KR101028791B1 - 가발 - Google Patents

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KR101028791B1
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요시에 오가와
구미코 사이토
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가부시키가이샤 유니헤어
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Abstract

가발(10, 30)에는 가발 베이스(11, 31)의 각 부위에 대하여 그 부위에 대응하는 굽힘 강성을 가지는 인공 모발(12, 13, 32, 33)이 심어져 있다. 가발 베이스(11, 31)를 복수의 영역으로 구분하고, 좌우측두부 측 및 후두부 측의 주변부(11a)나 전체 주변 영역(31A)에 평균적인 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지는 모발(12, 32)을 심어서 가발의 주변에 존재하는 자모와 혼합시킨다. 한편, 가발 베이스(11, 31)의 중심을 향하는 영역에는, 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지는 모발(13, 33)을 심는다. 인공 모발(12, 13, 32, 33)은 상기 각 영역에 대응하여 소정의 길이 및 컬 직경을 가지며, 특히 주변부(11a)에 심은 모발(13)이나 전체 주변 영역(31A)에 심어진 모발(33)은 착용자의 두피에서 자라는 모발과 동일한 정도의 컬 직경 및/또는 길이를 가진다.
가발, 모발, 헤어, 머리카락, 탈모, 박모

Description

가발{WIG}
본 발명은 가발 베이스에 부착되는 모발의 굽힘 강성(bending rigidity)을 제어함으로써, 착용자의 두피로부터 자라는 자모(自毛)와 용이하게 친화시킴으로써, 가발 착용이 쉽게 노출되지 않도록 한 가발에 관한 것이다.
가발은 일반적으로, 네트 소재를 베이스의 주체(主體)로 한 가발 베이스 또는 폴리우레탄이나 실리콘 등의 얇은 시트 또는 필름으로 제조한 인공 피부 재질의 가발 베이스와, 이 가발 베이스에 봉착(縫着), 접착 등에 의해 심은 모발로 기본적으로 구성된다. 가발 베이스에 부착하는 모발로는, 인모(人毛)로 이루어지는 천연 모발 이외에도, 폴리아미드 수지, 폴리에스테르 수지, 모다크릴(modacryl) 등으로 가공한 인공 모발이 알려져 있다. 가발의 종류로서는, 착용자의 전액부(前額部), 측두부 및 후두부의 헤어라인에 따른 주변부를 가지는 모자 형태의 전두용(全頭用) 가발과 두부의 필요 부위만을 은폐하여 착용하는 부분 가발이 일반적으로 알려져 있다.
특허 문헌 1에는, 두부를 복수의 부위로 구분하고, 각 부위에 부분 가발을 착용하고, 복수의 부분 가발의 일부를 다른 부분 가발로 바꾸거나, 두부에 대한 착용 위치를 바꾸거나, 착용하는 방향을 변경함으로써, 각종 헤어스타일로 변경할 수 있는 것이 개시되어 있다.
그런데, 가발 베이스에 심는 모발로는 전술한 바와 같이 예로부터 천연 모발이 애용되어 왔지만, 최근 천연 모발 소재를 구하기 어려워짐에 따라서, 예를 들면 아크릴계, 폴리에스테르계, 폴리아미드계 합성 섬유를 가발용 모발 소재로 많이 사용하게 되었다. 예를 들면, 폴리아미드계 섬유는, 많은 점에서 천연 모발에 가까운 외관, 물성을 가지므로, 종래부터 실용화되고 있으며, 특히 표면 처리에 의해 부자연스러운 광택 등을 없앤 본 출원인에 의한 발명에 의해 우수한 가발이 제공되고 있다(특허 문헌 2 참조).
이에 대하여, 폴리아크릴계 섬유는 융점이 낮고, 내열성이 나쁘므로 파마 후의 유지성이 나쁘고, 예를 들면 온수에 노출되면 컬 등의 가공이 풀어지는 등의 단점이 있다. 폴리에스테르계 섬유는 강도, 내열성이 뛰어난 소재이지만, 천연 모발에 비해 흡습성이 극히 낮을 뿐만 아니라, 굽힘 강성이 너무 높기 때문에, 예를 들면 고습 환경하에서 천연 모발과 상이한 외관, 촉감, 물성을 나타내며, 가발로서 사용하는 경우에 현저한 위화감을 준다. 이 굽힘 강성은 인공 모발에 단위 크기의 굴곡 모멘트를 가할 경우, 그에 따라 생긴 곡률 변화의 역수로 정의된다. 인공 모발의 굽힘 강성이 클수록 쉽게 휘지 않는, 즉, 딱딱해서 굽히기 어려운 인공 모발이다. 역으로 이 굽힘 강성이 작을수록 휘기 쉽고, 부드러운 인공 모발이라고 할 수 있다.
상기 굽힘 강성은, 섬유의 촉감이나 질감 등의 감촉과 관련된 물성값을 나타낸 것이며, 川端식 측정법으로 수치화할 수 있는 것으로서 섬유 직물 산업에서 널 리 알려져 있다(비특허 문헌 1 참조). 한 가닥의 섬유나 모발의 굽힘 강성을 측정할 수 있는 장치도 개발되어 있다(비특허 문헌 2 참조).
폴리아미드 섬유로는, 주쇄로서 메틸렌 사슬만이 아미드 결합으로 연결되는 직쇄 포화 지방족 폴리아미드, 예를 들면, 나일론 6, 나일론 66 등과, 주쇄 중에 페닐렌 단위가 들어가는 반(半)방향족계 폴리아미드(예를 들면, 東洋紡績(株)의 나일론 6T, 三菱가스化學(株)의 MXD6 등)가 있다. 특허 문헌 2에는, 나일론 6 섬유를 소재로 하여 표면 처리한 인공 모발이 개시되어 있지만, 나일론 6 섬유 단독으로는 촉감이나 질감 등의 감촉 등과 관련된 물성인 굽힘 강성이 천연 모발보다 낮고, 그러므로 천연 모발과 품질이 동일한 인공 모발을 제조하기 어렵다. 그리고, 상기 "나일론"은 듀폰사의 등록 상표이지만, 본 발명의 실시예에서는, 폴리아미드 섬유로서 "나일론"을 사용하고 있으며, 이 용어를 이하의 설명에서도 사용한다.
한편, 나일론 6T를 사용한 인공 모발은, 반대로, 굽힘 강성이 천연 모발보다 높기 때문에 천연 모발과 품질이 동일한 모발을 제조하기 곤란하다. 나일론 6과 나일론 6T의 혼련 방사에 의해 천연 모발에 가까운 휨 강도를 나타내는 섬유로 가공하려고 해도, 이들 2종의 수지는 융점 차이가 크기 때문에, 고융점의 나일론 6T에 맞춘 용융 온도를 설정하면, 저융점에서 내열성이 상대적으로 낮은 나일론 6이 용융 중에 열산화되어, 우수한 인공 모발은 얻을 수 없다.
2종류의 수지의 특성을 각각 발현시키는 방법으로서, 시스/심 구조(sheath/core structure)의 섬유가 알려져 있다. 심이 되는 섬유와 이를 둘러싸는 시스형 섬유로 형성되어, 각각의 특성을 발현시키고자 하는 것이며, 일반 섬유 로서 또한, 가발용 인공 모발 소재로서도 발표되어 있다(특허 문헌 3 및 4 참조). 특허 문헌 3에는, 염화비닐리덴, 폴리프로필렌 등으로 형성되는 시스/심 구조의 섬유가 개시되어 있으며, 특허 문헌 4에는 폴리아미드계이지만, 심부에 단백질 가교 겔을 배합함으로써 변성된 섬유가 개시되어 있다.
