KR101545364B1 - 딥 드로잉 장치 - Google Patents

Abstract

본 발명은 딥 드로잉 방법 및 그에 대응하는 딥 드로잉 장치에 관한 것이다. 딥 드로잉 장치는 적어도 2 개의 돌출부 (112) 및 다이의 (106) 의 적어도 2 개의 대응 라멜라 간극 (102) 을 갖고, 라멜라 간극 (102) 의 폭과 위치 (Pi) 는 조정될 수 있다. 판금 (10) 의 접음은 라멜라 간극 (102) 의 폐쇄에 의해 이루어진다. 이후 딥 드로잉 프로세스 동안, 돌출부 (112) 가 대응 리세스 (103) 내로 하강된다. 미리 주름잡힌 판금 (10) 뿐만 아니라 편평한 판금 (10) 이 상기 딥 드로잉 장치 및 딥 드로잉 방법에 의해 접히고 딥 드로잉될 수 있다.

Description

딥 드로잉 장치{DEEP-DRAWING DEVICE}

본 발명은 딥 드로잉 (deep-drawing) 장치 및 그 딥 드로잉 장치로 딥 드로잉하는 방법에 관한 것이다.

딥 드로잉은, 일반적으로, 다이가 대응하는 다이 플레이트 내로 작업물을 가압함에 있어서, 한 측이 개방되어 있는 중공 보디를 형성하기 위한 편평하게 성형된 작업물의 압축-인장 재성형 또는 압축 재성형, 또는 편평하게 성형된 작업물의 표면에서 벌지 (bulge) 의 성형으로 이해된다.

마지막에 언급한 형태의 딥 드로잉은, 예컨대 에스컬레이터의 스텝 (step) 또는 트레드 (tread) 요소 및 라이저 (riser) 요소 또는 이동 보도의 플레이트의 제조에 이용된다. 트레드 요소는 에스컬레이터 또는 이동 보도의 사용자를 위한 트레드 표면 또는 스탠드 (stand) 표면을 형성하고, 라이저 요소는 에스컬레이터의 경사진 부분에서 스텝의 눈에 보이는 전방면을 형성한다. 딥 드로잉을 통해, 언급한 요소의 경우, 낮은 중량에도 불구하고, 스탬핑 방법 또는 가압 몰딩 방법 또는 압연 방법에 의해 달성되는 것보다 더 견고하고 폭이 더 좁은 웹/그루브 (web/groove) 프로파일의 성형이 달성된다. 더욱이, 웹 프로파일 또는 그루브 프로파일에서는, 사용자가 더 잘 설 수 있고 액체, 특히 물이 잘 유출될 수 있도록, 에스컬레이터 스텝 또는 이동 보도 플레이트에 복수 (약 88 ∼ 약 112 개) 의 웹 및 그루브가 제공된다.

예컨대 치형부 (teeth), 살 (tines) 또는 가지 (prongs) 의 형태의 돌출부를 갖는 딥 드로잉 플레이트가, 예컨대 그루브 형태의 리세스를 갖는 공구에 대해 및/또는 상기 공구에 대해 상대적으로 (comparatively) 및/또는 협동적으로 및/또는 적합하게 안내 또는 이동된다는 점에서, 바람직한 좁은 웹/그루브 프로파일이 달성된다. "상대적으로" 는, 공구가 고정 딥 드로잉 플레이트에 대해 가압될 수 있다는 것뿐만 아니라, 가동 딥 드로잉 플레이트가 고정 공구에 대해 가압될 수 있다는 것을 의미한다. 그리고, 공구는 돌출부를 가질 수 있고, 딥 드로잉 플레이트는 리세스를 가질 수 있으며, 따라서 반대 방식으로 설치될 수 있다. 단지, 돌출부가 대응하는 보완적인 리세스 내로 가압된다는 것은 기본이다.

그러나, 딥 드로잉의 일반적인 단점은, 필요한 '재료 변형 플로우 한계 (material deformation flow limit)' 가 경제적, 산업적 대량 생산에 모순될 수 있다는 것이다. 바람직하게는 서로 매우 인접한 열 (row) 을 이루는 여러 개의 그루브의 동시 딥 드로잉의 경우, 재료의 인열 강도 또는 항복점 또는 파괴 강도 한계가 급히 초과된다. 그 결과, 예컨대 JP-A-62270224 명세서에는, 개별 웹 공구 또는 스탬핑 공구 상에서 강판이 가압되고 따라서 각 웹이 연속하여 개별적으로 형성되는 압력 장치가 개시되어 있다. 대응하는 운동 순서 (sequence) 는 경사진 표면의 상호작동에 의해 전환된다.
공개공보 US 4 635 462 A1 로부터, 판금의 딥 드로잉 동안 2 개의 중첩된 운동이 이루어지도록 구성되어 있는 딥 드로잉 장치가 알려져 있다. 한편으로, 딥 드로잉 공구의 가동 설치된 램의 측방향 운동이 이루어지고, 이로써 판금이 '모아진다'. 다른 한편으로, 딥 드로잉 공구의 램이 딥 드로잉될 판금에 대해 그리고 반대편 공구의 중간 공간 내로 가압된다. 이때 딥 드로잉이 이루어진다. 이러한 순서는 딥 드로잉 장치의 폐쇄 운동에 의해 일부 중첩되고 촉발된다. 이 폐쇄 운동은 경사진 표면의 상호작동에 의해 측방향 운동으로 일부 전환된다. 운동 순서 및 발생하는 힘이 단지 부정확하게 제어될 수 있다는 것이 이러한 접근의 단점으로 여겨진다. 이로 인해, 딥 드로잉 프로세스의 재현가능성이 불충분해진다.
공개공보 EP 0 960 664 A1 으로부터, 각 경우에, 서로 인접하게 배치된 여러 개의 램에 의해 판금에서 여러 개의 립이 동시에 딥 드로잉되도록 구성되어 있는 딥 드로잉 장치가 알려져 있다. 딥 드로잉 장치의 대응하는 스트로크는, 그 결과 제 1 스트로크 부분에서 제 1 그룹의 (예컨대, 2 개의) 립이 딥 드로잉된다. 그리고 나서, 제 2 스트로크 부분에서, 제 2 그룹의 (예컨대, 2 개의) 립이 딥 드로잉된다.
주름잡힌 판금을 제조하기 위해 설계된 장치가 특허명세서 US 2 948 325 로부터 알려져 있다. 그 경우, 판금에 물결모양이 점차 스탬핑되며, 여기서 주름잡기가 진행됨에 따라, 판금의 길이가 점차 짧아진다.

