KR101552989B1 - 미세 패턴 형성방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법 - Google Patents

미세 패턴 형성방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법 Download PDF

Info

Publication number
KR101552989B1
KR101552989B1 KR1020090069415A KR20090069415A KR101552989B1 KR 101552989 B1 KR101552989 B1 KR 101552989B1 KR 1020090069415 A KR1020090069415 A KR 1020090069415A KR 20090069415 A KR20090069415 A KR 20090069415A KR 101552989 B1 KR101552989 B1 KR 101552989B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
forming
fine pattern
laser
overcoat layer
common electrode
Prior art date
Application number
KR1020090069415A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20110011933A (ko
Inventor
김기승
김삼열
김호수
김낙원
Original Assignee
엘지디스플레이 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지디스플레이 주식회사 filed Critical 엘지디스플레이 주식회사
Priority to KR1020090069415A priority Critical patent/KR101552989B1/ko
Publication of KR20110011933A publication Critical patent/KR20110011933A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR101552989B1 publication Critical patent/KR101552989B1/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133519—Overcoatings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343—Electrodes
    • G02F1/134309—Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134318—Electrodes characterised by their geometrical arrangement having a patterned common electrode
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/12—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode
    • G02F2201/122—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 electrode having a particular pattern

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Mathematical Physics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Geometry (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)

Abstract

본 발명은 정밀한 미세 패턴 형성이 가능하고 공정 비용을 절감할 수 있는 미세 패턴 형성방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법에 관한 것으로, 본 발명에 따른 미세 패턴 형성방법은 기판 상에 하부막을 형성하고, 상기 하부막 상에 패턴 물질을 형성하는 단계와, 특정 영역의 상기 패턴 물질에 레이저를 조사하여 제 1 제거 공정을 수행하는 단계 및 상기 제 1 제거 공정 수행 후 상기 특정 영역의 패턴 물질에 제 2 제거 공정을 수행하여 미세 패턴을 형성하는 것을 특징으로 한다.
LCD, 레이저, 하부막, 잔막, 후처리