특허 문헌 1: 특개 2000-303239호 공보
특허 문헌 2: 특개 소 64-6114호 공보
특허 문헌 3: 특개 2002-129432호 공보
특허 문헌 4: 특개 2005-9049호 공보
비특허 문헌 1: 川端李雄, 섬유기계학회지(섬유공학), 26, 10, pp. 721-728, 1973
비특허 문헌 2: 가토텍株式會社, KES-SH 싱글헤어벤딩테스터 취급 설명서
[발명이 해결하고자 하는 과제]
부분 가발을 착용자의 박모(薄毛) 부분을 덮도록 두부에 착용하는 경우, 박모 부분의 둘레에 자라는 자모와 가발에 부착된 인공 모발이 외관상 분리되지 않고 친화되도록, 착용자의 자모와 가발의 인공 모발의 물성값을 가능한 일치시키는 것이 중요하다. 그러므로, 가발에 사용되는 인공 모발은, 우선적으로 천연 모발에 가까운 감촉(즉, 외관, 촉감, 질감) 및 물성값을 가질 것이 요구되며, 여기에 추가하여 천연 모발보다 우수한 물성값을 가지면 이상적이다. 전술한 바와 같이 각종 합성 섬유 소재는 각각의 특징과 약점을 가지며, 그 중에서 특정한 폴리아미드 섬유가 특성이 우수하므로 실용화되어 있다.
그러나, 폴리아미드 섬유 소재로 형성되는 인공 모발을 가발 베이스에 심는 가발의 경우, 가발 착용시에 착용자의 두피로부터 자라는 자모와 가발 베이스에 심어진 인공 모발이 친화되도록 헤어스타일을 정리할지라도, 폴리아미드 섬유의 굽힘 강성이 자모에 비해 너무 낮으므로, 가발을 착용 후 시간 경과에 따라서 자모와 가발에 심어진 인공 모발이 분리되고, 가발 베이스 주변부 근처의 자모가 일어서게 되어, 스타일이 부자연스럽게 되어, 가발의 착용이 쉽게 노출된다. 역으로, 천연 모발에 비해 휨 강도가 높은 폴리에스테르계 섬유의 경우에는, 가발의 모발이 부자연스럽게 일어서게 되어, 자모와 친화되지 못하고 분리된다. 그러므로, 자모와 가발의 모발의 경계선이 나타나게 되어 가발 착용이 노출될 우려가 있다.
또한, 가발 베이스에 심은 모발이, 가발 베이스의 영역에 상관없이 동일한 길이로 정렬된다거나, 착용자의 자모와 상이한 컬 직경을 가지면, 가발의 모발이 전체적으로 정리된 상태가 되지 않으며, 가발을 착용할지라도 헤어스타일을 정리하는데 시간이 소요된다.
본 발명은 상기 과제를 감안하여, 착용자의 두피로부터 자라는 자모와 가발에 심어진 모발이 잘 분리되지 않고, 친화되어서, 가발 착용이 쉽게 노출되지 않는 가발을 제공하는 것을 목적으로 한다.
본 발명은 착용자가 원하는 헤어스타일을 간단히 형성할 수 있으며, 착용자의 두피로부터 자라는 자모와 가발에 심은 모발의 분별이 어려운 가발을 제공하는 것을 또 다른 목적으로 한다.
[과제를 해결하기 위한 수단]
본 발명자 등은 연구를 거듭한 결과, 가발을 필요로 하는 사람의 두피로부터 자라는 자모는 대체로 강도가 약하고 또한 부드러운 경향이 있으며, 측두부나 후두부 등의 박모 부위 주변에 자라는 자모도 마찬가지로 굽힘 강성이 낮은 성질이 있음을 확인하고, 심부(芯部)를 강도가 높은 폴리아미드 섬유로 하고, 시스부를 심부보다 강도가 낮은 폴리아미드 섬유로 하는 시스/심 구조를 채용함으로써, 인공 모발의 굽힘 강도에 대한 변형의 정도, 즉, 굽힘 강성을 천연 모발과 동일한 정도로 제어한 인공 모발을 개발하였다. 본 발명은 이 신규한 인공 모발을 더 개량하는 동시에, 가발 베이스에 부착한 경우에, 마치 자모가 두피로부터 자라고 있는 듯한 자연스러운 외관을 나타내는 가발을 완성하기에 이르렀다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 태양은, 가발 베이스와 가발 베이스에 심어진 모발을 포함하는 가발로서, 가발 베이스 중 적어도 주변에 심어진 모발이 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 구비한 것을 특징으로 한다.
본 발명의 다른 태양은, 가발 베이스가, 좌우측두부 측의 주변부 및 후두부 측의 주변부를 포함하여 복수의 영역으로 구분되며, 가발 베이스의 구분된 영역에 심어진 모발이, 영역마다 설정된 소정의 굽힘 강성을 가지고, 주변부에 심어진 모발이 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 구비한 것을 특징으로 한다.
상기 구성에 있어서, 가발 베이스 상에 구분된 영역 중 이 가발 베이스의 중심 영역이 되는 천정부로 근접할수록, 주변부에 심어진 모발보다 굽힘 강성이 높은 모발이 심어진 것이 바람직하다.
상기 가발 베이스가, 적어도 가발 베이스의 중심 영역이 되는 천정부와, 주변부와 이 주변부를 따라 천정부와 주변부 사이에 구획 형성되는 중간 영역으로 구분되며, 천정부에 심어진 모발이 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지고, 주변부에 심어진 모발이 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지고, 중간 영역에는, 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지는 모발과 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지는 모발이 혼재되어 심어질 수도 있다. 가발 베이스의 구분된 영역에 심어진 모발은, 영역마다 설정된 소정의 컬 직경 및/또는 길이를 가지고, 주변부에 심어진 모발은 착용자의 두피로부터 자라는 자모와 동일한 정도의 컬 직경 및/또는 길이를 가지는 것이 바람직하다.
본 발명의 다른 태양의 가발은, 가발 베이스가, 전두부 측의 주변, 좌우측두부 측의 주변 및 후두부 측의 주변으로 이루어지는 전체 주변부를 포함하여 복수의 영역으로 구분되며, 구분된 영역에 심어진 모발이 영역마다 설정된 소정의 굽힘 강성을 가지고, 전체 주변부에 심어진 모발이 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 구비한 것을 특징으로 한다.
바람직하게는, 상기 영역은, 가발 베이스의 중심 영역이 되는 천정부와, 전두부 측의 주변, 좌우측두부 측의 주변 및 후두부 측의 주변이 되는 전체 주변부와, 전체 주변부를 따라 천정부와 전체 주변부 사이에 구획 형성되는 중간 영역으로 구분되며, 천정부에 심어진 모발은 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지고, 전체 주변부에 심어진 모발은 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지고, 중간 영역에는 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지는 모발과 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지는 모발이 혼재되어 심어진다.
상기 구성에 있어서, 바람직하게는, 가발 베이스의 구분된 영역에 심어진 모발은 영역마다 설정된 소정의 컬 직경 및/또는 길이를 가지고, 전체 주변부에 심어진 모발은 착용자의 두피로부터 자라는 자모와 동일한 정도의 컬 직경 및/또는 길이를 가진다.
