KR101107918B1 - 제전성 조성물, 그를 이용한 성형품, 도료, 제전성 피복물, 점착제 및 그 제조 방법 - Google Patents

제전성 조성물, 그를 이용한 성형품, 도료, 제전성 피복물, 점착제 및 그 제조 방법 Download PDF

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Abstract

[과제] 브리딩, 블루밍 및 이행 오염이 발생하지 않고, 습도에 의존하지 않고, 즉효성이 뛰어나고, 물성의 저하를 초래하지 않고, 또한 뛰어난 제전성(制電性)이 지속하는 제전성 조성물을 제공하는 것을 주요한 목적으로 한다.
[해결 수단] 본 발명의 제전성 조성물은, 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지를 포함하는 조성물 중에, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염이 분산되어 이루어지는 제전성 조성물에 관한 것이다. 상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 하기 일반식(1)로 표시되는 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물에 용해된 상태로 분산되어 있는 것을 특징으로 한다.
[화학식 1]
Figure 112009063483030-pat00001
(식 중, R1은 탄소수 1~12의 유기잔기를 나타내고, R2는 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 유기잔기를 나타낸다. n은 2~6의 정수를 나타낸다.)
제전성 조성물

Description

제전성 조성물, 그를 이용한 성형품, 도료, 제전성 피복물, 점착제 및 그 제조 방법{ANTISTATIC COMPOSITIOIN, AND MOLDINGS, COATING MATERIAL, ANTISTATIC COATING SUBSTANCE AND ADHESIVE THEREOF, AS WELL AS METHOD FOR PRODUCING THE SAME}
본 발명은, 일반적으로 대전 방지성이 뛰어난 제전성 조성물에 관한 것이며, 보다 특정적으로는 브리딩이나 블루밍을 일으키지 않도록 개량된 제전성 조성물에 관한 것이다. 이 발명은 또한, 그러한 제전성 조성물의 제조 방법에 관한 것이다. 이 발명은 또한, 그러한 제전성 조성물의 성질을 이용한 성형품 및 제전성 피복물에 관한 것이다. 이 발명은 또한, 그러한 제전성 조성물을 포함하는 도료, 제전성 피복물 및 점착제에 관한 것이다.
최근, 수지에 제전성을 부여하는 것이 중요하게 되어 있고, 이것을 달성하기 위해서, 종래부터, 계면활성제 등의 대전 방지제를 수지 성형품의 표면에 도포하거나, 대전 방지제를 수지 중에 반죽해 넣는 방법이 알려져 있다. 그러나, 전자의 방법으로는, 장시간 경과하면 제전성이 현저하게 저하하기 때문에, 지속성을 가지는 고제전성 수지로서, 실용화에는 제공하기 어렵다.
한편, 후자의 방법에서는, 대전 방지제와 수지와의 상용성이 나쁘고, 대전 방지제가 성형품의 표면에 브리딩이나 블루밍해 버려, 제전효과가 저하한다는 문제가 있다.
또한, 계면활성제 등의 대전 방지제는, 습도 의존성이 있고, 저습도하에서는, 제전효과가 실활하거나, 혹은, 수지를 성형한 후에, 대전 방지 효과가 발현하기까지 최저 1~3일 걸리고, 지효성(遲效性)이 라는 문제가 있다.
또한, 카본블랙이나 카본 파이버 등을 수지에 반죽해 넣는 방법이 제안되어 있다. 이 방법에 의하면, 대전 방지성이 뛰어나고, 대전 방지성에 지속성이 있는 수지 조성물이 얻어진다. 그러나, 이 방법에서는, 투명한 성형품이 얻어지지 않거나, 성형품의 색 선택이 제한되는 등의 문제가 있다.
본 발명자들은, 상기의 과제를 해결하는 방법으로서, 알칼리 금속 또는 알칼리토류 금속인 양이온, 및 이온 해리 가능한 양이온에 의해 구성되는 금속 염류를, -{0(AO)n}-기(A는 탄소수 2~4의 알킬렌기, n은 1~7의 정수를 나타낸다)를 가지고, 또한 모든 분자 말단이 CH3기 및/또는 CH2기인 지방산 에스테르에 용해한 용액을, 폴리아미드 수지, 폴리에테르에스테르아미드 수지, 지방족 폴리에스테르, 폴리젖산계 수지, 열가소성 엘라스토머 및 고무에 첨가한 알칼리 금속 또는 알칼리 토류 금속인 양이온, 및 이온 해리 가능한 양이온에 의해서 구성되는 금속 염류의 제전성 조성물을 제안했다(예를 들어, 특허 문헌 1 참조).
또한, 폴리우레탄으로 이루어지는 염 개질 정전기 산일형(散逸型) 중합 체(Salt-modified electrostatic dissipative polymers)의 제조 방법으로서, 리튬 비스(플루오로알킬설포닐)이미드를 보조 용제(co-solvents)로 용해하여 첨가하는 방법이 제안되어 있다(특허 문헌 2 참조).
[특허 문헌 1] 국제 공개 WOO1/79354 Al공보(특허 청구의 범위)
[특허 문헌 2] 미국 특허 6,140,405호(Claim1, 14 및 15)
그러나, 이 제전성 조성물에 첨가하는 금속염류의 종류에 따라서는, 제전성능이 충분하지 않은 경우가 있었다. 또한, 과염소산 등의 금속 염류를 사용하면, 이 제전성 조성물로 이루어지는 필름이나 시트를 이용하여 금속류를 포장하는 경우, 금속 표면을 부식, 발장(rust development) 혹은 오염된다는 결점이 있었다.
또한, 특허 문헌 2에 기재된 방법에서는, 금속 염류를 용해하기 위한 보조 용제(에틸렌카보네이트, 디메틸설폭사이드, 테트라메틸렌설폰, N-메틸-2-피롤리돈 등)가 제전성 조성물의 성형품의 표면에 브리딩이나 블루밍해 버려, 제품을 오염한다. 또한, 성형품의 표면을 불식하는 것 등에 의해 제전성이 저하하고, 대전 방지성의 내구성이 충분하지 않다. 특히, 고온 고습도의 분위기하에서는, 브리딩이나 블루밍이 촉진되기 때문에, 제전성의 저하가 현저하다는 문제점이 있다.