딥 드로잉에서의 '재료 변형 플로우 한계' 의 종래 기술 및 일반적인 문제로부터 출발하여, 본 발명의 목적은, 여러 개의, 바람직하게는 모든 희망하는 웹의 동시 제조를 가능하게 하고 따라서 종래 통상적인 것보다 더 경제적이고 더 빠른 딥 드로잉 장치 또는 방법 단계를 찾는 것이다.

본 발명에 따르면, 상기 목적은, 웹 프로파일 또는 그루브 프로파일을 성형하기 위해 수용 위치로부터 단부 위치까지 공구의 라멜라 간극 (lamellar gap) 의 이전의 조정가능성 (adjustability) 및 변위가능성과 딥 드로잉의 조합으로 달성된다. 수용 위치는 물결모양으로 성형된 또는 프로파일된 판금 또는 딥 드로우 (deep-draw) 판금이 수용 위치에 해당하는 개방된 라멜라 간극에 물결모양 골 (valley) 또는 프로파일 골에 의해 수용되도록 설계되어 있다. 수용 위치로부터 단부 위치까지 공구의 이후 조정은, 판금 또는 딥 드로우 판금을 접는 라멜라 간극의 폐쇄를 의미한다. 따라서, 본 발명에 따른 공구는 단부 위치에서 서고, 실제 딥 드로잉 프로세스를 위해, 돌출부에 대응하는 리세스를 제공한다. 이로써, 각 개별 그루브 또는 각 개별 웹의 동시 딥 드로잉이 가능하다. 따라서, 딥 드로잉 장치에서 최종 트레드 측이 하향으로 놓이는 판금 또는 딥 드로우 판금의 경우, 가용 재료가 더 많다. 이로써, 동시에 이루어지는 빽빽한 간격의 다중 딥 드로잉이 새로이 가능하다.

이 신규 방법은 지금까지보다 더 빠르고 더 경제적이며, 인열 강도 한계까지의 증가된 최저제한치 (reserve) 를 제공한다.

더욱이, JP-A-62270224 명세서에 개시된 것처럼 각 개별 웹의 공차가 함께 더해지거나 합쳐지지 않으므로, 최종 제품 또는 작업물의 정확도가 증가된다. 본 발명에 따른 신규 딥 드로잉 방법의 경우, 트레드 요소 또는 라이저 요소의 웹의 개별 제조로부터 공차가 합쳐지지 않고, 이로써 비용이 많이 드는 재마무리 작업 또는 직선화 작업 또는 계량화 작업 또는 교정 작업이 또한 필요없다.

본 발명에 따른 딥 드로잉 장치의 바람직한 실시형태는, 실질적으로, 베이스 플레이트, 딥 드로잉 플레이트, 딥 드로잉 플레이트에 대한 대향 플레이트 및 공구를 포함한다. 3 개의 플레이트에는 공통 가이드가 설치된다. 딥 드로잉 플레이트 및 대향 플레이트는 공구 및 공구에 놓인 작업물을 둘러싼다. 그리고 나서, 제 2 드라이브가 플레이트의 공통 가이드에 부합하는 제 2 축선에 대응하는 방향에서 대향 플레이트에 대해 딥 드로잉 플레이트를 가압하거나 또는 그 반대로 된다. 그 외에도, 본 발명에 따른 딥 드로잉 장치는 제 1 가이드 및 제 1 드라이브를 더 포함한다. 이 제 1 드라이브는, 제 1 가이드에 의해, 제 2 축선에 수직한 제 1 축선에 해당하는 방향에서 함께 공구를 가압하는 위치에 있게 된다. 마지막에 언급한 가압에 의해, 공구에 배치된 리세스가 폐쇄된다. 그 결과, 공구에 놓인 작업물의 접음 (folding) 이 가능하다.

드라이브는 예컨대 유압식 또는 전기식으로 또는 편심을 통해 실현될 수 있고, 공구는 예컨대 변위가능하게 배치된 라멜라로 구성될 수 있다. 이러한 라멜라는 순서대로 개별 가이드에서 연장될 수 있고, 바람직하게는 그의 개별 단면 프로파일에서 2 개의 상이한 두께를 갖는다. 그 경우, 2 개의 두께 중 작은 두께는 딥 드로잉 플레이트를 향해 배향된다. 라멜라의 이러한 바람직한 형태는, 라멜라가 가장 큰 두께를 향해 서로에 대해 최대 압력으로 가압될 수 있고 따라서 더 작은 두께가 자동적으로 리세스를 형성한다는 효과를 갖는다. 이 실시형태에 의하면, 라멜라의 더 높은 굽힘 강도로 인해, 딥 드로잉에 의한 로딩 (loading) 동안 리세스의 치수 정확성이 더 높아진다는 결과가 얻어진다.

또한, 가느다란 라멜라의 형상 또는 형태로 인해, 처리 표면으로부터 또는 가느다란 라멜라로부터 작업물이 빠져 나가는 것 또는 스스로 방출되는 것이 방지된다.

더욱이, 라멜라의 변위 운동은 바람직하게는 개별 라멜라 사이의 압축 스프링과 커플링된다. 이는, 바람직하게 처음에는 제 1 및 제 2 라멜라의 상호 충돌에 의해 제 2 라멜라의 운동이 촉발되고, 그래서 제 3 라멜라, 제 4 라멜라 등의 운동이 촉발됨을 의미한다. 제 1 라멜라의 개시 운동이 그 자체를 다음 라멜라로 전달한다. 이로써 획득되는 콘서티나 (concertina) 효과 또는 아코디언 효과 또는 격자 그레이트 (lattice grate) 효과가 더 적은 힘 또는 구동력으로 작업물 또는 판금을 접는 것을 용이하게 한다. 이로써, 리세스의 변위된 그리고 연속적인 폐쇄가 달성된다. 작업물의 개방 및 제거가 가능하고, 매끄럽게, 용이하게, 문제없이 그리고 용이한 모션으로 달성될 수 있다.

이는 인접한 라멜라들 사이에 압축 스프링이 배치되지 않고 압축 스프링이 예컨대 인접한 라멜라를 뛰어넘어 단지 그보다 멀리있거나 그 다음의 라멜라를 가압한다면 향상된다. 그리고, 압축 스프링은 공간의 이유로 2 개의 인접한 라멜라 사이에 배치되지 않을 수도 있다.

