KR101582730B1 - 에피술피드 화합물을 제조하는 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 2개 이상의 수산기를 갖는 다가 수산기 화합물의 존재하에서, (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 (C) 티아화제와의 반응에 의해 티아화하는 공정을 구비하는, 에피술피드 화합물을 제조하는 방법을 제공한다.

Description

에피술피드 화합물을 제조하는 방법{PROCESS FOR PREPARING EPISULFIDE COMPOUNDS}

본 발명은, 에피술피드 화합물을 제조하는 방법에 관한 것이다.

에피술피드 화합물은, 플라스틱의 원료 화합물, 접착제, 약제, 살충제 및 제초제 등의 폭넓은 분야에서 이용되고 있다.

특히 최근, 에피술피드 화합물이 중합하여 형성되는 플라스틱은, 고굴절률, 고아베수, 고내열성 및 고강도라는 특성을 갖고 있기 때문에, 광학 재료의 분야에서, 종래보다 우수한 성능을 갖는 재료로서 이용되고 있다.

일반적으로, 에피술피드 화합물을 제조하는 방법으로서는, 에폭시 화합물과 티아화제를 반응시키는 방법을 들 수 있다.

그러나, 이 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하면, 에피술피드 화합물의 높은 반응성에 기인하는 중합물의 형성, 더 나아가서는 에피술피드 화합물과 티아화제의 반응이 발생하기 때문에, 높은 수율로 에피술피드 화합물을 얻기 곤란하다고 하는 문제가 있었다. 또한, 에폭시 화합물과 티아화제의 반응이 느리기 때문에, 반응 시간이 길고, 생산성의 점에서도 개선이 요구되고 있었다.

이들 문제를 해결하기 위해, 몇 개의 방법이 제안되어 있다. 예컨대 비특허문헌 1에서는, 신규한 티아화제를 이용하는 방법이 제안되어 있다. 비특허문헌 2에서는, 금속 촉매를 이용한 방법이 제안되어 있다. 비특허문헌 3에서는, 실리카에 담지된 산 촉매를 이용한 방법이 제안되어 있다. 특허문헌 1에서는, 극성 용매만을 반응 용매로서 이용하는 방법이 제안되어 있다.

특허문헌 1: 일본 특허 공개 제2001-163872호 공보

비특허문헌 1: J.Chem.Soc., Chem.Comm. 1975, 621-622. 비특허문헌 2: Synth.Commun. 2004, 34, 2823-2827. 비특허문헌 3: J.Mol.Cat.A: Chem. 2007, 273, 114-117.

그러나, 비특허문헌 1에 기재되어 있는 신규한 티아화제는, 일반적으로 보급되어 있는 것이 아니라, 입수 곤란한 고가의 것이기 때문에, 에피술피드 화합물을 제조하는 비용을 높이는 경향이 있다.

비특허문헌 2에 기재되어 있는 금속 촉매를 이용한 제조 방법에서는, 금속 촉매가 에피술피드 화합물과 반응하여, 수율을 저하시키는 경우가 있다. 또한, 제조한 에피술피드 화합물의 용도에 따라서는, 금속 촉매를 제거해야 한다. 이 때문에 에피술피드 화합물을 제조하는 비용이 높아지는 경향이 있다. 또한, 금속 촉매를 이용하기 때문에, 환경 부하의 저감의 점에서는 비교적 불리한 방법이다.

비특허문헌 3에 기재되어 있는 실리카에 담지된 산 촉매를 이용한 경우, 에폭시 화합물과 티아화제의 반응 종료 후, 용이하게 촉매를 제거하여, 재이용할 수 있을 가능성이 있기 때문에, 환경 부하가 작다고 생각된다. 그러나, 이 방법에서 이용되는 촉매는 일반적으로 보급되어 있는 것이 아니라, 입수 곤란한 고가의 것이기 때문에, 이 방법에 의하면, 에피술피드 화합물을 제조하는 비용이 높아지는 경향이 있다.

특허문헌 1에 기재되어 있는 극성 용매만을 반응 용매로서 이용하는 방법은, 순환수율이 59%∼66.6%인 것이 개시되어 있지만, 아직 수율에 개선의 여지가 있다.

본 발명은, 상기 사정을 감안하여 이루어진 것으로, 반응 시간이 짧고, 수율이 높으며, 경제성이 우수하고, 또한 환경 부하가 작은, 에피술피드 화합물을 제조하는 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.

본 발명자는, (A) 2개 이상의 수산기를 갖는 다가 수산기 화합물의 존재하에서, (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 (C) 티아화제와의 반응에 의해 티아화하는 공정을 구비하는, 에피술피드 화합물을 제조하는 방법은, 반응 시간이 짧고, 수율이 높으며, 경제성이 우수하고, 환경 부하가 작은 것을 발견하여, 본 발명을 이루기에 이르렀다.

즉, 본 발명은 이하와 같다.

[1] (A) 2개 이상의 수산기를 갖는 다가 수산기 화합물의 존재하에서, (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 (C) 티아화제와의 반응에 의해 티아화하는 공정을 구비하는 에피술피드 화합물을 제조하는 방법.

[2] (A) 다가 수산기 화합물의 수산기가가 300∼1870 ㎎/g인 항 [1] 기재의 방법.

[3] (A) 다가 수산기 화합물의 수산기가가 1870 ㎎/g 초과 3000 ㎎/g 이하 인 항 [1] 기재의 방법.

[4] (A) 다가 수산기 화합물이, 수산기를 2개 갖는 화합물인 항 [1] 기재의 방법.

[5] (A) 다가 수산기 화합물이, 수산기를 3개 이상 갖는 화합물인 항 [1] 기재의 방법.

[6] (A) 다가 수산기 화합물의 탄소수가 3∼20인 항 [1] 기재의 방법.

[7] (A) 다가 수산기 화합물이, 수산기를 2개 가지며, 탄소수가 3∼20이고, 수산기가가 300∼1870 ㎎/g인 화합물인 항 [1] 기재의 방법.

[8] (A) 다가 수산기 화합물이, 수산기를 3개 가지며, 탄소수가 4∼20이고, 수산기가가 300∼1870 ㎎/g인 화합물인 항 [1] 기재의 방법.

[9] (A) 다가 수산기 화합물이, 수산기를 4개 이상 가지며, 수산기가가 300∼1870 ㎎/g인 화합물인 항 [1] 기재의 방법.

[10] (A) 다가 수산기 화합물이, 쇄형, 분기형 또는 환형의 지방족 탄화수소기를 갖는 화합물이고, (A) 다가 수산기 화합물에 함유되는 2개 이상의 수산기가, 상기 지방족 탄화수소기중의 서로 상이한 탄소 원자에 1개씩 결합되어 있는 항 [1] 기재의 방법.

[11] (C) 티아화제가, 티오시안산염 및 티오요소류로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 포함하는 항 [1] 기재의 방법.

[12] 하기 식 (1)로 표시되는, (B) 에폭시 화합물과 (C) 티아화제의 혼합 지표 α가 1∼10인 항 [1] 기재의 방법.

혼합 지표 α=αt/αe (1)

αt: 티아화제에 포함되는, 에피술피드기의 생성에 이용될 수 있는 황 원자의 물질량(㏖)

αe: 에폭시 화합물에 포함되는 에폭시기의 물질량(㏖)

[13] 하기 식 (2)로 표시되는, (A) 다가 수산기 화합물과 (C) 티아화제의 혼합 지표 β가 0.010∼0.500인 항 [1] 기재의 방법.

혼합 지표 β=βt/βo (2)

βt: 티아화제의 질량(g)

βo: 다가 수산기 화합물의 질량(g)

[14] (B) 에폭시 화합물의 에폭시 당량이, 55∼700 g/eq.인 항 [1] 기재의 방법.

[15] (B) 에폭시 화합물이 하기 식 (3), (4), (5) 또는 (6)으로 표시되는 부분 구조를 갖는 항 [1] 기재의 방법.

[식중, R₁, R₂, R₃, R₄, R₅, R₆, R₇, R₈, R₉, R₁₀, R₁₁, R₁₂, R₁₃, R₁₄ 및 R₁₅는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼10의 유기기를 나타낸다.]

[16] (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 티아화하는 상기 공정의 반응액으로부터 미반응의 에폭시 화합물을 회수하는 공정과,

회수된 에폭시 화합물을 포함하는 (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 (C) 티아화제와의 반응에 의해 티아화하는 공정

을 더 구비하는 항 [1] 기재의 방법.

[17] (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 티아화하는 상기 공정의 반응액으로부터 다가 수산기 화합물을 회수하는 공정과,

회수된 다가 수산기 화합물을 포함하는 (A) 다가 수산기 화합물의 존재하에서, (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 (C) 티아화제와의 반응에 의해 티아화하는 공정

을 더 구비하는 항 [1] 기재의 방법.

[18] (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 티아화하는 상기 공정에서 (C) 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성된 화합물로부터, 티아화제를 재생하는 공정을 더 구비하는 항 [1]에 기재된 방법.

[19] (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 티아화하는 상기 공정의 반응액으로부터 회수된 미반응의 티아화제를 포함하는 (C) 티아화제와의 반응에 의해 (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 티아화하는 공정을 더 구비하는 항 [1]에 기재된 방법.

[20] 재생된 티아화제를 포함하는 (C) 티아화제와의 반응에 의해 (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 티아화하는 공정을 더 구비하는 항 [18]에 기재된 방법.

본 발명에 의하면, 반응 시간이 짧고, 수율이 높으며, 경제성이 우수하고, 또한 환경 부하가 작은, 에피술피드 화합물을 제조하는 방법이 제공된다.

이하, 본 발명을 실시하기 위한 형태(이하, 「본 실시형태」라고 함.)에 대해서 상세히 설명한다. 단, 본 발명은, 이하의 본 실시형태에 한정되는 것이 아니라, 그 요지의 범위 내에서 여러 가지 변형하여 실시할 수 있다.

본 실시형태에 따른 제조 방법은, (A) 2개 이상의 수산기를 갖는 다가 수산기 화합물의 존재하에서, (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 (C) 티아화제와의 반응에 의해 티아화하는 공정을 구비한다. 이하, (A) 다가 수산기 화합물, (B) 에폭시 화합물, (C) 티아화제 및 그 외의 성분의 상세에 대해서 설명한다.

((A) 다가 수산기 화합물)

본 실시형태의 (A) 다가 수산기 화합물은, 2개 이상의 수산기를 갖는 화합물이다. 1종의 다가 수산기 화합물을 단독으로 이용하여도 좋고, 복수종의 다가 수산기 화합물을 조합하여 이용하여도 좋다.

(A) 다가 수산기 화합물의 수산기가는, 300 ㎎/g 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 500 ㎎/g 이상이며, 더 바람직하게는 700 ㎎/g 이상이다. 수산기가가 300 ㎎/g 이상이면, 에피술피드 화합물끼리의 중합물, 및 에피술피드 화합물과 티아화제의 반응물의 생성을 억제할 수 있어, 수율이 보다 높아지는 경향이 있다. 수산기가가 500 ㎎/g 이상이면, 반응 시간이 보다 짧아져, 경제성이 우수한 경향이 있다. 같은 관점에서, 수산기가는 더 바람직하게는 700 ㎎/g 이상이다.

다가 수산기 화합물의 수산기가는, 1870 ㎎/g 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1830 ㎎/g 이하이며, 더 바람직하게는 1810 ㎎/g 이하이다. 수산기가가 1870 ㎎/g 이하이면, 반응계 내의 티아화제의 농도를 높일 수 있고, 제조 공정을 간소화할 수 있어, 경제성이 우수한 경향이 있다. 수산기가가 1830 ㎎/g 이하이면, 에피술피드 화합물끼리의 중합물, 및 에피술피드 화합물과 티아화제의 반응물의 생성을 억제할 수 있어, 수율이 보다 높아지는 경향이 있다. 수산기가가 1810 ㎎/g 이하이면, 반응 시간이 보다 짧아져, 경제성이 우수한 경향이 있다. 수산기가가 1870 ㎎/g를 초과하는 경우, (A) 다가 수산기 화합물의 사용량이 적어도, 수율이 보다 높거나, 또는 반응 시간이 보다 짧아져, 경제성이 우수한 경향이 있기 때문에 바람직하다. 또한, 입수 용이하고, 경제성이 우수한 경향이 있기 때문에, 수산기가는 3000 ㎎/g 이하인 것이 바람직하다.

(A) 다가 수산기 화합물은 2개 이상의 수산기를 갖는다. 2개 이상의 수산기를 갖는 다가 수산기 화합물을 이용하는 것에 의해, 반응 시간이 짧아져, 에피술피드 화합물끼리의 중합물, 및 에피술피드 화합물과 티아화제의 반응물의 생성을 억제할 수 있어, 수율이 높여진다. 수산기가 2개인 경우, 다수의 화합물을 용이하게 입수할 수 있는 경향이 있기 때문에, 수율이나 반응 시간의 관점에서, (B) 에폭시 화합물과 최적의 조합을 발견할 수 있을 가능성이 높아지기 때문에, 특히 바람직하다. 다가 수산기 화합물이 수산기를 3개 이상 가짐으로써, (A) 다가 수산기 화합물의 사용량이 적어도, 수율이 보다 높거나, 또는 반응 시간이 보다 짧아져, 경제성이 우수한 경향이 있기 때문에 바람직하다. 다가 수산기 화합물은, 보다 바람직하게는 수산기를 4개 이상 갖는다.

(A) 다가 수산기 화합물의 탄소수는, 바람직하게는 3 이상이다. 탄소수가 3 이상이면, 반응 시간이 특히 짧아져, 경제성이 우수한 경향이 있다. 다가 수산기 화합물의 탄소수는 20 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 8 이하이며, 더 바람직하게는 6 이하이다. 탄소수가 20 이하이면, 입수 용이하고, 경제성이 우수한 경향이 있다. 탄소수가 8 이하이면, 반응 시간이 짧아져, 에피술피드 화합물끼리의 중합물, 및 에피술피드 화합물과 티아화제의 반응물의 생성을 억제할 수 있어, 수율이 높여진다. 탄소수가 6 이하이면, 표준 상태에서 다가 수산기 화합물이 액상이 되는 경향이 있어, 취급이 용이하다.

(A) 다가 수산기 화합물의 수산기가, 수산기의 수, 탄소수의 조합으로서는,

수산기가 2개, 탄소수가 3∼20, 수산기가가 300∼1870 ㎎/g,

수산기가 3개, 탄소수가 4∼20, 수산기가가 300∼1870 ㎎/g, 또는

수산기가 4개 이상, 수산기가가 300∼1870 ㎎/g

인 것이 반응 시간이 특히 짧아져, 에피술피드 화합물끼리의 중합물, 및 에피술피드 화합물과 티아화제의 반응물의 생성을 억제할 수 있어, 수율이 특히 높여지는 관점에서 바람직하다.

(A) 다가 수산기 화합물은, 쇄형, 분기형 또는 환형의 지방족 탄화수소기를 갖는 화합물인 것이 바람직하다. 입수 용이하고, 경제성이 우수한 경향이 있기 때문에, 쇄형 또는 환형의 지방족 탄화수소기를 갖는 화합물인 것이 보다 바람직하고, 더 바람직하게는 쇄형 지방족 탄화수소기를 갖는 화합물이다. 또한, (A) 다가 수산기 화합물에 함유되는 수산기는, 지방족 탄화수소기의 탄소 원자에 결합되어 있는 것이 바람직하다.

(A) 다가 수산기 화합물은, 2개 이상의 수산기가 상이한 탄소 원자에 1개씩 결합되어 있는 것이 바람직하다. 2개 이상의 수산기가 상이한 탄소 원자에 1개씩 결합되어 있음으로써, 화합물로서의 안정성이 높아지는 경향이 있다.

(A) 다가 수산기 화합물은, 예컨대 메탄디올, 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 1,2-시클로프로판디올, 글리세린, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2,3-부탄디올, 2-메틸-1,3-프로판디올, 1,2-시클로부탄디올, 1,3-시클로부탄디올, 1,2,3-부탄트리올, 1,2,4-부탄트리올, 1,2,3,4-부탄테트라올, 1,2,3-시클로부탄트리올, 1,2,3,4-시클로부탄테트라올, 1,2-펜탄디올, 1,3-펜탄디올, 1,4-펜탄디올, 1,5-펜탄디올, 2,3-펜탄디올, 2,4-펜탄디올, 1,2,3-펜탄트리올, 1,2,4-펜탄트리올, 1,2,5-펜탄트리올, 1,3,4-펜탄트리올, 1,3,5-펜탄트리올, 1,2,3,4-펜탄테트라올, 1,2,3,5-펜탄테트라올, 1,2,4,5-펜탄테트라올, 1,2,3,4,5-펜탄펜타올, 1,2,3-시클로펜탄트리올, 1,2,4-시클로펜탄트리올, 1,2-헥산디올, 1,3-헥산디올, 1,4-헥산디올, 1,5-헥산디올, 1,6-헥산디올, 2,3-헥산디올, 2,4-헥산디올, 2,5-헥산디올, 3,4-헥산디올,

1,2-시클로헥산디올, 1,3-시클로헥산디올, 1,4-시클로헥산디올, 1,2,3-헥산트리올, 1,2,4-헥산트리올, 1,2,5-헥산트리올, 1,2,6-헥산트리올, 1,3,4-헥산트리올, 1,3,5-헥산트리올, 1,3,6-헥산트리올, 1,4,5-헥산트리올, 1,4,6-헥산트리올, 2,3,4-헥산트리올, 2,3,5-헥산트리올, 1,2,3,4-헥산테트라올, 1,2,3,5-헥산테트라올, 1,2,3,6-헥산테트라올, 1,3,4,5-헥산테트라올, 1,3,4,6-헥산테트라올, 1,2,3,4,5-헥산펜타올, 1,2,3,4,6-헥산펜타올, 1,2,3,4,5,6-헥산헥사올, 1,2,3-시클로헥산트리올, 1,2,4-시클로헥산트리올, 1,3,6-시클로헥산트리올, 1,2,3,4-시클로헥산테트라올, 1,2,3,5-시클로헥산테트라올, 1,2,3,4,5-시클로헥산펜타올, 1,2,3,4,5,6-시클로헥산헥사올, 1,2-헵탄디올, 1,3-헵탄디올, 1,4-헵탄디올, 1,5-헵탄디올, 1,6-헵탄디올, 1,7-헵탄디올, 2,3-헵탄디올, 2,4-헵탄디올, 2,5-헵탄디올, 2,6-헵탄디올, 3,4-헵탄디올, 3,5-헵탄디올,

비시클로-[2,2,1]헵탄-디올, 1,2,3-헵탄트리올, 1,2,4-헵탄트리올, 1,2,5-헵탄트리올, 1,2,6-헵탄트리올, 1,2,7-헵탄트리올, 1,3,4-헵탄트리올, 1,3,5-헵탄트리올, 1,3,6-헵탄트리올, 1,3,7-헵탄트리올, 1,3,8-헵탄트리올, 1,4,5-헵탄트리올, 1,4,6-헵탄트리올, 1,4,7-헵탄트리올, 1,5,6-헵탄트리올, 2,3,4-헵탄트리올, 2,3,5-헵탄트리올, 2,3,6-헵탄트리올, 3,4,5-헵탄트리올, 1,2,3,4-헵탄테트라올, 1,2,3,5-헵탄테트라올, 1,2,3,6-헵탄테트라올, 1,2,3,7-헵탄테트라올, 1,3,4,5-헵탄테트라올, 1,3,4,6-헵탄테트라올, 1,3,4,7-헵탄테트라올, 1,4,5,6-헵탄테트라올, 1,4,5,7-헵탄테트라올, 1,5,6,7-헵탄테트라올, 1,2,3,4,5-헵탄펜타올, 1,2,3,4,6-헵탄펜타올, 1,2,3,4,7-헵탄펜타올, 1,3,4,5,6-헵탄펜타올, 1,3,4,5,7-헵탄펜타올, 1,4,5,6,7-헵탄펜타올, 1,2,3,4,5,6-헵탄헥사올, 1,2,3,4,5,7-헵탄헥사올, 1,2,3,4,5,6,7-헵탄헵탄올, 1,2,3-시클로헵탄트리올, 1,2,4-시클로헵탄트리올, 1,2,5-시클로헵탄트리올, 1,3,4-시클로헵탄트리올, 1,3,5-시클로헵탄트리올,

1,2,3,4-시클로헵탄테트라올, 1,2,3,5-시클로헵탄테트라올, 1,3,4,5-시클로헵탄테트라올, 1,3,4,6-시클로헵탄테트라올, 1,2,3,4,5-시클로헵탄펜타올, 1,2,3,4,6-시클로헵탄펜타올, 1,2,3,4,5,6-시클로헵탄헥사올, 1,2,3,4,5,6,7-시클로헵탄헵타올, 비시클로-[2,2,1]헵탄트리올, 비시클로-[2,2,1]헵탄테트라올, 비시클로-[2,2,1]헵탄펜타올, 비시클로-[2,2,1]헵탄헥사올, 비시클로-[2,2,1]헵탄헵타올, 1,2-옥탄디올, 1,3-옥탄디올, 1,4-옥탄디올, 1,5-옥탄디올, 1,6-옥탄디올, 1,7-옥탄디올, 1,8-옥탄디올, 2,3-옥탄디올, 2,4-옥탄디올, 2,5-옥탄디올, 2,6-옥탄디올, 2,7-옥탄디올, 3,4-옥탄디올, 3,5-옥탄디올, 3,6-옥탄디올, 4,5-옥탄디올,

비시클로-[2,2,2]옥탄디올, 1,2,3-시클로옥탄트리올, 1,2,4-시클로옥탄트리올, 1,2,5-시클로옥탄트리올, 1,3,4-시클로옥탄트리올, 1,3,5-시클로옥탄트리올, 1,3,6-시클로옥탄트리올, 1,4,5-시클로옥탄트리올, 1,4,6-시클로옥탄트리올, 1,2,3,4-시클로옥탄테트라올, 1,2,3,5-시클로옥탄테트라올, 1,2,3,6-시클로옥탄테트라올, 1,3,4,5-시클로옥탄테트라올, 1,3,4,6-시클로옥탄테트라올, 1,3,4,7-시클로옥탄테트라올, 1,4,5,6-시클로옥탄테트라올, 1,2,3,4,5-시클로옥탄펜타올, 1,2,3,4,6-시클로옥탄펜타올, 1,2,3,4,7-시클로옥탄펜타올, 1,3,4,5,6-시클로옥탄펜타올, 1,3,4,5,7-시클로옥탄펜타올, 1,4,5,6,7-시클로옥탄펜타올, 1,2,3,4,5,6-시클로옥탄헥사올, 1,2,3,4,5,7-시클로옥탄헥사올, 1,2,3,4,5,6,7-시클로옥탄헵타올, 1,2,3,4,5,6,7,8-시클로옥탄옥타올,

비시클로-[2,2,2]옥탄트리올, 비시클로-[2,2,2]옥탄테트라올, 비시클로-[2,2,2]옥탄펜타올, 비시클로-[2,2,2]옥탄헥사올, 비시클로-[2,2,2]옥탄헵타올, 비시클로-[2,2,2]옥탄옥타올, 1,2-노난디올, 1,3-노난디올, 1,4-노난디올, 1,5-노난디올, 1,6-노난디올, 1,7-노난디올, 1,8-노난디올, 1,9-노난디올, 2,3-노난디올, 2,4-노난디올, 2,5-노난디올, 2,6-노난디올, 2,7-노난디올, 2,8-노난디올, 3,4-노난디올, 3,5-노난디올, 3,6-노난디올, 3,7-노난디올, 4,5-노난디올, 4,6-노난디올, 1,2-시클로노난디올, 1,3-시클로노난디올, 1,4-시클로노난디올, 1,5-시클로노난디올,

1,2-데칸디올, 1,3-데칸디올, 1,4-데칸디올, 1,5-데칸디올, 1,6-데칸디올, 1,7-데칸디올, 1,8-데칸디올, 1,9-데칸디올, 1,10-데칸디올, 2,3-데칸디올, 2,4-데칸디올, 2,5-데칸디올, 2,6-데칸디올, 2,7-데칸디올, 2,8-데칸디올, 2,9-데칸디올, 3,4-데칸디올, 3,5-데칸디올, 3,6-데칸디올, 3,7-데칸디올, 3,8-데칸디올, 4,5-데칸디올, 4,6-데칸디올, 4,7-데칸디올, 5,6-데칸디올, 1,2-시클로데칸디올, 1,3-시클로데칸디올, 1,4-시클로데칸디올, 1,5-시클로데칸디올, 1,6-시클로데칸디올, 운데칸디올, 도데칸디올, 트리데칸디올, 테트라데칸디올, 펜타데칸디올, 헥사데칸디올, 헵타데칸디올, 옥타데칸디올, 노나데칸디올, 이코산디올,

디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 테트라에틸렌글리콜, 펜타에틸렌글리콜, 헥사에틸렌글리콜, 헵타에틸렌글리콜, 옥타에틸렌글리콜, 노나에틸렌글리콜, 데카에틸렌글리콜, 운데카에틸렌글리콜, 도데카에틸렌글리콜, 폴리에틸렌글리콜 28, 폴리에틸렌글리콜 200, 폴리에틸렌글리콜 300, 폴리에틸렌글리콜 400, 글리세르알데히드, 에리트로오스, 트레오스, 리보스, 릭소오스, 크실로오스, 아라비노스, 아피오스, 알로오스, 탈로오스, 굴로스, 글루코오스, 알트로오스, 만노스, 갈락토오스, 이도스, 디히드록시아세톤, 에리트룰로오스, 리불로오스, 크실룰로오스, 푸시코스, 프룩토오스, 소르보스, 타가토오스, 세도헵툴로오스, 코리오스, 수크로오스, 락툴로오스, 락토오스, 말토오스, 트레할로오스, 셀로비오스, 코지비오스, 니게로스, 이소말토오스, 이소트레할로오스, 네오트레할로오스, 소포로스, 라미나리비오스, 겐티오비오스, 튜라노스, 말툴로스, 팔라티노오스, 겐티오비울로스, 만노비오스, 멜리비오스, 멜리비울로스, 네오락토오스, 갈락토수크로오스, 실라비오스, 루티노스, 루티눌로스, 비시아노스, 자이로비오스 및 프리메베로스로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물이다.

(A) 다가 수산기 화합물은, 메틸기, 에틸기, 히드록시메틸기, 히드록시에틸기로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 치환기를 갖는, 에틸렌글리콜, 프로판디올, 시클로프로판디올, 부탄디올, 시클로부탄디올, 펜탄디올, 시클로펜탄디올, 헥산디올, 시클로헥산디올, 헵탄디올, 시클로헵탄디올, 옥탄디올, 시클로옥탄디올, 노난디올, 시클로노난디올, 데칸디올, 시클로데칸디올, 운데칸디올, 도데칸디올, 트리데칸디올, 테트라데칸디올, 펜타데칸디올, 헥사데칸디올, 헵타데칸디올, 옥타데칸디올, 노나데칸디올 및 이코산디올로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물이어도 좋다.

상기 중에서도, 반응 시간을 단축하고, 에피술피드 화합물끼리의 중합물, 및 에피술피드 화합물과 티아화제의 반응물의 생성을 억제하여, 보다 높은 수율을 달성하는 관점에서, 이하의 군으로부터 선택되는, 적어도 1종의 화합물을 다가 수산기 화합물로서 이용하는 것이 바람직하다.

에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 1,2-시클로프로판디올, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2,3-부탄디올, 2-메틸-1,3-프로판디올, 1,2-펜탄디올, 1,3-펜탄디올, 1,4-펜탄디올, 1,5-펜탄디올, 2,3-펜탄디올, 2,4-펜탄디올, 2-메틸-1,3-부탄디올, 2-메틸-1,4-부탄디올, 2,2-디메틸-1,3-프로판디올, 1,2-시클로펜탄디올, 1,3-시클로펜탄디올, 1,2-헥산디올, 1,3-헥산디올, 1,4-헥산디올, 1,5-헥산디올, 1,6-헥산디올, 2,3-헥산디올, 2,4-헥산디올, 2,5-헥산디올, 3,4-헥산디올, 1,2-시클로헥산디올, 1,3-시클로헥산디올, 1,4-시클로헥산디올, 1,2-헵탄디올, 1,3-헵탄디올, 1,4-헵탄디올, 1,5-헵탄디올, 1,6-헵탄디올, 1,7-헵탄디올, 2,3-헵탄디올, 2,4-헵탄디올, 2,5-헵탄디올, 2,6-헵탄디올, 3,4-헵탄디올, 3,5-헵탄디올, 1,2-시클로헵탄디올, 1,3-시클로헵탄디올, 1,4-시클로헵탄디올, 비시클로-[2,2,1]헵탄디올,

1,2-옥탄디올, 1,3-옥탄디올, 1,4-옥탄디올, 1,5-옥탄디올, 1,6-옥탄디올, 1,7-옥탄디올, 1,8-옥탄디올, 2,3-옥탄디올, 2,4-옥탄디올, 2,5-옥탄디올, 2,6-옥탄디올, 2,7-옥탄디올, 3,4-옥탄디올, 3,5-옥탄디올, 3,6-옥탄디올, 4,5-옥탄디올, 1,2-시클로옥탄디올, 1,3-시클로옥탄디올, 1,4-시클로옥탄디올, 1,5-시클로옥탄디올, 비시클로-[2,2,2]옥탄디올, 1,2-노난디올, 1,3-노난디올, 1,4-노난디올, 1,5-노난디올, 1,6-노난디올, 1,7-노난디올, 1,8-노난디올, 1,9-노난디올, 2,3-노난디올, 2,4-노난디올, 2,5-노난디올, 2,6-노난디올, 2,7-노난디올, 2,8-노난디올, 3,4-노난디올, 3,5-노난디올, 3,6-노난디올, 3,7-노난디올, 4,5-노난디올, 4,6-노난디올, 1,2-시클로노난디올, 1,3-시클로노난디올, 1,4-시클로노난디올, 1,5-시클로노난디올,

1,2-데칸디올, 1,3-데칸디올, 1,4-데칸디올, 1,5-데칸디올, 1,6-데칸디올, 1,7-데칸디올, 1,8-데칸디올, 1,9-데칸디올, 1,10-데칸디올, 2,3-데칸디올, 2,4-데칸디올, 2,5-데칸디올, 2,6-데칸디올, 2,7-데칸디올, 2,8-데칸디올, 2,9-데칸디올, 3,4-데칸디올, 3,5-데칸디올, 3,6-데칸디올, 3,7-데칸디올, 3,8-데칸디올, 4,5-데칸디올, 4,6-데칸디올, 4,7-데칸디올, 5,6-데칸디올, 1,2-시클로데칸디올, 1,3-시클로데칸디올, 1,4-시클로데칸디올, 1,5-시클로데칸디올, 1,6-시클로데칸디올, 디에틸렌글리콜 및 트리에틸렌글리콜.