모발은, 바람직하게는, 심부와 상기 심부를 덮는 시스부로 이루어지는 시스/심 구조를 가지며, 심부가 폴리아미드 수지로 형성되고, 시스부가 심부보다 강도가 낮은 폴리아미드 수지로 형성되고, 시스부와 심부의 질량비에 의하여 휨 강도가 제어된다.
또는, 모발은 폴리아미드계 수지로 형성되는 제1 인공 모발과 폴리에스테르계 수지로 형성되는 제2 인공 모발을 소정의 비율로 혼합하여 형성되어 있고, 제1 인공 모발이 심부와 상기 심부를 덮는 시스부로 이루어지는 시스/심 구조를 가지고, 심부가 폴리아미드 수지로 형성되고, 시스부가 심부보다 강도가 낮은 폴리아미드 수지로 형성되고, 시스부와 심부의 질량비에 의하여 휨 강도가 제어된다.
본 발명의 가발은, 가발 베이스의 주변부에 심어진 모발이, 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지며, 착용자의 두피로부터 자라는 자모는 천연 모발의 휨 강도와 동등하거나 그보다 강도가 낮으며, 가발 베이스의 좌우측두부 측의 주변 및 후두부 측의 주변에, 착용자의 자모와 동일한 정도의 휨 강도를 가지는 모발이 심어짐으로써, 이 모발과 착용자의 자모가 서로 친화되어, 양자의 일어서는 정도가 동일한 곡성을 나타낸다. 따라서, 자모와 가발의 모발이 분리되지 않고 동일한 거동을 나타낸다. 또한, 본 발명의 가발에 있어서는, 가발 베이스의 영역마다 소정의 길이 및/또는 컬 직경을 가지는 모발이 심어져 있으므로, 이 가발을 착용할 때는, 부분적인 미세 조정만 행하면 되며, 착용자의 취향에 맞는 헤어스타일을 간단하게 형성할 수 있다.
가발 베이스에 심어진 모발로서 폴리아미드계 소재로 시스/심 구조의 질량비를 조정하거나, 폴리에스테르계 소재로 단면 치수의 사이즈를 조정하고, 또는 원료로서 혼입시키는 폴리부틸렌테레프탈레이트의 혼입 비율을 조정함으로써, 굽힘 강성을 제어한 것을 사용할 수 있다.
[발명의 효과]
통상적으로, 착용자의 두피로부터 자라는 자모, 즉, 탈모부 또는 박모부 이외의 주위에 나 있는 잔모는 평균적으로 천연 모발보다 굽힘 강성이 낮다. 본 발명에 의하면, 가발 베이스의 주변에 심어져 있는 모발이 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지므로, 결과적으로, 착용자의 두피로부터 자라는 자모와 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지는 모발을 가발 베이스의 주변부나 전체 주변 영역에 심는다. 그러므로, 가발을 착용하여 주변부나 전체 주변 영역에 심어진 모발을 여기에 인접한 자모로 덮어서, 자모와 함께 혼재시키면, 가발의 모발이 자모와 동일한 거동을 보여서, 서로 친화되어 쉽게 분리되지 않는다. 따라서, 가발 착용이 쉽게 노출되지 않는다.
본 발명에 의하면, 가발 베이스를 주변부나 전체 주변 영역을 포함하여 복수의 영역으로 분할하고, 영역마다 굽힘 강성이 상이한 모발이 심어져 있으면, 착용자가 현재까지는 불가능했던 볼륨감이 있는 헤어스타일을 형성할 수 있다. 가발 베이스의 주변부나 전체 주변 영역에 심어진 모발이 착용자의 자모와 동일한 정도의 컬 직경이나 길이를 가짐으로써, 자모가 가발의 모발과 쉽게 친화되어, 가발 착용이 쉽게 노출되지 않는다. 또한 간단한 조정을 통하여 착용자가 원하는 헤어스타일을 용이하게 단시간에 형성할 수 있다.
도 1은 사용자의 두부에 본 발명의 가발을 착용한 상태의 모식도이다.
도 2는 가발 베이스의 평면도이다.
도 3(A)는 본 발명의 가발을, (B)는 비교예의 가발을 각각 모식적으로 나타낸 도면이다.
도 4는 프론트 은폐형 가발 베이스를 포함하는 가발을 착용자가 착용한 상태를 이미지로 나타낸 것으로서, (A)는 착용 상태의 사시도, (B)는 착용 상태의 평면도이다.
도 5는 탑 착용형 가발 베이스를 포함하는 가발을 착용자가 착용한 상태를 이미지로 나타낸 평면도이다.
도 6은 복수의 영역으로 구분된 가발 베이스를 모식적으로 나타낸 평면도이다.
도 7은, 도 6에 나타낸 가발 베이스에 있어서 5 분할된 영역에 기초하여 3개의 영역으로 분할된 모습을 나타낸 평면도이다.
도 8은, 도 6에 나타낸 가발 베이스의 제1 대부(帶部), 제2 대부 및 주변부 의 부분 확대도이다.
도 9는 탑 착용형 가발 베이스를 모식적으로 나타낸 평면도이다.
도 10은 가발 베이스의 각 영역의 최적 치수 설정을 설명하기 위한 모식도이다.
도 11은 가발 베이스의 영역 구분에 관한 제1 비교예를 나타낸 도면이다.
도 12는 가발 베이스의 영역 구분에 관한 제2 비교예를 나타낸 도면이다.
도 13은 심어진 패턴이 제1 내지 제4 형태인 경우의 가발 베이스에 심는 모발의 특성을 나타낸 표이다.
도 14는 심어진 패턴이 제5 형태인 경우의 가발 베이스에 심는 모발의 특성을 나타낸 표이다.
도 15는 심어진 패턴이 제6 형태인 경우의 가발 베이스에 심는 모발의 특성을 나타낸 표이다.
도 16은 심어진 패턴이 제7 형태인 경우의 가발 베이스에 심는 모발의 특성을 나타낸 표이다.
도 17은 심어진 패턴이 제8 형태인 경우의 가발 베이스에 심는 모발의 특성을 나타낸 표이다.
도 18은 심어진 패턴이 제9 형태인 경우의 가발 베이스에 심는 모발의 특성을 나타낸 표이다.
도 19는 심어진 패턴이 제10 형태인 경우의 가발 베이스에 심는 모발의 특성을 나타낸 표이다.
도 20은 심어진 패턴이 제11 내지 제13 형태인 경우의 가발 베이스에 심는 모발의 특성을 나타낸 표이다.
도 21은 심어진 패턴의 제14 형태인 경우의 가발 베이스에 심는 모발의 특성을 나타낸 표이다.
도 22는 심어진 패턴이 제15 형태인 경우의 가발 베이스에 심는 모발의 특성을 나타낸 표이다.
- 부호의 설명 -
1: 자모 2: 체입부(剃入部) 10, 20: 가발
11, 21, 31: 가발 베이스 11A: 주변 영역
11B, 31B: 주요 영역 11C, 31C: 조정 영역 11D: 전환부
11a, 21a: 주변부 11b, 31a, 32a, 33a: 전두부
11c, 31e, 32e, 33e: 천정부 11d: 제1 대부
11e: 제2 대부 11f, 11h, 11j: 내측부 11g, 11i, 11k: 외측부
12, 13, 22, 32, 33: 모발 31A: 전체 주변 영역
31b, 32b, 33c: 좌측두부 31c, 32c, 33c: 우측두부
31d, 32d, 33d: 후두부 35a∼35h, 36a∼36h, 37a∼37h: 경계선
도면을 참조하여 본 발명을 실시하기 위한 바람직한 다수의 형태를 설명한다.