더욱이, 본 발명에 따르면, 조정가능한 리세스를 갖는 공구를 구비한 딥 드로잉 장치의 디자인의 경우, 리세스가 작업물을 위한 소정의 개방 수용 위치를 넘어까지 개방될 수 없다. 이러한 목적을 위해, 예컨대 개별 라멜라를 연결하는 와이어 또는 가요성 케이블이 배치된다. 이 와이어 또는 이 케이블로 인해, 한편으로, 라멜라가 서로 맞닿을 정도까지 완전한 폐쇄될 수 있고, 다른 한편으로, 라멜라를 연결하는 와이어/케이블 길이 넘어까지 라멜라가 개방되지 않게 된다. 당업자는 실질적으로 동일한 효과를 달성하는 이동 제한의 다른 형태, 예컨대 래치, 후크 또는 게이트 가이드의 형태를 자유로이 채용해도 좋다.

이상에서 설명한 리세스의 폐쇄 및 개방의 동시성 및 동질성은, 본 발명에 따른 딥 드로잉 장치의 다른 바람직한 실시형태에 따라, 연속적으로 배치된 나사가공된 부분 부재를 갖는 특별한 스핀들 드라이브에 의해 조정이 행해진다는 점에서, 달성될 수 있다. 이와 관련하여, 라멜라는 스핀들의 나사가공된 부분 부재의 스레드 (thread) 상에 개별적으로 배치되고 안내되며, 따라서 스핀들의 1 또는 여러 회전에 의해, 각 나사가공된 부분 부재가 그와 관련된 라멜라를 개방 수용 위치로부터 서로 맞닿아 있는 폐쇄 딥 드로잉 위치까지 이동시킨다.

본 발명에 따른 딥 드로잉 장치 또는 본 발명에 따른 딥 드로잉 방법은, 매 경우에, 일례로서 표시된 재료와 관련하여 표준의 요구사항이 충족될 수 있도록, 리세스의 치수와 비교하여 돌출부의 치수에 대해 조정될 수 있다. 이러한 조정가능성은 예컨대 딥 드로잉 플레이트 및 개별 라멜라가 교환가능하다는 사실에 의해 주어질 수 있다.

새로이, 트레드 요소 또는 라이저 요소의 제조에 대한 매우 짧은 작업 사이클이 본 발명에 따른 딥 드로잉 장치, 적절한 가압 압력 및 적절한 재료로 실현될 수 있다. 이러한 더 짧은 작업 사이클은, 종래 기술에서 제안된 작업 사이클에 비해, 작업 사이클의 유리한 단축 이외에도, 단일 딥 드로잉 프로세스에 의해 총 개수의 희망하는 그루브를 제조할 가능성을 제공한다.

본 발명에 따른 딥 드로잉 장치는 예컨대 물결모양으로 예비성형된 판금에 기능한다.

본 발명에 따른 다른 이점은 작업물의 단순화된 인출 (withdrawl) 이다. 작업물 또는 트레드 요소 또는 라이저 요소는 딥 드로잉 장치로부터 손으로 제거될 수 있고, 작업물을 들어 올리고 그 작업물을 리세스 및/또는 라멜라 밖으로 운송하는 이젝터 또는 가압 공기 블로어에 의한 조작이 더 용이하고 더 간단하며 더 빠르다. 그 다음으로, 작업물 또는 트레드 요소 또는 라이저 요소는 그립퍼 또는 로봇 아암 또는 판금 조작기에 의해 붙잡혀, 딥 드로잉 장치로부터 인출된다. 그리고 나서, 작업물 또는 트레드 요소 또는 라이저 요소는 퇴적되거나 및/또는 매끄럽게 되거나 및/또는 펴지거나 및/또는 적층되거나 및/또는 수집되거나 및/또는 쌓이거나 및/또는 팔레트 (pallet) 된다.

본 발명에 따른 딥 드로잉 장치의 다른 실시형태에서, 딥 드로잉 돌출부가 딥 드로잉 플레이트 내로 하강가능하다는 점에서, 접음 동안 물결모양 마루 (corrugation elevation) 가 미끄러질 수 있는 편평한 표면이 형성된다. 이러한 하강은 돌출부의 하측 단부 표면이 딥 드로잉 플레이트의 하측과 함께 편평한 표면을 형성하도록 이루어지는 것이 바람직하다.

본 발명은 에스컬레이터의 부품 및 이동 보도의 부품을 위해 이용될 수 있다. 그리고, 스텝용 부품 및 플레이트용 부품이 동등하게 잘 제조될 수 있다.

본 발명에 따른 딥 드로잉 장치의 다른 또는 유리한 실시형태, 또는 해당 딥 드로잉 장치에 의한 딥 드로잉 방법의 다른 또는 유리한 변형이 종속 청구항의 주제를 이룬다.

부호를 사용하여 그리고 일례로서 도면에 기초하여 본 발명을 더 상세히 설명한다.

도면은 결합된 상태를 개략적으로 보여준다. 동일한 도면부호는 동일한 부품을 의미하며, 상이한 인덱스를 갖는 도면부호는 기능적으로 동등한 또는 유사한 부품을 가리킨다.

도 1 은, 개방 수용 위치에 있는 본 발명에 따른 딥 드로잉 장치의 개략도이다.
도 2 는, 폐쇄 단부 위치에 있는 본 발명에 따른 도 1 의 딥 드로잉 장치의 개략도이다.
도 3 은, 딥 드로잉 프로세스에 상응하는 설정의 본 발명에 따른 도 1 및 도 2 의 딥 드로잉 장치의 개략도이다.
도 4 는, 공구를 형성하며 개방 수용 위치에 배치되어 있는 라멜라의 개략도이다.
도 5 는, 폐쇄 단부 위치에 있는 도 4 의 라멜라의 개략도이다.
도 6a 및 도 6b 는, 개별 방법 단계의 개략도이다.

도 1 은 본 발명에 따른 딥 드로잉 장치 (100) 의 개략도이다. 돌출부 (112) 가 배치되어 있는 하측 (113) 을 갖는 딥 드로잉 플레이트 (110), 대향 플레이트 (130) 및 베이스 플레이트 (140) 가 가이드 (122a ∼ 122d) 에서 공통으로 안내된다. 상세히 도시되지 않은 드라이브는, 이 가이드 (122a ∼ 122d) 를 따라 또는 딥 드로잉 축선 (A2) 을 따라 구동력 (F2) 에 의해, 딥 드로잉 플레이트 (110) 및 대향 플레이트 (130) 가 서로에 대해 가압될 수 있도록 작용한다. 공구 (106) 는, 여기서 나타낸 공구 (106) 의 개방 수용 위치 (PA) 에서 간극 (102) 또는 리세스 (103) 를 형성하는 라멜라를 포함한다. 이 라멜라 간극 (102) 은 조정가능한데, 이는, 라멜라 (101) 가 측방향 가이드 (121) 를 따라 이동될 수 있도록, 제 2 드라이브 (상세히 도시되지 않음) 에 의해 구동되는 램 (ram) (120) 이 딥 드로잉 축선 (A2) 에 수직한 접음 축선 (A1) 을 따라 구동력 (F1) 에 의해 작용하기 때문이다.