다가 수산기 화합물은, 더 바람직하게는, 이하의 군으로부터 선택되는, 적어도 1종의 화합물이다.

1,2-프로판디올, 1,3-프로판디올, 1,2-부탄디올, 1,3-부탄디올, 1,4-부탄디올, 2,3-부탄디올, 1,2-펜탄디올, 1,3-펜탄디올, 1,4-펜탄디올, 1,5-펜탄디올, 2,3-펜탄디올, 2,4-펜탄디올, 1,2-헥산디올, 1,3-헥산디올, 1,4-헥산디올, 1,5-헥산디올, 1,6-헥산디올, 2,3-헥산디올, 2,4-헥산디올, 2,5-헥산디올 및 3,4-헥산디올.

(A) 다가 수산기 화합물에 함유되는 불순물(예컨대 산성 화합물, 황산염, 염화물, 중금속 등)이 적은 것은, 본 발명의 효과를 보다 높이거나, 및/또는 반응 종료 후, 에피술피드 화합물, 미반응의 에폭시 화합물, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성된 화합물, 티아화제, 다가 수산기 화합물을 분리 및/또는 정제할 때, 불순물의 분리가 필요해지기 때문에, 고순도인 상기 화합물을 얻기 위한 유효한 방법이다. 불순물의 함유량으로서는, 5000 ppm 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 2000 ppm 이하이며, 더 바람직하게는 500 ppm 이하이다.

본 실시형태의 (B) 에폭시 화합물은, 에폭시기를 갖는 화합물이다. 1종의 에폭시 화합물을 단독으로 이용하여도 좋고, 복수종의 에폭시 화합물을 조합하여 이용하여도 좋다.

(B) 에폭시 화합물의 에폭시 당량(WPE, g/wq.)은, 바람직하게는 55 이상, 보다 바람직하게는 70 이상, 더 바람직하게는 90 이상이다. 에폭시 당량이 55 이상이면, 에폭시 화합물의 표준 상태에서의 증기압이 높고, 취급이 용이해지는 경향이 있다. 에폭시 당량이 70 이상이면, 에피술피드 화합물의 중합물의 생성을 억제할 수 있는 경향이 있고, 같은 관점에서 에폭시 당량은 더 바람직하게는 90 이상이다. 제조된 에피술피드 화합물로부터 형성되는 경화물의 내열성이 향상하는 경향이 있기 때문에, 에폭시 당량(WPE)은, 700 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 600 이하이며, 더 바람직하게는 500 이하이다.

(B) 에폭시 화합물은, 3원환 에테르 골격을 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만, 에폭시기와 티아화제의 반응 시간이 보다 짧아져, 생산성이 향상하는 경향이 있기 때문에, 하기 식 (3), (4), (5) 또는 (6)으로 표시되는 1가의 기를 부분 구조로서 갖는 것이 바람직하다. 또한, 에피술피드 화합물의 중합물의 생성, 및 티아화제와 에피술피드 화합물의 반응을 억제할 수 있는 경향이 있기 때문에, 하기 식 (3) 또는 (4)로 표시되는 부분 구조를 갖는 것이 보다 바람직하다. 같은 관점에서, (B) 에폭시 화합물은 식 (3)으로 표시되는 부분 구조를 갖는 것이 더 바람직하다. 식중, R₁, R₂, R₃, R₄, R₅, R₆, R₇, R₈, R₉, R₁₀, R₁₁, R₁₂, R₁₃, R₁₄ 및 R₁₅는 각각 독립적으로, 수소 원자 또는 탄소수 1∼10의 유기기를 나타낸다.

(B) 에폭시 화합물을 구체적으로 예시하면, 단작용 에폭시 화합물, 폴리페놀 화합물의 글리시딜에테르화물인 다작용 에폭시 화합물, 지환식 에폭시 화합물, 각종 노볼락 화합물의 글리시딜에테르화물인 다작용 에폭시 화합물, 방향족 에폭시 화합물의 핵수소화물, 복소환식 에폭시 화합물, 글리시딜에스테르계 에폭시 화합물, 글리시딜아민계 에폭시 화합물, 및 할로겐화페놀류를 글리시딜화한 에폭시 화합물, 함황 다작용 지방족 에폭시 화합물, 분자 내에 에폭시기를 갖는 실리콘 화합물, 이종 중합성 치환기 함유 에폭시 화합물 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 이용하여도, 복수를 조합하여 이용하여도 좋다.

(단작용 에폭시 화합물)

단작용 에폭시 화합물은, 특별히 한정되는 것이 아니라, 구체적으로는, 에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드, 1-부텐옥사이드, 2-부텐옥사이드, 부타디엔옥사이드, 부타디엔디에폭시드, 시클로부텐옥사이드, 1,3-시클로부타디엔디에폭시드, 1-펜텐옥사이드, 2-펜텐옥사이드, 1,3-펜타디엔디에폭시드, 1,4-펜타디엔디에폭시드, 2-메틸-2-부텐옥사이드, 2-메틸-3-부텐옥사이드, 시클로펜텐옥사이드, 1,3-시클로펜타디엔디에폭시드, 1-메틸-시클로부텐옥사이드, 3-메틸-1-시클로부텐옥사이드, 1-헥센옥사이드, 2-헥센옥사이드, 3-헥센옥사이드, 1,3-헥사디엔디에폭시드, 1,4-헥사디엔디에폭시드, 1,5-헥사디엔디에폭시드, 1,3,5-헥사트리엔트리에폭시드, 시클로헥센옥사이드, 1,3-시클로헥사디엔디에폭시드, 1,3,5-시클로헥사트리엔트리에폭시드, 1-메틸-시클로펜텐옥사이드, 3-메틸-시클로펜텐옥사이드, 1-메틸-1,3-시클로펜타디엔디에폭시드, 2-메틸-1,3-시클로펜타디엔디에폭시드, 5-메틸-1,3-시클로펜타디엔디에폭시드, 3,4-디메틸-시클로부텐옥사이드, 2,3-디메틸-시클로부텐옥사이드, 1,2-디메틸-시클로부텐옥사이드, 1,2-디메틸-1,3-시클로부타디엔디에폭시드, 2,3-디메틸-1,3-시클로부타디엔디에폭시드, 3,3-디메틸-1,2-에폭시부탄,

1-헵텐옥사이드, 2-헵텐옥사이드, 3-헵텐옥사이드, 1,3-헵타디엔디에폭시드, 1,4-헵타디엔디에폭시드, 1,5-헵타디엔디에폭시드, 1,5-헵타디엔디에폭시드, 1,6-헵타디엔디에폭시드, 1,3,5-헵타트리엔트리에폭시드, 1,3,6-헵타트리엔트리에폭시드, 1,4,6-헵타트리엔트리에폭시드, 시클로헵텐옥사이드, 1-메틸-시클로헥센옥사이드, 3-메틸-시클로헥센옥사이드, 4-메틸-시클로헥센옥사이드, 1-메틸-1,3-시클로헥사디엔디에폭시드, 1-메틸-1,4-헥사디엔디에폭시드, 1-메틸-1,3,5-헥사트리엔트리에폭시드, 1,2-에폭시-5-헥센, 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥센, 2-노르보넨옥사이드, 7-메틸-2-노르보넨옥사이드, 7,7-디메틸-2-노르보넨옥사이드, 2-메틸-2-노르보넨옥사이드, 2,3-디메틸-2-노르보넨옥사이드, 2,7-디메틸-2-노르보넨옥사이드, 2,7,7-트리메틸-2-노르보넨옥사이드, 2,3-에폭시-비시클로[2,2,2]옥탄, 2,3-에폭시-2-메틸-비시클로[2,2,2]옥탄, 2,3-에폭시-2,3-디메틸-비시클로[2,2,2]옥탄, 2,3-에폭시-2,5-디메틸-비시클로[2,2,2]옥탄, 2,3-에폭시-2,6-디메틸-비시클로[2,2,2]옥탄, 2,3-에폭시-2,3,5-트리메틸-비시클로[2,2,2]옥탄, 2,3-에폭시-2,5,6-트리메틸-비시클로[2,2,2]옥탄, 2,3-에폭시-2,3,5,6-테트라메틸-비시클로[2,2,2]옥탄,

에폭시헥사히드로프탈산디옥틸, 에폭시헥사히드로프탈산 디-2-에틸헥실, 스틸벤옥사이드, 페닐글리시딜에테르, 3-(2,2,3,3-테트라플루오로프로폭시)-1,2-에폭시프로판, 피넨옥사이드, 이소프렌모노옥사이드, 1,2-에폭시에틸벤젠, 나프틸글리시딜에테르, 3-(2-비페닐옥시)-1,2-에폭시프로판, 알릴글리시딜에테르, 1,1-디페닐-에틸렌옥사이드, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 글리시딜부틸레이트, 요오도메틸옥시란, 4-(2,3-에폭시프로필)모르폴린, 글리시딜메틸에테르, 2-페닐-프로필렌옥사이드, 2,3-에폭시프로필-푸르푸릴에테르, 2,3,4,5,6-펜타플루오로스티렌옥사이드, 에틸-3-페닐글리시데이트,

포스미도마이신, 리모넨옥사이드, 에폭시숙신산, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, (3-글리시독시프로필)펜타메틸디실록산, 3-글리시독시프로필(메틸)디메톡시실란, 3-글리시독시프로필(메틸)디에톡시실란, 3-글리시독시프로필(메틸)디부톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸(메틸)디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸(페닐)디에톡시실란, 2,3-에폭시프로필(메틸)디메톡시실란, 2,3-에폭시프로필(페닐)디메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리부톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리에톡시실란, 2,3-에폭시프로필트리메톡시실란, 및 2,3-에폭시프로필트리에톡시실란으로부터 선택될 수 있다.

상기 중에서도, 표준 상태에서의 증기압이 높고, 취급이 용이하며, 에피술피드 화합물의 중합물의 생성이나 티아화제와 에피술피드 화합물의 반응을 억제할 수 있는 경향이 있기 때문에, 단작용 에폭시 화합물은, 이하의 군으로부터 선택되는, 적어도 1종의 화합물인 것이 바람직하다.

에틸렌옥사이드, 프로필렌옥사이드, 1-부텐옥사이드, 2-부텐옥사이드, 부타디엔옥사이드, 부타디엔디에폭시드, 시클로부텐옥사이드, 1,3-시클로부타디엔디에폭시드, 1-펜텐옥사이드, 2-펜텐옥사이드, 1,3-펜타디엔디에폭시드, 1,4-펜타디엔디에폭시드, 2-메틸-2-부텐옥사이드, 2-메틸-3-부텐옥사이드, 시클로펜텐옥사이드, 1,3-시클로펜타디엔디에폭시드, 1-메틸-시클로부텐옥사이드, 3-메틸-1-시클로부텐옥사이드, 1-헥센옥사이드, 2-헥센옥사이드, 3-헥센옥사이드, 1,3-헥사디엔디에폭시드, 1,4-헥사디엔디에폭시드, 1,5-헥사디엔디에폭시드, 1,3,5-헥사트리엔트리에폭시드, 시클로헥센옥사이드, 1,3-시클로헥사디엔디에폭시드, 1,3,5-시클로헥사트리엔트리에폭시드, 1-메틸-시클로펜텐옥사이드, 3-메틸-시클로펜텐옥사이드, 1-메틸-1,3-시클로펜타디엔디에폭시드, 2-메틸-1,3-시클로펜타디엔디에폭시드, 5-메틸-1,3-시클로펜타디엔디에폭시드,

3,4-디메틸-시클로부텐옥사이드, 2,3-디메틸-시클로부텐옥사이드, 1,2-디메틸-시클로부텐옥사이드, 1,2-디메틸-1,3-시클로부타디엔디에폭시드, 2,3-디메틸-1,3-시클로부타디엔디에폭시드, 3,3-디메틸-1,2-에폭시부탄, 1-헵텐옥사이드, 2-헵텐옥사이드, 3-헵텐옥사이드, 1,3-헵타디엔디에폭시드, 1,4-헵타디엔디에폭시드, 1,5-헵타디엔디에폭시드, 1,5-헵타디엔디에폭시드, 1,6-헵타디엔디에폭시드, 1,3,5-헵타트리엔트리에폭시드, 1,3,6-헵타트리엔트리에폭시드, 1,4,6-헵타트리엔트리에폭시드, 시클로헵텐옥사이드, 1-메틸-시클로헥센옥사이드, 3-메틸-시클로헥센옥사이드, 4-메틸-시클로헥센옥사이드, 1-메틸-1,3-시클로헥사디엔디에폭시드, 1-메틸-1,4-헥사디엔디에폭시드, 1-메틸-1,3,5-헥사트리엔트리에폭시드,

1,2-에폭시-5-헥센, 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥센, 에폭시헥사히드로프탈산디옥틸, 에폭시헥사히드로프탈산 디-2-에틸헥실, 스틸벤옥사이드, 페닐글리시딜에테르, 3-(2,2,3,3-테트라플루오로프로폭시)-1,2-에폭시프로판, 피넨옥사이드, 이소프렌모노옥사이드, 1,2-에폭시에틸벤젠, 나프틸글리시딜에테르, 3-(2-비페닐옥시)-1,2-에폭시프로판, 알릴글리시딜에테르, 1,1-디페닐-에틸렌옥사이드, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 글리시딜부틸레이트, 요오도메틸옥시란, 4-(2,3-에폭시프로필)모르폴린, 글리시딜메틸에테르, 2-페닐-프로필렌옥사이드, 2,3-에폭시프로필-푸르푸릴에테르, 2,3,4,5,6-펜타플루오로스티렌옥사이드, 에틸-3-페닐글리시데이트,

포스미도마이신, 리모넨옥사이드, 에폭시숙신산, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, (3-글리시독시프로필)펜타메틸디실록산, 3-글리시독시프로필(메틸)디메톡시실란, 3-글리시독시프로필(메틸)디에톡시실란, 3-글리시독시프로필(메틸)디부톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸(메틸)디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸(페닐)디에톡시실란, 2,3-에폭시프로필(메틸)디메톡시실란, 2,3-에폭시프로필(페닐)디메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리부톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리에톡시실란, 2,3-에폭시프로필트리메톡시실란, 및 2,3-에폭시프로필트리에톡시실란.

더 바람직하게는, 단작용 에폭시 화합물은, 이하의 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 화합물이다.

프로필렌옥사이드, 1-부텐옥사이드, 2-부텐옥사이드, 부타디엔옥사이드, 부타디엔디에폭시드, 1-펜텐옥사이드, 2-펜텐옥사이드, 1,3-펜타디엔디에폭시드, 1,4-펜타디엔디에폭시드, 2-메틸-2-부텐옥사이드, 2-메틸-3-부텐옥사이드, 시클로펜텐옥사이드, 1-메틸-시클로부텐옥사이드, 3-메틸-1-시클로부텐옥사이드, 1-헥센옥사이드, 2-헥센옥사이드, 3-헥센옥사이드, 1,3-헥사디엔디에폭시드, 1,4-헥사디엔디에폭시드, 1,5-헥사디엔디에폭시드, 1,3,5-헥사트리엔트리에폭시드, 시클로헥센옥사이드, 1,3-시클로헥사디엔디에폭시드, 1-메틸-시클로펜텐옥사이드, 3-메틸-시클로펜텐옥사이드, 2-헵텐옥사이드, 3-헵텐옥사이드, 1,3-헵타디엔디에폭시드, 1,4-헵타디엔디에폭시드, 1,5-헵타디엔디에폭시드, 1,6-헵타디엔디에폭시드,

1-메틸-시클로헥센옥사이드, 3-메틸-시클로헥센옥사이드, 4-메틸-시클로헥센옥사이드, 1,2-에폭시-5-헥센, 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥센, 스틸벤옥사이드, 페닐글리시딜에테르, 3-(2,2,3,3-테트라플루오로프로폭시)-1,2-에폭시프로판, 피넨옥사이드, 이소프렌모노옥사이드, 1,2-에폭시에틸벤젠, 나프틸글리시딜에테르, 3-(2-비페닐옥시)-1,2-에폭시프로판, 알릴글리시딜에테르, 1,1-디페닐-에틸렌옥사이드, 글리시딜(메트)아크릴레이트, 글리시딜부틸레이트, 요오도메틸옥시란, 4-(2,3-에폭시프로필)모르폴린, 글리시딜메틸에테르, 2-페닐-프로필렌옥사이드, 2,3-에폭시프로필-푸르푸릴에테르, 2,3,4,5,6-펜타플루오로스티렌옥사이드, 에틸-3-페닐글리시데이트,

포스미도마이신, 리모넨옥사이드, 에폭시숙신산, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, (3-글리시독시프로필)펜타메틸디실록산, 3-글리시독시프로필(메틸)디메톡시실란, 3-글리시독시프로필(메틸)디에톡시실란, 3-글리시독시프로필(메틸)디부톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸(메틸)디메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸(페닐)디에톡시실란, 2,3-에폭시프로필(메틸)디메톡시실란, 2,3-에폭시프로필(페닐)디메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리메톡시실란, 3-글리시독시프로필트리에톡시실란, 3-글리시독시프로필트리부톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, 2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리에톡시실란, 2,3-에폭시프로필트리메톡시실란, 및 2,3-에폭시프로필트리에톡시실란.

(다작용 에폭시 화합물)

폴리페놀 화합물의 글리시딜에테르화물인 다작용 에폭시 화합물은, 특별히 한정되는 것이 아니라, 구체적으로는, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S, 4,4'-비페놀, 테트라메틸비스페놀 A, 디메틸비스페놀 A, 테트라메틸비스페놀 F, 디메틸비스페놀 F, 테트라메틸비스페놀 S, 디메틸비스페놀 S, 테트라메틸-4,4'-비페놀, 디메틸-4,4'-비페닐페놀, 1-(4-히드록시페닐)-2-[4-(1,1-비스-(4-히드록시페닐)에틸)페닐]프로판, 2,2'-메틸렌-비스(4-메틸-6-t-부틸페놀), 4,4'-부틸리덴-비스(3-메틸-6-t-부틸페놀), 트리스히드록시페닐메탄, 레조르시놀, 히드로퀴논, 2,6-디(t-부틸)히드로퀴논, 피로갈롤, 디이소프로필리덴 골격을 갖는 페놀류, 1,1-디(4-히드록시페닐)플루오렌 등의 플루오렌 골격을 갖는 페놀류, 및 페놀화폴리부타디엔 등의 폴리페놀 화합물의 글리시딜에테르화물로부터 선택될 수 있다.

상기 중에서도, 저렴하게 입수할 수 있는 경우나, 에피술피드 화합물의 중합물의 생성이나 티아화제와 에피술피드 화합물의 반응을 억제할 수 있는 경향이 있기 때문에, 비스페놀 A 골격, 또는 비스페놀 F 골격을 갖는 페놀류의 글리시딜에테르화물인 다작용 에폭시 화합물이 바람직하다.

비스페놀 골격을 갖는 페놀류의 글리시딜에테르화물인 다작용 에폭시 화합물의 대표적인 예를 하기에 나타낸다.

(지환식 에폭시 화합물)

지환식 에폭시 화합물은, 지환식 에폭시기를 갖는 에폭시 화합물이면, 특별히 한정되는 것이 아니라, 예컨대 시클로헥센옥사이드기, 트리시클로데센옥사이드기 또는 시클로펜텐옥사이드기 등을 갖는 에폭시 화합물로부터 선택될 수 있다.

지환식 에폭시 화합물의 구체예로서는, 3,4-에폭시시클로헥세닐메틸-3',4'-에폭시시클로헥센카르복실레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 3,4-에폭시시클로헥실옥틸-3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트, 2-(3,4-에폭시시클로헥실-5,5-스피로-3,4-에폭시)시클로헥산-메타-디옥산, 비스(3,4-에폭시시클로헥실메틸)아디페이트, 비닐시클로헥센디옥사이드, 비스(3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실메틸)아디페이트, 3,4-에폭시-6-메틸시클로헥실-3,4-에폭시-6-메틸시클로헥산카르복실레이트, 메틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산), 디시클로펜타디엔디에폭시드, 에틸렌글리콜디(3,4-에폭시시클로헥실메틸)에테르, 에틸렌비스(3,4-에폭시시클로헥산카르복실레이트), 및 1,2,8,9-디에폭시리모넨을 들 수 있다. 다른 다작용 지환식 에폭시 화합물로서는, 2,2-비스(히드록시메틸)-1-부탄올의 1,2-에폭시-4-(2-옥시라닐)시클로헥센 부가물 등을 들 수 있다. 다작용 지환식 에폭시 화합물의 시판품으로서는, 에폴리드 GT401, EHPE3150(다이셀가가쿠고교샤 제조) 등을 들 수 있다.

지환식 에폭시 화합물의 대표적인 예를 하기에 나타낸다.

(노볼락 화합물의 글리시딜에테르화물인 다작용 에폭시 화합물)

노볼락 화합물의 글리시딜에테르화물인 다작용 에폭시 화합물은, 특별히 한정되는 것이 아니라, 예컨대 페놀, 크레졸류, 에틸페놀류, 부틸페놀류, 옥틸페놀류, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S, 및 나프톨류 등의 각종 페놀을 원료로 하는 노볼락 화합물, 크실릴렌 골격 함유 페놀노볼락 화합물, 디시클로펜타디엔 골격 함유 페놀노볼락 화합물, 비페닐 골격 함유 페놀노볼락 화합물, 및 플루오렌 골격 함유 페놀노볼락 화합물 등의 각종 노볼락 화합물의 글리시딜에테르화물로부터 선택될 수 있다.

상기 중에서도, 입수가 용이한 관점에서, 페놀 또는 크레졸류 등을 원료로 하는 노볼락 화합물이 바람직하다.

노볼락 화합물의 글리시딜에테르화물인 다작용 에폭시 화합물의 대표적인 예를 하기에 나타낸다.

(방향족 에폭시 화합물의 핵수소화물)

방향족 에폭시 화합물의 핵수소화물은, 특별히 한정되는 것이 아니라, 예컨대 페놀 화합물(비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S, 4,4'-비페놀 등)의 글리시딜에테르화물, 또는 각종 페놀(페놀, 크레졸류, 에틸페놀류, 부틸페놀류, 옥틸페놀류, 비스페놀 A, 비스페놀 F, 비스페놀 S, 나프톨류 등)의 방향환을 핵수소화한 것, 및 노볼락 화합물의 글리시딜에테르화물의 핵수소화물로부터 선택될 수 있다.

(복소환식 에폭시 화합물)

복소환식 에폭시 화합물은, 특별히 한정되는 것이 아니라, 예컨대 이소시아누르환, 및 히단토인환 등의 복소환을 갖는 복소환식 에폭시 화합물로부터 선택될 수 있다.

(글리시딜에스테르계 에폭시 화합물)

글리시딜에스테르계 에폭시 화합물은, 특별히 한정되는 것이 아니라, 예컨대 헥사히드로프탈산디글리시딜에스테르 및 테트라히드로프탈산디글리시딜에스테르 등의, 카르복실산화합물로부터 유도되는 에폭시 화합물로부터 선택될 수 있다.

(글리시딜아민계 에폭시 화합물)

글리시딜아민계 에폭시 화합물은, 특별히 한정되는 것이 아니라, 예컨대 아닐린, 톨루이딘, p-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, 디아미노디페닐메탄 유도체 및 디아미노메틸벤젠 유도체 등의 아민을 글리시딜화한 에폭시 화합물로부터 선택될 수 있다.

(할로겐화페놀류를 글리시딜화한 에폭시 화합물)

할로겐화페놀류를 글리시딜화한 에폭시 화합물은, 특별히 한정되는 것이 아니라, 예컨대 브롬화비스페놀 A, 브롬화비스페놀 F, 브롬화비스페놀 S, 브롬화페놀노볼락, 브롬화크레졸노볼락, 클로로화비스페놀 S, 및 클로로화비스페놀 A 등의 할로겐화페놀류를 글리시딜에테르화한 에폭시 화합물로부터 선택될 수 있다.

(함황 다작용 지방족 에폭시 화합물)

함황 다작용 지방족 에폭시 화합물로서는, 특별히 한정되는 것이 아니라, 구체적으로는, 1,1-비스(에폭시에틸)메탄, 1-(에폭시에틸)-1-(β-에폭시프로필)메탄, 1,1-비스(β-에폭시프로필)메탄, 1-(에폭시에틸)-1-(β-에폭시프로필)에탄, 1,2-비스(β-에폭시프로필)에탄, 1-(에폭시에틸)-3-(β-에폭시프로필)부탄, 1,3-비스(β-에폭시프로필)프로판, 1-(에폭시에틸)-4-(β-에폭시프로필)펜탄, 1,4-비스(β-에폭시프로필)부탄, 1-(에폭시에틸)-5-(β-에폭시프로필)헥산, 1-(에폭시에틸)-2-(γ-에폭시부틸티오)에탄, 1-(에폭시에틸)-2-〔2-(γ-에폭시부틸티오)에틸티오〕에탄, 테트라키스(β-에폭시프로필)메탄, 1,1,1-트리스(β-에폭시프로필)프로판, 1,3-비스(β-에폭시프로필)-1-(β-에폭시프로필)-2-티아프로판, 1,5-비스(β-에폭시프로필)-2,4-비스(β-에폭시프로필)-3-티아펜탄, 1,3 또는 1,4-비스(에폭시에틸)시클로헥산, 1,3 또는 1,4-비스(β-에폭시프로필)시클로헥산, 2,5-비스(에폭시에틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에폭시프로필)-1,4-디티안, 4-에폭시-1,2-시클로헥센옥사이드, 2,2-비스〔4-(에폭시에틸)시클로헥실〕프로판, 2,2-비스〔4-(β-에폭시프로필)시클로헥실〕프로판,

비스〔4-(에폭시에틸)시클로헥실〕메탄, 비스〔4-(β-에폭시프로필)시클로헥실〕메탄, 비스〔4-(β-에폭시프로필)시클로헥실〕술피드, 비스〔4-(에폭시에틸)시클로헥실〕술피드, 비스(β-에폭시프로필)에테르, 비스(β-에폭시프로필옥시)메탄, 1,2-비스(β-에폭시프로필옥시)에탄, 1,3-비스(β-에폭시프로필옥시)프로판, 1,2-비스(β-에폭시프로필옥시)프로판, 1-(β-에폭시프로필옥시)-2-(β-에폭시프로필옥시메틸)프로판, 1,4-비스(β-에폭시프로필옥시)부탄, 1,3-비스(β-에폭시프로필옥시)부탄, 1-(β-에폭시프로필옥시)-3-(β-에폭시프로필옥시메틸)부탄, 1,5-비스(β-에폭시프로필옥시)펜탄, 1-(β-에폭시프로필옥시)-4-(β-에폭시프로필옥시메틸)펜탄, 1,6-비스(β-에폭시프로필옥시)헥산, 1-(β-에폭시프로필옥시)-5-(β-에폭시프로필옥시메틸)헥산, 1-(β-에폭시프로필옥시)-2-〔(2-β-에폭시프로필옥시에틸)옥시〕에탄, 1-(β-에폭시프로필옥시)-2-[〔2-(2-β-에폭시프로필옥시에틸)옥시에틸〕옥시]에탄, 테트라키스(β-에폭시프로필옥시메틸)메탄, 1,1,1-트리스(β-에폭시프로필옥시메틸)프로판,

1,5-비스(β-에폭시프로필옥시)-2-(β-에폭시프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(β-에폭시프로필옥시)-2,4-비스(β-에폭시프로필옥시메틸)-3-티아펜탄, 1-(β-에폭시프로필옥시)-2,2-비스(β-에폭시프로필옥시메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(β-에폭시프로필옥시)-4-(β-에폭시프로필옥시메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(β-에폭시프로필옥시)-4-(β-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(β-에폭시프로필옥시)-4,5-비스(β-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(β-에폭시프로필옥시)-4,4-비스(β-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(β-에폭시프로필옥시)-2,4,5-트리스(β-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(β-에폭시프로필옥시)-2,5-비스(β-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,9-비스(β-에폭시프로필옥시)-5-(β-에폭시프로필옥시메틸)-5-〔(2-β-에폭시프로필옥시에틸)옥시메틸〕-3,7-디티아노난, 1,10-비스(β-에폭시프로필옥시)-5,6-비스〔(2-β-에폭시프로필옥시에틸)옥시〕-3,6,9-트리티아데칸,

1,11-비스(β-에폭시프로필옥시)-4,8-비스(β-에폭시프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(β-에폭시프로필옥시)-5,7-비스(β-에폭시프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(β-에폭시프로필옥시)-5,7-〔(2-β-에폭시프로필옥시에틸)옥시메틸〕-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(β-에폭시프로필옥시)-4,7-비스(β-에폭시프로필옥시메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,3 또는 1,4-비스(β-에폭시프로필옥시)시클로헥산, 1,3 또는 1,4-비스(β-에폭시프로필옥시메틸)시클로헥산, 비스〔4-(β-에폭시프로필옥시)시클로헥실〕메탄, 2,2-비스〔4-(β-에폭시프로필옥시)시클로헥실〕프로판, 비스〔4-(β-에폭시프로필옥시)시클로헥실〕술피드, 2,5-비스(β-에폭시프로필옥시메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에폭시프로필옥시에틸옥시메틸)-1,4-디티안, 비스(β-에폭시프로필)술피드, 비스(β-에폭시프로필)디술피드, 비스(β-에폭시프로필)트리술피드, 비스(β-에폭시프로필티오)메탄, 비스(β-에폭시프로필디티오)메탄, 비스(β-에폭시프로필디티오)에탄, 비스(β-에폭시프로필디티오에틸)술피드, 비스(β-에폭시프로필디티오에틸)디술피드,