본 발명은, 상기 문제점을 감안하여 이루어진 것으로, 열안정성이 뛰어나고, 브리딩, 블루밍 및 이행 오염이 발생하지 않고, 습도에 의존하지 않고, 즉효성이 뛰어나고, 물성의 저하를 초래하지 않고, 또한, 뛰어난 제전성이 지속하는 제전성 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다.
이 발명의 다른 목적은, 그러한 제전성 조성물의 제조 방법을 제공하는 것에 있다.
이 발명의 또 다른 목적은, 그러한 제전성 조성물을 이용한 성형품, 도료, 제전성 피복물 및 점착제를 제공하는 것에 있다.
발명의 개요
본 발명에 관한 제전성 조성물은, 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지를 포함하는 조성물 중에, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염이 분산되어 이루어지는 제전성 조성물에 관한 것이다. 상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 하기 일반식(1)로 표시되는 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물에 용해된 상태로 분산되어 있는 것을 특징으로 한다.
[화학식 1]
Figure 112009063483030-pat00002
(식 중, R1은 탄소수 1~12의 유기잔기를 나타내고, R2는 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 유기잔기를 나타낸다. n은 2~6의 정수를 나타낸다.)
예를 들면, 상기 염으로서, 비스(플루오로알킬설포닐)이미드리튬 Li(CF3SO2)2N을 사용하고, 이것을 예를 들면 테트라에틸렌글리콜 디메틸에테르에 용해한 상태라고 하는 것은, 하기 식(2)에 나타낸 바와 같이, 극성기인 에테르기가 Li＋이온에 배위하고 있는 상태이며, 이 상태로 조성물 중에 분산하고 있다. Li＋이온은 에테르 산소에 둘러싸이고, (CF3SO2)2N-이온으로부터 분리되고, 벗겨진 상태로 되어, 제전성에 크게 기여한다.
특히, 리튬염과 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물과의 등몰 혼합물은, 루이스산·염기형의 착이온을 형성하고, 이 착체가 일종의 이온 액체로서 행동하고, 특히 크게 제전성에 기여한다.
[화학식 2]
Figure 112009063483030-pat00003
이 발명에 의하면, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염이, 조성물 중에서, 수지 혹은/및 엘라스토머의 물성을 유지하면서, 제전성을 발휘한다. 또한, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 조성물을 구성하는 분자와 상용성이 뛰어나므로, 브리딩, 블루밍, 및 이행 오염이 발생하지 않고, 습도에 의존하지 않고 , 즉효성이 뛰어나고, 또한 뛰어난 제전성이 지속하는 제전성 조성물을 얻을 수 있다.
본 명세서에서, 「분산」이란, 상기 염의 용액이, 조성물 중에 미액 상태로 되어 산재 혹은 용해되어 있는 상태를 말한다.
또한, 상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 상기 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물에 용해하기 쉽고, 농도를 진하게 할 수 있어, 이것을 분산시키는 것에 의해, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염을, 다량으로 또한 균일하게, 상기 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지 중에 취입시킬 수 있다.
상기 수지는, 폴리올레핀계 중합체, 폴리스티렌계 중합체, 폴리아미드계 중합체, 염화 비닐계 중합체, 폴리아세탈계 중합체, 폴리에스테르계 중합체, 폴리우레탄계 중합체, 폴리카보네이트계 중합체, 아크릴레이트/메타크릴레이트계 중합체, 폴리아크릴로니트릴계 중합체, 열가소성 엘라스토머계 중합체, 불포화 폴리에스테르계 중합체, 에폭시계 중합체, 페놀계 중합체, 디아릴계 중합체, 멜라민계 중합체, 액정 폴리에스테르계 중합체, 불소계 중합체, 폴리설폰계 중합체, 폴리페닐렌 에테르계 중합체, 폴리이미드계 중합체, 및 실리콘계 중합체로부터 선택된 1종이면 좋다. 이 중에서도 극성기를 가지는 것은 특히 바람직하게 사용된다.
상기 엘라스토머는, 천연 고무, 이소프렌 고무, 부타디엔 고무, 스티렌부타디엔 고무, 부틸 고무, 에틸렌프로필렌디엔 고무, 에틸렌프로필렌 고무, 클로로프렌 고무, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무, 클로로설폰화 폴리에틸렌, 에피클로로히드린 고무, 염소화 폴리에틸렌, 실리콘 고무, 불소 고무 및 우레탄 고무로부터 선택된 1종이면 좋다.
상기 점착성 수지로서는, 점착성을 가지는 (메타)아크릴계 중합체를 들 수 있다. 탄소수가 4~12의 아크릴계 모노머를 공중합에 제공하는 것이 바람직하다. 더욱 바람직하게는, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트이다.
상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온은, 비스(플루오로알킬설포닐)이미드이온, 트리스(플루오로알킬설포닐)메티드 이온 및 플루오로알킬설폰산 이온으로 이루어지는 군으로부터 선택된 음이온인 것이 바람직하다.
상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 알칼리 금속, 2A족 원소, 전이금속, 양성금속의 어느 하나의 양이온과, 상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온으로 이루어지는 염인 것이 바람직하다.
상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 특히 비스(플루오로알킬설포닐)이미드의 알칼리 금속염, 트리스(플루오로알킬설포닐)메티드의 알칼리 금속염 및 트리플루오로알킬설폰산의 알칼리 금속염으로 이루어지는 군으로부터 선택된 염인 것이 바람직하다.
본 명세서에서, 중합성 화합물이란, 중합하는 관능기를 가지는 화합물을 말하고, 예를 들면 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기, 비닐기 등을 가지는 중합성 화합물을 들 수 있다. 태양으로서는, 모노머, 올리고머, 혹은 활성 에너지선 경화성 관능기를 분자 내에 3개 이상 가지는 것을 들 수 있다.