도 2 는 폐쇄 단부 위치 (PE) 에 있는 본 발명에 따른 딥 드로잉 장치 (100) 의 개략도이다. 라멜라 (101) 는 서로 맞닿아 있다. 이러한 운동은 물결모양으로 예비성형되어 공구 (106) 와 딥 드로잉 플레이트 (110) 사이의 제위치에 미리 놓인 판금의 접음 프로세스에 해당한다.

도 3 은 본 발명에 따른 도 1 및 도 2 의 딥 드로잉 장치 (100) 의 개략도인데, 여기서 대향 플레이트 (130) 는 딥 드로잉 플레이트 (110) 에 대해 가압되고 있다. 이 운동은 도 2 에 따라 접힌 판금의 딥 드로잉 프로세스에 해당한다.

개방 수용 위치 (PA) 에 있는 공구 (106) 의 일부를 도 4 에 개략적으로 도시하였다. 라멜라 (101) 가 2 개의 다른 두께를 갖고, 얇은 두께 부분에서부터 두꺼운 두께 부분으로의 전이부에 도그 (dog) (127) 가 배치되어 있음을 확인할 수 있다. 스프링 (104) 은 라멜라 (101) 의 마운트 (mount) 에서 인접 라멜라를 통과하여 다음 라멜라까지 장착되도록 배치된다. 그리고, 와이어 또는 케이블 요소 (105) 의 형태의 이동 제한부가 도시되어 있는데, 이 이동 제한부는, 공구 (106) 의 도시된 개방 수용 위치 (PA) 에서, 인장 응력을 받아 팽팽하게 되고, 라멜라 간극 (102) 이 더 개방되는 것을 방지한다.

도시된 개방 수용 위치 (PA) 에서, 명백히 라멜라 간극 (102) 또는 리세스 (103) 가 폭 (107) 을 형성하고, 폭의 중심은 공구 (106) 의 접합부 (abutment) (129) 에 대해 규정된 위치 P1 내에 배치된다. 이와 유사하게, 돌출부 또는 치형부 (112) 를 갖는 딥 드로잉 플레이트 (110) 를 개략적으로 도시하였는데, 여기서 치형부 (112) 는 리세스 (103) 에 부합하지 않거나 또는 순전히 우연히 부합한다. 물결모양으로 예비성형된 판금 형태의 작업물 (10) 이 물결모양 골이 리세스 (103) 에 놓이도록 위치되므로, 구동력 (F1) 에 의해 라멜라 간극 (102) 의 뒤이은 폐쇄로 인해 판금 (10) 이 접힌다. 더욱이, 선택적인 압축 공기 장치 (108) 가 표시되어 있으며, 이는 판금 (10) 을 리세스 (103) 내로 가압한다.

도 5 는 폐쇄 단부 위치 (PE) 에 있는 도 4 의 공구 (106) 의 일부를 보여준다. 도 5 는 도 4 와 동일한 시트에 대해 도시된 것이므로, 리세스 (103) 의 본래 폭 (107) 이 폭 (107') 으로 감소된 것뿐만 아니라, 접합부 (129) 에 대한 위치 P1 가 위치 P2 로 변위된 것을 확인할 수 있다. 그리고, 라멜라 (101) 가 두꺼운 두께 부분에서 서로 맞닿아 있고, 따라서 리세스 (103) 는 라멜라 (101) 의 얇은 두께 부분에 의해서만 형성되는 것을 확인할 수 있다. 이제, 리세스 (103) 의 위치는, 도 4 와는 달리, 딥 드로잉을 위해 치형부 (112) 에 부합한다. 더욱이, 스프링 (104) 이 압축되고, 와이어 또는 케이블 요소 (105) 가 더 이상 인장 응력을 받아 팽팽하지 않은 것으로 도시되어 있다.

도 6a 및 도 6b 는, 일례로서, 물결모양으로 예비성형된 판금 (10) 으로부터 시작하여 (번호 "1") 딥 드로잉된 판금 (10") 까지 (번호 "9"), 본 발명에 따른 방법 단계 (2 ∼ 8) 또는 본 발명에 따른 예시적인 작동 사이클의 작업 단계 (2 ∼ 8) 를 보여준다. 번호 "1" 에서, 물결모양으로 예비성형되고 판금 두께 S 를 갖는 판금 (10) 이 출발 제품으로서 도시되어 있다.

번호 "2" 는, 제 1 작업 단계로서, 판금 (10) 을 딥 드로잉 장치 (100) 내로 도입하는 것, 특히 물결모양 골이 개방된 리세스 (103) 에 놓이도록 도입하는 것을 보여준다. 그와 동시에, 이후의 접음 프로세스의 선택적인 강화로서, 평탄화 플레이트 (109) 가 판금 (10) 과 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 치형부 (112) 사이에 도입된다.

번호 "3" 은, 다음 작업 단계로서, 물결모양 마루가 평탄화 플레이트 (109) 와 접촉한 후, 평탄화 플레이트 (109) 가 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 치형부 (112) 와 접촉하는 치수까지 간격 D 의 감소를 보여준다.

구동력 (F1) 의 작용 하에서 판금 (10') 의 접음 프로세스가 번호 "4" 에 도시되어 있다. 번호 "5" 는 딥 드로잉 장치 (100) 의 개방을 보여주고, 번호 "6" 은 평탄화 플레이트 (109) 의 제거를 보여준다.

딥 드로잉 프로세스에서 치형부 (112) 의 최대 스트로크를 달성한 때의 딥 드로잉 장치의 중요 요소의 위치가 번호 "7" 에 도시되어 있다.