1,2-비스(β-에폭시프로필티오)에탄, 1,3-비스(β-에폭시프로필티오)프로판, 1,2-비스(β-에폭시프로필티오)프로판, 1-(β-에폭시프로필티오)-2-(β-에폭시프로필티오메틸)프로판, 1,4-비스(β-에폭시프로필티오)부탄, 1,3-비스(β-에폭시프로필티오)부탄, 1-(β-에폭시프로필티오)-3-(β-에폭시프로필티오메틸)부탄, 1,5-비스(β-에폭시프로필티오)펜탄, 1-(β-에폭시프로필티오)-4-(β-에폭시프로필티오메틸)펜탄, 1,6-비스(β-에폭시프로필티오)헥산, 1-(β-에폭시프로필티오)-5-(β-에폭시프로필티오메틸)헥산, 1-(β-에폭시프로필티오)-2-〔(2-β-에폭시프로필티오에틸)티오〕에탄, 1-(β-에폭시프로필티오)-2-[〔2-(2-β-에폭시프로필티오에틸)티오에틸〕티오]에탄, 테트라키스(β-에폭시프로필티오메틸)메탄, 테트라키스(β-에폭시프로필디티오메틸)메탄, 1,1,1-트리스(β-에폭시프로필티오메틸)프로판, 1,2,3-트리스(β-에폭시프로필디티오)프로판, 1,5-비스(β-에폭시프로필티오)-2-(β-에폭시프로필티오메틸)-3-티아펜탄, 1,5-비스(β-에폭시프로필티오)-2,4-비스(β-에폭시프로필티오메틸)-3-티아펜탄,

1,6-비스(β-에폭시프로필디티오메틸)-2-(β-에폭시프로필디티오에틸티오)-4-티아헥산, 1-(β-에폭시프로필티오)-2,2-비스(β-에폭시프로필티오메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(β-에폭시프로필티오)-4-(β-에폭시프로필티오메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(β-에폭시프로필티오)-4-(β-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(β-에폭시프로필티오)-4,5-비스(β-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(β-에폭시프로필티오)-4,4-비스(β-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(β-에폭시프로필티오)-2,4,5-트리스(β-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(β-에폭시프로필티오)-2,5-비스(β-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,9-비스(β-에폭시프로필티오)-5-(β-에폭시프로필티오메틸)-5-〔(2-β-에폭시프로필티오에틸)티오메틸〕-3,7-디티아노난, 1,10-비스(β-에폭시프로필티오)-5,6-비스〔(2-β-에폭시프로필티오에틸)티오〕-3,6,9-트리티아데칸,

1,11-비스(β-에폭시프로필티오)-4,8-비스(β-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(β-에폭시프로필티오)-5,7-비스(β-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(β-에폭시프로필티오)-5,7-〔(2-β-에폭시프로필티오에틸)티오메틸〕-3,6,9-트리티아운데칸, 1,11-비스(β-에폭시프로필티오)-4,7-비스(β-에폭시프로필티오메틸)-3,6,9-트리티아운데칸, 테트라〔2-(β-에폭시프로필티오)아세틸메틸〕메탄, 1,1,1-트리〔2-(β-에폭시프로필티오)아세틸메틸〕프로판, 테트라〔2-(β-에폭시프로필티오메틸)아세틸메틸〕메탄, 1,1,1-트리〔2-(β-에폭시프로필티오메틸)아세틸메틸〕프로판, 1,3 또는 1,4-비스(β-에폭시프로필티오)시클로헥산, 1,3 또는 1,4-비스(β-에폭시프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(β-에폭시프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에폭시프로필디티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에폭시프로필티오에틸티오메틸)-1,4-디티안, 비스〔4-(β-에폭시프로필티오)시클로헥실〕메탄, 2,2-비스〔4-(β-에폭시프로필티오)시클로헥실〕프로판, 비스〔4-(β-에폭시프로필티오)시클로헥실〕술피드, 2,2-비스〔4-(β-에폭시프로필티오)시클로헥실〕프로판, 비스〔4-(β-에폭시프로필티오)시클로헥실〕술피드로부터 선택될 수 있다.

상기 중에서도, 제조가 용이하므로, 얻어지는 에피술피드 화합물의 비용을 억제할 수 있어, 경제성이 우수하기 때문에, 함황 다작용 지방족 에폭시 화합물로서는, 이하의 군으로부터 선택되는, 적어도 1종의 화합물이 바람직하다.

비스(β-에폭시프로필옥시)메탄, 1,2-비스(β-에폭시프로필옥시)에탄, 1,3-비스(β-에폭시프로필옥시)프로판, 1,2-비스(β-에폭시프로필옥시)프로판, 1-(β-에폭시프로필옥시)-2-(β-에폭시프로필옥시메틸)프로판, 1,4-비스(β-에폭시프로필옥시)부탄, 1,3-비스(β-에폭시프로필옥시)부탄, 1-(β-에폭시프로필옥시)-3-(β-에폭시프로필옥시메틸)부탄, 1,6-비스(β-에폭시프로필옥시)헥산, 1-(β-에폭시프로필옥시)-5-(β-에폭시프로필옥시메틸)헥산, 1-(β-에폭시프로필옥시)-2-〔(2-β-에폭시프로필옥시에틸)옥시〕에탄, 1-(β-에폭시프로필옥시)-2-[〔2-(2-β-에폭시프로필옥시에틸)옥시에틸〕옥시]에탄, 테트라키스(β-에폭시프로필옥시메틸)메탄, 1,1,1-트리스(β-에폭시프로필옥시메틸)프로판, 1-(β-에폭시프로필옥시)-2,2-비스(β-에폭시프로필옥시메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(β-에폭시프로필옥시)-4-(β-에폭시프로필옥시메틸)-3-티아헥산,

1,8-비스(β-에폭시프로필옥시)-4-(β-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(β-에폭시프로필옥시)-4,5-비스(β-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(β-에폭시프로필옥시)-4,4-비스(β-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(β-에폭시프로필옥시)-2,4,5-트리스(β-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(β-에폭시프로필옥시)-2,5-비스(β-에폭시프로필옥시메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,3 또는 1,4-비스(β-에폭시프로필옥시)시클로헥산, 1,3 또는 1,4-비스(β-에폭시프로필옥시메틸)시클로헥산, 비스〔4-(β-에폭시프로필옥시)시클로헥실〕메탄, 2,2-비스〔4-(β-에폭시프로필옥시)시클로헥실〕프로판, 비스〔4-(β-에폭시프로필옥시)시클로헥실〕술피드, 2,5-비스(β-에폭시프로필옥시메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에폭시프로필옥시에틸옥시메틸)-1,4-디티안, 비스(β-에폭시프로필)술피드, 비스(β-에폭시프로필)디술피드, 비스(β-에폭시프로필티오)메탄, 비스(β-에폭시프로필디티오)메탄,

비스(β-에폭시프로필디티오)에탄, 비스(β-에폭시프로필디티오에틸)술피드, 비스(β-에폭시프로필디티오에틸)디술피드, 1,2-비스(β-에폭시프로필티오)에탄, 1,3-비스(β-에폭시프로필티오)프로판, 1,2-비스(β-에폭시프로필티오)프로판, 1-(β-에폭시프로필티오)-2-(β-에폭시프로필티오메틸)프로판, 1,4-비스(β-에폭시프로필티오)부탄, 1,3-비스(β-에폭시프로필티오)부탄, 1-(β-에폭시프로필티오)-3-(β-에폭시프로필티오메틸)부탄, 1,6-비스(β-에폭시프로필티오)헥산, 1-(β-에폭시프로필티오)-5-(β-에폭시프로필티오메틸)헥산, 1-(β-에폭시프로필티오)-2-〔(2-β-에폭시프로필티오에틸)티오〕에탄, 1-(β-에폭시프로필티오)-2-[〔2-(2-β-에폭시프로필티오에틸)티오에틸〕티오]에탄, 테트라키스(β-에폭시프로필티오메틸)메탄, 테트라키스(β-에폭시프로필디티오메틸)메탄, 1,1,1-트리스(β-에폭시프로필티오메틸)프로판, 1,2,3-트리스(β-에폭시프로필디티오)프로판, 1,6-비스(β-에폭시프로필디티오메틸)-2-(β-에폭시프로필디티오에틸티오)-4-티아헥산, 1-(β-에폭시프로필티오)-2,2-비스(β-에폭시프로필티오메틸)-4-티아헥산, 1,5,6-트리스(β-에폭시프로필티오)-4-(β-에폭시프로필티오메틸)-3-티아헥산, 1,8-비스(β-에폭시프로필티오)-4-(β-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄,

1,8-비스(β-에폭시프로필티오)-4,5-비스(β-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(β-에폭시프로필티오)-4,4-비스(β-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(β-에폭시프로필티오)-2,4,5-트리스(β-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 1,8-비스(β-에폭시프로필티오)-2,5-비스(β-에폭시프로필티오메틸)-3,6-디티아옥탄, 테트라〔2-(β-에폭시프로필티오)아세틸메틸〕메탄, 1,1,1-트리〔2-(β-에폭시프로필티오)아세틸메틸〕프로판, 테트라〔2-(β-에폭시프로필티오메틸)아세틸메틸〕메탄, 1,1,1-트리〔2-(β-에폭시프로필티오메틸)아세틸메틸〕프로판, 1,3 또는 1,4-비스(β-에폭시프로필티오)시클로헥산, 1,3 또는 1,4-비스(β-에폭시프로필티오메틸)시클로헥산, 2,5-비스(β-에폭시프로필티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에폭시프로필디티오메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(β-에폭시프로필티오에틸티오메틸)-1,4-디티안, 비스〔4-(β-에폭시프로필티오)시클로헥실〕메탄, 2,2-비스〔4-(β-에폭시프로필티오)시클로헥실〕프로판, 비스〔4-(β-에폭시프로필티오)시클로헥실〕술피드, 2,2-비스〔4-(β-에폭시프로필티오)시클로헥실〕프로판, 비스〔4-(β-에폭시프로필티오)시클로헥실〕술피드.

(분자 내에 에폭시기를 갖는 실리콘 화합물)

분자 내에 에폭시기를 갖는 실리콘 화합물은, 특별히 한정되는 것이 아니라, 예컨대 하기 식 (7)로 표시되는 화합물로부터 선택될 수 있다.

(R₂₁R₂₂R₂₃SiO_1/2)_a(R₂₄R₂₅SiO_2/2)_b(R₂₆SiO_3/2)_c(SiO_4/2)_d (7)

식 (7)중, a, b, c 및 d는 각각, a+b+c+d=1.0을 만족시키는 수치이고, 0≤a/(a+b+c+d)≤1, 0≤b/(a+b+c+d)≤1, 0≤c/(a+b+c+d)≤1, 또한 0≤d/(a+b+c+d)<1이다. R₂₁∼R₂₆ 중 적어도 1개는, 에폭시기를 함유하는 기를 나타내고, 그 외의 R₂₁∼R₂₆은 직쇄형 또는 분기형의 탄소수 1∼8의 탄화수소기 또는 이 탄화수소기가 불소화된 기를 나타내며, 이들은 서로 동일하여도 상이하여도 좋다.

(이종 중합성 치환기 함유 에폭시 화합물)

이종 중합성 치환기 함유 에폭시 화합물은, 특별히 한정되는 것이 아니라, 예컨대 하기 식 (8)로 표시되는 화합물로부터 선택될 수 있다.

식 (8)중, R₃₀∼R₃₂는, 티아화되어 있어도 좋은 치환 또는 미치환의 쇄형, 분기형, 환형의 지방족 또는 방향족 탄화수소기를 나타낸다. m, n, o, p는, 1 이상의 실수를 나타낸다. X는, 에폭시기를 나타낸다. Y는, 단종의 중합성 치환기를 나타내는 경우, 환형 에테르 구조, 환형 티오에테르 구조, 락톤 구조, 환형 카르보네이트 구조, 및 그 함황 유연(類緣) 구조, 환형 아세탈 구조, 및 그 함황 유연 구조, 환형 아민 구조, 환형 이미노에테르 구조, 락탐 구조, 환형 티오우레아 구조, 환형 포스피네이트 구조, 환형 포스포나이트 구조, 환형 포스파이트 구조, 비닐 구조, 알릴 구조, (메트)아크릴 구조, 시클로알칸 구조로부터 선택되며, 복수종의 중합성 치환기를 나타내는 경우, 상기한 군으로부터 선택되는 적어도 2종 이상의 구조를 나타낸다.

(B) 에폭시 화합물에 함유되는 불순물(예컨대 에폭시 화합물을 제조하기 위한 원료, 염화물, 중금속, 나트륨 등)이 적은 것은, 본 발명의 효과를 보다 높이거나, 및/또는 반응 종료 후, 에피술피드 화합물, 미반응의 에폭시 화합물, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성된 화합물, 티아화제, 다가 수산기 화합물을 분리 및/또는 정제할 때, 불순물의 분리가 필요없게 되기 때문에, 고순도인 상기 화합물을 얻기 위한 유효한 방법이다. 불순물의 함유량으로서는, 5000 ppm 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 2000 ppm 이하이며, 더 바람직하게는 500 ppm 이하이다.

본 실시형태의 (C) 티아화제는, 에폭시기와 반응하여 에피술피드기를 생성시키는 화합물이면, 특별히 한정되는 것이 아니다. 1종의 티아화제를 단독으로 이용하여도 좋고, 복수종의 티아화제를 조합하여 이용하여도 좋다.

(C) 티아화제는, 티오시안산염 및 티오요소류로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는, 티아화제는, 티오시안산나트륨, 티오시안산칼륨, 티오시안산암모늄 및 티오요소로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종 이상의 화합물이며, 더 바람직하게는 티오요소이다. 티오시안산염 및 티오요소류는, 입수가 용이하기 때문에, 경제성이 우수한 경향이 있다. 또한, 티오시안산나트륨, 티오시안산칼륨, 티오시안산암모늄 및 티오요소에 의하면, 반응 시간이 짧아져, 경제성이 우수한 경향이 있고, 같은 관점에서 티오요소가 특히 바람직하다.

(C) 티아화제를 구체적으로 예시하면, 티오시안산리튬, 티오시안산나트륨, 티오시안산칼륨, 티오시안산루비듐, 티오시안산세슘, 티오시안산은, 티오시안산 제1 코발트, 티오시안산 제2 수은, 티오시안산 제1 탈륨, 티오시안산 제1 구리, 이티오시안산납, 이티오시안산니켈, 이티오시안산바륨, 티오시안산암모늄, 티오시안산구아니딘, 티오요소, N,N'-디메틸티오요소, N, N,N',N'-테트라메틸티오요소, N,N'-디에틸티오요소, 프로필티오요소, N,N'-디이소프로필티오요소, N,N'-디부틸티오요소, N-메틸-N'-(2-메틸-2-프로페닐)티오요소, N-페닐티오요소, N,N'-디페닐티오요소, 1-메틸-2-이미다졸리딘티온, 1-벤질-2-티오요소, N-(3,5-디메틸페닐)티오요소, N-(2,6-디메틸페닐)티오요소, N-(2,3-디메틸페닐)티오요소, N-(2,4,6-트리메틸페닐)티오요소, N,N'-비스(2-메틸페닐)티오요소, N,N'-비스(3,5-디메틸페닐)티오요소, N,N'-비스(2,6-디메틸페닐)티오요소, N,N'-비스(2,4,6-트리메틸페닐)티오요소, N-(2-클로로페닐)티오요소, N-(3-클로로페닐)티오요소, N-(4-클로로페닐)티오요소, N-(3,4-디클로로페닐)티오요소, N-(3,5-디클로로페닐)티오요소, N-(2,6-디클로로페닐)티오요소,

N-(2,4,6-트리클로로페닐)티오요소, N,N'-비스(2-클로로페닐)티오요소, N,N'-비스(3,5-디클로로페닐)티오요소, N,N'-비스(2,6-디클로로페닐)티오요소, N-(2-플루오로페닐)티오요소, N-(3-플루오로페닐)티오요소, N-(4-플루오로페닐)티오요소, N-[2-(트리플루오로메틸)페닐]티오요소, N-[3-(트리플루오로메틸)페닐]티오요소, N-[4-(트리플루오로메틸)페닐]티오요소, N-(2,6-디플루오로페닐)티오요소, N-(2,4-디플루오로페닐)티오요소, N-(2,3-디플루오로페닐)티오요소, N-(2,4,6-트리플루오로페닐)티오요소, N,N'-비스(2-플루오로페닐)티오요소, N,N'-비스(2,6-디플루오로페닐)티오요소, N,N'-비스(2,4,6-트리플루오로페닐)티오요소, N-(2-시아노페닐)티오요소, N-(3-시아노페닐)티오요소, N-(4-시아노페닐)티오요소, N-(3,5-디시아노페닐)티오요소, N,N'-비스(4-시아노페닐)티오요소, N,N'-비스(3,5-디시아노페닐)티오요소, N-(2-메톡시페닐)티오요소, N-(3-메톡시페닐)티오요소, N-(4-메톡시페닐)티오요소, N-(2,6-디메톡시페닐)티오요소, N-(3,5-디메톡시페닐)티오요소, N-(2,4,6트리디메톡시페닐)티오요소, N,N'-비스(4-메톡시페닐)티오요소, N,N'-비스(2,6-디메톡시페닐)티오요소, N,N'-비스(2,4,6트리디메톡시페닐)티오요소, N-(2-니트로페닐)티오요소, N-(3-니트로페닐)티오요소, N-(4-니트로페닐)티오요소, N-(3,5-디니트로페닐)티오요소, 및 N,N'-비스(3,5-디니트로페닐)티오요소를 들 수 있다.

담체 및 이 담체에 담지된 상기 티아화제를 갖는 담지물을 이용함으로써, 반응 시간이 짧아져, 에피술피드 화합물끼리의 중합물, 및 에피술피드 화합물과 티아화제의 반응물의 생성을 억제할 수 있어, 수율이 높여지고, 반응 종료 후, 담지물을 분리함으로써, 티아화제를 분리할 때의 조작이 용이하게 되는 경우가 있다. 또한, 여기서 말하는 담지란, 담체상, 또는 담체 내부에 티아화제를 부착시키는 것이나, 담체에 함유되는 음이온성의 원자나 분자를 티오이소시안산 음이온과 교환하는 것을 나타낸다.

담체로서는 일반적으로 이용되는 것이면, 특별히 한정되지 않지만, 구체적으로는, 실리카(구형, 파쇄형, 인편(鱗片)형 등의 어떠한 형상이어도 좋고, 또한 산성, 중성 중 어느 것이어도 좋음), 알루미나(구형, 링형, 팰릿형 등의 어떠한 형상이어도 좋고, 또한 활성화 처리를 실시하여도, 실시하지 않아도 좋음), 이온 교환 수지(예컨대 Dow Chemical사 제조의 앰버리스트^TM, 앰버라이트^TM, 앰버제트^TM, 다우엑스^TM, 폴리비닐아민, 폴리비닐피리딘 등)을 들 수 있다.

(C) 티아화제에 함유되는 불순물(예컨대 황산염, 염화물, 황화물, 구리, 납, 철, 요오드, 나트륨 등)이 적은 것은, 본 발명의 효과를 보다 높고, 및/또는 반응 종료 후, 에피술피드 화합물, 미반응의 에폭시 화합물, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성된 화합물, 티아화제, 다가 수산기 화합물을 분리 및/또는 정제할 때, 불순물의 분리가 필요없게 되기 때문에, 고순도인 상기 화합물을 얻기 위한 유효한 방법이다. 불순물의 함유량으로서는, 5000 ppm 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 2000 ppm 이하이며, 더 바람직하게는 500 ppm 이하이다.

(B) 에폭시 화합물과 (C) 티아화제의 반응시의 이들의 혼합 비율은, 이하의 식 (1)로 산출되는 혼합 지표 α로 나타낼 수 있다.

혼합 지표 α=αt/αe (1)

식 (1)중,

αt는, 티아화제에 포함되는, 에피술피드기의 생성에 이용될 수 있는 황 원자의 물질량(㏖)을 나타내고, αe는 에폭시 화합물에 포함되는 에폭시기의 물질량(㏖)을 나타낸다.

본 실시형태에서, 혼합 지표 α는, 1 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.2 이상이며, 더 바람직하게는 1.5 이상이다. 혼합 지표 α가 1 이상이면, 에폭시 화합물과 티아화제의 반응 시간이 보다 짧아져, 생산성이 향상하는 경향이 있다. 혼합 지표 α가 1.2 이상이면, 미반응의 에폭시 화합물이 감소하여, 에피술피드 화합물의 수율이 더 높아지는 경향이 있다. 같은 관점에서, 혼합 지표 α는, 더 바람직하게는 1.5 이상이다.

혼합 지표 α는, 10 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 6 이하이며, 더 바람직하게는 4 이하이다. 혼합 지표 α가 10 이하이면, 과잉의 티아화제를 이용하지 않기 때문에, 경제성이 우수한 경향이 있다. 또한, 혼합 지표 α가 6 이하이면, 에피술피드 화합물과 티아화제의 반응물의 생성을 억제할 수 있어, 수율이 높여지는 경향이 있다. 같은 관점에서, 혼합 지표 α는 더 바람직하게는 4 이하이다.

(B) 에폭시 화합물과 (C) 티아화제의 반응시의, (A) 다가 수산기 화합물과 (C) 티아화제의 혼합 비율은, 이하의 식 (2)로 산출되는 혼합 지표 β로 나타낼 수 있다.

혼합 지표 β=βt/βo (2)

또한, 식 (2)중,

βt는 티아화제의 질량(g),

βo는 다가 수산기 화합물의 질량(g)을 각각 나타낸다.

본 실시형태에서, 혼합 지표 β는, 0.010 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.015 이상이며, 더 바람직하게는 0.020 이상이다. 혼합 지표 β가 0.010 이상이면, 에폭시 화합물과의 반응 시간이 보다 짧아져, 생산성이 향상하는 경향이 있다. 혼합 지표 β가 0.015 이상이면, 다가 수산기 화합물의 사용량을 저감할 수 있기 때문에, 경제성이 우수한 경향이 있다. 같은 관점에서, 혼합 지표 β는 더 바람직하게는 0.020 이상이다.

혼합 지표 β는, 0.500 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.450 이하이며, 더 바람직하게는 0.420 이하이다. 혼합 지표 β가 0.500 이하이면, 에폭시 화합물과의 반응 시간이 보다 짧아져, 생산성이 향상하는 경향이 있다. 혼합 지표 β가 0.450 이하이면, 에피술피드 화합물의 중합물의 생성이 억제되어, 생성물의 선택성이 보다 우수한 경향이 있다. 같은 관점에서 혼합 지표 β는 더 바람직하게는 0.420 이하이다.

(B) 에폭시 화합물과 (C) 티아화제의 반응은, (A) 다가 수산기 화합물, (B) 에폭시 화합물 및 (C) 티아화제를 함유하는 반응액중에서 행해진다. 반응액을 조제할 때에는, (A) 다가 수산기 화합물, (B) 에폭시 화합물 및 (C) 티아화제를 어떤 순서로 첨가하여도 좋다. 각 화합물을 한번에 첨가하여도 좋고, 서서히 첨가하여도 좋다. 반응액의 조제는, (A) 다가 수산기 화합물 및 (C) 티아화제를 포함하며 이들이 균일하게 혼합된 용액을 조제하고, 그 후, 이 용액에 (B) 에폭시 화합물을 첨가하는 방법, 또는 이 용액에 (B) 에폭시 화합물에 첨가하는 방법이, 에피술피드 화합물의 수율의 향상, 및 반응 시간의 안정의 점 등에서 특히 유효하다.

반응액이 용매를 더 함유하는 것은, (B) 에폭시 화합물 및/또는 (C) 티아화제의 종류에 따라서는, 유효한 수단이 될 수 있다.

용매는 특별히 한정되지 않지만, 구체예로서는, 물, 메탄올 및 에탄올 등의 1가 수산기 화합물류; 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 및 디옥산 등의 에테르류, 메틸셀루솔브, 에틸셀루솔브 및 부틸셀로솔브 등의 히드록시에테르류; 아세토니트릴, 프로피오니트릴, 부티로니트릴, 발레로니트릴 및 벤조니트릴 등의 니트릴류; N,N-디메틸포름아미드 및 N,N-디메틸아세트아미드 등의 아미드류; 디메틸설폭시드 및 디부틸설폭시드 등의 설폭시드류; 벤젠, 톨루엔 및 크실렌 등의 방향족 탄화수소류를 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용하여도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다.

반응액이 반응 촉매를 함유하는 것은, 보다 반응 시간을 단축하기 위해, 유효한 수단이 되는 경우가 있다. 반응 촉매는 특별히 한정되지 않지만, 유기 촉매나 무기 촉매를 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용하여도, 복수 조합하여 사용하여도 좋다.

유기 촉매의 구체예로서는, 트리플루오로메탄술폰산, 옥살산, p-톨루엔술폰산, 시아눌산클로라이드, 아세트산암모늄, 메틸포스파이트, 에틸포스파이트, 프로필포스파이트, 부틸포스파이트, β-덱스트린 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용하여도, 복수 조합하여 사용하여도 좋다.

무기 촉매의 구체예로서는, 산성 이온 교환 수지(예컨대 Dow Chemical사 제조의 앰버라이트^TM, 앰버제트^TM, 다우엑스^TM,), 염화알루미늄이나 테트라플루오로붕산이 상기 담체에 담지된 담지물, 활성 알루미나, 트리클로로티타늄(IV)트리플루오로메탄술포네이트, 티타늄(IV)옥시트리플루오로메탄술포네이트, 트리플루오로메탄술폰산철(III), 도데실산알루미늄(III), 염화루테늄, 염화비스무트, 질산세륨암모늄, 암모늄데카텅스토세레이트(IV)이코사하이드레이트, 칼륨도데카텅스토코발테이트트리하이드레이트, 주석(IV)테트라페닐포르피리네이트테트라플루오로보레이트 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용하여도, 복수 조합하여 사용하여도 좋다.

상기 반응 촉매가 반응액에 포함되지 않는 것은, 반응 종료 후, 에피술피드 화합물, 미반응의 에폭시 화합물, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성된 화합물, 티아화제, 다가 수산기 화합물을 분리 및/또는 정제할 때, 반응 촉매의 분리가 필요 없어지기 때문에, 고순도인 상기 화합물을 얻기 위한 유효한 방법이다.

반응액이 산 및/또는 산 무수물을 함유하는 것은, 에피술피드 화합물끼리의 중합을 더 억제할 수 있는 경우가 있기 때문에, 수율을 올리는 면에서 유효한 수단이다.

산 및 산 무수물은 특별히 한정되지 않지만, 구체예로서는, 질산, 염산, 황산, 발연황산, 붕산, 비산, 인산, 청산, 아세트산, 과산화아세트산, 티오아세트산, 타르타르산, 프로피온산, 옥살산, 부티르산, 숙신산, 말레산, 안식향산, 무수질산, 산화붕소, 5산화비산, 5산화인, 무수크롬산, 무수아세트산, 무수프로피온산, 무수부티르산, 무수호박산, 무수말레산, 무수안식향산, 무수프탈산, 실리카겔, 실리카알루미나 및 염화알루미늄 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용하여도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다.

반응액이 암모늄염을 함유하는 것은, 반응중에 악취가 생긴 경우, 악취를 억제할 수 있어, 작업 환경의 개선의 관점에서, 유효한 수단이다.

암모늄염은 특별히 한정되지 않지만, 구체예로서는, 염화암모늄, 브롬화암모늄, 요오드화암모늄, 포름산암모늄, 아세트산암모늄, 프로피온산암모늄, 안식향산암모늄, 황산암모늄, 질산암모늄, 탄산암모늄, 인산암모늄, 수산화암모늄 등을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용하여도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다.

(A) 다가 수산기 화합물과 (B) 에폭시 화합물이 균일 용해하지 않는 경우에는, 에폭시 화합물과의 반응 시간이 보다 짧아지기 때문에, 다가 수산기 화합물 또는 에폭시 화합물을 계중에서 미분산으로 하는 방법이, 유효한 수단이다.

미분산하는 방법은 특별히 한정은 없고, 예컨대 교반 강도를 높이는 방법 등을 예시할 수 있고, 구체적으로는, 교반 방법(교반 날개 형식, 호모지나이저, 고압 호모지나이저, 초고압 호모지나이저, 초음파 호모지나이저, 폴리트론 호모지나이저 등), 교반 날개의 형상(예컨대 팬, 프로펠러, 십자, 버터플라이, 잠자리, 터빈, 디스크터빈, 디스퍼, 패들, 경사 패들 등), 교반 날개의 교반 속도, 반응조에의 배플의 설치, 호모지나이저의 샤프트 형상(만능형, 교반형, 다중 초음파형, 오픈형, 밀폐형 등) 등을 적절히 설정함으로써 달성된다.

(B) 에폭시 화합물과 (C) 티아화제의 반응의 반응 온도(반응액의 온도)는, 용매의 선택에 따라서는 용매가 응고하고, 반응 속도가 저하하는 경우가 있기 때문에, 0℃ 이상인 것이 바람직하다. 또한, 에폭시 화합물과의 반응 시간을 보다 단축화할 수 있는 점에서, 5℃ 이상인 것이 보다 바람직하고, 10℃ 이상인 것이 더 바람직하다. 반응 온도는, 에피술피드기의 분해 반응이 억제되어, 생성물의 수율을 향상시키는 경향이 있기 때문에, 100℃ 이하인 것이 바람직하다. 또한, 에피술피드 화합물의 중합물의 생성이 억제되어, 생성물의 수율이 보다 높아지는 경향이 있기 때문에, 80℃ 이하인 것이 보다 바람직하고, 60℃ 이하인 것이 보다 바람직하다.

