, n 은 1 이상 10 이하이고, a 는 1 이상 10 이하이고, b 는 1 이상 10 이하이며, c 는 1 이상 10 이하이다.)
[가교제 2]
[화학식 12]
Figure 112015104912298-pct00013
(식 중, l 은 1 이상 10 이하이고, m 은 1 이상 10 이하이고, n 은 1 이상 10 이하이다.)
[가교제 3]
[화학식 13]
Figure 112015104912298-pct00014
(식 중, l 은 1 이상 10 이하이고, m 은 1 이상 10 이하이고, n 은 1 이상 10 이하이다.)
[가교제 4]
[화학식 14]
Figure 112015104912298-pct00015
[가교제 5]
[화학식 15]
Figure 112015104912298-pct00016
[가교제 6]
[화학식 16]
Figure 112015104912298-pct00017
각 평가용 점착 가공 편광판에 대하여, 하기 표 3 및 표 4 에 나타내는 최대 변형율, 왜곡 복원율, 광 누설 (광원에 LED 를 사용한 것：LED 방식), 광 누설 (광원에 LED 를 사용하지 않은 것：비(非) LED 방식), 습열 내구성 (발포 및 단열) 에 대해 이하의 방법으로 평가하였다.
3.3. 평가 방법
3.3.1. 광 누설
19 인치 사이즈의 VA 형 액정 패널 (I·O 데이터사 제조, 형식：LCD-A191EW 로부터 떼어낸 것) 에, 박리 처리된 폴리에스테르 필름을 벗긴 평가용 점착 가공 편광판을, 점착제층이 상기 액정 패널에 접하도록, 또한, 상기 평가용 점착 가공 편광판이 크로스 니콜이 되도록 첩합 (貼合) 하여, 80 ℃ 의 분위기하에서 240 시간 방치한 후, 23 ℃／50 ％RH 분위기하에서 2 시간 방치하였다. 그 후, 상기 편광판을 첩합한 액정 패널을 암실에서 퍼스널 컴퓨터에 접속하고 전체 화면 흑표시로 하였다. 본 시험에서는, 액정 패널로서, VA 방식의 액정 패널 및 TN 방식의 액정 패널의 2 종을 사용하여 평가를 실시하였다. 이 전체 화면 흑표시의 디스플레이 모니터에 대해, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 각 코너 부근의 직경 1 ㎝ 의 영역에 있어서의 휘도 (La, Lb, Lc, Ld) 및 모니터 중앙 부분의 직경 1 ㎝ 의 영역에 있어서의 휘도 (Lcenter) 를 휘도계 (하이랜드사 제조, 형명 (型名)：RISA-COLOR/CD8) 를 사용하여 측정하고, 하기 식 (13) 에 기초하여 광 누설성 (ΔL) 을 산출하였다. ΔL 이 작을수록 (백라이트로부터의) 광 누설이 적은 것을 의미하며, 통상적으로 ΔL 이 2.0 미만이면, 액정 표시용 패널로서의 사용이 가능하다.
ΔL = (La ＋ Lb ＋ Lc ＋ Ld) / 4 － Lcenter ··· (13)
또, VA 방식의 액정 패널에 대해서는, 도 1 에서 점선으로 나타내는 바와 같이, 디스플레이 모니터의 코너 부근에 있어서 광 누설이 발생한 범위 (R) 를 육안으로 측정하고, 또, TN 방식의 액정 패널에 대해서는, 도 2 에서 점선으로 나타내는 바와 같이, 디스플레이 모니터의 외주 부근에 있어서 광 누설이 발생한 범위 (R) 를 육안으로 측정하였다. 광 누설이 발생한 범위는, 작을수록 광 누설이 적은 것을 의미하며, 통상적으로 R 이 20 ㎜ 미만이면, 액정 표시용 패널로서의 사용이 가능하다. 더욱 바람직하게는 16.5 ㎜ 미만이다.
3.3.2. 미소 크리프 값