번호 "8" 은 몰드로부터의 제거를 보여주고, 번호 "9" 는, 최종 제품으로서, 감소된 판금 두께 S', 웹의 웹 높이 (123), 웹 폭 (124), 및 그루브 폭 (125) 을 갖는 그루브 (114) 를 갖는 딥 드로잉된 판금 (10") 을 보여준다. 웹 (111) 은 도시된 부분에서 상측에 비드 (bead) (128) 를 갖는다. 그리고, 웹 (111) 은 0°∼ 17°, 바람직하게는 2°∼ 11°의 기울기를 갖는 각도 'W' 를 갖는다. 웹 (111) 의 상측을 따른 비드 (128) 는 작은 간격으로 유지되고, 이로써 트레드 요소 및 라이저 요소의 사용자를 위한 슬립 저항 (slip resistance) 이 현저히 향상된다.

하나의 작업 단계에서 가장자리에 비드 (128) 를 포함하는 웹 (111) 을 동시 생산하는 것은, 생산 이점을 향상시키고, 값진 생산 시간을 절감하며, 부가적인 생산성을 가져온다. 이것 이외에도, 모든 웹 (111) 이 일제히 그리고 동시에 생산 및 제조되므로, 생산성이 증가한다. 이로써, 트레드 요소 및 라이저 요소의 생산 시간 및 제조 시간이 앞당겨지고 가속된다. 생산 프로세스의 개선이 명백하고, 끊임없이, 연속적으로 그리고 항상 제공된다.

본 발명에 따른 딥 드로잉 장치 (100) 는, 예컨대 물결모양으로 예비성형된 판금 (10) 에 기능한다. 이는 예컨대, 단지 약 2000 ㎜ 의 폭을 갖도록 (예비)주름잡힌 약 3200 ㎜ 폭의 판금 패널일 수 있다. 그렇게 형성된 물결모양 골이 공구 (106) 에서 리세스 (103) 의 에지에 의해 수용되고 접힌다.

본 발명에 따른 딥 드로잉 장치 (100) 의 다른 실시형태에 따르면, 예비성형되지 않은 매끄러운 판금 (10) 을 이용할 수 있다. 이를 위해, 매끄러운 판금 (10) 이 공구 (106) 상에 위치되며, 공구의 리세스 (103) 가 개방 수용 위치에 있다. 딥 드로잉 플레이트 (110) 는 딥 드로잉을 위해, 돌출부 (112) 와는 별도로, 주름잡기 역할을 하는 하강가능한 스탬핑 요소 (도시 안 됨) 를 갖는다. 이러한 스탬핑 요소는 수용 위치의 중심에 부합하도록 배치된다. 다음으로, 딥 드로잉 장치 (100), 즉 딥 드로잉 플레이트 (110) 및 대향 플레이트 (130) 가 가까워져서, 스탬핑 요소가 딥 드로우 판금 (10) 을 개방 리세스 (103) 내로, 대략 2 ㎜ ∼ 5 ㎜ 까지 예비 딥 드로잉을 행하여, 판금을 물결모양이 되게 한다. 또한, 스탬핑 요소는, 단지 딥 드로잉 플레이트 (110) 를 통과하고 그와 연결되지 않도록 설계될 수 있다. 이러한 형태의 실시형태에 의해 하강가능한 스탬핑 요소가 판금 (10) 의 주름잡기 후에 후퇴되는 각각의 경우에, 단지 연속적으로 뒤따르는 딥 드로잉을 위한 돌출부만이 딥 드로잉 플레이트 (110) 밖으로 돌출하게 된다.

판금 (10) 을 딥 드로잉하는 다른 드라이브가, 예컨대 약 200 톤 ∼ 약 700 톤, 바람직하게는 약 300 톤의 압력으로 가압한다. 판금 (10) 을 접는 제 1 드라이브가, 예컨대 약 0.2 톤 ∼ 약 2.5 톤, 바람직하게는 약 0.5 톤 ∼ 1 톤의 압력으로, 공구 (106) 또는 공구 (106) 의 라멜라 (101) 를 함께 가압한다.

딥 드로잉을 위한 돌출부는 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 표면을 향해 가늘어지는 또는 넓어지는 단면 프로파일을 갖는 것이 바람직하다. 이는, 딥 드로잉 프로세스 동안 특정 상황에서, 공구 (106) 의 리세스 (103) 에서 판금 (10) 의 재밍 (jamming) 을 방지한다. 또한, 몰드의 이러한 형태는, 주름진 판금 (10) 의 접힘 동안, 이 판금을 제위치에 유지하는데 도움이 된다. 더욱이, 딥 드로잉 플레이트 (110) 및 공구 (106) 는, 다수의 작동 프로세스 후에도 항상 정확한 그루브 및 웹을 보장하기 위해, 레이저 경화 또는 플라스마 경화 또는 고주파 경화 또는 코팅 경화에 의해 형성되는 경화 재료 (hardened material) 로 이루어지는 것이 바람직하다. 특히, 공구 (106) 의 리세스 (103) 의 에지는, 공구의 웹에서 안정된 푸팅 (footing) 을 보장하기 위해, 가능한 한 오랫동안 단단하고 날카로운 에지로 남아 있어야 한다.

본 발명에 따른 딥 드로잉 장치 (100) 의 다른 실시형태는 딥 드로잉을 위한 돌출부를 제공하며, 이 돌출부의 단면 프로파일은 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 표면을 향해 넓어진다. 따라서, 딥 드로잉 동안 작업물 (20) 에 사다리꼴 형상의 단면을 갖는 오목부 또는 웹이 형성된다.

본 발명에 따른 딥 드로잉 장치 (100) 의 다른 개선된 실시형태는 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 하측에, 따라서 딥 드로잉 돌출부들 사이에 정 (positive) 의 표면 프로파일을 갖는다. 이 프로파일은, 딥 드로잉 운동의 최대 스트로크의 달성시에, 트레드 요소 웹의 향상된 슬립 저항을 위해 웹의 표면에서 다수의 비드 또는 노치를 가압한다. 판금 (10) 은 최종 트레트 측이 아래쪽을 향해 놓이도록 딥 드로잉 장치 (100) 내에 위치된다면, 공구 (16) 의 리세스 (103) 의 베이스가 대응하는 정의 표면 프로파일, 예컨대 도그를 가져야 한다. 이 도그는 딥 드로잉 플레이트 하측의 깊이에 걸쳐 또는 리세스 베이스의 깊이에 걸쳐 약 1 ∼ 3 ㎜ 의 간격으로 배치되는 것이 바람직하다.