도 1은 본 발명의 가발(10)을 착용자의 두부에 착용한 상태를 모식적으로 나 타낸 도면이다. 본 발명의 가발(10)은 가발 베이스(11)에 모발(12 및 13)이 심어져 있다. 특히, 가발 베이스(11)의 각 부분에 대해 그 부위에 따라 바람직한 휨 강도로 조정된 인공 모발(12 및 13)이 심어져 있다. 가발 베이스(11)는 복수의 영역으로 구분되며, 가발 베이스(11)에서 좌우측두부 측의 주변부 및 후두부 측의 주변부(11a)에는, 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지는 모발(12)이 심어져 있다. 한편, 가발 베이스(11)의 주변부(11a) 이외의 천정부로 향하는 영역에는, 예를 들면 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지는 모발(13)이 심어져 있다.
그리고, 굽힘 강성이란, 본 명세서의 "배경 기술"에서 설명한 바와 같이, 섬유의 촉감이나 질감 등의 감촉에 관한 물성값으로서, 섬유를 구부릴 때 필요한 힘의 크기, 즉 섬유를 구부렸을 때에 섬유에 작용하는 힘을 나타내고, 이값이 높은 섬유가 경질이며, 구부리기 어려운 것을 나타낸다. 본 명세서에서 기술하는 굽힘 강성은, 상기 川端식 측정법에 의해 측정한 것이다.
이와 같은 휨 강도의 분포 패턴으로 모발이 심어진 가발(10)을 착용하면, 가발 주변에 인접하여 자라는 자모(1) 상에, 가발 주변부(11a)에 심은 모발(12)이 덮이도록 배치된다. 그러므로, 자모(1)와 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지는 가발의 모발(12)과, 해당 자모(1)가 브러싱에 의해 서로 섞일 수 있다. 일반적으로, 부분 가발(10)은 박모 또는 탈모 부위를 은폐하는 사이즈로 제조되며, 도 1을 참조하면, 전두부 및 천정부를 중심으로 한 박모 또는 탈모 부위의 주변, 예를 들면 좌우측두부 및 후두부에 자라는 자모(1)는 일반적인 천연 모발에 비해 굽힘 강성이 낮은 것이 통상적이다. 그러므로, 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성의 모발(12)을 가발 베이 스의 주변부(11a)에 심으면, 모발(12)은 부분 가발(10)에 인접하여 자라는 사용자의 낮은 휨 강도의 자모(1)와 동일한 정도의 강도를 가지므로, 가발의 모발(12)과 자모(1)가 친화될 수 있다. 그리고, 가발의 모발(12)은 가발 사용자의 자모(1)보다 약간 낮은 굽힘 강성을 나타낼 수도 있다. 자모(1)보다 굽힘 강성이 약간 낮아도, 가발의 모발(12)은 자모(1)보다 상부 측에 위치하므로, 자모(1)를 덮도록 배치되므로 브러싱에 의해 양자가 서로 적당하게 섞여 가발의 모발(12)의 경계를 애매하게 할 수가 있다. 단, 가발의 모발(12)의 굽힘 강성이 자모에 비하여 너무 낮으면, 경계가 나타나므로 적합하지 않다.
전형적인 부분 가발의 가발 베이스(11)의 평면도를 나타낸 도 2에 있어서, 화살표 방향은 가발의 앞쪽, 즉 착용자의 시선 방향을 나타내고 있다. 가발 베이스(11)는 착용자의 두부의 형상 및 치수 및 자모(1)의 분포 및 양에 따라, 그물(net) 베이스 또는 인공 피부 베이스 또는 이들의 조합으로 구성된다. 가발 베이스(11)의 적어도 좌우측두부 측 및 후두부 측의 주변부(11a)에는, 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지는 모발(12)(도 1 참조)이 심어져 있다. 한편, 그 이외의 영역, 즉 주변부(11a) 이외의 중심부에 이르는 영역에 심는 모발(13)은, 바람직하게는, 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지는 것을 심는다. 이로써, 지금까지 착용자의 자모로는 얻을 수 없었던 희망하는 헤어스타일을 형성할 수 있다.
도 3(A)는 본 발명의 가발(10)을, 도 3(B)는 비교예로서의 가발(20)을 각각 모식적으로 나타낸다. 본 발명의 가발(10)은 도 3(A)에 나타낸 바와 같이, 가발 베이스(11)의 좌우측두부 측의 주변부 및 후두부 측의 주변부(11a)에 심어진 모 발(12)이, 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가진다. 따라서, 자모(1)와 모발(12)이 같이 섞여서 자모(1)에 모발(12)이 친화되어, 주변부(11a)에 심어진 모발만이 일어서지는 않으며, 또한 자모(1)와 모발(12)이 분리되지 않고 양자를 분별할 수 없기 때문에, 가발을 착용한 것이 쉽게 노출되지 않는다.
한편, 착용자의 자모는 가발이 불필요한 사람의 자모에 비하면, 일반적으로 부드럽고 휨 강도가 낮다. 그러므로, 도 3(B)에 나타낸 바와 같이, 가발 베이스(20)의 좌우측두부 측 및 후두부 측의 주변부(21a)에 심어진 모발(22)이, 착용자의 자모(1)보다 높은 굽힘 강성을 가지면, 가발 베이스의 주변부(21a)에 심어진 모발(22)이 쉽게 일어서고, 여기에 인접한 착용자의 자모(1)는 누워 있으므로, 모발(22)과 자모(1)의 정렬 모양이 상이하고, 각각 상이한 거동을 나타내게 된다. 그러므로, 자모와 그 위의 덮인 가발의 모발의 경계선이 가로선 형태로 드러나서, 가발을 착용하고 있는 것이 쉽게 노출된다.
본 발명의 가발의 가발 베이스에 대하여 설명한다. 가발 베이스의 형상 및 그 가상 구분에 따라서 다수의 종류가 존재한다. 예를 들면, 착용자의 두부 전체가 박모인 경우에 채용되는 프론트 은폐형과 착용자의 두부 중 탑 영역이 부분적으로 박모인 경우에 채용되는 탑 착용형으로 대별된다. 전자인 프론트 은폐형은 헤어라인이 후퇴하고 있는 사람에게 적합한 타입이며, 후자인 탑 착용형은 헤어라인이 후퇴하지 않고 두부의 천정부 주변이 부분적으로 박모인 사람에게 적합한 타입이며, 특히 외모 때문에 모발 수를 증가시키고자 하는 경우에 적합한 타입이다. 비교적 전자는 남성으로부터의 수요가 많고, 후자는 여성으로부터의 수요가 많다.
도 4는 프론트 은폐형 가발 베이스(11)를 포함하는 가발(10)을 착용자에게 착용한 상태를 이미지로 나타낸 도면으로서, (A)는 착용 상태의 사시도, (B)는 착용 상태의 평면도이다. 도 4(A)에서는 자모(1)나 모발(12 ,13)을 일부만 도시하였으며, (B)에서는 자모(1) 및 모발(12 ,13)을 도시하지 않았다. 프론트 은폐형 가발 베이스(11)는 도 4에 나타낸 바와 같이, 착용자의 이마의 일부를 덮도록 탑으로부터 앞쪽으로 튀어나온 전두부(11b)와, 착용자의 탈모 주변 영역에서 좌우 양측부 및 후두부의 주변에서 형성되는 주변부(11a)로 가발 베이스(11)의 전체 주변이 형성되어 있고, 주변부(11a)의 곡률이 전두부(11b)의 곡률보다 크기 때문에, 체입부(2)에 접하는 전환부(11D)가 당연히 형성되어 있다.