각 평가용 점착 가공 편광판을 폭 10 ㎜ × 길이 100 ㎜ 로 커트하고, 박리 처리된 폴리에스테르 필름을 벗긴 각 평가용 점착 가공 편광판을, 점착제층이 유리에 접하고, 또한 100 ㎜2 (10 ㎜ × 10 ㎜) 의 첩합 면적이 되도록 첩합하고, 오토클레이브 처리 (50 ℃, 5 atm) 를 실시한 후에 23 ℃／50 ％RH 분위기하에서 24 시간 정치하였다. 이것을 미소 크리프 시험용 시료로 하였다. 미소 크리프 측정기 (에코 정기 (주) 사 제조, 기종명：TA. TX. PLUS) 의 챔버 BOX 내의 고정용 척 부분의 길이 15 ㎜ 로 시험용 시료 세트를 실시하였다. 시험용 자료의 상하를 고정시키고, 800 g 하중을 수직 방향으로 1000 초 부가했을 때에, 시료와 피착체의 첩합 단부가 초기보다 어긋난 거리를 측정하였다.
3.3.3. 습열 내구성
박리 처리된 폴리에스테르 필름을 벗긴 평가용 점착 가공 편광판을 15 인치 사이즈 (233 ㎜ × 309 ㎜) 로 재단하고, 두께 0.5 ㎜ 의 무알칼리 유리판의 편면에, 점착제층이 상기 유리판에 접하도록 하여, 라미네이터 롤을 사용하여 첩부하였다. 첩부 후, 오토클레이브 (쿠리하라 제조소 제조) 로 0.5 ㎫, 50 ℃, 20 분의 조건으로 가압 처리하여 시험용 플레이트를 얻었다. 이렇게 하여 얻어진 시험용 플레이트를 60 ℃／90 ％RH 의 조건하에 500 시간 방치하였다. 시험 종료 후, 시험용 플레이트를 시험 환경에서 꺼내고, 23 ℃／50 ％RH 분위기하에서 2 시간 정치한 후, 점착제층에 있어서의 발포 (응집력 부족), 단열 (과가교) 을 육안으로 관찰하고, 습열 내구성을 하기 평가 기준으로 평가하였다.
(발포-사이즈)
○：발포가 전혀 보이지 않는다
△：발포의 직경이 1 ㎜ 이하
×：발포의 직경이 1 ㎜ 보다 크다
(발포-발생량)
○：발포가 전혀 보이지 않는다
△：발포의 개수가 10 개 이하
×：발포의 개수가 10 개보다 많다
(단열-사이즈)
○：단열이 전혀 보이지 않는다
△：단열이 발생한 면적이 시험용 플레이트에 있어서의 첩합 부분 전체 (100 ％) 에 대해 5 ％ 미만
×：단열이 발생한 면적이 시험용 플레이트에 있어서의 첩합 부분 전체 (100 ％) 에 대해 5 ％ 이상
(단열-위치)
○：단열이 전혀 없다
△：시험용 플레이트의 각 단부 부근의 1 ㎝ 폭 영역에만 결점이 있다
×：시험용 플레이트의 각 단부 부근의 1 ㎝ 폭 영역과 영역 외에 결점이 있다
Figure 112015104912298-pct00018
Figure 112015104912298-pct00019
Figure 112015104912298-pct00020
또한, 표 2 에 있어서의 약어는 이하의 의미이다.
AA：아크릴산
BA：n-부틸아크릴레이트
t-BA：tert-(터셔리)부틸아크릴레이트
4-HBA：4-하이드록시부틸아크릴레이트
HEA：2-하이드록시에틸아크릴레이트
L-45：TDI 계 이소시아네이트 화합물 (소켄 화학사 제조 L-45)
MA：메틸아크릴레이트
KBM-403：3-글리시독시프로필트리메톡시실란 (신에츠 화학 공업사 제조)
이온성 화합물 ((D) 성분：대전 방지제)：1-옥틸-4-메틸피리디늄·비스(플루오로술포닐)이미드
표 3 및 표 4 의 결과로부터, 상기 실시예 1 내지 15 의 조성물은, (B) 성분으로서 상기 일반식 (2) 또는 상기 일반식 (3) 으로 나타내는 가교제 1 내지 3 을 포함함으로써, 높은 점착력 및 우수한 내구성을 실현하고, 또한, 광 누설을 저감할 수 있다. 이에 반해, 상기 비교예 1 내지 11 의 조성물은, (B) 성분으로서 상기 일반식 (2) 또는 상기 일반식 (3) 으로 나타내는 가교제를 포함하고 있지 않거나 (사용한 가교제 4 ∼ 6 이 상기 일반식 (2) 또는 상기 일반식 (3) 으로 나타내는 구조를 갖지 않는다) (비교예 1 내지 11), 광 누설의 저감을 충분히 달성할 수 없었던 것을 이해할 수 있다.
100 : 화상 표시 장치 (액정 패널)
La, Lb, Lc, Ld : 화상 표시 장치의 코너 근방의 휘도
Lcenter : 화상 표시 장치의 중앙부에 있어서의 휘도