전술한 딥 드로잉 장치 (100) 에 의해, 물결모양으로 예비성형된 판금 (10) 의 이전 접음과 함께 딥 드로잉을 위한 본 발명에 따른 방법은, 접음 프로세스를 용이하게 하는 부가적인 방법 단계를 제공한다. 이와 관련하여, 판금 (10) 의 적층 후에, 딥 드로잉 장치 (100) 는 판금 (10) 의 적어도 하나의 물결모양 마루가 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 적어도 하나의 딥 드로잉 돌출부에 부딪칠 정도까지 폐쇄된다. 이로써, 물결모양으로 예비성형된 판금 (10) 이 접음 동안 리세스 (103) 의 폐쇄에 의해 리세스 (103) 에서 강제로 벗어나지 않게 된다.

전술한 딥 드로잉 장치 (100) 에 의해, 물결모양으로 예비성형된 판금 (10) 의 이전 접음과 함께 딥 드로잉을 위한 본 발명에 따른 다른 방법은, 상기 하모니카 효과 또는 아코디언 효과 또는 격자 그레이트 효과에 의해, 작업물 또는 판금 (10) 의 부가적인 고정을 제공한다. 그 경우, 처음 3 ∼ 5 개의 라멜라는 매우 빠르게 그리고/또는 매우 가압적으로 (pressurably) 폐쇄되므로, 작업물의 그립핑 (gripping), 또는 그래빙 (grabbing) 또는 맞물림 (engaging) 또는 고정을 보장한다. 이 프로세스 또는 방법 단계에 의해, 작업물은 갑자기 빠지거나 강제로 빠지거나 미끄러져 빠지는 것이 방지 또는 억제 또는 제지된다.

대향 플레이트에서 구멍을 통해 판금 (10) 을 흡인하거나 또는 딥 드로잉 플레이트 (110) 에서 구멍을 통해 판금 (10) 을 부는 (blow) 선택적인 압축 공기 장치가 동일한 목적을 실현한다.

접음 프로세스의 본 발명에 따른 다른 최적화가, 예컨대, 판금 (10) 의 물결모양 마루와 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 딥 드로잉 돌출부 사이에, 물결모양으로 예비성형된 판금 (10) 의 도입과 동시에 도입되는 평탄화 플레이트에 의해 선택적으로 실현될 수 있다. 그리고 나서, 딥 드로잉 장치 (100) 는 물결모양 마루가 평탄화 플레이트의 하측에 부딪치거나 또는 평탄화 플레이트의 상측이 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 딥 드로잉 돌출부에 부딪칠 때까지 다시 폐쇄된다. 따라서, 그 다음의 접음 프로세스 동안 형성되는 마루가 평탄화 플레이트의 하측을 따라 미끄러지고, 이로써 딥 드로잉 장치 (100) 에서 판금 (10) 의 캐칭 (catching) 이 방지된다.

편평한 (물결모양으로 예비성형되지 않은) 판금 (10) 을 딥 드로잉하기 위한 본 발명에 따른 다른 방법은 하기 단계를 특징으로 한다. 여기서, 제 1 배치의 돌출부 (112) 를 갖는 딥 드로잉 플레이트 (110) 및 스탬핑 요소가 이용되며, 여기서의 스탬핑 요소는 딥 드로잉 플레이트 (110) 내로 하강될 수 있다. 제 1 단계에서, 이 제 1 배치의 돌출부 (112) 및 스탬핑 요소가 딥 드로잉 플레이트 (110) 내로 하강된다. 그리고, 편평한 판금 (10) 이 공구 (106) 와 딥 드로잉 플레이트 (110) 사이로 도입된다. 그리고 나서, 스탬핑 요소는 편평한 판금 (10) 이 물결모양으로 성형되도록 조정된다. 이제 스탬핑 요소가 하강되고, 공구 (106) 와 딥 드로잉 플레이트 (110) 사이의 간격 (D) 이 감소되어, 물결모양으로 성형된 판금 (10) 이 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 하측 (113) 에 맞닿게 된다. 물결모양으로 성형된 판금 (10) 은, 수용 위치 (PA) 로부터 단부 위치 (PE) 까지 공구 (106) 의 라멜라 간극 (102) 의 조정에 의해 더 접힌다. 이제, 제 1 배치의 돌출부 (112) 가 조정되어, 접힌 판금 (10) 은, 공구 (106) 의 리세스 (103) 의 단부 위치 (PE) 로의 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 돌출부 (112) 의 관통에 의해, 딥 드로잉된다.

전술한 딥 드로잉 장치 (100), 상기 가압 압력 및 전술한 재료에 의해, 트레드 요소 또는 라이저 요소의 제조에, 예컨대 하기 개별 작업 사이클로 이루어진 신규하고 매우 짧은 작동 사이클을 실현할 수 있다: 작업물을 제위치에 놓거나 제위치에 클램핑하기 약 0.5 초, 접음 약 2 초, 딥 드로잉 약 1 초, 및 몰드로부터 제거 (개방, 작업물 인출하기) 약 2초.

본 발명에 따른 딥 드로잉 장치 (100) 및 이 장치를 이용한 딥 드로잉 방법은, 도입부에서 이미 설명한 것처럼, 에스컬레이터 스텝의 트레드 요소 및 라이저 요소의 제조에 특히 매우 적합하다. 이들 요소는 비교적 얇고 가벼운 판금으로 이루어지는데, 이 판금은 그의 특성에도 불구하고 그리고 딥 드로잉에도 불구하고 또는 딥 드로잉의 결과로서, 유럽 표준 EN 115 및 미국 표준 ASME A17.1-2004 의 규정 및 하중 시험을 충족시켜야 한다. 이들 표준에 따르면, 스텝은 정적 및 동적 시험을 견뎌야 한다. 정적 시험에서, 스텝은 트레드 요소에 수직하게 작용하는 3000 N 의 힘이 중앙에 가해지고, 여기서 4 ㎜ 이하의 휨 (deflection) 이 발생할 수 있다. 힘의 작용 후, 스텝은 어떠한 지속되는 변형을 갖지 않을 수 있다. 동적 시험에서, 스텝은 맥동성 (pulsating) 힘이 중앙에 가해지고, 여기서 힘은 5 ∼ 20 ㎐ 의 진동수로 500 ∼ 3000 N 에서 변하고 적어도 5 × 10⁶ 사이클 동안 지속된다. 이 시험 후, 스텝은 4 ㎜ 이하의 잔류 변형을 가질 수 있다.