도 5는 탑 착용형 가발 베이스(31)를 포함하는 가발(30)을 착용자에게 착용한 상태를 이미지로 나타낸 도면이다. 탑 착용형 가발 베이스(31)는 착용자의 두부의 탑 및 그 근처에 착용된다.
도 6은 프론트 은폐형 가발 베이스(11)를 모식적으로 나타낸 평면도이다. 이 가발 베이스(11)는 가상선에 의해 복수의 영역으로 구분되며, 화살표의 방향이 가발의 전방을 나타낸다. 도 6에 나타낸 바와 같이, 이 가발 베이스(11)는 착용자의 두부의 형상 및 치수에 따라 대략 좌우 대칭으로 구성되며, 앞머리가 심어진 두부의 프론트에 대응하는 전두부(11b)와 가발 베이스(11)의 중심 영역을 이루는 두부의 탑에 대응하는 천정부(11c)와, 천정부(11c)의 좌우 양단 및 후단과 인접하는 대략 U 자형 모양의 띠형 제1 대부(11d)와 제1 대부(11d)의 좌우 양단 및 후단 및 전두부(11b)의 좌우 양단과 인접하는 제2 대부(11e)와 전두부를 제외한 제2 대 부(11e)의 좌우 양단 및 후단에 인접하여 가발 베이스(11)의 좌우측두부 측 및 후두부 측의 둘레를 감싸는 주변부(11a)로 가상적으로 구분된다.
즉, 상기 가발 베이스(11)는 천정부(11c)와 그 앞쪽에 전두부(11b)와, 천정부(11c)로부터 후두부 측 및 좌우의 측두부 측을 걸쳐서 대략 U자형으로 3단계로 구획 형성된 제1 대부(11d), 제2 대부(11e) 및 주변부(11a)로 구분되어 있다. 천정부(11c)는 그 전단에서 전두부(11b)와 인접하고, 또한 그 좌우 양단 및 후단에서 제1 대부(11d)와 인접한다. 그리고, 대략 U자형 모양의 띠형 제2 대부(11e)는 전두부(11b) 및 제1 대부(11d)를 좌우 양단 및 후단으로부터 부분적으로 둘러싸고 있다. 주변부(11a)는 제2 대부(11e)의 외측, 즉 좌우 양단 및 후단에 인접하여, 가발 베이스(11)의 좌우측두부 측 및 후두부 측의 둘레를 감싸고 있다.
이와 같이, 도 6에 나타낸 프론트 은폐형 가발 베이스(11)는 영역마다 설정된 소정의 컬 직경 및/또는 길이의 모발을 심기 위하여, 5개의 영역으로 분할된다. 그 이유는 아래와 같다. 전두부(11b)는 착용자 이외의 제3자에게 가장 눈에 띄기 쉬운 영역이므로, 전두부(11b)의 좌우 대칭선으로부터 좌우 양쪽 방향으로 연장 형성되어, 착용자의 당연히 있게 마련인 체입부(2)를 덮는다. 천정부(11c)는 착용자의 모발 형태나 외관 및 제3자로부터의 인상을 좌우하는 중요한 영역이 된다. 주변부(11a)는 후두부로부터 좌우측두부로 연장 형성되어 대략 U자형을 나타내며, 착용자의 자모(1)와 친화되는 모발을 심고, 가발 착용의 노출을 방지하기 위한 영역이 된다. 본 발명의 가발은 후술하는 바와 같이, 영역마다 설정된 소정의 컬 직경 및/또는 길이의 모발을 심어서 구성되므로, 전두부(11b), 천정부(11c) 및 주변 부(11a)에 각각 컬 직경 및/또는 길이가 상이한 모발을 심음으로써, 각각의 경계에서, 컬 직경 및/또는 길이의 차이에 의해 단차(notch)가 형성된다. 특히, 천정부(11c)와 주변부(11a) 사이에서는, 각각에 심은 모발이 친화되지 않으므로 단차가 형성되기 쉽다. 따라서, 천정부(11c)의 외측 둘레에 천정부 측의 완충 영역으로서 제1 대부(11d)를 구획 형성하고, 또한 주변부(11a)의 내측 둘레에 주변부 측의 완충 영역으로서 제2 대부(11e)를 구획 형성한다. 이로써, 주변부(11a)에 심은 모발과 천정부(11c)에 심은 모발의 컬 직경 및/또는 길이에서 차이가 있어도, 주변부(11a)와 천정부(11c)에 각각 심은 모발의 중간적인 컬 직경 및/또는 길이를 가지는 모발을, 제1 대부(11d)와 제2 대부(11e)에 단계적으로 심을 수 있으므로, 가발 베이스(11)에 심은 모발끼리의 단차가 생기지 않게 된다. 주변부(11a)에 심은 모발은, 또한, 착용자의 두피로부터 자라는 자모와 동일한 정도의 컬 직경 및/또는 길이를 가지므로, 이 가발을 착용할 때에는, 부분적으로 모발을 컷팅하는 등의 미세 조정만을 행하면 되며, 착용자가 원하는 취향의 헤어스타일을 간단하고 짧은 시간에 형성할 수 있다.
도 7은, 도 6에 나타낸 가발 베이스에 있어서 5 분할된 영역에 기초하여 3개의 영역으로 분할된 모습을 나타낸 평면도이다. 도 6에 나타낸 프론트 은폐형 가발 베이스(11)는 굽힘 강성이 상이한 모발을 심기 위하여, 도 7에 나타낸 바와 같이 3개의 영역으로 분할된다. 3개의 영역으로의 분할은, 도 6에 나타낸 5 분할된 영역에 기초하여 정해진다. 즉, 도 6에 나타낸 가발 베이스(11)는 영역마다 설정된 소정의 컬 직경 및/또는 길이의 모발을 심기 위하여, 전두부(11b), 천정 부(11c), 제1 대부(11d), 제2 대부(11e) 및 주변부(11a)로 5 분할한 것이므로, 소정의 굽힘 강성을 가지며, 또한, 소정의 컬 직경 및/또는 길이의 모발을 심기 위하여, 5 분할한 영역에 기초하여, 전두부(11b)로부터 천정부(11c)를 걸쳐서 제1 대부(11d)를 포함한 주요 영역(11B)와, 주변부(11a)의 영역(11A)와, 주요 영역(11B)와 주변 영역(11A) 사이의 조정 영역(11C)의 3개의 영역으로 분할된다.