Description

미세 패턴 형성방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법{METHOD FOR FORMING OF FINE PATTERN AND METHOD FOR MANUFACTURING OF LIQUID CRYSTAL DISPLAY USING THE SAME}
본 발명은 미세 패턴 형성방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법에 관한 것으로, 특히 정밀한 미세 패턴 형성이 가능하고 공정 비용을 절감할 수 있는 미세 패턴 형성방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법에 관한 것이다.
근래, 핸드폰(Mobile Phone), PDA, 노트북컴퓨터와 같은 각종 휴대용 전자기기가 발전함에 따라 이에 적용할 수 있는 경박단소용의 평판표시장치(Flat Panel Display Device)에 대한 요구가 점차 증대되고 있다. 이러한 평판표시장치로는 LCD(Liquid Crystal Display), PDP(Plasma Display Panel), FED(Field Emission Display), VFD(Vacuum Fluorescent Display) 등이 활발히 연구되고 있지만, 양산화 기술, 구동수단의 용이성, 고화질의 구현이라는 이유로 인해 현재에는 액정표시소자(LCD)가 각광을 받고 있다.
이러한 평판표시장치는 기판 상에 다수의 배선이나 보호층 등의 박막을 형성 하기 위한 패터닝 공정을 통해 형성된다. 일반적으로 평판표시장치의 박막을 패터닝하는 공정으로는 자외선, 가시광선 또는 적외선 파장의 레이저(Laser)를 패터닝하고자하는 물질 표면 위에 조사하여 물질에 흡수시킨다. 흡수된 에너지는 물질에 열적 또는 광화학적 변화를 일으키고, 이러한 작용에 의해 물질이 제거됨으로써 패터닝이 이루어진다.
이때, 도 1a 내지 도 1c에 나타나는 바와 같이 레이저에 의한 에너지는 제거하고자하는 물질(4)에만 흡수되는 것이 아니라 제거하고자하는 물질(4) 아래의 하부막(2)에서도 흡수가 이루어져 하부막(2)에 손상을 가져온다. 하부막(2)의 손상을 방지하기 위하여 레이저의 에너지 밀도를 낮추는 경우 제거하고자하는 물질(4)이 제대로 제거되지 못하고 잔막으로 남는다.
잔막이 남지 않으면서 하부막에 손상을 가하지 않는 범위가 좁아 공정 마진의 확보가 어려울 뿐만 아니라 이러한 하부막의 손상 및 잔막은 평판표시장치의 신뢰성 및 생산성을 저하시킨다. 또한, 한번의 레이저 조사를 통해 패터닝 공정을 수행하는 경우 패터닝이 정밀하지 못하고 들뜨거나 거칠게 패터닝이 되는 등 미세 패턴의 형성이 어렵다.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명은 정밀한 미세 패턴 형성이 가능하고 공정 비용을 절감할 수 있는 미세 패턴 형성방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법을 제공한다.
본 발명에 따른 미세 패턴 형성방법은 기판 상에 하부막을 형성하고, 상기 하부막 상에 패턴 물질을 형성하는 단계와, 특정 영역의 상기 패턴 물질에 레이저를 조사하여 제 1 제거 공정을 수행하는 단계 및 상기 제 1 제거 공정 수행 후 상기 특정 영역의 패턴 물질에 제 2 제거 공정을 수행하여 미세 패턴을 형성한다.
여기서, 상기 제 1 제거 공정을 수행하는 단계는 상기 특정 영역의 상기 패턴 물질이 상기 하부막으로부터 들뜨게 한다.
그리고, 상기 제 2 제거 공정을 수행하는 단계는 들뜬 상기 패턴 물질에 드라이 아이스, 압축 가스 또는 드라이 아이스와 압축 가스를 혼합한 가스를 분사함으로써 상기 들뜬 패턴 물질을 제거한다.
상기 레이저의 에너지 조사범위는 상기 하부막에 손상을 가하지 않는 정도의 조사범위이다.
또는, 상기 제 1 제거 공정을 수행하는 단계는 상기 특정 영역의 상기 패턴 물질의 상부만을 제거하여 잔막을 상기 하부막 상에 남긴다.
여기서, 상기 제 2 제거 공정을 수행하는 단계는 레이저 램프를 일방향으로 상기 특정 영역에 조사하여 상기 특정 영역의 상기 잔막을 제거한다.
상기 레이저 램프의 에너지 조사범위는 상기 레이저의 에너지 조사범위보다 낮고, 상기 하부막에 손상을 가하지 않는 정도의 조사범위이다.
본 발명에 따른 미세 패턴 형성방법을 이용한 액정표시장치의 제조방법은 표시 영역과 실영역으로 정의되고, 공통 전극 및 오버코트층이 형성된 컬러필터 기판 을 준비하는 단계와, 상기 실영역의 상기 오버코트층에 레이저를 조사하여 상기 오버코트층을 상기 공통 전극으로부터 들뜨게 하는 단계와, 들뜬 상기 오버코트층에 드라이 아이스, 압축 가스 또는 드라이 아이스와 압축 가스를 혼합한 가스를 분사함으로써 상기 들뜬 오버코트층을 제거하여 상기 실영역의 상기 공통 전극을 노출시키는 단계 및 노출된 상기 공통 전극이 형성된 상기 컬러필터 기판과 박막 트랜지스터 어레이가 형성된 박막 트랜지스터 기판을 실재를 통해 합착시키는 단계를 포함한다.
본 발명의 또 다른 실시예에 따른 미세 패턴 형성방법을 이용한 액정표시장치의 제조방법은 표시 영역과 실영역으로 정의되고, 공통 전극 및 오버코트층이 형성된 컬러필터 기판을 준비하는 단계와, 상기 실영역의 상기 오버코트층에 레이저빔을 조사하여 상기 오버코트층의 상부만 제거하고 상기 공통 전극 상에 잔막을 남기는 단계와, 상기 잔막에 레이저램프를 일방향으로 이동하면서 조사하여 상기 잔막을 제거하여 상기 실영역의 상기 공통 전극을 노출시키는 단계 및 노출된 상기 공통 전극이 형성된 상기 컬러필터 기판과 박막 트랜지스터 어레이가 형성된 박막 트랜지스터 기판을 실재를 통해 합착시키는 단계를 포함한다.
본 발명에 따른 미세 패턴 형성방법은 2단계로 나누어 수행됨으로써 정밀한 미세 패턴의 형성이 가능하다.
