KR101409670B1 - Light irradiating apparatus for exposure apparatus, lighting control method thereof, exposure apparatus, exposure method and substrate - Google Patents

Light irradiating apparatus for exposure apparatus, lighting control method thereof, exposure apparatus, exposure method and substrate Download PDF

Info

Publication number
KR101409670B1
KR101409670B1 KR1020117003998A KR20117003998A KR101409670B1 KR 101409670 B1 KR101409670 B1 KR 101409670B1 KR 1020117003998 A KR1020117003998 A KR 1020117003998A KR 20117003998 A KR20117003998 A KR 20117003998A KR 101409670 B1 KR101409670 B1 KR 101409670B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
light source
light
predetermined number
cassettes
cassette
Prior art date
Application number
KR1020117003998A
Other languages
Korean (ko)
Other versions
KR20110106836A (en
Inventor
히로노리 가와시마
슈사쿠 가루이시
신이치로 나가이
도모노리 하라다
Original Assignee
엔에스케이 테쿠노로지 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엔에스케이 테쿠노로지 가부시키가이샤 filed Critical 엔에스케이 테쿠노로지 가부시키가이샤
Publication of KR20110106836A publication Critical patent/KR20110106836A/en
Application granted granted Critical
Publication of KR101409670B1 publication Critical patent/KR101409670B1/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/2002—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image
    • G03F7/2008—Exposure; Apparatus therefor with visible light or UV light, through an original having an opaque pattern on a transparent support, e.g. film printing, projection printing; by reflection of visible or UV light from an original such as a printed image characterised by the reflectors, diffusers, light or heat filtering means or anti-reflective means used
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
    • G03F7/7005—Production of exposure light, i.e. light sources by multiple sources, e.g. light-emitting diodes [LED] or light source arrays
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70216—Mask projection systems
    • G03F7/7035—Proximity or contact printers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

광원부의 교환 시간 및 장치의 다운 타임을 단축시킬 수 있는 노광 장치용 광조사 장치 및 그 점등 제어 방법, 그리고 노광 장치, 노광 방법 및 기판을 제공한다.
광조사 장치 (80) 는, 램프 (71) 와 램프 (71) 로부터 발생된 광에 지향성을 부여하여 사출하는 반사경 (72) 을 각각 포함하는 복수의 광원부 (73) 와, 소정 수의 광원부 (73) 를 각각 장착 가능한 복수의 카세트 (81) 와, 복수의 카세트 (81) 를 장착 가능한 지지체 (82) 를 구비한다.A light irradiation apparatus for an exposure apparatus, a lighting control method thereof, and an exposure apparatus, an exposure method, and a substrate, which can shorten the replacement time of the light source unit and the downtime of the apparatus.
The light irradiation device 80 includes a plurality of light source portions 73 each including a lamp 71 and a reflector 72 for emitting directivity to the light generated from the lamp 71 and emitting the light and a predetermined number of light source portions 73 A plurality of cassettes 81 to which a plurality of cassettes 81 can be attached, respectively, and a support body 82 on which a plurality of cassettes 81 can be mounted.

Description

노광 장치용 광조사 장치 및 그 점등 제어 방법, 그리고 노광 장치, 노광 방법 및 기판{LIGHT IRRADIATING APPARATUS FOR EXPOSURE APPARATUS, LIGHTING CONTROL METHOD THEREOF, EXPOSURE APPARATUS, EXPOSURE METHOD AND SUBSTRATE}TECHNICAL FIELD [0001] The present invention relates to a light irradiating apparatus for an exposure apparatus, a lighting control method thereof, an exposure apparatus, an exposure method and a substrate,

본 발명은, 노광 장치용 광조사 장치 및 그 점등 제어 방법, 그리고 노광 장치, 노광 방법 및 기판에 관한 것으로, 보다 상세하게는, 액정 디스플레이나 플라즈마 디스플레이 등의 대형 플랫 패널 디스플레이의 기판 상에 마스크의 마스크 패턴을 노광 전사하는 노광 장치에 적용할 수 있는 노광 장치용 광조사 장치 및 그 점등 제어 방법, 그리고 노광 장치, 노광 방법 및 기판에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a light irradiating apparatus for an exposure apparatus, a lighting control method thereof, an exposure apparatus, an exposure method and a substrate, and more particularly, An exposure apparatus, an exposure method, and a substrate, which can be applied to an exposure apparatus that performs exposure and transfer of a mask pattern.

종래, 플랫 패널 디스플레이 장치의 컬러 필터 등의 패널을 제조하는 장치로서, 근접 노광 장치, 스캔 노광 장치, 투영 노광 장치, 미러 프로젝션, 밀착식 노광 장치 등의 여러 가지 노광 장치가 고안되어 있다. 예를 들어, 분할 축차 근접 노광 장치에서는, 기판보다 작은 마스크를 마스크 스테이지에 의해 유지함과 함께 기판을 워크 스테이지에 의해 유지하여 양자를 근접시켜 대향 배치한 후, 워크 스테이지를 마스크에 대해서 스텝 이동시키고 각 스텝마다 마스크측으로부터 기판에 패턴 노광용의 광을 조사함으로써, 마스크에 묘화된 복수의 패턴을 기판 상에 노광 전사하여, 1 장의 기판에 복수의 패널을 제작한다. 또한, 스캔 노광 장치에서는, 일정 속도로 반송되고 있는 기판에 대해서 노광용 광을 마스크를 사이에 두고 조사하여, 기판 상에 마스크의 패턴을 노광 전사한다.Conventionally, various exposure apparatuses such as a proximity exposure apparatus, a scan exposure apparatus, a projection exposure apparatus, a mirror projection, and a contact type exposure apparatus have been devised as apparatuses for manufacturing panels such as color filters of a flat panel display apparatus. For example, in a divided-stage close-up exposure apparatus, a mask smaller than a substrate is held by a mask stage, and the substrate is held by a workpiece stage so as to face each other. A plurality of patterns drawn on the mask are exposed and transferred onto the substrate by irradiating the substrate with the light for pattern exposure from the mask side for each step to manufacture a plurality of panels on one substrate. Further, in the scan exposure apparatus, a light beam for exposure is irradiated to a substrate conveyed at a constant speed with a mask therebetween, and a pattern of the mask is exposed and transferred onto the substrate.

최근, 디스플레이 장치는 점차로 대형화되어, 예를 들어, 분할 축차 노광에 있어서, 제 8 세대 (2200 ㎜ × 2500 ㎜) 의 패널을 4 회의 노광 쇼트로 제조하는 경우, 1 회의 노광 영역은 1300 ㎜ × 1120 ㎜ 가 되고, 6 회의 노광 쇼트로 제조하는 경우, 1 회의 노광 영역은 1100 ㎜ × 750 ㎜ 가 된다. 따라서, 노광 장치에 있어서도 노광 영역의 확대가 요구되고 있으며, 사용되는 광원의 출력도 높일 필요가 있다. 이 때문에, 조명 광학계로서, 복수의 광원을 사용하여 광원 전체의 출력을 높이려고 한 것이 알려져 있다 (예를 들어, 특허문헌 1∼4 참조). 예를 들어, 특허문헌 2 에 기재된 광조사 장치에서는, 복수의 램프의 일부를 점등 중에, 조도계에 의해 측정된 실제 조도와 미리 설정된 적정 조도를 비교하여, 실제 조도의 과부족에 따라서, 램프의 통전을 차단하거나, 예비 램프를 통전시키거나 하고 있다. 특허문헌 3 에 기재된 광조사 장치에서는, 램프의 점등 중에, 광원 유닛을 뒤쪽에서부터 떼어내고, 새로운 광원 유닛을 장착하여, 제조 라인을 멈추지 않고서 램프 교환을 실시하고, 또한, 광원 유닛을 지지체에 장착할 때에는 광원 유닛의 위치 결정부를 지지체의 위치 결정 모서리부에 밀어붙여, 광축 방향의 위치 결정을 실시하는 것이 기재되어 있다.In recent years, in the case of manufacturing an eighth generation (2200 mm x 2500 mm) panel with four exposing shots, for example, in a divided-axis exposing process, the exposure area of one time is 1300 mm x 1120 Mm, and in the case of manufacturing with an exposure shot six times, the exposure area of one time becomes 1100 mm x 750 mm. Therefore, in the exposure apparatus, it is also required to enlarge the exposure area and to increase the output of the light source used. For this reason, it is known that, as an illumination optical system, a plurality of light sources are used to increase the output of the entire light source (see, for example, Patent Documents 1 to 4). For example, in the light irradiation apparatus described in Patent Document 2, during lighting of a part of a plurality of lamps, the actual illuminance measured by the illuminometer is compared with a predetermined optimum illuminance, and the lamp is energized Or a spare lamp is energized. In the light irradiation apparatus described in Patent Document 3, the lamp unit is detached from the back, the new light source unit is mounted, lamp replacement is performed without stopping the manufacturing line, and the light source unit is mounted on the support , Positioning is performed in the direction of the optical axis by pushing the positioning portion of the light source unit against the positioning corner portion of the supporting body.

또한, 특허문헌 4 에 기재된 노광용 조명 장치에서는, 내압이 상이한 램프를 각각 구비한 적어도 2 종 이상의 램프 유닛과, 램프 유닛을 유지하는 램프 홀더를 구비하고, 노광 대상물을 노광하기에 최적의 램프 유닛을 선택적으로 발광시키는 것이 기재되어 있다.In the illumination device for exposure disclosed in Patent Document 4, at least two or more lamp units each having a lamp with different internal pressure and a lamp holder for holding the lamp unit are provided, and a lamp unit optimal for exposing the object to be exposed Thereby selectively emitting light.

일본 특허공보 제4391136호Japanese Patent Publication No. 4391136 일본 공개특허공보 2008-241877호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2008-241877 일본 공개특허공보 2006-278907호Japanese Patent Application Laid-Open No. 2006-278907 일본 공개특허공보 2008-191252호Japanese Laid-Open Patent Publication No. 2008-191252

그런데, 노광 장치에서는, 광조사 장치의 조도를 변화시키는 것에 의해 다양한 레지스트의 감도 특성에 대응할 수 있다. 노광량은 조도와 시간의 곱에 의해 산출되기 때문에, 조도 또는 시간을 변경함으로써 적절한 노광량을 얻을 수 있는데, 피노광물에 따라서는 저조도로 노광할 필요가 있어, 조도를 자유롭게 변경할 수 없는 초고압 대형 수은등 광원에서는, 조도를 변경하여 적절한 노광량을 얻기 위해서, 종래에 감광 (ND) 필터 등을 사용하여 저조도를 실현하고 있다. 이 경우, 불필요한 소비 전력이 발생하고, 또한 ND 필터 등의 광학 부품이 필요하였다. 특허문헌 2 에서는, 램프의 일부를 점등시켜 노광하는 것은 기재되어 있는데, 정조도 (定照度) 운전을 노리는 것으로서, 소비 전력의 억제를 의도한 것이 아니며, 또한, 어떻게 복수의 램프를 점등·소등시키는가에 관해서는 기재되어 있지 않다.By the way, in the exposure apparatus, it is possible to cope with the sensitivity characteristics of various resist by changing the illuminance of the light irradiation apparatus. Since the exposure amount is calculated by multiplying the illuminance by the time, it is possible to obtain an appropriate exposure amount by changing the illuminance or the time. Depending on the object to be exposed, it is necessary to perform exposure in low light, In order to obtain an appropriate exposure amount by changing the illuminance, conventionally, a low light intensity is realized by using a neutral density (ND) filter or the like. In this case, unnecessary power consumption occurs, and an optical component such as an ND filter is required. Patent Document 2 discloses that a part of the lamp is lit so as to expose it, but it is not intended to suppress the power consumption and is intended to turn on / off a plurality of lamps Is not described.

또한, 특허문헌 1 및 2 에서는, 램프를 교환할 때에는 램프를 1 개씩 교환할 필요가 있어, 램프 교환에 시간이 걸려서 장치를 정지시키는 시간 (다운 타임) 이 길어진다. 다운 타임을 없애는 것을 목적으로 한 기술로서 특허문헌 3 과 같은 노광 운전 중에 램프를 교환할 수 있는 구성이 공개되어 있지만, 작업자의 교환 시간 자체는 개별 교환이기 때문에, 시간이 긴 것에 차이는 없다. Further, in Patent Documents 1 and 2, it is necessary to replace the lamps one by one when replacing the lamps, so that it takes time to replace the lamps and the time (downtime) for stopping the apparatus becomes long. As a technique for eliminating downtime, a configuration is disclosed in which a lamp can be exchanged during an exposure operation as in Patent Document 3. However, since the operator's replacement time itself is an individual replacement, there is no difference in that the time is long.

또한, 특허문헌 1 및 3 에서는, 램프를 지지하는 지지체의 광 출사측 면이 구면을 따라서 형성되어 있기 때문에, 램프의 수를 증가시킨 경우에는, 그 구면의 표면적이 증대하여, 양호한 정밀도의 곡면 가공이 곤란하다는 문제가 있다.Further, in Patent Documents 1 and 3, since the light output side surface of the support for supporting the lamp is formed along the spherical surface, when the number of lamps is increased, the surface area of the spherical surface is increased, There is a problem that this is difficult.

또한, 수은 램프로부터 조사된 자외선은, 조명 광학계를 통과함으로써 콜리메이션각을 가진 평행광으로 되는데, 경면에서 반사되거나, 렌즈를 투과하거나 하는 것에 의해서, 투과, 흡수는 파장마다 다르기 때문에 자외선의 분광 특성이 변화한다.The ultraviolet rays irradiated from the mercury lamp become parallel rays having a collimation angle by passing through the illumination optical system. Since the transmission and absorption are different depending on the wavelengths, they are reflected by the mirror surface or transmitted through the lens. .

피노광 재료인 포토레지스트는 파장 436 ㎚ 의 g 선 이하에 노광 감도를 가지고 있고, 특히 액정 컬러 필터에 사용되는 네거티브형의 포토레지스트에서는, 최근 그 중심 노광 감도가 i 선 (365 ㎚) 이하의 파장으로 되어 있는 경우가 많다.The photoresist as a material to be exposed has an exposure sensitivity below the g line at a wavelength of 436 nm. In particular, in the case of a negative type photoresist used for a liquid crystal color filter, the center exposure sensitivity has recently changed to a wavelength of 365 nm In many cases.

대형의 초고압 수은 램프에서는 유리의 면적이 증가하기 때문에, 방전에 의해 발생한 자외선이 유리를 통과할 때, 단파장측이 유리에 흡수되고 말아, 노광에 필요한 파장 성분이 적어지는 현상이 발생하고 있다. 또한, 노광광의 분광 특성은 사용하고 있는 램프의 분광 비율에 의존하기 때문에, 자유롭게 파장마다의 강도비를 변경할 수가 없었다. 이 때문에, 포토레지스트의 노광 감도에 따라서 램프를 교환할 필요가 있었다.Since the area of the glass increases in a large-sized ultra-high pressure mercury lamp, when the ultraviolet rays generated by the discharge pass through the glass, the short wavelength side is absorbed by the glass and the wavelength component required for exposure is reduced. Furthermore, since the spectroscopic characteristics of the exposure light depend on the spectral ratio of the lamp used, the intensity ratio can not be freely changed for each wavelength. For this reason, it is necessary to replace the lamp in accordance with the exposure sensitivity of the photoresist.

한편, 특허문헌 4 와 같은 소형 램프를 사용한 경우에는, 유리의 면적이 작기 때문에 단파장측의 흡수가 작고, 또한, 내압이 상이한 램프를 구비한 2 종 이상의 램프 유닛을 목적하는 수만큼 선택적으로 발광시킴으로써, 최적의 노광 조건으로 노광시키고 있다. 그러나, 특허문헌 4 에는, 어떻게 최적의 노광 조건이 되도록 램프를 선택하는가에 대한 구체적인 기재가 없다. On the other hand, in the case of using a small lamp as in Patent Document 4, since the area of the glass is small, the absorption of the short wavelength side is small and the lamp units having two or more lamps having different internal pressures are selectively emitted , And exposure is performed under the optimum exposure conditions. However, in Patent Document 4, there is no detailed description as to how to select the lamp so as to obtain optimum exposure conditions.

본 발명은 전술한 과제를 감안하여 이루어진 것으로, 그 제 1 목적은, 광원부의 교환 시간 및 장치의 다운 타임을 단축시킬 수 있는 노광 장치용 광조사 장치 및 그 점등 제어 방법, 그리고 노광 장치, 노광 방법 및 기판을 제공하는 것에 있다. 또한, 제 2 목적은, 필요한 조도에 따라서 소비 전력을 억제할 수 있음과 함께, 광원부를 용이하게 제어할 수 있는 노광 장치용 광조사 장치 및 그 점등 제어 방법, 그리고 노광 장치, 노광 방법 및 기판을 제공하는 것에 있다. 그리고, 제 3 목적은, 광원부를 교환하지 않고서, 파장마다의 강도를 자유롭게 설정할 수 있는 노광 장치용 광조사 장치 및 그 점등 제어 방법, 그리고 노광 장치, 노광 방법 및 기판을 제공하는 것에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-described problems, and its primary object is to provide a light irradiation apparatus for an exposure apparatus, a light emission control method thereof, and an exposure apparatus, And a substrate. It is a second object of the present invention to provide a light irradiation apparatus for an exposure apparatus capable of suppressing power consumption according to required illumination and easily controlling the light source unit and its lighting control method and an exposure apparatus, . A third object of the present invention is to provide a light irradiation apparatus for an exposure apparatus, a lighting control method thereof, and an exposure apparatus, an exposure method, and a substrate, which can freely set the intensity for each wavelength without replacing the light source unit.

본 발명의 상기 목적은, 하기의 구성에 의해 달성된다.The above object of the present invention is achieved by the following arrangement.

(1) 발광부와 그 발광부로부터 발생된 광에 지향성을 부여하여 사출하는 반사 광학계를 각각 포함하는 복수의 광원부와, (1) a plurality of light source sections each including a light emitting section and a reflecting optical system for emitting directivity to light emitted from the light emitting section,

소정 수의 상기 광원부를 각각 장착 가능한 복수의 카세트와, A plurality of cassettes each capable of mounting a predetermined number of the light sources,

그 복수의 카세트를 장착 가능한 지지체를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.And a support capable of mounting the plurality of cassettes.

(2) 상기 카세트는, 상기 소정 수의 광원부가 지지되는 광원 지지부를 갖고, (2) The cassette has a light source support portion in which the predetermined number of light source portions are supported,

상기 광원 지지부는, 상기 소정 수의 광원부의 광이 조사되는 각 조사면에서부터, 상기 소정 수의 광원부의 광이 입사되는 인티그레이터 렌즈의 입사면까지의 각 광축의 거리가 대략 일정해지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 (1) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.The light source support portion is formed such that distances of respective optical axes from the respective irradiation surfaces irradiated with the light of the predetermined number of light source portions to the incident surfaces of the integrator lens through which the light of the predetermined number of light source portions enter are substantially constant The light irradiation device for an exposure apparatus according to (1).

(3) 상기 지지체는, 상기 복수의 카세트가 각각 장착되는 복수의 카세트 장착부를 갖고, (3) The support has a plurality of cassette mounting portions on which the plurality of cassettes are mounted, respectively,

상기 복수의 카세트 장착부는, 상기 모든 광원부의 광이 조사되는 각 조사면에서부터, 상기 모든 광원부의 광이 입사되는 인티그레이터 렌즈의 입사면까지의 각 광축의 거리가 대략 일정해지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 (2) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.The plurality of cassette mounting portions are formed such that distances of respective optical axes from respective irradiation surfaces irradiated with light of all the light source portions to incident surfaces of the integrator lens through which light of all the light source portions enter are substantially constant (2). ≪ / RTI >

(4) 상기 복수의 카세트 장착부는, 상기 카세트의 광원 지지부가 면하는 개구부와, 그 광원 지지부의 주위에 형성된 평면부와 맞닿는 평면을 각각 구비하고, (4) Each of the plurality of cassette mounting portions has an opening facing the light source support portion of the cassette, and a plane contacting the plane portion formed around the light source support portion,

소정의 방향으로 정렬한 상기 복수의 카세트 장착부의 각 평면은, 소정의 각도로 교차하고 있는 것을 특징으로 하는 (3) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.The light irradiation apparatus for an exposure apparatus according to (3), wherein the respective planes of the plurality of cassette mounting portions aligned in a predetermined direction cross at a predetermined angle.

(5) 상기 지지체의 카세트 장착부는, 상기 평면을 바닥면으로 한 오목부에 형성되고, (5) The cassette mounting portion of the support is formed in a concave portion having the flat surface as the bottom surface,

상기 카세트는, 상기 카세트 장착부의 오목부에 끼워 맞춰지는 것을 특징으로 하는 (4) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.The light irradiation device for an exposure apparatus according to (4), wherein the cassette is fitted in the concave portion of the cassette mounting portion.

(6) 상기 카세트는, 상기 소정 수의 광원부가 지지되는 광원 지지부를 갖고, (6) The cassette has a light source support portion in which the predetermined number of light source portions are supported,

상기 광원 지지부에 지지된 최외주에 위치하는 상기 광원부의 중심을 4 변으로 연결한 선이 직사각형 형상을 이루는 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.The light irradiation apparatus for an exposure apparatus according to any one of (1) to (5), wherein a line connecting the center of the light source unit located at the outermost periphery supported by the light source support unit by four sides has a rectangular shape.

(7) 상기 지지체는, 상기 복수의 카세트가 각각 장착되는 복수의 카세트 장착부를 갖고, (7) The support has a plurality of cassette mounting portions for mounting the plurality of cassettes,

상기 복수의 카세트 장착부는, 서로 직교하는 방향으로 배치되는 상기 카세트의 각 개수를 일치시켜 직사각형 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 (6) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.The light irradiation apparatus for an exposure apparatus according to (6), wherein the plurality of cassette mounting portions are formed in a rectangular shape with the number of the cassettes arranged in a direction orthogonal to each other.

(8) 상기 카세트는, 상기 광원 지지부에 지지된 상기 소정 수의 광원부를 둘러싼 상태로, 상기 광원 지지부에 장착되는 커버 부재를 갖고,(8) The cassette has a cover member mounted on the light source support portion in a state surrounding the predetermined number of light source portions supported by the light source support portion,

상기 광원 지지부와 상기 커버 부재 사이의 수납 공간 내에 있어서, 인접하는 상기 광원부의 반사 광학계의 배면은 직접 대향하고 있는 것을 특징으로 하는 (2) 내지 (7) 중 어느 하나에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.The light irradiation device for an exposure apparatus according to any one of (2) to (7), wherein the back surface of the reflection optical system of the adjacent light source portion is directly opposed in the storage space between the light source support portion and the cover member .

(9) 상기 커버 부재에는, 상기 수납 공간과 그 커버 부재의 외부를 연이어 통하는 연통구멍과 연통홈의 적어도 하나가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 (8) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.(9) The light irradiation device for an exposure apparatus as described in (8), wherein at least one of a communication hole communicating with the storage space and the outside of the cover member and a communication groove is formed in the cover member.

(10) 상기 지지체에는, 상기 각 광원부를 냉각시키기 위해서 냉각수가 순환하는 냉각용 배관이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (9) 중 어느 하나에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.(10) The light irradiation apparatus for an exposure apparatus according to any one of (1) to (9), wherein a cooling pipe through which cooling water is circulated for cooling the light source sections is formed in the support.

(11) 상기 각 광원부의 광이 조사되는 각 조사면에 대하여 후방 및 측방의 적어도 일방으로부터 상기 지지체 내의 공기를 강제 배기하는 강제 배기 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (10) 중 어느 하나에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.(11) The image forming apparatus according to any one of (1) to (10), further comprising forced exhaust means for forcibly exhausting the air in the support from at least one of the rear side and the lateral side with respect to each irradiation surface irradiated with the light of each light source portion And the light irradiating device for an exposure apparatus.

(12) 상기 복수의 광원부의 점등 또는 소등을 제어하는 제어부를 추가로 구비하고, (12) The image forming apparatus according to any one of the above modes (1) to (4), further comprising a control unit for controlling turning on / off of the plurality of light source units,

상기 제어부는, 상기 각 카세트 내에서의 상기 소정 수의 광원부가 대략 회전 대칭으로 점등하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (11) 중 어느 하나에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.The light irradiation apparatus for an exposure apparatus according to any one of (1) to (11), wherein the control unit controls the predetermined number of light sources in each of the cassettes to be turned on in a substantially rotationally symmetrical manner.

(13) 상기 복수의 광원부의 점등 또는 소등을 제어하는 제어부를 추가로 구비하고,(13) The apparatus according to any one of (1) to (13), further comprising a control unit for controlling the light sources to be turned on or off,

상기 제어부는, 상기 각 카세트 내에서의 상기 소정 수의 광원부 중, 대략 회전 대칭이 되는 위치의 상기 광원부를 교대로 점등하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (11) 중 어느 하나에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.(1) to (11), characterized in that the control unit controls to alternately turn on the light source unit at a position which is substantially rotationally symmetric among the predetermined number of light source units in each of the cassettes Light irradiating device.

(14) 상기 소정 수의 광원부는, 분광 특성이 상이한 복수 종류의 광원부에 의해서 구성되는 것을 특징으로 하는 (1) 내지 (13) 중 어느 하나에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.(14) The light irradiation apparatus for an exposure apparatus according to any one of (1) to (13), wherein the predetermined number of light source sections are constituted by a plurality of kinds of light source sections having different spectral characteristics.

(15) 발광부와 그 발광부로부터 발생된 광에 지향성을 부여하여 사출하는 반사 광학계를 각각 포함하는 복수의 광원부와, (15) a plurality of light source sections each including a light emitting section and a reflecting optical system for emitting directivity to light emitted from the light emitting section,

소정 수의 상기 광원부를 각각 장착 가능한 복수의 카세트와, A plurality of cassettes each capable of mounting a predetermined number of the light sources,

그 복수의 카세트를 장착 가능한 지지체와, A support body on which the plurality of cassettes can be mounted,

상기 복수의 광원부의 점등 또는 소등을 제어하는 제어부를 구비하고, And a control unit for controlling the turning on and off of the plurality of light source units,

상기 제어부는, 상기 각 카세트 내에서의 상기 소정 수의 광원부가 대략 회전 대칭으로 점등하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.Wherein the control unit controls the predetermined number of light sources in each of the cassettes to be turned on in a substantially rotationally symmetrical manner.

(16) 상기 제어부는, 상기 복수의 카세트의 상기 소정 수의 광원부가 동일한 점등 패턴으로 대략 회전 대칭으로 동시에 점등하도록 제어함으로써, 상기 모든 광원부가 대략 회전 대칭으로 점등하는 것을 특징으로 하는 (15) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.(16) The apparatus as set forth in (15), wherein all of the light source sections are turned in a substantially rotationally symmetrical manner by controlling the predetermined number of light source sections of the plurality of cassettes to be turned on at the same time in substantially same rotational symmetry The light irradiation apparatus for an exposure apparatus according to claim 1.

(17) 상기 제어부는, 상기 카세트 내의 소정 수의 광원부 중, 점등하는 상기 광원부의 수가 상이한 복수의 점등 패턴군을 구비함과 함께, 그 각 점등 패턴군은, 상기 광원부가 대략 회전 대칭으로 점등하는 복수의 점등 패턴을 각각 갖는 것을 특징으로 하는 (15) 또는 (16) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.(17) The image forming apparatus according to any one of (17) to (17), wherein the control unit includes a plurality of lighting pattern groups different in the number of the light source units to be lit from among a predetermined number of light source units in the cassette, The light irradiation apparatus for an exposure apparatus according to (15) or (16), wherein the light irradiation apparatus has a plurality of light emission patterns.

(18) 상기 각 광원부의 점등 시간을 카운트하는 타이머를 추가로 구비하고, (18) a timer for counting the lighting time of each light source unit,

상기 제어부는, 원하는 조도에 따라서 상기 복수의 점등 패턴군 중 어느 것을 선택함과 함께, 그 선택된 점등 패턴군 중, 상기 광원부의 점등 시간에 기초하여 상기 점등 패턴을 선택하는 것을 특징으로 하는 (17) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.(17), wherein the control unit selects any of the plurality of lighting pattern groups according to a desired illuminance and selects the lighting pattern based on the lighting time of the light source unit among the selected lighting pattern groups. And the light irradiating device for an exposure apparatus.

(19) 상기 각 광원부의 점등 시간을 카운트하는 타이머를 추가로 구비하고, (19) a timer for counting the lighting time of each of the light sources,

상기 제어부는, 상기 각 광원부의 점등 시간, 및 점등시에 공급된 전압 또는 전력에 기초하여 상기 복수의 광원부의 잔존 수명을 계산하고, Wherein the control unit calculates the remaining lifetime of the plurality of light source units based on the lighting time of each of the light source units and the voltage or electric power supplied at the time of lighting,

상기 제어부는, 원하는 조도에 따라서 상기 복수의 점등 패턴군 중 어느 것을 선택함과 함께, 그 선택된 점등 패턴군 중, 상기 광원부의 잔존 수명에 기초하여 상기 점등 패턴을 선택하는 것을 특징으로 하는 (17) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.(17), wherein the control unit selects any one of the plurality of lighting pattern groups according to a desired illuminance and selects the lighting pattern based on the remaining lifetime of the light source unit among the selected lighting pattern groups. And the light irradiating device for an exposure apparatus.

(20) 상기 원하는 조도가, 상기 복수의 점등 패턴군에 의해 얻어지는 조도와 상이할 때, 상기 원하는 조도에 가까운 조도가 얻어지는 점등 패턴군을 선택함과 함께, 상기 점등하는 광원부에 공급하는 전압 또는 전력을 조정하는 것을 특징으로 하는 (18) 또는 (19) 에 기재된 노광 장치용 조사 장치.(20) A lighting pattern group in which the illuminance close to the desired illuminance is obtained, when the desired illuminance is different from the illuminance obtained by the plurality of illuminated pattern groups, (18) or (19), wherein the irradiation position of the irradiation light is adjusted.

(21) 발광부와 그 발광부로부터 발생된 광에 지향성을 부여하여 사출하는 반사 광학계를 각각 포함하는 복수의 광원부와, (21) a plurality of light source sections each including a light emitting section and a reflecting optical system for emitting directivity to the light generated from the light emitting section,

소정 수의 상기 광원부를 각각 장착 가능한 복수의 카세트와, A plurality of cassettes each capable of mounting a predetermined number of the light sources,

그 복수의 카세트를 장착 가능한 지지체와, A support body on which the plurality of cassettes can be mounted,

상기 복수의 광원부의 점등 또는 소등을 제어하는 제어부를 구비하고, And a control unit for controlling the turning on and off of the plurality of light source units,

상기 제어부는, 상기 각 카세트 내에 있어서의 상기 소정 수의 광원부 중, 대략 회전 대칭이 되는 위치의 상기 광원부를 교대로 점등하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.Wherein the control unit controls to alternately turn on the light source unit at a position that is substantially rotationally symmetric among the predetermined number of light source units in each of the cassettes.

(22) 상기 제어부는, 상기 복수의 카세트의 상기 소정 수의 광원부가 동일한 점등 패턴으로 동시에 점등하도록 제어함으로써, 상기 모든 광원부 중, 대략 회전 대칭이 되는 위치의 상기 광원부가 교대로 점등하는 것을 특징으로 하는 (21) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.(22) The control unit controls the light source units of the predetermined number of the plurality of cassettes to be lit simultaneously in the same lighting pattern, so that the light source units in positions substantially rotationally symmetrical among all the light source units are alternately turned on (21). ≪ / RTI >

(23) 발광부와 그 발광부로부터 발생된 광에 지향성을 부여하여 사출하는 반사 광학계를 각각 포함하는 소정 수의 광원부와, (23) a predetermined number of light source sections each including a light emitting section and a reflecting optical system for emitting directivity to light emitted from the light emitting section,

상기 소정 수의 광원부의 광이 인티그레이터 렌즈의 입사면에 입사되도록, 상기 소정 수의 광원부를 지지하는 카세트를 구비하는 노광 장치용 광조사 장치로서, And a cassette for supporting the predetermined number of light source sections so that light of the predetermined number of light source sections is incident on the incident surface of the integrator lens,

상기 소정 수의 광원부는, 분광 특성이 상이한 복수 종류의 광원부에 의해서 구성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.Wherein the predetermined number of light source portions are constituted by a plurality of kinds of light source portions having different spectral characteristics.

(24) 상기 소정 수의 광원부의 각 발광부는, 분광 특성이 동일하고, (24) Each of the light emitting portions of the predetermined number of light source portions has the same spectral characteristics,

상기 소정 수의 광원부는, 그 일부에 파장 컷 필터를 배치함으로써, 분광 특성이 상이한 복수 종류의 광원부를 구성하는 것을 특징으로 하는 (23) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.The light irradiation device for an exposure apparatus according to (23), wherein the predetermined number of light source portions constitute a plurality of kinds of light source portions having different spectral characteristics by disposing a wavelength cut filter in a part thereof.

(25) 상기 카세트를 복수 구비함과 함께, (25) A cassette comprising a plurality of cassettes,

상기 모든 광원부의 광이 상기 인티그레이터 렌즈의 입사면에 입사되도록, 상기 복수의 카세트가 장착되는 프레임을 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 (23) 또는 (24) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치.The light irradiation apparatus for an exposure apparatus according to (23) or (24), further comprising a frame on which the plurality of cassettes are mounted such that light from all the light sources is incident on an incident surface of the integrator lens.

(26) 피노광재로서의 기판을 유지하는 기판 유지부와, (26) a substrate holding portion for holding a substrate as a material to be exposed,

상기 기판과 대향하도록 마스크를 유지하는 마스크 유지부와, A mask holding portion for holding the mask so as to face the substrate;

(1) ∼ (25) 중 어느 하나에 기재된 상기 광조사 장치와, 그 광조사 장치의 복수의 광원부에서 출사된 광이 입사되는 인티그레이터 렌즈를 갖는 조명 광학계를 구비하고, 상기 기판에 대해서 상기 조명 광학계로부터의 광을 상기 마스크를 사이에 두고 조사하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.An illumination optical system having the light irradiation device described in any one of (1) to (25) and an integrator lens into which light emitted from a plurality of light source portions of the light irradiation device is incident, And the light from the optical system is irradiated with the mask interposed therebetween.

(27) 피노광재로서의 기판을 유지하는 기판 유지부와, (27) A substrate holding unit for holding a substrate as a material to be exposed,

상기 기판과 대향하도록 마스크를 유지하는 마스크 유지부와, A mask holding portion for holding the mask so as to face the substrate;

(1) ∼ (25) 중 어느 하나에 기재된 상기 광조사 장치와, 그 광조사 장치의 복수의 광원부에서 출사된 광이 입사되는 인티그레이터 렌즈를 갖는 조명 광학계를 구비하는 노광 장치를 사용하여, Using the exposure apparatus including the light irradiation apparatus described in any one of (1) to (25) and an illumination optical system having an integrator lens into which light emitted from a plurality of light source sections of the light irradiation apparatus is incident,

상기 기판에 대해서 상기 조명 광학계로부터의 광을 상기 마스크를 사이에 두고 조사하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.Wherein the substrate is irradiated with light from the illumination optical system via the mask.

(28) (27) 에 기재된 노광 방법을 사용하여 노광되는 것을 특징으로 하는 기판.(28) A substrate which is exposed using the exposure method described in (27).

(29) 발광부와 그 발광부로부터 발생된 광에 지향성을 부여하여 사출하는 반사 광학계를 각각 포함하는 복수의 광원부와, 소정 수의 상기 광원부를 각각 장착 가능한 복수의 카세트와, 그 복수의 카세트를 장착 가능한 지지체와, 상기 복수의 광원부의 점등 또는 소등을 제어하는 제어부를 구비하는 노광 장치용 광조사 장치의 점등 제어 방법으로서, (29) A liquid crystal display device comprising: a plurality of light source portions each including a light emitting portion and a reflecting optical system for emitting directivity to light emitted from the light emitting portion, and a plurality of cassettes each capable of mounting a predetermined number of the light source portions, A lighting control method for a light irradiating apparatus for an exposure apparatus comprising a mountable support member and a control unit for controlling the turning on or off of the plurality of light source units,

상기 제어부는, 상기 각 카세트 내에서의 상기 소정 수의 광원부가 대략 회전 대칭으로 점등하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치의 점등 제어 방법.Wherein the control unit controls the predetermined number of light sources in each of the cassettes to be turned on in a substantially rotationally symmetric manner.

(30) 발광부와 그 발광부로부터 발생된 광에 지향성을 부여하여 사출하는 반사 광학계를 각각 포함하는 복수의 광원부와, 소정 수의 상기 광원부를 각각 장착 가능한 복수의 카세트와, 그 복수의 카세트를 장착 가능한 지지체와, 상기 복수의 광원부의 점등 또는 소등을 제어하는 제어부를 구비하는 노광 장치용 광조사 장치의 점등 제어 방법으로서, (30) A liquid crystal display device comprising: a plurality of light source portions each including a light emitting portion and a reflective optical system for directing light emitted from the light emitting portion to emit directivity; a plurality of cassettes each capable of mounting a predetermined number of the light source portions; A lighting control method for a light irradiating apparatus for an exposure apparatus comprising a mountable support member and a control unit for controlling the turning on or off of the plurality of light source units,

상기 제어부는, 상기 각 카세트 내에서의 상기 소정 수의 광원부 중, 대략 회전 대칭이 되는 위치의 상기 광원부를 교대로 점등하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치의 점등 제어 방법.Wherein the control unit controls to alternately turn on the light source unit at a position that is substantially rotationally symmetric among the predetermined number of light source units in each of the cassettes.

(31) 발광부와 그 발광부로부터 발생된 광에 지향성을 부여하여 사출하는 반사 광학계를 각각 포함하는 복수의 광원부와, (31) a plurality of light source sections each including a light emitting section and a reflecting optical system for emitting directivity to light emitted from the light emitting section,

소정 수의 상기 광원부의 광이 인티그레이터 렌즈의 입사면에 입사되도록, 상기 소정 수의 광원부를 지지하는 복수의 카세트와, A plurality of cassettes for supporting the predetermined number of light sources so that a predetermined number of light beams from the light source are incident on the incident surface of the integrator lens,

상기 모든 광원부의 광이 상기 인티그레이터 렌즈의 입사면에 입사되도록, 상기 복수의 카세트가 장착되는 프레임과, A frame on which the plurality of cassettes are mounted so that light from all the light sources is incident on an incident surface of the integrator lens,

상기 인티그레이터 렌즈의 하류측에 배치되고, 각 파장에 대응한 조도를 계측하는 조도계와, An illuminometer disposed on the downstream side of the integrator lens for measuring illuminance corresponding to each wavelength,

상기 각 발광부의 점등·소등, 및 조도를 제어하는 제어부를 구비하고, 상기 소정 수의 광원부는, 분광 특성이 상이한 복수 종류의 광원부에 의해서 구성되는 노광 장치용 광조사 장치의 점등 제어 방법으로서,And a control unit for controlling illumination of each of the light emitting units, wherein the predetermined number of light source units is a lighting control method for a light irradiation apparatus for an exposure apparatus comprising a plurality of kinds of light source units having different spectral characteristics,

상기 제어부는, 상기 조도계에 의해 계측된 각 파장에 대응한 조도에 기초하여, 소정의 파장에 있어서 원하는 조도가 얻어지도록, 상기 카세트 내의 각 광원부를 제어하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치의 점등 제어 방법.Wherein the control unit controls each light source unit in the cassette so that a desired illuminance is obtained at a predetermined wavelength based on the illuminance corresponding to each wavelength measured by the illuminometer Lighting control method.

(32) 상기 소정 수의 광원부의 각 발광부는 분광 특성이 동일하고, (32) Each of the light emitting units of the predetermined number of light sources has the same spectral characteristics,

상기 소정 수의 광원부는, 그 일부에 파장 컷 필터를 배치함으로써, 분광 특성이 상이한 복수 종류의 광원부를 구성하는 것을 특징으로 하는 (31) 에 기재된 노광 장치용 광조사 장치의 점등 제어 방법.The lighting control method of a light irradiation apparatus for an exposure apparatus according to (31), wherein the predetermined number of light source units constitute a plurality of kinds of light source units having different spectral characteristics by disposing a wavelength cut filter in a part thereof.

또한, 「조도」란, 1 ㎠ 의 면적이 1 초 동안 받는 에너지 [mW/㎠] 를 말한다.In addition, "illuminance" refers to the energy [mW / cm 2] received by the area of 1 cm 2 for 1 second.

본 발명의 노광 장치용 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법에 의하면, 소정 수의 광원부를 1 개의 카세트에 장착 유닛화하여 관리함으로써, 램프 교환 시간 및 장치의 다운 타임을 단축시킬 수 있다.According to the light irradiation device, exposure device, and exposure method for an exposure apparatus of the present invention, the lamp replacement time and the downtime of the device can be shortened by managing a predetermined number of light source sections in a single cassette as a unit.

또한, 카세트를 사용함으로써, 지지체에 큰 곡면 가공을 실시하지 않고서 모든 광원을 단일 곡면 상에 배치할 수 있다.Further, by using the cassette, all the light sources can be arranged on a single curved surface without performing a large curved surface processing on the supporting body.

또한, 본 발명의 노광 장치용 광조사 장치 및 그 점등 제어 방법에 의하면, 제어부는, 각 카세트 내에서의 소정 수의 광원부가 대략 회전 대칭으로 점등하도록 제어했기 때문에, 필요한 조도에 따라서 소비 전력을 억제하여 노광할 수 있고, 카세트별로 제어하기 때문에, 기판의 크기 (세대) 의 변경이나 램프등(燈)의 수에 상관없이 램프의 점등을 용이하게 제어할 수 있다.Further, according to the light irradiation apparatus for an exposure apparatus and its lighting control method of the present invention, since the control unit controls the predetermined number of light source units in the respective cassettes to turn on in a substantially rotationally symmetrical manner, And it is possible to easily control the lighting of the lamp irrespective of the number of lamps or the change of the size (generation) of the substrate because it is controlled on a cassette-by-cassette basis.

또한, 복수의 카세트의 소정 수의 광원부의 각 램프가 동일한 점등 패턴으로 대략 회전 대칭으로 점등하도록 제어함으로써, 지지체 내의 모든 광원부가 대략 회전 대칭으로 점등한다. 이로써, 노광면의 조도 분포를 변화시키지 않고서 조도를 변화시킬 수 있다.Further, by controlling the lamps of the predetermined number of light source portions of the plurality of cassettes to be turned on in substantially the same rotationally symmetrical manner, all of the light source portions in the support are lit in a substantially rotationally symmetrical manner. Thereby, the illuminance can be changed without changing the illuminance distribution on the exposure surface.

그리고, 본 발명의 노광 장치용 광조사 장치 및 그 점등 제어 방법에 의하면, 제어부는, 각 카세트 내에서의 소정 수의 광원부 중, 대략 회전 대칭이 되는 위치의 광원부를 교대로 점등하도록 제어했기 때문에, 필요한 조도에 따라서 소비 전력을 억제하여 노광할 수 있고, 카세트별로 제어하기 때문에, 기판의 크기 (세대) 의 변경이나 램프등의 수에 상관없이 램프의 점등을 용이하게 제어할 수 있다.According to the light irradiating apparatus for an exposure apparatus and the lighting control method therefor of the present invention, the control unit controls the light source units at positions which are substantially rotationally symmetrical among the predetermined number of light source units in each cassette to alternately turn on, It is possible to control the lighting of the lamp irrespective of the size (generation) of the substrate and the number of lamps or the like because the power consumption can be suppressed according to the required illuminance and exposure can be performed.

또한, 복수의 카세트의 소정 수의 광원부가 동일한 점등 패턴으로 동시에 점등하도록 제어함으로써, 모든 광원부 중, 대략 회전 대칭이 되는 위치의 광원부가 교대로 점등한다. 이로써, 노광면의 조도 분포를 변화시키지 않고서 조도를 변화시킬 수 있다.In addition, by controlling the predetermined number of light source portions of the plurality of cassettes to be lit simultaneously in the same lighting pattern, among the light source portions, the light source portions at substantially rotationally symmetrical positions are alternately turned on. Thereby, the illuminance can be changed without changing the illuminance distribution on the exposure surface.

그리고, 본 발명의 노광 장치용 광조사 장치 및 노광 장치에 의하면, 발광부와 반사 광학계를 포함하는 소정 수의 광원부와, 소정 수의 광원부의 광이 인티그레이터 렌즈의 입사면에 입사되도록, 광원부를 지지하는 카세트를 구비하고, 소정 수의 광원부는, 분광 특성이 상이한 복수 종류의 광원부에 의해 구성되기 때문에, 광원부를 교환하지 않고서, 파장마다 강도를 자유롭게 설정할 수 있다.According to the light irradiation apparatus and the exposure apparatus for an exposure apparatus of the present invention, a predetermined number of light source portions including a light emitting portion and a reflection optical system, and a light source portion for causing light of a predetermined number of light source portions to enter the incident surface of the integrator lens And the predetermined number of light source sections are constituted by a plurality of kinds of light source sections having different spectral characteristics, the intensity can be freely set for each wavelength without replacing the light source section.

또한, 소정 수의 광원부의 각 발광부는 분광 특성이 동일하고, 소정 수의 광원부는, 그 일부에 파장 컷 필터를 배치함으로써 분광 특성이 상이한 복수 종류의 광원부를 구성한다. 이로써, 광원부를 교환하지 않고, 또한 분광 특성이 상이한 광원부를 사용하지 않고서, 파장마다 강도를 자유롭게 설정할 수 있다.Each of the light emitting portions of the predetermined number of light source portions has the same spectral characteristics, and a predetermined number of light source portions constitute a plurality of kinds of light source portions having different spectral characteristics by disposing a wavelength cut filter in a part thereof. This makes it possible to freely set the intensity for each wavelength without replacing the light source part and without using the light source part having different spectral characteristics.

또, 카세트를 복수 구비함과 함께, 모든 광원부의 광이 인티그레이터 렌즈의 입사면에 입사되도록, 복수의 카세트가 장착되는 프레임을 추가로 구비함으로써, 광원부를 유닛화하여 관리할 수 있어, 광원부의 교환 시간 및 장치의 다운 타임을 단축시키고, 또한 광원부의 장착 부품에 커다란 곡면 가공을 실시하지 않고서 모든 광원부를 단일 곡면 상에 배치할 수 있다.In addition, a plurality of cassettes and a frame to which a plurality of cassettes are mounted are arranged so that light from all the light sources is incident on the incident surface of the integrator lens, so that the light source unit can be managed as a unit, It is possible to shorten the exchange time and the downtime of the apparatus, and arrange all the light source sections on a single curved surface without performing a large curved surface processing on the mounting parts of the light source section.

또한, 본 발명의 노광 장치용 광조사 장치의 점등 제어 방법 및 노광 방법에 의하면, 노광 장치용 광조사 장치는, 발광부와 반사 광학계를 포함하는 복수의 광원부와, 소정 수의 광원부의 광이 인티그레이터 렌즈의 입사면에 입사되도록 광원부를 지지하는 복수의 카세트와, 모든 광원부의 광이 인티그레이터 렌즈의 입사면에 입사되도록 복수의 카세트가 장착되는 프레임과, 인티그레이터 렌즈의 하류측에 배치되고, 각 파장에 대응한 조도를 계측하는 조도계와, 각 발광부의 점등·소등, 및 조도를 제어하는 제어부를 구비하고, 소정 수의 광원부는, 분광 특성이 상이한 복수 종류의 광원부에 의해서 구성된다. 그리고, 그 제어 방법에서는, 제어부는, 조도계에 의해 계측된 각 파장에 대응한 조도에 기초하여, 소정의 파장에 있어서 원하는 조도가 얻어지도록 카세트 내의 각 광원부를 제어한다. 이로써, 필요한 발광부를 점등, 소등 또는 조도 제어하여, 노광에 필요한 파장 성분에 있어서의 강도를 자유롭게 설정할 수 있어, 발광부의 수명을 연장시킬 수 있다.According to the lighting control method and the exposure method of the light irradiation apparatus for an exposure apparatus of the present invention, the light irradiation apparatus for an exposure apparatus includes a plurality of light source sections including a light emission section and a reflection optical system, A frame on which a plurality of cassettes are mounted so that light from all the light source portions is incident on the incident surface of the integrator lens; and a frame disposed on the downstream side of the integrator lens, An illuminance meter for measuring the illuminance corresponding to each wavelength; and a control unit for controlling the illuminations and lights-out of the respective light-emitting units and illuminance, and the predetermined number of light source units are constituted by plural kinds of light source units having different spectral characteristics. In the control method, the control unit controls each light source unit in the cassette so as to obtain a desired illuminance at a predetermined wavelength based on the illuminance corresponding to each wavelength measured by the illuminometer. As a result, it is possible to freely set the intensity of the wavelength component required for exposure by turning on / off or illuminance control the required light emitting portion, thereby extending the service life of the light emitting portion.

도 1 은, 본 발명의 제 1 실시형태에 관련된 분할 축차 근접 노광 장치를 설명하기 위한 일부 분해 사시도이다.
도 2 는, 도 1 에 나타내는 분할 축차 근접 노광 장치의 정면도이다.
도 3 은, 마스크 스테이지의 단면도이다.
도 4 는, (a) 는 조명 광학계의 광조사 장치를 나타내는 정면도이고, (b) 는 (a) 의 Ⅳ-Ⅳ 선에 따른 단면도이고, (c) 는 (a) 의 Ⅳ'-Ⅳ' 선에 따른 단면도이다.
도 5 는, (a) 는 카세트를 나타내는 정면도이고, (b) 는 (a) 의 Ⅴ 방향에서 본 단면도이고, (c) 는 (a) 의 Ⅴ' 방향에서 본 카세트의 단면도를 인티그레이터 렌즈와 함께 나타내는 도면이다.
도 6 은, 카세트에 장착된 광원부 근방의 확대 단면도이다.
도 7 은, 램프 누름 기구의 변형예를 나타내는 카세트의 단면도이다.
도 8 은, 카세트가 지지체에 장착된 상태를 나타내는 요부 확대도이다.
도 9 는, 카세트를 기울여서 지지체에 장착하는 상태를 나타내는 측면 단면도이다.
도 10 은, 각 광원부의 출사면에서 인티그레이터 렌즈의 입사면까지의 거리를 나타내는 개략도이다.
도 11 은, 카세트를 지지체에 장착하기 위한 카세트 고정 수단의 변형예를 나타내는 도면으로, (a) 는 평면도이고, (b) 는 (a) 의 ⅩI-ⅩI 선에 따른 단면도이다.
도 12 는, (a) 는 카세트를 지지체에 장착하기 위한 카세트 고정 수단의 다른 변형예를 나타내는 사시도이고, (b) 는 카세트가 지지체에 장착된 상태를 나타내는 단면도이다.
도 13 은, (a) 는 카세트를 지지체에 장착하기 위한 카세트 고정 수단의 또 다른 변형예를 나타내는 사시도이고, (b) 는 카세트가 지지체에 장착된 상태를 나타내는 단면도이다.
도 14 는, 각 광원부의 제어 구성을 나타내기 위한 도면이다.
도 15 는, 수명 시간 검출 수단을 설명하기 위한 도면이다.
도 16 은, 카세트 내의 광원부를 통합하여 관리하는 경우를 설명하기 위한 도면이다.
도 17 은, 공기에 의해 각 광원부를 냉각하는 구조의 일례를 나타내는 도면이다.
도 18 의 (a) ∼ (c) 는, 카세트 누름 커버에 형성된 배기구멍의 예를 나타내는 도면이다.
도 19 의 (a), (b) 는, 냉매에 의해 각 광원부를 냉각하는 냉각로의 설계예를 나타내는 도면이다.
도 20 은, 카세트 장착부에 카세트와 덮개 부재를 배치한 일례를 나타내는 도면이다.
도 21 의 (a), (b) 는, 카세트에 장착되는 광원부의 배치를 나타내는 도면이다.
도 22 는, 도 21(a) 의 카세트가 장착된 지지체를 나타내는 도면이다.
도 23 의 (a) ∼ (d) 는, 광조사 장치의 점등 제어 방법을 나타내는 도면이다.
도 24 의 (a) ∼ (c) 는, 카세트 내의 각 광원부의 점등 패턴을 나타내는 도면이다.
도 25 의 (a), (b) 는, 광조사 장치의 다른 점등 제어 방법을 나타내는 도면이다.
도 26 의 (a), (b) 는, 본 발명의 제 2 실시형태에 관련된 각 광원부의 점등 제어 방법의 일례를 나타내는 도면이다.
도 27 의 (a), (b) 는, 본 발명의 제 2 실시형태에 관련된 각 광원부의 점등 제어 방법의 일례를 나타내는 도면이다.
도 28 의 (a), (b) 는, 본 발명의 제 2 실시형태에 관련된 각 광원부의 점등 제어 방법의 일례를 나타내는 도면이다.
도 29 의 (a) ∼ (d) 는, 본 발명의 제 3 실시형태에 관련된 각 광원부의 점등 제어 방법의 일례를 나타내는 도면이다.
도 30 은, 제 4 실시형태의 분할 축차 근접 노광 장치의 정면도이다.
도 31 은, (a) 는 광조사 장치를 나타내는 정면도이고, (b) 는 (a) 의 ⅩⅩⅩⅠ-ⅩⅩⅩⅠ 선에 따른 단면도이다.
도 32 는, (a) 는 카세트를 나타내는 정면도이고, (b) 는 (a) 의 측면도이고, (c) 는 (a) 의 하면도이다.
도 33 은, (a) 는 제 4 실시형태의 변형예에 관련된 광조사 장치의 카세트를 나타내는 정면도이고, (b) 는 다른 변형예에 관련된 광조사 장치의 카세트를 나타내는 정면도이고, (c) 는 (a) 의 광조사 장치의 광원부를 부분적으로 소등시킨 경우를 나타내는 도면이다.
도 34 는, 본 발명의 제 5 실시형태에 관련된 근접 스캔 노광 장치의 전체 사시도이다.
도 35 는, 근접 스캔 노광 장치를, 조사부 등의 상부 구성을 제거한 상태로 나타내는 상면도이다.
도 36 은, 근접 스캔 노광 장치의 마스크 배치 영역에서의 노광 상태를 나타내는 측면도이다.
도 37 은, (a) 는 마스크와 공기 패드와의 위치 관계를 설명하기 위한 요부 상면도이고, (b) 는 그 단면도이다.
도 38 은, 근접 스캔 노광 장치의 조사부를 설명하기 위한 도면이다.
도 39 는, (a) 는 도 38 의 광조사 장치를 나타내는 정면도이고, (b) 는 (a) 의 ⅩⅩⅩⅨ-ⅩⅩⅩⅨ 선에 따른 단면도이다.
도 40 은, 근접 스캔 노광 장치의 조사부를 설명하기 위한 도면이다.
도 41 은, (a) 는 도 40 의 광조사 장치를 나타내는 정면도이고, (b) 는 (a) 의 ⅩⅩⅩⅩⅠ-ⅩⅩⅩⅩⅠ 선에 따른 단면도이다.
도 42 는, 본 발명의 지지체의 변형예에 관련된 개략 단면도이다.
도 43 은, 본 발명의 지지체의 카세트 장착부의 변형예를 나타내는 단면도이다.BRIEF DESCRIPTION OF DRAWINGS FIG. 1 is a partially exploded perspective view for explaining a divided-stage near-field exposure apparatus according to a first embodiment of the present invention. FIG.
Fig. 2 is a front view of the divided-sequence near-field exposure apparatus shown in Fig. 1. Fig.
3 is a cross-sectional view of the mask stage.
Fig. 4A is a front view showing the light irradiation device of the illumination optical system, Fig. 4B is a sectional view taken along the line IV-IV in Fig. 4A, Fig.
FIG. 5A is a front view showing a cassette, FIG. 5B is a sectional view taken along line V of FIG. 5A, and FIG. 5C is a sectional view of the cassette viewed from the V ' Fig.
6 is an enlarged cross-sectional view of the vicinity of the light source portion mounted on the cassette.
7 is a cross-sectional view of a cassette showing a modified example of the lamp pressing mechanism.
Fig. 8 is an enlarged view of the main part showing a state in which the cassette is mounted on the support. Fig.
9 is a side sectional view showing a state in which the cassette is tilted and mounted on a support.
10 is a schematic view showing the distance from the exit surface of each light source section to the entrance surface of the integrator lens.
11A is a plan view and FIG. 11B is a cross-sectional view taken along a line XI-XI in FIG. 11A. FIG. 11A is a view showing a modification of the cassette fixing means for mounting the cassette on a support.
FIG. 12A is a perspective view showing another modified example of the cassette fixing means for mounting the cassette on the support, and FIG. 12B is a sectional view showing the cassette mounted on the support.
Fig. 13A is a perspective view showing still another modification of the cassette fixing means for mounting the cassette on the support, and Fig. 13B is a sectional view showing the cassette mounted on the support.
Fig. 14 is a diagram showing a control configuration of each light source unit. Fig.
15 is a view for explaining the life time detecting means.
16 is a view for explaining a case where the light source unit in the cassette is integrally managed.
17 is a view showing an example of a structure for cooling each light source section by air.
Figs. 18 (a) to 18 (c) are views showing examples of the exhaust holes formed in the cassette pressing cover. Fig.
Figs. 19 (a) and 19 (b) are diagrams showing examples of the design of a cooling furnace for cooling each light source section by a coolant. Fig.
20 is a diagram showing an example in which a cassette and a lid member are arranged in a cassette mounting portion.
21 (a) and 21 (b) are views showing the arrangement of the light source unit mounted on the cassette.
Fig. 22 is a view showing the support on which the cassette of Fig. 21 (a) is mounted.
23 (a) to 23 (d) are diagrams showing a lighting control method of a light irradiation apparatus.
24 (a) to 24 (c) are diagrams showing the lighting patterns of the respective light source portions in the cassette.
25 (a) and 25 (b) are diagrams showing another lighting control method of the light irradiation device.
26 (a) and 26 (b) are diagrams showing an example of a lighting control method of each light source section according to the second embodiment of the present invention.
27 (a) and 27 (b) are diagrams showing an example of a lighting control method of each light source section according to the second embodiment of the present invention.
28 (a) and 28 (b) are diagrams showing an example of a lighting control method of each light source section according to the second embodiment of the present invention.
29A to 29D are diagrams showing an example of the lighting control method of each light source section according to the third embodiment of the present invention.
30 is a front view of the divided-sequence near-field exposure apparatus of the fourth embodiment.
31 (a) is a front view showing a light irradiation device, and (b) is a cross-sectional view taken along a line XXXI-XXXI in (a).
32 (a) is a front view showing a cassette, (b) is a side view of (a), and (c) is a bottom view of (a).
Fig. 33 is a front view showing a cassette of a light irradiation apparatus according to a modification of the fourth embodiment, Fig. 33 (b) is a front view showing a cassette of the light irradiation apparatus according to another modification, (a) is partly turned off. Fig.
34 is an overall perspective view of a proximity-scanning exposure apparatus according to a fifth embodiment of the present invention.
FIG. 35 is a top view showing the proximity-scanning exposure apparatus in a state in which an upper configuration such as an irradiation unit is removed. FIG.
36 is a side view showing the exposure state in the mask arrangement region of the near-scan exposure apparatus.
37 (a) is a top view of the recessed portion for explaining the positional relationship between the mask and the air pad, and (b) is a sectional view thereof.
Fig. 38 is a view for explaining an irradiation unit of the near-scan exposure apparatus.
Fig. 39 (a) is a front view showing the light irradiation device of Fig. 38, and Fig. 39 (b) is a cross-sectional view taken along line XXIX-XXIX of Fig.
40 is a view for explaining an irradiating unit of the proximity-scanning exposure apparatus.
Fig. 41 is a front view showing the light irradiation device of Fig. 40, and Fig. 41 (b) is a cross-sectional view taken along the line XXXXI-XXXXI of Fig.
42 is a schematic cross-sectional view related to a modified example of the support of the present invention.
43 is a sectional view showing a modification of the cassette mounting portion of the support of the present invention.

이하, 본 발명의 광조사 장치, 노광 장치 및 노광 방법에 관련된 각 실시형태를 도면에 기초하여 상세히 설명한다.DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments of a light irradiation apparatus, an exposure apparatus, and an exposure method of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

(제 1 실시형태) (First Embodiment)

도 1 및 도 2 에 나타내는 바와 같이, 제 1 실시형태의 분할 축차 근접 노광 장치 (PE) 는, 마스크 (M) 를 유지하는 마스크 스테이지 (10) 와, 유리 기판 (피노광재) (W) 을 유지하는 기판 스테이지 (20) 와, 패턴 노광용 광을 조사하는 조명 광학계 (70) 를 구비하고 있다.1 and 2, the divided series approximation exposure apparatus PE of the first embodiment includes a mask stage 10 for holding a mask M and a mask stage 10 for holding a glass substrate And an illumination optical system 70 for irradiating the pattern exposure light.

또한, 유리 기판 (W) (이하, 간단히 「기판 (W)」이라고 한다) 은, 마스크 (M) 에 대향 배치되어 있고, 이 마스크 (M) 에 묘화된 패턴을 노광 전사하기 위해서 표면 (마스크 (M) 의 대향면측) 에 감광제가 도포되어 있다.The glass substrate W (hereinafter, simply referred to as "substrate W") is disposed opposite to the mask M, and the surface (mask M) is coated with a photosensitizer.

마스크 스테이지 (10) 는, 중앙부에 직사각형 형상의 개구 (11a) 가 형성되는 마스크 스테이지 베이스 (11) 와, 마스크 스테이지 베이스 (11) 의 개구 (11a) 에 X 축, Y 축, θ 방향으로 이동 가능하게 장착되는 마스크 유지부인 마스크 유지 프레임 (12) 과, 마스크 스테이지 베이스 (11) 의 상면에 형성되어, 마스크 유지 프레임 (12) 을 X 축, Y 축, θ 방향으로 이동시켜 마스크 (M) 의 위치를 조정하는 마스크 구동 기구 (16) 를 구비한다.The mask stage 10 has a mask stage base 11 in which a rectangular opening 11a is formed at a central portion and a movable stage 11 which is movable in the X axis, A mask holding frame 12 which is a mask holding unit mounted on the mask stage 11 and which is provided on the upper surface of the mask stage base 11 so as to move the mask holding frame 12 in the X axis, And a mask driving mechanism (16) for adjusting the mask.

마스크 스테이지 베이스 (11) 는, 장치 베이스 (50) 상에 세워 설치되는 지주 (支柱) (51), 및 지주 (51) 의 상단부에 형성되는 Z 축 이동 장치 (52) 에 의해 Z 축 방향으로 이동 가능하게 지지되고 (도 2 참조), 기판 스테이지 (20) 의 상방에 배치된다.The mask stage base 11 is moved in the Z axis direction by a support 51 erected on the apparatus base 50 and a Z axis moving device 52 formed on the upper end of the support 51 (Refer to Fig. 2), and is disposed above the substrate stage 20. [

도 3 에 나타내는 바와 같이, 마스크 스테이지 베이스 (11) 의 개구 (11a) 의 주연부 상면에는, 평면 베어링 (13) 이 복수 지점 배치되어 있고, 마스크 유지 프레임 (12) 은, 그 상단 외주연부에 형성되는 플랜지 (12a) 를 평면 베어링 (13) 에 재치 (載置) 하고 있다. 이로써, 마스크 유지 프레임 (12) 은, 마스크 스테이지 베이스 (11) 의 개구 (11a) 에 소정의 간극을 사이에 두고 삽입되기 때문에, 이 간극분만큼 X 축, Y 축, θ 방향으로 이동할 수 있게 된다.3, a plurality of planar bearings 13 are arranged on the upper surface of the periphery of the opening 11a of the mask stage base 11, and the mask holding frame 12 is formed on the upper outer peripheral edge portion And the flange 12a is placed on the flat bearing 13. Thus, the mask holding frame 12 is inserted into the opening 11a of the mask stage base 11 with a predetermined gap interposed therebetween, so that the mask holding frame 12 can move in the X, Y, and θ directions by this gap .

또한, 마스크 유지 프레임 (12) 의 하면에는, 마스크 (M) 를 유지하는 척부 (14) 가 간좌 (間座) (15) 를 사이에 두고 고정되어 있다. 이 척부 (14) 에는, 마스크 (M) 의 마스크 패턴이 묘화되어 있지 않은 주연부를 흡착하기 위한 복수의 흡인 노즐 (14a) 이 개설 (開設) 되어 있고, 마스크 (M) 는, 흡인 노즐 (14a) 을 통해 도시되지 않은 진공식 흡착 장치에 의해 척부 (14) 에 자유롭게 착탈할 수 있도록 유지된다. 또한 척부 (14) 는, 마스크 유지 프레임 (12) 과 함께 마스크 스테이지 베이스 (11) 에 대하여 X 축, Y 축, θ 방향으로 이동할 수 있다.A chuck portion 14 holding the mask M is fixed to the lower surface of the mask holding frame 12 with a spacer 15 interposed therebetween. A plurality of suction nozzles 14a for sucking the peripheral portion of the mask M on which the mask pattern is not drawn are formed in the chuck portion 14. The mask M has a suction nozzle 14a, And is freely detachably attached to the chuck 14 by a vacuum adsorption device (not shown). The chuck portion 14 can move along the X, Y, and θ directions with respect to the mask stage base 11 together with the mask holding frame 12.

마스크 구동 기구 (16) 는, 마스크 유지 프레임 (12) 의 X 축 방향을 따른 1 변에 장착되는 2 대의 Y 축 방향 구동 장치 (16y) 와, 마스크 유지 프레임 (12) 의 Y 축 방향을 따른 1 변에 장착되는 1 대의 X 축 방향 구동 장치 (16x) 를 구비한다.The mask driving mechanism 16 includes two Y-axis direction driving devices 16y mounted on one side along the X-axis direction of the mask holding frame 12 and two Y- And one X-axis direction driving device 16x mounted on the side.

Y 축 방향 구동 장치 (16y) 는, 마스크 스테이지 베이스 (11) 상에 설치되고, Y 축 방향으로 신축하는 로드 (16b) 를 갖는 구동용 액츄에이터 (예를 들어 전동 액츄에이터 등) (16a) 와, 로드 (16b) 의 선단에 핀 지지 기구 (16c) 를 통해서 연결되는 슬라이더 (16d) 와, 마스크 유지 프레임 (12) 의 X 축 방향을 따른 변부에 장착되고, 슬라이더 (16d) 를 이동 가능하게 장착하는 안내 레일 (16e) 을 구비한다. 또한, X 축 방향 구동 장치 (16x) 도, Y 축 방향 구동 장치 (16y) 와 동일한 구성을 갖는다.The Y-axis direction driving device 16y includes a driving actuator (e.g., an electric actuator) 16a provided on the mask stage base 11 and having a rod 16b extending and contracted in the Y-axis direction, A slider 16d connected to the tip end of the mask holding frame 16 via a pin supporting mechanism 16c and a guide 16b mounted on a side edge of the mask holding frame 12 along the X axis direction for movably mounting the slider 16d And a rail 16e. The X-axis direction driving device 16x also has the same configuration as the Y-axis direction driving device 16y.

그리고, 마스크 구동 기구 (16) 에서는, 1 대의 X 축 방향 구동 장치 (16x) 를 구동시킴으로써 마스크 유지 프레임 (12) 을 X 축 방향으로 이동시키고, 2 대의 Y 축 방향 구동 장치 (16y) 를 동등하게 구동시킴으로써 마스크 유지 프레임 (12) 을 Y 축 방향으로 이동시킨다. 또한, 2 대의 Y 축 방향 구동 장치 (16y) 의 어느 일방을 구동함으로써 마스크 유지 프레임 (12) 을 θ 방향으로 이동 (Z 축 둘레의 회전) 시킨다.The mask driving mechanism 16 drives the one X-axis direction driving device 16x to move the mask holding frame 12 in the X-axis direction and the two Y-axis direction driving devices 16y in the same Thereby moving the mask holding frame 12 in the Y-axis direction. Further, the mask holding frame 12 is moved in the? Direction (rotation around the Z axis) by driving either one of the two Y axis direction driving devices 16y.

또한, 마스크 스테이지 베이스 (11) 의 상면에는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 마스크 (M) 와 기판 (W) 의 대향면 사이의 갭을 측정하는 갭 센서 (17) 와, 척부 (14) 에 유지되는 마스크 (M) 의 장착 위치를 확인하기 위한 얼라인먼트 카메라 (18) 가 설치된다. 이들 갭 센서 (17) 및 얼라인먼트 카메라 (18) 는, 이동 기구 (19) 를 통해서 X 축, Y 축 방향으로 이동 가능하게 유지되고, 마스크 유지 프레임 (12) 내에 배치된다.1, a gap sensor 17 for measuring a gap between the mask M and the opposing surface of the substrate W, and a gap sensor 17 for holding the chuck 14 An alignment camera 18 for confirming the mounting position of the mask M is provided. These gap sensors 17 and the alignment camera 18 are movably held in the X-axis and Y-axis directions through the moving mechanism 19 and disposed in the mask holding frame 12. [

또한, 마스크 유지 프레임 (12) 상에는, 도 1 에 나타내는 바와 같이, 마스크 스테이지 베이스 (11) 의 개구 (11a) 의 X 축 방향 양 단부에, 마스크 (M) 의 양 단부를 필요에 따라 차폐하는 어퍼쳐 블레이드 (38) 가 형성된다. 이 어퍼쳐 블레이드 (38) 는, 모터, 볼 나사, 및 리니어 가이드 등으로 이루어지는 어퍼쳐 블레이드 구동 기구 (39) 에 의해 X 축 방향으로 이동할 수 있게 되어, 마스크 (M) 의 양 단부의 차폐 면적을 조정한다. 또한, 어퍼쳐 블레이드 (38) 는, 개구 (11a) 의 X 축 방향 양 단부뿐만 아니라, 개구 (11a) 의 Y 축 방향 양 단부에 동일하게 형성되어 있다.As shown in Fig. 1, on both ends in the X axis direction of the opening 11a of the mask stage base 11, there are provided on the mask holding frame 12, upper ends of the mask M, And a take-up blade 38 is formed. The aperture blade 38 can be moved in the X axis direction by an aperture blade drive mechanism 39 including a motor, a ball screw, and a linear guide, and the aperture area of the aperture M Adjust. The aperture blade 38 is formed at both ends in the Y axis direction of the opening 11a as well as at both ends in the X axis direction of the opening 11a.

기판 스테이지 (20) 는, 도 1 및 도 2 에 나타내는 바와 같이, 기판 (W) 을 유지하는 기판 유지부 (21) 와, 기판 유지부 (21) 를 장치 베이스 (50) 에 대하여 X 축, Y 축, Z 축 방향으로 이동시키는 기판 구동 기구 (22) 를 구비한다. 기판 유지부 (21) 는, 도시되지 않은 진공 흡착 기구에 의해 기판 (W) 을 자유롭게 착탈할 수 있도록 유지한다. 기판 구동 기구 (22) 는, 기판 유지부 (21) 의 하방에, Y 축 테이블 (23), Y 축 이송 기구 (24), X 축 테이블 (25), X 축 이송 기구 (26), 및 Z-틸트 조정 기구 (27) 를 구비한다.1 and 2, the substrate stage 20 includes a substrate holding section 21 for holding a substrate W and a holding section 21 for holding the substrate holding section 21 in the X-axis, Y Axis, and Z-axis direction of the substrate. The substrate holding section 21 holds the substrate W so that it can be freely attached and detached by a vacuum adsorption mechanism (not shown). The substrate driving mechanism 22 includes a Y-axis table 23, a Y-axis feed mechanism 24, an X-axis table 25, an X-axis feed mechanism 26, and Z - tilt adjustment mechanism (27).

Y 축 이송 기구 (24) 는, 도 2 에 나타내는 바와 같이, 리니어 가이드 (28) 와 이송 구동 기구 (29) 를 구비하여 구성되고, Y 축 테이블 (23) 의 이면에 장착된 슬라이더 (30) 가, 장치 베이스 (50) 상으로 연장되는 2 개의 안내 레일 (31) 에 전동체 (도시 생략) 를 통해서 걸쳐 가설됨과 함께, 모터 (32) 와 볼 나사 장치 (33) 에 의해 Y 축 테이블 (23) 을 안내 레일 (31) 을 따라 구동한다.2, the Y-axis feed mechanism 24 includes a linear guide 28 and a feed drive mechanism 29. The Y-axis feed mechanism 24 includes a slider 30 mounted on the back surface of the Y- Axis table 23 by means of the motor 32 and the ball screw unit 33. The Y-axis table 23 is mounted on the two guide rails 31 extending on the apparatus base 50 via a rolling member (not shown) Is driven along the guide rail (31).

또한, X 축 이송 기구 (26) 도 Y 축 이송 기구 (24) 와 동일한 구성을 갖고, X 축 테이블 (25) 을 Y 축 테이블 (23) 에 대하여 X 방향으로 구동한다. 또한, Z-틸트 조정 기구 (27) 는, 쐐기 형상의 이동체 (34, 35) 와 이송 구동 기구 (36) 를 조합하여 이루어지는 가동 쐐기 기구를 X 방향의 일단측에 1 대, 타단측에 2 대 배치함으로써 구성된다. 또한, 이송 구동 기구 (29, 36) 는, 모터와 볼나사 장치를 조합한 구성이어도 되고, 고정자와 가동자를 갖는 리니어 모터여도 된다. 또한, Z-틸트 조정 기구 (27) 의 설치 수는 임의이다.The X axis feed mechanism 26 also has the same configuration as the Y axis feed mechanism 24 and drives the X axis table 25 in the X direction with respect to the Y axis table 23. [ The Z-tilt adjusting mechanism 27 includes a movable wedge mechanism formed by combining the wedge-shaped moving bodies 34 and 35 and the feed driving mechanism 36 in the X direction at one end and the other at the other end . The feed drive mechanisms 29 and 36 may be a combination of a motor and a ball screw device, or may be a linear motor having a stator and a mover. Further, the number of the Z-tilt adjusting mechanisms 27 may be arbitrarily set.

이로써, 기판 구동 기구 (22) 는, 기판 유지부 (21) 를 X 방향 및 Y 방향으로 이송 구동함과 함께, 마스크 (M) 와 기판 (W) 의 대향면 사이의 갭을 미세 조정하도록, 기판 유지부 (21) 를 Z 축 방향으로 미동시키고 또한 틸트 조정한다.The substrate driving mechanism 22 drives and drives the substrate holder 21 in the X and Y directions and controls the substrate W to move the substrate W The holding portion 21 is moved in the Z-axis direction and the tilt is adjusted.

기판 유지부 (21) 의 X 방향 측부와 Y 방향 측부에는 각각 바 미러 (61, 62) 가 장착되고, 또한, 장치 베이스 (50) 의 Y 방향 단부와 X 방향 단부에는, 합계 3 대의 레이저 간섭계 (63, 64, 65) 가 형성되어 있다. 이로써, 레이저 간섭계 (63, 64, 65) 로부터 레이저광을 바 미러 (61, 62) 에 조사하고, 바 미러 (61, 62) 에 의해 반사된 레이저광을 수광하여, 레이저광과 바 미러 (61, 62) 에 의해 반사된 레이저광의 간섭을 측정하여 기판 스테이지 (20) 의 위치를 검출한다.Bar mirrors 61 and 62 are mounted on the X-direction side portion and the Y-direction side portion of the substrate holding portion 21 and three laser interferometers 63, 64, and 65 are formed. Thus, the laser beams are irradiated from the laser interferometers 63, 64 and 65 to the bar mirrors 61 and 62, the laser beams reflected by the bar mirrors 61 and 62 are received, , 62) to detect the position of the substrate stage (20).

도 2 및 도 4 에 나타내는 바와 같이, 조명 광학계 (70) 는, 복수의 광원부 (73) 를 구비한 광조사 장치 (80) 와, 복수의 광원부 (73) 로부터 사출된 광속이 입사되는 인티그레이터 렌즈 (74) 와, 각 광원부 (73) 의 램프 (71) 의 점등과 소등의 전환을 포함하는 전압 제어 가능한 광학 제어부 (76) 와, 인티그레이터 렌즈 (74) 의 출사면으로부터 출사된 광로의 방향을 바꾸는 오목면 경 (77) 과, 복수의 광원부 (73) 와 인티그레이터 렌즈 (74) 사이에 배치되어 조사된 광을 투과·차단하도록 개폐 제어하는 노광 제어용 셔터 (78) 를 구비한다. 또한, 인티그레이터 렌즈 (74) 는, 조도 분포를 일정하게 하는 광학계로, 플라이아이 렌즈여도 되고, 로드 인티그레이터 렌즈여도 된다. 또한, 인티그레이터 렌즈 (74) 와 노광면 사이에는, DUV 컷 필터, 편광 필터, 밴드 패스 필터가 배치되어도 되고, 또한, 오목면 경 (77) 에는, 미러의 곡률을 수동 또는 자동으로 변경할 수 있는 디클리네이션각 보정 수단이 형성되어도 된다.2 and 4, the illumination optical system 70 includes a light irradiating device 80 having a plurality of light source portions 73, an integrator lens 70 on which a light beam irradiated from the plurality of light source portions 73 is incident, A voltage controllable optical control section 76 including a switch 74 for turning on and off of the lamp 71 of each light source section 73 and a control section 76 for controlling the direction of the light path emitted from the exit surface of the integrator lens 74 And an exposure control shutter 78 for controlling the opening and closing of the light emitted and arranged between the plurality of light source portions 73 and the integrator lens 74 so as to transmit and block the irradiated light. The integrator lens 74 is an optical system for making the illuminance distribution constant, and may be a fly-eye lens or a rod integrator lens. A DUV cut filter, a polarization filter, and a band-pass filter may be disposed between the integrator lens 74 and the exposure surface. In addition, the concave mirror 77 may be provided with a mirror- Decurination angle correcting means may be formed.

도 4 ∼ 도 6 에 나타내는 바와 같이, 조명 광학계 (70) 의 광조사 장치 (80) 는, 분광 특성이 각각 동일한, 발광부로서의 초고압 수은 램프 (71) 와, 이 램프 (71) 로부터 발생된 광에 지향성을 부여하여 사출하는 반사 광학계로서의 반사경 (72) 을 각각 포함하는 복수의 광원부 (73) 와, 복수의 광원부 (73) 중, 소정 수의 광원부 (73) 를 각각 장착할 수 있는 복수의 카세트 (81) 와, 복수의 카세트 (81) 를 장착할 수 있는 지지체 (82) 를 구비한다. 발광부로는, 초고압 수은 램프 (71) 대신에 할로겐 램프나 LED 등이 적용되어도 된다.As shown in Figs. 4 to 6, the light irradiation device 80 of the illumination optical system 70 includes an ultra-high pressure mercury lamp 71 as a light emitting portion having the same spectral characteristics, A plurality of light sources 73 each of which includes a reflecting mirror 72 serving as a reflecting optical system for giving a directivity to the plurality of light sources 73 and a predetermined number of light sources 73, (81), and a support body (82) capable of mounting a plurality of cassettes (81). As the light emitting portion, a halogen lamp, an LED, or the like may be applied instead of the ultra high pressure mercury lamp 71.

또한, 조명 광학계 (70) 에 있어서, 160 W 의 초고압 수은 램프 (71) 를 사용한 경우, 제 6 세대 플랫 패널을 제조하는 노광 장치에서는 374 개의 광원부, 제 7 세대 플랫 패널을 제조하는 노광 장치에서는 572 개의 광원부, 제 8 세대 플랫 패널을 제조하는 노광 장치에서는 774 개의 광원부가 필요해진다. 단, 본 실시형태에서는, 설명을 간략하게 하기 위해서, 도 4 에 나타내는 바와 같이, α 방향으로 3 단, β 방향으로 2 열의 합계 6 개의 광원부 (73) 가 장착된 카세트 (81) 를 3 단 × 3 열의 합계 9 개 배치한, 54 개의 광원부 (73) 를 갖는 것으로서 설명한다. 또한, 카세트 (81) 나 지지체 (82) 는, 광원부 (73) 의 배치를 α, β 방향으로 동일한 수로 한 정사각형 형상도 생각할 수 있지만, α, β 방향으로 상이한 수로 한 직사각형 형상이 적용된다. 또한, 본 실시형태의 광원부 (73) 에서는, 반사경 (72) 의 개구부 (72b) 가 대략 정사각형 형상으로 형성되어 있고, 4 변이 α, β 방향을 따르도록 배치되어 있다.In the case of using the ultra-high pressure mercury lamp 71 of 160 W in the illumination optical system 70, 374 light sources in the exposure apparatus for manufacturing the sixth generation flat panel, 572 in the exposure apparatus for manufacturing the seventh generation flat panel 774 light sources are required in the light source unit and the exposure apparatus for manufacturing the eighth generation flat panel. However, in the present embodiment, for the sake of brevity, as shown in Fig. 4, a cassette 81 on which six light source portions 73 in total, i.e., three light sources in the a direction and two light sources in the beta direction, And a total of nine light sources 73 arranged in three rows. The cassette 81 and the support 82 may have a rectangular shape in which the light source portions 73 are arranged in the same number in the directions of? And?, But a rectangular shape of different numbers in the? And? Direction is applied. In the light source section 73 of the present embodiment, the opening 72b of the reflecting mirror 72 is formed in a substantially square shape, and the four sides are arranged so as to follow the directions of? And?.

각 카세트 (81) 는, 소정 수의 광원부 (73) 를 지지하는 광원 지지부 (83) 와, 광원 지지부 (83) 에 지지된 광원부 (73) 를 누르고, 그 광원 지지부 (83) 에 장착되는 오목 형상의 램프 누름 커버 (커버 부재) (84) 를 구비한 대략 직육면체 형상으로 형성되어 있고, 각각 동일 구성을 갖는다.Each of the cassettes 81 includes a light source support portion 83 for supporting a predetermined number of light source portions 73 and a light source portion 73 supported by the light source support portions 83. The light source support portion 83 has a concave shape And a lamp pressing cover (cover member) 84 of a substantially rectangular parallelepiped shape.

광원 지지부 (83) 에는, 광원부 (73) 의 수에 대응하여 형성되고, 광원부 (73) 로부터의 광을 발광하는 복수의 창부 (83a) 와, 그 창부 (83a) 의 커버측에 형성되고, 반사경 (72) 의 개구부 (72a) (또는, 반사경 (72) 이 장착되는 반사경 장착부의 개구부) 를 둘러싸는 램프용 오목부 (83b) 가 형성된다. 또한, 그 창부 (83a) 의 커버 반대측에는, 복수의 커버 유리 (85) 가 각각 장착되어 있다. 또한, 커버 유리 (85) 의 장착은 임의로서, 형성되지 않아도 된다.The light source supporter 83 is provided with a plurality of window portions 83a that correspond to the number of the light source portions 73 and emit light from the light source portion 73 and are formed on the cover side of the window portion 83a, A recess 83b for the lamp surrounding the opening 72a of the reflector 72 (or the opening of the reflector mounting portion on which the reflector 72 is mounted) is formed. Further, a plurality of cover glasses 85 are mounted on the opposite side of the cover of the window portion 83a. The mounting of the cover glass 85 is optional and may not be required.

각 램프용 오목부 (83b) 의 바닥면은, 광원부 (73) 의 광을 조사하는 조사면 (여기서는, 반사경 (72) 의 개구면 (72b)) 과, 광원부 (73) 의 광축 (L) 의 교점 (p) 이, 각 α, β 방향에 있어서 단일한 곡면, 예를 들어 구면 (r) 상에 위치하도록, 평면 또는 곡면 (본 실시형태에서는 평면) 으로 형성된다.The bottom surface of each lamp concave portion 83b is formed so as to be opposed to the irradiation surface (here, the opening surface 72b of the reflecting mirror 72) for irradiating the light of the light source portion 73, (Plane in this embodiment) so that the intersection p is located on a single curved surface in the directions of? And?, For example, on the spherical surface r.

램프 누름 커버 (84) 의 바닥면에는, 광원부 (73) 의 뒷쪽에 맞닿는 맞닿음부 (86) 가 형성되어 있고, 각 맞닿음부 (86) 에는, 모터나 실린더와 같은 액츄에이터, 스프링 누름, 나사 고정 등에 의해 구성되는 램프 누름 기구 (87) 가 형성되어 있다. 이로써, 각 광원부 (73) 는, 반사경 (72) 의 개구부 (72a) 를 광원 지지부 (83) 의 램프용 오목부 (83b) 에 끼워 맞추어, 램프 누름 커버 (84) 를 광원 지지부 (83) 에 장착하고, 램프 누름 기구 (87) 에 의해 광원부 (73) 의 뒷쪽을 누름으로써, 카세트 (81) 에 위치 결정된다. 따라서, 도 5(c) 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 에 위치 결정된 소정 수의 광원부 (73) 의 광이 조사되는 각 조사면으로부터, 소정 수의 광원부 (73) 의 광이 입사되는 인티그레이터 렌즈 (74) 의 입사면까지의 각 광축 (L) 의 거리가 대략 일정해진다. 또한, 광원 지지부 (83) 와 램프 누름 커버 (84) 사이의 수납 공간 내에서는, 인접하는 광원부 (73) 의 반사경 (72) 의 배면 (72c) 은 직접 대향하고 있고, 광원부 (73), 램프 누름 기구 (87) 등 이외에는 그 수납 공간 내의 공기의 흐름을 차단하는 것이 없어, 양호한 공기의 유동성이 제공된다.The bottom surface of the lamp pressing cover 84 is provided with an abutting portion 86 abutting on the rear side of the light source portion 73. An actuator such as a motor or a cylinder, And a lamp pressing mechanism 87 constituted by fixing or the like is formed. Each of the light source portions 73 is configured such that the opening 72a of the reflecting mirror 72 is fitted in the lamp recess 83b of the light source support 83 to mount the lamp pressing cover 84 on the light source support 83 And is positioned in the cassette 81 by pressing the rear side of the light source part 73 by the lamp pressing mechanism 87. [ 5 (c), a predetermined number of lights from the light source unit 73, which are positioned in the cassette 81, are irradiated from the irradiation planes, The distance of each optical axis L to the incident surface of the lens 74 becomes substantially constant. The rear surface 72c of the reflecting mirror 72 of the adjacent light source portion 73 is directly opposed in the storage space between the light source supporting portion 83 and the lamp pressing cover 84. The light source portion 73, Other than the mechanism 87, the flow of air in the storage space is not blocked, and fluidity of good air is provided.

또한, 램프 누름 기구 (87) 는 맞닿음부 (86) 마다 형성해도 되지만, 도 7 에 나타내는 바와 같이, 램프 누름 커버 (84) 의 측벽에 형성되어도 된다. 이 경우에도, 맞닿음부 (86) 는, 각 광원부 (73) 에 개개로 형성되어도 되지만, 2 개 이상의 광원부 (73) 의 뒷쪽에 맞닿도록 해도 된다.The lamp pressing mechanism 87 may be formed for each of the abutting portions 86, but it may be formed on the side wall of the lamp pressing cover 84 as shown in Fig. In this case as well, the abutting portions 86 may be formed individually on the light source portions 73, but they may abut on the rear sides of the two or more light source portions 73. [

또한, 지지체 (82) 는, 복수의 카세트 (81) 를 장착하는 복수의 카세트 장착부 (90) 를 갖는 지지체 본체 (91) 와, 그 지지체 본체 (91) 에 장착되고, 각 카세트 (81) 의 뒷쪽을 덮는 지지체 커버 (92) 를 갖는다.The support body 82 is provided with a support body 91 having a plurality of cassette mounting portions 90 for mounting a plurality of cassettes 81, And a supporting body cover 92 covering the base body 92. [

도 8 에 나타내는 바와 같이, 각 카세트 장착부 (90) 에는, 광원 지지부 (83) 가 면하는 개구부 (90a) 가 형성되고, 그 개구부 (90a) 의 주위에는, 광원 지지부 (83) 주위의 직사각형 평면이 대향하는 평면 (90b) 을 바닥면으로 한 카세트용 오목부 (90c) 가 형성된다. 또한, 지지체 본체 (91) 의 카세트용 오목부 (90c) 의 주위에는, 카세트 (81) 를 고정시키기 위한 카세트 고정 수단 (93) 이 형성되어 있고, 본 실시형태에서는, 카세트 (81) 에 형성된 오목부 (81a) 에 걸어 맞추어져, 카세트 (81) 를 고정시킨다.8, each of the cassette mounting portions 90 is provided with an opening 90a facing the light source supporting portion 83. Around the opening 90a, a rectangular plane around the light source supporting portion 83 is formed And a concave portion 90c for a cassette having a flat surface 90b as a bottom surface is formed. A cassette fixing means 93 for fixing the cassette 81 is formed around the cassette recess 90c of the support body 91. In the present embodiment, And is engaged with the portion 81a, so that the cassette 81 is fixed.

또, 도 9 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 는, 카세트 고정 수단 (93) 에 의해 고정될 때, 기울여서 카세트 장착부 (90) 에 부착시키는 편이, 광원부 (73) 가 잘 넘어지지 않으므로 부착시키기 쉽다.9, when the cassette 81 is fixed by the cassette fixing means 93 and is tilted and attached to the cassette mounting portion 90, the light source portion 73 does not fall easily, and therefore, the cassette 81 is easy to be attached .

α 방향 혹은 β 방향으로 정렬하는 카세트용 오목부 (90c) 의 각 평면 (90b) 은, 각 카세트 (81) 의 모든 광원부 (73) 의 광을 조사하는 조사면과, 광원부 (73) 의 광축 (L) 의 교점 (p) 이 각 α, β 방향에 있어서 단일한 곡면, 예를 들어 구면 (r) 상에 위치하도록 (도 10 참조), 소정의 각도 (γ) 로 교차하도록 형성된다.The respective planes 90b of the cassette recess 90c aligned in the? or? direction are arranged in such a manner that an irradiation surface for irradiating the light of all the light source portions 73 of each cassette 81 and an optical axis L intersect at a predetermined angle? Such that the intersection p of the intersection points p is located on a single curved surface in the?,? Direction, for example, the spherical surface r (see Fig. 10).

따라서, 각 카세트 (81) 는, 이들 광원 지지부 (83) 를 각 카세트 장착부 (90) 의 카세트용 오목부 (90c) 에 끼워 맞추어 위치 결정한 상태에서, 카세트 고정 수단 (93) 을 카세트 (81) 의 오목부 (81a) 에 걸어 맞춤으로써 지지체 (82) 에 각각 고정된다. 그리고, 이들 각 카세트 (81) 가 지지체 본체 (91) 에 장착된 상태에서, 그 지지체 본체 (91) 에 지지체 커버 (92) 가 장착된다. 따라서, 도 10 에 나타내는 바와 같이, 각 카세트 (81) 에 위치 결정된 모든 광원부 (73) 의 광이 조사되는 각 조사면과, 모든 광원부 (73) 로부터 조사되는 광 중, 대략 80 ％ ∼ 100 ％ 의 광이 입사되는 인티그레이터 렌즈 (74) 의 입사면까지의 각 광축 (L) 의 거리도 대략 일정해진다.Each of the cassettes 81 is configured such that the cassette fixing means 93 is fixed to the cassette 81 in a state in which the light source supporting portions 83 are fitted to the cassette mounting recess 90c of the cassette mounting portion 90, And fixed to the support body 82 by engagement with the recessed portion 81a. The support body cover 92 is attached to the support body 91 in a state where each of the cassettes 81 is mounted on the support body 91. [ 10, each of the irradiation surfaces irradiated with the light of all the light source portions 73 positioned in each of the cassettes 81 and the irradiation surface of approximately 80% to 100% of the light irradiated from all the light source portions 73 The distance of each optical axis L to the incident surface of the integrator lens 74 on which the light is incident is also substantially constant.

또한, 도 8 에 나타내는 카세트 고정 수단 (93) 대신에, 도 11 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 의 대향하는 2 변에 관통구멍 (83c) 또는 측면에 임하는 홈부를 형성하고, 카세트 고정 수단으로서의 원주 부재 (93a) 를 관통구멍 (83c) 을 통해서 지지체 본체 (91) 의 오목부 (91b) 에 삽입함으로써, 카세트 (81) 가 고정되어도 된다. 또, 관통구멍이나 카세트 고정 수단은, 대향하는 2 변의 중간부에 형성되어 있지만, 예를 들어, 카세트 (81) 의 네 모서리에 형성해도 된다. 또한, 카세트 고정 수단은, 원주 부재 (93a) 대신에 다각형 부재여도 되며, 그것에 따라서 관통구멍 (83c) 이나 오목부 (91b) 의 형상을 변경하면 된다. 또한, 도 11 에 나타내는 카세트 고정 수단은, 도 8 에 나타내는 카세트 고정 수단 (93) 과 함께 사용할 수 있다.As shown in Fig. 11, instead of the cassette fixing means 93 shown in Fig. 8, a through hole 83c or a groove portion formed on a side surface is formed at two opposing sides of the cassette 81, The cassette 81 may be fixed by inserting the columnar member 93a into the concave portion 91b of the support body 91 through the through hole 83c. Although the through hole and the cassette fixing means are formed at the middle portion of the opposite two sides, they may be formed at four corners of the cassette 81, for example. The cassette fixing means may be a polygonal member instead of the columnar member 93a, and the shape of the through hole 83c and the concave portion 91b may be changed accordingly. The cassette fixing means shown in Fig. 11 can be used together with the cassette fixing means 93 shown in Fig.

또는, 도 12(a) 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 의 네 모서리에 카세트 고정 수단으로서의 원주 돌기 (93b) 또는 다각형 돌기를 형성하고, 도 12(b) 에 나타내는 바와 같이, 지지체 본체 (91) 측에 형성된 구멍부 또는 홈부 (91c) 와 끼워 맞춰서 얼라인먼트하도록 해도 된다. 또는, 도 13(a) 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 의 대향하는 2 변에 튀어나옴부 (93c) 를 형성하고, 도 13(b) 에 나타내는 바와 같이, 지지체 본체 (91) 측에 형성된 구멍부 또는 홈부 (91d) 와 끼워 맞춰 얼라인먼트하도록 해도 된다. 또, 튀어나옴부 (93c) 는, 맞부착성 면에서 2 변에 형성되는 것이 바람직하지만, 도 13(a) 의 일점쇄선으로 나타내는 바와 같이, 튀어나옴부 (93c) 는 나머지 대향하는 2 변에도 형성해도 된다. 또한, 도 12(a) 에 나타내는 원주 돌기 (93b) 나 도 13(a) 에 나타내는 튀어나옴부 (93c) 를 지지체 본체 (91) 측에 형성하고, 구멍부나 홈부를 카세트 (81) 측에 형성하는 구성이어도 된다. 그리고, 도 12(a) 및 도 13(a) 에 나타내는 카세트 고정 수단도, 도 8 에 나타내는 카세트 고정 수단 (93) 과 함께 사용할 수 있다.12 (a), a circumferential projection 93b or a polygonal projection as cassette fixing means is formed at four corners of the cassette 81, and as shown in Fig. 12 (b), the support body 91 Or may be fitted with a hole or a groove 91c formed on the side of the groove 91c. 13 (a), protruding portions 93c are formed at two opposing sides of the cassette 81, and as shown in Fig. 13 (b), a protrusion 93c is formed on the side of the support body 91 Or may be aligned with the hole or groove 91d. It is preferable that the protruding portion 93c is formed on two sides in terms of an adhesion property. However, as shown by the one-dot chain line in Fig. 13 (a), the protruding portion 93c is formed on the other two opposite sides . The circumferential projection 93b shown in Fig. 12 (a) and the protruding portion 93c shown in Fig. 13 (a) are formed on the support body 91 side and the hole or groove is formed on the cassette 81 side . The cassette fixing means shown in Figs. 12 (a) and 13 (a) can also be used together with the cassette fixing means 93 shown in Fig.

또한, 도 14 에 나타내는 바와 같이, 각 카세트 (81) 의 광원부 (73) 에는, 램프 (71) 에 전력을 공급하는 점등 전원 (95) 및 제어 회로 (96) 가 개개로 접속되어 있고, 각 광원부 (73) 로부터 후방으로 연장되는 각 배선 (97) 은, 각 카세트 (81) 에 형성된 적어도 1 개의 커넥터 (98) 에 접속되어 모아져 있다. 그리고, 각 카세트 (81) 의 커넥터 (98) 와 지지체 (82) 의 외측에 형성된 광학 제어부 (76) 와의 사이는, 다른 배선 (99) 에 의해 각각 접속된다. 이로써, 광학 제어부 (76) 는, 각 램프 (71) 의 제어 회로 (96) 에 제어 신호를 송신하여, 각 램프 (71) 의 점등 또는 소등, 및 그 점등시에 램프 (71) 에 공급하는 전압을 제어하는 전압 제어를 실시한다.14, a lighting power source 95 and a control circuit 96 for supplying electric power to the lamp 71 are individually connected to the light source unit 73 of each cassette 81, Each of the wirings 97 extending rearward from the connecting portion 73 is connected to at least one connector 98 formed in each of the cassettes 81 and collected. The connector 98 of each cassette 81 and the optical control unit 76 formed on the outer side of the supporting body 82 are connected by different wirings 99, respectively. The optical control unit 76 transmits a control signal to the control circuit 96 of each lamp 71 so that the lamp 71 is turned on or off and the voltage Is performed.

또한, 각 광원부 (73) 의 점등 전원 (95) 및 제어 회로 (96) 는, 카세트 (81) 에 집약되어 형성되어도 되고, 카세트의 외부에 형성되어도 된다. 또한, 램프 누름 커버 (84) 의 맞닿음부 (86) 는, 각 광원부 (73) 로부터의 각 배선 (97) 과 간섭하지 않도록 형성되어 있다.The lighting power supply 95 and the control circuit 96 of each light source section 73 may be formed integrally in the cassette 81 or may be formed outside the cassette. The abutting portion 86 of the lamp pressing cover 84 is formed so as not to interfere with the respective wirings 97 from the respective light source portions 73.

또한 도 15 에 나타내는 바와 같이, 램프 (71) 마다 퓨즈 (94a) 를 포함하는 수명 시간 검출 수단 (94) 을 형성하여, 타이머 (96a) 에 의해 점등 시간을 카운트하고, 정격의 수명 시간이 도래한 단계에서 퓨즈 (94a) 에 전류를 흘려 퓨즈 (94a) 를 절단한다. 따라서, 퓨즈 (94a) 의 절단 유무를 확인함으로써, 램프 (71) 를 정격의 수명 시간 사용했는지 여부를 검출할 수 있다. 또한, 수명 시간 검출 수단 (94) 은, 퓨즈 (94a) 를 포함하는 것에 한정되지 않고, 램프 교환의 메인터넌스시에 램프 (71) 를 정격의 수명 시간 사용했는지를 한눈에 알 수 있는 것이면 된다. 예를 들어, 램프 (71) 마다 IC 태그를 배치하고, IC 태그에 의해 램프 (71) 를 정격의 수명 시간 사용했는지 여부를 확인할 수 있는 것, 혹은, 램프 (71) 의 사용 시간을 확인할 수 있도록 해도 된다.15, the life time detecting means 94 including the fuse 94a is provided for each lamp 71, the lighting time is counted by the timer 96a, and the rated life time comes A current is passed through the fuse 94a to cut the fuse 94a. Therefore, by checking whether or not the fuse 94a is cut off, it is possible to detect whether or not the lamp 71 has used the rated life time. The life time detecting means 94 is not limited to the one including the fuse 94a and may be any one that can know at a glance whether or not the lamp 71 has used the rated life time at the time of maintenance of the lamp replacement. For example, it is possible to arrange an IC tag for each lamp 71 and to check whether the lamp 71 has been used for a rated life time by the IC tag or to check the use time of the lamp 71 You can.

또, 도 14 에서는, 점등 전원 (95) 및 제어 회로 (96) 는 각 광원부 (73) 마다 형성했지만, 복수의 광원부 (73) 마다 1 개 형성하도록 하고, 카세트 (81) 내의 광원부 (73) 를 소정 수씩 통합하여 관리하도록 해도 된다. 예를 들어, 도 16 에 나타내는 카세트 (81) 내에 24 개의 광원부 (73) 를 갖는 경우, 4 개의 광원부 (73) 마다 점등 전원 (95) 및 제어 회로 (96) 를 형성하여, 4 개의 광원부 (73) 를 동기시켜 제어하도록 해도 된다.14, one lighting power source 95 and one control circuit 96 are provided for each light source unit 73, but one light source unit 73 in the cassette 81 may be provided for each light source unit 73, And may be integrated and managed in predetermined numbers. For example, when 24 light source portions 73 are provided in the cassette 81 shown in Fig. 16, a lighting power source 95 and a control circuit 96 are formed for each of the four light source portions 73, and four light source portions 73 May be controlled in synchronization with each other.

또한, 광조사 장치 (80) 의 각 광원부 (73), 각 카세트 (81), 및 지지체 (82) 에는, 각 램프 (71) 를 냉각시키기 위한 냉각 구조가 형성되어 있다. 구체적으로, 도 6 에 나타내는 바와 같이, 각 광원부 (73) 의 램프 (71) 와 반사경 (72) 이 장착되는 베이스부 (75) 에는 냉각로 (75a) 가 형성되어 있고, 카세트 (81) 의 각 커버 유리 (85) 에는 1 개 또는 복수의 관통구멍 (85a) 이 형성되어 있다. 또한, 카세트 (81) 의 램프 누름 커버 (84) 의 바닥면에는, 복수의 배기구멍 (연통구멍) (84a) 이 형성되고 (도 5(c) 참조), 지지체 (82) 의 지지체 커버 (92) 에도 복수의 배기구멍 (92a) 이 형성되어 있다 (도 4(c) 참조). 또한, 각 배기구멍 (92a) 에는, 지지체 (82) 의 외부에 형성된 블로어 유닛 (강제 배기 수단) (79) 이 배기관 (79a) 을 통해 접속되어 있다. 따라서, 블로어 유닛 (79) 에 의해 지지체 (82) 내의 공기를 빼내어 배기시킴으로써, 커버 유리 (85) 의 관통구멍 (85a) 으로부터 흡인된 외부의 공기가, 화살표로 나타낸 방향으로 램프 (71) 와 반사경 (72) 사이의 간극 (S) 을 통과하고, 광원부 (73) 의 베이스부 (75) 에 형성된 냉각로 (75a) 로 유도되어, 공기에 의해 각 광원부 (73) 의 냉각을 실시하고 있다.A cooling structure for cooling the lamps 71 is formed in each of the light source portions 73, each of the cassettes 81, and the support 82 of the light irradiation device 80. 6, a cooling passage 75a is formed in the base portion 75 on which the lamp 71 and the reflecting mirror 72 of the light source unit 73 are mounted, The cover glass 85 is formed with one or a plurality of through holes 85a. A plurality of exhaust holes (communication holes) 84a are formed on the bottom surface of the lamp pressing cover 84 of the cassette 81 (see FIG. 5C) A plurality of exhaust holes 92a are formed (see Fig. 4 (c)). A blower unit (forced exhaust means) 79 formed outside the support member 82 is connected to each exhaust hole 92a through an exhaust pipe 79a. The outside air sucked from the through hole 85a of the cover glass 85 is discharged in the direction indicated by the arrows by the lamp 71 and the reflector 82 in the direction indicated by the arrow by blowing air out of the support 82 by the blower unit 79, Passes through the gap S between the light sources 73 and 72 and is guided to the cooling passage 75a formed in the base portion 75 of the light source portion 73 so that the light source portions 73 are cooled by air.

또한, 강제 배기 수단으로는, 블로어 유닛 (79) 에 한정되지 않고, 팬, 인버터, 진공 펌프 등, 지지체 (82) 내의 공기를 빼내는 것이면 된다. 또한, 블로어 유닛 (79) 에 의한 공기의 배기는 후방에 한정되지 않고, 상방, 하방, 좌방, 우방 중 어느 측방에서부터 배기시켜도 된다. 예를 들어 도 17 에 나타내는 바와 같이, 지지체의 측방에 접속된 복수의 배기관 (79a) 을 댐퍼 (79b) 를 통해 블로어 유닛 (79) 에 각각 접속하도록 해도 된다.The forced exhaust means is not limited to the blower unit 79, but may be a fan, an inverter, a vacuum pump, or the like, which removes air from the support body 82. The air exhausted by the blower unit 79 is not limited to the rear, but may be exhausted from any of the upper, lower, left, and right sides. For example, as shown in Fig. 17, a plurality of exhaust pipes 79a connected to the side of the support may be connected to the blower unit 79 via a damper 79b.

또한, 램프 누름 커버 (84) 에 형성되는 배기구멍 (84a) 은, 도 5(c) 에 나타내는 바와 같이 바닥면에 복수 형성되어도 되고, 도 18(a) 에 나타내는 바와 같이 바닥면의 중앙에 형성되어도 되며, 도 18(b), (c) 에 나타내는 바와 같이 길이 방향, 폭 방향의 측면에 형성되어도 된다. 또한, 배기구멍 (84a) 외에, 램프 누름 커버 (84) 의 개구 가장자리로부터 절결된 연통홈을 형성함으로써, 광원 지지부 (83) 와 램프 누름 커버 (84) 사이의 수납 공간과 외부를 연이어 통하게 해도 된다.Further, a plurality of exhaust holes 84a formed in the lamp pressing cover 84 may be formed on the bottom surface as shown in Fig. 5 (c). Alternatively, as shown in Fig. 18 (a) Or may be formed on the side surfaces in the longitudinal direction and the width direction as shown in Figs. 18 (b) and 18 (c). The storage space between the light source support 83 and the lamp pressing cover 84 and the outside may be communicated with each other by forming a communication groove cut out from the opening edge of the lamp pressing cover 84 in addition to the exhaust hole 84a .

또한, 램프 누름 커버 (84) 는, 복수의 프레임에 의해 구성되는 골조 구조로 하고, 그 프레임에 연통구멍이나 연통홈이 형성된 커버판을 별도 장착함으로써 연통구멍이나 연통홈을 구성하도록 해도 된다.Further, the lamp pressing cover 84 may have a frame structure composed of a plurality of frames, and a communication hole or a communication groove may be formed by separately mounting a cover plate having a communication hole or a communication groove formed in the frame.

또한, 지지체 본체 (91) 의 둘레 가장자리에는 수랭관 (냉각용 배관) (91a) 이 형성되어 있고, 워터 펌프 (69) 에 의해 수랭관 (91a) 내에 냉각수를 순환시키는 것으로도 각 광원부 (73) 를 냉각시키고 있다. 또한, 수랭관 (91a) 은, 도 4 에 나타내는 바와 같이, 지지체 본체 (91) 내에 형성되어도 되고, 지지체 본체 (91) 의 표면에 장착되어도 된다. 또한, 상기 배기식 냉각 구조와 수랭식 냉각 구조는, 어느 하나만 형성되어도 된다. 또한 수랭관 (91a) 은, 도 4 에 나타내는 배치에 한정되지 않고, 도 19(a) 및 도 19(b) 에 나타내는 바와 같이 수랭관 (91a) 을 모든 카세트 (81) 의 주위를 통과하도록 배치, 또는, 모든 카세트 (81) 주위의 일부를 통과하도록 지그재그로 배치하여 냉각수를 순환시켜도 된다.A coolant pipe (cooling pipe) 91a is formed at the peripheral edge of the support body 91. The coolant is circulated in the passageway 91a by the water pump 69, . 4, the receiver tube 91a may be formed in the support body 91 or may be mounted on the surface of the support body 91. [ Further, either of the exhaust type cooling structure and the water-cooling type cooling structure may be formed. The passageway 91a is not limited to the arrangement shown in Fig. 4 and may be arranged so that the passageway 91a passes through the periphery of all the cassettes 81 as shown in Figs. 19 (a) and 19 Or a part of the periphery of all the cassettes 81 so as to circulate the cooling water.

이와 같이 구성된 노광 장치 (PE) 에서는, 조명 광학계 (70) 에 있어서, 노광시에 노광 제어용 셔터 (78) 가 열림 제어되면, 초고압 수은 램프 (71) 로부터 조사된 광이 인티그레이터 렌즈 (74) 의 입사면에 입사된다. 그리고, 인티그레이터 렌즈 (74) 의 출사면으로부터 발해진 광은, 오목면 경 (77) 에 의해 그 진행 방향이 바뀜과 함께 평행광으로 변환된다. 그리고, 이 평행광은, 마스크 스테이지 (10) 에 유지되는 마스크 (M), 또한 기판 스테이지 (20) 에 유지되는 기판 (W) 의 표면에 대하여 대략 수직으로 패턴 노광용 광으로서 조사되어, 마스크 (M) 의 패턴 (P) 이 기판 (W) 상에 노광 전사된다.In the exposure apparatus PE configured as described above, when the exposure control shutter 78 is controlled to be open during exposure in the illumination optical system 70, the light irradiated from the ultra-high pressure mercury lamp 71 passes through the integrator lens 74 Incident on the incidence plane. The light emitted from the emergent surface of the integrator lens 74 is converted into parallel light while its traveling direction is changed by the concave mirror 77. This parallel light is irradiated as a pattern exposure light substantially perpendicularly to the mask M held on the mask stage 10 and the surface of the substrate W held on the substrate stage 20 so that the mask M Is transferred onto the substrate W by exposure.

여기서, 광원부 (73) 를 교환할 때에는 카세트 (81) 별로 교환된다. 각 카세트 (81) 에서는, 소정 수의 광원부 (73) 가 미리 위치 결정되고, 또한, 각 광원부 (73) 로부터의 배선 (97) 이 커넥터 (98) 에 접속되어 있다. 이 때문에, 교환이 필요한 카세트 (81) 를 지지체 (82) 의 광이 출사되는 방향과는 반대 방향에서부터 떼어내고, 새로운 카세트 (81) 를 지지체 (82) 의 카세트용 오목부 (90b) 에 끼워 맞추어 지지체 (82) 에 장착함으로써, 카세트 (81) 내의 광원부 (73) 의 얼라인먼트를 완료한다. 또한, 커넥터 (98) 에 다른 배선 (99) 을 접속함으로써 배선 작업도 완료되므로, 광원부 (73) 의 교환 작업을 용이하게 실시할 수 있다. 또한, 카세트 교환시에는 장치를 멈출 필요가 있다. 이유로는, 카세트 (81) 에는 복수의 램프 (9 개 이상) 가 배치되어 있고, 카세트 하나 하나가 노광면에서의 조도 분포에 크게 기여하기 때문이다. 그러나, 전술한 바와 같이 복수의 카세트 (81) 를 교환하는 경우라도 작업이 용이하고 또한 교환 시간 자체도 짧게 할 수 있기 때문에 유용한 방법이다.Here, when the light source unit 73 is exchanged, it is exchanged for each cassette 81. In each of the cassettes 81, a predetermined number of light source portions 73 are positioned beforehand and wirings 97 from the respective light source portions 73 are connected to the connector 98. Therefore, the cassette 81 to be replaced is detached from the direction opposite to the direction in which the light from the support body 82 is emitted, and the new cassette 81 is fitted to the cassette recess 90b of the support body 82 The alignment of the light source portion 73 in the cassette 81 is completed. Since the wiring work is also completed by connecting the other wiring 99 to the connector 98, the replacement work of the light source portion 73 can be easily performed. It is also necessary to stop the apparatus when changing the cassette. The reason for this is that a plurality of lamps (9 or more) are arranged in the cassette 81, and each cassette greatly contributes to the illuminance distribution on the exposure surface. However, even when a plurality of cassettes 81 are exchanged as described above, it is a useful method because the operation is easy and the exchange time itself can be shortened.

또한, 카세트 (81) 의 광원 지지부 (83) 가, 소정 수의 광원부 (73) 의 광이 조사되는 각 조사면과, 소정 수의 광원부의 광이 입사되는 인티그레이터 렌즈 (74) 의 입사면까지의 각 광축 (L) 의 거리가 대략 일정해지도록 형성되고, 지지체 (82) 의 복수의 카세트 장착부 (90) 는, 모든 광원부 (73) 의 광이 조사되는 각 조사면과, 모든 광원부 (73) 로부터 조사되는 광 중, 대략 80 ∼ 100 ％ 의 광이 입사되는 인티그레이터 렌즈 (74) 의 입사면까지의 각 광축 (L) 의 거리가 대략 일정해지도록 형성되어 있다. 이 때문에, 카세트 (81) 를 사용함으로써, 지지체 (82) 에 큰 곡면 가공을 실시하지 않고, 모든 광원부 (73) 의 조사면을 단일 곡면 상에 배치할 수 있다.The light source supporter 83 of the cassette 81 is arranged so as to cover the respective irradiation surfaces to which the light of the predetermined number of light source portions 73 is irradiated and the light incident surface of the integrator lens 74 to which the light of the predetermined number of light source portions is incident The plurality of cassette mounting portions 90 of the support body 82 are formed so that the distance between each light source portion 73 and each irradiation surface to which light of all the light source portions 73 is irradiated, The distance between the optical axes L to the incident surface of the integrator lens 74 on which approximately 80 to 100% of the light is incident is approximately constant. Therefore, by using the cassette 81, the irradiation surface of all the light source portions 73 can be arranged on a single curved surface without performing a large curved surface processing on the supporting body 82. [

구체적으로, 지지체 (82) 의 복수의 카세트 장착부 (90) 는, 카세트 (81) 의 광원 지지부 (83) 가 면하는 개구부 (90a) 와, 광원 지지부 (83) 의 주위에 형성된 평면부와 맞닿는 평면 (90b) 을 각각 구비하고, 소정의 방향으로 정렬된 복수의 카세트 장착부 (90) 의 각 평면 (90b) 은 소정의 각도로 교차하고 있기 때문에, 카세트 장착부 (90) 를 간단한 가공으로, 소정 수의 광원부 (73) 의 광이 조사되는 각 조사면과 인티그레이터 렌즈 (74) 의 입사면까지의 각 광축 (L) 의 거리가 대략 일정해지도록 형성할 수 있다.Specifically, the plurality of cassette mounting portions 90 of the supporting body 82 are provided with the opening 90a in which the light source supporting portion 83 of the cassette 81 faces, and the flat surface in contact with the plane portion formed around the light source supporting portion 83 And the respective planes 90b of the plurality of cassette mounting portions 90 aligned in a predetermined direction intersect at a predetermined angle so that the cassette mounting portion 90 can be easily formed by a simple process, The distance between the respective irradiation surfaces to which light of the light source unit 73 is irradiated and the optical axis L to the incident surface of the integrator lens 74 can be formed to be substantially constant.

또한, 지지체 (82) 의 카세트 장착부 (90) 는, 평면 (90b) 을 바닥면으로 한 오목부 (90c) 에 형성되고, 카세트 (81) 는, 카세트 장착부 (90) 의 오목부 (90c) 에 끼워 맞추어지기 때문에, 카세트 (81) 를 지지체 (82) 에 덜컥거리는 일 없이 고정시킬 수 있다.The cassette mounting portion 90 of the supporter 82 is formed in the concave portion 90c having the flat surface 90b as a bottom surface and the cassette 81 is mounted on the concave portion 90c of the cassette mounting portion 90 The cassette 81 can be fixed to the supporting body 82 without rattling.

또한 카세트 (81) 는, 광원 지지부 (83) 에 지지된 소정 수의 광원부 (73) 를 둘러싼 상태로, 광원 지지부 (83) 에 장착되는 램프 누름 커버 (84) 를 갖고, 광원 지지부 (83) 와 램프 누름 커버 (84) 사이의 수납 공간 내에서, 인접하는 광원부 (73) 의 반사경 (72) 의 배면 (72c) 은 직접 대향하고 있기 때문에, 수납 공간 내에서 양호한 공기의 유동성이 제공되고, 각 광원부 (73) 를 냉각시킬 때에, 수납 공간 내의 공기를 효율적으로 배기할 수 있다.The cassette 81 also has a lamp pressing cover 84 mounted on the light source supporting portion 83 in a state surrounding a predetermined number of light source portions 73 supported by the light source supporting portion 83. The light source supporting portion 83, Since the back surface 72c of the reflecting mirror 72 of the adjacent light source portion 73 is directly opposed in the storage space between the lamp pressing covers 84, good fluidity of air is provided in the storage space, It is possible to efficiently exhaust the air in the storage space when cooling the heat exchanger 73.

또한 램프 누름 커버 (84) 에는, 수납 공간과 램프 누름 커버 (84) 의 외부를 연이어 통하게 하는 연통구멍 (84a) 이 형성되어 있기 때문에, 간단한 구성으로 카세트 (81) 의 외부로 공기를 배기할 수 있다.Since the lamp pressing cover 84 is provided with the communication hole 84a for communicating the storage space with the outside of the lamp pressing cover 84 in a simple manner, air can be discharged to the outside of the cassette 81 have.

또한 지지체 (82) 에는, 각 광원부 (73) 를 냉각시키기 위해서, 냉각수가 순환하는 수랭관 (91a) 이 형성되어 있기 때문에, 냉각수에 의해 각 광원부 (73) 를 효율적으로 냉각시킬 수 있다.In addition, since the support body 82 is provided with the water-cooled tube 91a through which the cooling water circulates in order to cool the respective light source portions 73, the respective light source portions 73 can be efficiently cooled by the cooling water.

또한, 각 광원부 (73) 의 광이 조사되는 각 조사면에 대하여 후방 및 측방의 적어도 일방으로부터 지지체 (82) 내의 공기를 강제 배기하는 블로어 유닛 (79) 을 갖기 때문에, 지지체 (82) 내의 공기를 순환시킬 수 있어, 각 광원부 (73) 를 효율적으로 냉각시킬 수 있다.Further, since the blower unit 79 for forcibly exhausting the air in the support body 82 from at least one of the rear side and the lateral side is provided for each irradiation face irradiated with the light of each light source unit 73, So that the respective light source portions 73 can be efficiently cooled.

또한, 노광하는 품종 (착색층, BM, 포토 스페이서, 광 배향막, TFT 층 등), 또는 동 품종에서의 레지스트의 종류에 따라서는 필요한 노광량이 상이하기 때문에, 도 20 에 나타내는 바와 같이, 지지체 (82) 의 복수의 카세트 장착부 (90) 에 카세트 (81) 를 모두 장착할 필요가 없는 경우가 있다. 이 경우에는, 카세트 (81) 가 배치되지 않는 카세트 장착부 (90) 에는 덮개 부재 (89) 가 장착되며, 덮개 부재 (89) 에는, 커버 유리 (85) 의 관통구멍 (85a) 과 동일한 직경이고, 동일한 개수의 관통구멍 (89a) 이 형성된다. 이로써, 외부의 공기가, 커버 유리 (85) 의 관통구멍 (85a) 에 추가하여 덮개 부재 (89) 의 관통구멍 (89a) 으로부터도 흡인된다. 따라서, 카세트 (81) 가 모든 카세트 장착부 (90) 에 장착되지 않는 경우라도, 덮개 부재 (89) 를 배치함으로써 카세트 (81) 가 모든 카세트 장착부 (90) 에 배치된 경우와 동일한 공기의 유동성이 제공되고, 광원부 (73) 의 냉각이 이루어진다.Further, since the required exposure amount differs depending on the type of the exposed product (colored layer, BM, photo spacer, photo alignment layer, TFT layer, etc.) or the type of the resist in the same kind, It is not necessary to mount all of the cassettes 81 on a plurality of cassette mounting portions 90 of the cassette mounting portion 90. [ In this case, the lid member 89 is attached to the cassette mounting portion 90 where the cassette 81 is not disposed. The lid member 89 has the same diameter as the through hole 85a of the cover glass 85, The same number of through holes 89a are formed. Thereby, outside air is sucked from the through hole 89a of the lid member 89 in addition to the through hole 85a of the cover glass 85. [ Therefore, even when the cassette 81 is not mounted on all of the cassette mounting portions 90, the same air flowability as that in the case where the cassette 81 is disposed on all of the cassette mounting portions 90 is provided by arranging the lid member 89 And the light source unit 73 is cooled.

또한, 각 광원부 (73) 를 확실하게 냉각시키기 위해서, 모든 카세트 장착부 (90) 에 카세트 (81) 또는 덮개 부재 (89) 가 장착되지 않은 상태에서는, 광조사 장치 (80) 를 운전할 수 없도록 로크해도 된다.In the state where the cassette 81 or the lid member 89 is not attached to all of the cassette mounting portions 90 so as to reliably cool the light source portions 73, the light irradiation device 80 can be locked do.

또한 상기 실시형태에서는 설명을 간략하게 하기 위해서, α 방향으로 3 단, β 방향으로 2 열의 합계 6 개의 광원부 (73) 가 장착된 카세트 (81) 를 예로 들었지만, 실제로는 카세트 (81) 에 배치되는 광원부 (73) 는 8 개 이상이며, 도 21(a) 및 (b) 에 나타낸 배치로 점대칭 또는 선대칭으로 카세트 (81) 에 장착된다. 즉, 광원부 (73) 를 α 방향, β 방향에서 상이한 수로서 배치하고 있고, 카세트 (81) 의 광원 지지부 (83) 에 장착된 최외주에 위치하는 광원부 (73) 의 중심을 4 변으로 연결한 선이 직사각형 형상을 이룬다. 또한, 각 카세트 (81) 가 장착되는 지지체 (82) 의 카세트 장착부 (90) 는, 도 22 에 나타내는 바와 같이 서로 직교하는 α, β 방향으로 배치되는 각 개수 n (n : 2 이상의 정 (正) 의 정수) 을 일치시켜 직사각형 형상으로 형성되어 있다. 여기서, 이 직사각형 형상은 후술하는 인티그레이터 엘리먼트의 각 렌즈 엘리먼트의 종횡마다의 입사 개구각 비에 대응시켜, 카세트의 행수, 열수를 동일한 수로 한 경우가 가장 효율이 좋지만 상이한 수여도 된다.In the above embodiment, the cassette 81 in which six light source portions 73 in total including three rows in the? Direction and two rows in the? Direction are mounted is taken as an example to simplify the explanation, The number of the light source portions 73 is eight or more and is mounted on the cassette 81 in point symmetry or line symmetry in the arrangement shown in Figs. 21 (a) and 21 (b). That is, the light source portions 73 are arranged in different numbers in the? Direction and the? Direction, and the center of the light source portion 73 located on the outermost periphery of the cassette 81 mounted on the light source support portion 83 is connected by four sides The line has a rectangular shape. 22, the cassette mounting portion 90 of the supporting body 82 on which the cassettes 81 are mounted is divided into a number n (n: 2 or more positive) arranged in the? And? Directions orthogonal to each other, And is formed in a rectangular shape. Here, this rectangular shape is most efficient when the number of rows and columns of cassettes is the same, corresponding to the ratio of incident angle ratios of each lens element of each of the later-described integrator elements, but may be different.

여기서, 인티그레이터 렌즈 (74) 의 각 렌즈 엘리먼트의 애스펙트비 (종/횡비) 는, 노광 영역의 에이리어의 애스펙트비에 대응하여 결정되어 있다. 또한, 인티그레이터 렌즈의 각각의 렌즈 엘리먼트는, 그 입사 개구각 이상의 각도로부터 입사되는 광을 받아들일 수 없는 구조로 되어 있다. 요컨대, 렌즈 엘리먼트는 장변측에 대하여 단변측의 입사 개구각이 작아진다. 이 때문에, 지지체 (82) 에 배치된 광원부 (73) 전체의 애스펙트비 (종/횡비) 를 인티그레이터 렌즈 (74) 의 입사면의 애스펙트비에 대응한 직사각형 형상의 배치로 함으로써, 광의 사용 효율이 양호해진다.Here, the aspect ratio (vertical / horizontal ratio) of each lens element of the integrator lens 74 is determined in accordance with the aspect ratio of the area in the exposure area. Each of the lens elements of the integrator lens has a structure that can not accept light incident from the angle of the incident opening angle or more. That is, the angle of incidence at the short side of the lens element is small with respect to the long side. Therefore, by setting the aspect ratio (longitudinal / transverse ratio) of the entire light source section 73 disposed on the support 82 to be a rectangular configuration corresponding to the aspect ratio of the incident surface of the integrator lens 74, .

이와 같이 구성된 분할 축차 근접 노광 장치 (PE) 에서는, 필요한 조도에 따라서, 광학 제어부 (76) 에 의해 각 광원부 (73) 의 램프 (71) 를 카세트 (81) 별로 점등, 소등, 또는 전압 제어함으로써 조도를 변화시킨다. 즉, 광학 제어부 (76) 는, 각 카세트 (81) 내에서의 소정 수의 광원부 (73) 의 램프 (71) 가 점대칭으로 점등하도록 제어함과 함께, 복수의 카세트 (81) 의 소정 수의 광원부 (73) 의 램프 (71) 가 동일한 점등 패턴으로 점대칭으로 점등하도록 제어함으로써, 지지체 (82) 내의 모든 광원부 (73) 가 점대칭으로 점등한다. 예를 들어 도 23(a) 는, 각 카세트 (81) 의 100 ％ 의 램프 (71) (본 실시형태에서는 24 개) 를 점등시키는 경우를 나타내고, 도 23(b) 는, 각 카세트 (81) 의 모든 램프 (71) 의 75 ％ (본 실시형태에서는 18 개) 를 점등시키는 경우를 나타내고, 도 23(c) 는, 각 카세트 (81) 의 모든 램프 (71) 의 50 ％ (본 실시형태에서는 12 개) 를 점등시키는 경우를 나타내고, 도 23(d) 는, 각 카세트 (81) 의 모든 램프 (71) 의 25 ％ (본 실시형태에서는 6 개) 를 점등시키는 경우를 나타내고 있다. 이로써, 노광면의 조도 분포를 변화시키지 않고 조도를 변화시킬 수 있고, 또한, 카세트 별로 동시 제어하기 때문에, 기판의 크기 (세대) 의 변경이나 램프등의 수에 상관없이 램프 (71) 의 점등을 용이하게 제어할 수 있다.In the split-stage near-field exposure apparatus PE constructed as described above, the lamps 71 of the light source units 73 are turned on, off, or voltage-controlled for each of the cassettes 81 by the optical control unit 76, . That is, the optical control unit 76 controls the lamps 71 of the predetermined number of light source units 73 in the respective cassettes 81 to light in a point-symmetrical manner, All the light source portions 73 in the support body 82 are lighted in point symmetry by controlling the lamps 71 of the light source unit 73 to emit light in point symmetry with the same lighting pattern. 23 (a) shows a case of lighting 100% of lamps 71 (24 in this embodiment) of each cassette 81, and Fig. 23 (b) (18 in this embodiment) of all the lamps 71 of the respective cassettes 81. Fig. 23 (c) shows a case where 50% of all the lamps 71 of each cassette 81 23 shows the case in which 25% (six in this embodiment) of all the lamps 71 of each cassette 81 are lit. Thereby, the illuminance can be changed without changing the illuminance distribution on the exposure surface, and simultaneous control is performed for each cassette. Therefore, regardless of the size (generation) of the substrate or the number of lamps, It can be easily controlled.

또한 광학 제어부 (76) 는, 전체 점등의 경우는 별도로 하고, 원하는 조도에 따라서 점등하는 램프 (71) 의 수가 각각 상이한, 카세트 (81) 내의 각 광원부 (73) 의 램프 (71) 의 점등 또는 소등을 점대칭으로 제어하는 복수 (본 실시형태에서는 4 개) 의 점등 패턴을 각각 갖는 복수 (본 실시형태에서는 3 개) 의 점등 패턴군을 갖는다. 구체적으로, 도 24(a) 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 내의 75 ％ 의 램프 (71) 를 점등하는 제 1 패턴군은, A1 ∼ D1 의 4 개의 패턴을 갖는다. 또한 도 24(b) 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 내의 50 ％ 의 램프 (71) 를 점등하는 제 2 패턴군은, A2 ∼ D2 의 4 개의 패턴을 갖는다. 또한 도 24(c) 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 내의 25 ％ 의 램프 (71) 를 점등하는 제 3 패턴군은, A3 ∼ D3 의 4 개의 점등 패턴을 갖는다. 이들 각 점등 패턴 A1 ∼ D1, A2 ∼ D2, A3 ∼ D3 은 모두 카세트 (81) 내의 램프 (71) 가 점대칭으로 점등하도록 설정되어 있다. 또한, 도 23 및 도 24 에 있어서, 광원부 (73) 에 그물 처리한 것은 소등한 램프 (71) 를 나타내고 있다.The optical control unit 76 may also be configured to turn on or off the lamps 71 of the respective light source units 73 in the cassette 81 that differ in the number of lamps 71 that are turned on in accordance with the desired illuminance, (Three in the present embodiment) lighting pattern groups each having a plurality of lighting patterns (four lighting patterns in this embodiment) for controlling the lamps in the point symmetry. Specifically, as shown in Fig. 24 (a), the first pattern group for lighting 75% of the lamps 71 in the cassette 81 has four patterns A1 to D1. As shown in Fig. 24 (b), the second pattern group for lighting 50% of the lamps 71 in the cassette 81 has four patterns A2 to D2. 24 (c), the third pattern group for lighting the lamp 71 of 25% in the cassette 81 has four lighting patterns A3 to D3. All of the lighting patterns A1 to D1, A2 to D2, and A3 to D3 are set so that the lamps 71 in the cassette 81 are lighted in point symmetry. In Figs. 23 and 24, the lamp 71 subjected to the netting process on the light source unit 73 is turned off.

그리고, 광학 제어부 (76) 는, 원하는 조도에 따라서, 제 1 ∼ 제 3 점등 패턴군 중 어느 점등 패턴군을 선택함과 함께, 선택된 점등 패턴군 중 어느 점등 패턴이 선택된다. 이 점등 패턴의 선택은, 선택된 점등 패턴군의 복수의 점등 패턴을 소정의 타이밍으로 복수의 카세트 (81) 에서 동시에 순서대로 전환하도록 해도 된다. 혹은, 그 선택은, 각 광원부 (73) 의 램프 (71) 의 점등 시간에 기초하여, 구체적으로는 점등 시간이 가장 적은 점등 패턴을 선택하도록 해도 된다. 이와 같은 점등 패턴의 전환이나 선택에 의해 램프의 점등 시간을 균일하게 할 수 있다.Then, the optical control unit 76 selects any one of the first to third lighting pattern groups and selects any one of the selected lighting pattern groups according to the desired illuminance. The selection of the lighting pattern may be performed by sequentially switching a plurality of lighting patterns of the selected lighting pattern group at a predetermined timing in a plurality of cassettes 81 at the same time. Alternatively, the selection may be made based on the lighting time of the lamp 71 of each light source unit 73, specifically, the lighting pattern having the least lighting time. The lighting time of the lamp can be made uniform by switching or selecting the lighting pattern.

또한, 점등 시간이 가장 적은 점등 패턴이란, 점등 시간이 가장 적은 광원부 (73) 의 램프 (71) 를 포함하는 점등 패턴으로 해도 되고, 점등할 광원부 (73) 의 램프 (71) 의 점등 시간의 합계가 가장 적은 점등 패턴이어도 된다. 또한, 광학 제어부 (76) 는, 각 광원부 (73) 의 램프 (71) 의 점등 시간, 및 점등시에 공급된 전압에 기초하여 각 광원부 (73) 의 램프 (71) 의 잔존 수명을 계산하고, 그 잔존 수명에 기초하여 점등 패턴을 선택하도록 해도 된다. 또한, 잔존 수명이 짧은 램프 (71) 를 포함하는 점등 패턴을 피하도록, 점등 패턴을 전환하게 해도 된다.The lighting pattern with the smallest lighting time may be a lighting pattern including the lamp 71 of the light source section 73 having the least lighting time or a lighting pattern with the lighting time of the lamp 71 of the light source section 73 May be the least light pattern. The optical control unit 76 calculates the remaining life of the lamp 71 of each light source unit 73 based on the lighting time of the lamp 71 of each light source unit 73 and the voltage supplied at the time of lighting, The lighting pattern may be selected based on the remaining lifetime. Further, the lighting pattern may be switched so as to avoid the lighting pattern including the lamp 71 having a short remaining life.

또한, 원하는 조도가 제 1 ∼ 제 3 점등 패턴군에 의해 얻어지는 조도와 상이할 때, 원하는 조도에 가까운 조도가 얻어지는 점등 패턴군을 선택함과 함께, 점등하는 광원부 (73) 의 램프 (71) 에 공급하는 전압을 정격 이상 또는 정격 이하로 조정한다. 예를 들어, 원하는 조도가 100 ％ 점등시의 60 ％ 의 조도인 경우에는, 50 ％ 점등의 점등 패턴군 중 어느 점등 패턴을 선택하고, 그 점등하는 광원부 (73) 의 램프 (71) 의 전압을 높임으로써 제공된다.When the desired illuminance differs from the illuminance obtained by the first to third illuminated pattern groups, the illuminated pattern group in which the illuminance close to the desired illuminance is obtained is selected and the illuminated pattern group is selected on the lamp 71 of the illuminated light source unit 73 Adjust the supplied voltage to above the rated value or below the rated value. For example, when the desired illuminance is 60% of the illuminance at the time of 100% lighting, any lighting pattern among the lighting pattern groups of 50% lighting is selected and the voltage of the lamp 71 of the lighting unit 73 .

또한, 모든 카세트 (81) 의 점등하는 램프 (71) 의 전압을 동등하게 조정하면 원하는 조도로부터 어긋나 버리는 경우에는, 점대칭으로 배치된 위치의 각 카세트 (81) 의 램프 (71) 의 전압은 동등해지도록 조정하면서, 카세트 (81) 의 위치에 따라서 상이한 전압을 인가하도록 해도 된다. 구체적으로는, 도 23 에 있어서, 주위에 위치하는 각 카세트 (81) 의 램프 (71) 의 전압은 동등하게 조정하면서, 중앙에 위치하는 카세트 (81) 의 램프의 전압을, 주위에 위치하는 각 카세트 (81) 의 램프 (71) 의 전압과 상이하도록 조정한다. 이로써, 노광면의 조도 분포를 변화시키지 않고 원하는 조도로 미세 조정할 수 있다.When the voltages of the lamps 71 to be turned on of all the cassettes 81 are adjusted to be equal to each other, the voltages of the lamps 71 of the respective cassettes 81 at the positions arranged in point symmetry are equal A different voltage may be applied depending on the position of the cassette 81. In this case, 23, the voltage of the lamp of the cassette 81 located at the center is adjusted to the voltage of the surrounding position of the cassette 81 while the voltages of the lamps 71 of the respective cassettes 81 located at the periphery are adjusted in the same manner, Is adjusted to be different from the voltage of the lamp (71) of the cassette (81). Thereby, it is possible to finely adjust the desired illuminance without changing the illuminance distribution on the exposure surface.

또한, 일부의 카세트 (81) 만을 새로운 램프 (71) 를 구비한 카세트 (81) 로 교환한 경우에는, 나머지 카세트 (81) 의 램프 (71) 의 점등과 함께 교환한 카세트 (81) 의 램프 (71) 를 점대칭으로 점등시킨다. 그 때, 새로운 카세트 (81) 의 램프 (71) 로부터 출사되는 조도는 나머지 카세트 (81) 의 램프 (71) 로부터 출사되는 조도보다 강한 경향이 있다. 이 때문에, 점대칭으로 배치된 위치의 각 카세트 (81) 의 램프 (71) 로부터 출사되는 조도가 균일해지도록, 새로운 카세트 (81) 의 각 램프 (71) 의 전압을 낮추도록 조정한다.When only a part of the cassettes 81 are replaced with the cassettes 81 having the new lamps 71, the lamps 71 of the remaining cassettes 81 are turned on and the lamps 71) in point symmetry. At this time, the illuminance emitted from the lamp 71 of the new cassette 81 tends to be stronger than the illuminance emitted from the lamp 71 of the remaining cassette 81. Therefore, the voltage of each lamp 71 of the new cassette 81 is adjusted so that the illuminance emitted from the lamp 71 of each cassette 81 at the positions arranged in point symmetry becomes uniform.

따라서, 본 실시형태에 의하면, 필요한 조도에 따라 원하는 램프 (71) 만을 점등함으로써 소비 전력을 억제하고, 또한, ND 필터 등의 광학 부품이 불필요해져, 비용 절감을 도모할 수 있음과 함께, 점대칭으로 램프 (71) 를 점등 또는 소등함으로써, 노광면의 조도 분포 저하를 방지할 수 있다. 또한, 카세트 별로 점대칭으로 램프 (71) 를 점등 또는 소등하기 때문에, 기판의 크기 (세대) 의 변경이나 램프등의 수에 상관없이 램프 (71) 의 점등을 용이하게 제어할 수 있다.Therefore, according to the present embodiment, it is possible to suppress the power consumption by lighting only the desired lamp 71 in accordance with the required illuminance, to eliminate the need for the optical parts such as the ND filter, and to reduce the cost, It is possible to prevent the lowering of the illuminance distribution on the exposure surface by turning the lamp 71 on or off. In addition, since the lamps 71 are turned on or off in point-symmetric fashion for each of the cassettes, lighting of the lamps 71 can be controlled easily regardless of the size (generation) of the substrate or the number of lamps.

또한 제어부 (76) 는, 카세트 내의 소정 수의 광원부 (73) 중, 점등하는 광원부 (73) 의 램프 (71) 의 수가 상이한 복수의 점등 패턴군을 구비함과 함께, 각 점등 패턴군은, 광원부 (73) 의 램프 (71) 가 점대칭으로 점등하는 복수의 점등 패턴 A1 ∼ D1, A2 ∼ D2, A3 ∼ D3 을 각각 갖기 때문에, 점등 패턴을 전환하여 사용함으로써, 카세트 (81) 내의 각 램프 (71) 의 점등 시간을 균일화시킬 수 있다. 이로써, 각 광원부 (73) 의 램프 (71) 의 사용 빈도에 편차가 없어지고, 카세트 (81) 의 교환까지의 간격이 길어져, 광원부 (73) 의 교환에 의한 장치의 다운 타임을 단축시킬 수 있다.The control unit 76 includes a plurality of lighting pattern groups having different numbers of lamps 71 of the light source unit 73 to be lighted among a predetermined number of light source units 73 in the cassette, The lamp 71 of the lamp unit 73 has a plurality of lighting patterns A1 to D1, A2 to D2 and A3 to D3 which are illuminated in point symmetry, Can be made uniform. Thereby, the frequency of use of the lamp 71 of each light source unit 73 is not varied, and the interval until the replacement of the cassette 81 becomes longer, and the downtime of the apparatus by replacing the light source unit 73 can be shortened .

또한, 각 광원부의 램프 (71) 의 점등 시간을 카운트하는 타이머 (96a) 를 추가로 구비하여, 광학 제어부 (76) 는, 원하는 조도에 따라서 복수의 점등 패턴군 중 어느 것을 선택함과 함께, 선택된 점등 패턴군 중, 광원부 (73) 의 점등 시간에 기초하여 점등 패턴을 선택하도록 했기 때문에, 카세트 (81) 내의 각 램프 (71) 의 점등 시간을 균일화시킬 수 있다.The optical control unit 76 further includes a timer 96a for counting the lighting time of the lamp 71 of each light source unit so that the optical control unit 76 selects any one of the plurality of lighting pattern groups in accordance with the desired illuminance, The lighting time of each lamp 71 in the cassette 81 can be made uniform since the lighting pattern is selected based on the lighting time of the light source unit 73 among the lighting pattern groups.

추가로, 원하는 조도가 복수의 점등 패턴군에 의해 얻어지는 조도와 상이할 때, 상기 원하는 조도에 가까운 조도가 얻어지는 점등 패턴군을 선택함과 함께, 점등하는 광원부에 공급하는 전압을 조정하도록 했기 때문에, 점등 패턴에 관계없이 조도를 임의로 설정할 수 있다.Further, when the desired illuminance differs from the illuminance obtained by the plurality of illuminated pattern groups, the illuminated pattern group in which the illuminance close to the desired illuminance is obtained is selected and the voltage to be supplied to the illuminated light source unit is adjusted, The illuminance can be arbitrarily set regardless of the lighting pattern.

또한, 램프 (71) 의 점등 또는 소등하는 제어로는, 도시하지 않은 조도계에 의해 측정된 실제 조도와 미리 설정된 적정 조도를 비교함으로써 실제 조도의 과부족을 판정함과 함께, 실제 조도의 과부족을 해소하도록 램프 (71) 의 전압을 높이게, 제어 회로 (96) 또는 광학 제어부 (76) 를 제어해도 된다.In addition, by controlling the lamp 71 to be turned on or off, the actual illuminance measured by an illuminometer (not shown) is compared with a preset optimum illuminance to determine whether the actual illuminance is excessive or not, The control circuit 96 or the optical control unit 76 may be controlled to increase the voltage of the lamp 71. [

또한 본 실시형태에 있어서, 필터 등의 광학 부품을 사용하는 경우에는, 필터에 의해 저하되는 조도 분포를 개선하도록 램프 (71) 의 전압 또는 전력을 높이게 하면 된다.In the present embodiment, when an optical component such as a filter is used, the voltage or power of the lamp 71 may be increased to improve the illuminance distribution degraded by the filter.

그리고 본 실시형태에서는, 광학 제어부 (76) 는, 램프 (71) 에 공급하는 전압을 제어하도록 했지만, 전력을 제어하도록 해도 된다.In the present embodiment, the optical control unit 76 controls the voltage to be supplied to the lamp 71, but the power may be controlled.

또한, 본 실시형태에서는, 각 카세트 (81) 내에서의 소정 수의 램프 (71) 가 점대칭으로 점등하고, 지지체 (82) 내에서의 모든 램프 (71) 가 점대칭으로 점등하는 경우를 나타내었지만, 후술하는 실시형태도 포함하여, 본 발명은, 각 카세트 (81) 내에서의 소정 수의 램프 (71) 가 대략 회전 대칭으로 점등하는 경우, 나아가, 지지체 (82) 내에서의 모든 램프 (71) 가 대략 회전 대칭으로 점등하는 경우에도 본 실시형태와 동일한 효과를 나타낸다. 또한, 회전 대칭으로 점등이란, 360 도/n 도 회전시켰을 때에, 회전 전의 점등 패턴과 중복되는 위치의 램프 (71) 가 점등하는 것을 의미하지만, 본 발명은, 카세트 (81) 내나 지지체 (82) 내에서의 램프 (71) 의 배열에 따라 약간 점등 지점이 어긋나 있는 경우도 대략 회전 대칭 (180 도 회전하는 경우에는 대략 점대칭) 으로 점등하는 경우도 포함된다.Although a predetermined number of lamps 71 in each of the cassettes 81 are turned on in point symmetry and all the lamps 71 in the support 82 are lighted in point symmetry in the present embodiment, The present invention can be applied to a case where a predetermined number of lamps 71 in each of the cassettes 81 are turned on in a substantially rotationally symmetrical manner and further all the lamps 71 in the supporting body 82, The same effect as that of the present embodiment is obtained. The lighting in rotational symmetry means that the lamp 71 at the position overlapping with the lighting pattern before the rotation is turned on when rotated by 360 degrees / n. However, the present invention is not limited to this, The case of slightly shifting the lighting point in accordance with the arrangement of the lamps 71 in the lamps 71 also includes the case of lighting in a substantially rotational symmetry (approximately point-symmetric when the lamps are rotated 180 degrees).

이에 추가하여, 본 실시형태에서는, 광학 제어부 (76) 는, 각 카세트 (81) 내에서의 소정 수의 램프 (71) 가 대략 회전 대칭으로 점등하도록 카세트 (81) 별로 제어하고 있지만, 도 25(a) 및 (b) 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 별로, 서로 동등한 수의 램프 (71) 씩 대략 회전 대칭 (여기서는, 점대칭) 이 되는 위치의 램프 (71) 를 교대로 점등하도록 제어하고, 또한, 각 카세트 (81) 의 소정 수의 램프 (71) 를 동일한 점등 패턴으로 동시에 점등하도록 제어함으로써, 모든 램프 (71) 중 대략 회전 대칭이 되는 위치의 램프 (71) 를 교대로 점등한다. 이로써, 노광면의 조도 분포를 변화시키지 않고서 조도를 변화시킬 수 있어, 노광 불균일을 방지할 수 있다.In addition, in the present embodiment, the optical control unit 76 controls each cassette 81 such that a predetermined number of lamps 71 in each cassette 81 are turned on in a substantially rotationally symmetrical manner, the lamps 71 at positions which are approximately rotationally symmetric (here point-symmetric) by the number of lamps 71 equal to each other are controlled to be turned on alternately for each of the cassettes 81 as shown in Figs. 5A and 5B, A predetermined number of lamps 71 of each of the cassettes 81 are controlled to be simultaneously turned on in the same lighting pattern so that lamps 71 at substantially rotationally symmetric positions among all the lamps 71 are alternately turned on. Thereby, the illuminance can be changed without changing the illuminance distribution on the exposure surface, and the unevenness of exposure can be prevented.

또한, 이 경우의 대략 회전 대칭이 되는 위치의 램프 (71) 를 교대로 점등한다는 것은, 회전 대칭이 되는 위치의 램프 (71) 와 약간 어긋나 있는 지점의 램프 (71) 를 교대로 점등하는 경우도 포함된다.In this case, alternately turning on the lamps 71 at positions that become substantially rotationally symmetrical means that the lamps 71 at the positions slightly offset from the lamps 71 at the rotationally symmetric positions are alternately turned on .

(제 2 실시형태) (Second Embodiment)

다음으로, 본 발명의 제 2 실시형태로서, 제 1 실시형태의 분할 축차 근접 노광 장치 (PE) 를 사용한 노광 방법에 관해서 설명한다. 또, 본 실시형태의 노광 장치는 제 1 실시형태의 노광 장치와 기본적 구성을 동일하게 하기 때문에, 동일 부분 또는 상당 부분에는 동일한 부호를 붙이고 설명을 생략한다.Next, as a second embodiment of the present invention, an exposure method using the divided-segment near-field exposure apparatus (PE) of the first embodiment will be described. Since the exposure apparatus of this embodiment has the same basic structure as that of the exposure apparatus of the first embodiment, the same or similar portions are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.

상기 실시형태의 분할 축차 근접 노광 장치 (PE) 는, 광조사 장치 (80) 의 조도를 변화시키는 것에 의해 여러 가지 레지스트의 감도 특성에 대응할 수 있다. 노광량은, 조도와 시간의 곱에 의해 산출되기 때문에, 조도 또는 시간을 변경함으로써 적절한 노광량을 얻을 수 있지만, 택트 타임 단축을 위해서 시간은 짧게 설정되어 있어, 추가로 시간에 의해 변경하기는 어렵다. 이 때문에, 조도를 변경하여 적절한 노광량을 얻기 위해서, 통상, 감광 (ND) 필터 등을 사용하여 저조도를 실현시키고 있다. 이 경우, 불필요한 소비 전력이 발생하고, 또한 ND 필터 등의 광학 부품이 필요하게 되었다.The divided-stage near-field exposure apparatus PE of the above-described embodiment can cope with sensitivity characteristics of various resists by changing the illuminance of the light irradiation device 80. [ Since the exposure amount is calculated by multiplying the illuminance by the time, an appropriate amount of exposure can be obtained by changing the illuminance or the time, but the time is set to be short in order to shorten the tact time. Therefore, in order to change the illuminance and obtain an appropriate exposure amount, a low light intensity is usually realized by using a neutral density (ND) filter or the like. In this case, unnecessary power consumption occurs, and an optical component such as an ND filter is required.

그래서, 본 실시형태에서는, 필요한 조도에 따라서, 광학 제어부 (76) 에 의해 각 광원부 (73) 의 램프 (71) 를 개별적으로 점등, 소등, 또는 전압 제어함으로써 조도를 변화시킨다. 예를 들어, 각 램프 (71) 의 전압을 정격 이하로 전압 제어함으로써 조도를 변화시켜도 되고, 램프 (71) 의 일부를 소등함으로써 조도를 변화시켜도 된다. 또한, 램프 (71) 를 점등 또는 소등에 의해 조도를 제어하는 경우에는, 배치되어 있는 램프 (71) 를 선대칭 또는 점대칭으로 점등시키는 것에 의해, 노광면의 조도 분포를 변화시키지 않고서 조도를 변화시킬 수 있다.Thus, in this embodiment, the illuminance is changed by individually lighting, turning off, or controlling the voltage of the lamp 71 of each light source section 73 by the optical control section 76 in accordance with the necessary illuminance. For example, the illuminance may be changed by controlling the voltage of each lamp 71 to be less than the rated value, or the illuminance may be changed by turning off a part of the lamp 71. When the illuminance is controlled by turning on or off the lamp 71, it is possible to change the illuminance without changing the illuminance distribution on the exposure surface by lighting the arranged lamps 71 in line symmetry or point symmetry have.

구체적으로는, 도 26(a) 및 (b) 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 내의 램프 (71) 마다 선 A 에 대하여 선대칭으로 램프 (71) 를 점등 또는 소등시키도록 해도 되고, 도 27(a) 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 내의 램프 (71) 를 모두 점등 또는 소등하도록 선 A 에 대하여 선대칭으로 카세트마다 램프 (71) 를 점등 또는 소등시키도록 해도 된다. 또, 도 27(b) 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 마다 선 B 에 대하여 램프 (71) 를 선대칭 또는 점 Q 에 대하여 램프 (71) 를 점대칭으로 점등 또는 소등하도록 해도 된다. 또, α, β 방향에 배치되는 카세트 (81) 의 개수가 짝수인 경우에는, 도 28(a) 및 (b) 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 마다 점 Q 에 대하여 램프 (71) 를 점대칭으로 점등 또는 소등하도록 해도 된다. 또, 도 26 ∼ 도 28 중, 광원부 (73) 에 그물 처리를 한 것은 소등한 램프 (71) 를 나타내고 있다.Specifically, as shown in Figs. 26 (a) and 26 (b), the lamp 71 may be turned on or off in line symmetry with respect to the line A for each lamp 71 in the cassette 81, the lamp 71 may be turned on or off for each cassette in a line symmetry with respect to the line A so that all of the lamps 71 in the cassette 81 are turned on or off as shown in Fig. 27 (b), the lamp 71 may be line-symmetrical with respect to the line B or the ramp 71 may be point-symmetrically turned on or off with respect to the point Q for each of the cassettes 81. [ 28 (a) and (b), when the number of the cassettes 81 arranged in the directions of? And? Is an even number, May be turned on or off. 26 to 28, the light source unit 73 is subjected to the netting process, and the lamp 71 is turned off.

따라서, 본 실시형태에 의하면, 필요한 조도에 따라서 필요 최저한의 램프 (71) 를 점등함으로써, 소비 전력을 억제하고, 또한, ND 필터 등의 광학 부품이 불필요해져, 비용 절감을 도모할 수 있음과 함께, 선대칭 또는 점대칭으로 램프 (71) 를 점등 또는 소등함으로써, 노광면의 조도 분포 저하를 방지할 수 있다. 또한, 램프 (71) 는, 점대칭을 포함하는 회전 대칭으로 점등 또는 소등하도록 제어함으로써, 노광면의 조도 분포 저하를 방지하는 효과를 나타낸다. 즉, 소정의 점을 중심으로 1 회전시켰을 때에 점등 지점이 일치하는 점등·소등 제어이면 되고, 예를 들어, 종횡이 동등한 개수로 정사각형 형상으로 램프 (71) 가 배치되어 있는 경우에, 90 도 회전시켰을 때에 점등 지점이 일치하는 경우를 포함한다.Therefore, according to the present embodiment, power consumption can be suppressed by illuminating the minimum necessary lamp 71 according to the necessary illuminance, optical parts such as an ND filter are not required, cost reduction can be achieved, It is possible to prevent degradation of the illuminance distribution on the exposure surface by turning on or off the lamp 71 in line symmetry or point symmetry. Further, the lamp 71 is controlled to turn on or off in rotational symmetry including point symmetry, thereby exhibiting an effect of preventing lowering of the illuminance distribution on the exposure surface. For example, when the lamp 71 is arranged in a square shape having the same number of vertically and horizontally, the lamp 71 is rotated 90 degrees And a case in which the lighting point coincides with each other.

또한, 램프 (71) 의 점등 또는 소등하는 제어로는, 도시하지 않은 조도계에 의해 측정된 실제 조도와 미리 설정된 적정 조도를 비교함으로써 실제 조도의 과부족을 판정함과 함께, 실제 조도의 과부족을 해소하도록 램프 (71) 를 점등하거나 또는 소등하도록, 제어 회로 (96) 또는 광학 제어부 (76) 를 제어해도 된다. 그리고, 노광 시간을 카운트하여, 미리 설정된 적정 조도를 유지하도록, 노광 타이밍에 의해서 각 램프 (71) 를 점등 또는 소등하도록 제어해도 된다.In addition, by controlling the lamp 71 to be turned on or off, the actual illuminance measured by an illuminometer (not shown) is compared with a preset optimum illuminance to determine whether the actual illuminance is excessive or not, The control circuit 96 or the optical control unit 76 may be controlled so as to turn on or off the lamp 71. [ The exposure time may be counted, and the lamps 71 may be controlled to be turned on or off by the exposure timing so as to maintain the preset optimum illuminance.

또, 본 실시형태에서는, 필요 최저한의 램프 (71) 를 점등하고, 필터 등의 광학 부품을 필요하지 않게 할 수 있지만, 필터를 사용하는 경우에는, 필터에 의해서 저하되는 조도 분포를 개선하도록 램프 (71) 를 점등하면 된다.In the present embodiment, the minimum necessary number of lamps 71 are turned on, and optical components such as filters are not required. However, when a filter is used, the lamps 71 ).

(제 3 실시형태)  (Third Embodiment)

다음으로, 본 발명의 제 3 실시형태로서, 광조사 장치 (80) 의 램프 (71) 의 점등 또는 소등하는 제어 방법의 일례에 관해서 도 29 를 참조하여 설명한다. 또, 본 실시형태의 노광 장치는, 제 1 실시형태의 노광 장치와 기본적 구성을 동일하게 하기 때문에, 동일 부분 또는 상당 부분에는 동일한 부호를 붙이고 설명을 생략한다.Next, an example of a control method of turning on or off the lamp 71 of the light irradiation device 80 will be described with reference to FIG. 29 as a third embodiment of the present invention. Since the exposure apparatus of this embodiment has the same basic structure as that of the exposure apparatus of the first embodiment, the same or similar portions are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.

본 실시형태에서는, 도 29 에 나타내는 바와 같이, 동기시켜 점등/소등할 수 있는 램프 (71) 에 있어서, 점등하는 램프 (71) 의 영역을 시간에 의해 관리하여, 노광 동작 중, 또는 비노광 동작 중 (예를 들어, 기판 로딩 중이나 쇼트 사이) 에 소정의 타이밍으로 그 영역을 순차 변화시킨다. 또한, 이 경우에도, 제 1 실시형태와 동일하게, 노광면의 조도 분포가 변화하지 않도록, 카세트 (81) 내의 램프 (71) 마다 점 Q 에 대하여 램프 (71) 를 점대칭으로 점등 또는 소등한다. 이로써, 균일한 조도를 유지하면서, 램프 (71) 의 사용 빈도가 치우치는 일없이 점등·소등을 용이하게 관리할 수 있다. 또한, 상기 소정의 타이밍은, 셔터가 닫혀 있는 타이밍이 바람직하고, 그 영역은 선대칭이어도 된다.In the present embodiment, as shown in Fig. 29, in the lamp 71 which can be turned on / off in synchronization, the area of the lamp 71 to be lighted is managed by time, and during the exposure operation, (For example, during loading of the substrate or between the shorts) at a predetermined timing. Also in this case, as in the first embodiment, the lamp 71 is turned on or off in point symmetry with respect to the point Q for each lamp 71 in the cassette 81 so that the illuminance distribution on the exposure surface does not change. Thereby, it is possible to easily control the lighting and the light-off without losing the frequency of use of the lamp 71 while maintaining the uniform illuminance. The predetermined timing is preferably a timing at which the shutter is closed, and the area may be line-symmetrical.

또한, 각 초고압 수은등인 램프 (71) 는, 통전시키면 서서히 조도를 높여 점등 상태, 또는 통전을 차단하면 서서히 조도를 낮춰 소등 상태가 된다. 이 때문에, 예를 들어 도 29(a) 에서 도 29(b) 의 상태로 이행할 때에, 점등 제어된 램프 (71) 와 소등 제어된 램프 (71) 가 함께 점등되어 있는 타이밍이 실제로 존재한다. 따라서, 이러한 이행 과정의 조도를 고려하여 점등·소등 타이밍을 제어해도 되고, 또는, 도시하지 않은 셔터를 사용하여 램프 (71) 의 점등·소등을 전환해도 된다.Further, the lamp 71, which is the super high-pressure mercury lamp, is gradually turned off when it is energized and turned off when the energization is cut off. 29 (a) to 29 (b), for example, there is actually a timing at which the lamp 71 controlled to be turned on and the lamp 71 controlled to be turned off are turned on together. Therefore, it is possible to control the timing of turning on / off the lamp 71 in consideration of the illuminance of the transition process, or the lamp 71 may be turned on / off using a shutter (not shown).

(제 4 실시형태) (Fourth Embodiment)

다음으로, 본 발명의 제 4 실시형태로서, 노광 장치용 광조사 장치 및 그 점등 제어 방법, 그리고 노광 장치 및 노광 방법을 도면에 따라서 상세히 설명한다. 또, 본 실시형태의 노광 장치는, 제 1 실시형태의 노광 장치와 기본적 구성을 동일하게 하기 때문에, 동일 부분 또는 상당 부분에는 동일한 부호를 붙이고 설명을 생략한다.Next, as a fourth embodiment of the present invention, a light irradiation apparatus for an exposure apparatus, a lighting control method thereof, an exposure apparatus and an exposure method will be described in detail with reference to the drawings. Since the exposure apparatus of this embodiment has the same basic structure as that of the exposure apparatus of the first embodiment, the same or similar portions are denoted by the same reference numerals and the description thereof is omitted.

도 30 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태에서는, 오목면 경 (77) 의 일부에 개구 (77a) 가 형성되어 있고, 개구 (77a) 의 후방에는, g 선, h 선, i 선, j 선, k 선 등에 있어서의 각 파장의 조도를 측정하는 각 조도계 (279) 가 설치되어 있다.30, an opening 77a is formed in a part of the concave surface 77 in the present embodiment, and g-line, h-line, i-line, j-line, and an illuminometer 279 for measuring the illuminance of each wavelength in the k-line and the like.

또한, 도 31 및 32 에 나타내는 바와 같이, 카세트 (81) 에는, 원하는 램프 (71) 에 대응하는 전면 (前面) 에 파장 컷 필터 (286) 가 배치되어 있다. 파장 컷 필터 (286) 로는, 로우 패스 필터, 하이 패스 필터, 밴드 패스 필터 중 어느 것이어도 되고, 원하는 파장의 강도를 떨어뜨리는 ND (감광) 필터여도 된다. 또, 파장 컷 필터 (286) 는 점대칭으로 설치하는 것이 바람직하고, 이 실시형태에서는, 상단의 6 개의 램프와 하단의 6 개의 램프에 설치되어 있다 (도 31 및 32 의 사선 부분). 이로써, 카세트 (81) 에는, 분광 특성이 상이한 2 종류의 광원부 (73) 가 구성된다. 이하, 파장 컷 필터 (286) 가 설치된 광원부 (73) 를 필터가 달린 광원부 (73A), 파장 컷 필터 (286) 를 갖지 않은 광원부 (73) 를 필터가 없는 광원부 (73B) 라고 한다.31 and 32, the cassette 81 is provided with a wavelength cut filter 286 on the front surface corresponding to the desired lamp 71. As shown in Fig. The wavelength cut filter 286 may be a low-pass filter, a high-pass filter, or a band-pass filter, or an ND (light-sensitive) filter that reduces the intensity of a desired wavelength. It is preferable that the wavelength cut filter 286 is provided in point symmetry. In this embodiment, the wavelength-cut filter 286 is provided in six lamps at the top and six lamps at the bottom (hatched portions in FIGS. 31 and 32). Thereby, the cassette 81 constitutes two kinds of light source portions 73 having different spectral characteristics. Hereinafter, the light source section 73A with the filter and the light source section 73 without the wavelength cut filter 286 are referred to as the light source section 73B without the filter.

또한, 광학 제어부 (76) 에서는, 필터가 달린 광원부 (73A) 와 필터가 없는 광원부 (73B) 의 각 분광 특성, 특히 각 파장의 피크 높이를 미리 측정해 두고, 데이터 베이스로서 저장해 놓는다. 또, 광원부 (73A, 73B) 는, 램프 (71) 를 계속해서 사용하면 분광 특성이 변화하기 때문에, 노광을 실시하지 않은 상태에서, 각 광원부 (73A, 73B) 의 각 파장에 있어서의 조도를 측정해 둔다.In the optical control unit 76, the spectral characteristics of each of the light source unit 73A with a filter and the light source unit 73B without a filter, in particular peak heights of respective wavelengths, are measured in advance and stored as a database. Since the spectroscopic characteristics are changed when the lamp 71 is continuously used, the light sources 73A and 73B measure the illuminance at the respective wavelengths of the light sources 73A and 73B without exposure I will.

이와 같이 구성된 광조사 장치 (80) 에서는, 조도계 (279) 에 의해 측정한 결과를 바탕으로, 데이터 베이스를 참조하여 각 광원부 (73A, 73B) 의 점등하는 램프 (71) 의 파워, 개수를 결정한다. 여기서, 점등하는 램프 (71) 의 개수가 많은 경우에는, 램프 (71) 를 끄는 방법이 대략 회전 대칭이 아니어도 노광면 조도 분포에는 영향이 작지만, 점등하는 램프 (71) 의 개수가 적은 경우, 예를 들어, 216 개의 램프 (71) 의 50 ％ 정도를 소등하는 경우에는, 램프 (71) 를 끄는 방법이 대략 회전 대칭이 아니면 노광면 조도 분포가 나빠질 가능성이 있다. 이 때문에, 도 31 에 나타내는 바와 같이, 필터가 달린 광원부 (73A), 필터가 없는 광원부 (73B) 는, 각각 대략 회전 대칭 (여기서는 점대칭) 이 되도록 램프 (71) 를 점등하는 것이 바람직하다.The light irradiating apparatus 80 constructed as described above determines the power and the number of the lamps 71 to be lighted by each of the light source sections 73A and 73B with reference to the database based on the result of measurement by the illuminometer 279 . Here, when the number of lamps 71 to be turned on is large, even if the method of turning off the lamp 71 is not about rotational symmetry, the influence on the exposure surface roughness distribution is small. However, when the number of lamps 71 to be turned on is small, For example, when about 50% of the 216 lamps 71 are turned off, there is a possibility that the exposure surface roughness distribution becomes worse if the method of turning off the lamp 71 is not substantially rotationally symmetrical. Therefore, as shown in Fig. 31, it is preferable that the lamp 71 is lighted so that the light source portion 73A with the filter and the light source portion 73B without the filter become substantially rotationally symmetric (here point-symmetric).

수은 램프 (71) 로부터 출사되는 광은 일반적으로 인코히런트 광으로, 인티그레이터 렌즈 (74), 반사경 (77) 등으로 이루어지는 조명 광학계를 통과하여 노광면에 도달하였을 때, 그 강도는 파장마다 합으로서 주어진다. 필터가 달린 광원부 (73A) 와 필터가 없는 광원부 (73B) 를 형성함으로써, 각 파장에 있어서의 분광 강도비를 어느 정도 컨트롤할 수 있다.The light emitted from the mercury lamp 71 is generally incoherent light and passes through the illumination optical system including the integrator lens 74 and the reflector 77 to reach the exposure surface. . The spectral intensity ratio at each wavelength can be controlled to some extent by forming the light source portion 73A with the filter and the light source portion 73B without the filter.

여기서, 분광 특성이 상이한 2 종류의 램프를 사용한 경우와, 분광 특성이 동일한 램프에 파장 컷 필터를 설치한 경우에서, 조도의 측정 시험을 실시하였다. 구체적으로, 분광 특성이 상이한 2 종류의 램프를 사용한 시험에서는, 4 개의 제 1 램프를 사용한 경우, 그 제 1 램프보다 단파장측의 강도가 강한 4 개의 제 2 램프를 사용한 경우, 2 개의 제 1 램프 및 2 개의 제 2 램프를 사용한 경우에 조도를 측정하였다. 또한, 파장 컷 필터를 설치한 시험에서는, 4 개의 제 2 램프를 사용하고, 파장 컷 필터를 설치하지 않은 경우, 파장 컷 필터를 2 개의 램프에 설치한 경우, 파장 컷 필터를 4 개의 램프에 설치한 경우에 조도를 측정하였다. 2 종류의 램프를 사용한 경우의 결과를 표 1 에, 파장 컷 필터를 설치한 경우의 결과를 표 2 에 나타낸다.Here, a measurement test of roughness was performed in the case of using two kinds of lamps having different spectral characteristics and the case of installing a wavelength cut filter in a lamp having the same spectral characteristics. Specifically, in the test using two kinds of lamps having different spectral characteristics, when four first lamps are used and four second lamps having higher strength on the shorter wavelength side than the first lamp are used, And two second lamps were used. In the test in which the wavelength cut filter is installed, when four second lamps are used, the wavelength cut filter is not provided, and the wavelength cut filter is installed in two lamps, the wavelength cut filter is installed in four lamps In one case, the illuminance was measured. Table 1 shows the results when two types of lamps were used, and Table 2 shows the results when the wavelength cut filter was installed.

또한, 본 시험에서 사용되는 조도계로는, 우시오 전기 주식회사 제조의 자외선 적산 광량계 UIT-250 과, 수광부에 365 ㎚ 측정용 수광기 UVD-S365, 313 ㎚ 측정용 수광기 UVD-S313 을 사용하여, 이들 수광부에서 200 ㎜ × 200 ㎜ 노광면의 중심부에 있어서의 i 선 (365 ㎚) 과 j 선 (313 ㎚) 의 강도를 측정하였다.As the illuminometer used in this test, ultraviolet ray spectrometer UIT-250 manufactured by Ushio Co., Ltd. and UVD-S365 for measuring 365 nm and UVD-S313 for measuring 313 nm were used in the light receiving part, The intensities of i-line (365 nm) and j-line (313 nm) at the center of a 200 mm x 200 mm exposure surface in these light receiving portions were measured.

이 결과, 표 1 및 표 2 에 나타내는 바와 같이, DUV 필터의 개수를 변경함으로써, 램프의 종류를 변경하는 경우와 동일하게 각 파장에 있어서의 강도를 변경할 수 있음을 알 수 있다.As a result, as shown in Tables 1 and 2, it can be seen that, by changing the number of DUV filters, the intensity at each wavelength can be changed as in the case of changing the type of the lamp.


조도 (mW/cm2)Light intensity (mW / cm2) 365 (nm)365 (nm) 313 (nm)313 (nm) 제 1 램프 4 개
Four first lamps
40.540.5 15.915.9 제 2 램프 4 개
Four second lamps
34.934.9 23.023.0 제 1 램프 2 개
제 2 램프 2 개Two first lamps
Two second lamps 37.837.8 19.419.4


조도 (mW/cm2)Light intensity (mW / cm2) 365 (nm)365 (nm) 313 (nm)313 (nm) DUV 필터 없음
No DUV filter
34.934.9 23.023.0 DUV 필터 4 개
Four DUV filters
32.132.1 1.021.02 DUV 필터 2 개
Two DUV filters
33.533.5 11.711.7

상기한 바와 같이, 본 실시형태의 노광 장치용 광조사 장치 (80) 및 노광 장치 (PE) 에 의하면, 램프 (71) 와 반사경 (72) 을 포함하는 소정 수의 광원부 (73) 와, 소정 수의 광원부 (73) 의 광이 인티그레이터 렌즈 (74) 의 입사면에 입사되 도록 광원부 (73) 를 지지하는 카세트 (81) 를 구비하고, 소정 수의 광원부 (73) 는, 분광 특성이 상이한 2 종류의 광원부 (73) 에 의해 구성된다. 이로써, 광원부 (73) 를 교환하지 않고서, 파장마다 강도를 자유롭게 설정할 수 있다. 특히, 소정 수의 광원부 (73) 의 각 램프 (71) 는 분광 특성이 동일하고, 소정 수의 광원부 (73) 는, 그 일부에 파장 컷 필터 (286) 를 배치함으로써 분광 특성이 상이한 2 종류의 광원부 (73) 를 구성하고 있다. 이로써, 광원부 (73) 를 교환하지 않고서, 또한 분광 특성이 상이한 광원부를 사용하지 않고서, 파장마다 강도를 자유롭게 설정할 수 있다.As described above, according to the light irradiation device 80 for an exposure apparatus and the exposure device (PE) of the present embodiment, the predetermined number of light source portions 73 including the lamp 71 and the reflecting mirror 72, And a cassette 81 for supporting the light source unit 73 such that the light of the light source unit 73 of the light source unit 73 is incident on the incident surface of the integrator lens 74. The predetermined number of light source units 73 Type light source unit 73 as shown in Fig. Thus, it is possible to freely set the intensity for each wavelength without replacing the light source portion 73. Particularly, since the lamps 71 of the predetermined number of light source portions 73 have the same spectral characteristics and the predetermined number of light source portions 73 are disposed in a part of the lamps 71, two kinds of spectral characteristics And constitutes a light source unit 73. This makes it possible to freely set the intensity for each wavelength without replacing the light source part 73 and without using the light source part having different spectral characteristics.

또, 카세트 (81) 를 복수 구비함과 함께, 모든 광원부 (73) 의 광이 인티그레이터 렌즈 (74) 의 입사면에 입사되도록 복수의 카세트 (81) 가 장착되는 지지체 (82) 를 추가로 구비함으로써, 램프 (71) 를 유닛화하여 관리할 수 있어, 램프 (71) 의 교환 시간 및 장치의 다운 타임을 단축시키고, 또한, 램프 (71) 의 장착 부품에 큰 곡면 가공을 실시하지 않고서, 모든 광원부 (73) 를 단일 곡면 상에 배치할 수 있다.It is also possible to additionally provide a support 82 on which a plurality of cassettes 81 are mounted so that the light from all the light source portions 73 is incident on the incident surface of the integrator lens 74 It is possible to shorten the replacement time of the lamp 71 and the downtime of the apparatus and to prevent the lamp 71 from being subjected to a large curved surface processing The light source unit 73 can be arranged on a single curved surface.

그리고, 본 실시형태의 노광 장치용 광조사 장치의 점등 제어 방법 및 노광 방법에 의하면, 광조사 장치 (80) 는, 상기 서술한 복수의 광원부 (73) 와, 복수의 카세트 (81) 와, 지지체 (82) 에 추가하여, 인티그레이터 렌즈 (74) 의 하류측에 배치되고, 각 파장에 대응한 조도를 계측하는 조도계 (279) 와, 각 램프 (71) 의 점등ㆍ소등, 및 조도를 제어하는 광학 제어부 (76) 를 구비한다. 그리고, 광학 제어부 (76) 는, 조도계 (279) 에 의해 계측된 각 파장에 대응한 조도에 기초하여, 소정의 파장에 있어서 원하는 조도가 얻어지도록 카세트 (81) 내의 각 광원부 (73) 를 제어한다. 이로써, 필요한 램프 (71) 를 점등시켜서 노광에 필요한 파장 성분에 있어서의 강도를 자유롭게 설정할 수 있어, 램프 (71) 의 수명을 연장시킬 수 있다.According to the lighting control method and the exposure method of the light irradiating apparatus for an exposure apparatus of the present embodiment, the light irradiating apparatus 80 includes the plurality of light sources 73 described above, a plurality of cassettes 81, An illuminance meter 279 disposed on the downstream side of the integrator lens 74 for measuring the illuminance corresponding to each wavelength in addition to the lamp 82, And an optical control unit 76. The optical control unit 76 controls each light source unit 73 in the cassette 81 so as to obtain a desired illuminance at a predetermined wavelength based on the illuminance corresponding to each wavelength measured by the illuminance meter 279 . Thus, the required lamp 71 can be turned on to freely set the intensity of the wavelength component required for exposure, and the life of the lamp 71 can be prolonged.

또한, 상기 실시형태에서는, 1 종류의 파장 컷 필터 (286) 를 사용하여 분광 특성이 상이한 2 종류의 광원부 (73A, 73B) 를 구성하고 있지만, 도 33(a) 및 (b) 에 나타내는 바와 같이, 2 종류의 파장 컷 필터 (286a, 286b) 를 사용하여 분광 특성이 상이한 3 종류의 광원부 (73A1, 73A2, 73B) 를 구성하도록 해도 된다. 예를 들어, 3 종류의 광원부 (73A1, 73A2, 73B) 를, 도 33(a) 에 나타내는 바와 같이 8 : 8 : 8 로 구성해도 되고, 도 33(b) 에 나타내는 바와 같이 10 : 10 : 4 로 구성해도 된다. 이들의 경우에도, 3 종류의 광원부 (73A1, 73A2, 73B) 를 점대칭으로 구성하는 것이 바람직하고, 또한, 광학 제어부 (76) 에 의해서 도 33(a) 의 램프 (71) 를 소등시키는 경우에는, 도 33(c) 의 그물 처리한 부분에 나타내는 바와 같이 점대칭으로 소등시키면 된다.In the above embodiment, two types of light source portions 73A and 73B having different spectral characteristics are formed by using one kind of wavelength cut filter 286. However, as shown in Figs. 33A and 33B, Three types of light source portions 73A1, 73A2, and 73B having different spectral characteristics may be formed using two kinds of wavelength cut filters 286a and 286b. For example, the three types of light source portions 73A1, 73A2, and 73B may be configured as 8: 8: 8 as shown in Fig. 33 (a) . In these cases, it is preferable to form the three kinds of light source portions 73A1, 73A2 and 73B in point symmetry. In the case where the lamp 71 of Fig. 33A is turned off by the optical control unit 76, It is possible to extinguish it in point symmetry as shown in the netted portion in Fig. 33 (c).

또한, 상기 실시형태에서는, 광조사 장치 (80) 는, 소정 수의 광원부 (73) 를 각각 갖는 복수의 카세트 (81) 를 지지체 (82) 에 장착하여 사용되고 있는데, 광조사 장치 (80) 가 카세트 (81) 단체로 구성되는 경우에도, 본 실시형태의 효과를 나타낸다.In the embodiment described above, the light irradiation device 80 is used by mounting a plurality of cassettes 81 each having a predetermined number of light source portions 73 to the support member 82, (81), the effect of the present embodiment is also shown.

또, 상기 실시형태에서는, 파장 컷 필터 (286) 를 사용함으로써 분광 특성이 상이한 복수 종류의 광원부 (73) 를 구성하며, 인티그레이터 렌즈 (74) 의 하류측에 배치되고 각 파장에 대응한 조도를 계측하는 조도계 (279) 와, 각 램프 (71) 의 점등·소등 및 조도를 제어하는 제어부 (76) 를 구비하여, 제어부 (76) 가, 조도계 (279) 에 의해 계측된 각 파장에 대응한 조도에 기초해서, 각 파장에 있어서의 원하는 조도가 얻어지도록 카세트 (81) 내의 각 광원부 (73) 를 제어하고 있는데, 본 발명은, 분광 특성이 상이한 복수 종류의 램프 (71) 에 의해서 복수 종류의 광원부 (73) 를 구성한 경우를 포함하여, 동일한 효과를 나타낼 수 있다.In the above-described embodiment, a plurality of kinds of light source portions 73 having different spectral characteristics are formed by using the wavelength cut filter 286. The light source portions 73 are arranged on the downstream side of the integrator lens 74 and have illuminance corresponding to each wavelength And a controller 76 for controlling the lighting and lighting of the lamps 71 and controlling the illuminance of the lamps 71. The controller 76 controls the illuminance of the illuminance corresponding to each wavelength measured by the illuminometer 279 The light source unit 73 in the cassette 81 is controlled so as to obtain a desired illuminance at each wavelength based on the light source unit 73. The present invention is characterized in that a plurality of kinds of lamps 71 having different spectral characteristics are used, It is possible to exhibit the same effect, including the case of constituting the second embodiment of the present invention.

(제 5 실시형태)(Fifth Embodiment)

다음으로, 본 발명의 제 5 실시형태에 관련된 근접 스캔 노광 장치에 대하여, 도 34 ∼ 도 39 를 참조하여 설명한다.Next, a proximity scanning exposure apparatus according to a fifth embodiment of the present invention will be described with reference to Figs. 34 to 39. Fig.

근접 스캔 노광 장치 (101) 는, 도 37 에 나타내는 바와 같이, 마스크 (M) 에 근접하면서 소정 방향으로 반송되는 대략 직사각형 형상의 기판 (W) 에 대하여, 패턴 (P) 을 형성한 복수의 마스크 (M) 를 통해 노광용 광 (L) 을 조사하여, 기판 (W) 에 패턴 (P) 을 노광 전사한다. 즉, 그 노광 장치 (101) 는, 기판 (W) 을 복수의 마스크 (M) 에 대하여 상대 이동시키면서 노광 전사가 이루어지되는 스캔 노광 방식을 채용하고 있다. 또한, 본 실시형태에서 사용되는 마스크의 사이즈는 350 ㎜ × 250 ㎜ 로 설정되어 있고, 패턴 (P) 의 X 방향 길이는 유효 노광 영역의 X 방향 길이에 대응한다.As shown in FIG. 37, the proximity-scanning exposure apparatus 101 is provided with a plurality of masks (hereinafter, simply referred to as " masks ") having a pattern P formed on a substantially rectangular substrate W, M to expose the pattern P to the substrate W. The pattern P is transferred to the substrate W by exposure. That is, the exposure apparatus 101 employs a scan exposure method in which exposure transfer is performed while moving the substrate W relative to a plurality of masks M. The size of the mask used in the present embodiment is set to 350 mm x 250 mm, and the length of the pattern P in the X direction corresponds to the length of the effective exposure region in the X direction.

근접 스캔 노광 장치 (101) 는, 도 34 및 도 35 에 나타내는 바와 같이, 기판 (W) 을 부상시켜 지지함과 함께, 기판 (W) 을 소정 방향 (도면에 있어서 X 방향) 으로 반송하는 기판 반송 기구 (120) 와, 복수의 마스크 (M) 를 각각 유지하고, 소정 방향과 교차하는 방향 (도면에 있어서 Y 방향) 을 따라 지그재그 형상으로 2 열 배치되는 복수의 마스크 유지부 (171) 를 갖는 마스크 유지 기구 (170) 와, 복수의 마스크 유지부 (171) 의 상부에 각각 배치되고, 노광용 광 (L) 을 조사하는 조명 광학계로서의 복수의 조사부 (180) 와, 복수의 조사부 (180) 와 복수의 마스크 유지부 (171) 사이에 각각 배치되고, 조사부 (180) 로부터 출사된 노광용 광 (L) 을 차광하는 복수의 차광 장치 (190) 를 구비한다.34 and 35, the proximity-scanning exposure apparatus 101 supports the substrate W by lifting the substrate W while moving the substrate W in a predetermined direction (X direction in the drawing) A mask 120 having a plurality of mask holding portions 171 each holding a plurality of masks M and arranged in two rows in a zigzag shape along a direction crossing a predetermined direction A plurality of irradiation units 180 as an illumination optical system for irradiating the exposure light L and a plurality of irradiation units 180 and a plurality of irradiation units 180 arranged on the upper side of the plurality of mask holding units 171, And a plurality of light shielding devices 190 disposed between the mask holding portions 171 for shielding the exposure light L emitted from the irradiation portion 180.

이들 기판 반송 기구 (120), 마스크 유지 기구 (170), 복수의 조사부 (180), 및 차광 장치 (190) 는, 레벨 블록 (도시 생략) 을 통해 지면에 설치되는 장치 베이스 (102) 상에 배치되어 있다. 여기서, 도 35 에 나타내는 바와 같이, 기판 반송 기구 (120) 가 기판 (W) 을 반송하는 영역 중, 상방에 마스크 유지 기구 (170) 가 배치되는 영역을 마스크 배치 영역 (EA), 마스크 배치 영역 (EA) 에 대하여 상류측의 영역을 기판 반입측 영역 (IA), 마스크 배치 영역 (EA) 에 대하여 하류측의 영역을 기판 반출측 영역 (OA) 이라고 한다.The substrate transport mechanism 120, the mask holding mechanism 170, the plurality of irradiating units 180 and the light shielding unit 190 are arranged on a device base 102 provided on the ground via a level block . 35, a region where the mask holding mechanism 170 is disposed above the region where the substrate transport mechanism 120 transports the substrate W is referred to as a mask disposition region EA, a mask disposition region EA are referred to as a substrate carry-in side area IA, and a region on the downstream side relative to the mask placing area EA is referred to as a substrate carry-out side area OA.

기판 반송 기구 (120) 는, 장치 베이스 (102) 상에 다른 레벨 블록 (도시 생략) 을 통해서 설치된 반입 프레임 (105), 정밀 프레임 (106), 반출 프레임 (107) 상에 배치되고, 공기로 기판 (W) 을 부상시켜 지지하는 기판 유지부로서의 부상 유닛 (121) 과, 부상 유닛 (121) 의 Y 방향 측방에서, 장치 베이스 (102) 상에 또 다른 레벨 블록 (108) 을 통해 설치된 프레임 (109) 상에 배치되어, 기판 (W) 을 파지함과 함께, 기판 (W) 을 X 방향으로 반송하는 기판 구동 유닛 (140) 을 구비한다.The substrate transport mechanism 120 is disposed on the transfer frame 105, the precision frame 106, and the take-out frame 107 provided on the apparatus base 102 via another level block (not shown) A frame 109 installed on the apparatus base 102 through another level block 108 on the side of the floating unit 121 in the Y direction, a floating unit 121 as a substrate holding unit for holding the substrate W floating thereon, And a substrate driving unit 140 for holding the substrate W and transporting the substrate W in the X direction.

부상 유닛 (121) 은, 도 36 에 나타내는 바와 같이, 반입출 및 정밀 프레임 (105, 106, 107) 의 상면으로부터 상방으로 연장되는 복수의 연결봉 (122) 이 하면에 각각 장착되는 장척 형상의 복수의 배기 공기 패드 (123 : 도 35 참조, 124) 및 장척 형상의 복수의 흡배기 공기 패드 (125a, 125b) 와, 각 공기 패드 (123, 124, 125a, 125b) 에 형성된 복수의 배기구멍 (126) 으로부터 공기를 배출하는 공기 배출계 (130) 및 공기 배출용 펌프 (131) 와, 흡배기 공기 패드 (125a, 125b) 에 형성된 흡기구멍 (127) 으로부터 공기를 흡인하기 위한 공기 흡인계 (132) 및 공기 흡인용 펌프 (133) 를 구비한다.36, a plurality of connecting rods 122 extending upward from the upper surface of the loading / unloading and precision frames 105, 106, 107 are mounted on the lower surface of the floating unit 121, A plurality of intake and exhaust air pads 125a and 125b and a plurality of exhaust holes 126 formed in the respective air pads 123, 124, 125a, and 125b An air exhaust system 130 for exhausting air and an air exhaust pump 131 and an air intake system 132 for sucking air from the intake holes 127 formed in the intake and exhaust air pads 125a and 125b, For example,

또한, 흡배기 공기 패드 (125a, 125b) 는, 복수의 배기구멍 (126) 및 복수의 흡기구멍 (127) 을 갖고 있고, 공기 패드 (125a, 125b) 의 지지면 (134) 과 기판 (W) 사이의 공기압을 밸런스 조정하여, 소정의 부상량으로 고정밀도로 설정할 수 있어, 안정적인 높이로 수평 지지할 수 있다.The intake and exhaust air pads 125a and 125b have a plurality of exhaust holes 126 and a plurality of intake holes 127 and are arranged between the support surfaces 134 of the air pads 125a and 125b and the substrate W So that it can be set to a predetermined floating amount with high accuracy and horizontally supported at a stable height.

기판 구동 유닛 (140) 은, 도 35 에 나타내는 바와 같이, 진공 흡착에 의해 기판 (W) 을 파지하는 파지 부재 (141) 와, 파지 부재 (141) 를 X 방향을 따라서 안내하는 리니어 가이드 (142) 와, 파지 부재 (141) 를 X 방향을 따라 구동하는 구동 모터 (143) 및 볼나사 기구 (144) 와, 프레임 (109) 의 상면으로부터 돌출되도록, 기판 반입측 영역 (IA) 에 있어서의 프레임 (109) 의 측방에 Z 방향으로 이동할 수 있고 또한 자유롭게 회전할 수 있도록 장착되어, 마스크 유지 기구 (170) 로의 반송을 대기 중인 기판 (W) 의 하면을 지지하는 복수의 워크 충돌 방지 롤러 (145) 를 구비한다.35, the substrate driving unit 140 includes a gripping member 141 for gripping the substrate W by vacuum suction, a linear guide 142 for guiding the gripping member 141 along the X direction, A driving motor 143 and a ball screw mechanism 144 for driving the gripping member 141 along the X direction and a frame (not shown) in the substrate carry-in side region IA so as to protrude from the upper surface of the frame 109 A plurality of workpiece collision preventing rollers 145 that can move in the Z direction on the sides of the substrate W and support the lower surface of the substrate W waiting for the transfer to the mask holding mechanism 170 Respectively.

또한, 기판 반송 기구 (120) 는, 기판 반입측 영역 (IA) 에 형성되고, 이 기판 반입측 영역 (IA) 에서 대기되는 기판 (W) 의 프리얼라인먼트를 실시하는 기판 프리얼라인먼트 기구 (150) 와, 기판 (W) 의 얼라인먼트를 실시하는 기판 얼라인먼트 기구 (160) 를 갖고 있다.The substrate transport mechanism 120 includes a substrate prealignment mechanism 150 for performing prealignment of the substrate W which is formed in the substrate carry-in side area IA and is waiting in the substrate carry-in side area IA, And a substrate alignment mechanism 160 for aligning the substrate W.

마스크 유지 기구 (170) 는, 도 35 및 도 36 에 나타내는 바와 같이, 상기 서술한 복수의 마스크 유지부 (171) 와, 마스크 유지부 (171) 마다 형성되고, 마스크 유지부 (171) 를 X, Y, Z, θ 방향, 즉, 소정 방향, 교차 방향, 소정 방향 및 교차 방향과의 수평면에 대한 연직 방향, 및, 그 수평면의 법선 둘레로 구동하는 복수의 마스크 구동부 (172) 를 갖는다.35 and 36, the mask holding mechanism 170 includes a plurality of mask holding portions 171 described above and mask holding portions 171, And a plurality of mask driving parts 172 driven around Y, Z, and θ directions, that is, a predetermined direction, a crossing direction, a predetermined direction, a vertical direction with respect to a horizontal plane with respect to the intersecting direction, and a normal to the horizontal plane.

Y 방향을 따라 지그재그 형상으로 2 열 배치되는 복수의 마스크 유지부 (171) 는, 상류측에 배치되는 복수의 상류측 마스크 유지부 (171a) (본 실시형태에서는 6 개) 와, 하류측에 배치되는 복수의 하류측 마스크 유지부 (171b) (본 실시형태에서는 6 개) 로 구성되며, 장치 베이스 (2) 의 Y 방향 양측에 세워 설치한 기둥부 (112) (도 34 참조) 사이에서 상류측과 하류측에 2 개씩 가설된 메인프레임 (113) 에 마스크 구동부 (172) 를 통해서 각각 지지되어 있다. 각 마스크 유지부 (171) 는, Z 방향으로 관통하는 개구 (177) 를 가짐과 함께, 그 주연부 하면에 마스크 (M) 가 진공 흡착되어 있다.A plurality of mask holding portions 171 arranged in two rows in a zigzag shape along the Y direction are provided with a plurality of upstream mask holding portions 171a (six in this embodiment) arranged on the upstream side and a plurality of upstream mask holding portions 171b (Six in this embodiment) that are arranged on the upstream side in the Y direction of the apparatus base 2 and are arranged in the Y direction between the columnar portions 112 (see Fig. 34) And a mask drive unit 172 to the main frame 113, which is installed two at a downstream side. Each mask holding portion 171 has an opening 177 penetrating in the Z direction and a mask M is vacuum-adsorbed on the peripheral bottom surface.

마스크 구동부 (172) 는, 메인프레임 (113) 에 장착되고, X 방향을 따라 이동하는 X 방향 구동부 (173) 와, X 방향 구동부 (173) 의 선단에 장착되고, Z 방향으로 구동하는 Z 방향 구동부 (174) 와, Z 방향 구동부 (174) 에 장착되고, Y 방향으로 구동하는 Y 방향 구동부 (175) 와, Y 방향 구동부 (175) 에 장착되고, θ 방향으로 구동하는 θ 방향 구동부 (176) 를 갖고, θ 방향 구동부 (176) 의 선단에 마스크 유지부 (171) 가 장착되어 있다.The mask driving unit 172 includes an X direction driving unit 173 mounted on the main frame 113 and moving along the X direction, a Z direction driving unit 173 mounted on the front end of the X direction driving unit 173, A Y direction driving part 175 mounted on the Z direction driving part 174 and driven in the Y direction and a? Direction driving part 176 mounted on the Y direction driving part 175 and driven in the? And a mask holding portion 171 is attached to the tip of the? Direction driving portion 176.

복수의 조사부 (180) 는, 도 38 및 도 39 에 나타내는 바와 같이, 케이싱 (181) 내에, 제 1 실시형태와 동일하게 구성되는 광조사 장치 (80A), 인티그레이터 렌즈 (74C), 광학 제어부 (76), 오목면 경 (77), 및 노광 제어용 셔터 (78) 를 구비함과 함께, 광원부 (73A) 와 노광 제어용 셔터 (78) 사이, 및 인티그레이터 렌즈 (74C) 와 오목면 경 (77) 사이에 배치되는 평면 미러 (280, 281, 282) 를 구비한다. 또한, 오목면 경 (77) 또는 폴딩 미러로서의 평면 미러 (282) 에는, 미러의 곡률을 수동 또는 자동으로 변경할 수 있는 디클리네이션각 보정 수단이 형성되어도 된다.As shown in Figs. 38 and 39, a plurality of irradiating units 180 are provided in the casing 181 with a light irradiation device 80A, an integrator lens 74C, and an optical control unit The concave mirror 77 and the exposure control shutter 78 and the shutter 74 for exposure control between the light source unit 73A and the exposure control shutter 78 and between the integrator lens 74C and the concave mirror 77, 281, 282, which are disposed between the two planar mirrors. The concave mirror 77 or the plane mirror 282 as the folding mirror may be provided with a de-correction angle correcting means capable of manually or automatically changing the curvature of the mirror.

광조사 장치 (80A) 는, 초고압 수은 램프 (71) 와 반사경 (72) 을 각각 포함하는, 예를 들어 4 단 2 열의 8 개의 광원부 (73) 를 포함하는 카세트 (81A) 를 직선 형상으로 3 개 정렬한 지지체 (82A) 를 갖고 있다. 제 1 실시형태와 동일하게, 카세트 (81A) 에서는, 8 개의 광원부 (73) 가 지지된 광원 지지부 (83) 에 램프 누름 커버 (84) 를 장착함으로써, 8 개의 광원부 (73) 의 광이 조사되는 각 조사면과, 8 개의 광원부 (73) 의 광이 입사되는 인티그레이터 렌즈 (74C) 의 입사면까지의 각 광축 (L) 의 거리가 대략 일정해지도록, 광원부 (73) 가 위치 결정된다. 또한, 도 39 에 나타내는 바와 같이, 지지체 (82A) 의 복수의 카세트 장착부 (90) 에 각 카세트 (81A) 가 장착됨으로써, 모든 광원부 (73) 의 광이 조사되는 각 조사면과, 그 광원부 (73) 의 광이 입사되는 인티그레이터 렌즈 (74) 의 입사면까지의 각 광축 (L) 의 거리가 대략 일정해지도록, 각 카세트 (81A) 가 위치 결정된다. 또한, 각 광원부 (73) 로부터의 배선의 처리나, 프레임 내의 냉각 구조는, 제 1 실시형태와 동일하게 구성되어 있고, 또한 램프 (71) 의 점등 제어 방법도 제 1 실시형태와 동일하다.The light irradiating device 80A includes a cassette 81A including eight light source portions 73 of four rows and two columns each including the ultra high pressure mercury lamp 71 and the reflecting mirror 72, And an aligned support body 82A. The cassette 81A is provided with the lamp pressing cover 84 attached to the light source supporting portion 83 in which the eight light source portions 73 are supported so that the light from the eight light source portions 73 is irradiated The light source portion 73 is positioned so that the distance between each irradiation surface and each optical axis L to the incident surface of the integrator lens 74C on which the light of the eight light source portions 73 is incident becomes substantially constant. 39, each cassette 81A is mounted on a plurality of cassette mounting portions 90 of the supporting body 82A, so that the respective irradiation surfaces irradiated with the light of all the light source portions 73 and the light source portions 73 The respective cassettes 81A are positioned so that the distance between the optical axes L to the incident surface of the integrator lens 74 on which the light of the light beam incident thereon is substantially constant. The processing of wiring from each light source section 73 and the cooling structure in the frame are configured in the same manner as in the first embodiment and the lighting control method of the lamp 71 is also the same as in the first embodiment.

복수의 차광 장치 (190) 는, 도 36 에 나타내는 바와 같이, 경사 각도를 변경하는 1 쌍의 판 형상 블라인드 부재 (208, 209) 를 갖고, 블라인드 구동 유닛 (192) 에 의해 1 쌍의 블라인드 부재 (208, 209) 의 경사 각도를 변경한다. 이로써, 마스크 유지부 (171) 에 유지된 마스크 (M) 의 근방에서, 조사부 (180) 로부터 출사된 노광용 광 (L) 을 차광함과 함께, 노광용 광 (L) 을 차광하는 소정 방향에 있어서의 차광 폭, 즉, Z 방향에서 본 투영 면적을 가변으로 할 수 있다.As shown in Fig. 36, the plurality of light-shielding apparatuses 190 has a pair of plate-shaped blind members 208 and 209 for changing the tilt angle. The blind driving unit 192 drives the pair of blind members 208, and 209 are changed. Thus, in the vicinity of the mask M held by the mask holding section 171, light for exposure light L emitted from the irradiating section 180 is shielded and light in the predetermined direction for shielding the exposure light L The light shielding width, that is, the projected area viewed from the Z direction can be made variable.

또한, 근접 스캔 노광 장치 (101) 에는, 마스크 (M) 를 유지하는 1 쌍의 마스크 트레이부 (도시 생략) 를 Y 방향으로 구동함으로써, 상류측 및 하류측 마스크 유지부 (171a, 171b) 에 유지된 마스크 (M) 를 교환하는 마스크 체인저 (220) 가 형성됨과 함께, 마스크 교환 전에, 마스크 트레이부에 대하여 부상 지지되는 마스크 (M) 를 밀어 누르면서, 위치 결정 핀 (도시 생략) 을 마스크 (M) 에 맞닿게 함으로써 프리얼라인먼트를 실시하는 마스크 프리얼라인먼트 기구 (240) 가 형성되어 있다.The pair of mask tray units (not shown) for holding the mask M are driven in the Y direction in the proximity-scanning exposure apparatus 101 so as to be held in the upstream-side and downstream-side mask holding units 171a and 171b A positioning pin (not shown) is attached to the mask M while pushing and pressing the mask M lifted and held against the mask tray portion before the mask is exchanged, The mask free alignment mechanism 240 for performing the pre-alignment is formed.

또한, 도 36 에 나타내는 바와 같이, 근접 스캔 노광 장치 (101) 에는, 레이저 변위계 (260), 마스크 얼라인먼트용 카메라 (도시 생략), 추종용 카메라 (도시 생략), 추종용 조명 (273) 등의 각종 검출 수단이 배치되어 있다.36, the proximity scanning exposure apparatus 101 is provided with various devices such as a laser displacement gauge 260, a camera for mask alignment (not shown), a tracking camera (not shown), a tracking light 273, and the like Detection means are disposed.

다음으로, 이상과 같이 구성되는 근접 스캔 노광 장치 (101) 를 사용하여, 기판 (W) 의 노광 전사에 대하여 설명한다. 또한 본 실시형태에서는, 하지 (下地) 패턴 (예를 들어 블랙 매트릭스) 이 묘화된 컬러 필터 기판 (W) 에 대하여, R (적), G (녹), B (청) 중 어느 패턴을 묘화하는 경우에 대하여 설명한다.Next, the exposure transfer of the substrate W will be described using the proximity-scanning exposure apparatus 101 configured as described above. Further, in the present embodiment, the color filter substrate W on which a base pattern (for example, a black matrix) is drawn is used to draw any pattern of R (red), G (green) Will be described.

근접 스캔 노광 장치 (101) 는, 도시하지 않은 로더 등에 의해서, 기판 반입 영역 (IA) 으로 반송된 기판 (W) 을 배기 공기 패드 (123) 로부터의 공기에 의해 부상시켜 지지하여, 기판 (W) 의 프리얼라인먼트 작업, 얼라인먼트 작업을 실시한 후, 기판 구동 유닛 (140) 의 파지 부재 (141) 에 의해 척된 기판 (W) 을 마스크 배치 영역 (EA) 으로 반송한다.The proximity scanning exposure apparatus 101 supports the substrate W carried to the substrate carry-in area IA by a not-shown loader or the like by lifting the substrate W by the air from the exhaust air pad 123, The substrate W chucked by the holding member 141 of the substrate driving unit 140 is transported to the mask disposition area EA.

그 후, 기판 (W) 은, 기판 구동 유닛 (140) 의 구동 모터 (143) 를 구동시킴으로써, 레일 (142) 을 따라 X 방향으로 이동한다. 그리고, 기판 (W) 은 마스크 배치 영역 (EA) 에 형성된 배기 공기 패드 (124) 및 흡배기 공기 패드 (125a, 125b) 상으로 이동되어, 진동을 최대한 배제한 상태에서 부상시켜서 지지된다. 그리고, 조사부 (180) 내의 광원으로부터 노광용 광 (L) 을 출사하면, 이러한 노광용 광 (L) 은 마스크 유지부 (171) 에 유지된 마스크 (M) 를 통과하여, 패턴을 기판 (W) 에 노광 전사한다.The substrate W is moved in the X direction along the rails 142 by driving the driving motor 143 of the substrate driving unit 140. Then, The substrate W is then moved onto the exhaust air pad 124 and the intake and exhaust air pads 125a and 125b formed in the mask arrangement region EA and lifted and supported in a state where the vibration is largely excluded. When the light L for exposure is emitted from the light source in the irradiation unit 180, the light L for exposure passes through the mask M held by the mask holding unit 171, exposes the pattern to the substrate W It is transferred.

또한, 당해 노광 장치 (101) 는 추종용 카메라 (도시 생략) 나 레이저 변위계 (260) 를 갖고 있기 때문에, 노광 동작 중, 마스크 (M) 와 기판 (W) 의 상대 위치 어긋남을 검출하고, 검출된 상대 위치 어긋남에 기초하여 마스크 구동부 (172) 를 구동시켜, 마스크 (M) 의 위치를 기판 (W) 에 실시간으로 추종시킨다. 동시에, 마스크 (M) 와 기판 (W) 의 갭을 검출하고, 검출된 갭에 기초하여 마스크 구동부 (172) 를 구동시켜, 마스크 (M) 와 기판 (W) 의 갭을 실시간으로 보정한다.Since the exposure apparatus 101 has a tracking camera (not shown) or a laser displacement meter 260, it is possible to detect a relative positional deviation between the mask M and the substrate W during the exposure operation, The mask driving unit 172 is driven based on the relative positional deviation to follow the position of the mask M to the substrate W in real time. At the same time, the gap between the mask M and the substrate W is detected, and the mask driving unit 172 is driven based on the detected gap to correct the gap between the mask M and the substrate W in real time.

이상, 동일하게 하여 연속 노광함으로써, 기판 (W) 전체에 패턴의 노광을 실시할 수 있다. 마스크 유지부 (171) 에 유지된 마스크 (M) 는 지그재그 형상으로 배치되어 있기 때문에, 상류측 혹은 하류측의 마스크 유지부 (171a, 171b) 에 유지되는 마스크 (M) 가 이간되어 정렬되어 있어도, 기판 (W) 에 간극없이 패턴을 형성할 수 있다.By performing the continuous exposure in the same manner as described above, it is possible to expose the whole of the substrate W to a pattern. Since the mask M held by the mask holding portion 171 is arranged in a zigzag shape, even if the mask M held by the mask holding portions 171a and 171b on the upstream side or the downstream side is separated and aligned, A pattern can be formed on the substrate W without a gap.

또한, 기판 (W) 으로부터 복수의 패널을 잘라 내는 경우에는, 인접하는 패널끼리의 사이에 대응하는 영역에 노광용 광 (L) 을 조사하지 않는 비노광 영역을 형성한다. 이 때문에, 노광 동작 중, 1 쌍의 블라인드 부재 (208, 209) 를 개폐하여 비노광 영역에 블라인드 부재 (208, 209) 가 위치하도록, 기판 (W) 의 이송 속도에 맞추어 기판 (W) 의 이송 방향과 동일한 방향으로 블라인드 부재 (208, 209) 를 이동시킨다.When a plurality of panels are cut out from the substrate W, a non-exposure area in which no light for exposure L is irradiated is formed in a region corresponding to a space between adjacent panels. Therefore, during the exposure operation, the pair of blind members 208 and 209 are opened and closed so that the blind members 208 and 209 are positioned in the non-exposure area, The blind members 208 and 209 are moved in the same direction.

따라서, 본 실시형태와 같은 근접 스캔 노광 장치에 있어서도, 광원부 (73) 를 교환할 때에는 카세트 (81) 별로 교환된다. 각 카세트 (81) 에서는, 소정 수의 광원부 (73) 가 미리 위치 결정되고, 또한, 각 광원부 (73) 로부터의 배선 (97) 이 커넥터 (98) 에 접속되어 있다. 이 때문에, 교환이 필요한 카세트 (81A) 를 지지체 (82A) 의 카세트용 오목부 (90b) 에 끼워 맞춰 지지체 (82) 에 장착시킴으로써, 카세트 (81) 내의 광원부 (73) 의 얼라인먼트를 완료한다. 또한, 커넥터 (98) 에 다른 배선 (99) 을 접속함으로써 배선 작업도 완료되기 때문에, 광원부 (73) 의 교환 작업을 용이하게 실시할 수 있다.Therefore, even in the proximity scan exposure apparatus like this embodiment, when the light source unit 73 is exchanged, it is exchanged for each cassette 81. In each of the cassettes 81, a predetermined number of light source portions 73 are positioned beforehand and wirings 97 from the respective light source portions 73 are connected to the connector 98. Alignment of the light source unit 73 in the cassette 81 is completed by fitting the cassette 81A that needs to be replaced to the cassette recess 90b of the support body 82A and mounting the cassette 81A on the support body 82. [ Since the wiring work is also completed by connecting the other wiring 99 to the connector 98, the replacement work of the light source portion 73 can be easily performed.

또, 도 41 에 나타내는 바와 같이, 본 실시형태의 광조사 장치 (80A) 에 있어서도, 제 4 실시형태와 동일하게, 소정 수의 광원부 (73) 의 각 램프 (71) 는 분광 특성이 동일하고, 소정 수의 광원부 (73) 는, 그 일부에 파장 컷 필터 (286) 를 배치함으로써 분광 특성이 상이한 2 종류의 광원부 (73) 를 구성해도 된다.41, similarly to the fourth embodiment, each of the lamps 71 of the predetermined number of light source portions 73 has the same spectral characteristics, and in the light irradiation device 80A of this embodiment, The predetermined number of light source portions 73 may constitute two kinds of light source portions 73 having different spectral characteristics by disposing the wavelength cut filter 286 in a part thereof.

구체적으로는, 도 40 및 41 에 나타내는 바와 같이, 램프 (71) 와 반사경 (72) 을 포함하는 소정 수의 광원부 (73) 와, 소정 수의 광원부 (73) 의 광이 인티그레이터 렌즈 (74) 의 입사면에 입사되도록 광원부 (73) 를 지지하는 카세트 (81) 를 구비하고, 소정 수의 광원부 (73) 의 각 램프 (71) 는 분광 특성이 동일하고, 소정 수의 광원부 (73) 는, 그 일부에 파장 컷 필터 (286) 를 배치함으로써 분광 특성이 상이한 2 종류의 광원부 (73) 를 구성한다. 또한, 오목면 경 (77) 의 일부에는 개구 (77a) 가 형성되어 있고, 개구 (77a) 의 후방에는, g 선, h 선, i 선, j 선, k 선 등에 있어서의 각 파장의 조도를 측정하는 각 조도계 (279) 가 설치되어 있다.More specifically, as shown in Figs. 40 and 41, a predetermined number of light source portions 73 including a lamp 71 and a reflector 72, and a predetermined number of light sources 73 are disposed in the integrator lens 74, And a predetermined number of light sources 73 are connected to the light source unit 73. The light source unit 73 includes a cassette 81 for supporting the light source unit 73 so as to be incident on the incident surface of the light source unit 73. Each lamp 71 of the predetermined number of light source units 73 has the same spectral characteristics, Two kinds of light source portions 73 having different spectral characteristics are formed by arranging the wavelength cut filter 286 in a part thereof. An opening 77a is formed in a part of the concave surface 77 and the illuminance of each wavelength in the g line, the h line, the i line, the j line, the k line, And an illuminance meter 279 for measuring the illuminance is provided.

이러한 구성으로 함으로써, 램프 (71) 를 교환하지 않고서, 또한 분광 특성이 상이한 광원부를 사용하지 않고서, 파장마다 강도를 자유롭게 설정할 수 있다.With this configuration, it is possible to freely set the intensity for each wavelength without replacing the lamp 71 and without using the light source portion having different spectral characteristics.

또한, 본 발명은 전술한 실시형태에 한정되지 않고, 적절히 변형, 개량 등을 할 수 있다.Further, the present invention is not limited to the above-described embodiments, but can be appropriately modified and improved.

예를 들어 본 실시형태의 램프 누름 커버 (84) 는, 오목 형상의 박스 형상으로 했지만, 이것에 한정되지 않고, 맞닿음부에 의해 광원부를 위치 결정하고 고정시킬 수 있는 것이면, 예를 들어 메시 형상이어도 된다. 또한, 각 광원부 (73) 를 광원 지지부 (83) 에 끼워 맞춰 더욱 고정시키도록 한 경우에는, 램프 누름 커버 (84) 를 형성하지 않고 구성할 수도 있다.For example, although the lamp pressing cover 84 of the present embodiment is of a concave box shape, the lamp pressing cover 84 is not limited to the box shape. For example, the lamp pressing cover 84 may be a mesh- . When the light source unit 73 is fitted and fixed to the light source support unit 83, the lamp cover 84 may not be formed.

또한, 지지체 커버 (92) 의 형상도 조명 광학계 (70) 의 배치에 따라서 임의로 설계할 수 있다.The shape of the support body cover 92 can be arbitrarily designed in accordance with the arrangement of the illumination optical system 70. [

또, 카세트 (81) 에 배치되는 광원부 (73) 를 8 개 이상으로 하고, 지지체 (82) 에 배치되는 전체 광원부는 8 개 ∼ 약 800 개로 한다. 800 개 정도이면, 실용성 및 효율이 좋아진다. 또한, 지지체 (82) 에 장착되는 카세트 (81) 의 수는 전체 광원부 (73) 의 수의 5 ％ 이하로 하는 것이 바람직하고, 이 경우에는, 1 개의 카세트 (81) 에 배치되는 광원부 (73) 의 수가 5 ％ 이상이 된다.8 or more light source portions 73 disposed in the cassette 81 and eight to about 800 total light source portions disposed in the support 82 are provided. If the number is about 800, practicality and efficiency become better. It is preferable that the number of the cassettes 81 mounted on the supporter 82 is 5% or less of the total number of the light sources 73. In this case, the number of the light sources 73 disposed in one cassette 81, Is 5% or more.

그리고, 도 25(a) 및 (b) 에서는 동일 사이즈의 카세트 (81) 를 사용하여 대략 회전 대칭이 되는 위치의 램프를 교대로 점등하는 것을 설명하였지만, 상이한 사이즈의 카세트 (81) 를 사용하여, 카세트 (81) 에 있어서의 대략 회전 대칭이 되는 위치의 램프 (71) 를 교대로 점등하도록 해도 된다. 소형 사이즈의 카세트 (81) 에 조립된 램프 (71) 는 대형 카세트 (81) 에 조립된 램프 (71) 와 비교하여 램프 (71) 의 수가 적기 때문에, 주위로부터 받는 발열량이 적어, 소형 사이즈의 카세트 (81) 에 조립된 램프 (71) 의 수명이 길어진다. 또한, 상이한 사이즈의 카세트 (81) 를 사용하여, 모든 램프 (71) 에 있어서 대략 회전 대칭이 되는 위치의 램프 (71) 를 교대로 점등 제어하는 것이 바람직하다.25 (a) and 25 (b) illustrate alternately lighting the lamps at positions that are substantially rotationally symmetrical using the cassettes 81 of the same size, but using the cassettes 81 of different sizes, The lamps 71 at positions which become substantially rotationally symmetrical in the cassette 81 may be alternately turned on. Since the number of the lamps 71 is smaller than that of the lamp 71 assembled in the large cassette 81, the lamp 71 incorporated in the cassette 81 of a small size has a small amount of heat to be received from the periphery, The life of the lamp 71 assembled with the lamp 81 becomes longer. Further, it is preferable to alternately turn on and off the lamps 71 at positions that are substantially rotationally symmetric with respect to all the lamps 71 by using the cassettes 81 of different sizes.

또, 예를 들어, 상기 실시형태에서는, 노광 장치로서 분할 축차 근접 노광 장치와 주사식 근접 노광 장치를 설명했지만, 이것에 한정되지 않고, 본 발명은, 미러 프로젝션식 노광 장치, 렌즈 투영식 노광 장치, 밀착식 노광 장치에도 적용할 수 있다. 또한 본 발명은, 일괄식, 축차식, 주사식 등의 어떠한 노광 방법에도 적용할 수 있다.For example, in the above-described embodiment, the divisional approximation exposure apparatus and the scanning type proximity exposure apparatus have been described as the exposure apparatus, but the present invention is not limited to this. The present invention can be applied to a mirror projection exposure apparatus, , And a contact type exposure apparatus. Further, the present invention can be applied to any exposure method such as a batch method, a sequential method, and a scanning method.

그리고 본 발명의 지지체는, 상기 실시형태와 같은 지지체 본체 (91) 와 지지체 커버 (92) 를 갖는 지지체 (82) 에 의해서 구성되는 것이 바람직한데, 각 카세트 (81) 에 장착된 각 광원부 (73) 의 광이 인티그레이터 렌즈 (74) 의 입사면에 실질적으로 향하도록 얼라인먼트되는 것이면 되고, 지지체 본체만으로 구성되어도 되고, 또, 골조 구조와 같은 프레임체로 이루어지는 지지체 본체만으로 구성되어도 된다.The supporting body of the present invention is preferably constituted by the supporting body 82 having the supporting body 91 and the supporting body cover 92 as in the above embodiment and each light source part 73 mounted on each of the cassettes 81, May be made of only the support body or may be composed only of the support body made of the frame like the frame structure.

예를 들어, 도 42 에 나타내는 바와 같이, 지지체 (82) 는 전면을 개방하도록 형성되고, 지지체 (82) 에 형성된 각 카세트 장착부 (90) 를 오목부 (카세트 (81) 의 직사각형 모양의 후방 가장자리부와 대향하는 단면 L 자 형상의 절결) 에 의해 형성하여, 카세트 고정 수단에 의해서 각 카세트 (81) 를 전방에서부터 고정시키는 구조여도 된다. 또, 이 경우에 있어서, 강제 배기 수단 (79) 에 의해서 지지체 (82) 내의 공기를 배기하는 경우에는, 도 18(a) 에 나타내는 바와 같이, 배기구멍 (84a) 은 램프 누름 커버 (84) 의 바닥면에 형성되는 것이 바람직하다.42, the support body 82 is formed so as to open the front face, and each cassette mounting portion 90 formed on the support body 82 is inserted into the concave portion (the rear edge portion of the rectangular shape of the cassette 81 And the cassettes 81 may be fixed from the front by the cassette fixing means. 18 (a), the exhaust hole 84a is formed so as to surround the inside of the support member 82 by the forced exhaust means 79. In this case, when the air in the support member 82 is exhausted by the forced exhaust means 79, And is preferably formed on the bottom surface.

또한, 지지체의 카세트 장착부 (90) 의 구성도 임의이며, 상기 실시형태의 도 8 에 나타내는 바와 같이, 개구부 (90a) 의 주위에 형성된 카세트용 오목부 (90c) 에 의해 형성되어도 되지만, 도 43 에 나타내는 바와 같이, 광원 지지부 (83) 의 전면 주위에 형성된 볼록 형상의 걸어맞춤부 (83c) 와 카세트 장착부 (90) 의 주위에 걸쳐서 형성된 오목 형상의 피걸어맞춤부 (90d) 를 걸어맞춤으로써 장착되도록 해도 된다.The configuration of the cassette mounting portion 90 of the support member is optional and may be formed by the concave portion 90c for the cassette formed around the opening portion 90a as shown in Fig. A concave engaging portion 83c formed around the front surface of the light source supporting portion 83 and a concave engaging portion 90d formed around the periphery of the cassette mounting portion 90 are engaged You can.

본 출원은, 2010년 2월 5일에 출원된 일본국 특허출원 2010-024326호, 2010년 8월 27일에 출원된 일본국 특허출원 2010-191288호, 2010년 10월 7일에 출원된 일본국 특허출원 2010-227689호 및 2011년 1월 26일에 출원된 일본국 특허출원 2011-014268호에 기초하는 것으로, 그 내용이 여기에 참조로서 도입된다.The present application is based on Japanese patent application No. 2010-024326 filed on February 5, 2010, Japanese patent application No. 2010-191288 filed on August 27, 2010, Japan filed on October 7, 2010 Japanese Patent Application No. 2010-227689 filed on January 26, 2011, and Japanese Patent Application No. 2011-014268 filed on January 26, 2011, the contents of which are incorporated herein by reference.

10 … 마스크 스테이지
12 … 마스크 유지 프레임 (마스크 유지부)
18 … 얼라인먼트 카메라
20 … 기판 스테이지
21 … 기판 유지부
70 … 조명 광학계
71 … 램프
72 … 반사경
73 … 광원부
74, 74C … 인티그레이터 렌즈
76 … 광학 제어부 (제어부)
80, 80A … 광조사 장치
81, 81A … 카세트
82, 82A … 지지체
83 … 광원 지지부
84 … 램프 누름 커버
87 … 램프 누름 기구
90 … 카세트 장착부
91 … 지지체 본체
92 … 지지체 커버
96a … 타이머
101 … 근접 스캔 노광 장치 (노광 장치)
120 … 기판 반송 기구
121 … 부상 유닛
140 … 기판 구동 유닛
150 … 기판 프리얼라인먼트 기구
160 … 기판 얼라인먼트 기구
170 … 마스크 유지 기구
171 … 마스크 유지부
172 … 마스크 구동부
180 … 조사부
190 … 노광 장치
M … 마스크
P … 패턴
PE … 축차 근접 노광 장치 (노광 장치)
W … 유리 기판 (피노광재, 기판) 10 ... Mask stage
12 ... The mask holding frame (mask holding section)
18 ... Alignment camera
20 ... Substrate stage
21 ... The substrate-
70 ... Illumination optical system
71 ... lamp
72 ... Reflector
73 ... Light source
74, 74C ... Integrator lens
76 ... The optical control unit (control unit)
80, 80A ... Light irradiation device
81, 81A ... cassette
82, 82A ... Support
83 ... The light-
84 ... Lamp cover
87 ... Lamp pressing mechanism
90 ... Cassette mounting portion
91 ... The support body
92 ... The support cover
96a ... timer
101 ... Close-scan scanning exposure apparatus (exposure apparatus)
120 ... The substrate-
121 ... Lifting unit
140 ... The substrate-
150 ... Substrate free alignment mechanism
160 ... Substrate alignment mechanism
170 ... Mask holding mechanism
171 ... The mask-
172 ... The mask driver
180 ... Investigation Department
190 ... Exposure device
M ... Mask
P ... pattern
PE ... Continuous exposure apparatus (exposure apparatus)
W ... Glass substrate (substrate, substrate)

Claims (32)

발광부와 그 발광부로부터 발생된 광에 지향성을 부여하여 사출하는 반사 광학계를 각각 포함하는 복수의 광원부와,
2 이상의 소정 수의 상기 광원부를 각각 장착 가능한 복수의 카세트와,
상기 복수의 카세트를 장착 가능한 지지체를 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.A plurality of light source sections each including a light emitting section and a reflecting optical system for emitting directivity to light emitted from the light emitting section,
A plurality of cassettes each of which can mount a predetermined number of the light source units of two or more,
And a support member capable of mounting the plurality of cassettes. 제 1 항에 있어서,
상기 카세트는, 상기 소정 수의 광원부가 지지되는 광원 지지부를 갖고,
상기 광원 지지부는, 상기 소정 수의 광원부의 광이 조사되는 각 조사면에서부터, 상기 소정 수의 광원부의 광이 입사되는 인티그레이터 렌즈의 입사면까지의 각 광축의 거리가 일정해지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.The method according to claim 1,
Wherein the cassette has a light source support portion in which the predetermined number of light source portions are supported,
The light source support portion is formed such that distances of respective optical axes from the respective irradiation surfaces irradiated with the light of the predetermined number of light source portions to the incident surfaces of the integrator lens through which the light of the predetermined number of light source portions enter are constant Of the light irradiating device. 제 2 항에 있어서,
상기 지지체는, 상기 복수의 카세트가 각각 장착되는 복수의 카세트 장착부를 갖고,
상기 복수의 카세트 장착부는, 모든 상기 복수의 광원부의 광이 조사되는 각 조사면에서부터, 모든 상기 복수의 광원부의 광이 입사되는 인티그레이터 렌즈의 입사면까지의 각 광축의 거리가 일정해지도록 형성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.3. The method of claim 2,
Wherein the support has a plurality of cassette mounting portions on which the plurality of cassettes are respectively mounted,
The plurality of cassette mounting portions are formed such that distances of respective optical axes from the irradiation surfaces irradiated with light of all the plurality of light source portions to the incident surfaces of the integrator lens through which light of all the plurality of light source portions are incident are made constant Wherein the light irradiating device is a light irradiating device for an exposure apparatus. 제 3 항에 있어서,
상기 복수의 카세트 장착부는, 상기 카세트의 광원 지지부가 면하는 개구부와, 그 광원 지지부의 주위에 형성된 평면부와 맞닿는 평면을 각각 구비하고,
소정의 방향으로 정렬한 상기 복수의 카세트 장착부의 각 평면은, 소정의 각도로 교차하고 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.The method of claim 3,
Wherein the plurality of cassette mounting portions each have an opening facing the light source support portion of the cassette and a plane abutting a flat portion formed around the light source support portion,
Wherein the respective planes of the plurality of cassette mounting portions aligned in a predetermined direction cross at a predetermined angle. 제 4 항에 있어서,
상기 지지체의 카세트 장착부는, 상기 평면을 바닥면으로 한 오목부에 형성되고,
상기 카세트는, 상기 카세트 장착부의 오목부에 끼워 맞춰지는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.5. The method of claim 4,
Wherein the cassette mounting portion of the support is formed in a concave portion having the plane as a bottom surface,
Wherein the cassette is fitted in the concave portion of the cassette mounting portion. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 카세트는, 상기 소정 수의 광원부가 지지되는 광원 지지부를 갖고,
상기 광원 지지부에 지지된 최외주에 위치하는 상기 광원부의 중심을 4 변으로 연결한 선이 직사각형 형상을 이루는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the cassette has a light source support portion in which the predetermined number of light source portions are supported,
Wherein a line connecting the center of the light source unit located at the outermost periphery supported by the light source support unit with four sides is a rectangular shape. 제 6 항에 있어서,
상기 지지체는, 상기 복수의 카세트가 각각 장착되는 복수의 카세트 장착부를 갖고,
상기 복수의 카세트 장착부는, 서로 직교하는 방향으로 배치되는 상기 카세트의 각 개수를 일치시켜 직사각형 형상으로 형성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.The method according to claim 6,
Wherein the support has a plurality of cassette mounting portions on which the plurality of cassettes are respectively mounted,
Wherein the plurality of cassette mounting portions are formed in a rectangular shape with the number of the cassettes arranged in a direction orthogonal to each other being equal to each other. 제 2 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 카세트는, 상기 광원 지지부에 지지된 상기 소정 수의 광원부를 둘러싼 상태로, 상기 광원 지지부에 장착되는 커버 부재를 갖고,
상기 광원 지지부와 상기 커버 부재 사이의 수납 공간 내에 있어서, 인접하는 상기 광원부의 반사 광학계의 배면은 직접 대향하고 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.6. The method according to any one of claims 2 to 5,
Wherein the cassette has a cover member mounted on the light source support portion in a state surrounding the predetermined number of light source portions supported by the light source support portion,
Wherein the back surface of the reflection optical system of the adjacent light source unit is directly opposed to the backlight of the adjacent light source unit in the storage space between the light source support unit and the cover member. 제 8 항에 있어서,
상기 커버 부재에는, 상기 수납 공간과 그 커버 부재의 외부를 연이어 통하는 연통구멍과 연통홈의 적어도 하나가 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.9. The method of claim 8,
Wherein the cover member is provided with at least one of a communication hole communicating with the outside of the accommodating space and the outside of the cover member and a communication groove. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 지지체에는, 상기 각 광원부를 냉각시키기 위해서 냉각수가 순환하는 냉각용 배관이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the support body is provided with a cooling pipe through which cooling water circulates for cooling the light source unit. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 각 광원부의 광이 조사되는 각 조사면에 대하여 후방 및 측방의 적어도 일방으로부터 상기 지지체 내의 공기를 강제 배기하는 강제 배기 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
And forced exhaust means for forcibly exhausting the air in the support from at least one of the rear side and the lateral side with respect to each irradiation surface to which light of each light source portion is irradiated. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 복수의 광원부의 점등 또는 소등을 제어하는 제어부를 추가로 구비하고,
상기 제어부는, 상기 각 카세트 내에서의 상기 소정 수의 광원부가 회전 대칭으로 점등하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Further comprising a control unit for controlling turning on or off of the plurality of light source units,
Wherein the control unit controls the predetermined number of light sources in each of the cassettes to be turned on in a rotationally symmetrical manner. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 복수의 광원부의 점등 또는 소등을 제어하는 제어부를 추가로 구비하고,
상기 제어부는, 상기 각 카세트 내에서의 상기 소정 수의 광원부 중, 회전 대칭이 되는 위치의 상기 광원부를 교대로 점등하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Further comprising a control unit for controlling turning on or off of the plurality of light source units,
Wherein the control unit controls to alternately turn on the light source units at rotational symmetry positions among the predetermined number of light source units in each of the cassettes. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
상기 소정 수의 광원부는, 분광 특성이 상이한 복수 종류의 광원부에 의해서 구성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.6. The method according to any one of claims 1 to 5,
Wherein the predetermined number of light source portions are constituted by a plurality of kinds of light source portions having different spectral characteristics. 발광부와 그 발광부로부터 발생된 광에 지향성을 부여하여 사출하는 반사 광학계를 각각 포함하는 복수의 광원부와,
2 이상의 소정 수의 상기 광원부를 각각 장착 가능한 복수의 카세트와,
상기 복수의 카세트를 장착 가능한 지지체와,
상기 복수의 광원부의 점등 또는 소등을 제어하는 제어부를 구비하고,
상기 제어부는, 상기 각 카세트 내에서의 상기 소정 수의 광원부가 회전 대칭으로 점등하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.A plurality of light source sections each including a light emitting section and a reflecting optical system for emitting directivity to light emitted from the light emitting section,
A plurality of cassettes each of which can mount a predetermined number of the light source units of two or more,
A support body on which the plurality of cassettes can be mounted,
And a control unit for controlling the turning on and off of the plurality of light source units,
Wherein the control unit controls the predetermined number of light sources in each of the cassettes to be turned on in a rotationally symmetrical manner. 제 15 항에 있어서,
상기 제어부는, 상기 복수의 카세트의 상기 소정 수의 광원부가 동일한 점등 패턴으로 회전 대칭으로 동시에 점등하도록 제어함으로써, 모든 상기 복수의 광원부가 회전 대칭으로 점등하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.16. The method of claim 15,
Wherein the control unit controls all the plurality of light source units to be rotationally symmetrically turned on so that the predetermined number of light source units of the plurality of cassettes are simultaneously turned on in the same lighting pattern in rotational symmetry. 제 15 항 또는 제 16 항에 있어서,
상기 제어부는, 상기 카세트 내의 소정 수의 광원부 중, 점등하는 상기 광원부의 수가 상이한 복수의 점등 패턴군을 구비함과 함께, 그 각 점등 패턴군은, 상기 광원부가 회전 대칭으로 점등하는 복수의 점등 패턴을 각각 갖는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.17. The method according to claim 15 or 16,
Wherein the control unit includes a plurality of lighting pattern groups each having a different number of the light source units to be lit, of a predetermined number of light source units in the cassette, and each of the lighting pattern groups includes a plurality of lighting patterns Respectively, of the exposure apparatus. 제 17 항에 있어서,
상기 각 광원부의 점등 시간을 카운트하는 타이머를 추가로 구비하고,
상기 제어부는, 원하는 조도에 따라서 상기 복수의 점등 패턴군 중 어느 것을 선택함과 함께, 그 선택된 점등 패턴군 중, 상기 광원부의 점등 시간에 기초하여 상기 점등 패턴을 선택하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.18. The method of claim 17,
Further comprising a timer for counting the lighting time of each light source unit,
Wherein the control section selects one of the plurality of lighting pattern groups according to a desired illuminance and selects the lighting pattern based on the lighting time of the light source section among the selected lighting pattern groups Light irradiation device. 제 17 항에 있어서,
상기 각 광원부의 점등 시간을 카운트하는 타이머를 추가로 구비하고,
상기 제어부는, 상기 각 광원부의 점등 시간, 및 점등시에 공급된 전압 또는 전력에 기초하여 상기 복수의 광원부의 잔존 수명을 계산하고,
상기 제어부는, 원하는 조도에 따라서 상기 복수의 점등 패턴군 중 어느 것을 선택함과 함께, 그 선택된 점등 패턴군 중, 상기 광원부의 잔존 수명에 기초하여 상기 점등 패턴을 선택하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.18. The method of claim 17,
Further comprising a timer for counting the lighting time of each light source unit,
Wherein the control unit calculates the remaining lifetime of the plurality of light source units based on the lighting time of each of the light source units and the voltage or electric power supplied at the time of lighting,
Wherein the control unit selects any one of the plurality of lighting pattern groups according to a desired illuminance and selects the lighting pattern based on the remaining lifetime of the light source unit among the selected lighting pattern groups. Light irradiation device. 제 18 항에 있어서,
상기 원하는 조도가, 상기 복수의 점등 패턴군에 의해 얻어지는 조도와 상이할 때, 상기 원하는 조도에 가까운 조도가 얻어지는 점등 패턴군을 선택함과 함께, 상기 점등하는 광원부에 공급하는 전압 또는 전력을 조정하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 조사 장치.19. The method of claim 18,
And when the desired illuminance differs from the illuminance obtained by the plurality of illuminated pattern groups, a lighting pattern group which obtains illuminance close to the desired illuminance is selected and the voltage or power supplied to the illuminated light source section is adjusted Wherein the irradiation unit irradiates the surface of the substrate with the irradiation light. 발광부와 그 발광부로부터 발생된 광에 지향성을 부여하여 사출하는 반사 광학계를 각각 포함하는 복수의 광원부와,
2 이상의 소정 수의 상기 광원부를 각각 장착 가능한 복수의 카세트와,
상기 복수의 카세트를 장착 가능한 지지체와,
상기 복수의 광원부의 점등 또는 소등을 제어하는 제어부를 구비하고,
상기 제어부는, 상기 각 카세트 내에 있어서의 상기 소정 수의 광원부 중, 회전 대칭이 되는 위치의 상기 광원부를 교대로 점등하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.A plurality of light source sections each including a light emitting section and a reflecting optical system for emitting directivity to light emitted from the light emitting section,
A plurality of cassettes each of which can mount a predetermined number of the light source units of two or more,
A support body on which the plurality of cassettes can be mounted,
And a control unit for controlling the turning on and off of the plurality of light source units,
Wherein the control unit controls the light source units at positions that are rotationally symmetrical among the predetermined number of light source units in each of the cassettes to be alternately turned on. 제 21 항에 있어서,
상기 제어부는, 상기 복수의 카세트의 상기 소정 수의 광원부가 동일한 점등 패턴으로 동시에 점등하도록 제어함으로써, 모든 상기 복수의 광원부 중, 회전 대칭이 되는 위치의 상기 광원부가 교대로 점등하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.22. The method of claim 21,
Wherein the control unit controls the light source units of the predetermined number of the plurality of cassettes to simultaneously light in the same lighting pattern so that the light source units at rotationally symmetric positions among all the plurality of light source units alternately light up Light irradiating device. 발광부와 그 발광부로부터 발생된 광에 지향성을 부여하여 사출하는 반사 광학계를 각각 포함하는 소정 수의 광원부와,
상기 소정 수의 광원부의 광이 인티그레이터 렌즈의 입사면에 입사되도록, 2 이상의 상기 소정 수의 광원부를 지지하는 카세트를 구비하는 노광 장치용 광조사 장치로서,
상기 소정 수의 광원부는, 분광 특성이 상이한 복수 종류의 광원부에 의해서 구성되는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.A predetermined number of light source sections each including a light emitting section and a reflecting optical system for emitting directivity to light emitted from the light emitting section,
And a cassette for supporting at least two of the predetermined number of light source sections so that light of the predetermined number of light source sections is incident on the incident surface of the integrator lens,
Wherein the predetermined number of light source portions are constituted by a plurality of kinds of light source portions having different spectral characteristics. 제 23 항에 있어서,
상기 소정 수의 광원부의 각 발광부는, 분광 특성이 동일하고,
상기 소정 수의 광원부는, 그 일부에 파장 컷 필터를 배치함으로써, 분광 특성이 상이한 복수 종류의 광원부를 구성하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.24. The method of claim 23,
Wherein each of the light emitting portions of the predetermined number of light source portions has the same spectral characteristics,
Wherein the predetermined number of light source units constitute a plurality of types of light source units having different spectral characteristics by disposing a wavelength cut filter in a part thereof. 제 23 항 또는 제 24 항에 있어서,
상기 카세트를 복수 구비함과 함께,
모든 상기 소정 수의 광원부의 광이 상기 인티그레이터 렌즈의 입사면에 입사되도록, 상기 복수의 카세트가 장착되는 프레임을 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치.25. The method according to claim 23 or 24,
A plurality of cassettes are provided,
Further comprising a frame on which the plurality of cassettes are mounted such that light of all of the predetermined number of light sources is incident on an incident surface of the integrator lens. 피노광재로서의 기판을 유지하는 기판 유지부와,
상기 기판과 대향하도록 마스크를 유지하는 마스크 유지부와,
제 1 항 내지 제 5 항, 제 15 항 내지 제 16 항 및 제 21 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 기재된 상기 광조사 장치와, 그 광조사 장치의 복수의 광원부에서 출사된 광이 입사되는 인티그레이터 렌즈를 갖는 조명 광학계를 구비하고, 상기 기판에 대해서 상기 조명 광학계로부터의 광을 상기 마스크를 사이에 두고 조사하는 것을 특징으로 하는 노광 장치.A substrate holding portion for holding a substrate as a substrate;
A mask holding portion for holding the mask so as to face the substrate;
The light irradiation device according to any one of claims 1 to 5, 15 to 16, and 21 to 24, and a light source device in which light emitted from a plurality of light source portions of the light irradiation device is incident And an illumination optical system having an integrator lens, and irradiates the substrate with light from the illumination optical system via the mask. 피노광재로서의 기판을 유지하는 기판 유지부와,
상기 기판과 대향하도록 마스크를 유지하는 마스크 유지부와,
제 1 항 내지 제 5 항, 제 15 항 내지 제 16 항 및 제 21 항 내지 제 24 항 중 어느 한 항에 기재된 상기 광조사 장치와, 그 광조사 장치의 복수의 광원부에서 출사된 광이 입사되는 인티그레이터 렌즈를 갖는 조명 광학계를 구비하는 노광 장치를 사용하여,
상기 기판에 대해서 상기 조명 광학계로부터의 광을 상기 마스크를 사이에 두고 조사하는 것을 특징으로 하는 노광 방법.A substrate holding portion for holding a substrate as a substrate;
A mask holding portion for holding the mask so as to face the substrate;
The light irradiation device according to any one of claims 1 to 5, 15 to 16, and 21 to 24, and a light source device in which light emitted from a plurality of light source portions of the light irradiation device is incident Using an exposure apparatus having an illumination optical system having an integrator lens,
Wherein the substrate is irradiated with light from the illumination optical system via the mask. 삭제delete 발광부와 그 발광부로부터 발생된 광에 지향성을 부여하여 사출하는 반사 광학계를 각각 포함하는 복수의 광원부와, 2 이상의 소정 수의 상기 광원부를 각각 장착 가능한 복수의 카세트와, 상기 복수의 카세트를 장착 가능한 지지체와, 상기 복수의 광원부의 점등 또는 소등을 제어하는 제어부를 구비하는 노광 장치용 광조사 장치의 점등 제어 방법으로서,
상기 제어부는, 상기 각 카세트 내에서의 상기 소정 수의 광원부가 회전 대칭으로 점등하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치의 점등 제어 방법.A plurality of light sources each including a light emitting unit and a reflective optical system that emits light with directivity to light emitted from the light emitting unit; a plurality of cassettes each of which can mount the predetermined number of light sources; A lighting control method for a light irradiation apparatus for an exposure apparatus, comprising a support member capable of being turned on and off, and a control unit for controlling turning on or off of the plurality of light source units,
Wherein the control unit controls the predetermined number of light sources in each of the cassettes to be turned on in a rotationally symmetrical manner. 발광부와 그 발광부로부터 발생된 광에 지향성을 부여하여 사출하는 반사 광학계를 각각 포함하는 복수의 광원부와, 2 이상의 소정 수의 상기 광원부를 각각 장착 가능한 복수의 카세트와, 상기 복수의 카세트를 장착 가능한 지지체와, 상기 복수의 광원부의 점등 또는 소등을 제어하는 제어부를 구비하는 노광 장치용 광조사 장치의 점등 제어 방법으로서,
상기 제어부는, 상기 각 카세트 내에서의 상기 소정 수의 광원부 중, 회전 대칭이 되는 위치의 상기 광원부를 교대로 점등하도록 제어하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치의 점등 제어 방법.A plurality of light sources each including a light emitting unit and a reflective optical system that emits light with directivity to light emitted from the light emitting unit; a plurality of cassettes each of which can mount the predetermined number of light sources; A lighting control method for a light irradiation apparatus for an exposure apparatus, comprising a support member capable of being turned on and off, and a control unit for controlling turning on or off of the plurality of light source units,
Wherein the control unit controls to alternately turn on the light source units at rotational symmetric positions among the predetermined number of light source units in each of the cassettes. 발광부와 그 발광부로부터 발생된 광에 지향성을 부여하여 사출하는 반사 광학계를 각각 포함하는 복수의 광원부와,
소정 수의 상기 광원부의 광이 인티그레이터 렌즈의 입사면에 입사되도록, 2 이상의 상기 소정 수의 광원부를 지지하는 복수의 카세트와,
모든 상기 복수의 광원부의 광이 상기 인티그레이터 렌즈의 입사면에 입사되도록, 상기 복수의 카세트가 장착되는 프레임과,
상기 인티그레이터 렌즈의 하류측에 배치되고, 각 파장에 대응한 조도를 계측하는 조도계와,
각각의 상기 발광부의 점등·소등, 및 조도를 제어하는 제어부를 구비하고, 상기 소정 수의 광원부는, 분광 특성이 상이한 복수 종류의 광원부에 의해서 구성되는 노광 장치용 광조사 장치의 점등 제어 방법으로서,
상기 제어부는, 상기 조도계에 의해 계측된 각 파장에 대응한 조도에 기초하여, 상기 각 파장에 있어서 원하는 조도가 얻어지도록, 상기 카세트 내의 각 광원부를 제어하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치의 점등 제어 방법.A plurality of light source sections each including a light emitting section and a reflecting optical system for emitting directivity to light emitted from the light emitting section,
A plurality of cassettes for supporting at least two of the predetermined number of light source sections so that light of a predetermined number of the light source sections is incident on the incident surface of the integrator lens,
A frame on which the plurality of cassettes are mounted so that light from all of the plurality of light sources is incident on an incident surface of the integrator lens,
An illuminometer disposed on the downstream side of the integrator lens for measuring illuminance corresponding to each wavelength,
And a control unit for controlling illumination of each of the light emitting units, wherein the predetermined number of light source units comprises a plurality of types of light source units having different spectral characteristics, the method comprising:
Wherein the control unit controls each light source unit in the cassette so that a desired illuminance is obtained at each wavelength based on the illuminance corresponding to each wavelength measured by the illuminometer Lighting control method. 제 31 항에 있어서,
상기 소정 수의 광원부의 각 발광부는 분광 특성이 동일하고,
상기 소정 수의 광원부는, 그 일부에 파장 컷 필터를 배치함으로써, 분광 특성이 상이한 복수 종류의 광원부를 구성하는 것을 특징으로 하는 노광 장치용 광조사 장치의 점등 제어 방법.32. The method of claim 31,
Each of the light emitting portions of the predetermined number of light source portions has the same spectral characteristics,
Wherein the predetermined number of light source units constitute a plurality of kinds of light source units having different spectral characteristics by disposing a wavelength cut filter in a part thereof.
KR1020117003998A 2010-02-05 2011-01-31 Light irradiating apparatus for exposure apparatus, lighting control method thereof, exposure apparatus, exposure method and substrate KR101409670B1 (en)

Applications Claiming Priority (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JPJP-P-2010-024326 2010-02-05
JP2010024326 2010-02-05
JPJP-P-2010-191288 2010-08-27
JP2010191288 2010-08-27
JP2010227689 2010-10-07
JPJP-P-2010-227689 2010-10-07
JP2011014268 2011-01-26
JPJP-P-2011-014268 2011-01-26
PCT/JP2011/051939 WO2011096365A1 (en) 2010-02-05 2011-01-31 Light irradiation device for exposure devices, method for controlling turn-on of same, exposure device, exposure method, and substrate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110106836A KR20110106836A (en) 2011-09-29
KR101409670B1 true KR101409670B1 (en) 2014-06-18

Family

ID=44355363

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020117003998A KR101409670B1 (en) 2010-02-05 2011-01-31 Light irradiating apparatus for exposure apparatus, lighting control method thereof, exposure apparatus, exposure method and substrate

Country Status (5)

Country Link
JP (3) JPWO2011096365A1 (en)
KR (1) KR101409670B1 (en)
CN (1) CN102369484B (en)
TW (1) TWI435186B (en)
WO (1) WO2011096365A1 (en)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2012011497A1 (en) * 2010-07-22 2012-01-26 Ｎｓｋテクノロジー株式会社 Light irradiation device for exposure apparatus, method for controlling light irradiation device, exposure apparatus, and exposure method
US20130207544A1 (en) * 2011-09-30 2013-08-15 Pinebrook Imaging Technology, Ltd. Illumination system
DE102012016178B3 (en) 2012-08-16 2013-08-29 Forschungszentrum Jülich GmbH Method for optical transmission of a structure into a recording medium
CN105045041B (en) * 2014-04-17 2017-06-23 株式会社菲尔光学 Led light source exposure device
JP6500282B2 (en) * 2015-02-13 2019-04-17 株式会社ブイ・テクノロジー Exposure apparatus and illumination apparatus
TWI740920B (en) * 2016-03-30 2021-10-01 日商尼康股份有限公司 Pattern drawing device, pattern drawing method
CN106454129A (en) * 2016-11-29 2017-02-22 深圳天珑无线科技有限公司 Method and device for saving electricity of camera
JP6825956B2 (en) 2017-03-28 2021-02-03 株式会社Ｓｃｒｅｅｎホールディングス Selection method of substrate processing equipment, substrate processing method and ultraviolet irradiation means
CN107748482A (en) * 2017-11-20 2018-03-02 张家港奇点光电科技有限公司 A kind of Multifunctional LED parallel exposing machine
JP2019101361A (en) * 2017-12-07 2019-06-24 株式会社ユメックス Scan type exposure equipment
JP7067148B2 (en) 2018-03-13 2022-05-16 オムロン株式会社 Lighting equipment and image processing system
KR102666946B1 (en) * 2018-10-26 2024-05-17 엘지이노텍 주식회사 Lighting apparatus for stepper
WO2020130090A1 (en) * 2018-12-21 2020-06-25 株式会社ブイ・テクノロジー Light irradiation device for light exposure device
JP2021043343A (en) * 2019-09-11 2021-03-18 株式会社ブイ・テクノロジー Illumination apparatus for proximity exposure apparatus, proximity exposure apparatus, and exposure method for proximity exposure apparatus
TWI747490B (en) 2019-09-19 2021-11-21 日商斯庫林集團股份有限公司 Exposure device
JP7253798B2 (en) * 2019-11-18 2023-04-07 フェニックス電機株式会社 LAMP HOLDING CASSETTE AND LIGHT SOURCE FOR EXPOSURE DEVICE USING THE SAME
KR20210093685A (en) * 2020-01-20 2021-07-28 (주)포인트엔지니어링 Light irradiation apparatus for exposure machine and exposure equipment including the same

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005227465A (en) * 2004-02-12 2005-08-25 Mejiro Genossen:Kk Method of use of illumination optical system and method for manufacturing flat panel display
JP2006324435A (en) * 2005-05-18 2006-11-30 Ushio Inc Light-irradiator
JP2007333965A (en) * 2006-06-14 2007-12-27 Adtec Engineeng Co Ltd Illumination device for exposure

Family Cites Families (21)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4928691B2 (en) * 2001-09-13 2012-05-09 スパンション エルエルシー UV irradiation equipment
JP2003295459A (en) * 2002-04-02 2003-10-15 Nikon Corp Aligner and exposing method
JP2003282413A (en) * 2002-03-26 2003-10-03 Nikon Corp Scanning exposure apparatus and exposure method
JP2004095785A (en) * 2002-08-30 2004-03-25 Nikon Corp Aligner
JP2004335949A (en) * 2002-11-29 2004-11-25 Nikon Corp Aligner and exposure method
JP2004207343A (en) * 2002-12-24 2004-07-22 Nikon Corp Illumination light source, illumination apparatus, aligner, and exposing method
JP2004327823A (en) * 2003-04-25 2004-11-18 Nikon Corp Illuminator, exposure apparatus, and exposure method
JP4391136B2 (en) * 2003-06-05 2009-12-24 株式会社目白ゲノッセン Exposure illumination device
JP2006019412A (en) * 2004-06-30 2006-01-19 Canon Inc Exposure device and manufacturing method of device
JP4328320B2 (en) * 2004-09-03 2009-09-09 サンエー技研株式会社 Light source for exposure
JP4577064B2 (en) * 2005-03-30 2010-11-10 ウシオ電機株式会社 Light irradiation apparatus and light source unit replacement method in light irradiation apparatus
JP4765433B2 (en) * 2005-06-24 2011-09-07 ウシオ電機株式会社 Ultraviolet irradiation device and light irradiation method
JP2007012777A (en) * 2005-06-29 2007-01-18 Ushio Inc Light irradiation apparatus
JP2007115817A (en) * 2005-10-19 2007-05-10 Ushio Inc Light irradiation device
JP2008139761A (en) * 2006-12-05 2008-06-19 Nsk Ltd Exposure method and exposure device
JP2008191252A (en) * 2007-02-01 2008-08-21 Phoenix Denki Kk Light source for exposure and exposure apparatus using the same
JP4937808B2 (en) * 2007-03-26 2012-05-23 フェニックス電機株式会社 Light source device and exposure apparatus using the same
JP4879085B2 (en) * 2007-05-17 2012-02-15 株式会社日立ハイテクノロジーズ Exposure equipment
JP2009058924A (en) * 2007-08-31 2009-03-19 Attomakkusu:Kk Lighting system
JP5212629B2 (en) * 2008-08-05 2013-06-19 ウシオ電機株式会社 Light irradiation device
JP5598789B2 (en) * 2009-04-09 2014-10-01 Ｎｓｋテクノロジー株式会社 Light irradiation apparatus for exposure apparatus and exposure apparatus

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005227465A (en) * 2004-02-12 2005-08-25 Mejiro Genossen:Kk Method of use of illumination optical system and method for manufacturing flat panel display
JP2006324435A (en) * 2005-05-18 2006-11-30 Ushio Inc Light-irradiator
JP2007333965A (en) * 2006-06-14 2007-12-27 Adtec Engineeng Co Ltd Illumination device for exposure

Also Published As

Publication number Publication date
TWI435186B (en) 2014-04-21
CN102369484B (en) 2015-05-20
JP2017037336A (en) 2017-02-16
JP6095240B2 (en) 2017-03-15
TW201214052A (en) 2012-04-01
KR20110106836A (en) 2011-09-29
JPWO2011096365A1 (en) 2013-06-10
JP2015172775A (en) 2015-10-01
JP6206997B2 (en) 2017-10-04
CN102369484A (en) 2012-03-07
WO2011096365A1 (en) 2011-08-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101409670B1 (en) Light irradiating apparatus for exposure apparatus, lighting control method thereof, exposure apparatus, exposure method and substrate
KR101437210B1 (en) Optical projection device for exposure apparatus, exposure apparatus, method for exposure, method for fabricating substrate, mask, and exposed substrate
KR101443431B1 (en) Light irradiation device for exposure device, control method of light irradiation device, exposure device, and exposure method
KR101169240B1 (en) Light irradiation apparatus for exposure apparatus, exposure apparatus, and exposure method
JP5799306B2 (en) Method of controlling light irradiation apparatus for exposure apparatus and exposure method
KR101725542B1 (en) Light irradiating apparatus for exposure apparatus, lighting control method thereof, exposure apparatus, and substrate
JP5057382B2 (en) Exposure apparatus and substrate manufacturing method
KR100718194B1 (en) Projection Optical System and Pattern Writing Apparatus
KR101138681B1 (en) Light irradiation apparatus for exposure apparatus, exposure apparatus, and exposure method
JP5935294B2 (en) Proximity exposure apparatus and proximity exposure method
JP5825546B2 (en) Light irradiation device for exposure equipment
WO2012011497A1 (en) Light irradiation device for exposure apparatus, method for controlling light irradiation device, exposure apparatus, and exposure method
TW201107891A (en) Light irradiation apparatus for exposure apparatus, exposure apparatus, and exposure method
JP2004207343A (en) Illumination light source, illumination apparatus, aligner, and exposing method
JP2012114390A (en) Light irradiation device for exposure device
JP2008191404A (en) Substrate carrying device, stage device and pattern forming apparatus
JP2012113268A (en) Light irradiation device for exposure device, and exposure device
JP2007081204A (en) Exposure device

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
N231 Notification of change of applicant
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170522

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180516

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20190515

Year of fee payment: 6