이와 같이 굽힘 강성이 상이한 모발을 심기 위하여 3개의 영역으로 분할하는 이유는 아래와 같다. 전술한 바와 같이, 전두부(11b) 및 천정부(11c)는 착용자 이외의 제3자에게 가장 눈에 띄기 쉬운 영역이며, 또한, 착용자의 모발 형태나 외관 및 제3자에 의한 인상을 좌우하는 중요한 영역이다. 주변부(11a)는 착용자의 자모(1)와 친화적인 모발을 심고, 가발 착용이 노출되는 것을 방지하기 위한 영역이다. 본 발명에서는 가발 베이스(11)의 각 영역에 굽힘 강성이 상이한 모발을 심어서 구성되므로, 조정 영역(11C)을 두지 않고, 가발 베이스(11)의 천정부(11c)와 여기에 인접하는 전두부(11b) 및 제1 대부(11d)로 구성되는 주요 영역(11B)과 주변부(11a)의 영역("주변 영역"이라 지칭함)(11A)에 각각 굽힘 강성이 상이한 모발을 심으면, 주요 영역(11B)과 주변 영역(11A)의 각각의 경계선서 모발의 굽힘 강성의 차이에 의해 모발이 가발 베이스(11)로부터 일어서는 정도가 상이해진다. 그러므로, 주요 영역(11B)에 심은 모발과 주변 영역(11A)에 심은 모발이 각각 친화되지 않고 단차가 형성된다. 특히, 모발 전체에 볼륨감을 주기 위하여, 후술하는 바와 같이 전두부(11b)로부터 천정부(11c)에 걸쳐서 주요 영역(11B)에는 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지는 모발을 심는데 대하여, 주변 영역(11A)에는 천연 모발의 평균적인 굽힘 강성보다 낮은 값을 가지는 모발을 심는다. 이 경우, 주요 영역(11B)에 심은 모발이 후방 및 측면 방향으로 흘러도, 주변 영역(11A)에 심은 모발 정도로 두피를 따라 눕지 않고 일어서게 된다. 따라서, 전두부(11b)로부터 천정부(11c)를 걸쳐 주요 영역(11B)와 주변 영역(11A) 사이에 조정 영역(11C)을 둔다. 이 조정 영역(11C)은 도 6에 나타낸 제2 대부(11e) 영역에 해당한다. 이와 같이, 가발 베이스(11)을 3개 영역으로 분할한다.
주변 영역(11A)에 심은 모발과 주요 영역(11B)에 심은 모발의 굽힘 강성이 상이할지라도, 주변 영역(11A)에 심는 모발과 주요 영역(11B)에 심는 모발의 각각의 굽힘 강성의 중간의 값을 가지는 모발을, 주변 영역(11A)와 주요 영역(11B) 사이에 개재시킨 조정 영역(11C)에 심음으로써, 가발 베이스(11)에 심은 모발에 의한 단차가 형성되지 않는다. 따라서, 가발(10)을 착용할지라도, 자모(1)와 가발 베이스(11)의 주변 영역(11A)에 심은 모발(12)이 분리되지 않고, 또한, 가발 베이스( 11) 내에서의 굽힘 강성의 차이에 의한 모발의 갈라짐이 생기지 않으므로, 가발 착용이 쉽게 노출되지 않는다.
이상과 같이, 도 6에 나타낸 프론트 은폐형 가발 베이스(11)는 영역마다 설정된 소정의 컬 직경 및/또는 길이의 모발을 심으므로, 5개 영역으로 분할되어 있다. 그러나, 심어진 모발의 컬 직경 및/또는 길이의 변화만으로는 볼륨감이 있는 헤어스타일을 구성할 수 없다. 다라서, 도 7에 나타낸 바와 같이 가발 베이스(11)의 5개 영역에 기초하여, 3개 영역으로 재편성하고, 3개로 분할한 영역마다 굽힘 강성이 상이한 모발을 심음으로써, 5개로 분할된 영역마다 설정된 컬 직경 및/또는 길이의 모발 효과와 서로 어울려서, 착용자가 원하는 모발 형태를 형성할 수 있다.
가발 베이스(11)는 착용자의 두부의 형상 및 치수 및 탈모 또는 박모 상태에 따라 적당한 사이즈로 결정되며, 전두부(11b)의 중심축 상에서의 길이 L1 및 좌우 양단의 길이 L2나, 제1 대부(11d)의 폭 L3, 제2 대부(11e)의 폭 L4 및 주변부(11a)의 길이 L5를 소정값으로 설정하여, 천정부(11c)의 치수를 적당히 조정함으로써, 가발 베이스(11)의 사이즈를 착용자의 두부의 크기나 치수에 적합하게 한다. 그리고, 본 명세서 중에 있어서, 길이나 폭은, 가발 베이스(11)의 크기를 나타낸 경우도 포함하며, 가발 베이스(11)의 곡면에 따른 길이이다.
가발 베이스(11)의 전두부(11b), 천정부(11c), 제1 대부(11d), 제2 대부(11e) 및 주변부(11a)의 각 영역은, 착용자의 두부에 있어서의 가발 착용 영역의 크기에 관계없이 대략 균등하게 배치될 필요가 있다. 가발 베이스(11)의 크기가 일정 이상인 경우에 대하여 설명한다. 가발 베이스(11)의 크기가 있는 일정 이상이란, 예를 들면 가발 베이스(11)의 전후 길이 L이 15cm 이상이며, 좌우 길이 D가 15cm 이상인 사이즈를 지칭한다. 천정부(11c)의 크기는 착용자의 두부의 형상 및 크기 및 탈모 상태 등을 고려하여 착용자마다 상이하다. 가발 베이스(11)의 주변부(11a)는 중심의 좌우 대칭선 상에서의 폭 L5가 2cm가 되도록 대략 U자형 띠형으로 구획 형성된다. 전두부(11b)는 중심의 좌우 대칭선 상에서의 전후 폭 L1이 5cm이며, 좌우로 제2 대부(11e)와 인접하는 측면부의 전후 폭 L2가 3cm가 되도록, 좌우의 양측을 따라서 전후 폭이 좁아지도록 구획 형성된다. 제1 대부(11d)는 제2 대부(11e)의 내측 둘레를 따라, 또한 중심의 좌우 대칭선 상에서의 폭 L3가 1.5cm가 되도록 대략 U자형의 띠형으로 구획 형성된다. 제2 대부(11e)는 주변부(11a)의 내측 둘레를 따라, 또한 중심의 좌우 대칭선 상에서의 폭 L4가 1.5cm가 되도록 대략 U자형의 띠형으로 구획 형성된다.
상기 각 폭 L1∼L5의 값에 대하여 설명한다.
전두부(11b)에 심은 모발의 일부는 언저리가 노출되는 것을 방지하기 위하여 앞 방향으로 흐르게 할 필요가 있고, 또한, 가발 베이스에 굽힘 강성이 상이한 모발을 심을지라도 단차가 형성되지 않도록 전두부(11b)에 인접한 천정부(11c), 제1 대부(11d), 제2 대부(11e) 및 주변부(11a)의 각 방향으로 흐르게 할 필요가 있다. 따라서, 전두부(11b)에 있어서의 좌우 대칭선 상에서의 전후 폭 L1이 5cm 미만이면, 전두부(11b)에 심은 모발을 앞 방향으로 흘리면서, 또한 천정부(11c), 제1 대부(11d), 제2 대부(11e) 및 주변부(11a)의 각 방향으로 흐르게 하기가 곤란해진다. 그러므로, 언저리가 노출되거나, 가발 베이스에 심은 모발 전체에서 단차가 형성되며, 결과적으로 가발 착용이 노출되므로 바람직하지 않다. 반대로, 전후 폭 L1이 5cm를 초과하면, 첫째, 전두부(11b)의 영역이 넓어지고, 착용자 이외의 제3자가 볼때, 전두부(11b)가 극단적으로 너무 노출되어 부자연스러워진다. 둘째, 천정부(11c)의 영역이 작아져서, 착용자의 원하는 모발 형태를 형성할 수 없게 된다. 따라서, 전두부(11b)의 좌우 대칭선 상에서의 전후 폭 L1은 5cm가 바람직하다.