더욱이, 본 발명에 따른 미세 패턴 형성방법은 잔막을 남기지 않으면서 하부막에 손상이 가해지는 것을 방지할 수 있어 평판표시장치의 신뢰성 및 생산성을 향 상시킬 수 있다.
아울러, 레이저의 에너지를 낮춤으로써 레이저 장비 가격 및 운용 비용을 절감할 수 있다.
이하, 첨부된 도면 및 실시 예를 통해 본 발명을 구체적으로 살펴보면 다음과 같다.
도 2a 내지 도 2d는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 미세 패턴 형성방법을 나타내는 단면도들이다.
도 2a 및 도 2b를 참조하면, 먼저, 미세 패턴을 형성하기 위한 제 1 제거 공정을 수행한다. 구체적으로, 기판(10) 상에 하부막(12)을 형성하고, 하부막(12) 상에 패턴 물질(14)을 형성한다. 제거하고자 하는 특정 영역의 패턴 물질(14) 표면 위에 레이저(Laser)를 조사하여 레이저의 에너지를 패턴 물질(14)에 흡수시킨다. 흡수된 에너지는 패턴 물질(14)이 유기 물질인 경우 원자간의 결합을 끊고, 무기 물질인 경우 분자간의 인력을 약화시킴으로써 특정 영역의 패턴 물질(14)을 하부막(12) 표면에서 들뜨게 한다.
이때, 레이저는 하부막(12)의 손상 없이 패턴 물질(14)이 하부막(12)의 표면에서 들뜨는 정도의 에너지로 조사된다. 레이저의 에너지 조사범위는 패턴 물질(14)의 두께 및 재료에 따라 설계 변경이 가능하다.
도 2c 및 도 2d를 참조하면, 제 2 제거 공정을 수행하여 미세 패턴(14a)을 형성한다. 구체적으로, 하부막(12)의 표면에서 들떠있는 특정 영역의 패턴 물 질(14)에 드라이 아이스(CO2) 또는 압축 가스(Carrier gas)를 분사하거나, 드라이아이스 및 압축 가스의 혼합가스를 분사한다. 분사된 드라이 아이스(CO2), 압축 가스(Carrier gas) 또는 드라이아이스 및 압축 가스의 혼합가스는 하부막(12) 표면이 손상되지 않도록 특정 영역의 패턴 물질(14)을 박리시킨다. 이로써, 정밀한 미세 패턴(14a)이 형성된다.
도 3a를 참조하면, 드라이아이스 및 압축 가스의 혼합가스를 이용하여 패턴을 형성한 경우 정밀하고 잔막이 남지 않으면서 하부막에 손상이 없는 것을 알 수 있다. 도 3b를 참조하면, 압착 가스를 이용하여 패턴을 형성한 경우 역시 정밀하고 잔막이 남지 않으면서 하부막에 손상이 없는 것을 알 수 있다.
이와 같이, 본 발명의 제 1 실시예에 따른 미세 패턴 형성방법은 2단계로 미세 패턴을 형성함으로써, 정밀한 미세 패턴의 형성이 가능하고, 잔막을 남기지 않으면서 하부막에 손상이 가해지는 것을 방지할 수 있다.
도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 미세 패턴 형성방법을 나타내는 단면도들이다.
도 4a를 참조하면, 먼저, 미세 패턴을 형성하기 위한 제 1 제거 공정을 수행한다. 구체적으로, 기판(20) 상에 하부막(22)을 형성하고, 하부막(22) 상에 패턴 물질(24)을 형성한다. 제거하고자 하는 특정 영역의 패턴 물질(24) 표면 위에 레이저빔(Laser 1)을 조사하여 레이저빔(Laser 1)의 에너지를 패턴 물질(24)에 흡수시킨다. 흡수된 에너지는 패턴 물질(24)이 유기 물질인 경우 원자간의 결합을 끊 고, 무기 물질인 경우 분자간의 인력을 약화시킴으로써 특정 영역의 패턴 물질(24) 상부만 제거한다.
도 4b 및 도 4c를 참조하면, 제 2 제거 공정을 수행하여 미세 패턴(24a)을 형성한다. 구체적으로, 특정 영역의 패턴 물질(24) 상부만 제거되고 남은 잔막(24b)에 레이저램프(Laser 2)를 화살표 방향으로 이동시키면서 잔막(24b) 표면 위에 에너지를 조사한다. 흡수된 에너지는 잔막(24b)이 유기 물질인 경우 원자간의 결합을 끊고, 무기 물질인 경우 분자간의 인력을 약화시킴으로써 특정 영역의 잔막(24b)만 제거한다. 이로써, 미세 패턴(24a)이 형성된다.
이때, 레이저램프(Laser 2)의 에너지 조사범위는 레이저빔(Laser 1)의 에너지 조사범위보다 낮고, 하부막(22)의 손상 없이 잔막(24b)이 제거되는 에너지로 조사된다. 레이저빔 및 레이저램프의 에너지 조사범위는 패턴 물질(24) 및 잔막(24b)의 두께 및 재료에 따라 설계 변경이 가능하다.
이와 같이, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 미세 패턴 형성방법은 제 1 단계로 레이저빔을 조사하고, 제 2 단계로 레이저램프로 에너지를 조사함으로써 도 5a 및 도 5b에 도시된 바와 같이 정밀한 미세 패턴의 형성이 가능하다. 더욱이, 본 발명의 제 2 실시예에 따른 미세 패턴 형성방법은 잔막을 남기지 않으면서 하부막에 손상이 가해지는 것을 방지할 수 있어 평판표시장치의 신뢰성 및 생산성을 향상시킬 수 있다.
이하, 본 발명에 따른 미세 패턴 형성방법을 이용한 액정표시장치의 제조방법에 대하여 살펴보기로 한다.
도 6a 내지 도 6d는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 미세 패턴 형성방법을 이용한 액정표시장치의 제조방법을 간략히 나타내는 단면도들이다.
도 6a를 참조하면, 컬러필터층(116), 블랙 매스트릭스(118), 공통 전극(112) 및 오버코트층(114)이 형성된 컬러필터 기판(110)을 준비한다. 이때, 컬러필터 기판(110)은 실영역(A)과 표시 영역(B)으로 정의되며, 표시 영역(B)의 컬러필터 기판(110) 상에 컬러필터층(116) 및 블랙 매트릭스(118)가 형성되어 있고, 실영역(A)의 컬러필터 기판(110) 상에 공통 전극(112) 및 오버코트층(114)이 형성되어 있다.