Claims (9)

  1. (A) (a1) 하기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체 및 (a2) 분자 내에 1 개의 올레핀성 이중 결합과 적어도 1 개의 수산기를 갖는 단량체를 포함하는 단량체 혼합물의 중합체인 아크릴계 폴리머와,
    (B) 하기 일반식 (2) 또는 하기 일반식 (3) 으로 나타내는 가교제를 포함하고,
    상기 (A) 아크릴계 폴리머의 분자량 분포가 4 이상 7 이하인, 광학 필름용 점착제 조성물.
    [화학식 1]
    Figure 112020029518696-pct00021

    (식 중, R1 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고, R2 는 탄소수 1 이상 14 이하의 알킬기 또는 아르알킬기를 나타낸다.)
    [화학식 2]
    Figure 112020029518696-pct00022

    (식 중, R1A, R1B, R1C 는 독립적으로, 하기 일반식 (4) 로 나타내는 기 및/또는 하기 일반식 (5) 로 나타내는 기를 포함하는 기이고, R2A, R2B, R2C 는 독립적으로, 탄소 원자수 2 이상 10 이하의 알킬렌기를 포함하는 기이다.)
    [화학식 3]
    Figure 112020029518696-pct00023

    (식 중, R1A, R1B, R1C 는 독립적으로, 하기 일반식 (4) 로 나타내는 기 및/또는 하기 일반식 (5) 로 나타내는 기를 포함하는 기이고, R2A, R2B, R2C 는 독립적으로, 탄소 원자수 2 이상 10 이하의 알킬렌기를 포함하는 기이고, R3A, R3B, R3C, R3D, R3E, R3F 는 독립적으로, 탄소 원자수 2 이상 10 이하의 알킬렌기를 포함하는 기이다.)
    [화학식 4]
    Figure 112020029518696-pct00024

    (식 중, x 는 2 이상 10 이하의 정수이고, m 은 1 이상 10 이하의 정수이다.)
    [화학식 5]
    Figure 112020029518696-pct00025

    (식 중, X 는 단결합 또는 -O- 를 나타내고, y 는 2 이상 10 이하의 정수이고, n 은 1 이상 10 이하의 정수이다.)
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 (A) 아크릴계 폴리머 100 질량부에 대해, 상기 (B) 가교제를 0.05 질량부 이상 5 질량부 이하 포함하는 광학 필름용 점착제 조성물.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 단량체 혼합물은 상기 (a1) 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체 90 질량％ 이상 99.9 질량％ 이하 및 상기 (a2) 분자 내에 1 개의 올레핀성 이중 결합과 적어도 1 개의 수산기를 갖는 단량체 0.1 질량％ 이상 10 질량％ 이하를 포함하는 광학 필름용 점착제 조성물.
  4. 제 3 항에 있어서,
    상기 단량체 혼합물은 상기 (a1) 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체로서, (a1-1) 호모폴리머를 형성하였다고 가정한 경우의 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 이상인, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체 5 질량％ 이상 55 질량％ 이하와, (a1-2) 호모폴리머를 형성하였다고 가정한 경우의 유리 전이 온도 (Tg) 가 0 ℃ 미만인, 상기 일반식 (1) 로 나타내는 (메트)아크릴산에스테르 단량체 44.5 질량％ 이상 94.5 질량％ 이하를 포함하는 (여기서, 상기 (a1-1) 과 상기 (a1-2) 의 합계량은 90.1 질량％ 이상 100 질량％ 이하이다) 광학 필름용 점착제 조성물.
  5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 (A) 아크릴계 폴리머 100 질량부에 대해, (C) 실란 커플링제 0.01 질량부 이상 0.5 질량부 이하를 추가로 포함하는 광학 필름용 점착제 조성물.
  6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 (A) 아크릴계 폴리머 100 질량부에 대해, (D) 이온성 화합물 0.01 질량부 이상 3 질량부 이하를 추가로 포함하는 광학 필름용 점착제 조성물.
  7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    60 ℃ 에 있어서의 미소 크리프 값이 0.50 ㎜ 이하인 광학 필름용 점착제 조성물.
  8. 제 1 항 또는 제 2 항에 기재된 광학 필름용 점착제 조성물을 포함하는 점착제층을 광학 필름의 편면 또는 양면에 형성하는 점착형 광학 필름.
  9. 제 8 항에 있어서,
    편광 필름, 위상차 필름, 타원 편광 필름, 반사 방지 필름, 휘도 향상 필름 및 광 확산 필름으로 이루어지는 군에서 선택되는 광학 필름인 점착형 광학 필름.
KR1020157031124A 2013-04-01 2014-03-27 광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름 KR102156462B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2013-075982 2013-04-01
JP2013075982 2013-04-01
PCT/JP2014/058956 WO2014162985A1 (ja) 2013-04-01 2014-03-27 光学フィルム用粘着剤組成物および粘着型光学フィルム