전두부(11b)에 있어서의 제2 대부(11e)에 인접하는 양쪽의 전후 폭 L2가 3cm 미만이면, 전두부(11b)에 심어진 모발과 천정부(11c), 제1 대부(11d) 및 제2 대부(11e)에 각각 심어진 모발이 쉽게 친화되지 않을 뿐만 아니라, 전두부(11b)에 심어진 모발을 전후 좌우의 각 방향으로 나누면, 전환부(11D)가 외부로 드러나서 가발 착용이 노출되므로 바람직하지 않다. 따라서, 전두부(11b)에 있어서의 제2 대부(11e)에 인접하는 양쪽의 전후 폭 L2는 3cm가 된다. 이 전후 폭 L2가, 전두부(11b)에 있어서의 좌우 대칭선 상에서의 전후 폭 L1의 폭과 동일하거나 또는 전후 폭 L1의 폭보다 길면 제1 대부(11d)의 부위가 좁아지고, 제1 대부(11d)에 심은 모발과 천정부(11c)에 심은 모발에서 단차가 형성되어 모발이 나누어져서 가발 착용이 외부로 노출되므로 바람직하지 않다.
제1 대부(11d)의 좌우 대칭선 상에서의 폭 L3, 제2 대부(11e)의 좌우 대칭선 상에서의 폭 L4 및 주변부(11a)의 좌우 대칭선 상에서의 폭 L5에 대하여 설명한다. 도 8은, 도 6에 나타낸 가발 베이스(11)의 제1 대부(11d), 제2 대부(11e) 및 주변부(11a)의 부분 확대도이다. 제1 대부(11d)는 천정부(11c)에 심은 모발과 친화되도록 하기 위한 모발을 심는 내측부(11f)와, 제2 대부(11e)에 심은 모발과 친화되도록 하기 위한 모발을 심는 외측부(11g)가 된다. 내측부(11f)의 폭 L31은 1cm 필 요하고, 외측부(11g)의 폭 L32는 0.5cm가 된다. 제1 대부(11d)는 천정부(11c)에 심는 모발과 주변부(11a)에 심는 모발의 컬의 직경 및/또는 길이가 상이함에 기인하는 문제를 해소하기 위한 완충 영역의 일부를 구성한다. 따라서, 내측부(11f)의 폭 L31이 1cm보다 짧으면 천정부(11c)에 심은 모발과 친화되는 모발이 심어진 영역이 작으므로, 가발 베이스(11)에 심은 모발끼리 단차가 형성된다. 한편, 외측부(11g)는, 이 외측부(11g)에 심어진 모발과 제2 대부(11e)에 심어진 모발의 컬 직경 및/또는 길이의 차가 작으므로, 내측부(11f)의 폭의 대략 절반만 있으면 인접하는 모발이 서로 친화된다. 이상으로부터, 제1 대부(11d)의 폭 L3은 1.5cm 필요하다. 반대로, 제1 대부(11d)의 폭 L3를 2cm보다 길게 하면, 천정부(11c)의 영역이 좁아져, 자유로운 헤어스타일을 구성할 수 없기 때문에 바람직하지 않다. 또한, 제1 대부(11d)의 폭 L3가 넓어지면, 내측부(11f)와 외측부(11g)의 경계선 부근에서 천정부(11c)와 제2 대부(11e)에 심은 모발이 서로 친화되지 않는 부분이 생기고, 그 결과, 제1 대부(11d)에 심은 모발이 나누어져서, 가발의 착용이 외부에 노출되므로 바람직하지 않다.
제2 대부(11e)의 좌우 대칭선 상에서의 폭 L4에 대하여 설명한다. 제2 대부(11e)는 제1 대부(11d)에 심은 모발과 친화되도록 하기 위한 모발을 심는 내측부(11h)와, 주변부(11a)에 심은 모발과 친화되도록 하기 위한 모발을 심는 외측부(11i)로 구성된다. 외측부(11i)의 폭 L42는 1cm 필요하고, 내측부(11h)의 폭 L41 은 0.5cm인 것이 좋다. 제2 대부(11e)는 천정부(11c)에 심는 모발과 주변부(11a)에 심는 모발의 굽힘 강성의 완충 영역 이외에 부를 구성한다. 따라서, 외측부(11i)의 폭 L42가 1cm보다 짧으면 주변부(11a)에 심은 모발과 친화되도록 하는 모발이 심어진 영역이 작으므로, 가발 베이스(11)에 심은 모발끼리 단차가 형성된다. 한편, 내측부(11h)는, 이 내측부(11h)에 심어진 모발과 제1 대부(11d)에 심어진 모발의 컬 직경 및/또는 길이의 차와 굽힘 강성의 차의 양쪽이 작으므로, 외측부(11i)의 폭의 대략 절반 있으면 인접하는 모발이 서로 친화된다. 이상으로부터, 제2 대부(11e)의 폭 L4는 1.5cm 필요하다. 반대로, 제2 대부(11e)의 폭 L4를 2cm보다 길게 하면, 천정부(11c)의 영역이 좁아져, 자유로운 헤어스타일을 구성할 수 없기 때문에 바람직하지 않다. 제2 대부(11e)의 폭 L4가 넓어지면, 내측부(11h)와 외측부(11i)의 경계선 부근에서 제1 대부(11d)와 주변부(11a)에 심은 모발에 서로 친화되지 않는 부분이 생기고, 그 결과, 제2 대부(11e)에 심은 모발이 나누어지므로, 가발의 착용이 외부에 노출되므로 바람직하지 않다.
주변부(11a)의 좌우 대칭선 상에서의 폭 L5에 대하여 설명한다. 주변부(11a)는, 제2 대부(11e)에 심은 모발과 친화되도록 하기 위한 모발을 심는 내측부(11j)와 착용자의 잔모와 친화되도록 하기 위한 모발을 심는 외측부(11k)로 구성된다. 이 주변부(11a)에 심어진 모발과 그 내측의 제2 대부(11e)에 심어진 모발의 컬 직경 및/또는 길이와 굽힘 강성의 양쪽이 상이하므로, 내측부(11j)의 폭 L51은 1cm 필요하다. 외측부(11k)는, 이 외측부(11k)에 존재하는 착용자의 자모에 친화되도록 하기 위한 모발을 심기 위하여, 외측부(11k)는 1cm 필요하다. 따라서, 주변부(11a)의 폭 L5는 2cm 필요하다. 주변부(11a)의 폭 L5가 2cm보다 짧으면 착용자의 자모와 주변부(11a)에 심은 모발과 제2 대부(11e)에 심은 모발이 친화되지 않고 분리되는 상태가 되어, 착용자의 두부에 있어서의 가발 베이스의 주변이 외부로 노출되므로 바람직하지 않다. 반대로, 주변부(11a)의 폭 L5가 2cm보다 길면 천정부(11c)의 영역이 좁아져, 착용자가 원하는 모발 형태를 형성할 수 없기 때문에 바람직하지 않다. 주변부(11a)의 폭 L5가 넓어지면, 내측부(11j)와 외측부(11k)의 경계선 부근에서, 제2 대부(11e)에 심은 모발과 착용자의 자모가 서로 친화되지 않는 부분이 생기고, 그 결과, 주변부(11a)에 심은 모발이 나누어지므로, 가발의 착용이 외부로 노출되어 바람직하지 않다.
이상의 치수 설정은 가발 베이스(11)의 크기가 일정 사이즈 이상인 경우에 적용되지만, 착용자의 두부가 작은 경우, 즉, 가발 베이스(11)의 크기가 일정 사이즈보다 작은 경우에 상기 치수 설정을 적용하면, 천정부(11c)의 크기가 가발 베이스(11)의 다른 영역보다 작아진다. 이는, 착용자의 가발 착용 영역에서 천정부(11c)가 가장 넓어진다는 조사 사실에 반대되는 것으로서, 천정부(11c)가 너무 좁아서 가발 전체의 밸런스가 악화되어 자연스러운 헤어스타일을 형성할 수 없게 된다. 따라서, 천정부(11c)의 전후 좌우의 각 폭이, 전두부(11b)의 전후 폭 L1의 5cm보다 작은 경우 또는 제1 대부(11d)로부터 주변부(11a)의 좌우 대칭선 상에서의 전후 폭 5cm보다 작은 경우에는, 다음과 같이 치수를 설정한다.