모노머로서는, 예를 들면, 단관능성의 것: 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 2-에톡시에틸(메타)아크릴레이트, 2-에톡시에톡시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 폴리카프로락톤 변성 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 디시클로펜테닐옥시에틸(메타)아크릴레이트, N-비닐피롤리돈, 아크릴로일모르폴린, 이소보닐(메타)아크릴레이트, 아세트산비닐, 스티렌 등, 2관능성기의 것: 네오펜틸글리콜디(메타)아크릴레이트, 1,9-노난디올디(메타)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메타)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메타)아크릴레이트, 디에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 글리콜디(메타)아크릴레이트, 디 프로필렌글리콜디(메타)아크릴레이트, 프로필렌 등, 다른 관능기의 것: 트리메티롤프로판트리(메타)아크릴레이트, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 트리메티롤프로판의 3몰 프로필렌옥사이드 부가물의 트리(메타)아크릴레이트, 트리메틸프로판의 6몰 에틸렌옥사이드 부가물의 트리(메타)아크릴레이트, 글리세린프로폭시트리(메타)아크릴레이트, 디펜탄에리스리톨헥사(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨의 카프로락톤 부가물의 헥사(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
점착성을 확보한다는 점에서는, 탄소수가 4~12의 아크릴 모노머를 공중합하는 것이 바람직하다.
또한, 활성화 에너지선 경화성의 (메타)아크릴레이트계 화합물로서, (메타)아크릴산 2-비닐옥시에틸, (메타)아크릴산 3-비닐옥시프로필, (메타)아크릴산 1-메틸-2-비닐옥시에틸, (메타)아크릴산 2-비닐옥시프로필, (메타)아크릴산 4-비닐옥시부틸, (메타)아크릴산 4-비닐옥시시클로헥실, (메타)아크릴산 5-비닐옥시벤틸, (메타)아크릴산 6-비닐옥시시클로헥실, (메타)아크릴산 4-비닐옥시메틸시클로헥실, (메타)아크릴산 p-비닐옥시메틸페닐메틸, (메타)아크릴산 2-(비닐옥시에톡시)에틸, (메타)아크릴산 2-(비닐옥시에톡시에톡시)에틸, (메타)아크릴산 2-(비닐옥시에톡시에톡시에톡시)에틸 등을 들 수 있다.
올리고머로서는, 예를 들면, 불포화 폴리에스테르, 폴리에스테르(메타)아크릴레이트, 폴리에테르(메타)아크릴레이트, 아크릴(메타)아크릴레이트, 우레탄(메타)아크릴레이트, 에폭시(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 폴리에틸렌글리콜의 모노 또는 디(메타)아크릴레이트는 바람직하게 사용된다. 그 중에 서도 옥시에틸렌 단위를 적어도 6개 가지는 것이 특히 바람직하게 사용된다. 폴리에틸렌글리콜의 모노 또는 디(메타)아크릴레이트는 대전 방지성을 가지고 있어, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염과 상승하여 그 효과를 높인다.
3 이상 관능기를 가지는 올리고머로서는, 예를 들면, 디이소시아네이트: 헥사메틸렌디이소시아네이트, 이소포론디시아네이트, 톨릴렌디이소시아네이트, 나프탈렌디이소시아네이트, 디페닐메탄디이소시아네이트, 크실렌디이소시아네이트 디시클로헥실메탄디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, 리진 디이소시아네이트, 노르보르난디이소시아네이트 등과, 수산기 함유 (메타)아크릴레이트: 2-히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 2-히드록시프로필(메타)아크릴레이트 등의 단관능의 것, 펜타에리스리톨트리(메타)아크릴레이트, 디펜타에리스리톨펜타(메타)아크릴레이트 등의 3관능 이상의 것을 반응하여 이루어지는 것 등을 들 수 있다.
상기 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물로서는, 트리에틸렌글리콜 디메틸에테르, 테트라에틸렌글리콜 디메틸에테르, 헵타에틸렌글리콜 디메틸에테르, 헥사에틸렌글리콜 디메틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 테트라에틸렌글리콜 모노메틸에테르, (도데실옥시)트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르 및 (도데실옥시)테트라에틸렌글리콜 모노메틸에테르 등을 들 수 있다. 이 중에서도, 트리에틸렌글리콜 디메틸에테르, 테트라에틸렌글리콜 디메틸에테르는 특히 바람직하다.
상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 상기 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물 100중량부에 대하여, 0.1중량부 이상 200중량 부 이하의 비율로, 상기 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물에 용해되고, 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지 중에 분산되는 것이 바람직하다.
상기 조성물 중의 모든 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지 100중량부에 대하여, 상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 0.01중량부 이상 30중량부 이하의 비율로 배합되는 것이 바람직하다.
이와 같이 규제하는 것은, 상기 음이온을 갖춘 염의 배합량이, 0.01중량부 미만이면, 제전성이 충분히 발휘되지 않기 때문이다. 또한, 상기 음이온을 갖춘 염의 배합량이, 30중량부를 초과하면, 제전성 부여 효과가 포화하므로, 고비용을 초래 한다는 문제가 있기 때문이다.
상기 조성물은, 중합체형 대전 방지제를 더 포함해도 좋다. 본 발명의 조성물에 중합체형 대전 방지제를 포함하면, 상기 음이온을 갖춘 염을 안정화할 수 있는 것이 발견되었다. 또한, 상기 음이온을 갖춘 염은 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물에 용해된 상태로 분산되므로, 이 염은 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물과 친화성을 가지는 중합체형 대전 방지제가 존재하는 곳에, 모여, 양자의 친화력에 의해 안정화한 것으로 생각된다. 이러한 중합체형 대전 방지제로서는, 폴리에테르 블록 폴리올레핀 공중합체, 폴리옥시알킬렌계 공중합체 또는 에틸렌옥사이드 프로필렌옥사이드 알릴글리시딜 공중합체를 들 수 있다.
상기 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지 100중량부에 대하여, 상기 중합체형 대전 방지제를, 0.1중량부 이상 65중량부 이하의 비율로 함유 하고 있으면 좋다.
이와 같이 규제하는 것은, 상기 중합체형 대전 방지제의 배합량이 0.1중량부 미만이면, 제전성이 충분히 발휘되지 않기 때문이다. 한편, 상기 중합체형 대전 방지제의 배합량이 65중량부를 초과하면, 제전성 부여 효과가 포화하므로, 고비용을 초래한다는 문제가 있기 때문이다. 또한, 조성물의 물성이 소실되는 것이 있기 때문이다.
이 발명의 다른 국면에 따른 제조 방법은, 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지를 포함하는 조성물 중에, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염이 분산되어 이루어지는 제전성 조성물의 제조 방법에 관한 것이다. 우선, 상기 일반식(1)로 표시되는 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물 중에, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염을 용해하여 이루어지는 염 용액을 준비한다. 상기 염 용액과, 상기 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지를 한 번에, 또는 분할하여 배합하고, 혼련하여, 조성물을 형성한다.
이 방법에 의하면, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 중합성 화합물, 수지 또는 엘라스토머에 균일하게 친화하는 것이 발견되었다. 브리딩, 블루밍 및 이행 오염이 발생하지 않고, 습도에 의존하지 않고 , 즉효성이 뛰어나고, 물성의 저하를 초래하지 않고, 또한 뛰어난 제전성이 지속하는 제전성 조성물이 얻어졌다.
이 발명의 또 다른 국면에 따르는 제조 방법은, 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지를 포함하는 조성물 중에, 플루오로기 및 설포닐기를 가지 는 음이온을 갖춘 염이 분산되어 이루어지는 제전성 조성물의 제조 방법에 관한 것이다. 우선, 상기 일반식(1)로 표시되는 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물 중에, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염을 용해하여 이루어지는 염 용액을 준비한다. 상기 염 용액(제 1성분)과, 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지(제 2성분)를 혼련하여, 조성물을 형성한다. 상기 조성물을, 또한 상기 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지(제 2성분)와 혼련 혹은 블렌드한다.
상기 제 1성분과 제 2성분의 혼련에 따라, 상기 염의 용액이, 조성물 중에 미액적상(微液滴狀)으로 되어 산재 혹은 용해한다. 그래서, 염이 조성물 중에 용해한 상태에서, 또한 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지(제 2성분)와 혼련 혹은 블렌드하기 때문에, 염은, 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지(제 2성분)에, 더욱 균일하게 친화한 상태로 분산된다.
본 발명은, 상기 제전성 조성물을 포함하는 재료를 성형하여 이루어지는 여러 가지의 성형품에 관한 것이다. 또한, 본 발명의 제전성 조성물을 사용하여, 필름, 도료, 액정 패널용 컬러 레지스트 조성물 등을 얻을 수 있다. 또한, 본 발명의 제전성 조성물을 성형 표면에서 경화시키고, 제전성의 피복물로 할 수도 있다. 상기 성형품은, 액정 패널의 컬러 필터를 포함하는 것으로 한다.
또한, 본 발명의 제전성 점착제는, 각종 디스플레이, 편광판 등의 광학 부재, 첩합(貼合)용의 접착제나 표면 보호 점착 필름용의 점착제로서, 적합한 투명성 이 뛰어나고, 착색도 거의 없고, 재박리성이 뛰어나고, 박리 시의 박리 대전이 적 은 대전 방지 점착제를 제공한다.
본 발명에서는, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염을, 상기 일반식(1)로 표시되는 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물 중에 용해하고, 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지를 포함하는 조성물 중에 첨가·배합한다. 본 발명에 사용하는 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지를 포함하는 조성물 중에, 균일하게 친화한다. 이러한 음이온을 갖춘 염은, 높은 도전율, 높은 내열성, 불연성을 가지므로, 제전성·열안정성이 뛰어나고, 금속을 부식하지 않고, 습도 등의 환경에 의하지 않는 제전성 조성물을 얻을 수 있다.
발명을 실시하기 위한 형태
이하, 본 발명의 바람직한 실시의 형태를 설명한다.
본 발명에 사용되는 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 비스(플루오로알킬설포닐)이미드 이온, 트리스(플루오로알킬설포닐)메티드 이온, 플루오로알킬설폰산 이온으로 이루어지는 군 내의 적어도 하나로부터 선택된 음이온과, 알칼리 금속, 2A족 원소, 전이금속, 양성 금속으로 이루어지는 군의 적어도 하나로부터 선택된 양이온으로 이루어진다.
상기 음이온 및 양이온에 의해 구성되는 염은 많이 있지만, 그 중에서도, 비스(플루오로알킬설포닐)이미드 이온, 트리스(플루오로알킬설포닐)메티드 이온, 플 루오로알킬설폰산 이온으로 이루어지고, 구체적으로는, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드리튬 Li(CF3SO2)2N, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드칼륨 K(CF3SO2)2N, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드나트륨 Na(CF3SO2)2N, 트리스(트리플루오로메탄설포닐)메티드리튬 Li(CF3SO2)3C, 트리스(트리플루오로메탄설포닐)메티드칼륨 K(CF3SO2)3C, 트리스(트리플루오로메탄설포닐)메티드나트륨 Na(CF3SO2)3C, 트리플루오로메탄설폰산리튬 Li(CF3SO3), 트리플루오로메탄설폰산칼륨K(CF3SO3), 트리플루오로메탄설폰산나트륨 Na(CF3SO3)가 바람직하다. 그 중에서도, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드리튬, 및 트리스(트리플루오로메탄설포닐)메티드리튬, 트리플루오로메탄설폰산리튬을 들 수 있다. 특히, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드리튬 및 트리플루오로메탄설폰산리튬이 바람직하고, 이들을 소량 첨가하는 것만으로, 상기 효과가 더욱 발휘되게 된다.
［ 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 및 점착성 수지］
본 발명의 조성물에 사용되는 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 및 점착성 수지는, 특별히 제한이 없고, 공지의 것을 사용할 수 있다.
사용되는 수지로서는, 예를 들면, 폴리올레핀계 중합체, 폴리스티렌계 중합체, 폴리아미드계 중합체, 염화 비닐계 중합체, 폴리아세탈계 중합체, 폴리에스테르계 중합체, 폴리우레탄계 중합체, 폴리카보네이트계 중합체, 아크릴레이트/메타크릴레이트계 중합체, 폴리아크릴로니트릴계 중합체, 열가소성 엘라스토머계 중합 체, 불포화 폴리에스테르계 중합체, 에폭시계 중합체, 페놀계 중합체, 디아릴계 중합체, 멜라민계 중합체, 액정 폴리에스테르계 중합체, 불소계 중합체, 폴리설폰계 중합체, 폴리페닐렌에테르계 중합체, 폴리이미드계 중합체, 및 실리콘계 중합체 등을 들 수 있다.
사용되는 엘라스토머로서는, 예를 들면, 천연 고무, 이소프렌 고무, 부타디엔 고무, 스티렌부타디엔 고무, 부틸 고무, 에틸렌프로필렌디엔 고무, 에틸렌프로필렌 고무, 클로로프렌 고무, 아크릴로니트릴-부타디엔 고무, 클로로설폰화 폴리에틸렌, 에피클로로히드린 고무, 염소화 폴리에틸렌, 실리콘 고무, 불소 고무, 및 우레탄 고무 등을 들 수 있다.
사용되는 중합성 화합물로서는, 예를 들면 아크릴레이트기, 메타크릴레이트기, 비닐기 등을 가지는 중합성 화합물을 들 수 있다. 태양으로서는, 모노머, 올리고머, 혹은 활성 에너지선 경화성 관능기를 분자 내에 3개 이상 가지는 것을 들 수 있다.
또한, 이들 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 및 점착성 수지는, 1종류로 한정되지 않고, 복수의 중합성 화합물, 수지 및 엘라스토머를 조합하여 사용해도 좋다.
［배합 비율］
본 발명의 제전성 조성물은, 중합성 화합물, 수지 또는 엘라스토머 100중량부에 대하여, 상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염을, 0.01중량부 이상 30중량부 이하, 더욱 바람직하게는, 0.1중량부 이상 15 중량부 이하 포 함한다.
［중합체형 대전 방지제］
본 발명의 제전성 조성물은, 중합성 화합물, 수지 또는 엘라스토머와 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온의 2 성분이어도, 충분히 효과를 나타낸다. 그러나, 또한, 중합체형 대전 방지제를 포함하는 것으로, 뛰어난 제전성을 발휘하는 것이 발견되었다. 즉, 상기 음이온을 갖춘 염은, 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물 중에 용해된 상태로 분산되기 때문에, 이 용해한 염은, 친화성을 가지는 중합형 대전 방지제가 존재하는데에 모여, 국재화하여, 2종류의 대전 방지제의 상승효과에 의해서 제전성을 강하게 발휘한 것으로 생각된다.
사용할 수 있는 중합형 대전 방지제로서는, 폴리에테르 블록 폴리올레핀계 공중합체, 폴리옥시알킬렌계 공중합체, 폴리에테르에스테르아미드계 중합체 또는 에틸렌옥사이드-프로필렌옥사이드-알릴글리시딜계 공중합체를 들 수 있다.
이러한 중합체형 대전 방지제는, 상기 중합성 화합물, 수지 또는 엘라스토머 100중량부에 대하여, 0.05중량부 이상 65중량부 이하, 바람직하게는, 0.1중량부 이상 50중량부 이하의 비율로 함유시키면 좋다.
［다른 첨가제］
본 발명의 제전성 조성물에는, 또한 산화 방지제, 열안정제, 자외선 흡수제, 난연제, 난연조제, 착색제, 안료, 항균·항곰팡이제, 내광제, 가소제, 점착 부여제, 분산제, 소포제, 경화 촉매, 경화제, 레벨링제, 발수제, 커플링제, 필러, 가류제, 킬레이트제, 가류 촉진제 등의 공지의 첨가제를 필요에 따라 첨가할 수 있다.
［제조 방법］
본 발명의 조성물 및 성형품은, 예를 들면, 이하와 같이 하여 제조된다.
우선, 하기 일반식(1)로 표시되는 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물 중에, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염을 용해시킨다. 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물 100중량부에 대하여, 0.1중량부 이상 200중량부의 비율이 되도록 용해한다.
[화학식 1]
Figure 112009063483030-pat00004
(식 중, R1은 탄소수 1~12의 유기잔기를 나타내고, R2는 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 유기잔기를 나타낸다. n은 2~6의 정수를 나타낸다.)
수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지에, 상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염을 용해시킨 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물을 첨가하여, 제전성 조성물을 제조하기 위해서는, 양성분의 소정의 양을 공지의 방법을 사용하여 혼합하면 좋다. 예를 들면, 헨셸 믹서, 리본 블라인더, 슈퍼 믹서, 텀블러 등으로 드라이 블렌드를 실시할 수도 있다. 또한, 단축 또는 2축 압출기, 반바리 믹서, 플라스트밀, 코니더, 롤 등으로 용융 혼합을 실시해도 좋다. 필요에 따라서, 질소 등의 불활성 가스 분위기하에서 실시할 수도 있다.
상기 제법에 따라 얻어진 폴리머 및/또는 수지 또는 고무 배합물은, 압축 성 형, 트랜스퍼 성형, 압출 성형, 취입 성형, 카렌더 가공, 주형, 페이스트 가공, 분말화, 반응 성형, 열 성형, 블로우 성형, 회전 성형, 진공 성형, 캐스트 성형, 가스 어시스트 성형 등의 성형에 사용되는 공지의 방법에 따라 성형할 수 있다. 또한, 본 발명의 제전성 조성물을, 제전성 도료, 제전성 점착제로서도 사용할 수 있다.
본 발명의 성형품은, 가전기기 부품, 전자기기 부품, 전자재료 제조기기, 정보사무기기 부품, 통신 기기, 하우징 부품, 광학 기계 부재, 자동차용 부품, 공업용 부재, 가정용 잡화품, 포장 유통 부재 등, 장기간 유지하여 높은 제전성을 필요로 하는 제품, 그 외의 각종 부품, 팩키지, 튜브, 피복, 용기 관계 등의 정전기 대책 관계에 적합하게 사용할 수 있다.
이하에 실시예에 근거하여, 본 발명의 내용을 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 실시예에 의해 조금도 한정되는 것은 아니다.
이하의 실시예, 비교예에 있어서, 표면 저항율 및 체적 저항율의 측정은, URS프로브(미쓰비시유화(주)사 제, 하이레스타UP(등록상표))를 사용하여, JIS K 9611에 준하여 실시하고, 인가 전압은, 100볼트, 500볼트로 측정했다.
또한, 환경 의존성은, 다음 식(1)에 따라 산출했다.
△Log10ρv=Log10ρv(10℃, 상대습도 15%)-Log10ρv(32.50℃, 상대습도 90%)…(1)
여기서, ρ는, 체적 저항율을 나타낸다.
브리드의 평가는, 다음의 방법에 따라 실시하였다.
폭 6cm×길이 6cm×두께 0.3cm의 필름 게이트식의 시험편을 작성하고, 온도 40℃, 상대습도 90%의 분위기하에서 7일간 방치하고, 7일간 경과 후의 시험편 상태를 하기의 표준에 따라, 육안으로 평가했다. 이하에 나타내는 표에서, ◎는 브리드성이 전혀 확인되지 않은 경우를 나타낸다.
( 실시예 1~5)
폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물 100중량부에, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드리튬 Li(CF3SO2)2N 또는 트리플루오로메탄설폰산리튬 Li(CF3SO3)를 소정량 첨가하고 휘저어 섞어 용해시켜, 단일상의 용액을 얻었다. 뒤이어, 표 1에 나타낸 바와 같이, 수지 및/또는 엘라스토머를 100중량부에 대하여 고분자형 대전 방지제를 소정의 중량부를 가하고, 또한 상기 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물 중을 소정량 배합했다. 다음에, 수지 및/또는 엘라스토머의 가공 온도로 설정한 니더를 사용하여, 혼련한 후, 사출 성형하여, 폭 6cm×길이 6cm×두께 0.3cm의 실시예 1~5의 시험편을 작성했다.
( 비교예 1~5)
상기 실시예에 있어서, 상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염의 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물 용액을 첨가하지 않았던 것 이외에는, 실시예 1~5와 동일하게 하여, 비교예 1~5의 시험편을 작성했다.
(실험 1)
실시예 1~5의 시험편과 비교예 1~5의 시험편을 사용하여, JIS K 6911에 준하여, 표면 저항율(Ω/sq)을 측정했다. 결과를 표 1에 나타낸다.
[표 1]
Figure 112009063483030-pat00005
표 1중의 약어는 다음과 같다.
ABS: 아크릴로니트릴-부타디엔-스티렌 3원계 공중합체(토오레(주)사 제 토요락(등록상표) 600)
PP: 폴리프로필렌(일본폴리켐(주)사 제 노바텍(등록상표) PP BC6)
TPU: 열가소성 폴리우레탄 엘라스토머(대일본잉크화학공업(주)판덱스(등록상 표) T-1190)
NBR: 아크릴로니트릴-부타디엔 고무(제이에스알(주) 제, N520)
PMMA: 폴리메틸메타크릴레이트(미츠비시레이욘(주) 제, IRK 304)
G3: 트리에틸렌글리콜 디메틸에테르
G4: 테트라에틸렌글리콜 디메틸에테르
G5: 헵타에틸렌글리콜디메틸에테르
G4M: 테트라에틸렌글리콜 모노메틸에테르
DG4M: (도데실옥시)테트라에틸렌글리콜 모노메틸에테르
R: 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드리튬 Li(CF3SO2)2N(모리타화학공업(주) 제, LiTFSI)
T: 트리플루오로메탄설폰산리튬 Li(CF3SO3)(모리타화학공업(주) 제, LiTFS)
M: 트리스(트리플루오로메탄설포닐)메티드리튬 Li(CF3SO2)3C(미국 특허 제 5554664호 공보에 준하여 합성)
A: 폴리에테르에스테르아미드(산요화성공업(주) 제 페레스탓(등록상표) 6321)
B: 폴리에테르폴리올레핀 블록 폴리머(산요화성공업(주) 제 페레스탓(등록상표) 230)
C: 에틸렌옥사이드-프로필렌옥사이드-알릴글리시딜에테르 공중합체(일본제온(주) 제, 제오스판(등록상표) 8030)
( 실시예 6)
수소 첨가 스티렌계 열가소성 엘라스토머(쿠라레(주)사 제, 셉톤(등록상표) 2104) 20부, 폴리프로필렌(일본폴리켐(주)사 제, 노바텍(등록상표) PPBC6) 15부, 오일 35부를 포함하는 혼합액 중에, 고무분이 65부인 유전 EPDM을 포함하는 조성물을 동적 가교에 의해 분산시켰다. 그 후, 이 혼합액에, 중합형 대전 방지제(산요화성(주)사 제, 페레스탓(등록상표) 300)에,미리 테트라에틸렌글리콜 디메틸에테르(G4) 100중량부에 대하여 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드리튬(모리타화학공업(주) 제, LiTFSI)을 90중량부 용해한 G4용액 10부를 혼련한 것을 10부 첨가하고, 재차 혼련기로 5분간 혼련했다. 이를 또한, 수지 압출기에서 가열하면서, 롤러상으로 성형했다. 얻어진 시료의 체적 저항율은, 5×107Ω·cm이었다. 상기 (1)식을 사용하여, 환경 의존성을 산출한 바, 환경 의존성은, 0.6이었다. 이 성형품의 표면에는, 브리드물의 존재는 확인되지 않았다. 롤러상의 성형물에, 1KV의 정전압을 연속하여 100시간 인가한 후의 체적 저항율은, 8×107Ω·cm였다.
( 비교예 6)
실시예 6에 있어서, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드리튬 대신에, 과염소산 리튬을 5중량부, 직접, 첨가, 혼련한 것 이외에는, 실시예 6과 동일하게 하여 비교예 6의 롤러상의 성형체를 얻었다. 환경 의존성은, 2.0이었다. 얻어진 시료의 체적 저항은, 5×1010Ωㆍcm였다. 롤러상의 성형물에, 1KV의 정전압을 연속하여 100 시간 인가한 후의 체적 저항율은, 9×1011Ωㆍcm였다.
( 실시예 7)
에폭시아크릴레이트 5부, 트리메티롤프로판 트리아크릴레이트 25부, 네오펜틸글리콜 디아크릴레이트 20부, 폴리에틸렌글리콜 디아크릴레이트(옥시에틸렌 단위 14) 50부의 혼합물에, 미리 트리에틸렌글리콜 디메틸에테르 100중량부에 대하여 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드리튬(LiTFSI)을 56.3중량부(등몰 혼합물)를 용해한 용액 1부를 첨가하고, 또한 2-메틸-2-히드록시프로필페논 4부를 첨가한 것을, 디스크 기판상에 스피너에 의해 도포했다. 뒤어어, 자외선 경화시키고, 도료용 제전성 수지 피복체를 얻었다. 이 피복체의 인가 전압 8kV 시의 대전 감쇠를 측정했다. 대전압 400V에서 반감기는, 0.3초 이하였다.
( 비교예 7)
실시예 7에 있어서, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드리튬 0.5중량부를 직접 첨가한 것 이외에는, 실시예 7과 동일하게 하여 비교예 7의 도료용 제전성 수지 피복체를 얻었다. 이 피복체의 인가 전압 8kV 시의, 대전압 감쇠를 측정했다. 대전압 3000V에서 반감기는, 10초 이상이었다.
( 실시예 8)
비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드리튬을 98중량부를 용해한 테트라에틸렌글리콜 디메틸에테르 1중량부와, 아크릴산 2-(비닐옥시에톡시)에틸 99중량부와, Megafac(등록상표) 178RM(대일본잉크화학공업(주)사 제, 발수제) 3중량부를 혼합하 고, 뒤어어, 벤조페논과 메틸페닐글리옥시레이트를 각각 4중량부를 첨가한 액상 조성물을 얻었다. 이 액상 조성물을 폴리카보네이트 수지의 사출 성형판(50mm×50mm×3mm)에 스프레이 도포한 후, 열풍 건조기(60℃)로 3분간 건조했다. 이 성형판에, 고압 수은등을 사용하여 적산 광량 1500J/㎠(조사 시간 10초)로, 공기 중에서 자외선을 조사했다. 경화 피막 7㎛의 두께를 가지는 투명한 폴리카보네이트 수지판을 얻었다. 이 수지판의 표면 저항율은, 5×1010Ω/sq였다. 이 수지판을 습도 70%, 온도 80℃의 조건하에 1시간 방치한 후, 표면 저항율을 측정한 결과, 7×1010Ω/sq였다.
( 비교예 8)
실시예 8에 있어서, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드리튬 대신에 과염소산 바륨 20중량부를 용해한 것 이외에는, 실시예 8과 동일하게 하여 경화 피막 8㎛의 투명한 폴리카보네이트 수지판을 얻었다. 이 수지판의 표면 저항율은, 2×1011Ω/sq였다. 이 수지판을 습도 70%, 온도 80℃의 조건하에 1시간 방치한 후, 표면 저항율을 측정한 결과, 1×1013Ω/sq 이상이었다.
( 실시예 9)
(아크릴계 공중합체의 제조)
질소 가스가 환류되어, 온도 조절이 용이하도록 냉각 장치를 부착한 반응기(1L)에 n-부틸아크릴레이트 88.0중량부, 에틸아크릴레이트 10.0중량부 및 히드록 시에틸메타아크릴레이트 2.0중량부로 이루어져 있는 단량체 혼합물을 투입한 후, 용제에 에틸 아세테이트 100중량부를 투입했다. 그 후, 산소를 제거하기 위해서 질소 가스를 일시 퍼지한 후, 62℃로 유지했다. 상기 혼합물을 균일하게 한 후, 반응 개시제로서 에틸아세테이트에 50% 농도로 희석시킨 아조비스이소부티로니트닐 0.03중량부를 투입하고, 9시간 반응시켜 아크릴계 공중합체를 제조했다.
(배합 및 코팅 과정)
상기 제조한 아크릴계 공중합체 100중량부, 가교제로서 이소시아네이트계 트리메티롤프로판의 톨릴렌디이소시아네이트 부가물 0.6중량부, 가소제로서 테트라에틸렌글리콜디벤조네이트 7중량부와 폴리에틸렌글리콜디-2-에틸헥소네이트 0.1중량부, 및 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드리튬을 61.7중량부(등몰 혼합물)를 용해한 트리에틸렌글리콜 디메틸에테르 1중량부를 투입하고, 적절한 농도로 희석하여, 균일하게 혼합한 후, 박리지에 코팅하여 건조한 후, 25㎛의 균일한 점착층을 제조했다. 상기 제조한 점착층을 185㎛의 막두께의 요오드계 편광판에 점착 가공했다. 작성한 점착 시트의 박리 대전압(박리 각도 150도, 박리 속도 10m/min, 카스가전기사 제 KSD-0103 사용)을 측정한 결과, 0.OkV였다. 180°필 점착력은, 3.2N/25mm였다.
또한, 상기 실시예에서는 폴리알킬렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물로서 일반식(1)로 표시되는 폴리에틸렌글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물을 예시했지만, 폴리프로필렌 글리콜(디/모노)알킬에테르 화합물이어도, 상당한 효과를 나타낸다.
이번 개시된 실시예는 모든 점에서 예시로서 제한적인 것은 아니라고 생각되 어야만 한다. 본 발명의 범위는 상기한 설명이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 나타나고, 특허 청구의 범위와 균등의 의미 및 범위 내에서의 모든 변경이 포함되는 것이 의도된다.
