KR101273729B1 - 판상체의 연마 방법 및 그 장치 - Google Patents

판상체의 연마 방법 및 그 장치 Download PDF

Info

Publication number
KR101273729B1
KR101273729B1 KR1020117031579A KR20117031579A KR101273729B1 KR 101273729 B1 KR101273729 B1 KR 101273729B1 KR 1020117031579 A KR1020117031579 A KR 1020117031579A KR 20117031579 A KR20117031579 A KR 20117031579A KR 101273729 B1 KR101273729 B1 KR 101273729B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
polishing
plate
grinding
glass substrate
circular
Prior art date
Application number
KR1020117031579A
Other languages
English (en)
Inventor
야스나리 이쿠타
다케오 스즈키
Original Assignee
아사히 가라스 가부시키가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 아사히 가라스 가부시키가이샤 filed Critical 아사히 가라스 가부시키가이샤
Application granted granted Critical
Publication of KR101273729B1 publication Critical patent/KR101273729B1/ko

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/06Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor involving conveyor belts, a sequence of travelling work-tables or the like
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/20Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • B24B7/22Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B7/24Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/20Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • B24B7/22Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B7/24Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass
    • B24B7/242Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass for plate glass
    • B24B7/244Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass for plate glass continuous
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B24GRINDING; POLISHING
    • B24BMACHINES, DEVICES, OR PROCESSES FOR GRINDING OR POLISHING; DRESSING OR CONDITIONING OF ABRADING SURFACES; FEEDING OF GRINDING, POLISHING, OR LAPPING AGENTS
    • B24B7/00Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor
    • B24B7/20Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground
    • B24B7/22Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain
    • B24B7/24Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass
    • B24B7/247Machines or devices designed for grinding plane surfaces on work, including polishing plane glass surfaces; Accessories therefor characterised by a special design with respect to properties of the material of non-metallic articles to be ground for grinding inorganic material, e.g. stone, ceramics, porcelain for grinding or polishing glass using reciprocating grinding tools

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Grinding And Polishing Of Tertiary Curved Surfaces And Surfaces With Complex Shapes (AREA)
  • Grinding Of Cylindrical And Plane Surfaces (AREA)
  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)

Abstract

본 발명은 대형 사이즈의 판상체를 고정밀도로 연마할 수 있는 판상체의 연마 방법 및 그 장치를 제공한다. 판상체를 소정의 방향으로 이동시키면서, 복수 대의 자전 및 공전하는 원형 연마 공구에 의해 판상체를 연속 연마하는 판상체의 연마 방법에 있어서, 상기 판상체의 폭보다 직경이 작은 상기 원형 연마 공구를, 상기 판상체의 이동 중심선을 기준으로 하여 쌍을 이루어 배치함과 함께, 상기 각 원형 연마 공구가 이동 중심선을 넘어 상기 판상체를 연마하는 것을 특징으로 하는 판상체의 연마 방법.

Description

판상체의 연마 방법 및 그 장치{METHOD AND DEVICE FOR POLISHING PLATE-LIKE BODY}
본 발명은 판상체의 연마 방법 및 그 장치에 관련된 것으로서, 특히 액정 디스플레이용 등에 사용되는 FPD (Flat Panel Display) 용 유리 기판을, 연속 연마 장치에 의해 연마하는 판상체의 연마 방법 및 그 장치에 관한 것이다.
특히 액정 디스플레이용 등에 사용되는 FPD 용 유리 기판은, 플로트법이라는 판유리 제법에 의해 용융 유리를 판상으로 성형하고, 이것을 특허 문헌 1 등에 개시된 연속식 연마 장치에 의해, 표면의 미소한 요철이나 굴곡을 연마 제거함으로써, 액정 디스플레이용 유리 기판에서 요구되는 평탄도를 만족시킨 두께 0.4 ∼ 1.1㎜ 의 박판상으로 제조된다.
이와 같은 연속식 연마 장치에서는, 특허 문헌 1 에 기재된 바와 같이, 유리 기판의 폭보다 큰 직경을 갖고 자전 및 공전하는 연마 공구에 의해, 유리 기판 폭 전역을 한 번에 연마하는 것이 일반적으로 이루어지고 있다.
도 5 는, 종래의 연속식 연마 장치에 의해 유리 기판 (G) 이 연마되는 상태를 나타낸 설명도이다. 유리 기판 (G) 은 테이블 (도시하지 않음) 에 접착된 흡착 시트 (1) 에 그 연마 대상면과 반대측의 면이 흡착 유지되고, 도면의 화살표 A 로 나타내는 바와 같이 도시하지 않은 반송 장치에 의해 연속적으로 반송되어, 그 반송로의 상방에 설치된 연마기의 연마 공구 (2, 3) 에 의해 연마 대상면이 연마된다. 도 5 에 나타내는 바와 같이, 연마 공구 (2, 3) 는 유리 기판 (G) 의 폭보다 큰 직경을 갖고, 자전/공전 기구 (도시하지 않음) 에 의해 소정의 회전 중심을 중심으로 자전됨과 함께, 소정의 공전 중심을 중심으로 공전되면서 유리 기판 (G) 의 폭 전역을 한 번에 연마한다. 또한, 도 5 에서 실선으로 나타낸 원은, 연마 공구 (2, 3) 의 현재의 자세를 나타내고 있고, 2 점 쇄선으로 나타낸 다수의 원은, 유리 기판 (G) 이 연마 공구 (2, 3) 와 접촉된 부분의 윤곽부가 나타내어져 있다. 이들 원에서도 알 수 있듯이, 연마 공구 (2, 3) 는 소정의 공전 중심을 중심으로 공전된다.
[특허 문헌 1] 일본 공개특허공보 2001-293656호
그러나, 특허 문헌 1 및 도 5 에 나타낸 연속 연마 장치는, 사이즈가 작은 유리 기판의 연마에는 양호하지만, 예를 들어, 폭이 2200㎜ 를 초과하는 대형 사이즈의 유리 기판의 연마에 대응시키는 것은 곤란하다. 왜냐하면, 이와 같은 대형 사이즈의 유리 기판을 연마하고자 하면, 연마 공구의 사이즈 (약 Φ2400㎜) 가 지나치게 커지기 때문에, 연마 공구의 소재 확보, 연마 장치 및 연마 공구의 가공 조립 정밀도의 유지, 연마 공구의 교환 작업 및 취급성, 그리고 연마 정밀도의 유지 등에 문제가 발생하기 때문이다.
본 발명은 이와 같은 사정을 감안하여 이루어진 것으로서, 대형 사이즈의 판상체를 고정밀도로 연마할 수 있는 판상체의 연마 방법 및 그 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해, 판상체를 소정 방향으로 이동시키면서, 복수 대의 자전 및 공전하는 원형 연마 공구에 의해 판상체를 연속 연마하는 판상체의 연마 방법에 있어서, 상기 판상체의 폭보다 직경이 작은 상기 원형 연마 공구를, 상기 판상체의 이동 중심선을 기준으로 하여 쌍을 이루어 배치함과 함께, 상기 원형 연마 공구가 이동 중심선을 넘어 상기 판상체를 연마하는 것을 특징으로 하는 판상체의 연마 방법 (이하, 본 발명의 연마 방법이라고 한다) 을 제공한다.
또, 본 발명은 상기 목적을 달성하기 위해, 판상체를 소정 방향으로 이동시키면서, 복수 대의 자전 및 공전하는 원형 연마 공구에 의해 판상체를 연속 연마하는 판상체의 연마 장치에 있어서, 상기 원형 연마 공구의 직경은 상기 판상체의 폭보다 작게 설정됨과 함께, 판상체의 이동 중심선을 기준으로 하여 쌍을 이루어 배치되어, 상기 원형 연마 공구가 중심선을 넘어 상기 판상체를 연마하는 것을 특징으로 하는 판상체의 연마 장치 (이하, 본 발명의 연마 장치라고 한다) 를 제공한다.
본 발명에 의하면, 1 대의 대형 연마 공구를 사용하는 것이 아니라, 판상체의 폭보다 직경이 작은 소형의 원형 연마 공구를 복수 대 정렬하고, 이들 원형 연마 공구를 판상체의 이동 중심선을 기준으로 하여 쌍을 이루어 배치하여, 원형 연마 공구가 이동 중심선을 넘어 판상체를 연마함으로써, 판상체의 연마면의 전체면을 연마한다. 또, 본 발명에 의하면, 연마 공구는 소경화되기 때문에, 연마 공구의 소재 확보, 연마 장치 및 연마 공구의 가공 조립 정밀도의 유지, 연마 공구의 교환 작업 및 취급성, 그리고 연마 정밀도의 유지 등의 문제를 해결할 수 있다.
본 발명의 연마 방법은, 상기 판상체의 이동 방향을 따라 적어도 2 쌍 배치된 상기 원형 연마 공구에 의해 판상체를 연마하는 것이 바람직하다.
또, 본 발명의 연마 장치는, 상기 원형 연마 공구가, 상기 판상체의 이동 방향을 따라 적어도 2 쌍 배치되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명에 관련된 실시형태에 의하면, 원형 연마 공구의 배열은 판상체의 이동 중심선에 대하여 쌍을 이루어 등간격으로 평행하게 배치된다. 또, 판상체의 이동 방향에 원형 연마 공구를, 예를 들어 지그재그 형상으로 병렬시켜도 되고, 동 위치에 병렬시켜도 되는데, 지그재그 형상으로 병렬시키는 것이, 연마 공구 동작의 설정 조건의 자유도가 높다는 점에서 바람직하다.
본 발명의 연마 방법에 있어서, 상기 원형 연마 공구는 연마시에 있어서의 상기 판상체의 이동 방향의 상기 판상체의 일단으로부터의 오버행량 (A) 이 20㎜ ≤ A ≤ 250㎜ 로 설정되어 판상체를 연마하는 것이 바람직하다.
본 발명의 연마 장치에 있어서, 상기 원형 연마 공구는 상기 판상체 이동 방향의 상기 판상체 일단으로부터의 오버행량 (A) 이 20㎜ ≤ A ≤ 250㎜ 로 설정되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명에서, 판상체의 에지는 통상적으로 모따기되지 않은 경우가 많기 때문에, 연마 공구의 오버행량 (A) 이 20㎜ 미만이면 에지에 흠집이 생기기 쉬워지고, 또 오버행량 (A) 이 250㎜ 를 초과하면 연마 공구가 경사지기 쉬워져, 균일하게 연마하기 곤란한 경우가 있다. 이 점을 개선하기 위해, 오버행량 (A) 은 20㎜ ≤ A ≤ 250㎜ 인 것이 바람직하다.
본 발명의 연마 방법에 있어서, 상기 원형 연마 공구는 원형 연마 공구의 공전 반경 (R) 이 50㎜ ≤ R ≤ 100㎜ 로 설정되어 판상체를 연마하는 것이 바람직하다.
본 발명의 연마 장치는, 상기 원형 연마 공구의 공전 반경 (R) 이 50㎜ ≤ R ≤ 100㎜ 로 설정되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명에서, 공전 반경 (R) 이 50㎜ 미만이면, 연마 공구의 자공전의 합성 방향 변화가 커져, 판상체에 생기는 연마 모양이 눈에 띄기 쉬워지는 경우가 있다. 또, 공전 반경 (R) 이 100㎜ 를 초과하면, 지지 장치가 커지기 때문에 강성이 필요해져 초기 비용이 높아진다. 또, 장치가 진동하기 쉬워지는 경우가 있다. 이들 문제를 개선하기 위해, 공전 반경 (R) 은 50㎜ ≤ R ≤ 100㎜ 가 바람직하다.
본 발명의 연마 방법은, 상기 판상체의 이동 중심선을 기준으로 하여 쌍을 이루어 배치된 일방의 원형 연마 공구와 타방의 원형 연마 공구의 연마시에 있어서의 중첩량이 적어도 100㎜ 이상이며, 또, 상기 원형 연마 공구의 연마시에 있어서의 상기 이동 중심선으로부터의 벗어남량의 최소값을 B, 최대값을 C 로 했을 때, 25㎜ ≤ B ≤ 100㎜, 175㎜ ≤ C ≤ 250㎜ 인 조건에서 판상체를 연마하는 것이 바람직하다.
본 발명의 연마 장치는 상기 판상체의 이동 중심선을 기준으로 하여 쌍을 이루어 배치된 일방의 원형 연마 공구와 타방의 원형 연마 공구의 연마시에 있어서의 중첩량이 적어도 100㎜ 이상이며, 또, 상기 원형 연마 공구의 연마시에 있어서의 상기 이동 중심선으로부터의 벗어남량의 최소값을 B, 최대값을 C 로 했을 때, 25㎜ ≤ B ≤ 100㎜, 175㎜ ≤ C ≤ 250㎜ 인 조건으로 설정되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 연마 방법 및 본 발명의 연마 장치에서는, 판상체의 이동 방향의 중심선을 포함하는 그 근방의 일부가, 이동 중심선을 사이에 두고 배치된 복수의 연마 공구에 의해 연마되기 때문에, 경우에 따라서는 이들 연마 공구의 연마 영역의 중첩부 (이하, 중첩 연마부라고 한다) 에서 연마 불균일이 발생할 우려가 있다. 이 연마 불균일을 억제하기 위해서는, 상기 중첩 연마부의 적정화를 도모하는 것이 바람직하고, 이로써, 대형 판상체의 고정밀도 연마를 달성할 수 있다.
본 발명의 연마 방법 및 본 발명의 연마 장치의 바람직한 실시형태에서는, 상기한 바와 같이 일방의 원형 연마 공구와 타방의 원형 연마 공구의 연마시에 있어서의 중첩량, 즉, 중첩 연마부의 폭을 적어도 100㎜ 이상으로 설정하고, 또한, 원형 연마 공구의 연마시에 있어서의 상기 이동 중심선으로부터의 벗어남량의 최소값을 B, 최대값을 C 로 했을 때, 25㎜ ≤ B ≤ 100㎜, 175㎜ ≤ C ≤ 250㎜ 가 되도록 설정한다. 중첩 연마부의 폭이 100㎜ 미만이고, B 가 25㎜ 미만 또는 100㎜ 를 초과할 때, 및 C 가 175㎜ 미만 또는 250㎜ 를 초과할 때 연마 불균일이 발생할 우려가 있다.
본 발명의 연마 방법은 상기 원형 연마 공구의 연마압을, 상기 원형 연마 공구의 중심으로부터 외주 방향, 즉 반경 방향으로 분할 설정하여 판상체를 연마하는 것이 바람직하다.
본 발명의 연마 장치는 상기 원형 연마 공구의 연마압이, 상기 원형 연마 공구 중심으로부터 외주 방향으로 분할 설정되어 있는 것이 바람직하다.
본 발명의 바람직한 실시형태에서는, 이와 같이 연마압 발생기가 되는 공기 스프링이 연마 공구에 복수 개 내장되고, 이 공기 스프링은 반경 방향에서 내측, 중간, 외측으로 3 분할되어 있다. 그리고, 각각의 공기 스프링에 대하여, 상이한 공기압을 설정함으로써 연마압을 반경 방향으로 분할 제어한다. 이로써, 주로 연마 공구 외측의 연마압을 조정함으로써, 연마 공구의 위치를 변경하지 않고 균일하게 연마할 수 있고, 또한 연마압의 조정과 연마 공구의 위치 조정의 양방을 실시함으로써, 연마 조건의 설정을 보다 세세히 실시할 수 있다.
본 발명에 관련된 판상체의 연마 방법 및 그 장치에 의하면, 판상체의 폭보다 직경이 작은 소형의 원형 연마 공구를 복수 대 정렬하고, 이들 원형 연마 공구를 판상체의 이동 중심선을 기준으로 하여 쌍을 이루어 배치하여, 원형 연마 공구가 중심선을 넘어 판상체를 연마함으로써, 판상체 전체면을 균일하게 연마할 수 있다.
또, 본 발명에 의하면, 연마 공구는 소경화되기 때문에, 연마 공구의 소재 확보, 연마 장치 및 연마 공구의 가공 조립 정밀도의 유지, 연마 공구의 교환 작업 및 취급성 등의 문제를 해소할 수 있고, 또한 판상체의 연마 정밀도의 향상을 도모할 수 있다.
도 1 은, 본 발명의 바람직한 실시형태의 유리 기판 연마 장치의 평면도이다.
도 2 는, 도 1 에 나타낸 유리 기판 연마 장치에 있어서의 연마 공구의 배치 관계를 나타낸 설명도이다.
도 3 은, 도 1 에 나타낸 유리 기판 연마 장치에 있어서의 연마 공구의 공전 반경을 나타낸 설명도이다.
도 4 는, 도 1 에 나타낸 유리 기판 연마 장치에 있어서의 연마 공구의 배치 관계를 나타낸 설명도이다.
도 5 는, 종래의 유리 기판 연마 장치를 나타낸 평면도이다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
이하 첨부 도면에 따라, 본 발명에 관련된 유리 기판으로 이루어지는 판상체의 연마 방법 및 그 장치의 바람직한 실시형태 (이하, 본예라고 한다) 에 대하여 상세히 설명한다.
도 1 에는, 본예의 연마 장치 (10) 의 평면도가 나타내어져 있다. 또, 도 1 에는 2200㎜ (폭) × 2600㎜ (길이) 이상의 사이즈의 액정용 유리 기판 (G) 의 연마 장치 (10) 에 있어서의 연마 공구 (14) 의 형상, 배치 및 동작에 관한 내용이 나타내어져 있다.
도 1 에 의하면, 연마 대상의 유리 기판 (G) 은 테이블 (도시하지 않음) 에 접착된 흡착 시트 (12) 에 그 연마 대상면과 반대측의 면이 흡착 유지되어, 도면의 화살표 X 로 나타내는 바와 같이 도시하지 않은 반송 장치에 의해 연속적으로 반송된다. 그리고, 반송 중에 상기 반송로의 상방에 설치된 연마기의 복수 대의 원형 연마 공구 (이하, 연마 공구라고 한다) (14, 14 …) 에 의해 연마 대상면이, 액정 디스플레이용 유리 기판에서 요구되는 평탄도로 연마된다.
도 1 에 나타내는 바와 같이, 연마 공구 (14, 14 …) 는 유리 기판 (G) 의 폭 (W) 보다 작은 직경 (D) 으로 구성되고, 자전/공전 기구 (도시하지 않음) 에 의해 소정의 회전 중심을 중심으로 자전됨과 함께, 소정의 공전 중심을 중심으로 공전되면서 유리 기판 (G) 을 연마한다. 또한, 도 1 에 있어서, 실선으로 나타낸 원은 연마 공구 (14, 14 …) 의 현재의 자세를 나타내고 있고, 2 점 쇄선으로 나타낸 다수의 원 (14') 은, 유리 기판 (G) 이 연마 공구 (14, 14 …) 와 접촉된 부분의 윤곽부를 궤적으로서 나타내고 있다. 이들 연마 궤적에서도 알 수 있듯이, 연마 공구 (14, 14 …) 는 소정의 공전 중심을 중심으로 공전된다.
또, 연마 공구 (14, 14 …) 는 유리 기판 (G) 의 이동 중심선 (L) 을 기준으로 하여 쌍을 이루어 배치됨과 함께, 즉 이동 중심선 (L) 의 양측에 쌍을 이루어 배치됨과 함께, 쌍을 이루는 연마 공구의 일방을 타방에 대하여 유리 기판 (G) 의 이동 방향에 위치를 어긋나게 하여 지그재그 형상으로 배치되어, 연마 공구 (14, 14 …) 가 이동 중심선 (L) 을 넘어 유리 기판 (G) 을 연마하도록 배치된다. 여기서, 이동 중심선 (L) 은 본예와 같이 연마 공구 (14, 14) 를 유리 기판 (G) 의 폭 방향으로 2 열 배치하는 경우에는, 도 1 에 나타내는 바와 같이 유리 기판 (G) 의 폭 방향에 있어서의 중심선에 상당한다.
이와 같이 구성된 연마 장치 (10) 에 의하면, 1 대의 대형 연마 공구를 사용하는 것이 아니라, 유리 기판 (G) 의 폭 (W) 보다 직경 (D) 이 작은 소형의 연마 공구 (14) 를 복수 대 정렬하고, 이들 연마 공구 (14, 14 …) 를 유리 기판 (G) 의 이동 중심선 (L) 을 기준으로 하여 좌우에 쌍을 이루어 배치하여, 연마 공구 (14, 14 …) 가 중심선 (L) 을 넘어 유리 기판 (G) 을 연마함으로써, 유리 기판 (G) 전체면을 연마할 수 있다.
또, 이 연마 장치 (10) 에 의하면, 연마 공구 (14) 는 소형 소경화되기 때문에, 연마 공구 (14) 의 소재 확보, 가공 조립 정밀도의 유지, 교환 작업 및 취급성 등의 문제를 해소할 수 있다. 또한, 연마 공구 (14, 14 …) 는 유리 기판 (G) 의 이동 방향을 따라 적어도 지그재그 형상으로 2 쌍 배치되어 있기 때문에, 판상체를 균등하게 고정밀도로 연마할 수 있다.
본 발명에서 연마 공구 (14) 는 연마 공구 (14) 의 대형화에 따른 문제 (연마 공구의 소재 확보, 연마 장치 및 연마 공구의 가공 조립 정밀도의 유지, 연마 공구의 교환 작업 및 취급성, 그리고 연마 정밀도의 유지 등의 문제), 및 연마 공구 (14) 의 제조 및 취급시의 제약 조건 (일반 문 사이즈 폭 : 1800㎜, 컨테이너 폭 : 2250㎜, 소재 범용 사이즈 : 1800㎜ 인 것 등) 을 고려하여 직경 1750㎜ 이하로 구성되어 있는 것이 바람직하다.
일례로서, 유리 기판 (G) 의 폭은 2200㎜, 연마 공구 (14) 의 직경은 1290㎜, 공전 반경은 75㎜, 공전 중심은 이동 중심선 (L) 으로부터 직교 방향으로 좌우로 600㎜ 떨어진 위치로 하는 것을 들 수 있다.
또, 연마 장치 (10) 에 있어서, 연마 공구 (14) 는 도 2 와 같이 연마시에 유리 기판 (G) 의 일단으로부터 오버행되도록 설정된다. 이 오버행량 (A) 으로는, 20㎜ ≤ A ≤ 250㎜ 가 바람직하다.
연마 대상인 유리 기판 (G) 의 에지는 통상적으로 모따기되지 않은 경우가 많기 때문에, 연마 공구 (14) 의 오버행량 (A) 이 20㎜ 미만이면 에지가 흠집이 생기기 쉬워지고, 오버행량 (A) 이 250㎜ 를 초과하면 연마 공구 (14) 가 경사지기 쉬워져, 균일한 연마가 곤란해지는 경우가 있다. 따라서, 오버행량 (A) 을 20㎜ ≤ A ≤ 250㎜ 의 범위로 설정하는 것이 바람직하다.
또한, 상기 연마 장치 (10) 에 있어서, 도 3 과 같이 연마 공구 (14) 의 공전 반경 (R) 이 50㎜ ≤ R ≤ 100㎜ 로 설정되어 있는 것이 바람직하다.
공전 반경 (R) 이 50㎜ 미만이면, 연마 공구 (14) 의 자공전의 합성 방향 변화가 커져, 유리 기판 (G) 에 생기는 연마 모양이 눈에 띄기 쉬워지는 경우가 있다. 또, 공전 반경 (R) 이 100㎜ 를 초과하면, 연마 공구의 지지 장치가 대형화 되어 큰 강성이 필요하다. 또, 장치가 진동하기 쉬워지는 경우가 있다. 이로써, 공전 반경 (R) 을 50㎜ ≤ R ≤ 100㎜ 로 하는 것이 바람직하다.
또한, 도 4 와 같이 유리 기판 (G) 의 이동 중심선 (L) 을 기준으로 하여 쌍을 이루어 배치된 일방의 연마 공구 (14) 와 타방의 연마 공구 (14) 의 연마시에 있어서의 중첩량 (P) 이 100㎜ 이상이고, 또한, 연마 공구 (14) 의 연마시에 있어서의 이동 중심선 (L) 으로부터의 벗어남량의 최소값을 B, 최대값을 C 로 했을 때, 25㎜ ≤ B ≤ 100㎜, 175㎜ ≤ C ≤ 250㎜ 인 조건으로 설정되어 있는 것이 바람직하다.
본예의 연마 장치 (10) 에서는, 유리 기판 (G) 의 이동 중심선을 포함하는 그 근방의 일부가, 이동 중심선 (L) 을 사이에 두고 지그재그 형상으로 쌍을 이루어 배치된 4 대의 연마 공구 (14, 14 …) 에 의해 연마되기 때문에, 쌍을 이루는 연마 공구 (14, 14 …) 의 중첩 연마부에서 연마 불균일이 발생할 우려가 있다. 이 연마 불균일을 억제하기 위해서는, 상기 중첩 연마부의 적정화를 도모하는 것이 중요하다. 구체적으로는, 이 중첩 연마부를 그 이외의 부분과 동일하도록 연마함으로써, 대형 유리 기판 (G) 의 고정밀도 연마가 가능해진다.
그래서, 본예의 연마 장치 (10) 는 도 4 와 같이 일방의 연마 공구 (14) 와 타방의 연마 공구 (14) 의 연마시에 있어서의 중첩량 (P), 즉, 중첩 연마부의 폭을 100㎜ 이상으로 설정하고, 또한, 연마 공구 (14) 의 연마시에 있어서의 이동 중심선 (L) 으로부터의 벗어남량의 최소값 B, 최대값 C 를, 25㎜ ≤ B ≤ 100㎜, 175㎜ ≤ C ≤ 250㎜ 가 되도록 설정하고 있다.
상기 중첩량 (P) 이 100㎜ 미만일 때, B 가 25 미만 또는 100㎜ 를 초과할 때, 및 C 가 175㎜ 미만 또는 250㎜ 를 초과하면, 특히 연마 불균일의 원인이 된다.
또, 연마 공구 (14) 에는, 연마압 발생기가 되는 공기 스프링이 복수 개 내장되고, 이 공기 스프링은 연마 공구의 중심으로부터 외주 방향을 향하여 내측, 중간, 외측으로 3 분할되어 있다. 그리고, 각각의 공기 스프링에 대하여, 상이한 공기압을 설정함으로써 연마압을 연마 공구의 중심으로부터 외주 방향으로 분할 제어하고 있다. 이로써, 주로 연마 공구의 상기 외측의 연마압을 조정함으로써, 연마 공구의 위치를 변경하지 않고 균일하게 연마할 수 있고, 또한 연마압의 조정과 연마 공구 (14) 의 위치 조정의 양방을 실시함으로써, 연마 조건의 설정을 보다 세세하게 행할 수 있다.
또한, 본예의 연마 장치 (10) 에서는, 유리 기판 폭 방향으로 연마 공구 (14) 를 2 열 배치한 예에 대하여 설명했는데, 이론적으로는, 유리 기판의 폭 방향으로 연마 공구 (14) 를 3 열 이상 병렬시켜 배치할 수도 있다. 그러나, 복수열의 연마 공구 (14, 14 …) 에 의한 연마의 중첩 연마부를 최소한으로 억제하는 편이 연마 품질을 확보하기 쉽고, 또 연마 공구가 장착되는 연마 헤드 (연마 정반(定盤)) 의 대수의 면에서도 적게 억제할 수 있기 때문에, 본예와 같이 2 열이 유리하다.
또, 연마 공구 (14, 14) 의 배치 거리 (이동 중심선으로부터의 거리) 를 조정하는 방법으로는, 연마 공구 (14) 를 구동시키는 스핀들 모터의 장착좌를 슬라이드 가능 구조로 하고, 이것을 잭 볼트나 볼 나사 등의 이동 장치에 의해 밀고 당겨 위치 결정한다. 중첩량 (P) 이 지나치게 많은 경우에는 연마 공구 (14, 14) 의 간격을 넓히고, 중첩량 (P) 이 지나치게 적은 경우에는 연마 공구 (14, 14) 의 간격을 좁히는 조정을 함으로써, 유리 기판의 폭 방향 전체를 균일하게 연마할 수 있다.
또한, 2006년 1월 20일에 출원된 일본 특허 출원 2006-012772호의 명세서, 특허 청구의 범위, 도면 및 요약서의 전체 내용을 여기에 인용하여, 본 발명의 명세서의 개시로서 도입한 것이다.
〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉
10 : 연마 장치 12 : 흡착 시트
14 : 연마 공구 G : 유리 기판

Claims (16)

  1. 삭제
  2. 삭제
  3. 삭제
  4. 삭제
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 삭제
  9. 삭제
  10. 삭제
  11. 삭제
  12. 삭제
  13. 삭제
  14. 삭제
  15. 판상체를 미리결정된 방향으로 이동시키면서, 복수 대의 자전 및 공전하는 원형 연마 공구에 의해 판상체를 연속 연마하는 판상체의 연마 방법에 있어서,
    상기 판상체의 폭보다 직경이 작은 상기 원형 연마 공구를 상기 판상체의 이동 중심선을 기준으로 하여 쌍을 이루어 배치함과 함께, 상기 각 원형 연마 공구가 이동 중심선을 넘어 상기 판상체를 연마하고,
    상기 판상체는 FPD 용 유리 기판이고, 상기 원형 연마 공구는 그 공전 반경 (R) 이 50 mm≤R≤100 mm 로 설정되고, 상기 FPD 용 유리 기판의 이동 방향을 따라 적어도 지그재그 형상으로 2 쌍 배치되어 있는 판상체의 연마 방법.
  16. 판상체를 미리결정된 방향으로 이동시키면서, 복수 대의 자전 및 공전하는 원형 연마 공구에 의해 판상체를 연속 연마하는 판상체의 연마 장치에 있어서,
    상기 원형 연마 공구는 직경이 상기 판상체의 폭보다 작게 설정됨과 함께, 상기 판상체의 이동 중심선을 기준으로 하여 쌍을 이루어 배치되어, 상기 원형 연마 공구가 이동 중심선을 넘어 상기 판상체를 연마하고,
    상기 판상체는 FPD 용 유리 기판이고, 상기 원형 연마 공구의 공전 반경 (R) 이 50 mm≤R≤100 mm 로 설정되고, 상기 원형 연마 공구는 상기 FPD 용 유리 기판의 이동 방향을 따라 적어도 지그재그 형상으로 2 쌍 배치되어 있는 판상체의 연마 장치.
KR1020117031579A 2006-01-20 2006-11-17 판상체의 연마 방법 및 그 장치 KR101273729B1 (ko)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006012772A JP4862404B2 (ja) 2006-01-20 2006-01-20 Fpd用ガラス基板の研磨方法及びその装置
JPJP-P-2006-012772 2006-01-20
PCT/JP2006/323020 WO2007083438A1 (ja) 2006-01-20 2006-11-17 板状体の研磨方法及びその装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020087010821A Division KR101143290B1 (ko) 2006-01-20 2006-11-17 판상체의 연마 방법 및 그 장치

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR101273729B1 true KR101273729B1 (ko) 2013-06-12

Family

ID=38287397

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020087010821A KR101143290B1 (ko) 2006-01-20 2006-11-17 판상체의 연마 방법 및 그 장치
KR1020117031579A KR101273729B1 (ko) 2006-01-20 2006-11-17 판상체의 연마 방법 및 그 장치

Family Applications Before (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020087010821A KR101143290B1 (ko) 2006-01-20 2006-11-17 판상체의 연마 방법 및 그 장치

Country Status (5)

Country Link
JP (1) JP4862404B2 (ko)
KR (2) KR101143290B1 (ko)
CN (1) CN101360584B (ko)
TW (1) TW200728019A (ko)
WO (1) WO2007083438A1 (ko)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101616595B1 (ko) 2009-06-04 2016-04-28 아사히 가라스 가부시키가이샤 판 형상체의 연마 방법
CN102548709A (zh) * 2009-07-06 2012-07-04 旭硝子株式会社 板状体的研磨装置以及板状体的研磨方法
JP5605554B2 (ja) * 2009-09-17 2014-10-15 旭硝子株式会社 ガラス板局所研磨装置、ガラス板局所研磨方法、ガラス製品の製造装置、及びガラス製品の製造方法
WO2011074615A1 (ja) * 2009-12-18 2011-06-23 旭硝子株式会社 板状物の研磨方法及び研磨装置
JP5762721B2 (ja) * 2010-11-04 2015-08-12 株式会社東芝 原子炉用制御棒の表面処理装置
JP5316910B2 (ja) * 2011-06-02 2013-10-16 旭硝子株式会社 板状体の研磨装置及び板状体の研磨方法
KR101377654B1 (ko) * 2013-09-09 2014-03-25 주식회사 엘지화학 대형기판 및 대형기판의 균일한 연마를 위한 연마 방법
JP6027664B2 (ja) * 2015-01-29 2016-11-16 株式会社松田製作所 研磨装置
KR102544765B1 (ko) * 2018-03-02 2023-06-19 주식회사 케이씨텍 기판 연마 장치
CN109759955B (zh) * 2019-03-11 2020-08-28 佛山市南海区卓迪机械有限公司 一种石板抛光设备
CN111558865A (zh) * 2020-05-23 2020-08-21 安徽财经大学 一种大尺寸tft-lcd玻璃基板的面研磨装置及方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06246623A (ja) * 1993-02-26 1994-09-06 Asahi Glass Co Ltd 板状体の連続研磨方法及び装置
JPH07178655A (ja) * 1993-12-24 1995-07-18 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス板の研磨方法
JP2001293656A (ja) 2000-04-17 2001-10-23 Asahi Glass Co Ltd 板状体の連続式研磨装置及びその方法
JP2004195601A (ja) 2002-12-19 2004-07-15 Toppan Printing Co Ltd 液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1097851B (de) * 1951-10-16 1961-01-19 Saint Gobain Vorrichtung zum Polieren von Scheiben aus Glas od. ae. Werkstoffen
US3050913A (en) * 1959-08-11 1962-08-28 Pittsburgh Plate Glass Co Glass manufacture
JPS5775767A (en) * 1980-10-30 1982-05-12 Kawasaki Steel Corp Method of grinding scale of hot rolled steel strip
JPS61169563A (ja) * 1985-01-22 1986-07-31 株式会社竹中工務店 階段ユニット
JPH05253821A (ja) * 1992-03-11 1993-10-05 Nippon Steel Corp ステンレス鋼帯の研削方法
US6585572B1 (en) * 2000-08-22 2003-07-01 Lam Research Corporation Subaperture chemical mechanical polishing system
JP2002239894A (ja) * 2001-02-20 2002-08-28 Ebara Corp ポリッシング装置
JP3965969B2 (ja) * 2001-11-02 2007-08-29 株式会社ニコン 研磨装置、研磨方法、半導体デバイス及び半導体デバイス製造方法
DE20319366U1 (de) * 2003-12-13 2004-03-11 Jakob Löwer Inh. von Schumann GmbH & Co. KG Durchlaufschleifmaschine zum Bearbeiten einer ebenen Werkstückoberfläche

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06246623A (ja) * 1993-02-26 1994-09-06 Asahi Glass Co Ltd 板状体の連続研磨方法及び装置
JPH07178655A (ja) * 1993-12-24 1995-07-18 Nippon Electric Glass Co Ltd ガラス板の研磨方法
JP2001293656A (ja) 2000-04-17 2001-10-23 Asahi Glass Co Ltd 板状体の連続式研磨装置及びその方法
JP2004195601A (ja) 2002-12-19 2004-07-15 Toppan Printing Co Ltd 液晶表示装置用カラーフィルタの研磨方法

Also Published As

Publication number Publication date
TW200728019A (en) 2007-08-01
CN101360584A (zh) 2009-02-04
CN101360584B (zh) 2014-01-01
JP2007190657A (ja) 2007-08-02
JP4862404B2 (ja) 2012-01-25
KR20080075497A (ko) 2008-08-18
TWI331068B (ko) 2010-10-01
WO2007083438A1 (ja) 2007-07-26
KR101143290B1 (ko) 2012-05-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101273729B1 (ko) 판상체의 연마 방법 및 그 장치
US8414360B2 (en) Double side polishing apparatus and carrier therefor
JP4406752B2 (ja) ガラス基板の端面加工装置及び端面加工方法
WO2010119765A1 (ja) ウェーハの面取り加工方法
KR101672076B1 (ko) 웨이퍼의 면취 가공 방법, 웨이퍼의 면취 가공 장치 및 숫돌 각도 조정용 지그
JP6528527B2 (ja) ツルーアーの製造方法および半導体ウェーハの製造方法、ならびに半導体ウェーハの面取り加工装置
JP7481518B2 (ja) ツルーイング方法及び面取り装置
JP3011129B2 (ja) ガラス基板の端面研磨機および端面研磨方法
KR20140067886A (ko) 판유리 등 워크의 주연부를 연마 테이프에 의해 연마하는 연마 장치 및 연마 방법
CN110088058B (zh) 玻璃板及玻璃板的制造方法
EP2236246B1 (en) Method for producing large-size synthetic quartz glass substrate
JP7128309B2 (ja) 面取り基板の製造方法及びそれに用いられる面取り装置
JP6608604B2 (ja) 面取り加工された基板及び液晶表示装置の製造方法
KR20150145503A (ko) 기판 폴리싱장치 및 방법
JP2017154240A (ja) ワーク加工装置
JP2004243422A (ja) 外周研削合体ホイル
JP4514014B2 (ja) 基板の研削方法
WO2014002447A1 (ja) 基板端縁の研削方法及び基板端縁の研削装置
JP2002059346A (ja) 板状物の面取り加工方法及び装置
KR101871853B1 (ko) 평판 디스플레이용 패널 가공 장치
KR20160068625A (ko) 유리판의 제조 방법 및, 유리판의 제조 장치
JP5411648B2 (ja) マスクブランク用基板の製造方法、マスクブランク用基板の製造装置、マスクブランクの製造方法、及び転写用マスクの製造方法
JPH02274459A (ja) 半導体ウェーハの自動平面研削方法及びその装置
JP5984253B2 (ja) 研磨機用定盤の表面加工方法および研磨機用定盤
JP2001328050A (ja) 面取り研磨装置

Legal Events

Date Code Title Description
A107 Divisional application of patent
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20160527

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20170526

Year of fee payment: 5

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180529

Year of fee payment: 6