반응 온도는 상기 범위이면 일정할 필요는 없고, 도중에 변화시켜도 좋다.

반응 분위기는, 일반적으로 이용되는 분위기이면 특별히 한정되지는 않지만, 통상은 대기 분위기, 질소 분위기, 및 아르곤 분위기 등이 이용된다. 이들 중에서도, 반응액의 착색을 억제할 수 있는 경우가 있기 때문에, 질소 분위기, 및 아르곤 분위기가 바람직하다. 또한, 경제성이 우수한 경향이 있기 때문에, 질소 분위기가 보다 바람직하다.

반응 압력은, 특별히 한정되지는 않고, 통상은 대기압하에서 반응이 행해진다. 단, (B) 에폭시 화합물의 표준 상태에서의 증기압이 낮고, 반응중에 에폭시 화합물이 휘발할 가능성이 있는 경우에는, 대기압 이상의 가압을 행하는 것이, 유효한 수단이다.

반응 종료 후, 에피술피드 화합물 또는 에피술피드 화합물과 에폭시 화합물의 혼합물과 그것 이외를 분리하는 공정과, 에피술피드 화합물과 에폭시 화합물의 혼합물의 경우에는, 이들을 분리하는 공정과, 또한 필요에 따라 얻어진 에피술피드 화합물 및/또는 에폭시 화합물을 정제하는 공정을 거침으로써, 고순도의 에피술피드 화합물 및 에폭시 화합물을 얻을 수 있다.

반응액으로부터 에피술피드 화합물 또는 에피술피드 화합물과 에폭시 화합물의 혼합물을 포함하는 반응 생성물과 그것 이외를 분리하는 방법으로서, 예컨대 반응액을 정치함으로써, 반응 생성물과 그것 이외를 분리하는 방법, 반응액에 물을 첨가하여, 반응 생성물과 수층의 2층으로 분액하여 반응 생성물을 분리하는 방법, 및 반응액에 비극성 용매 및 물을 첨가하고, 비극성 용매층 및 수층의 2층으로 분액하여, 비극성 용매층중에 반응 생성물을 추출하는 방법이 유효하다.

비극성 용매는, 통상 이용되는 것이면 특별히 한정되는 것이 아니지만, 구체예로서는, n-펜탄, n-헥산, 이소헥산, n-헵탄, n-옥탄, n-데칸, 시클로펜탄, 시클로헥산, 시클로헵탄, 및 시클로옥탄 등의 지방족 탄화수소 화합물, 및 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 디에틸벤젠, 이소프로필벤젠, 나프탈렌, 테트랄린, 및 비페닐 등의 방향족 탄화수소 화합물, 및 염화메틸렌, 클로로포름, 4염화탄소, 염화에틸렌, 트리클로로에탄, 테트라클로로에탄, 펜타클로로에탄, 헥사클로로에탄, 디클로로에틸렌, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌, 디클로로프로판, 트리클로로프로판, 염화이소프로필, 염화부틸, 염화헥실, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 트리클로로벤젠, 클로로톨루엔, 및 클로로나프탈렌 등의 할로겐화 탄화수소 화합물, 디에틸에테르, 테트라히드로푸란 및 디옥산 등의 에테르 화합물, 메틸셀루솔브, 에틸셀루솔브 및 부틸셀로솔브 등의 히드록시에테르 화합물 등을 들 수 있다. 이들 비극성 용매는, 단독으로 사용하여도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다.

반응액, 반응 생성물과 물로 이루어지는 2층, 비극성 용매층 및 수층으로 이루어지는 2층에 염 화합물을 첨가하는 방법이, 이들 2층의 분리를 빠르게 하는 유효한 수단이 되는 경우가 있다.

염 화합물의 구체예로서는, 염화나트륨, 염화칼륨, 염화암모늄, 탄산수소나트륨, 탄산나트륨, 및 티오황산나트륨 등을 들 수 있다. 이들 염 화합물은, 단독으로 사용하여도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다.

반응 생성물과 물로 이루어지는 2층, 또는 비극성 용매층 및 수층의 2층 중 수층을 제거함으로써, 반응 생성물, 또는 반응 생성물을 함유하는 비극성 용매층을 얻을 수 있다.

얻어진 비극성 용매층중의 비극성 용매를, 증발기 등을 이용하여 제거하고, 반응 생성물을 농축함으로써, 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 또는 에피술피드 화합물과 에폭시 화합물의 혼합물의 함유량을 높일 수 있다.

반응 생성물을, 산성 수용액을 이용하여 세정하는 것은, 반응 생성물의 안정성을 향상시키는 면에서 유효한 수단이 되는 경우가 있다.

산성 수용액은, 통상 이용되는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 구체예로서는, 질산, 염산, 황산, 붕산, 비산, 인산, 청산, 과산화아세트산, 티오아세트산, 옥살산, 타르타르산, 부티르산, 숙신산, 및 말레산 등의 수용액을 들 수 있다. 이들 산성 수용액은 단독으로 사용하여도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다. 이들 산성 수용액은, pH 6 이하에서 효과를 나타내는 경향이 있고, 보다 효과적인 범위는, pH 3 이하이다.

반응 생성물을 탄화수소계 용매에 용해하고, 정치 후, 에피술피드 화합물의 중합물로 이루어지는 층을 제거하는 것은, 에피술피드 화합물의 순도를 올리는 방법으로서 유효한 수단이 되는 경우가 있다.

탄화수소계 용매는, 통상 이용되는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 구체예 로서는, n-펜탄, n-헥산, 이소헥산, n-헵탄, n-옥탄, n-데칸, 시클로펜탄, 시클로헥산, 시클로헵탄 및 시클로옥탄 등의 지방족 탄화수소 화합물, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 디에틸벤젠, 이소프로필벤젠, 나프탈렌, 테트랄린 및 비페닐 등의 방향족 탄화수소 화합물, 및 염화메틸렌, 클로로포름, 4염화탄소, 염화에틸렌, 트리클로로에탄, 테트라클로로에탄, 펜타클로로에탄, 헥사클로로에탄, 디클로로에틸렌, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌, 디클로로프로판, 트리클로로프로판, 염화이소프로필, 염화부틸, 염화헥실, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 트리클로로벤젠, 클로로톨루엔 및 클로로나프탈렌 등의 할로겐화 탄화수소 화합물을 들 수 있다. 이들 탄화수소 용매는, 단독으로 사용하여도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다.

에피술피드 화합물 또는 에피술피드 화합물과 에폭시 화합물의 혼합물이 증류에 의해 분리 가능한 경우에는, 반응액, 또는 반응 생성물을 증류하여, 보다 높은 순도의 에피술피드 화합물 및 에폭시 화합물을 얻는 방법이 분리 및/또는 정제의 유효한 수단으로서 이용된다. 증류 온도, 증류 압력은, 에피술피드 화합물이나 에폭시 화합물의 비점에 의해 적절히 설정된다.

증류 온도는, 100℃ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 80℃ 이하이며, 더 바람직하게는 60℃ 이하이다. 증류 온도가 100℃ 이하이면, 에피술피드기의 분해 반응을 억제할 수 있어, 수율이 보다 향상하는 경향이 있다. 증류 온도가 80℃ 이하이면, 에피술피드 화합물의 중합물의 생성이 억제되어, 수율이 더 향상하는 경향이 있다. 같은 관점에서, 증류 온도는 더 바람직하게는 60℃ 이하이다.

증류 압력은, 증류 온도에 의해 적절히 설정되지만, 증류 온도가 100℃를 초과하는 경우에는, 대기압보다 낮은 압력으로 하는 것이 바람직하다.

반응액, 또는 반응 생성물로부터 높은 순도의 에피술피드 화합물 및/또는 에폭시 화합물을 얻는 방법으로서, 컬럼 크로마토그래피라고 불리는 수단이 유효하다.

컬럼 크로마토그래피란, 유기 용매에 용해한 반응액, 또는 반응 생성물을, 무기 재료, 또는 유기 재료가 충전된 컬럼에 스며들게 하여, 전개 용매로 유통시키는 방법이며, 구체적으로는, 오픈 컬럼 크로마토그래피, 플래시 컬럼 크로마토그래피, HPLC(High performance liquid chromatography), GPC(Gas permeation chromatography) 및 이온 교환 컬럼 크로마토그래피 등을 들 수 있다.

유기 용매 및 전개 용매는, 통상 이용되는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 구체예로서는, n-펜탄, n-헥산, 이소헥산, n-헵탄, n-옥탄, 이소옥탄, n-노난, n-데칸, 시클로펜탄, 시클로헥산, 시클로헵탄 및 시클로옥탄 등의 포화 탄화수소 화합물, 벤젠, 톨루엔, 크실렌, 에틸벤젠, 디에틸벤젠, 이소프로필벤젠, 나프탈렌, 테트랄린 및 비페닐 등의 방향족 탄화수소 화합물, 염화메틸렌, 클로로포름, 4염화탄소, 염화에틸렌, 트리클로로에탄, 테트라클로로에탄, 펜타클로로에탄, 헥사클로로에탄, 디클로로에틸렌, 트리클로로에틸렌, 테트라클로로에틸렌, 디클로로프로판, 트리클로로프로판, 염화이소프로필, 염화부틸, 염화헥실, 클로로벤젠, 디클로로벤젠, 트리클로로벤젠, 클로로톨루엔 및 클로로나프탈렌 등의 할로겐화 탄화수소 화합물,

메탄올, 에탄올, 프로판올, 이소프로판올, 부탄올, 이소부탄올, 펜탄올, 헥산올, 헵탄올, 옥탄올, 노난올, 데칸올, 운데칸올, 도데칸올, 시클로헥산올 및 벤질알코올 등의 알코올류, 에틸에테르, 디클로로에틸에테르, 이소프로필에테르, 부틸에테르, 헥실에테르, 메틸페닐에테르, 에틸페닐에테르, 부틸페닐에테르, 디옥산, 트리옥산 및 테트라히드로푸란 등의 에테르류, 아세톤, 메틸아세톤, 에틸메틸케톤, 메틸프로필케톤, 메틸부틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 메틸헥실케톤, 디에틸케톤, 에틸부틸케톤, 디프로필케톤 및 디이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류, 및 아세트산에틸, 아세트산프로필, 아세트산부틸, 아세트산이소부틸, 아세트산펜틸, 아세트산헥실, 아세트산옥틸, 아세트산시클로헥실, 프로피온산메틸, 프로피온산에틸, 프로피온산부틸, 안식향산메틸, 안식향산에틸, 안식향산프로필, 안식향산부틸 및 안식향산벤질 등의 에스테르류를 들 수 있다. 이들 유기 용매 및 전개 용매는, 단독으로 사용하여도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다.

컬럼 크로마토그래피의 충전제로서 이용되는 무기 재료는, 통상 이용되는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 구체예로서는, 실리카겔, 화학 개질 실리카겔, 알루미나, 지르코니아 및 히드록시아파타이트를 들 수 있다.

컬럼 크로마토그래피의 충전제로서 이용되는 유기 재료는, 통상 이용되는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 구체예로서는, 스티렌·디비닐벤젠 공중합체, 폴리메타크릴레이트, 폴리히드록시메타크릴레이트, 폴리비닐알코올, OH체 흡착용 활성탄, 금속 Cr 첨착탄, 기층(氣層) 메르캅탄 흡착탄, 및 알칼리 첨착탄을 들 수 있다.

이들 충전제 중에서도, 보다 높은 분리능으로 분리시킬 수 있다고 하는 관점에서, 무기 재료가 바람직하고, 실리카겔이 보다 바람직하다.

충전제가 실리카겔인 경우, 이 실리카겔의 평균 입경은, 특별히 한정되지 않지만, 에피술피드 화합물 및/또는 에폭시 화합물 이외의 물질을 효과적으로 제거할 수 있는 경향이 있기 때문에, 600 ㎛ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 500 ㎛ 이하이며, 더 바람직하게는 400 ㎛ 이하이다. 전개 용매를 유통하기 위해 필요한 펌프의 부하를 저감할 수 있고, 안정적인 유량을 제어할 수 있는 경향이 있기 때문에, 5 ㎛ 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 10 ㎛ 이상이며, 더 바람직하게는 20 ㎛ 이상이다. 실리카겔의 세공 용적은, 특별히 한정되지 않지만, 충전제의 강도를 높여, 전개 용매를 유통함으로써 생기는 압력에 의해 충전제가 붕괴되는 것을 억제하는 관점에서, 5 mL/mL 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 3 mL/mL 이하이며, 더 바람직하게는 1 mL/mL 이하이다. 에피술피드 화합물 및/또는 에폭시 화합물 이외의 물질을 효과적으로 제거할 수 있는 경향이 있기 때문에, 0.1 mL/mL 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.3 mL/mL 이상이며, 더 바람직하게는 0.5 mL/mL 이상이다. 실리카겔의 비표면적은, 특별히 한정되지 않지만, 에피술피드 화합물 및/또는 에폭시 화합물 이외의 물질을 효과적으로 제거할 수 있는 경향이 있기 때문에, 100 ㎡/g 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 200 ㎡/g 이상이며, 더 바람직하게는 300 ㎡/g 이상이다. 전개 용매를 유통하기 위해 필요한 펌프의 부하를 저감할 수 있고, 안정적인 유량을 제어할 수 있는 경향이 있기 때문에, 실리카겔의 비표면적은, 5000 ㎡/g 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 4000 ㎡/g 이하이며, 더 바람직하게는 3000 ㎡/g 이하이다.

컬럼 크로마토그래피에 있어서, 컬럼 길이(L)와 컬럼 직경(D)의 비율인 L/D는, 특별히 한정되지 않지만, 0.01 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.03 이상이며, 더 바람직하게는 0.05 이상이다. L/D가 0.01 이상이면, 에피술피드 화합물 및/또는 에폭시 화합물 이외의 물질을 효과적으로 제거할 수 있는 경향이 있다. L/D는, 1000 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 700 이하이며, 더 바람직하게는 500 이하이다. L/D가 1000 이하이면, 에피술피드 화합물 및/또는 에폭시 화합물이 컬럼 내에서 충전제와 반응하는 것을 저감할 수 있는 경향이 있다.

컬럼을 통과시키는 전개 용제의 매분당의 유량(선속도, ㎝/분)은, 특별히 한정되지 않지만, 안정적인 유량을 제어하는 관점에서, 0.1 ㎝/분 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.15 ㎝/분 이상이며, 더 바람직하게는 0.2 ㎝/분 이상이다. 유량이 큰 경우, 전개 용매를 유통하기 위해 필요한 펌프의 부하가 높아지기 때문에, 10000 ㎝/분 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 5000 ㎝/분 이하이며, 더 바람직하게는 2000 ㎝/분 이하이다. 컬럼 크로마토그래피를 행하는 온도는, 특별히 한정되지 않지만, 전개 용매의 선택에 따라서는 전개 용매가 응고하고 유통하기 위해 필요한 펌프의 부하가 높아지기 때문에, 0℃ 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 5℃ 이상이며, 더 바람직하게는 10℃ 이상이다. 에피술피드 화합물 및/또는 에폭시 화합물이 컬럼 내에서 충전제와 반응하는 것을 저감할 수 있는 경향이 있기 때문에, 컬럼 크로마토그래피를 행하는 온도는, 100℃ 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 80℃ 이하이며, 더 바람직하게는 60℃ 이하이다.

상기한 분리 및/또는 정제에 의해 얻어진 에폭시 화합물은, (A) 2개 이상의 수산기를 갖는 다가 수산기 화합물의 존재하에서, (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 (C) 티아화제와의 반응에 의해 티아화하는 공정에서 재이용할 수 있다. 이 조작은, 폐기물로서의 에폭시 화합물의 양을 억제하여, 에피술피드 화합물을 제조하는 비용을 저감할 수 있는 경우가 있기 때문에, 유효한 수단이다.

반응액으로부터 반응 생성물을 분리했을 때의 잔류물에 함유되는 다가 수산기 화합물, 추출에 의해 얻어지는 수층에 함유되는 다가 수산기 화합물, 및 에피술피드 화합물 또는 에피술피드 화합물과 에폭시 화합물의 혼합물을 증류했을 때의 증류 잔사에 함유되는 다가 수산기 화합물은, 증류 및/또는 컬럼 크로마토그래피 등의 조작을 행하는 것에 의해, 그 이외의 성분과 분리할 수 있다.

다가 수산기 화합물을 분리하기 위한 증류 온도, 증류 압력은, 다가 수산기 화합물의 비점에 의해 적절히 설정된다. 증류 온도는, 통상 이용되는 범위이면 특별히 한정되지 않지만, 제조 비용을 억제하는 관점에서, 300℃ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 250℃ 이하이며, 더 바람직하게는 200℃ 이하이다. 증류 압력은, 통상 이용되는 범위이면 특별히 한정되지 않고, 가압, 상압, 감압을 적절하게 설정할 수 있지만, 증류 온도가 상기한 바람직한 범위를 초과하는 경우에는, 감압하는 것이 바람직하다.

컬럼 크로마토그래피는 상기와 같은 방법에 의해, 실시할 수 있다.

또한 상기 분리 조작에 의해 얻어지는 다가 수산기 화합물을 정제하여, 고순도의 것으로 하기 위해서는, 증류 및 컬럼 크로마토그래피 등의 분리 조작을 반복하여 행하는 것이 유효한 수단이 되는 경우가 있다.

분리된 다가 수산기 화합물은, (A) 2개 이상의 수산기를 갖는 다가 수산기 화합물의 존재하에서, (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 (C) 티아화제와의 반응에 의해 티아화하는 공정에 재이용할 수 있다. 이 조작은, 다가 수산기 화합물의 폐기량이 삭감되어, 에피술피드 화합물을 제조하는 비용이 낮아지는 경우가 있기 때문에 유효한 수단이다.

티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성되는 화합물, 또는 이 화합물과 티아화제의 혼합물과, 그 이외의 화합물을 분리하는 공정과, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성되는 화합물과 티아화제의 혼합물의 경우에는, 이들을 분리하는 공정과, 또한 필요에 따라 얻어진, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성되는 티아화제 및/또는 티아화제를 정제하는 공정을 거침으로써, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성되는 화합물, 및 티아화제를 얻을 수 있다.

반응액으로부터 반응 생성물을 분리한 후의 잔류물, 추출에 의해 얻어지는 수층, 에피술피드 화합물 또는 에피술피드 화합물과 에폭시 화합물의 혼합물을 증류했을 때의 잔류물, 또한 다가 수산기 화합물을 증류했을 때의 잔류물에 함유되는, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성되는 화합물, 또는 이 화합물과 티아화제의 혼합물은, 증류 제거 또는 석출 등의 조작을 행하는 것에 의해, 그 이외의 성분으로부터 분리할 수 있다.

증류 제거 온도, 증류 제거 압력은, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성되는 화합물, 또는 이 화합물과 티아화제의 혼합물 이외의 성분의 비점에 의해 적절히 설정된다.

증류 제거 온도는, 통상 이용되는 범위이면 특별히 한정되지 않지만, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성되는 화합물, 및 티아화제의 열분해를 억제하는 관점에서는, 250℃ 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 200℃ 이하이며, 더 바람직하게는 150℃ 이하이다.

증류 제거 압력은, 통상 이용되는 범위이면 특별히 한정되지 않고, 가압, 상압, 감압을 적절하게 설정할 수 있지만, 증류 제거 온도가 상기한 바람직한 범위를 초과하는 경우에는, 감압하는 것이 바람직하다.

반응액으로부터 반응 생성물을 분리한 후의 잔류물, 추출에 의해 얻어지는 수층, 에피술피드 화합물 또는 에피술피드 화합물과 에폭시 화합물의 혼합물을 증류했을 때의 잔류물, 또는 다가 수산기 화합물을 증류했을 때의 잔류물에 대하여, 필요에 따라 용매를 첨가하고, 용액으로 한 후, 온도에 의한 용해도의 차, 용액의 농축이나 다른 용매의 첨가 등에 의한 용해도의 감소 또는 공통 이온 효과를 이용함으로써, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성되는 화합물 및/또는 티아화제를 석출시켜, 분리할 수 있다.

티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성되는 화합물과 티아화제의 혼합물이 석출한 경우에는, 상기한 석출 조작을 재차 행함으로써, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성되는 화합물과 티아화제를 분리할 수 있다.

석출을 이용하기 위해 이용되는 조건은, 당업자이면, 일반적인 조건으로부터 적절하게 조정할 수 있다. 예컨대 신실험과학강좌(마루젠 주식회사), 유기 결정 제작 핸드북(마루젠 주식회사), 유기 화합물 결정 제작 핸드북 원리와 노하우(마루젠 주식회사)에 예시되어 있는 방법을 참고로, 석출에 의한 분리 조작을 실시할 수 있다. 또한, 상기에 예시되어 있는 방법을 참고로, 온도, 압력, 용매, 첨가제 등의 조건을 변경하여, 석출을 이용할 수 있다.

또한 상기 분리 조작에 의해 얻어지는, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성되는 화합물, 및/또는 티아화제를 정제하고, 고순도의 것으로 하기 위해서는, 증류 제거 및 석출 등의 분리 조작을 반복하여 행하는 것이 유효한 수단이 되는 경우가 있다.

티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성되는 화합물, 또는 이 화합물과 티아화제의 혼합물을 티아화제에 재생하는 공정을 거침으로써, 티아화제를 재생할 수 있다.

티아화제를 재생하는 방법은, 일반적인 것이면 특별히 한정되지 않고, 예컨대

Faming Zhuanli Shenqing Gongkai Shuomingshu (2009), CN 101602702,

Huaxue Gongye Yu Gongcheng(Tianjin, China) 2006, 23, 407-410.,

Journal of Sulfur Chemistry 2005, 26, 155-161.

에 예시되어 있는 방법을 참고로, 실시할 수 있다. 또한, 상기에 예시되어 있는 방법을 참고로, 온도, 압력, 용매, 첨가제 등의 조건을 변경하여, 이용할 수 있다.

티아화제를 재생하는 방법으로서, 하기 식 (9)로 표시되는 1,3,2,4-디티아디포스페탄-2,4-디술피드 골격을 갖는 화합물과, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성되는 화합물, 또는 이 화합물과 티아화제의 혼합물을 반응시키는 방법을 이용하는 경우, 식 (9)로 표시되는 화합물의 구체적인 예로서는,

Tetrahedron 1985, 41, 5061-5087.

J.Chem.Soc., Dalton Trans., 2000, 1533-1543.

Synthesis 2003, 1929-1958.

을 들 수 있다.

(식중, R₄₀, R₄₁은 탄소수 1∼20의 유기기를 나타내고, 동일하여도 각각 독립적이어도 좋음)

재생된 티아화제는, (A) 2개 이상의 수산기를 갖는 다가 수산기 화합물의 존재하에서, (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 (C) 티아화제와의 반응에 의해 티아화하는 공정에 재이용할 수 있다. 이 조작은, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성되는 화합물, 또는 티아화제의 폐기량이 삭감되어, 에피술피드 화합물을 제조하는 비용이 낮아지는 경우가 있기 때문에, 유효한 수단이다.

얻어진 에피술피드 화합물은, 중합 촉매의 존재하, 가열 또는 제열하면서의 중합, 또는 에너지선 조사에 의한 중합을 행하는 것에 의해, 중합물을 생성할 수 있다. 또한, 에피술피드 화합물이 2개 이상의 에피술피드기를 갖는 경우, 같은 방법에 의해, 경화물을 얻을 수 있다.

가열 또는 제열하면서의 중합에 이용되는 경화 촉매의 구체예로서는, 하기의 (1)∼(11)의 화합물을 들 수 있다.

(1) 에틸아민, n-프로필아민, sec-프로필아민, n-부틸아민, sec-부틸아민, i-부틸아민, tert-부틸아민, 펜틸아민, 헥실아민, 헵틸아민, 옥틸아민, 데실아민, 라우릴아민, 미리스틸아민, 1,2-디메틸헥실아민, 3-펜틸아민, 2-에틸헥실아민, 알릴아민, 아미노에탄올, 1-아미노프로판올, 2-아미노프로판올, 아미노부탄올, 아미노펜탄올, 아미노헥산올, 3-에톡시프로필아민, 3-프로폭시프로필아민, 3-이소프로폭시프로필아민, 3-부톡시프로필아민, 3-이소부톡시프로필아민, 3-(2-에틸헥실옥시)프로필아민, 아미노시클로펜탄, 아미노시클로헥산, 아미노노르보넨, 아미노메틸시클로헥산, 아미노벤젠, 벤질아민, 페네틸아민, α-페닐에틸아민, 나프틸아민 및 푸르푸릴아민 등의 1급 아민;

에틸렌디아민, 1,2-디아미노프로판, 1,3-디아미노프로판, 1,2-디아미노부탄, 1,3-디아미노부탄, 1,4-디아미노부탄, 1,5-디아미노펜탄, 1,6-디아미노헥산, 1,7-디아미노헵탄, 1,8-디아미노옥탄, 디메틸아미노프로필아민, 디에틸아미노프로필아민, 비스-(3-아미노프로필)에테르, 1,2-비스-(3-아미노프로폭시)에탄, 1,3-비스-(3-아미노프로폭시)-2,2'-디메틸프로판, 아미노에틸에탄올아민, 1,2-비스아미노시클로헥산, 1,3-비스아미노시클로헥산, 1,4-비스아미노시클로헥산, 1,3-비스아미노메틸시클로헥산, 1,4-비스아미노메틸시클로헥산, 1,3-비스아미노에틸시클로헥산, 1,4-비스아미노에틸시클로헥산, 1,3-비스아미노프로필시클로헥산, 1,4-비스아미노프로필시클로헥산, 수소 첨가 4,4'-디아미노디페닐메탄, 2-아미노피페리딘, 4-아미노피페리딘, 2-아미노메틸피페리딘, 4-아미노메틸피페리딘, 2-아미노에틸피페리딘, 4-아미노에틸피페리딘, N-아미노에틸피페리딘, N-아미노프로필피페리딘, N-아미노에틸모르폴린, N-아미노프로필모르폴린, 이소포론디아민, 멘탄디아민, 1,4-비스아미노프로필피페라진, o-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, p-페닐렌디아민, 2,4-톨릴렌디아민, 2,6-톨릴렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-아미노벤질아민, 4-클로로-o-페닐렌디아민,

테트라클로로-p-크실릴렌디아민, 4-메톡시-6-메틸-m-페닐렌디아민, m-크실릴렌디아민, p-크실릴렌디아민, 1,5-나프탈렌디아민, 2,6-나프탈렌디아민, 벤지딘, 4,4'-비스(o-톨루이딘), 디아니시딘, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 2,2-(4,4'-디아미노디페닐)프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-티오디아닐린, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 4,4'-디아미노디톨릴술폰, 메틸렌비스(o-클로로아닐린), 3,9-비스(3-아미노프로필)2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]운데칸, 디에틸렌트리아민, 이미노비스프로필아민, 메틸이미노비스프로필아민, 비스(헥사메틸렌)트리아민, 트리에틸렌테트라민, 테트라에틸렌펜타민, 펜타에틸렌헥사민, N-아미노에틸피페라진, N-아미노프로필피페라진, 1,4-비스(아미노에틸피페라진), 1,4-비스(아미노프로필피페라진) 및 2,6-디아미노피리딘, 비스(3,4-디아미노페닐)술폰 등의 1급 폴리아민;

디에틸아민, 디프로필아민, 디-n-부틸아민, 디-sec-부틸아민, 디이소부틸아민, 디-n-펜틸아민, 디-3-펜틸아민, 디헥실아민, 옥틸아민, 디(2-에틸헥실)아민, 메틸헥실아민, 디알릴아민, 피롤리딘, 피페리딘, 2-피콜린, 3-피콜린, 4-피콜린, 2,4-루티딘, 2,6-루티딘, 3,5-루티딘, 디페닐아민, N-메틸아닐린, N-에틸아닐린, 디벤질아민, 메틸벤질아민, 디나프틸아민, 피롤, 인돌린, 인돌 및 모르폴린 등의 2급 아민;

N,N'-디메틸에틸렌디아민, N,N'-디메틸-1,2-디아미노프로판, N,N'-디메틸-1,3-디아미노프로판, N,N'-디메틸-1,2-디아미노부탄, N,N'-디메틸-1,3-디아미노부탄, N,N'-디메틸-1,4-디아미노부탄, N,N'-디메틸-1,5-디아미노펜탄, N,N'-디메틸-1,6-디아미노헥산, N,N'-디메틸-1,7-디아미노헵탄, N,N'-디에틸에틸렌디아민, N,N'-디에틸-1,2-디아미노프로판, N,N'-디에틸-1,3-디아미노프로판, N,N'-디에틸-1,2-디아미노부탄, N,N'-디에틸-1,3-디아미노부탄, N,N'-디에틸-1,4-디아미노부탄, N,N'-디에틸-1,6-디아미노헥산, 피페라진, 2-메틸피페라진, 2,5-디메틸피페라진, 2,6-디메틸피페라진, 호모피페라진, 1,1-디-(4-피페리딜)메탄, 1,2-디-(4-피페리딜)에탄, 1,3-디-(4-피페리딜)프로판, 1,4-디-(4-피페리딜)부탄 및 테트라메틸구아니딘 등의 2급 폴리아민;

트리메틸아민, 트리에틸아민, 트리-n-프로필아민, 트리-iso-프로필아민, 트리-1,2-디메틸프로필아민, 트리-3-메톡시프로필아민, 트리-n-부틸아민, 트리-iso-부틸아민, 트리-sec-부틸아민, 트리-펜틸아민, 트리-3-펜틸아민, 트리-n-헥실아민, 트리-n-옥틸아민, 트리-2-에틸헥실아민, 트리-도데실아민, 트리-라우릴아민, 디시클로헥실에틸아민, 시클로헥실디에틸아민, 트리-시클로헥실아민, N,N-디메틸헥실아민, N-메틸디헥실아민, N,N-디메틸시클로헥실아민, N-메틸디시클로헥실아민, N,N-디에틸에탄올아민, N,N-디메틸에탄올아민, N-에틸디에탄올아민, 트리에탄올아민, 트리벤질아민, N,N-디메틸벤질아민, 디에틸벤질아민, 트리페닐아민, N,N-디메틸아미노-p-크레졸, N,N-디메틸아미노메틸페놀, 2-(N,N-디메틸아미노메틸)페놀, N,N-디메틸아닐린, N,N-디에틸아닐린, 피리딘, 퀴놀린, N-메틸모르폴린, N-메틸피페리딘 및 2-(2-디메틸아미노에톡시)-4-메틸-1,3,2-디옥사보르난 등의 3급 아민;

테트라메틸에틸렌디아민, 피라진, N,N'-디메틸피페라진, N,N'-비스((2-히드록시)프로필)피페라진, 헥사메틸렌테트라아민, N,N,N',N'-테트라메틸-1,3-부탄아민, 2-디메틸아미노-2-히드록시프로판, 디에틸아미노에탄올, N,N,N-트리스(3-디메틸아미노프로필)아민, 2,4,6-트리스(N,N-디메틸아미노메틸)페놀 및 헵타메틸이소비구아니드 등의 3급 폴리아민;

이미다졸, N-메틸이미다졸, 2-메틸이미다졸, 4-메틸이미다졸, N-에틸이미다졸, 2-에틸이미다졸, 4-에틸이미다졸, N-부틸이미다졸, 2-부틸이미다졸, N-운데실이미다졸, 2-운데실이미다졸, N-페닐이미다졸, 2-페닐이미다졸, N-벤질이미다졸, 2-벤질이미다졸, 1-벤질-2-메틸이미다졸, N-(2'-시아노에틸)-2-메틸이미다졸, N-(2'-시아노에틸)-2-운데실이미다졸, N-(2'-시아노에틸)-2-페닐이미다졸, 3,3-비스-(2-에틸-4-메틸이미다졸릴)메탄, 알킬이미다졸과 이소시아눌산의 부가물 및 알킬이미다졸과 포름알데히드의 축합물 등의 각종 이미다졸류; 1,8-디아자비시클로(5,4,0)운데센-7,1,5-디아자비시클로(4,3,0)노넨-5,6-디부틸아미노-1,8-디아자비시클로(5,4,0)운데센-7 등의 아미딘류; 이상으로 대표되는 아민 화합물.

(2) (1)의 아민류와 보란 및 3불화붕소와의 콤플렉스.

(3) 트리메틸포스핀, 트리에틸포스핀, 트리-iso-프로필포스핀, 트리-n-부틸포스핀, 트리-n-헥실포스핀, 트리-n-옥틸포스핀, 트리시클로헥실포스핀, 트리페닐포스핀, 트리벤질포스핀, 트리스(2-메틸페닐)포스핀, 트리스(3-메틸페닐)포스핀, 트리스(4-메틸페닐)포스핀, 트리스(디에틸아미노)포스핀, 트리스(4-메틸페닐)포스핀, 디메틸페닐포스핀, 디에틸페닐포스핀, 디시클로헥실페닐포스핀, 에틸디페닐포스핀, 디페닐시클로헥실포스핀 및 클로로디페닐포스핀 등의 포스핀류.

(4) 테트라메틸암모늄클로라이드, 테트라메틸암모늄브로마이드, 테트라메틸암모늄아세테이트, 테트라에틸암모늄클로라이드, 테트라에틸암모늄브로마이드, 테트라에틸암모늄아세테이트, 테트라-n-부틸암모늄플루오라이드, 테트라-n-부틸암모늄클로라이드, 테트라-n-부틸암모늄브로마이드, 테트라-n-부틸암모늄요오다이드, 테트라-n-부틸암모늄아세테이트, 테트라-n-부틸암모늄보로하이드라이드, 테트라-n-부틸암모늄헥사플루오로포스파이트, 테트라-n-부틸암모늄하이드로겐설파이드, 테트라-n-부틸암모늄테트라플루오로보레이트, 테트라-n-부틸암모늄테트라페닐보레이트, 테트라-n-부틸암모늄파라톨루엔술포네이트, 테트라-n-헥실암모늄클로라이드, 테트라-n-헥실암모늄브로마이드, 테트라-n-헥실암모늄아세테이트, 테트라-n-옥틸암모늄클로라이드, 테트라-n-옥틸암모늄브로마이드, 테트라-n-옥틸암모늄아세테이트,

트리메틸-n-옥틸암모늄클로라이드, 트리메틸벤질암모늄클로라이드, 트리메틸벤질암모늄브로마이드, 트리에틸-n-옥틸암모늄클로라이드, 트리에틸벤질암모늄클로라이드, 트리에틸벤질암모늄브로마이드, 트리-n-부틸-n-옥틸암모늄클로라이드, 트리-n-부틸벤질암모늄플루오라이드, 트리-n-부틸벤질암모늄클로라이드, 트리-n-부틸벤질암모늄브로마이드, 트리-n-부틸벤질암모늄요오다이드, 메틸트리페닐암모늄클로라이드, 메틸트리페닐암모늄브로마이드, 에틸트리페닐암모늄클로라이드, 에틸트리페닐암모늄브로마이드, n-부틸트리페닐암모늄클로라이드, n-부틸트리페닐암모늄브로마이드, 1-메틸피리디늄브로마이드, 1-에틸피리디늄브로마이드, 1-n-부틸피리디늄브로마이드, 1-n-헥실피리디늄브로마이드, 1-n-옥틸피리디늄브로마이드, 1-n-도데실피리디늄브로마이드, 1-n-페닐피리디늄브로마이드, 1-메틸피콜리늄브로마이드, 1-에틸피콜리늄브로마이드, 1-n-부틸피콜리늄브로마이드, 1-n-헥실피콜리늄브로마이드, 1-n-옥틸피콜리늄브로마이드, 1-n-도데실피콜리늄브로마이드 및 1-n-페닐피콜리늄브로마이드 등의 4급 암모늄염.

(5) 테트라메틸포스포늄클로라이드, 테트라메틸포스포늄브로마이드, 테트라에틸포스포늄클로라이드, 테트라에틸포스포늄브로마이드, 테트라-n-부틸포스포늄클로라이드, 테트라-n-부틸포스포늄브로마이드, 테트라-n-부틸포스포늄요오다이드, 테트라-n-헥실포스포늄브로마이드, 테트라-n-옥틸포스포늄브로마이드, 메틸트리페닐포스포늄브로마이드, 메틸트리페닐포스포늄요오다이드, 에틸트리페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄요오다이드, n-부틸트리페닐포스포늄브로마이드, n-부틸트리페닐포스포늄요오다이드, n-헥실트리페닐포스포늄브로마이드, n-옥틸트리페닐포스포늄브로마이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드, 테트라키스히드록시메틸포스포늄클로라이드, 테트라키스히드록시메틸포스포늄브로마이드, 테트라키스히드록시에틸포스포늄클로라이드 및 테트라키스히드록시부틸포스포늄클로라이드 등의 포스포늄염.

(6) 트리메틸술포늄브로마이드, 트리에틸술포늄브로마이드, 트리-n-부틸술포늄클로라이드, 트리-n-부틸술포늄브로마이드, 트리-n-부틸술포늄요오다이드, 트리-n-부틸술포늄테트라플루오로보레이트, 트리-n-헥실술포늄브로마이드, 트리-n-옥틸술포늄브로마이드, 트리페닐술포늄클로라이드, 트리페닐술포늄브로마이드 및 트리페닐술포늄요오다이드 등의 술포늄염.

(7) 디페닐요오도늄클로라이드, 디페닐요오도늄브로마이드 및 디페닐요오도늄요오다이드 등의 요오도늄염.

(8) 염산, 황산, 질산, 인산, 탄산 등의 무기산 및 이들의 반에스테르.

(9) 3불화붕소 및 3불화붕소의 에테레이트 등으로 대표되는 루이스산.

(10) 유기산 및 이들의 반에스테르.

(11) 규산 및 4불화붕산.

이들 화합물은 단독으로 사용하여도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다. 이들 중에서 중합물의 착색이 적고 바람직한 것은, 아민류, 포스핀류, 제4급 암모늄염, 제4급 포스포늄염, 제3급 술포늄염 및 제2급 요오도늄염이다.

에너지선 조사에 의한 중합이란, 에너지선(자외선, 근자외선, 가시광 및, 근적외선 및 적외선 등의 광, 및 전자선 등)을 조사함으로써 중합물을 생성시키는 방법이다. 에너지선의 종류는, 특별히 한정되는 것이 아니지만, 바람직하게는 광, 보다 바람직하게는 자외선이다.

에너지선의 발생원은, 특별히 한정되는 것이 아니라, 예컨대 저압 수은등, 중압 수은등, 고압 수은등, 초고압 수은등, UV 램프, 크세논 램프, 카본아크등, 메탈할라이드 램프, 형광등, 텅스텐 램프, 아르곤 이온 레이저, 헬륨 카드뮴 레이저, 헬륨 네온 레이저, 크립톤 이온 레이저, 각종 반도체 레이저, YAG 레이저, 엑시머 레이저, 발광다이오드, CRT 광원, 플라즈마 광원 및 전자선 조사기 등의 각종 광원을 들 수 있다.

에너지선에 의한 중합의 수법은, 특별히 한정되는 것이 아니라, 통상, 에너지선 자극에 의해 중합 촉매가 분해되어 발생하는 중합 개시종에 의해, 대상 물질의 중합성 작용기에 의한 중합이 개시된다고 하는 경과를 거친다.

에너지선 조사에 의한 중합에 이용되는 중합 촉매는, 특별히 한정되는 것이 아니라, 발생하는 활성종에 의해 이하의 3개로 대별하는 것이 가능하다. 이들 중합 촉매는 단독으로 사용하여도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다.

(1) 에너지선의 조사에 의해 라디칼을 발생하는 것.

(2) 에너지선의 조사에 의해, 양이온을 발생하는 것(에너지선이 광인 경우, 광산 발생제라고 불림).

(3) 에너지선의 조사에 의해, 음이온을 발생하는 것(에너지선이 광인 경우, 광염기 발생제라고 불림)

에너지선에 의한 중합에 이용되는 중합 촉매의 구체예로서는, 예컨대 벤조인류 및 벤조인알킬에테르류(벤조인, 벤질, 벤조인메틸에테르 및 벤조인이소프로필에테르), 아세토페논류(아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐아세토페논, 2,2-디에톡시-2-페닐아세토페논, 1,1-디클로로아세토페논, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2-메틸-1-(4-(메틸티오)페닐)-2-모노폴리노프로판-1-온 및 N,N-디메틸아미노아세토페논 등), 안트라퀴논류(2-메틸안트라퀴논, 2-에틸안트라퀴논, 2-tert-부틸안트라퀴논, 1-클로로안트라퀴논, 2-아밀안트라퀴논 및 2-아미노안트라퀴논 등), 티오크산톤류(2,4-디메틸티오크산톤, 2,4-디에틸티오크산톤, 2-클로로티오크산톤 및 2,4-디이소프로필티오크산톤 등), 케탈류(아세토페논디메틸케탈 및 벤질디메틸케탈 등), 벤조페논류(벤조페논, 메틸벤조페논, 4,4'-디클로로벤조페논 및 4,4'-비스디에틸아미노벤조페논 등), 크산톤류, 안식향산에스테르류(에틸4-디메틸아미노벤조에이트 및 2-(디메틸아미노)에틸벤조에이트 등), 아민류(트리에틸아민 및 트리에탄올아민 등), 요오도늄염 화합물, 술포늄염 화합물, 암모늄염 화합물, 포스포늄염 화합물, 아르소늄염 화합물, 스티보늄염 화합물, 옥소늄염 화합물, 셀레노늄염 화합물, 및 스탄노늄염 화합물을 들 수 있다.

상기한 중합 촉매의 비율은, 에피술피드 화합물 1몰에 대하여, 0.0001몰 이상인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.005 이상이며, 더 바람직하게는 0.001 이상이다. 중합 촉매를 0.0001몰 이상 이용함으로써, 중합이 효율적으로 진행되어, 에피술피드 화합물의 잔류를 저감할 수 있는 경향이 있다. 중합 촉매의 비율은, 에피술피드 화합물 1몰에 대하여, 1.0몰 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.5몰 이하이며, 더 바람직하게는 0.1몰 이하이다. 중합 촉매가 1.0몰 이하이면, 중합시의 착색을 저감할 수 있는 경향이 있다.

에피술피드 화합물이 2개 이상의 에피술피드기를 갖는 경우, 에피술피드 화합물을 경화제와 반응시킴으로써, 경화물을 얻을 수 있다.

경화제는, 통상 이용되는 것이면 특별히 한정되지 않지만, 구체예로서는, 이하의 (1)∼(3)의 화합물을 들 수 있다. 이들은 단독으로 사용하여도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다.

(1) 에틸렌디아민, 1,2-디아미노프로판, 1,3-디아미노프로판, 1,2-디아미노부탄, 1,3-디아미노부탄, 1,4-디아미노부탄, 1,5-디아미노펜탄, 1,6-디아미노헥산, 1,7-디아미노헵탄, 1,8-디아미노옥탄, 디메틸아미노프로필아민, 디에틸아미노프로필아민, 비스-(3-아미노프로필)에테르, 1,2-비스-(3-아미노프로폭시)에탄, 1,3-비스-(3-아미노프로폭시)-2,2'-디메틸프로판, 아미노에틸에탄올아민, 1,2-비스아미노시클로헥산, 1,3-비스아미노시클로헥산, 1,4-비스아미노시클로헥산, 1,3-비스아미노메틸시클로헥산, 1,4-비스아미노메틸시클로헥산, 1,3-비스아미노에틸시클로헥산, 1,4-비스아미노에틸시클로헥산, 1,3-비스아미노프로필시클로헥산, 1,4-비스아미노프로필시클로헥산, 수소 첨가 4,4'-디아미노디페닐메탄, 2-아미노피페리딘, 4-아미노피페리딘, 2-아미노메틸피페리딘, 4-아미노메틸피페리딘, 2-아미노에틸피페리딘, 4-아미노에틸피페리딘, N-아미노에틸피페리딘, N-아미노프로필피페리딘, N-아미노에틸모르폴린, N-아미노프로필모르폴린, 이소포론디아민, 멘탄디아민, 1,4-비스아미노프로필피페라진, o-페닐렌디아민, m-페닐렌디아민, p-페닐렌디아민,

2,4-톨릴렌디아민, 2,6-톨릴렌디아민, 2,4-톨루엔디아민, m-아미노벤질아민, 4-클로로-o-페닐렌디아민, 테트라클로로-p-크실릴렌디아민, 4-메톡시-6-메틸-m-페닐렌디아민, m-크실릴렌디아민, p-크실릴렌디아민, 1,5-나프탈렌디아민, 2,6-나프탈렌디아민, 벤지딘, 4,4'-비스(o-톨루이딘), 디아니시딘, 4,4'-디아미노디페닐메탄, 2,2-(4,4'-디아미노디페닐)프로판, 4,4'-디아미노디페닐에테르, 4,4'-티오디아닐린, 4,4'-디아미노디페닐술폰, 4,4'-디아미노디톨릴술폰, 메틸렌비스(o-클로로아닐린), 3,9-비스(3-아미노프로필)2,4,8,10-테트라옥사스피로[5,5]운데칸, 디에틸렌트리아민, 이미노비스프로필아민, 메틸이미노비스프로필아민, 비스(헥사메틸렌)트리아민, 트리에틸렌테트라민, 테트라에틸렌펜타민, 펜타에틸렌헥사민, N-아미노에틸피페라진, N-아미노프로필피페라진, 1,4-비스(아미노에틸피페라진), 1,4-비스(아미노프로필피페라진) 및 2,6-디아미노피리딘, 비스(3,4-디아미노페닐)술폰 등의 1급 폴리아민;

N,N'-디메틸에틸렌디아민, N,N'-디메틸-1,2-디아미노프로판, N,N'-디메틸-1,3-디아미노프로판, N,N'-디메틸-1,2-디아미노부탄, N,N'-디메틸-1,3-디아미노부탄, N,N'-디메틸-1,4-디아미노부탄, N,N'-디메틸-1,5-디아미노펜탄, N,N'-디메틸-1,6-디아미노헥산, N,N'-디메틸-1,7-디아미노헵탄, N,N'-디에틸에틸렌디아민, N,N'-디에틸-1,2-디아미노프로판, N,N'-디에틸-1,3-디아미노프로판, N,N'-디에틸-1,2-디아미노부탄, N,N'-디에틸-1,3-디아미노부탄, N,N'-디에틸-1,4-디아미노부탄, N,N'-디에틸-1,6-디아미노헥산, 피페라진, 2-메틸피페라진, 2,5-디메틸피페라진, 2,6-디메틸피페라진, 호모피페라진, 1,1-디-(4-피페리딜)메탄, 1,2-디-(4-피페리딜)에탄, 1,3-디-(4-피페리딜)프로판, 1,4-디-(4-피페리딜)부탄, 테트라메틸구아니딘 등의 2급 폴리아민;

테트라메틸에틸렌디아민, 피라진 및 N,N'-디메틸피페라진, N,N'-비스((2-히드록시)프로필)피페라진, 헥사메틸렌테트라아민, N,N,N',N'-테트라메틸-1,3-부탄아민, 2-디메틸아미노-2-히드록시프로판, 디에틸아미노에탄올, N,N,N-트리스(3-디메틸아미노프로필)아민, 2,4,6-트리스(N,N-디메틸아미노메틸)페놀 및 헵타메틸이소비구아니드 등의 3급 폴리아민; 이상으로 대표되는 아민계 화합물.

(2) 무수프탈산, 무수호박산, 무수트리멜리트산, 무수피로멜리트산, 무수말레산, 테트라히드로 무수프탈산, 메틸테트라히드로 무수프탈산, 무수메틸나딕산, 헥사히드로 무수프탈산, 메틸헥사히드로 무수프탈산, 1,2,3,6-테트라히드로 무수프탈산, 3,4,5,6-테트라히드로 무수프탈산, 헥사히드로 무수프탈산, 「4-메틸헥사히드로 무수프탈산/헥사히드로 무수프탈산=70/30」, 4-메틸헥사히드로 무수프탈산, 「메틸비시클로[2.2.1]헵탄-2,3-디카르복실산 무수물/비시클로[2.2.1]헵탄-2,3-디카르복실산 무수물」, 테트라프로페닐 무수호박산, 옥테닐호박산 무수물 및 2,5-디케토테트라히드로푸란; 이상으로 대표되는 산 무수물 화합물.

(3) 메탄디티올, 1,2-디메르캅토에탄, 2,2-디메르캅토프로판, 1,3-디메르캅토프로판, 1,2,3-트리메르캅토프로판, 1,4-디메르캅토부탄, 1,6-디메르캅토헥산, 비스(2-메르캅토에틸)술피드, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)에탄, 1,5-디메르캅토-3-옥사펜탄, 1,8-디메르캅토-3,6-디옥사옥탄, 2,2-디메틸프로판-1,3-디티올, 3,4-디메톡시부탄-1,2-디티올, 2-메르캅토메틸-1,3-디메르캅토프로판, 2-메르캅토메틸1,4-디메르캅토프로판, 2-(2-메르캅토에틸티오)-1,3-디메르캅토프로판, 1,2-비스(2-메르캅토에틸티오)-3-메르캅토프로판, 1,1,1-트리스(메르캅토메틸)프로판, 테트라키스(메르캅토메틸)메탄, 4,8-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 4,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 5,7-디메르캅토메틸-1,11-디메르캅토-3,6,9-트리티아운데칸, 1,1,3,3-테트라키스(메르캅토메틸티오)프로판, 에틸렌글리콜비스(2-메르캅토아세테이트), 에틸렌글리콜비스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,4-부탄디올비스(2-메르캅토아세테이트), 1,4-부탄디올비스(3-메르캅토프로피오네이트),

트리메틸올프로판트리스(2-메르캅토아세테이트), 트리메틸올프로판트리스(3-메르캅토프로피오네이트), 펜타에리스리톨테트라키스(2-메르캅토아세테이트), 펜타에리스리톨테트라키스(3-메르캅토프로피오네이트), 1,1-디메르캅토시클로헥산, 1,2-디메르캅토시클로헥산, 1,3-디메르캅토시클로헥산, 1,4-디메르캅토시클로헥산, 1,3-비스(메르캅토메틸)시클로헥산, 1,4-비스(메르캅토메틸)시클로헥산, 2,5-비스(메르캅토메틸)-1,4-디티안, 2,5-비스(메르캅토에틸)-1,4-디티안, 1,2-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,3-비스(메르캅토메틸)벤젠, 1,4-비스(메르캅토메틸)벤젠, 비스(4-메르캅토페닐)술피드, 비스(4-메르캅토페닐)에테르, 2,2-비스(4-메르캅토페닐)프로판, 비스(4-메르캅토메틸페닐)술피드, 비스(4-메르캅토메틸페닐)에테르, 2,2-비스(4-메르캅토메틸페닐)프로판, o-디메르캅토벤젠, m-디메르캅토벤젠, p-디메르캅토벤젠, 및 1,3,5-트리메르캅토벤젠 등의 티올 화합물.

경화제의 양은, 특별히 한정되는 것이 아니지만, 바람직하게는, 에피술피드 화합물에 함유되는 에피술피드기의 물질량에 대한, 경화제에 함유되는 에피술피드기와 반응하는 치환기의 물질량의 비율인 혼합 지표 γ를 지표로 하여 결정할 수 있다. 혼합 지표 γ는, 이하의 일반식 (10)으로 표시된다.

혼합 지표(γ)=(γk)/(γe) (10)

식 (10)중,

γk는 경화제에 함유되는 에피술피드기와 반응하는 치환기의 물질량(㏖)이며,

γe는 에피술피드기의 물질량(㏖ 수)이다.

혼합 지표 γ는, 0.1 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.2 이상이며, 더 바람직하게는 0.3 이상이다. 혼합 지표 γ가 0.1 이상이면, 에피술피드기의 잔류를 억제할 수 있어, 양호한 경화물이 얻어지는 경향이 있다. 혼합 지표 γ는, 1.5 이하가 바람직하고, 보다 바람직하게는 1.3 이하이며, 더 바람직하게는 1.2 이하이다. 혼합 지표 γ가 1.5 이하이면, 경화제에 함유되는, 에피술피드기와 반응하는 치환기의 잔류를 억제할 수 있어, 얻어진 경화물의 기계 물성을 향상시킬 수 있는 경향이 있다.

에피술피드 화합물과 경화제로부터 경화물을 얻는 공정에서, 경화 속도를 보다 크게 할 목적으로, 경화 촉진제를 이용하는 것이 유효하다.

경화 촉진제는, 특별히 한정되는 것이 아니지만, 3급 아민 및 그 염, 유기 인 화합물, 4급 포스포늄염류, 유기 금속 화합물, 4급 암모늄염, 및 금속 할로겐화물로부터 선택될 수 있다. 이들은, 단독으로 사용하여도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다. 경화 촉진제의 구체예로서는, 이하의 (1)∼(8)의 것을 들 수 있다.

(1) 3급 아민류: 벤질디메틸아민, 2,4,6-트리스(디메틸아미노메틸)페놀, 시클로헥실디메틸아민 및 트리에탄올아민 등,

(2) 이미다졸류: 2-메틸이미다졸, 2-n-헵틸이미다졸, 2-n-운데실이미다졸, 2-페닐이미다졸, 2-페닐-4-메틸이미다졸, 1-벤질-2-메틸이미다졸, 1-벤질-2-페닐이미다졸, 1,2-디메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-메틸이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-n-운데실이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-페닐이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸, 2-페닐-4-메틸-5-히드록시메틸이미다졸, 2-페닐-4,5-디(히드록시메틸)이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-페닐-4,5-디[(2'-시아노에톡시)메틸]이미다졸, 1-(2-시아노에틸)-2-n-운데실이미다졸륨트리멜리테이트, 1-(2-시아노에틸)-2-페닐이미다졸륨트리멜리테이트, 1-(2-시아노에틸)-2-에틸-4-메틸이미다졸륨트리멜리테이트, 2,4-디아미노-6-[2'-메틸이미다졸릴-(1')]에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6-(2'-n-운데실이미다졸릴)에틸-s-트리아진, 2,4-디아미노-6-[2'-에틸-4'-메틸이미다졸릴-(1')]에틸-s-트리아진, 2-메틸이미다졸의 이소시아눌산 부가물, 2-페닐이미다졸의 이소시아눌산 부가물, 및 2,4-디아미노-6-[2'-메틸이미다졸릴-(1')]에틸-s-트리아진의 이소시아눌산 부가물 등,

(3) 유기인계 화합물: 디페닐포스핀, 트리페닐포스핀 및 아인산트리페닐 등,

(4) 4급 포스포늄염류: 벤질트리페닐포스포늄클로라이드, 테트라-n-부틸포스포늄브로마이드, 메틸트리페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄브로마이드, n-부틸트리페닐포스포늄브로마이드, 테트라페닐포스포늄브로마이드, 에틸트리페닐포스포늄요오다이드, 에틸트리페닐포스포늄아세테이트, 테트라-n-부틸포스포늄o,o-디에틸포스포로디티오네이트, 테트라-n-부틸포스포늄벤조트리아졸레이트, 테트라-n-부틸포스포늄테트라플루오로보레이트, 테트라-n-부틸포스포늄테트라페닐보레이트 및 테트라페닐포스포늄테트라페닐보레이트 등,

(5) 디아자비시클로알켄류: 1,8-디아자비시클로[5.4.0]운데센-7 및 그 유기산염 등,

(6) 유기 금속 화합물: 옥틸산아연, 옥틸산주석, 알루미늄아세틸아세톤 착체 등,

(7) 4급 암모늄염류: 테트라에틸암모늄브로마이드, 테트라-n-부틸암모늄브로마이드 등,

(8) 금속 할로겐 화합물: 3불화붕소, 붕산트리페닐 등의 붕소 화합물; 염화아연, 염화 제2 주석 등.

경화 촉진제의 양은, 특별히 한정되는 것이 아니지만, 바람직한 양은, 에피술피드 화합물의 질량에 대한 비율인 혼합 지표 η으로부터 구할 수 있다. 혼합 지표 δ는, 이하의 식 (11)로 표시된다.

혼합 지표 δ=(δc)/(δe)×100 (11)

식 (11)중,

δc는 경화 촉진제의 질량(g)이며,

δe는 에피술피드 화합물의 질량(g)이다.

혼합 지표 δ는, 0.01 이상이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.05 이상이며, 더 바람직하게는 0.1 이상이다. 혼합 지표 δ가 0.01 이상이면, 에피술피드기의 잔류를 억제할 수 있어, 양호한 경화물이 얻어지는 경향이 있다. 혼합 지표 δ는, 1 이하인 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 0.7 이하이며, 더 바람직하게는0.5 이하이다. 혼합 지표 δ가 1 이하이면, 경화물의 착색을 억제할 수 있는 경우가 있다.

에피술피드 화합물의 중합물 및 경화물은, 목적에 따라서, 각종 유기 수지, 무기 충전제, 착색제, 레벨링제, 활제, 계면활성제, 실리콘계 화합물, 반응성 희석제, 비반응성 희석제, 산화방지제 및 광 안정제 등을 적절하게 포함할 수 있다. 그 외, 일반적으로 수지용의 첨가제(가소제, 난연제, 안정제, 대전방지제, 내충격 강화제, 발포제, 항균·곰팡이방지제, 도전성 필러, 방담제, 가교제 등)로서 제공되는 물질을, 중합물 또는 경화물에 배합하여도 지장이 없다.

유기 수지로서는, 특별히 한정되는 것이 아니라, 예컨대 아크릴 수지, 폴리에스테르 수지 및 폴리이미드 수지 등을 들 수 있다.

무기 충전제로서는, 예컨대 실리카류(용융 파쇄 실리카, 결정 파쇄 실리카, 구형 실리카, 흄드 실리카, 콜로이달 실리카 및 침강성 실리카 등), 실리콘 카바이드, 질화규소, 질화붕소, 탄산칼슘, 탄산마그네슘, 황산바륨, 황산칼슘, 운모, 탈크, 클레이, 산화알루미늄, 산화마그네슘, 산화지르코늄, 수산화알루미늄, 수산화마그네슘, 규산칼슘, 규산알루미늄, 규산리튬알루미늄, 규산지르코늄, 티탄산바륨, 유리섬유, 탄소섬유, 및 이황화몰리브덴을 들 수 있다. 이들 중에서도, 실리카류, 탄산칼슘, 산화알루미늄, 수산화알루미늄 및 규산칼슘이 바람직하고, 경화물의 물성을 더 고려하면, 실리카류가 보다 바람직하다. 이들 무기 충전제는 단독으로도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다.

착색제는, 착색을 목적으로 사용되는 물질이면 특별히 한정되지 않고, 예컨대 프탈로시아닌, 아조, 디스아조, 퀴나크리돈, 안트라퀴논, 플라반트론, 페리논, 페릴렌, 디옥사진, 축합 아조 및 아조메틴계의 각종 유기계 색소, 및 산화티타늄, 황산납, 크롬옐로우, 징크옐로우, 크롬버밀리언, 벵갈라, 코발트바이올렛, 감청, 군청, 카본블랙, 크롬그린, 산화크롬 및 코발트그린 등의 무기 안료로부터 선택될 수 있다. 이들 착색제는 단독으로도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다.

레벨링제는, 특별히 한정되지 않고, 예컨대 에틸아크릴레이트, 부틸아크릴레이트, 및 2-에틸헥실아크릴레이트 등의 아크릴레이트로부터 형성되는 분자량 4000∼12000의 올리고머, 에폭시화 대두지방산, 에폭시화 아비에틸알코올, 수소 첨가 피마자유, 및 티탄계 커플링제로부터 선택될 수 있다. 이들 레벨링제는 단독으로도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다.

활제는, 특별히 한정되지 않고, 파라핀왁스, 마이크로왁스 및 폴리에틸렌왁스 등의 탄화수소계 활제, 라우린산, 미리스트산, 팔미틴산, 스테아르산, 아라킨산 및 베헨산 등의 고급 지방산계 활제, 스테아릴아미드, 팔미틸아미드, 올레일아미드, 메틸렌비스스테아로아미드 및 에틸렌비스스테아로아미드 등의 고급 지방산아미드계 활제, 경화 피마자유, 부틸스테아레이트, 에틸렌글리콜모노스테아레이트 및 펜타에리스리톨(모노-, 디-, 트리-, 또는 테트라-)스테아레이트 등의 고급 지방산에스테르계 활제, 세틸알코올, 스테아릴알코올, 폴리에틸렌글리콜 및 폴리글리세롤 등의 알코올계 활제, 라우린산, 미리스트산, 팔미틴산, 스테아르산, 아라킨산, 베헨산, 리시놀레산 및 나프텐산 등의 마그네슘, 칼슘, 카드뮴, 바륨, 아연 및 납 등의 금속염인 금속 비누, 및 카나우바 왁스, 칸데릴라 왁스, 밀랍 및 몬탄 왁스 등의 천연 왁스로부터 선택될 수 있다. 이들 활제는 단독으로도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다.

계면활성제는, 분자중에 용매에 대하여 친화성을 갖지 않는 소수기와, 용매에 대하여 친화성을 갖는 친매기(통상은 친수기)를 갖는, 양친매성 물질을 가리킨다. 계면활성제의 종류는 특별히 한정되는 것이 아니라, 예컨대 실리콘계 계면활성제 및 불소계 계면활성제 등을 들 수 있다. 계면활성제는 단독으로도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다.

실리콘계 화합물은, 특별히 한정되지 않고, 예컨대 실리콘 수지, 실리콘 축합물, 실리콘 부분 축합물, 실리콘 오일, 실란 커플링제, 및 폴리실록산을 들 수 있다. 실리콘 화합물의 양 말단, 편 말단, 또는 측쇄에 유기기를 도입하여 변성되어 있어도 좋다. 실리콘계 화합물의 변성 방법도 특별히 한정되지 않고, 예컨대 아미노 변성, 에폭시 변성, 지환식 에폭시 변성, 카르비놀 변성, 메타크릴 변성, 폴리에테르 변성, 메르캅토 변성, 카르복실 변성, 페놀 변성, 실라놀 변성, 폴리에테르 변성, 폴리에테르·메톡시 변성, 및 디올 변성을 들 수 있다.

반응성 희석제는, 특별히 한정되지 않고, 예컨대 알킬글리시딜에테르, 알킬페놀의 모노글리시딜에테르, 네오펜틸글리콜디글리시딜에테르, 1,6-헥산디올디글리시딜에테르, 알칸산글리시딜에스테르, 에틸렌글리콜디글리시딜에테르, 및 프로필렌글리콜디글리시딜에테르로부터 선택될 수 있다.

비반응성 희석제는, 특별히 한정되지 않고, 예컨대 벤질알코올, 부틸디글리콜 및 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 고비점 용매로부터 선택될 수 있다.

산화방지제는, 특별히 한정되는 것이 아니지만, 예컨대 페놀계 산화방지제, 인계 산화방지제, 황계 산화방지제 및 아민계 산화방지제로부터 선택될 수 있다. 이들은, 단독으로 사용하여도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다. 산화방지제의 구체예로서는, 이하의 (1)∼(4)의 것을 들 수 있다.

(1) 페놀계 산화방지제: 예컨대 이하의 알킬페놀류, 히드로퀴논류, 티오알킬 또는 티오아릴류, 벤질 화합물류, 트리아진류, β-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산과 1가 또는 다가 알코올의 에스테르, β-(5-tert-부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)프로피온산과 1가 또는 다가 알코올의 에스테르, β-(3,5-디시클로헥실-4-히드록시페닐)프로피온산과 1가 또는 다가 알코올의 에스테르, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐아세트산과 1가 또는 다가 알코올의 에스테르, β-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 아미드, 및 비타민류.

(1-1) 알킬페놀류: 2,6-디-tert-부틸-4-메틸페놀, 2-tert-부틸-4,6-디메틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-에틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-n-부틸페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-이소부틸페놀, 2,6-디시클로펜틸-4-메틸페놀, 2-(α-메틸시클로헥실)-4,6-디메틸페놀, 2,6-디옥타데실-4-메틸페놀, 2,4,6-트리시클로헥실페놀, 2,6-디-tert-부틸-4-메톡시메틸페놀, 직쇄형 또는 분기쇄형의 측쇄를 갖는 노닐페놀류(예컨대 2,6-디-노닐-4-메틸페놀), 2,4-디메틸-6-(1'-메틸운데카-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸헵타데카-1'-일)페놀, 2,4-디메틸-6-(1'-메틸트리데카-1'-일)페놀 및 이들의 혼합물, 4-히드록시라우로일아닐리드, 4-히드록시스테아르아닐리드, 및 옥틸 N-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)카바메이트 등,

(1-2) 히드로퀴논류: 2,6-디-tert-부틸-4-메톡시페놀, 2,5-디-tert-부틸히드로퀴논, 2,5-디-tert-아밀히드로퀴논, 2,6-디페닐-4-옥타데실옥시페놀, 2,6-디-tert-부틸히드로퀴논, 2,5-디-tert-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시아니솔, 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐스테아레이트, 및 비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)아디페이트 등,

(1-3) 티오알킬 또는 티오아릴페놀류: 2,4-디옥틸티오메틸-6-tert-부틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-메틸페놀, 2,4-디옥틸티오메틸-6-에틸페놀, 2,6-디-도데실티오메틸-4-노닐페놀, 2,2'-티오비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-티오비스(4-옥틸페놀), 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-3-메틸페놀), 4,4'-티오비스(6-tert-부틸-2-메틸페놀), 4,4'-티오비스(3,6-디-sec-아밀페놀), 및 4,4'-비스(2,6-디메틸-4-히드록시페닐)디술피드 등,

(1-5) 비스페놀류: 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-tert-부틸-4-에틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[4-메틸-6-(α-메틸시클로헥실)페놀], 2,2'-메틸렌비스(4-메틸-6-시클로헥실페놀), 2,2'-메틸렌비스(6-노닐-4-메틸페놀), 2,2'-메틸렌비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(4,6-디-tert-부틸페놀), 2,2'-에틸리덴비스(6-tert-부틸-4-이소부틸페놀), 2,2'-메틸렌비스[6-(α-메틸벤질)-4-노닐페놀], 2,2'-메틸렌비스[6-(α,α-디메틸벤질)-4-노닐페놀], 4,4'-메틸렌비스(2,6-디-tert-부틸페놀), 4,4'-메틸렌비스(6-tert-부틸-2-메틸페놀), 1,1-비스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 2,6-비스(3-tert-부틸-5-메틸-2-히드록시벤질)-4-메틸페놀,

1,1,3-트리스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)부탄, 1,1-비스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-3-n-도데실메르캅토부탄, 에틸렌글리콜비스[3,3-비스(3'-tert-부틸-4'-히드록시페닐)부티레이트], 비스(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸-페닐)디시클로펜타디엔, 비스[2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-메틸벤질)-6-tert-부틸-4-메틸페닐]테레프탈레이트, 1,1-비스(3,5-디메틸-2-히드록시페닐)부탄, 2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로판, 2,2-비스(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)-4-n-도데실메르캅토부탄, 및 1,1,5,5-테트라(5-tert-부틸-4-히드록시-2-메틸페닐)펜탄 등,

(1-4) 벤질 화합물류: 3,5,3',5'-테트라-tert-부틸-4,4'-디히드록시디벤질에테르, 옥타데실-4-히드록시-3,5-디메틸벤질메르캅토아세테이트, 트리데실-4-히드록시-3,5-디-tert-부틸벤질메르캅토아세테이트, 트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)아민, 비스(4-tert-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)디티오테레프탈레이트, 비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)술피드, 이소옥틸-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질메르캅토아세테이트, 디옥타데실-2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-2-히드록시벤질)말로네이트, 디-옥타데실-2-(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸벤질)말로네이트, 디-도데실메르캅토에틸-2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트, 비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]-2,2-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)말로네이트, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)-2,4,6-트리메틸벤젠, 1,4-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)-2,3,5,6-테트라메틸벤젠, 및 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)페놀 등,

(1-5) 트리아진류: 2,4-비스(옥틸메르캅토)-6-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시아닐리노)-1,3,5-트리아진, 2-옥틸메르캅토-4,6-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페녹시)-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페녹시)-1,2,3-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질)이소시아누레이트, 1,3,5-트리스(4-tert-부틸-3-히드록시-2,6-디메틸벤질)이소시아누레이트, 2,4,6-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐에틸)-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)-헥사히드로-1,3,5-트리아진, 1,3,5-트리스(3,5-디시클로헥실-4-히드록시벤질)이소시아누레이트 등,

(1-6) β-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산과 1가 또는 다가 알코올의 에스테르: β-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산과, 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, i-옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 티오디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 펜타에리스리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 및 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄 등으로부터 선택되는 1가 또는 다가 알코올의 에스테르,

(1-7) β-(5-tert-부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)프로피온산과 1가 또는 다가 알코올의 에스테르: β-(5-tert-부틸-4-히드록시-3-메틸페닐)프로피온산과, 메탄올, 에탄올, n-옥탄올, i-옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 티오디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 펜타에리스리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄, 및 3,9-비스[2-{3-(3-tert-부틸-4-히드록시-5-메틸페닐)프로피오닐옥시}-1,1-디메틸에틸]-2,4,8,10-테트라옥사스피로[5.5]운데칸 등으로부터 선택되는 1가 또는 다가 알코올의 에스테르,

(1-8) β-(3,5-디시클로헥실-4-히드록시페닐)프로피온산과 1가 또는 다가 알코올의 에스테르: β-(3,5-디시클로헥실-4-히드록시페닐)프로피온산과, 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 티오디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 펜타에리스리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 및 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄 등으로부터 선택되는 1가 또는 다가 알코올의 에스테르,

(1-9) 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐아세트산과 1가 또는 다가 알코올의 에스테르: 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐아세트산과 1가 또는 다가 알코올과, 메탄올, 에탄올, 옥탄올, 옥타데칸올, 1,6-헥산디올, 1,9-노난디올, 에틸렌글리콜, 1,2-프로판디올, 네오펜틸글리콜, 티오디에틸렌글리콜, 디에틸렌글리콜, 트리에틸렌글리콜, 펜타에리스리톨, 트리스(히드록시에틸)이소시아누레이트, N,N'-비스(히드록시에틸)옥사미드, 3-티아운데칸올, 3-티아펜타데칸올, 트리메틸헥산디올, 트리메틸올프로판, 및 4-히드록시메틸-1-포스파-2,6,7-트리옥사비시클로[2.2.2]옥탄으로부터 선택되는 1가 또는 다가 알코올의 에스테르,

(1-10) β-(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)프로피온산의 아미드: N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)헥사메틸렌디아미드, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)트리메틸렌디아미드, N,N'-비스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐프로피오닐)히드라지드, 및 N,N'-비스[2-(3-[3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐]프로피오닐옥시)에틸]옥사미드 등,

(1-11) 비타민류: α-토코페롤, β-토코페롤, γ-토코페롤, δ-토코페롤 및 이들의 혼합물, 토코트리에놀, 및 아스코르빈산 등,

(2) 인계 산화방지제: 이하의 포스포네이트류, 포스파이트류, 및 옥사포스파페난트렌류.

(2-1) 포스포네이트류: 디메틸-2,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디에틸-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질포스포네이트, 디옥타데실-5-tert-부틸-4-히드록시-3-메틸벤질포스포네이트, 테트라키스(2,4-디-tert-부틸페닐)-4,4'-비페닐렌디포스포네이트, 및 3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질포스폰산의 모노에틸에스테르의 칼슘염 등,

(2-2) 포스파이트류: 트리옥틸포스파이트, 트리라우릴포스파이트, 트리데실포스파이트, 옥틸디페닐포스파이트, 트리스(2,4-디-tert-부틸페닐)포스파이트, 트리페닐포스파이트, 트리스(부톡시에틸)포스파이트, 트리스(노닐페닐)포스파이트, 디스테아릴펜타에리스리톨디포스파이트, 테트라(트리데실)-1,1,3-트리스(2-메틸-5-tert-부틸-4-히드록시페닐)부탄디포스파이트, 테트라(C12∼C15 혼합 알킬)-4,4'-이소프로필리덴디페닐디포스파이트, 테트라(트리데실)-4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀)디포스파이트, 트리스(3,5-디-tert-부틸-4-히드록시페닐)포스파이트, 트리스(모노, 디 혼합 노닐페닐)포스파이트, 수소화-4,4'-이소프로필리덴디페놀폴리포스파이트,

비스(옥틸페닐)-비스[4,4'-부틸리덴비스(3-메틸-6-tert-부틸페놀)]-1,6-헥산디올디포스파이트, 페닐-4,4'-이소프로필리덴디페놀펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,4-디-tert-부틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 비스(2,6-디-tert-부틸-4-메틸페닐)펜타에리스리톨디포스파이트, 트리스[4,4'-이소프로필리덴비스(2-tert-부틸페놀)]포스파이트, 페닐디이소데실포스파이트, 디(노닐페닐)펜타에리스리톨디포스파이트), 트리스(1,3-디-스테아로일옥시이소프로필)포스파이트, 및 4,4'-이소프로필리덴비스(2-tert-부틸페놀)-디(노닐페닐)포스파이트 등,

(2-3) 옥사포스파페난트렌류: 9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 8-클로로-9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드, 및 8-t-부틸-9,10-디히드로-9-옥사-10-포스파페난트렌-10-옥사이드 등,

(3) 황계 산화방지제: 이하의 디알킬티오프로피오네이트류, 옥틸티오프로피온산과 다가 알코올의 에스테르, 라우릴티오프로피온산과 다가 알코올의 에스테르, 및 스테아릴티오프로피온산과 다가 알코올의 에스테르.

(3-1) 디알킬티오프로피오네이트류: 디라우릴티오디프로피오네이트, 디미리스틸티오디프로피오네이트, 및 디스테아릴티오디프로피오네이트 등,

(3-2) 옥틸티오프로피온산과 다가 알코올의 에스테르: 옥틸티오프로피온산과, 글리세린, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 및 트리스히드록시에틸이소시아누레이트 등으로부터 선택되는 다가 알코올의 에스테르,

(3-3) 라우릴티오프로피온산과 다가 알코올의 에스테르: 라우릴티오프로피온산과, 글리세린, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 및 트리스히드록시에틸이소시아누레이트의 에스테르,

(3-4) 스테아릴티오프로피온산과 다가 알코올의 에스테르: 스테아릴티오프로피온산과, 글리세린, 트리메틸올에탄, 트리메틸올프로판, 펜타에리스리톨, 및 트리스히드록시에틸이소시아누레이트 등으로부터 선택되는 다가 알코올의 에스테르,

(4) 아민계 산화방지제: N,N'-디-이소프로필-p-페닐렌디아민, N,N'-디-sec-부틸-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1,4-디메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-에틸-3-메틸펜틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(1-메틸헵틸)-p-페닐렌디아민, N,N'-디시클로헥실-p-페닐렌디아민, N,N'-디페닐-p-페닐렌디아민, N,N'-비스(2-나프틸)-p-페닐렌디아민, N-이소프로필-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1,3-디메틸부틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-(1-메틸헵틸)-N'-페닐-p-페닐렌디아민, N-시클로헥실-N'-페닐-p-페닐렌디아민, 4-(p-톨루엔설파모일)디페닐아민, N,N'-디메틸-N,N'-디-sec-부틸-p-페닐렌디아민, 디페닐아민, N-알릴디페닐아민, 4-이소프로폭시디페닐아민,

N-페닐-1-나프틸아민, N-(4-tert-옥틸페닐)-1-나프틸아민, N-페닐-2-나프틸아민, 옥틸화디페닐아민(예컨대, p,p'-디-tert-옥틸디페닐아민), 4-n-부틸아미노페놀, 4-부티릴아미노페놀, 4-노나노일아미노페놀, 4-도데카노일아미노페놀, 4-옥타데카노일아미노페놀, 비스(4-메톡시페닐)-아민, 2,6-디-tert-부틸-4-디메틸아미노메틸페놀, 2,4'-디아미노디페닐메탄, 4,4'-디아미노디페닐메탄, N,N,N',N'-테트라메틸-4,4'-디아미노디페닐메탄, 1,2-비스[(2-메틸페닐)아미노]에탄, 1,2-비스(페닐아미노)프로판, (o-톨릴)비구아니드, 비스[4-(1',3'-디메틸부틸)페닐]아민, tert-옥틸화N-페닐-1-나프틸아민,

모노- 및 디-알킬화tert-부틸-/tert-옥틸디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디-알킬화노닐디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디-알킬화도데실디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디-알킬화이소프로필/이소헥실디페닐아민의 혼합물, 모노- 및 디-알킬화tert-부틸디페닐아민의 혼합물, 2,3-디히드로-3,3-디메틸-4H-1,4-벤조티아진, 페노티아진, 모노- 및 디-알킬화tert-부틸/tert-옥틸페노티아진류의 혼합물, 모노- 및 디-알킬화tert-옥틸페놀티아진류의 혼합물, N-아릴페노티아진, N,N,N',N'-테트라페닐-1,4-디아미노부타-2-엔, N,N-비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리디-4-일)헥사메틸렌디아민, 비스(2,2,6,6-테트라메틸피페리디-4-일)세바케이트, 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-온, 및 2,2,6,6-테트라메틸피페리딘-4-올 등.

광 안정제는, 특별히 한정되는 것이 아니지만, 트리아졸계, 벤조페논계, 에스테르계, 아크릴레이트계, 니켈계, 트리아진계 및 옥사미드계 등의 자외선 흡수제, 및 힌더드 아민계 광 안정제로부터 선택될 수 있다. 이들은, 단독으로 사용하여도, 복수를 조합하여 사용하여도 좋다. 산화방지제의 구체예로서는, 이하의 (1)∼(7)의 것을 들 수 있다.

(1) 트리아졸류: 2-(2'-히드록시-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(2'-히드록시-4'-옥틸옥시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)-5-클로로벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-옥틸옥시카르보닐에틸)페닐)벤조트리아졸,

2-(3'-tert-부틸-5'-[2-(2-에틸헥실옥시)카르보닐에틸]-2'-히드록시페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-도데실-2'-히드록시-5'-메틸페닐)벤조트리아졸, 2-(3'-tert-부틸-2'-히드록시-5'-(2-이소옥틸옥시카르보닐에틸)페닐벤조트리아졸, 2,2'-메틸렌비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-6-벤조트리아졸-2-일페놀], 2-[3'-tert-부틸-5'-(2-메톡시카르보닐에틸)-2'-히드록시페닐]-2H-벤조트리아졸과 폴리에틸렌글리콜 300의 에스테르 교환 생성물, 하기 식 (12)로 표시되는 트리아졸 화합물,

(식중, R은, 3'-tert-부틸-4'-히드록시-5'-2H-벤조트리아졸-2-일페닐이다), 및 2-[2'-히드록시-3'-(α,α-디메틸벤질)-5'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페닐]벤조트리아졸; 2-[2'-히드록시-3'-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)-5'-(α,α-디메틸벤질)페닐]벤조트리아졸 등을 나타냄)

(2) 벤조페논계: 4-데실옥시, 4-벤질옥시, 4,2',4'-트리히드록시 및 2'-히드록시-4,4'-디메톡시 유도체류 등,

(3) 에스테르계: 4-tert-부틸페닐살리실레이트, 살리실산페닐, 살리실산옥틸페닐, 디벤조일레조르시놀, 비스(4-tert-부틸벤조일)레조르시놀, 벤조일레조르시놀, 2,4-디-tert-부틸페닐3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트, 헥사데실-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트, 옥타데실-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트, 및 2-메틸-4,6-디-tert-부틸페닐3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤조에이트 등,

(4) 아크릴레이트계: 에틸-α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 이소옥틸-α-시아노-β,β-디페닐아크릴레이트, 메틸-α-카르보메톡시신나메이트, 메틸-α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 부틸-α-시아노-β-메틸-p-메톡시신나메이트, 메틸-α-카르보메톡시-p-메톡시신나메이트 및 N-(β-카르보메톡시-β-시아노비닐)-2-메틸인돌린 등,

(5) 니켈계: n-부틸아민, 트리에탄올아민 및 N-시클로헥실디에탄올아민과 같은 추가 리간드를 갖거나 또는 갖지 않는, 1:1 또는 1:2 착체(예컨대 2,2'-티오비스[4-(1,1,3,3-테트라메틸부틸)페놀]의 니켈 착체), 니켈디부틸디티오카바메이트, 4-히드록시-3,5-디-tert-부틸벤질인산의 모노알킬에스테르(예컨대 메틸 또는 에틸에스테르)의 니켈염, 케톡심류의 니켈 착체(예컨대 2-히드록시-4-메틸페닐운데실케톡심의 니켈 착체), 및 추가 리간드를 갖는 또는 갖지 않는 1-페닐-4-라우로일-5-히드록시피라졸의 니켈 착체 등,

(6) 트리아진계: 2,4,6-트리스(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2,4-디히드록시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2,4-비스(2-히드록시-4-프로필옥시페닐)-6-(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-옥틸옥시페닐)-4,6-비스(4-메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-도데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-트리데실옥시페닐)-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-부틸옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진, 2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-옥틸옥시프로필옥시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸)-1,3,5-트리아진,

2-[2-히드록시-4-(2-히드록시-3-도데실옥시프로폭시)페닐]-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시-4-메톡시페닐)-4,6-디페닐-1,3,5-트리아진, 2,4,6-트리스[2-히드록시-4-(3-부톡시-2-히드록시프로폭시)페닐]-1,3,5-트리아진, 2-(2-히드록시페닐)-4-(4-메톡시페닐)-6-페닐-1,3,5-트리아진, 및 2-{2-히드록시-4-[3-(2-에틸헥실-1-옥시)-2-히드록시프로필옥시]페닐}-4,6-비스(2,4-디메틸페닐)-1,3,5-트리아진 등,

(7) 옥사미드계: 4,4'-디옥틸옥시옥사닐라이드, 2,2'-디에톡시옥사닐라이드, 2,2'-디옥틸옥시-5,5'-디-tert-부톡사닐라이드, 2,2'-디도데실옥시-5,5'-디-tert-부톡사닐라이드, 2-에톡시-2'-에틸옥사닐라이드, N,N'-비스(3-디메틸아미노프로필)옥사미드, 2-에톡시-5-tert-부틸-2'-에톡사닐라이드 및 이것과 2-에톡시-2'-에틸-5,4'-디-tert-부톡사닐라이드의 혼합물, o- 및 p-메톡시-2치환 옥사닐라이드의 혼합물, 및 o- 및 p-에톡시-2치환 옥사닐라이드의 혼합물 등,

(8) 힌더드 아민계: 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)숙시네이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)세바케이트, 비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)n-부틸-3,5-디-tert-부틸-4-히드록시벤질말로네이트, 1-(2-히드록시에틸)-2,2,6,6-테트라메틸-4-히드록시피페리딘과 호박산의 축합물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-tert-옥틸아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 직쇄 또는 환식 축합물, 트리스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)니트릴로트리아세테이트, 테트라키스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-1,2,3,4-부탄테트라카르복실레이트, 1,1'-(1,2-에탄디일)-비스(3,3,5,5-테트라메틸피페라지논), 4-벤조일-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘,

비스(1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-2-n-부틸-2-(2-히드록시-3,5-디-tert-부틸벤질)말로네이트, 3-n-옥틸-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)세바케이트, 비스(1-옥틸옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)숙시네이트, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-모르폴리노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 직쇄 또는 환식 축합물, 2-클로로-4,6-비스(4-n-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물, 2-클로로-4,6-디-(4-n-부틸아미노-1,2,2,6,6-펜타메틸피페리딜)-1,3,5-트리아진과 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄의 축합물,

8-아세틸-3-도데실-7,7,9,9-테트라메틸-1,3,8-트리아자스피로[4.5]데칸-2,4-디온, 3-도데실-1-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 3-도데실-1-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)피롤리딘-2,5-디온, 5-(2-에틸헥사노일)-옥시메틸-3,3,5-트리메틸-2-모르폴리논, 1-(2-히드록시-2-메틸프로필)-4-옥타데카노일옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘, 1,3,5-트리스(N-시클로헥실-N-(2,2,6,6-테트라메틸피페라진-3-온-4-일)아미노)-s-트리아진, 1,3,5-트리스(N-시클로헥실-N-(1,2,2,6,6-펜타메틸피페라진-3-온-4-일)아미노)-s-트리아진, 2,4-비스[(1-시클로헥실옥시-2,2,6,6-피페리딘-4-일)부틸아미노]-6-클로로-s-트리아진과 N,N'-비스(3-아미노프로필)에틸렌디아민)의 반응 생성물,

4-헥사데실옥시 및 4-스테아릴옥시-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 혼합물, N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민과 4-시클로헥실아미노-2,6-디클로로-1,3,5-트리아진의 축합물, 1,2-비스(3-아미노프로필아미노)에탄과 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진, 그 외에 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 축합물, 1,6-헥산디아민과 2,4,6-트리클로로-1,3,5-트리아진, 그 외에 N,N-디부틸아민과 4-부틸아미노-2,2,6,6-테트라메틸피페리딘의 축합물, N-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)-n-도데실숙신이미드, N-(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜)-n-도데실숙신이미드,

2-운데실-7,7,9,9-테트라메틸-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소-스피로[4.5]데칸; 5-(2-에틸헥사노일)옥시메틸-3,3,5-트리메틸-2-모르폴리논, 7,7,9,9-테트라메틸-2-시클로운데실-1-옥사-3,8-디아자-4-옥소스피로-[4,5]데칸과 에피클로로히드린의 반응 생성물, 1,1-비스(1,2,2,6,6-펜타메틸-4-피페리딜옥시카르보닐)-2-(4-메톡시페닐)에텐, N,N'-비스-포르밀-N,N'-비스(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)헥사메틸렌디아민, 4-메톡시메틸렌말론산과 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-히드록시피페리딘의 디에스테르, 폴리[메틸프로필-3-옥시-4-(2,2,6,6-테트라메틸-4-피페리딜)]실록산, 및 말레산 무수물 α-올레핀코폴리머와 2,2,6,6-테트라메틸-4-아미노피페리딘 또는 1,2,2,6,6-펜타메틸-4-아미노피페리딘의 반응 생성물 등.

에피술피드 화합물, 및 그 중합물 또는 경화물의 용도는, 특별히 한정되는 것이 아니라, 예컨대 전자 재료(애자류, 교류 변압기, 개폐기기 등의 주형(注型) 및 회로 유닛, 각종 부품의 패키지, IC·LED·반도체의 주변 재료[밀봉재, 렌즈재, 기판재, 다이본드재, 칩코트재, 적층판, 광파이버, 광도파로, 광필터, 전자 부품용의 접착제, 코트재, 시일재, 절연재, 포토레지스트, 캡슐화재, 포팅재, 광디스크의 광투과층이나 층간 절연층, 도광판, 반사 방지막 등], 발전기, 모터 등의 회전기 코일, 권선 함침, 프린트 배선 기판, 적층판, 절연 보드, 중형 애자류, 코일류, 커넥터, 터미널, 각종 케이스류, 전기 부품류 등), 도료(방식 도료, 메인터넌스, 선박 도장, 내식 라이닝, 자동차·가전제품용 프라이머, 음료·맥주캔, 외면 래커, 압출 튜브 도장, 일반 방식 도장, 메인터넌스 도장, 목공 제품용 래커, 자동차용 전착 프라이머, 그 외 공업용 전착 도장, 음료·맥주캔 내면 래커, 코일 코팅, 드럼·캔내면 도장, 내산 라이닝, 와이어 에나멜, 절연 도료, 자동차용 프라이머, 각종 금속 제품의 미장겸 방식 도장, 파이프 내외면 도장, 전기 부품 절연 도장 등),

복합 재료(화학 플랜트용 파이프·탱크류, 항공기재, 자동차 부재, 각종 스포츠 용품, 탄소섬유 복합 재료, 아리미드 섬유 복합 재료 등), 토목 건축 재료(바닥재, 포장재, 멤브레인, 미끄럼 방지겸 박층 포장, 콘크리트 프레이싱 조인트·라이징, 앵커 매립 접착, 프리캐스트 콘크리트 접합, 타일 접착, 콘크리트 구조물의 균열 보수, 대좌의 그라우트·레벨링, 상하 수도 시설의 방식·방수 도장, 탱크류의 내식 적층 라이닝, 철 구조물의 방식 도장, 건축물 외벽의 매스틱 도장 등), 접착제(금속·유리·도자기·시멘트 콘크리트·목재·플라스틱 등의 동종 또는 이종 재질의 접착제, 자동차·철도 차량·항공기 등의 조립용 접착제, 프리패브리케이션용 복합 패널 제조용 접착제 등: 1액형, 2액형, 시트 타입을 포함함), 항공기·자동차·플라스틱 성형의 치공구(프레스형, 스트레치드 다이, 매치드 다이 등 수지형, 진공 성형·블로우 성형용 몰드, 마스터 모델, 주물용 패턴, 적층 치공구, 각종 검사용 치공구 등), 개질제·안정제(섬유의 수지 가공, 폴리염화비닐용 안정제, 합성 고무에의 첨가제 등), 살충제(파리, 모기, 바퀴벌레 등의 유해한 해충에 대한 것),

약제(염증·알레르기성 질환[예컨대 전신성 염증 반응 증후군(SIRS), 아나필락시스 또는 아나필락시스양 반응, 알레르기성 혈관염, 간염, 신염, 신증, 췌염, 비염, 관절염, 염증성 안질환(예컨대 결막염 등), 염증성 장질환(예컨대 궤양성 대장염, 크론병, 호산구성 위장증 등), 뇌·순환기계 질환(예컨대 동맥 경화증, 혈전증, 허혈/재환류 장해, 재협착, 경색 등), 호흡기계 질환(예컨대 급성 호흡 궁박 증후군(ARDS), 천식, 알레르기성 기관지 폐아스페르길루스증 등), 피부 질환(예컨대 피부염(예컨대 아토피성 피부염, 건선, 접촉 피부염, 습진, 담마진, 소양증 등) 등), 자기 면역성 질환(예컨대 다발성 경화증, 만성 관절 류마티즘, 전신성 에리테마토데스, I형 당뇨병, 사구체신염, 쇼그렌 증후군 등), 이식 장기 거절 반응등], 대사·내분비계 질환[예컨대 당뇨병 등], 암질환[예컨대 악성 신생물(예컨대 백혈병, 고형암 및 암전이 등) 등], 감염증 또는 감염에 수반하는 질환[예컨대 바이러스성 질환(예컨대 후천성 면역 부전 증후군, SARS 등), 에이즈 치매증 등] 등에 대한 치료제 등), 제초제(아세틸보효소 A 카르복시라아제 저해제, 아세토젖산 합성 효소 저해제, 5-에놀피루빌시킴산-3-인산 합성 효소 저해제, 합성 옥신제, 광화학계 II 저해제, 프로토포르피리노겐옥시다아제 저해제, 피토인 디새튜라아제(desaturase) 저해제, 4-히드록시페닐피루빈산디옥시게나아제 저해제, VLCFA(초장쇄 지방산)합성 저해제 등),

고무의 개질제(가황제, 가황 촉진제 등), 향료(향료 비누, 샤워젤 또는 목욕용 젤, 샴푸, 린스 컨디셔너, 바디 데오도란트, 발한 억제제, 공기 방향제, 직물 처리용의 액체 또는 고체의 세제, 식기 또는 여러 가지 표면의 세제 조성물 또는 청정제 제품 또는 화장품, 세탁세제, 패브릭 유연제, 식품에의 풍미 부여 등) 등으로서 이용할 수 있다.