이후, 실영역(A)의 오버코트층(114) 표면 위에 레이저(Laser)를 조사하여 레이저의 에너지를 오버코트층(114)에 흡수시킨다. 이때, 레이저는 공통 전극(112)의 손상 없이 오버코트층(114)이 공통 전극(112)의 표면에서 들뜨는 정도의 에너지로 조사된다. 레이저의 에너지 조사범위는 패턴 물질(14)의 두께 및 재료에 따라 설계 변경이 가능하다.
도 6b 및 도 6c를 참조하면, 레이저의 에너지에 의하여 공통 전극(112) 표면에서 들떠 있는 특정 영역의 오버코트층(114)에 드라이 아이스(CO2) 또는 압축 가스(Carrier gas)를 분사하거나, 드라이아이스 및 압축 가스의 혼합가스를 분사한다. 이때, 드라이 아이스(CO2), 압축 가스(Carrier gas) 또는 드라이아이스 및 압축 가스의 혼합가스에 의하여 공통 전극(112)의 손상 없이 실영역(A)의 오버코트층(114)이 박리되어 제거되고 공통 전극(112)이 노출된다.
도 6d를 참조하면, 노출된 공통 전극(112)이 형성된 컬러필터 기판(110)과 표시 영역에 박막 트랜지스터 어레이(미도시)가 형성된 박막 트랜지스터 기판(120)을 실재(130)로 합착시킴으로써 액정표시장치를 제조한다. 이때, 실재(130)는 도전성 물질로 구성되어 노출된 공통 전극(112)과 접촉되고, 실재(130)를 통해 외부 전압이 공통 전극(112)에 공급된다.
도 7a 내지 도 7d는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 미세 패턴 형성방법을 이용한 액정표시장치의 제조방법을 간략히 나타내는 단면도들이다.
도 7a를 참조하면, 컬러필터층(216), 블랙 매스트릭스(218), 공통 전극(212) 및 오버코트층(214)이 형성된 컬러필터 기판(210)을 준비한다. 이때, 컬러필터 기판(210)은 실영역(A)과 표시 영역(B)으로 정의되며, 표시 영역(B)의 컬러필터 기판(210) 상에 컬러필터층(216) 및 블랙 매트릭스(218)가 형성되어 있고, 실영역(A)의 컬러필터 기판(210) 상에 공통 전극(212) 및 오버코트층(214)이 형성되어 있다.
이후, 실영역(A)의 오버코트층(214) 표면 위에 레이저빔(Laser 1)을 조사하여 레이저빔(Laser 1)의 에너지를 오버코트층(214)에 흡수시킨다. 이때, 레이저빔(Laser 1)에 의하여 실영역(A)의 오버코트층(214) 상부만 제거된다.
도 7b 및 도 7c를 참조하면, 실영역(A)의 오버코트층(214) 상부만 제거되고 남은 잔막(214b)에 레이저램프(Laser 2)를 화살표 방향으로 이동시키면서 잔막(214b) 표면 위에 에너지를 조사한다. 흡수된 에너지는 공통 전극(212)의 손상 없이 실영역(A)의 잔막(214b)만 제거하여 실영역(A)에 공통 전극(212)을 노출시킨다.
이때, 레이저램프(Laser 2)의 에너지 조사범위는 레이저빔(Laser 1)의 에너 지 조사범위보다 낮고, 공통 전극(212)의 손상 없이 오버코트층(214)의 잔막(214b)이 제거되는 에너지로 조사된다. 레이저빔 및 레이저램프의 에너지 조사범위는 오버코트층(214) 및 잔막(214b)의 두께 및 재료에 따라 설계 변경이 가능하다.
도 7d를 참조하면, 노출된 공통 전극(212)이 형성된 컬러필터 기판(210)과 표시 영역에 박막 트랜지스터 어레이(미도시)가 형성된 박막 트랜지스터 기판(220)을 실재(230)로 합착시킴으로써 액정표시장치를 제조한다. 이때, 실재(230)는 도전성 물질로 구성되어 노출된 공통 전극(212)과 접촉되고, 실재(230)를 통해 외부 전압이 공통 전극(212)에 공급된다.
위에서 상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 미세 패턴 형성방법을 이용한 액정표시장치의 제조방법은 2단계로 오버코트층을 제거함으로써, 실영역의 오버코트층을 정밀하게 제거할 수 있다. 더욱이, 액정표시장치의 제조방법은 공통 전극 위에 오버코트층의 잔막을 남기지 않으면서 공통 전극에 손상이 가해지는 것을 방지할 수 있어 액정표시장치의 신뢰성 및 생산성을 향상시킬 수 있다.
이상에서 설명한 본 발명은 상술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니고, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하다는 것이 본 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 있어 명백할 것이다.
도 1a 내지 도 1c는 종래 기술에 따른 문제점을 나타내는 샘사진들이다.
도 2a 내지 도 2d는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 미세 패턴 형성방법을 나타내는 단면도들이다.
도 3a 내지 도 3b는 도 2a 내지 도 2d에 도시된 미세 패턴 형성방법에 의하여 형성된 미세 패턴을 나타내는 샘사진들이다.
도 4a 내지 도 4c는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 미세 패턴 형성방법을 나타내는 단면도들이다.
도 5a 내지 도 5b는 도 4a 내지 도 4d에 도시된 미세 패턴 형성방법에 의하여 형성된 미세 패턴을 나타내는 샘사진들이다.
도 6a 내지 도 6d는 본 발명의 제 1 실시예에 따른 미세 패턴 형성방법을 이용한 액정표시장치의 제조방법을 간략히 나타내는 단면도들이다.
도 7a 내지 도 7d는 본 발명의 제 2 실시예에 따른 미세 패턴 형성방법을 이용한 액정표시장치의 제조방법을 간략히 나타내는 단면도들이다.
<< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 >>
10, 20: 기판 12, 22: 하부막
14, 24: 상부막 110, 210: 컬러필터 기판
112, 212: 공통 전극 114, 214: 오버코트층
116, 216: 컬러필터층 118, 218: 블랙 매트릭스
120, 220: 박막 트랜지스터 기판 130, 230: 실재