본 발명에 의하면, 열안정성이 뛰어나고, 브리딩, 블루밍 및 이행 오염이 발생하지 않고, 습도에 의존하지 않고, 즉효성이 뛰어나고, 물성의 저하를 초래하지 않고, 또한, 뛰어난 제전성이 지속하는 제전성 조성물을 얻을 수 있다.

Claims (17)

  1. 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지를 포함하는 조성물 중에, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염이 분산되어 이루어지는 제전성 조성물에 있어서,
    상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 하기 일반식(1)로 표시되는 폴리알킬렌글리콜(디 또는 모노)알킬에테르 화합물에 용해된 상태로 분산되어 있고,
    상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염과 상기 폴리알킬렌글리콜(디 또는 모노)알킬에테르 화합물은 등몰 포함되어 있는 것을 특징으로 하는 제전성 조성물.
    [화학식 1]
    Figure 112011046471604-pat00006
    (식 중, R1은 탄소수 1~12의 알킬기를 나타내고, R2는 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다. n은 3~6의 정수를 나타낸다.)
  2. 제 1항에 있어서, 상기 일반식(1)에 있어서, 상기 정수 n은 3 또는 4인 제전성 조성물.
  3. 제 1항에 있어서, 상기 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지 100중량부에 대하여, 상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 0.01중량부 이상 30중량부 이하 포함되는 제전성 조성물.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온은, 비스(플루오로알킬설포닐)이미드 이온, 트리스(플루오로알킬설포닐)메티드 이온 및 플루오로알킬설폰산 이온으로 이루어지는 군으로부터 선택된 음이온인 제전성 조성물.
  5. 제 1항에 있어서, 상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 알칼리 금속, 2A족 원소, 전이 금속, 양성 금속의 어느 하나의 양이온과, 상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온으로 이루어지는 염인 제전성 조성물.
  6. 제 1항에 있어서, 상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염이, 비스(플루오로알킬설포닐)이미드의 알칼리 금속염, 트리스(플루오로알킬설포닐)메티드의 알칼리 금속염 및 트리플루오로알킬설폰산의 알칼리 금속염으로 이루어지는 군으로부터 선택된 염인 제전성 조성물.
  7. 제 1항에 있어서, 상기 폴리알킬렌글리콜(디 또는 모노)알킬에테르 화합물은, 트리에틸렌글리콜 디메틸에테르, 테트라에틸렌글리콜 디메틸에테르, 헵타에틸렌글리콜 디메틸에테르, 헥사에틸렌글리콜 디메틸에테르, 트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르, 테트라에틸렌글리콜 모노메틸에테르, (도데실옥시)트리에틸렌글리콜 모노메틸에테르 및 (도데실옥시)테트라에틸렌글리콜 모노메틸에테르로 이루어지는 군으로부터 선택되는, 제전성 조성물.
  8. 제 1항에 있어서, 중합체형 대전 방지제가 더 배합되어 있는 제전성 조성물.
  9. 제 8항에 있어서, 상기 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지 100중량부에 대하여, 상기 중합체형 대전 방지제가 0.05중량부 이상 65중량부 이하 배합되어 있는 것을 특징으로 하는 제전성 조성물.
  10. 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지를 포함하는 조성물 중에, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염이 분산되어 이루어지는 제전성 조성물의 제조 방법으로서,
    하기 일반식(1)로 표시되는 폴리알킬렌글리콜(디 또는 모노)알킬에테르 화합물 중에, 상기 화합물과 등몰의, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염을, 용해하여 이루어지는 염 용액을 준비하는 공정과,
    상기 염 용액과, 상기 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지를 한 번에 배합하고, 혼련하여, 조성물을 형성하는 공정을 갖춘 것을 특징으로 하는 제전성 조성물의 제조 방법.
    [화학식 1]
    Figure 112011046471604-pat00007
    (식 중, R1은 탄소수 1~12의 알킬기를 나타내고, R2는 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다. n은 3~6의 정수를 나타낸다.)
  11. 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지를 포함하는 조성물 중에, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염이 분산되어 이루어지는 제전성 조성물의 제조 방법으로서,
    하기 일반식(1)로 표시되는 폴리알킬렌글리콜(디 또는 모노)알킬에테르 화합물 중에, 상기 화합물과 등몰의, 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염을, 용해하여 이루어지는 염 용액을 준비하는 공정과,
    상기 염 용액(제 1성분)과 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지(제 2성분)를 혼련하여, 조성물을 형성하는 공정과,
    상기 조성물을, 또한 상기 중합성 화합물, 수지, 엘라스토머 또는 점착성 수지(제 2성분)를 혼련 혹은 블렌드하는 공정을 갖춘 제전성 조성물의 제조 방법.
    [화학식 1]
    Figure 112011046471604-pat00008
    (식 중, R1은 탄소수 1~12의 알킬기를 나타내고, R2는 수소 원자 또는 탄소수 1~12의 알킬기를 나타낸다. n은 3~6의 정수를 나타낸다.)
  12. 제 1항에 기재된 제전성 조성물을 포함하는 재료를 성형하여 이루어지는 성형품.
  13. 제 1항에 기재된 제전성 조성물을 포함하는 도료.
  14. 제 1항에 기재된 제전성 조성물을 성형품 표면에서 경화시킨 제전성 피복물.
  15. 제 1항에 기재된 제전성 조성물을 포함하는 점착제.
  16. 제 7항에 있어서, 상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 트리플루오로메탄설포닐이미드리튬 또는 트리플루오로메탄설폰산리튬인, 제전성 조성물.
  17. 제 1항에 있어서, 상기 폴리알킬렌글리콜(디 또는 모노)알킬에테르 화합물은, 테트라에틸렌글리콜 디메틸에테르를 포함하고, 상기 플루오로기 및 설포닐기를 가지는 음이온을 갖춘 염은, 비스(트리플루오로메탄설포닐)이미드리튬을 포함하고, 이들은 하기 식(2)에 나타내는 루이스산·염기형의 착이온을 형성하여, 해당 제전성 조성물 중에 분산하고 있는, 제전성 조성물.
    [화학식 2]
    Figure 112011046471604-pat00009
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