본 발명에 따르면, 일반적으로 편평하게 성형된 재료가 작업물 (10) 로 고려된다. "편평하게 성형된" 이라는 표현은 예비-주름잡힌 판금뿐만 아니라 편평한 판금을 포함하도록 사용된다. 이는 일반적으로 판금 (10) 일 수 있고, 히팅 보디나 정면 (facade) 요소, 솔라 패널, 강철 (steel) 계단, 프레임 요소 또는 플랫폼 요소 제조용 판금 또는 시트일 수 있다.

이러한 요구를 충족시키는 판금을 위한 재료로서, 예컨대 강철 카테고리 H330, H400, DX 52, DX 56, DX 60, H900 또는 H1100 의 딥 드로우 판금이 고려된다. 이들 강철 카테고리는 본질적으로 예컨대 니오브 및/또는 티타늄 및/또는 망간 및/또는 니켈과 같은 미세합금화 첨가제의 강도-강화 효과에 기초한다. 원리적으로, 스테인리스강, 구리, 알루미늄 및 이들의 합금으로 이루어진 미세합금화 강판 또는 판금뿐만 아니라, 상업적으로 입수가능한 모든 딥 드로우 판금이 고려된다.

딥 드로잉된 높이에 대한 판금 두께 (0.25 ㎜ ∼ 0.75 ㎜) 의 비가 바람직하게는 18 ∼ 39 이다. 판금 두께, 및 판금 패널의 치수는, 한편으로, 표준을 충족시키도록 선택되고, 다른 한편으로, 접음 및 딥 드로잉을 통한 변형이 희망하는 치수로 트레드 또는 라이저 요소에 직접 형성되도록 선택된다. 언급한 재료의 경우, 이는 예컨대 약 0.5 ㎜ 미만, 바람직하게는 약 0.4 ㎜ 미만의 판금 두께, 및 약 10 ㎜ ∼ 약 12 ㎜, 바람직하게는 약 10.25 ㎜ ∼ 약 11 ㎜ 의 딥 드로잉된 높이 (= 웹 높이 또는 그루브 높이) 일 수 있다. 웹 폭은 예컨대 약 2.5 ㎜ ∼ 약 5 ㎜, 바람직하게는 약 2.6 ㎜ 이고, 그루브 폭은 약 5 ㎜ ∼ 약 7 ㎜, 바람직하게는 약 6.4 ㎜ 이다. 따라서, 예컨대, 약 3200 ㎜ 의 폭을 갖는 강판 패널로부터, 딥 드로잉뿐만 아니라 주름잡기 및 접음 후에, 정확하게는 트레드 요소 또는 라이저 요소의 약 1000 ㎜ 또는 약 800 ㎜ 또는 약 600 ㎜ 또는 약 1200 ㎜ 또는 약 1400 ㎜ 의 폭이 얻어진다.

이상에서는 플레이트가 수평방향으로 배치되고 또한 작업물이 공구에 수평방향으로 놓이게 되는 딥 드로잉 장치에 대해 설명하였다. 그러나, 수직방향으로 서 있는 배치를 또한 생각할 수 있고, 여기서 이를 개시한다.

더욱이, 이상에서는 공구 (106) 가 (조정가능한) 리세스 (103) 및 딥 드로잉 플레이트 (110) 돌출부를 구비한다고 설명하였다. 그 반대, 즉 공구 (106) 의 돌출부 및 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 (조정가능한) 리세스로 구현될 수 있고, 그러나 그러면 리세스의 조정가능성을 위한 가이드가 딥 드로잉 플레이트 (110) 에 제공되어야 한다.

더욱이, 이상에서 설명한 것처럼, 딥 드로잉 장치 (100) 의 경우, 다이 플레이트 또는 라멜라뿐만 아니라 공구 (106) 의 램 (120) 또는 딥 드로잉 플레이트 (110) 또는 심지어 양자 모두가 예컨대 수평방향 보조 드라이브 또는 드라이브에 의해 작업물 (10) 을 함게 접을 수 있다. 더욱이, 웹은 0°∼ 17°, 바람직하게는 2°∼ 11°의 기울기를 갖는 각도 'W' 를 갖는 것이 바람직하다.

본 발명에 따른 딥 드로잉 장치 (100) 에 의하면, 작업물 (10) 이 제위치에 놓이거나 죄어진 후, 리세스 (103) 의 폐쇄에 의해 접히고 그리고 나서 딥 드로잉되는 본 발명에 따른 방법이 가능하게 된다.

Claims (17)