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20150140711A KR20150140711A (ko) 2015-12-16
KR102156462B1 true KR102156462B1 (ko) 2020-09-15

Family

ID=51658283

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020157031124A KR102156462B1 (ko) 2013-04-01 2014-03-27 광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP6321629B2 (ko)
KR (1) KR102156462B1 (ko)
CN (1) CN105073937B (ko)
TW (1) TWI627247B (ko)
WO (1) WO2014162985A1 (ko)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR102116601B1 (ko) * 2014-10-01 2020-05-28 소켄 케미칼 앤드 엔지니어링 캄파니, 리미티드 터치 패널용 점착제 조성물, 점착 시트 및 적층체
CN106010385B (zh) * 2015-03-31 2019-08-02 住友化学株式会社 带有粘合剂层的光学膜及液晶显示装置
CN106566445A (zh) * 2015-10-07 2017-04-19 住友化学株式会社 粘合剂组合物，粘合剂层，以及带粘合剂层的光学部件
WO2017116079A1 (ko) * 2015-12-29 2017-07-06 삼성에스디아이 주식회사 점착제 조성물, 점착필름 및 화상표시장치

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013010836A (ja) 2011-06-28 2013-01-17 Lintec Corp 粘着剤および粘着シート

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1195012A (ja) * 1997-09-24 1999-04-09 Nippon Kayaku Co Ltd 光散乱フィルム
JP3667185B2 (ja) * 1999-03-18 2005-07-06 積水化学工業株式会社 粘着テープ又はシート及びその製造方法
DE602006017579D1 (de) * 2005-11-21 2010-11-25 Soken Kagaku Kk Klebstoff für optischen film sowie von dem klebstoff gebrauch machendes klebevlies und optisches glied
JP2007169329A (ja) 2005-12-19 2007-07-05 Saiden Chemical Industry Co Ltd 光学用粘着剤組成物および粘着シート
JP5583001B2 (ja) * 2010-12-24 2014-09-03 綜研化学株式会社 光学フィルム用粘着剤組成物および粘着型光学フィルム
JP2012229372A (ja) * 2011-04-27 2012-11-22 Nitto Denko Corp 粘着剤組成物及び粘着シート
JP2013008019A (ja) * 2011-05-26 2013-01-10 Nitto Denko Corp 粘着剤層付偏光フィルムおよび画像表示装置

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013010836A (ja) 2011-06-28 2013-01-17 Lintec Corp 粘着剤および粘着シート

Also Published As

Publication number Publication date
TW201446907A (zh) 2014-12-16
WO2014162985A1 (ja) 2014-10-09
CN105073937A (zh) 2015-11-18
JP6321629B2 (ja) 2018-05-09
JPWO2014162985A1 (ja) 2017-02-16
KR20150140711A (ko) 2015-12-16
CN105073937B (zh) 2017-08-01
TWI627247B (zh) 2018-06-21

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101757569B1 (ko) 광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름, 그리고 적층체
TWI672347B (zh) 光學薄膜用黏著劑組成物、光學薄膜用黏著劑層、附黏著劑層之光學薄膜以及影像顯示裝置
KR102071103B1 (ko) 적층체
KR101946695B1 (ko) 광학 필름용 점착제 조성물, 점착형 광학 필름 및 적층체
JP5785624B2 (ja) 光学部材用粘着剤組成物並びにそれを使用した粘着シート、粘着剤層付き光学部材及びフラットパネルディスプレイ
TWI642743B (zh) 黏著劑組成物及光學構件表面保護膜
TWI606105B (zh) Adhesive composition for optical film, adhesive layer for optical film, optical film with adhesive layer, and image display device
JP6673621B2 (ja) 粘着剤組成物及び光学部材表面保護フィルム
JP5583001B2 (ja) 光学フィルム用粘着剤組成物および粘着型光学フィルム
CN112409943A (zh) 透明树脂层
KR102156462B1 (ko) 광학 필름용 점착제 조성물 및 점착형 광학 필름
TW201432004A (zh) 黏著劑組成物及光學構件表面保護膜
KR102153560B1 (ko) 점착제층, 점착제층 부착 편광판 및 적층체
KR20150140719A (ko) 광학용 점착제 조성물, 광학용 점착 시트 및 그 제조 방법
KR20190017571A (ko) 점착제 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant