KR101174777B1 - 패턴형성방법 및 그를 이용한 액정표시소자 제조방법 - Google Patents

패턴형성방법 및 그를 이용한 액정표시소자 제조방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 기판 상에 패턴물질층을 형성하는 공정; 상기 패턴물질층 상에 소정 패턴의 변형물질층을 형성하는 공정; 상기 변형물질층 상에 소정 패턴의 포토레지스트층을 형성하는 공정; 상기 소정 패턴의 포토레지스트층을 마스크로 하여 패턴물질층 중 소정 부분을 식각하여 상기 기판 상에 소정 패턴의 패턴 물질층을 형성하는 공정; 상기 소정 패턴의 포토레지스트층 및 변형물질층이 형성된 면이 아래를 향하도록 상기 기판을 위치시키는 공정; 및 상기 기판에 광을 조사함으로써 상기 변형 물질층이 팽창되거나 분해되어 상기 소정 패턴의 패턴 물질층으로부터 상기 소정 패턴의 포토레지스트층 및 변형물질층을 제거하는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법에 관한 것으로서,
본 발명에 따르면, 패턴물질층과 포토레지스트층 사이에 변형물질층을 두어 변형물질의 팽창 및 접착력 저하 등의 성질을 이용함으로써, 종래의 값비싼 포토레지스트 스트리퍼를 이용하지 않고, 포토레지스트층을 물리적으로 제거할 수 있어, 제조비용이 절감된다.
변형물질, 포토레지스트

Description

패턴형성방법 및 그를 이용한 액정표시소자 제조방법{Patterning Method and Method of manufacturing Liquid Crystal Display Device using the same}
도 1a 내지 도 1e는 종래기술에 따른 포토리소그래피공정을 통하여 패턴을 형성하는 방법을 개략적으로 도시한 공정단면도이다.
도 2a 및 도 2b는 종래기술에 따른 포토레지스트 스트리퍼를 이용하여 상기 포토레지스트층을 제거하는 공정을 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 3a 내지 도 3e는 본 발명의 실시예에 따른 패턴형성방법을 개략적으로 도시한 공정단면도이다.
도 4a 내지 도 4c는 본 발명에 따른 패턴물질층 상에 소정 패턴의 변형물질층 및 포토레지스트층을 형성하는 공정을 도시한 공정단면도이다.
도 5a 및 도 5b는 본 발명에 따른 변형물질층에 높은 에너지의 광이 가해지면 그 부피가 팽창하는 것을 확인할 수 있는 사진이다.
도 6은 본 발명에 따른 광 조사장치(600)가 상기 기판(100)의 하부에 위치시켜 광을 조사하는 공정을 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 7a 내지 도 7d는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시소자용 기판의 제조방법을 개략적으로 도시한 공정 단면도이다.
<도면의 주요부의 부호에 대한 설명>
100 : 기판 200 : 패턴물질층
250 : 변형물질층 300 : 포토레지스트
600 : 광 조사장치
본 발명은 액정표시소자에 관한 것으로 보다 구체적으로는 액정표시소자의 패턴 형성 방법 및 그를 이용한 액정표시소자의 제조방법에 관한 것이다.
표시화면의 두께가 수 센티미터(cm)에 불과한 초박형의 평판표시소자(Flat Panel Display), 그 중에서도 액정표시소자는 동작 전압이 낮아 소비 전력이 적고 휴대용으로 쓰일 수 있는 등의 이점으로 노트북 컴퓨터, 모니터, 우주선, 항공기 등에 이르기까지 응용분야가 넓고 다양하다.
상기 액정표시소자는 하부기판, 상부기판, 및 상기 양 기판 사이에 형성된 액정층을 포함하여 구성되며, 하부 기판 상에는 서로 종횡으로 교차되어 화소영역을 정의하는 게이트 배선과 데이터 배선이 형성되어 있다. 그리고 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차 영역에는 스위칭 소자로서 박막트랜지스터가 형성되어 있다.
또한, 상부기판 상에는 상기 게이트 배선, 데이터 배선, 및 박막트랜지스터 영역에서 광이 누설되는 것을 차단하기 위한 차광층이 형성되어 있고, 상기 차광층 위에 컬러필터층이 형성되어 있으며, 상기 컬러필터층 상부에 공통전극이 형성되어 있다.
이와 같이 액정표시소자는 다양한 구성요소들을 포함하고 있으며 그 구성요소들을 형성하기 위해 수많은 공정들이 반복적으로 행해지게 된다. 특히, 다양한 구성요소들을 다양한 형태로 패터닝하기 위해서 포토리소그래피공정이 사용되고 있다.
이하에서, 도면을 참조로 종래 포토리소그래피공정을 통한 패턴 형성 방법을 설명하기로 한다.
우선, 도 1a에서 알 수 있듯이, 기판(10)상에 패턴물질층(20) 및 포토레지스트층(30)을 형성한다.
그 후, 도 1b에서 알 수 있듯이, 상기 포토레지스트층(30) 위에 소정 패턴의 마스크(35)를 위치시킨 후 광 조사장치를 통해 광을 조사한다.
그 후, 도 1c에서 알 수 있듯이, 현상공정을 통해 상기 포토레지스트층(30)을 패터닝한다.
그 후, 도 1d에서 알 수 있듯이, 상기 패터닝된 포토레지스트층(30a)을 마스크로 하여 상기 패턴물질층(20)을 식각한다.
그 후, 도 1e에서 알 수 있듯이, 상기 패터닝된 포토레지스트층(30a)을 제거하여, 패턴을 완성한다.
이 때, 상기 패터닝된 포토레지스트층(30a)을 제거하는 공정은 포토레지스트 스트리퍼를 이용하여 이루어진다.
도 2a 및 도 2b는 포토레지스트 스트리퍼를 이용하여 상기 포토레지스트층(30a)을 제거하는 공정을 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 2a에서 알 수 있듯이, 스페이서(50)를 바닥에 깐 후, 수조에 포토레지스트 스트리퍼(40)를 채우고, 포토레지스트층(30a)을 제거할 기판(10)을 상기 포토레지스트 스트리퍼(40)에 넣어 포토레지스트층(30a)을 제거할 수 있다.
또한, 도 2b에서 알 수 있듯이, 스프레이 노즐(45)을 이용하여 포토레지스트 스트리퍼(40)를 상기 기판(10) 상에 분사하여 상기 포토레지스트층(30a)을 제거할 수 있다.
그러나 상기 포토레지스트 스트리퍼는 고가이며, 그 폐액의 처리 비용 또한 추가로 드는 바, 그 비용이 제조비의 약 20%를 차지하게 된다.
또한, 상기 폐액을 처리할 때 환경이 오염될 우려가 있다.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출한 것으로,
본 발명의 제1목적은, 포토레지스트 스트리퍼를 사용하지 않고 포토레지스트를 제거하는 방법을 고안함으로써, 액정표시소자 제조공정을 포함한 반도체 제조공정에서 저가의 비용으로 패턴을 형성하는 방법을 제공하는 것이고,
본 발명의 제2목적은, 상기 패턴형성방법을 이용하여 액정표시소자를 제조하는 방법을 제공하는 것이다.
본 발명은 상기와 같은 제1목적을 달성하기 위해서, 기판 상에 패턴물질층을 형성하는 공정; 상기 패턴물질층 상에 소정 패턴의 변형물질층을 형성하는 공정; 상기 변형물질층 상에 소정 패턴의 포토레지스트층을 형성하는 공정; 상기 소정 패턴의 포토레지스트층을 마스크로 하여 패턴물질층 중 소정 부분을 식각하여 상기 기판 상에 소정 패턴의 패턴 물질층을 형성하는 공정; 상기 소정 패턴의 포토레지스트층 및 변형물질층이 형성된 면이 아래를 향하도록 상기 기판을 위치시키는 공정; 및 상기 기판에 광을 조사함으로써 상기 변형 물질층이 팽창되거나 분해되어 상기 소정 패턴의 패턴 물질층으로부터 상기 소정 패턴의 포토레지스트층 및 변형물질층을 제거하는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법을 제공한다.
본 발명의 특징은 변형물질층의 팽창, 분해 등의 성질을 이용하여, 포토레지스트 스트리퍼를 이용하지 않고 상기 포토레지스트층을 기판 상에서 제거할 수 있는 데 있다.
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상기 기판에 광을 조사하는 공정은 상기 기판의 상부에 광원을 위치시키고 광을 조사하는 공정 또는 상기 기판의 하부에 막대 형상의 광원을 위치시키고, 광원을 이동시키며 광을 조사하는 공정으로 이루어질 수 있다.
상기 광이 기판에 조사될 경우, 상기 패턴물질층과 포토레지스트층 사이에 형성된 변형물질층에 팽창 등의 변형이 발생하여, 변형물질의 분자간의 결합력이 약화되고, 부착력이 저하되어 변형물질층이 패턴물질층으로부터 떨어지게 된다.
상기 소정 패턴의 포토레지스트층 및 변형물질층이 형성된 면이 아래를 향하도록 상기 기판을 위치시키면 변형물질층 및 포토레지스트층이 중력의 도움으로 패 턴물질층으로부터 잘 떨어질 수 있다.
이 때, 상기 소정 패턴의 포토레지스트층 및 변형물질을 제거하는 공정은 에어나이프 등을 이용하여 상기 소정 패턴의 포토레지스트층 및 변형물질층에 공기를 가하는 공정을 추가로 포함할 수 있다.
상기 소정 패턴의 포토레지스트층 및 변형물질층이 형성된 면이 아래를 향하도록 상기 기판을 위치시킨다고 하여도, 에어나이프를 이용하여 상기 소정 패턴의 포토레지스트층 및 변형물질층에 공기를 가하면 패턴물질층으로부터 더욱 잘 떨어질 수 있다.
상기 소정 패턴의 변형물질층은 아크릴계 수지로 이루어질 수 있다.
상기 변형물질층으로 이용되기 위해서는 다음과 같은 특징이 요구된다.
첫째, 패턴물질층 상에 도포되어야 하기 때문에, 코팅 및 증착이 가능해야한다.
둘째, 변형 전에는 패턴물질 및 포토레지스트와 밀착성이 있으나, 자외선 등 특정 파장의 광에 분해, 팽창되는 등의 특성약화현상을 수반하여야 한다.
셋째, 패턴물질층을 식각하는 공정에서 변형물질층이 영향을 받으면 안 되므로, 플라즈마 및 식각용액과의 반응성이 없는 물질이어야 한다.
상기 아크릴계 수지는 상기 세 가지 요건을 모두 만족시키므로 변형물질로 이용될 수 있다.
또한, 본 발명은 상기 제2목적을 달성하기 위해서, 제1기판 상에 차광층을 형성하는 공정; 상기 차광층을 포함하는 제1기판 상에 컬러필터층을 형성하는 공정; 제2기판을 준비하는 공정; 및 상기 제1기판 및 제2기판 사이에 액정층을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지며,
상기 제1기판 상에 차광층을 형성하는 공정, 상기 컬러필터층을 형성하는 공정 중 적어도 하나의 공정은, 전술한 패턴 형성 방법에 따르는 공정으로 이루어질 수 있다.
상기 제2기판을 준비하는 공정은, 전술한 패턴형성방법에 따르는 공정을 이용하여 상기 제2기판 상에 서로 종횡으로 교차되어 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선과, 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차 영역에 박막트랜지스터와, 상기 박막트랜지스터와 연결되는 화소전극을 형성하는 공정을 포함하여 이루어질 수 있다.
이 때, 상기 제1기판 및 제2기판 사이에 액정층을 형성하는 공정은, 상기 제1기판 또는 제2기판 중 어느 하나의 기판에 주입구 없는 씨일재를 형성하고, 상기 씨일재가 형성된 기판에 액정을 적하한 후 양 기판을 합착하는 공정으로 이루어질 수 있다.
또한, 상기 제1기판 및 제2기판 사이에 액정층을 형성하는 공정은, 상기 제1기판 또는 제2기판 중 어느 하나의 기판에 주입구가 형성되도록 씨일재를 형성한 후 양 기판을 합착하고, 그 후에 상기 주입구를 통해 액정을 주입하여 형성할 수 있다.
이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명한다.
1. 패턴형성방법
도 3a 내지 도 3e는 본 발명의 실시예에 따른 패턴형성방법을 개략적으로 도시한 공정단면도이다.
우선, 도 3a에서 알 수 있듯이, 기판(100) 상에 패턴물질층(200)을 형성한 후, 상기 패턴물질층(200) 상에 소정 패턴의 변형물질층(250a) 및 소정 패턴의 포토레지스트층(300a)을 형성한다.
상기 소정 패턴의 변형물질층(250a) 및 소정 패턴의 포토레지스트층(300a)을 형성하는 방법은 도 4a 내지 도 4c에서 도시하고 있다.
우선, 도 4a에서 알 수 있듯이, 기판(100) 상에 패턴물질층(200), 변형물질층(250), 포토레지스트층(300)을 차례로 형성한다.
그 후, 도 4b에서 알 수 있듯이, 상기 포토레지스트층(300) 위에 소정 패턴의 마스크(350)를 위치시킨 후 광 조사장치를 통해 광을 조사한다.
그 후, 현상공정을 통하여, 도 4c와 같이, 상기 패턴물질층(200) 상에 상기 소정 패턴의 변형물질층(250a) 및 소정 패턴의 포토레지스트층(300a)을 형성한다.
이와 같이 상기 패턴물질층(200) 상에 상기 소정 패턴의 변형물질층(250a) 및 소정 패턴의 포토레지스트층(300a)을 형성한다.
그 후, 도 3b에서 알 수 있듯이, 상기 소정 패턴의 변형물질층(250a) 및 소정 패턴의 포토레지스트층(300a)을 마스크로 하여 상기 패턴물질층(200)을 식각한다.
상기 패턴물질(200)의 식각은 플라즈마를 이용한 건식식각공정 또는 식각용 액을 이용한 습식식각공정을 통해 이루어질 수 있으나, 상기 소정 패턴의 변형물질층(250a)은 이에 영향을 받지 않는다.
그 후, 도 3c에서 알 수 있듯이, 상기 소정 패턴의 포토레지스트층(300a) 및 변형물질층(250a)이 형성된 면이 아래를 향하도록 상기 기판(100)을 위치시키고, 상기 기판(100)에 광 조사장치(600)를 이용하여 자외선 등 높은 에너지의 광을 조사한다.
상기 자외선 등 높은 에너지의 광이 상기 기판(100) 및 소정 패턴의 패턴물질층(200a)을 통해 상기 변형물질층(250a)에 가해지면, 상기 변형물질층(250a)은 도 3c에서와 같이 부피가 팽창한다.
도 5a 및 도 5b는 상기 변형물질층(250a)에 높은 에너지의 광이 가해지면 그 부피가 팽창하는 것을 확인할 수 있는 사진이다.
도 5a는 높은 에너지의 광을 조사하기 전의 사진이고, 도 5b는 높은 에너지의 광을 조사한 후의 사진이다.
도 5a 및 도 5b에서 알 수 있듯이, 변형물질층(250)은 높은 에너지의 광이 가해지면 그 부피가 팽창한다.
도 5에서는 상기 변형물질층(250)의 부피가 팽창하는 경우만 도시하였으나, 물질에 따라서는 분해 되는 경우도 있다.
그 후, 도 3d에서 알 수 있듯이, 팽창된 변형물질층(250a)은 부착력이 약해져서, 상기 소정 패턴의 패턴물질층(200a) 및 포토레지스트층(300a)과 떨어지게 된다.
이 때, 에어나이프 등을 이용하여 상기 포토레지스트층(300a) 및 변형물질층(250a)에 공기를 가하면, 좀 더 효율적으로 상기 패턴물질층(200a)으로부터 상기 변형물질층(250a)을 쉽게 제거할 수 있다. 공기의 세기는 5 ~ 25 [kg?f/m2]가 바람직하다.
상기 광 조사장치(600)를 이용하여 자외선 등 높은 에너지의 광을 조사하는 공정에 있어서, 광 조사장치(600)는 상기 기판(100) 상부뿐만 아니라 기판 하부에 위치시킬 수 있다.
도 6은 상기 광 조사장치(600)가 상기 기판(100)의 하부에 위치시켜 광을 조사하는 공정을 개략적으로 도시한 단면도이다.
도 6에서 알 수 있듯이, 상기 광 조사장치(600)를 상기 기판(100) 하부에 위치시켜 광을 조사하는 경우, 팽창된 변형물질층(250a)이 광 조사장치(600) 위로 떨어질 수 있으므로, 광 조사장치(600)를 이동시키며 상기 기판(100)에 광을 조사한다.
상기 패턴물질층(200)과 포토레지스트층(300) 사이에 형성되는 변형물질층(250)을 구성하는 변형물질로는 아크릴계 수지가 사용된다.
아크릴계 수지는 코팅 및 증착이 가능하고, 자외선 등 특정 파장의 광을 조사하면 팽창되는 성질을 가지고 있으며, 플라즈마 및 식각용액과의 반응성도 없어서 본 발명의 실시예에 따른 변형물질로 적합하다.
상기 아크릴계 수지 이외에도 상기 변형물질로서 요구되는 특성을 갖춘 물질 이면 본 발명에 이용될 수 있다. 예를 들어, 접착력이 우수하고 일정온도에서 부피가 팽창하며, 산이나 플라즈마에 반응성이 없는 Si계 나노파우더, 물에서 부피가 팽창하면서 결합력이 약화되는 셀룰로오스 분자, 물에서 발열 반응을 일으키면서 녹는 염화칼슘(CaCl2) 등도 본 발명의 변형물질로 사용될 수 있다.
2. 액정표시소자 제조방법
도 7a 내지 도 7d는 본 발명의 실시예에 따른 액정표시소자용 기판의 제조방법을 개략적으로 도시한 공정 단면도이다.
우선, 도 7a에서 알 수 있듯이, 제1기판(130) 상에 차광층(230)을 형성한다.
그 후, 도 7b에서 알 수 있듯이, 상기 차광층(230)을 포함하는 제1기판(130) 상에 컬러필터층(260)을 형성한다.
여기서, 상기 차광층을 형성하는 공정(도 7a 참조), 상기 컬러필터층을 형성하는 공정(도 7b 참조) 중 적어도 하나의 공정은, 전술한 패턴형성방법의 실시예에 따르는 공정으로 형성된다.
그 후, 도 7c에서 알 수 있듯이, 제2기판(160)을 준비한다.
상기 제2기판을 준비하는 공정은, 도시하지는 아니하였으나, 전술한 패턴형성방법의 실시예에 따르는 공정을 이용하여, 상기 제2기판 상에 서로 종횡으로 교차되어 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선과, 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차 영역에 박막트랜지스터와, 상기 박막트랜지스터를 포함하는 제1기판 상에 보호막과, 상기 보호막 상부에 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극에 접속되는 화소전극을 형성하는 공정을 포함하여 이루어질 수 있다.
그 후, 도 7d에서 알 수 있듯이, 상기 제1기판(130) 및 제2기판(160) 사이에 액정층(700)을 형성한다.
이 때, 상기 액정층(700)을 형성하는 공정은 제1기판(130) 및 제2기판(160) 중 어느 하나의 기판에 주입구 없는 씨일재를 형성하고, 씨일재가 형성된 기판에 액정을 적하한 후 양 기판을 합착하여 형성할 수 있다.
또한, 상기 액정층(700)을 형성하는 공정은 제1기판(130) 및 제2기판(160) 중 어느 하나의 기판에 주입구 형성되도록 씨일재를 형성한 후 양 기판을 합착하고, 그 후에 상기 주입구를 통해 모세관 현상과 압력차를 이용하여 액정을 주입하여 형성할 수 있다.
상기 구성에 의한 본 발명에 따르면,
패턴물질층과 포토레지스트층 사이에 변형물질층을 형성하여, 변형물질의 팽창 및 접착력 저하 등의 성질을 이용함으로써, 종래의 값비싼 포토레지스트 스트리퍼를 이용하지 않고서도, 포토레지스트층을 물리적으로 제거할 수 있어, 제조비용이 절감된다.
또한, 포토레지스트 스트리퍼를 이용할 경우 추가적으로 드는 폐액 처리비용을 절약할 수 있고, 폐액을 처리할 때 발생하는 환경오염의 문제도 해결할 수 있다.

Claims (11)

  1. 기판 상에 패턴물질층을 형성하는 공정;
    상기 패턴물질층 상에 소정 패턴의 변형물질층을 형성하는 공정;
    상기 변형물질층 상에 소정 패턴의 포토레지스트층을 형성하는 공정;
    상기 소정 패턴의 포토레지스트층을 마스크로 하여 패턴물질층 중 소정 부분을 식각하여 상기 기판 상에 소정 패턴의 패턴 물질층을 형성하는 공정;
    상기 소정 패턴의 포토레지스트층 및 변형물질층이 형성된 면이 아래를 향하도록 상기 기판을 위치시키는 공정; 및
    상기 기판에 광을 조사함으로써 상기 변형 물질층이 팽창되거나 분해되어 상기 소정 패턴의 패턴 물질층으로부터 상기 소정 패턴의 포토레지스트층 및 변형물질층을 제거하는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
  2. 삭제
  3. 제1항에 있어서,
    상기 기판에 광을 조사시, 상기 기판의 상부에 광원을 위치시키고 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 기판에 광을 조사시, 상기 기판의 하부에 광원을 위치시키고, 광원을 이동시키며 광을 조사하는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 광은 자외선인 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 소정 패턴의 포토레지스트층 및 변형물질층을 제거하는 공정은
    에어나이프 등을 이용하여 상기 소정 패턴의 포토레지스트층 및 변형물질층에 공기를 가하는 공정을 추가로 포함하는 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
  7. 제1항에 있어서,
    상기 소정 패턴의 변형물질층은
    아크릴계 수지로 이루어진 것을 특징으로 하는 패턴형성방법.
  8. 제1기판 상에 차광층을 형성하는 공정;
    상기 차광층을 포함하는 제1기판 상에 컬러필터층을 형성하는 공정;
    제2기판을 준비하는 공정; 및
    상기 제1기판 및 제2기판 사이에 액정층을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지며,
    상기 제1기판 상에 차광층을 형성하는 공정, 상기 컬러필터층을 형성하는 공정 중 적어도 하나의 공정은, 상기 제1항, 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 의해 패턴을 형성하는 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
  9. 제8항에 있어서,
    상기 제2기판을 준비하는 공정은,
    상기 제1항, 제3항 내지 제7항 중 어느 한 항에 의해 패턴을 형성하는 공정을 이용하여 상기 제2기판 상에 서로 종횡으로 교차되어 화소영역을 정의하는 게이트 배선 및 데이터 배선과, 상기 게이트 배선과 데이터 배선의 교차 영역에 박막트랜지스터와, 상기 박막트랜지스터를 포함하는 제1기판 상에 보호막과, 상기 보호막 상부에 상기 박막트랜지스터의 드레인 전극에 접속되는 화소전극을 형성하는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
  10. 제8항에 있어서,
    상기 제1기판 및 제2기판 사이에 액정층을 형성하는 공정은
    상기 제1기판 또는 제2기판 중 어느 하나의 기판에 주입구 없는 씨일재를 형성하고,
    상기 씨일재가 형성된 기판에 액정을 적하한 후, 양 기판을 합착하는 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
  11. 제8항에 있어서,
    상기 제1기판 및 제2기판 사이에 액정층을 형성하는 공정은
    상기 제1기판 또는 제2기판 중 어느 하나의 기판에 주입구가 형성되도록 씨일 형성하고,
    양 기판을 합착한 후, 상기 액정 주입구에 액정을 주입하는 공정으로 이루어진 것을 특징으로 하는 액정표시소자 제조방법.
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