렌즈재의 예로서는, 광학기기용 렌즈, 자동차 램프용 렌즈, 안경 렌즈, CD·DVD 등의 픽업용 렌즈 및 프로젝터용 렌즈를 들 수 있다.

LED 밀봉재의 용도로서는, 특별히 한정되는 것이 아니라, 디스플레이, 전광 표시판, 신호기, 디스플레이의 백라이트(유기 EL 디스플레이, 휴대전화, 모바일 PC 등), 자동차의 내외장 조명, 일루미네이션, 조명 기구, 회중 전등 등, 넓은 분야로 전개할 수 있다.

실시예

이하에 본 실시형태를 구체적으로 설명한 실시예를 예시한다. 본 발명은 그 요지를 넘지 않는 한 이하의 실시예에 한정되는 것이 아니다.

<수산기가(HV)>

수산기가(HV)는, 하기 식 (13)에 의해 산출하였다.

HV(㎎/g)=1/MWPO×OHN×1000×MWPH (13)

여기서,

MWPO는 다가 수산기 화합물의 분자량,

OHN은 다가 수산기 화합물에 함유되는 수산기 수,

MWPH: 수산화칼륨의 분자량을 각각 나타낸다.

단, 다가 수산기 화합물이 복수종의 화합물의 혼합물이며, 명확한 분자량을 구할 수 없는 경우에는, 「JIS K1557-1: 2007 플라스틱-폴리우레탄 원료 폴리올 시험방법-제1부: 수산기가를 구하는 방법」에 의해 수산기가를 측정하였다.

<에폭시 당량(WPE)>

「JIS K7236: 2001(에폭시 수지의 에폭시 당량을 구하는 방법)」에 따라 에폭시 수지의 에폭시 당량을 측정하였다.

<혼합 지표 α의 산출>

혼합 지표 α는, 이하의 식 (1)에 의해 산출하였다.

혼합 지표 α=αt/αe (1)

여기서,

αt는, 티아화제에 포함되는, 에피술피드기의 생성에 이용될 수 있는 황 원자의 물질량(㏖),

αe는 에폭시 화합물에 포함되는 에폭시기의 물질량(㏖)을 각각 나타낸다.

<혼합 지표 β의 산출>

혼합 지표 β는, 이하의 식 (2)에 의해 산출하였다.

혼합 지표 β=βt/βo (2)

여기서,

βt는 티아화제의 질량(g),

βo는 다가 수산기 화합물의 질량(g)을 각각 나타낸다.

<혼합 지표 ε의 산출>

혼합 지표 ε는, 1가 수산기 화합물을 이용할 때의, 혼합 지표 β를 대신하는 혼합 지표이다. 혼합 지표 ε는, 이하의 식 (14)에 의해 산출하였다.

혼합 지표 ε=εt/εo (14)

여기서,

εt는 티아화제의 질량(g),

εo는 1가 수산기 화합물의 질량(g)을 각각 나타낸다.

<에폭시기 반응률과, 에피술피드기 수율의 산출: ¹H-NMR 측정>

¹H-NMR 측정은, 이하의 수순으로 행하였다.

(1) 샘플 병에, 10 ㎎의 샘플과, 20 ㎎의 내부 표준 물질을 계측하고, 클로로포름-d(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조)를 더 가하여, 전체량을 1 g으로 조정하였다.

· 내부 표준 물질: 1,1,2,2-테트라브로모에탄(도쿄카세이고교 주식회사 제조, 이하 「TBE」라고 함.)

(2) 상기 (1)의 용액을, 직경 5 ㎜φ의 NMR 튜브에 옮기고, 하기 조건으로, ¹H-NMR을 측정하였다.

푸리에 변환 핵자기 공명 장치: 니혼덴시 주식회사 제조「α-400형」

핵종: ¹H

적산 횟수: 200회

상기 측정 결과로부터, 이하의 수순으로, 에폭시기 반응률, 및 에피술피드기 수율을 산출하였다.

(3) ¹H-NMR 차트로부터, 에폭시기 유래 피크, 및 에피술피드기 유래 피크의 면적값을 산출하였다.

에폭시기 유래의 피크란, 에폭시기를 구성하는 탄화수소상의 하나의 수소에 유래하는 피크를 가리킨다. 다가 수산기 화합물, 생성되는 에피술피드기, 에피술피드 화합물의 중합물, 및 그 외 반응시에 첨가된 성분에 유래하는 피크와 중복되지 않는 피크가 적절하게 선택된다.

에피술피드기 유래의 피크란, 에피술피드기를 구성하는 탄화수소상의 하나의 수소에 유래하는 피크를 가리킨다. 에폭시기, 다가 수산기 화합물, 에피술피드 화합물의 중합물, 및 그 외 반응시에 첨가된 성분에 유래하는 피크와 중복되지 않는 피크가 적절하게 선택된다.

(4) ¹H-NMR 차트로부터, 내부 표준 물질 유래 피크의 면적값을 산출하였다.

(5) 상기 (3) 및 (4)에서 산출한 면적값을, 하기 식에 대입하여, 에폭시기 반응률(%), 및 에피술피드기 수율(%)을 구하였다.

에폭시기 반응률(%)=100-EPOA×(TBEG/TBEM)×(EPOM/EPOG)×(REAG/SAMG)×(2/TBEA)×100

에피술피드기 수율(%)=EPIA×(TBEG/TBEM)×(EPIM/EPIG)×(REAG/SAMG)×(2/TBEA)×100

EPOA: 에폭시기 유래 피크의 면적값

EPIA: 에피술피드기 유래 피크의 면적값

TBEA: TEB의 2개의 수소에 유래하는 피크의 면적값

EPOG: 반응액을 조제할 때에 사용한 에폭시 화합물의 질량(g)

EPOM: 반응액을 조제할 때에 사용한 에폭시 화합물의 분자량

EPIG: 반응액을 조제했을 때에 사용한 에폭시 화합물의 에폭시기 반응률이 100%인 경우에 얻어지는 에피술피드 화합물의 질량(g)

EPIM: 반응에 의해 얻어지는 에피술피드 화합물의 분자량

REAG: 반응액의 질량(g)

TBEG: ¹H-NMR 측정을 행하는 용액을 조제할 때에, 사용된 TBE의 질량(g)(본 실시예에서는 20 ㎎)

TBEM: TBE의 분자량

SAMG: ¹H-NMR 측정을 행하는 용액을 조제할 때에, 사용된 샘플의 질량(g)(본 실시예에서는 10 ㎎)

에폭시 화합물중의 에폭시기를 구성하는 탄화수소상의 수소가 ¹H-NMR 차트에 있어서 동일한 피크로서 관측되는 경우, 또는 얻어지는 에피술피드 화합물중의 에피술피드기를 구성하는 탄화수소상의 수소가 ¹H-NMR의 측정 차트에서 동일한 피크로서 관측되는 경우에는, (5)의 수순을 이하와 같이 변경함으로써 산출이 가능하다.

(5-2) 상기 (3) 및 (4)에서 산출한 면적값을, 하기 식에 대입하여, 에폭시기 반응률(%), 및 에피술피드기 수율(%)을 구하였다.

에폭시기 반응률(%)=100-{EPOA/(에폭시기 유래 피크를 구성하고 있는 수소의 개수)}×(TBEG/TBEM)×(EPOM/EPOG)×(REAG/SAMG)×(2/TBEA)×100

에피술피드기 수율(%)={EPIA/(에피술피드기 유래 피크를 구성하고 있는 수소의 개수)}×(TBEG/TBEM)×(EPIM/EPIG)×(REAG/SAMG)×(2/TBEA)×100

에피술피드기 수율은, 80% 이상인 경우에 양호로 판단하고, 90% 이상인 경우에 특히 양호로 판단하며, 이들 이외의 경우에 불량으로 판단하였다.

<에폭시 화합물 함유량과, 에피술피드 화합물 함유량의 산출: ¹H-NMR 측정>

¹H-NMR 측정은, 이하의 수순으로 행하였다.

(1) 샘플 병에, 10 ㎎의 샘플과, 20 ㎎의 내부 표준 물질을 계측하고, 클로로포름-d(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조)를 더 가하여, 전체량을 1 g으로 조정하였다.

· 내부 표준 물질: TBE

(2) 상기 (1)의 용액을, 직경 5 ㎜φ의 NMR 튜브에 옮기고, 하기 조건으로, ¹H-NMR을 측정하였다.

푸리에 변환 핵자기 공명 장치: 니혼덴시 주식회사 제조「α-400형」

핵종: ¹H

적산 횟수: 200 회

상기 측정 결과로부터, 이하의 수순으로, 에폭시 화합물 함유량과, 에피술피드 화합물 함유량을 산출하였다.

(3) ¹H-NMR 차트로부터, 에폭시기 유래 피크, 및 에피술피드기 유래 피크의 면적값을 산출하였다.

에폭시기 유래의 피크란, 에폭시기를 구성하는 탄화수소상의 하나의 수소에 유래하는 피크를 가리키고, 다가 수산기 화합물, 생성되는 에피술피드기, 에피술피드 화합물의 중합물, 및 그 외 반응시에 첨가된 성분에 유래하는 피크와 중복되지 않는 피크가 적절하게 선택된다.

에피술피드기 유래의 피크란, 에피술피드기를 구성하는 탄화수소상의 하나의 수소에 유래하는 피크를 가리키고, 에폭시기, 다가 수산기 화합물, 에피술피드 화합물의 중합물, 및 그 외 반응시에 첨가된 성분에 유래하는 피크와 중복되지 않는 피크가 적절하게 선택된다.

(4) ¹H-NMR 차트로부터, 내부 표준 물질 유래 피크의 면적값을 산출하였다.

(5) 상기 (3) 및 (4)에서 산출한 면적값을, 하기 식에 대입하여, 에피술피드 화합물 함유율(%)을 구하였다.

에폭시 화합물 함유량(%)=EPOA×(TBEG/TBEM)×(EPOM/SAMG)×(2/TBEA)×100

EPOA: 에폭시기 유래 피크의 면적값

TBEA: TBE의 2개의 수소에 유래하는 피크의 면적값

EPOM: 반응액을 조제할 때에 사용한 에폭시 화합물의 분자량

TBEG: ¹H-NMR 측정을 행하는 용액을 조제할 때에, 사용된 TBE의 질량(g)(본 실시예에서는 20 ㎎)

TBEM: TBE의 분자량

SAMG: ¹H-NMR 측정을 행하는 용액을 조제할 때에, 사용된 샘플의 질량(g)(본 실시예에서는 10 ㎎)

에폭시 화합물중의 에폭시기를 구성하는 탄화수소상의 수소가 ¹H-NMR 차트에 있어서 동일한 피크로서 관측되는 경우에는, (5)의 수순을 이하와 같이 변경함으로써 산출이 가능하다.

(5-2) 상기 (3) 및 (4)에서 산출한 면적값을, 하기 식에 대입하여, 에폭시 화합물 함유량(%)을 구하였다.

에폭시 화합물 함유량(%)={EPOA/(에폭시기 유래 피크를 구성하고 있는 수소의 개수)}×(TBEG/TBEM)×(EPOM/SAMG)×(2/TBEA)×100

에피술피드 화합물 함유량(%)=EPIA×(TBEG/TBEM)×(EPIM/SAMG)×(2/TBEA)×100

EPIA: 에피술피드기 유래 피크의 면적값

TBEA: TBE의 2개의 수소에 유래하는 피크의 면적값

EPIM: 반응에 의해 얻어지는 에피술피드 화합물의 분자량

TBEG: ¹H-NMR 측정을 행하는 용액을 조제할 때에, 사용된 TBE의 질량(g)(본 실시예에서는 20 ㎎)

TBEM: TBE의 분자량

SAMG: ¹H-NMR 측정을 행하는 용액을 조제할 때에, 사용된 샘플의 질량(g)(본 실시예에서는 10 ㎎)

에피술피드 화합물중의 에피술피드기를 구성하는 탄화수소상의 수소가 ¹H-NMR 차트에서 동일한 피크로서 관측되는 경우에는, (5)의 수순을 이하와 같이 변경함으로써 산출이 가능하다.

(5-3) 상기 (3) 및 (4)에서 산출한 면적값을, 하기 식에 대입하여, 에피술피드 화합물 함유량(%)을 구하였다.

에피술피드 화합물 함유량(%)={EPIA/(에피술피드기 유래 피크를 구성하고 있는 수소의 개수)}×(TBEG/TBEM)×(EPIM/SAMG)×(2/TBEA)×100

<반응 시간>

반응 시간은, 제조에 이용되는 모든 화합물의 혼합이 완료된 시점을 개시점으로 하고, 개시점으로부터 원하는 에폭시기 반응률까지 도달하기까지의 경과 시간이다.

반응 시간은, 24시간 이내의 경우에 양호로 판단하고, 6시간 이내의 경우에 특히 양호로 판단하며, 이들 이외의 경우에 불량으로 판단하였다.

<종합 판정>

에피술피드기 수율, 및 반응 시간에 관해서, 양쪽 모두가 특히 양호로 판단된 경우, 어느 한 쪽이 특히 양호로 판단되고, 한 쪽이 양호로 판단된 경우, 및 양쪽 모두가 양호로 판단된 경우에, 종합 판정을 합격으로 하였다. 그 이외의 경우에 대해서는, 모두 불합격으로 하였다.

<저장 안정성>

반응 생성물의 일부를, 23℃로 설정된 항온기에 넣고, 1년 유지한 후, 에피술피드 화합물 함유량을 측정하였다. 측정 결과로부터, 이하의 식을 이용하여 변질률을 산출하였다.

변질률(%)={1-(1년 유지 후의 에피술피드 화합물 함유량)/(유지 전의 에피술피드 화합물 함유량)}×100

저장 안정성은, 변질률이 20% 이하인 경우에 양호로 판단하고, 10% 이하인 경우 특히 양호로 판단하며, 이들 이외의 경우에 불량으로 판단하였다.

<재생 티아화제의 순도 측정>

재생 티아화제의 순도는, 이하에 기재된 방법에 따라 측정하였다.

「JIS K8635: 2008(티오요소(시약))」

「JIS K9000: 2008(티오시안산암모늄(시약))」

「JIS K9001: 2008(티오시안산칼륨(시약))」

「JIS K9002: 2008(티오시안산나트륨(시약))」

실시예 및 비교예에서 사용한 원재료를 이하의 (1)∼(73)에 나타낸다.

(다가 수산기 화합물)

(1) 다가 수산기 화합물 A: 에틸렌글리콜(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「EG」라고 함.)

· 수산기가(HV): 1808 ㎎/g

(2) 다가 수산기 화합물 B: 1,2-프로필렌글리콜(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「12PG」라고 함.)

· 수산기가(HV): 1475 ㎎/g

(3) 다가 수산기 화합물 C: 1,3-프로필렌글리콜(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「13PG」라고 함.)

· 수산기가(HV): 1475 ㎎/g

(4) 다가 수산기 화합물 D: 1,2-부탄디올(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「12BD」라고 함.)

· 수산기가(HV): 1245 ㎎/g

(5) 다가 수산기 화합물 E: 1,3-부탄디올(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「13BD」라고 함.)

· 수산기가(HV): 1245 ㎎/g

(6) 다가 수산기 화합물 F: 1,4-부탄디올(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「14BD」라고 함.)

· 수산기가(HV): 1245 ㎎/g

(7) 다가 수산기 화합물 G: 1,2-펜탄디올(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「12PD」라고 함.)

· 수산기가(HV): 1078 ㎎/g

(8) 다가 수산기 화합물 H: 1,2-헥산디올(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「12HD」라고 함.)

· 수산기가(HV): 950 ㎎/g

(9) 다가 수산기 화합물 I: 1,2-옥탄디올(Aldrich사 제조, 이하, 「12OD」라고 함.)

· 수산기가(HV): 767 ㎎/g

(10) 다가 수산기 화합물 J: 글리세롤(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「GL」라고 함.)

· 수산기가(HV): 1828 ㎎/g

(11) 다가 수산기 화합물 K: meso-에리스리톨(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「ETT」라고 함.)

· 수산기가(HV): 1838 ㎎/g

(12) 다가 수산기 화합물 L: 크실리톨(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「XT」라고 함.)

· 수산기가(HV): 1844 ㎎/g

(13) 다가 수산기 화합물 M: D-만니톨(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「DMT」라고 함.)

· 수산기가(HV): 1848 ㎎/g

(14) 다가 수산기 화합물 M: 볼레미톨(Aldrich사 제조, 이하, 「VLT」라고 함.)

· 수산기가(HV): 1851 ㎎/g

(15) 다가 수산기 화합물 N: (D)-글루코오스(와코쥰야쿠고교주식회사, 이하, 「DLC」라고 함.)

· 수산기가(HV): 1557 ㎎/g

(16) 다가 수산기 화합물 O: 수크로오스(와코쥰야쿠고교주식회사, 이하, 「SCR」라고 함.)

· 수산기가(HV): 1311 ㎎/g

(17) 다가 수산기 화합물 P: 디에틸렌글리콜(와코쥰야쿠 주식회사 제조, 이하, 「DEG」라고 함.)

· 수산기가(HV): 1057 ㎎/g

(18) 다가 수산기 화합물 Q: 트리에틸렌글리콜(와코쥰야쿠 주식회사 제조, 이하, 「TEG」라고 함.)

· 수산기가(HV): 747 ㎎/g

(19) 다가 수산기 화합물 R: 테트라에틸렌글리콜(와코쥰야쿠 주식회사 제조, 이하, 「TEEG」라고 함.)

· 수산기가(HV): 578 ㎎/g

(20) 다가 수산기 화합물 S: 펜타에틸렌글리콜(와코쥰야쿠 주식회사 제조, 이하, 「PEEG」라고 함.)

· 수산기가(HV): 471 ㎎/g

(21) 다가 수산기 화합물 T: 헥사에틸렌글리콜(와코쥰야쿠 주식회사 제조, 이하, 「HEEG」라고 함.)

· 수산기가(HV): 397 ㎎/g

(22) 다가 수산기 화합물 U: 옥타에틸렌글리콜(Aldrich사 제조, 이하, 「OCEG」라고 함.)

· 수산기가(HV): 303 ㎎/g

(23) 다가 수산기 화합물 V: 도데카에틸렌글리콜(Aldrich사 제조, 이하, 「DDEG」라고 함.)

· 수산기가(HV): 205 ㎎/g

(24) 다가 수산기 화합물 W: 폴리에틸렌글리콜 200(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「PEG200」라고 함.)

· 수산기가(HV): 561 ㎎/g

(25) 다가 수산기 화합물 X: 폴리에틸렌글리콜 300(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「PEG300」라고 함.)

· 수산기가 (HV): 374 ㎎/g

(26) 다가 수산기 화합물 Y: 폴리에틸렌글리콜 400(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「PEG400」라고 함.)

· 수산기가(HV): 281 ㎎/g

(27) 다가 수산기 화합물 Z: 메탄디올 수용액(이하, 「MEOS」라고 함.)

10% 포름알데히드 수용액(와코쥰야쿠 주식회사 제조)을 물로 희석하고, 메탄디올을 포함하는 5% 포름알데히드 수용액을 조정한, 메탄디올의 농도는 4%였다.

· 수산기가(HV): 2336 ㎎/g(메탄디올로서)

(에폭시 화합물)

(28) 에폭시 화합물 A: 페닐글리시딜에테르(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「PGE」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 150 g/eq.

(29) 에폭시 화합물 B: 에틸렌옥사이드(Aldrich사 제조, 이하, 「EO」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 44 g/eq.

(30) 에폭시 화합물 C: 프로필렌옥사이드(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「PO」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 58 g/eq.

(31) 에폭시 화합물 D: 1,2-에폭시부탄(도쿄카세이고교 주식회사 제조, 이하, 「12EB」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 72 g/eq.

(32) 에폭시 화합물 E: 1,2-에폭시펜탄(도쿄카세이고교 주식회사 제조, 이하, 「12EP」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 86 g/eq.

(33) 에폭시 화합물 F: 1,2-에폭시헥산(도쿄카세이고교 주식회사 제조, 이하, 「12EH」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 100 g/eq.

(34) 에폭시 화합물 G: 1,2-에폭시헵탄(도쿄카세이고교 주식회사 제조, 이하, 「12EHP」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 114 g/eq.

(35) 에폭시 화합물 H: 1,2-에폭시옥탄(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「12EO」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 128 g/eq.

(36) 에폭시 화합물 I: 1,2-에폭시데칸(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「12ED」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 156 g/eq.

(37) 에폭시 화합물 J: 1,2-에폭시도데칸(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「12EDD」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 184 g/eq.

(38) 에폭시 화합물 K: 1,2-에폭시테트라데칸(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「12ETD」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 212 g/eq.

(39) 에폭시 화합물 L: 1,2-에폭시헥사데칸(도쿄카세이고교 주식회사 제조, 이하, 「12EHD」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 240 g/eq.

(40) 에폭시 화합물 M: 1,2-에폭시옥타데칸(도쿄카세이고교 주식회사 제조, 이하, 「12EOD」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 268 g/eq.

(41) 에폭시 화합물 N: 1,2-에폭시에이코산(도쿄카세이고교 주식회사 제조, 이하, 「12EEC」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 297 g/eq.

(42) 에폭시 화합물 O: 비스페놀 A형 에폭시 화합물(이하, 「Bis-A-1」이라고 함.)

· 상품명: 아사히카세이에폭시 주식회사 제조, 「AER」

· 에폭시 당량(WPE): 189 g/eq.

(43) 에폭시 화합물 P: 수소 첨가 비스페놀 A형 에폭시 화합물(이하, 「수소 첨가 Bis-A」라고 함.)

· 상품명: 재팬에폭시레진사 제조, 「YX8000」

· 에폭시 당량(WPE): 205 g/eq.

(44) 에폭시 화합물 Q: 비스페놀 A형 에폭시 화합물(이하, 「Bis-A-2」라고 함.)

· 상품명: 아사히카세이에폭시 주식회사 제조, 「AER」

· 에폭시 당량(WPE): 480 g/eq.

(45) 에폭시 화합물 R: 비스페놀 A형 에폭시 화합물(이하, 「Bis-A-3」라고 함.)

· 상품명: 아사히카세이에폭시 주식회사 제조, 「AER」

· 에폭시 당량(WPE): 560 g/eq.

(46) 에폭시 화합물 S: 비스페놀 A형 에폭시 화합물(이하, 「Bis-A-4」라고 함.)

· 상품명: 아사히카세이에폭시 주식회사 제조, 「AER」

· 에폭시 당량(WPE): 650 g/eq.

(47) 에폭시 화합물 T: 시클로펜텐옥사이드(Aldrich사 제조, 이하, 「C5O」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 84 g/eq.

(48) 에폭시 화합물 U: 시클로헥센옥사이드(Aldrich사 제조, 이하, 「C6O」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 98 g/eq.

(49) 에폭시 화합물 V: 시클로헵텐옥사이드(Aldrich사 제조, 이하, 「C7O」이라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 112 g/eq.

(50) 에폭시 화합물 W: 시클로옥텐옥사이드(Aldrich사 제조, 이하, 「C8O」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 126 g/eq.

(51) 에폭시 화합물 X: 지환식 에폭시 화합물(이하, 「CEL」이라고 함.)

· 상품명: 다이셀카가쿠고교 주식회사, 「셀록사이드 2021P」

· 에폭시 당량(WPE): 131 g/eq.

(52) 에폭시 화합물 Y: 비스(2,3-에폭시프로필)디술피드(이하, 「BEDS」라고 함.)

일본 특허 공개 제2002-194083호에 기재된 방법에 따라 BEDS를 합성하였다.

· 에폭시 당량(WPE): 91 g/eq.

(53) 에폭시 화합물 Z: 1,3-비스(3-글리시독시프로필)-1,1,3,3-테트라메틸디실록산(이하, 「BGTD」라고 함.)

· 상품명: 신에츠카가쿠고교 주식회사, 「LS-7970」

· 에폭시 당량(WPE): 182 g/eq.

(54) 에폭시 화합물 AA: 비스[2-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸]테트라메틸디실록산(이하, 「BCTD」라고 함.)

· 상품명: Gelest, Inc., 「SIB1092.0」

· 에폭시 당량(WPE): 192 g/eq.

(55) 에폭시 화합물 AB: 1,3,5,7-테트라-(3-글리시독시프로필)테트라메틸시클로테트라실록산(이하, 「TGCS」라고 함.)

Euro. Polym. J. 2010, 46, 1545. 기재의 방법에 따라, TGCS를 합성하였다.

· 에폭시 당량(WPE): 174 g/eq.

(56) 에폭시 화합물 AC: 1,3,5,7-테트라-[2-(3,4-에폭시시클로헥실에틸)]테트라메틸시클로테트라실록산(이하, 「TCCS」라고 함.)

일본 특허 공개 제2000-103859호에 기재된 방법에 따라, TCCS를 합성하였다.

· 에폭시 당량(WPE): 184 g/eq.

(57) 에폭시 화합물 AD: 부타디엔모노옥사이드(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「BDMO」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 70 g/eq.

(58) 에폭시 화합물 AE: 1,2-에폭시-5-헥센(와코쥰야쿠 주식회사 제조, 이하, 「EPHE」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 98 g/eq.

(59) 에폭시 화합물 AF: 알릴글리시딜에테르(와코쥰야쿠 주식회사 제조, 이하, 「AGE」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 114 g/eq.

(60) 에폭시 화합물 AG: 1,2-에폭시-4-비닐시클로헥산(Aldrich사 제조, 이하, 「EVCH」라고 함.)

· 에폭시 당량(WPE): 124 g/eq.

(61) 에폭시 화합물 AH: 글리시딜메타크릴레이트(와코쥰야쿠 주식회사 제조, 이하, 「GLMT」라고 함.)

· 에폭시 당량: 142 g/eq.

(티아화제)

(62) 티아화제 A: 티오요소(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「TU」라고 함.)

(63) 티아화제 B: 티오시안산칼륨(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「TCK」라고 함.)

(64) 티아화제 C: 티오시안산나트륨(Aldrich사 제조, 이하, 「TCN」이라고 함.)

(65) 티아화제 D: 티오시안산암모늄(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「TCA」라고 함.)

(그 외)

(66) 1가 수산기 화합물 A: 메탄올(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「MN」이라고 함.)

(67) 1가 수산기 화합물 B: 초순수(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「SW」라고 함.)

(68) 첨가 화합물 A: 톨루엔(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「TOL」이라고 함.)

(69) 첨가 화합물 B: 아세토니트릴(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「AN」이라고 함.)

(70) 첨가 화합물 C: 테트라히드로푸란(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「THF」라고 함.)

(71) 비극성 용매 A: n-헥산(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「NHX」라고 함.)

(72) 비극성 용매 B: 디에틸에테르(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하, 「DEE」라고 함.)

(73) 비극성 용매 C: 아세트산에틸(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조, 이하 「ACET」라고 함.)

(실시예 1)

에피술피드 화합물을, 이하의 수순으로 제조하였다.

(1) 준비: 마그네틱스터러상에, 투입식 냉각 가열 유닛이 부착된 워터 배스를 배치하고, 거기에 물 및 교반자를 넣었다. 투입식 냉각 가열 유닛을 기동시켜, 물의 온도가 20℃가 되도록 설정하였다.

(2) 표 1의 조성 비율에 따라, 25℃의 분위기하에서, EG(다가 수산기 화합물), 및 TU(티아화제)를, 교반자를 투입한 플라스크에 넣고 혼합 교반하여, 티아화제가 용해한 균일한 용액을 얻었다.

(3) PGE(에폭시 화합물)를, (2)의 용액에 첨가하여, 혼합 교반하였다.

(4) 이 실시예에서의, 혼합 지표 α1, β1을, 표 1에 나타냈다.