1. 공구 (106) 및 적어도 2 개의 돌출부 (112) 를 갖는 딥 드로잉 플레이트 (110) 를 포함하는, 편평하게 성형된 작업물 (10) 을 위한 딥 드로잉 장치 (100) 로서, 상기 공구 (106) 는 라멜라 (101) 사이에 대응하는 리세스 (103) 를 가지며, 상기 공구 (106) 및 상기 딥 드로잉 플레이트 (110) 는, 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 돌출부 (112) 가 공구 (106) 의 대응하는 리세스 (103) 내로 이동하도록, 제 1 드라이브에 의해 가이드 (122a ∼ 122d) 에서 서로에 대해 이동할 수 있고, 상기 리세스 (103) 는 작업물 (10) 의 수용 위치 (PA) 와 단부 위치 (PE) 사이의 범위에서 제 2 드라이브에 의해, 딥 드로잉 축선에 수직으로 배치되는 접음 축선 (A1) 을 따라 폭이 조정가능하고,
   상기 작업물 (10) 은 리세스 (103) 에서,
   제 2 드라이브가 상기 접음 축선 (A1) 을 따라 수용 위치 (PA) 로부터 단부 위치 (PE) 까지 리세스를 조정하여 작업물을 예비 성형하고, 그 후에 제 1 드라이브를 작동시켜 상기 딥 드로잉 플레이트의 돌출부가 공구 (106) 의 대응하는 리세스 (103) 내로 이동하는 방법으로 작업물의 형상을 마무리하는, 2 단계 공정에 의해 접혀지는 딥 드로잉 장치 (100).
2. 제 1 항에 있어서, 상기 리세스 (103) 는 공구 (106) 에서의 리세스의 폭과 리세스의 위치 (P₁, P₂) 에서 조정가능한 것을 특징으로 하는 딥 드로잉 장치 (100).
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 작업물 (10) 을 공구 (106) 에 대해 불거나 흡인하는 압축 공기 장치 (108) 가 제공된 것을 특징으로 하는 딥 드로잉 장치 (100).
4. 제 3 항에 있어서, 작업물 (10) 의 접음을 위해, 평탄화 플레이트 (109) 가 작업물 (10) 과 딥 드로잉 플레이트 (110) 사이의 제위치로 이동될 수 있고, 상기 평탄화 플레이트 (109) 는 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 라멜라 (101) 에서 작업물 (10) 에 대해 압력에 의해 지지되는 것을 특징으로 하는 딥 드로잉 장치 (100).
5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 돌출부 (112) 는 딥 드로잉 플레이트 (110) 가 편평한 하측 (113) 을 갖도록 딥 드로잉 플레이트 (110) 내로 하강할 수 있는 것을 특징으로 하는 딥 드로잉 장치 (100).
6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 딥 드로잉 플레이트 (110) 는, 공구 (106) 에 대한 압력이 작업물 (10) 을 물결모양으로 성형하도록 공구 (106) 의 수용 위치 (PA) 에 부합하는 후퇴가능한 스탬핑 요소를 갖는 것을 특징으로 하는 딥 드로잉 장치 (100).
7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 편평하게 성형된 작업물 (10), 딥 드로우 판금, H380 또는 H400 또는 DX 52, DX 56, DX 60, H900, H1100 박강판으로부터 에스컬레이터의 스텝 또는 이동 보도의 플레이트의 트레드 요소 및 라이저 요소를 제조하도록 설계된 것을 특징으로 하는 딥 드로잉 장치 (100).
8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 공구 (106) 는 유압식으로 조절가능한 리세스 (103) 를 갖는 것을 특징으로 하는 딥 드로잉 장치 (100).
9. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 공구 (106) 는 스핀들 드라이브에 의해 동시에 조정가능한 리세스 (103) 를 갖는 것을 특징으로 하는 딥 드로잉 장치 (100).
10. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 돌출부 (112) 는 딥 드로잉 플레이트 (110) 을 향해 가늘어지거나 또는 넓어지는 단면 프로파일을 갖는 것을 특징으로 하는 딥 드로잉 장치 (100).
11. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 돌출부 (112) 는 0°∼ 17°인 각도 'W' 를 갖는 것을 특징으로 하는 딥 드로잉 장치 (100).
12. 중간의 조정가능한 리세스 (103) 를 갖는 라멜라 (100) 를 포함하는 공구 (106), 및 제 1 드라이브에 의해 가이드 (122a ∼ 122d) 에서 공구 (106) 에 대해 이동가능하고 적어도 2 개의 돌출부 (112) 를 갖는 딥 드로잉 플레이트 (110) 를 포함하는 딥 드로잉 장치 (100) 로, 편평하게 성형된 작업물 (10) 을 딥 드로잉하는 방법으로서, 하기 순서대로,
    - 공구 (106) 와 딥 드로잉 플레이트 (110) 사이에, 편평하게 성형된 작업물 (10) 또는 물결모양으로 예비성형된 작업물 (10) 을 도입하는 단계;
    - 작업물 (10) 이 접히도록, 제 2 드라이브에 의해 접음 축선 (A1) 을 따라 공구 (106) 의 리세스 (103) 를 조정하는 단계; 및
    - 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 돌출부 (112) 가 공구 (106) 의 리세스 (103) 에 침입하여, 작업물 (10) 의 슬롯형 오목부 (114) 를 형성하도록, 제 1 드라이브에 의한 딥 드로잉 플레이트 (110) 를 향한 공구 (106) 의 상대 운동에 의해 접힌 작업물 (10) 을 딥 드로잉하는 단계
    를 포함하는, 작업물 (10) 을 딥 드로잉하는 방법.
13. 제 12 항에 있어서, 에스컬레이터의 스텝의 트레드 요소 또는 라이저 요소를 성형하기 위해, 작업물 (10) 의 도입 후 그리고 리세스 (103) 의 조정 전에,
    - 압축 공기 장치 (108) 에 의해 공구 (106) 에 대해 작업물 (10) 을 흡인하거나 또는 부는 단계
    를 포함하는, 작업물 (10) 을 딥 드로잉하는 방법.
14. 제 12 항에 있어서, 에스컬레이터의 스텝의 트레드 요소 또는 라이저 요소를 성형하기 위해, 작업물 (10) 의 도입 후에, 하기 순서대로,
    - 작업물 (10) 과 딥 드로잉 플레이트 (110) 사이에 평탄화 플레이트 (109) 를 도입하는 단계;
    - 평탄화 플레이트 (109) 가 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 돌출부 (112) 에 맞닿고 그에 따라 지지되는 평탄화 플레이트 (109) 에 작업물 (10) 이 맞닿게 되도록, 공구 (106) 와 딥 드로잉 플레이트 (110) 사이의 간격 (D) 을 조정하는 단계
    를 포함하고, 리세스 (103) 의 조정 후에, 하기 순서대로,
    - 공구 (106) 와 딥 드로잉 플레이트 (110) 사이의 간격 (D) 을 조정하는 단계; 및
    - 평탄화 플레이트 (109) 를 제거하는 단계
    를 포함하는, 작업물 (10) 을 딥 드로잉하는 방법.
15. 제 12 항 내지 제 14 항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 편평하게 성형된 작업물 (10) 은 편평한 판금이고, 하기 순서대로,
    - 공구 (106) 의 리세스 (103) 를 수용 위치 (PA) 로 설정하는 단계;
    - 제 1 배치의 돌출부 (112) 및 제 2 배치의 돌출부를 딥 드로잉 플레이트 (110) 내로 후퇴시키는 단계;
    - 공구 (106) 와 딥 드로잉 플레이트 (110) 사이에 편평한 판금 (10) 을 도입하는 단계;
    - 편평한 판금 (10) 이 물결모양으로 성형되도록, 제 2 배치의 돌출부를 조정하는 단계;
    - 제 2 배치의 돌출부를 후퇴시키는 단계;
    - 물결모양으로 성형된 판금 (10) 이 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 하측 (113) 에 맞닿도록, 공구 (106) 와 딥 드로잉 플레이트 (110) 사이의 간격 (D) 을 조정하는 단계;
    - 물결모양으로 성형된 판금 (10) 이 접히도록, 수용 위치 (PA) 로부터 단부 위치 (PE) 까지 공구 (106) 의 리세스 (103) 를 조정하는 단계; 및
    - 접힌 판금 (10) 이 공구 (106) 의 리세스 (103) 의 단부 위치 (PE) 로의 딥 드로잉 플레이트 (110) 의 돌출부 (112) 의 침입에 의해 딥 드로잉되도록, 제 1 배치의 돌출부 (112) 를 조정하는 단계
    를 포함하는, 작업물 (10) 을 딥 드로잉하는 방법.
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