Claims (10)

  1. 기판 상에 하부막을 형성하고, 상기 하부막 상에 패턴 물질을 형성하는 단계;
    특정 영역의 상기 패턴 물질에 레이저를 조사하여 제 1 제거 공정을 수행하는 단계; 및
    상기 제 1 제거 공정 수행 후 상기 특정 영역의 패턴 물질에 제 2 제거 공정을 수행하여 미세 패턴을 형성하는 단계;를 포함하며,
    상기 제 1 제거 공정을 수행하는 단계는 상기 특정 영역의 상기 패턴 물질이 상기 하부막으로부터 들뜨게 하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 형성방법.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 제 2 제거 공정을 수행하는 단계는 들뜬 상기 패턴 물질에 드라이 아이스, 압축 가스 또는 드라이 아이스와 압축 가스를 혼합한 가스를 분사함으로써 상기 들뜬 패턴 물질을 제거하는 것을 특징으로 하는 미세 패턴 형성방법.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 레이저의 에너지 조사범위는 상기 하부막에 손상을 가하지 않는 정도의 조사범위인 것을 특징으로 하는 미세 패턴 형성방법.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 삭제
  8. 표시 영역과 실영역으로 정의되고, 공통 전극 및 오버코트층이 형성된 컬러필터 기판을 준비하는 단계;
    상기 실영역의 상기 오버코트층에 레이저를 조사하여 상기 오버코트층을 상기 공통 전극으로부터 들뜨게 하는 단계;
    들뜬 상기 오버코트층에 드라이 아이스, 압축 가스 또는 드라이 아이스와 압축 가스를 혼합한 가스를 분사함으로써 상기 들뜬 오버코트층을 제거하여 상기 실영역의 상기 공통 전극을 노출시키는 단계; 및
    노출된 상기 공통 전극이 형성된 상기 컬러필터 기판과 박막 트랜지스터 어레이가 형성된 박막 트랜지스터 기판을 실재를 통해 합착시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 제조방법.
  9. 삭제
  10. 삭제
KR1020090069415A 2009-07-29 2009-07-29 미세 패턴 형성방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법 KR101552989B1 (ko)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090069415A KR101552989B1 (ko) 2009-07-29 2009-07-29 미세 패턴 형성방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020090069415A KR101552989B1 (ko) 2009-07-29 2009-07-29 미세 패턴 형성방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20110011933A KR20110011933A (ko) 2011-02-09
KR101552989B1 true KR101552989B1 (ko) 2015-09-15