(5) 전술한 방법에 따라, 에폭시기 반응률, 및 에피술피드기 수율을 측정하였다.

(6) (3)의 에폭시 화합물을 첨가한 시점을 개시점으로 하고, 원하는 에폭시기 반응률에 도달한 시점을 종료점으로 하여, 그 사이에 경과한 시간을 반응 시간으로 하였다.

전술한 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조한 결과, 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 86%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 2)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 93%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 3)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 91%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 4)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 95%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 5)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 6)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 95%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 7)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 8)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 93%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 9)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 3시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 10)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 20시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 80%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 11)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 7시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 89%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 12)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 12시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 85%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 13)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 12시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 83%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 14)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 15시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 83%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 15)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 19시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 82%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 16)

표 1의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β에 더하여 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 20시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 82%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 17)

표 1의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β에 더하여 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 23시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 80%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 18)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 8시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 86%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 19)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 13시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 83%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 20)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 15시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 81%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 21)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 22)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 1시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 86%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 23)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 1시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 80%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 24)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 3시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 95%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 25)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 8시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 89%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 26)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 17시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 88%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 27)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 15시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 97%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 28)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 12시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 96%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 29)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 3시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 96%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 30)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 87%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 31)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 90%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 32)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 90%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 33)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 3시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 95%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 34)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 8시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 96%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 35)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 15시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 97%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 36)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 1시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 37)

투입식 냉각 가열 유닛 및 워터 배스를, 오일 및 스터러가 들어간 오일 배스로 변경하고, 오일의 설정 온도를 80℃로 한 것 이외는, 상기 실시예 1과 같은 방법에 의해, 표 1의 조성 비율에 따라 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 1시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 87%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 38)

표 1의 조성 비율에 따라, 투입식 냉각 가열 유닛 및 워터 배스를, 오일 및 스터러가 들어간 오일 배스로 변경하고 설정 온도를 100℃로 한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 1시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 83%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 39)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 6시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 83%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 40)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 6시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 87%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 41)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 87%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 42)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 3시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 86%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 43)

표 1의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 4에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 3시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 44)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 91%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 45)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 1시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 94%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 46)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 3시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 47)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 95%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 48)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 91%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 49)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 94%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 50)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 94%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 51)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 3시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 93%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 52)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 94%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 53)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 94%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 54)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 6시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 90%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 55)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 5시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 88%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 56)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 6시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 83%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 57)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 87%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 58)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 88%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 59)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 87%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 60)

표 2의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β에 더하여 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 6시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 94%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 61)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 5시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 90%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 62)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 5시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 91%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 63)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 5시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 90%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 64)

표 2의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β에 더하여 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 65)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 12시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 83%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 66)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 8시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 91%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 67)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 18시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 81%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 68)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 22시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 84%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 69)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 15시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 93%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 70)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 94%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 71)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 1시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 96%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 72)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 15시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 90%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 73)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 1시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 95%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 74)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 18시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 90%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 75)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 83%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 76)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 77)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 1시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 94%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 78)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 20시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 91%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 79)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 80)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 9시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 88%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 81)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 12시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 85%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 82)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 12시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 85%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 83)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 16시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 82%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 84)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 20시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 82%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 85)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 23시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 80%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 86)

표 2의 조성 비율에 따라, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 5에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 22시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 81%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(비교예 1)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 32시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 72%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 2)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 150시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 69%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 3)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 60%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 4)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 130시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 74%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 5)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 53%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다. 본 비교예에서는, 티오요소가 반응액중에 미용해인 채 잔류하고 있는 것이 확인되었다.

(비교예 6)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 상기 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 400시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 76%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 7)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용하여, 투입식 냉각 가열 유닛 및 워터 배스를 오일 및 스터러가 들어간 오일 배스로 변경하여, 오일의 설정 온도를 100℃로 한 것 이외는, 상기 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 8시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 58%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 8)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 25시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 62%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 9)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 30시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 55%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 동시에 불량이기 때문에, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 10)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 28시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 50%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 11)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 33시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 57%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 12)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 40시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 60%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 13)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 28시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 54%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 14)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 30시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 54%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 15)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 32시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 58%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 16)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 29시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 52%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 17)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 34시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 55%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 18)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 상기 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 40시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 57%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 19)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 26시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 49%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 20)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 28시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 50%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 21)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 55시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 60%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 22)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 60시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 62%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 23)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 17시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 62%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 24)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 12시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 53%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 25)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용하여, 투입식 냉각 가열 유닛 및 워터 배스를, 오일 및 스터러가 들어간 오일 배스로 변경하여, 설정 온도를 80℃로 한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 8시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 66%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 26)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 15시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 62%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 27)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 100시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 66%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 28)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 30시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 60%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 29)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 35시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 55%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 30)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 60시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 50%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 31)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 48시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 58%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 32)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 90시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 52%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 33)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 84시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 55%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 34)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 76시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 60%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 35)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 5시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 63%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 36)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 7시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 56%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 37)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 48시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 50%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 38)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 8시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 52%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 39)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 38시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 50%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 반응 시간, 및 에피술피드기 수율이, 동시에 불량이기 때문에, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 40)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 10시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 52%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 41)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 16시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 60%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 42)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 8시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 54%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 43)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 60시간이기 때문에, 반응 시간은 불량으로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 44%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

(비교예 44)

표 3의 조성 비율에 따라, 혼합 지표 β 대신에 혼합 지표 ε을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 6에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 12시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 52%이기 때문에, 불량으로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 불합격으로 하였다.

표 1∼6에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에 따른 (A) 2개 이상의 수산기를 갖는 다가 수산기 화합물의 존재하, (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 (C) 티아화제와의 반응에 의해 티아화하는 공정을 구비하는, 에피술피드 화합물을 제조하는 방법은, 반응 시간이 짧고, 에피술피드기 수율이 높으며, 금속 촉매 등을 이용하지 않는 환경 부하가 작은, 우수한 방법인 것이 확인되었다. 이것에 대하여, 1개의 수산기를 갖는 알코올, 또는 물의 존재하에서 반응을 실시한 비교예에 의하면, 에피술피드기의 수율이 충분하지 않고, 반응 시간도 긴 경우가 많았다.

(실시예 87)

실시예 1의 반응 종료 후의 반응액으로부터, 이하의 수순으로 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다.

(1) 반응액에 NHX(비극성 용매) 및 SW(수산기 화합물)을 가하여, 혼합 교반한 후, 교반을 멈추고, 에피술피드 화합물을 함유하는 NHX층과, SW층이 층 분리할 때까지 정치하였다.

(2) NHX층만을 취출하였다.

(3) 상기 (2)에서 얻어진 NHX층에 포화 식염수를 가하여, 혼합 교반한 후, 교반을 멈추고, NHX층과, 포화 식염수층이, 층 분리할 때까지 정치하여, NHX층만을 취출하였다.

(4) 상기 (3)에서 얻어진 NHX층에 무수 황산마그네슘(와코쥰야쿠 주식회사 제조)을 가하여, 혼합 교반하고, 여과에 의해 무수 황산마그네슘을 제거하여, NHX층을 얻었다.

(5) 상기 (4)에서 얻어진 NHX층에 함유되는 저비점 화합물(NHX를 포함함)을, 회전식 증발기를 이용하여 증류 제거하고, 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 얻었다.

또한, 상기 (3) 및 (4)의 조작은, (2)에서 얻어진 NHX층에 함유되는 저비점 화합물(NHX를 포함함)을, 회전식 증발기를 이용하여 증류 제거할 때, 물이 증류 제거될 때까지의 시간을 단축하기 위해 행한 조작이며, 필요가 없는 경우에는, (3), 및 (4)의 조작을 생략할 수 있다.

(6) 전술한 방법에 따라, 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정하였다. 전술한 방법에 의해 반응 생성물의 저장 안정성을 평가한 결과, 변질률은 18%이며, 양호로 판단하였다.

(실시예 88∼146)

실시예 2∼86에서 각각에서 얻어진 반응액을 이용한 것 이외는, 실시예 87과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물의 저장 안정성을 평가한 결과를 표 7에 나타낸다.

실시예 2∼86에서 각각에서 얻어진 반응액, 및 표 7에 나타내는 비극성 용매를 이용한 것 이외는, 실시예 87과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물의 저장 안정성을 평가한 결과를 표 7에 나타낸다.

(비교예 45∼78)

비교예 1∼44에서 각각 얻어진 반응액을 이용한 것 이외는, 실시예 87과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물의 저장 안정성을 평가한 결과를 표 8에 나타낸다.

실시예 1∼44에서 각각에서 얻어진 반응액, 및 표 8에 나타내는 비극성 용매를 이용한 것 이외는, 실시예 87과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물의 저장 안정성을 평가한 결과를 표 8에 나타낸다.

(실시예 148)

실시예 39의 반응 종료 후의 반응액을, 신실험과학강좌(마루젠 주식회사) 및 화학실험 매뉴얼(기호도슛판 주식회사)에 예시되어 있는 방법을 참고로, 증류함으로써, 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다.

증류 조작의 조건으로서는, 상압, 감압, 가압이어도 좋고, 상기 압력 조건하, 에피술피드 화합물의 비점을 초과하는 온도로 하면 좋다. 예컨대 본 실시예에서는, 상압하 60℃의 조건, 및 20 kPa하, 20℃의 조건을 들 수 있다. 증류 후에 얻어지는 반응 생성물의 수량(收量)을 높이기 위해서는, 증류를 저온에서 행하는 것이 바람직하다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 149)

실시예 40의 반응 종료 후의 반응액을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 150)

실시예 41의 반응 종료의 반응액을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 151)

실시예 87의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 152)

실시예 107의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 153)

실시예 108의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 154)

실시예 109의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 155)

실시예 110의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 156)

실시예 111의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 157)

실시예 112의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 158)

실시예 113의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 159)

실시예 125의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 160)

실시예 126의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 161)

실시예 127의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 162)

실시예 128의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 163)

실시예 135의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 164)

실시예 136의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 165)

실시예 137의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 166)

실시예 138의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 167)

실시예 139의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 분리하였다. 얻어진 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 168)

실시예 1의 반응 종료 후의 반응액을, 신실험 과학 강좌(마루젠 주식회사) 및 화학 실험 매뉴얼(기호도슛판 주식회사)에 예시되어 있는 방법을 참고로, 컬럼 크로마토그래피에 의해 분리하고, 이용한 전개 용매를 증류 제거함으로써, 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다.

또한, 컬럼 크로마토그래피의 조건으로서는, 충전제, 및 전개 용매를 에피술피드 화합물의 성상에 맞춰 선택하면 좋다. 예컨대 본 실시예에서는, 충전제로서 실리카겔 60N(구형, 중성)(간토카가쿠 주식회사 제조) 또는 활성 알루미나(와코쥰야쿠고교 주식회사 제조)를 이용하여, 전개 용매로서 n-헥산으로부터 서서히 아세트산에틸의 함유량을 늘린 혼합 용매를 이용하는 조건을 들 수 있다.

정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 169)

실시예 111의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 170)

실시예 112의 분리 조작 후의 반응 생성물액을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 171)

실시예 113의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 172)

실시예 114의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 173)

실시예 115의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 174)

실시예 116의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 175)

실시예 117의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 176)

실시예 118의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 177)

실시예 119의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 178)

실시예 120의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 179)

실시예 121의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 180)

실시예 122의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 181)

실시예 123의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 182)

실시예 124의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 183)

실시예 126의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 184)

실시예 127의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 185)

실시예 128의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 186)

실시예 129의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 187)

실시예 130의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 188)

실시예 131의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 189)

실시예 132의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 190)

실시예 133의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 191)

실시예 134의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 192)

실시예 135의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 193)

실시예 136의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 194)

실시예 137의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 195)

실시예 138의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 196)

실시예 139의 분리 조작 후의 반응 생성물을 이용한 것 이외는, 실시예 168과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 함유하는 반응 생성물을 정제하였다. 정제 후의 반응 생성물중의 에피술피드 화합물 함유량을 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 197)

반응 시간을 1시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 4와 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87과 같은 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 198)

반응 시간을 2시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 39와 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 199)

반응 시간을 2시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 40과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 200)

반응 시간을 1시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 41과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 201)

반응 시간을 1시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 42와 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 202)

반응 시간을 1시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 43과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 203)

반응 시간을 1시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 44와 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 204)

반응 시간을 0.5 시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 45와 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 205)

반응 시간을 1시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 46과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 206)

반응 시간을 1시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 47과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 207)

반응 시간을 1시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 48과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 208)

반응 시간을 2시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 49와 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 209)

반응 시간을 1시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 50과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 210)

반응 시간을 1시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 51과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 211)

반응 시간을 1시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 52와 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 212)

반응 시간을 2시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 53과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 213)

반응 시간을 2시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 54와 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 214)

반응 시간을 2시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 55와 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 215)

반응 시간을 2시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 56과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 216)

반응 시간을 4시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 65와 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 217)

반응 시간을 3시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 66과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 218)

반응 시간을 6시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 67과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 219)

반응 시간을 7시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 68과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 220)

반응 시간을 5시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 69와 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 221)

반응 시간을 1시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 70과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 222)

반응 시간을 0.5시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 71과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 223)

반응 시간을 5시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 72와 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 224)

반응 시간을 0.5시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 73과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 225)

반응 시간을 6시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 74와 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 226)

반응 시간을 1시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 75와 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 227)

반응 시간을 1시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 76과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 228)

반응 시간을 0.5시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 77과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 229)

반응 시간을 7시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 78과 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

(실시예 230)

반응 시간을 1시간으로 변경한 것 이외는, 실시예 79와 같은 방법에 의해 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 후, 실시예 87의 방법에 의해 반응 생성물을 분리하여, 얻어진 반응 생성물을, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 에폭시 화합물과, 에피술피드 화합물로 분리하였다.

실시예 197∼230에서의 제조 결과, 분리한 에폭시 화합물의 에폭시 화합물 함유량, 및 분리한 에피술피드 화합물의 에피술피드 화합물 함유량을 표 9에 나타내었다.

(실시예 231)

실시예 197에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 4와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 95%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 232)

실시예 198에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 39와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 6시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 84%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 233)

실시예 199에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 40과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 6시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 88%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 234)

실시예 200에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 41과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 87%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 235)

실시예 201에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 42와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 3시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 88%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 236)

실시예 202에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 43과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 3시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 93%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 237)

실시예 203에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 44와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 93%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 238)

실시예 204에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 45와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 1시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 95%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 239)

실시예 205에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 46과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 3시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 93%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 240)

실시예 206에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 47과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 95%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 241)

실시예 207에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 48과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 93%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 242)

실시예 208에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 49와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 95%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 243)

실시예 209에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 50과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 94%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 244)

실시예 210에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 51과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 3시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 95%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 245)

실시예 211에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 52와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 96%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 246)

실시예 212에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 53과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 94%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 247)

실시예 213에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 54와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 6시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 248)

실시예 214에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 55와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 5시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 88%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 249)

실시예 215에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 56과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 6시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 84%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 250)

실시예 216에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 65와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 12시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 84%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 251)

실시예 217에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 66과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 8시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 252)

실시예 218에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 67과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 18시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 82%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 253)

실시예 219에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 68과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 22시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 85%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 254)

실시예 220에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 69와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 15시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 94%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 255)

실시예 221에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 70과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 95%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 256)

실시예 222에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 71과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 1시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 96%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 257)

실시예 223에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 72와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 15시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 258)

실시예 224에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 73과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 1시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 96%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 259)

실시예 225에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 74와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 18시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 91%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 260)

실시예 226에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 75와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 84%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 261)

실시예 227에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 76과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 93%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 262)

실시예 228에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 77과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 1시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 95%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 263)

실시예 229에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 78과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 20시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 264)

실시예 230에서 반응 생성물로부터 분리된 에폭시 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 79와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 10에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 93%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 265∼279)

실시예 87∼102에서 각각 얻어진 초순수층으로부터, 실시예 148과 같은 방법에 의해, 다가 수산기 화합물을 분리하였다.

(실시예 280)

실시예 102에서 얻어진 초순수층으로부터, 이하의 수순으로 다가 수산기 화합물을 분리하였다.

(1) 초순수층에 함유되는 저비점 화합물(물을 포함함)을, 회전식 증발기를 이용하여 증류 제거하여, 다가 수산기 화합물 함유 조(粗)생성물을 얻었다.

(2) 상기 (1)에서 얻어진 다가 수산기 화합물 함유 조생성물로부터, 실시예 168과 같은 방법에 의해, 다가 수산기 화합물을 분리하였다.

(실시예 281∼287)

실시예 103, 140∼145에서 각각 얻어진 초순수를 이용한 것 이외는, 실시예 280과 같은 방법에 의해, 다가 수산기 화합물을 분리하였다.

(실시예 288)

실시예 265에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 87%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 289)

실시예 266에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 2와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 93%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 290)

실시예 267에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 3과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 291)

실시예 268에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 4와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 96%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 292)

실시예 269에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 5와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 93%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 동시에 특히 양호이기 때문에, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 293)

실시예 270에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 6과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 95%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 294)

실시예 271에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 7과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 93%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 295)

실시예 272에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 8과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 93%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 296)

실시예 273에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 9와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 3시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 297)

실시예 274에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 10과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 20시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 81%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 동시에 양호이기 때문에, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 298)

실시예 275에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 11과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 7시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 89%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 299)

실시예 276에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 12와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 12시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 86%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 300)

실시예 277에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 13과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 12시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 84%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 301)

실시예 278에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 14와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 15시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 85%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 302)

실시예 279에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 15와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 19시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 83%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 303)

실시예 280에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 16과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 20시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 82%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 304)

실시예 281에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 17과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 23시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 81%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 305)

실시예 282에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 80과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 9시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 89%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 306)

실시예 283에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 81과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 12시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 87%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 307)

실시예 284에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 82와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 12시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 85%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 308)

실시예 285에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 83과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 16시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 83%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 309)

실시예 286에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 84와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 20시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 82%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 310)

실시예 287에서 얻어진 다가 수산기 화합물을 이용한 것 이외는, 실시예 85와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 11에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 23시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 81%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 311∼313)

실시예 57∼59에서 각각 얻어진 반응액을 이용한 것 이외는, 실시예 148과 같은 방법에 의해 증류 잔사를 얻었다.

(실시예 314)

실시예 265에서 다가 수산기 화합물을 분리했을 때에 얻어진 증류 잔사를 이용하여, 이하의 수순으로 티아화제를 재생하였다.

(1) 증류 잔사에 비등한 초순수(와코쥰야쿠 주식회사 제조)를 가하여, 포화 용액으로 하였다.

(2) 상기 (1)의 포화 용액을 실온까지 냉각하고, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성된 화합물과 티아화제의 혼합물을 석출시켜, 여과함으로써, 회수하였다.

(3) 상기 (2)의 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성된 화합물과 티아화제의 혼합물을 이용하여,

「Faming Zhuanli Shenqing Gongkai Shuomingshu(2009), CN 101602702」에 기재된 방법에 따라, 재생 티아화제를 얻었다.

(4) 얻어진 재생 티아화제의 순도를, 전술한 방법에 따라 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 315∼330)

실시예 266∼281 각각에서 다가 수산기 화합물을 분리했을 때에 얻어진 증류 잔사를 이용한 것 이외는, 실시예 314와 같은 수법에 의해 재생 티아화제를 얻었다. 어느 경우나, 얻어진 재생 티아화제의 순도는, 99%였다.

(실시예 331)

실시예 311에서 얻어진 증류 잔사를 이용하여, 이하의 수순으로 티아화제를 재생하였다.

(1) 증류 잔사에 비등한 초순수(와코쥰야쿠 주식회사 제조)를 가하여, 포화 용액으로 하였다.

(2) 상기 (1)의 포화 용액을 실온까지 냉각하고, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성된 화합물과 티아화제의 혼합물을 석출시켜, 여과함으로써, 회수하였다.

(3) 2,4-비스(메틸티오)-1,3,2,4-디티아디포스페탄-2,4-디술피드를, 「Encyclopedia of Reagents for Organic Synthesis(John Wiley and Sons사 제조)」에 기재된 방법에 따라, 제조하였다.

(4) 상기 (2)의 혼합물 및 (3)의 화합물을, 1,4-디옥산(와코쥰야쿠 주식회사 제조) 및 초순수(와코쥰야쿠 주식회사 제조)의 혼합 용매에 용해하였다.

(5) 마그네틱 스터러상에, 오일 및 스터러가 들어간 오일 배스를 배치하고, 오일의 온도가 80℃가 되도록 설정하였다.

(6) 상기 (4)의 용액, 및 교반자를 플라스크에 넣어, 혼합 교반하고, 오일 배스에 담갔다.

(7) 30시간 경과 후, 상기 (6)의 플라스크를 오일 배스로부터 꺼내어, 실온까지 냉각하였다.

(8) 상기 (7)의 플라스크에, 아세트산에틸(와코쥰야쿠 주식회사 제조) 및 초순수(와코쥰야쿠 주식회사 제조)를 가하여, 혼합 교반한 후, 아세트산에틸층, 및 초순수층이 층 분리할 때까지 정치하였다.

(9) 초순수층을 분리한 후, 초순수층에 함유되는 저비점 화합물(물을 포함함)을, 회전식 증발기를 이용하여 증류 제거하여, 조(粗) 재생 티아화제를 얻었다.

(10) 조 재생 티아화제에, 비등한 초순수(와코쥰야쿠 주식회사 제조)를 가하여, 포화 용액으로 하였다.

(11) 상기 (10)의 포화 용액을 실온까지 냉각하고, 재생 티아화제를 석출시켜, 여과함으로써, 재생 티아화제를 얻었다.

(12) 얻어진 재생 티아화제의 순도를, 전술한 방법에 따라 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 332, 333)

실시예 312, 313 각각에서 얻어진 증류 잔사를 이용한 것 이외는, 실시예 331과 같은 수법에 의해 재생 티아화제를 얻었다. 어느 경우나, 얻어진 재생 티아화제의 순도는, 99%였다.

(실시예 334)

실시예 314에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 1과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 87%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 335)

실시예 315에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 2와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 94%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 336)

실시예 316에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 3과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 337)

실시예 317에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 4와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 95%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 338)

실시예 318에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 5와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 339)

실시예 319에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 6과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 96%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 340)

실시예 320에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 7과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 341)

실시예 321에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 8과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 94%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 342)

실시예 322에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 9와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 3시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 92%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 343)

실시예 323에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 10과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 20시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 81%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 344)

실시예 324에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 11과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 7시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 89%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 345)

실시예 325에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 12와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 12시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 86%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 346)

실시예 326에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 13과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 12시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 83%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 347)

실시예 327에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 14와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 15시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 85%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 348)

실시예 328에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 15와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 19시간이기 때문에, 반응 시간은 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 82%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 349)

실시예 331에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 57과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 88%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 350)

실시예 332에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 58과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 88%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 351)

실시예 333에서 얻어진 재생 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 59와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 표 12에 나타내는 바와 같이, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 88%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 반응 시간이 특히 양호이며, 에피술피드기 수율이 양호이기 때문에, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 352)

실시예 265에서 다가 수산기 화합물을 분리했을 때에 얻어진 증류 잔사를 이용하여, 이하의 수순으로 티아화제를 분리하였다.

(1) 증류 잔사에 비등한 초순수(와코쥰야쿠 주식회사 제조)를 가하여, 포화 용액으로 하였다.

(2) 상기 (1)의 포화 용액을 실온까지 냉각하고, 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성된 화합물과 티아화제의 혼합물을 석출시켜, 여과함으로써, 회수하였다.

(3) 상기 (2)의 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성된 화합물과 티아화제의 혼합물을 이용하여, 상기 (1), (2)의 조작을 반복하여, 티아화제를 분리하였다.

(4) 얻어진 티아화제의 순도를, 전술한 방법에 따라 측정한 결과, 99%였다.

(실시예 353∼355)

실시예 311∼313에서 다가 수산기 화합물을 분리했을 때에 얻어진 증류 잔사를 이용한 것 이외는, 실시예 352와 같은 방법에 의해 티아화제를 분리하였다. 어느 경우나, 얻어진 티아화제의 순도는, 99%였다.

(실시예 356)

실시예 352에서 얻어진 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 4와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 결과, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 95%이기 때문에, 특히 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 357)

실시예 353에서 얻어진 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 57과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 결과, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 87%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 358)

실시예 354에서 얻어진 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 58과 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 결과, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 4시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 88%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

(실시예 359)

실시예 355에서 얻어진 티아화제를 이용한 것 이외는, 실시예 59와 같은 방법에 의해, 에피술피드 화합물을 제조하였다. 그 결과, 에폭시기 반응률 100%까지의 반응 시간이 2시간이기 때문에, 반응 시간은 특히 양호로 판단하였다. 또한, 에피술피드기 수율은 87%이기 때문에, 양호로 판단하였다. 이들 결과로부터, 종합 판정은 합격으로 하였다.

Claims (20)

1. (A) 수산기가가 500∼3000 mg/g이고, 2개 이상 내지 8개 이하의 수산기를 갖는 다가 수산기 화합물의 존재하에서, (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 (C) 티아화제와의 반응에 의해 티아화하는 공정을 포함하는, 에피술피드 화합물을 제조하는 방법.
2. 제1항에 있어서, (A) 다가 수산기 화합물의 수산기가가 500∼1870 ㎎/g인 방법.
3. 제1항에 있어서, (A) 다가 수산기 화합물의 수산기가가 1870 ㎎/g 초과 3000 ㎎/g 이하인 방법.
4. 제1항에 있어서, (A) 다가 수산기 화합물이, 수산기를 2개 갖는 화합물인 방법.
5. 제1항에 있어서, (A) 다가 수산기 화합물이, 수산기를 3개 이상 내지 8개 이하 갖는 화합물인 방법.
6. 제1항에 있어서, (A) 다가 수산기 화합물의 탄소수가 3∼20인 방법.
7. 제1항에 있어서, (A) 다가 수산기 화합물이, 수산기를 2개 가지며, 탄소수가 3∼20이고, 수산기가가 500∼1870 ㎎/g인 화합물인 방법.
8. 제1항에 있어서, (A) 다가 수산기 화합물이, 수산기를 3개 가지며, 탄소수가 4∼20이고, 수산기가가 500∼1870 ㎎/g인 화합물인 방법.
9. 제1항에 있어서, (A) 다가 수산기 화합물이, 수산기를 4개 이상 8개 이하 가지며, 수산기가가 500∼1870 ㎎/g인 화합물인 방법.
10. 제1항에 있어서, (A) 다가 수산기 화합물이, 쇄형, 분기형 또는 환형의 지방족 탄화수소기를 갖는 화합물이며, (A) 다가 수산기 화합물에 함유되는 2개 이상 8개 이하의 수산기가, 상기 지방족 탄화수소기중의 서로 상이한 탄소 원자에 1개씩 결합하고 있는 방법.
11. 제1항에 있어서, (C) 티아화제가, 티오시안산염 및 티오요소류로 이루어지는 군으로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 포함하는 방법.
12. 제1항에 있어서, 하기 식 (1)로 표시되는, (B) 에폭시 화합물과 (C) 티아화제의 혼합 지표 α가 1∼10인 방법.
    혼합 지표 α=αt/αe (1)
    αt: 티아화제에 포함되는, 에피술피드기의 생성에 이용될 수 있는 황 원자의 물질량(㏖)
    αe: 에폭시 화합물에 포함되는 에폭시기의 물질량(㏖)
13. 제1항에 있어서, 하기 식 (2)로 표시되는, (A) 다가 수산기 화합물과 (C) 티아화제의 혼합 지표 β가 0.010∼0.500인 방법.
    혼합 지표 β=βt/βo (2)
    βt: 티아화제의 질량(g)
    βo: 다가 수산기 화합물의 질량(g)
14. 제1항에 있어서, (B) 에폭시 화합물의 에폭시 당량이, 55∼700 g/eq.인 방법.
15. 제1항에 있어서, (B) 에폭시 화합물이 단작용 에폭시 화합물, 폴리페놀 화합물의 글리시딜에테르화물인 다작용 에폭시 화합물, 지환식 에폭시 화합물, 노볼락 화합물의 글리시딜에테르화물인 다작용 에폭시 화합물, 방향족 에폭시 화합물의 핵수소화물, 복소환식 에폭시 화합물, 글리시딜에스테르계 에폭시 화합물, 글리시딜아민계 에폭시 화합물, 할로겐화페놀류를 글리시딜화한 에폭시 화합물, 함황 다작용 지방족 에폭시 화합물, 분자 내에 에폭시기를 갖는 실리콘 화합물 및 이종 중합성 치환기 함유 에폭시 화합물로부터 선택되는 1종 이상인 방법.
16. 제1항에 있어서, (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 티아화하는 상기 공정의 반응액으로부터 미반응의 에폭시 화합물을 회수하는 공정과,
    회수된 에폭시 화합물을 포함하는 (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 (C) 티아화제와의 반응에 의해 티아화하는 공정
    을 더 포함하는 방법.
17. 제1항에 있어서, (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 티아화하는 상기 공정의 반응액으로부터 다가 수산기 화합물을 회수하는 공정과,
    회수된 다가 수산기 화합물을 포함하는 (A) 다가 수산기 화합물의 존재하에서, (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 (C) 티아화제와의 반응에 의해 티아화하는 공정
    을 더 포함하는 방법.
18. 제1항에 있어서, (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 티아화하는 상기 공정에서 (C) 티아화제의 황 원자가 산소 원자로 치환되어 생성된 화합물로부터, 티아화제를 재생하는 공정을 더 포함하는 방법.
19. 제1항에 있어서, (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 티아화하는 상기 공정의 반응액으로부터 회수된 미반응의 티아화제를 포함하는 (C) 티아화제와의 반응에 의해 (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 티아화하는 공정을 더 포함하는 방법.
20. 제18항에 있어서, 재생된 티아화제를 포함하는 (C) 티아화제와의 반응에 의해 (B) 에폭시 화합물의 에폭시기를 티아화하는 공정을 더 포함하는 방법.