Family

ID=43771923

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020090069415A KR101552989B1 (ko) 2009-07-29 2009-07-29 미세 패턴 형성방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR101552989B1 (ko)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004066517A (ja) 2002-08-02 2004-03-04 Fuji Photo Film Co Ltd 感光材料のマーキング方法
JP2004205690A (ja) 2002-12-24 2004-07-22 Sony Corp ディスプレイの製造方法
JP2008242175A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Sumitomo Chemical Co Ltd 薄膜パターンの形成方法及びカラーフィルタ用ブラックマトリックス基板の製造方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004066517A (ja) 2002-08-02 2004-03-04 Fuji Photo Film Co Ltd 感光材料のマーキング方法
JP2004205690A (ja) 2002-12-24 2004-07-22 Sony Corp ディスプレイの製造方法
JP2008242175A (ja) * 2007-03-28 2008-10-09 Sumitomo Chemical Co Ltd 薄膜パターンの形成方法及びカラーフィルタ用ブラックマトリックス基板の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
KR20110011933A (ko) 2011-02-09

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US7491557B2 (en) Thin film etching method and method of fabricating liquid crystal display device using the same
TWI525375B (zh) 製造薄膜電子裝置之方法
KR20090110097A (ko) 캐리어 기판 및 이를 이용한 가요성 표시 장치의 제조 방법
JP2007512568A (ja) プラスチック基板を有するアクティブマトリクスディスプレイ及び他の電子装置
CN103325337A (zh) 平板显示装置及其制造方法
JP2010507829A (ja) プラスチック基板を有する電子装置
JP2013083704A (ja) マスク及びそれに使用するマスク用部材
KR20120024461A (ko) 전자 소자의 제조 방법 및 전자 소자
JP2008216958A (ja) 絶縁体からなるマザー基板（絶縁マザー基板）にアラインマークを形成することを含む液晶表示装置の製造方法。
US20060183036A1 (en) Method of forming film pattern, method of manufacturing device, electro-optical device, and electronic apparatus
KR20130061485A (ko) 경량 박형의 액정표시장치 제조방법
US9337217B2 (en) Display device with barrier layer disposed at pre-cutting position and manufacturing method thereof
KR20130112294A (ko) 레이저 커팅 방법
JP2004126276A (ja) 配線基板およびその製造方法
KR101552989B1 (ko) 미세 패턴 형성방법 및 이를 이용한 액정표시장치의 제조방법
JP4658029B2 (ja) パターン形成方法及びそれを用いた液晶表示素子の製造方法
JP2013065446A (ja) 薄膜パターン形成方法
JP2005209691A (ja) 透明電極パターニング方法及び液晶表示装置の製造方法
KR101794550B1 (ko) 지지기판과 그 제조방법 및 디스플레이 장치용 기판의 제조방법
CN107256874B (zh) 一种基板母板及其制作方法
KR101264676B1 (ko) 패턴 형성 방법 및 그를 이용한 액정표시소자 제조방법
CN107450217B (zh) 衬底基板、衬底基板的制造方法和显示面板的分割方法
JP2007187962A (ja) 液晶装置の製造方法
KR101641356B1 (ko) 액정 표시 패널의 제조 방법
KR101642446B1 (ko) 전기영동 표시장치 제조 방법

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20180816

Year of fee payment: 4