가발 베이스(11)의 크기가 있는 일정 사이즈보다 작은 경우에는, 가발 베이스(11)의 전두부(11b)로부터 주변부(11a)까지의 전후 폭 L에 대하여, 가발 베이스(11)의 전두부(11b)의 전후 폭 L1이 L/3이 되도록 하고, 제1 대부(11d)로부터 주변부(11a)의 좌우 대칭선 상에서의 전후 폭 L3+L4+L5가 L/3이 되도록 한다. 그리고 제1 대부(11d)의 좌우 대칭선 상에서의 전후 폭 L3와 제2 대부(11e)의 좌우 대칭선 상에서의 전후 폭 L4와 주변부(11a)의 좌우 대칭선 상에서의 전후 폭 L5가, 1.5:1.5:2가 되도록 배분한다.
이상과 같이, 가발 베이스(11)의 각 영역의 치수 설정을, 가발 베이스(11)의 전후 좌우의 각 폭이 15cm 이상일 경우에는, 전두부(11b), 제1 대부(11d), 제2 대부(11e) 및 주변부(11a)의 좌우 대칭선 상의 폭을 각각 5cm, 1.5cm, 1.5cm, 2cm로 하고, 나머지를 천정부(11c)의 영역으로서 할당하는 것에 비하여, 가발 베이스(11)의 전후 좌우의 각 폭이 15cm 미만일 경우에는 가발 베이스(11)을 3등분 하고, 전두부(11b), 천정부(11c)의 좌우 대칭선 상의 폭을 모두 가발 베이스(11)의 전후 폭 L의 L/3으로 하고, 나머지를 제1 대부(11d)와 제2 대부(11e)와 주변부(11a)에 할당하여, 각 폭이 1.5:1.5:2의 비율이 되도록 배분한다.
이와 같이 복수의 영역으로 구분된 가발 베이스(11)에 심어진 모발은, 그 영역마다 결정된 소정의 굽힘 강성을 가진다. 가발 베이스(11)의 주변부(11a)에 심어진 모발(12)은 착용자의 탈모부 또는 박모부의 주변 영역에 자모와 혼합되어 배 치되므로 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가진다.
이에 대하여, 가발 베이스(11) 중 주변부(11a)로부터 천정부로 향하는 영역, 예를 들면, 전두부(11b), 천정부(11c), 제1 대부(11d)에 걸친 주요 영역(11B)에 심어진 모발은, 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지도록 설정한다. 그리고, 가발 베이스(11) 중 주변부(11a)와 전두부로부터 천정부에 걸친 영역(11B)의 경계 영역이 되는 조정 영역(11C)에 심어진 모발은, 주변부(11a)에 심어진 모발과 주요 영역(11B)에 심어진 모발의 중간적인 휨 강도를 가지도록 한다.
여기에서, 상기 모발을 중간적인 휨 강도를 가지도록 하기 위하여, 아래에 상세히 설명하지만, 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지는 모발과 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지는 모발을 소정의 개수의 비율로 혼합하거나 주변 영역(11A)에 심어진 모발의 굽힘 강성과 주요 영역(11B)에 심어진 모발의 굽힘 강성의 사이의 소정값을 가지도록 구조나 치수를 조정한다.
이상과 같이, 가발 베이스(11)에 있어서 주변부(11a)의 영역(11A)에 심는 모발은, 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지고, 바람직하게는 착용자의 자모(1)와 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지고, 보다 바람직하게는 두부의 자모(1)로부터 멀어질수록, 굽힘 강성이 서서히 높아지는 모발을 심고, 가발 베이스(11)의 주요 영역(15B)에 심는 모발은, 주변 영역(11A)에 심어진 모발보다 굽힘 강성이 높고, 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가진다. 이로써, 착용자의 두피로부터 자라는 자모(1)와 가발 베이스의 주변부(11a)에 심어진 모발(12)이 쉽게 친화되고, 각각 일어서는 정도와 만곡 등이 동일하므로, 동일한 거동을 나타낸다. 한편, 가발 베이스의 주요 영역(11B)에 심어진 모발은, 자모(1)보다 높은 굽힘 강성을 가지므로, 그 모발의 경도나 굴곡 강도에 의해, 종래 착용자가 불가능했던 독자적인 헤어스타일을 형성할 수 있다.
이상 설명한 가발은 가발 베이스를 복수의 영역으로 구분하고, 각 영역에 그 영역에 대응한 굽힘 강성을 가지는 모발을 심어서 구성되며, 도 6에 나타낸 가발 베이스(11)의 영역마다, 모발의 길이를 조정하거나, 컬부의 유무나 부여되는 컬의 곡률의 크기를 조정하거나, 색상을 조정하는 등, 임의로 형성한 인공 모발을 사용할 수 있다. 착용자의 잔모의 분포 상태나 잔모의 색상에 따라 상기 각종 인공 모발을 가발 베이스(11)의 각 영역에 심음으로써, 착용자의 요구에 따른 헤어스타일을 형성할 수 있다.
도 7에 나타낸 가발 베이스(11)의 영역마다, 즉, 주변 영역(11A), 주요 영역(11B) 및 조정 영역(11C)의 각각에 심어진 모발은, 소정의 굽힘 강성을 가질 뿐만 아니라, 주변부(11a), 전두부(11b), 천정부(11c), 제1 대부(11d), 제2 대부(11e)마다 소정의 컬 직경 및/또는 길이를 가지는 것이 바람직하다. 즉, 프론트 은폐형 가발에 있어서, 가발 베이스(11)의 주변부(11a)에 심는 모발(12)은 가발의 주변부 근처의 자모와 동일한 굽힘 강성을 가질 뿐만 아니라, 컬 직경이나 길이가 동일한 것이 바람직하다. 가발 베이스(11)의 천정부(11c)에 심는 모발(13)의 컬 직경이나 길이와 주변부(11a)에 심는 모발(12)의 컬 직경이나 길이가 상이한 경우에는, 컬 직경 및/길이를 서서히 변화시킴으로써, 가발 베이스(11)에 심은 모발에 의해 단차가 형성되지 않고, 가발 착용이 노출되지 않는다. 또한, 가발 베이 스(11)에 있어서의 전두부(11b)로부터 천정부(11c)를 거쳐 주요 영역(11B)에 심는 모발(13)의 굽힘 강성과 주변부(11a)의 영역(11A)에 심는 모발(12)의 굽힘 강성이 상이한 경우에는, 조정 영역(11C)에 중간적인 굽힘 강성을 가지는 모발을 심기 때문에, 가발 착용이 쉽게 노출되지 않는다.
이어서, 도 5에 나타낸 탑 착용형 가발의 경우에 대하여 설명한다. 도 9는, 탑 착용형 가발 베이스(31)를 모식적으로 나타낸 평면도이다. 도면 중의 화살표는 착용자의 전방을 나타낸다. 이 가발 베이스(31)는 가상선에 의해 복수의 영역으로 구분된다. 가발 베이스(31)는 착용자의 두부의 형상 및 치수에 따라 대략 좌우 대칭으로 구성되며, 심는 모발의 컬 직경 및/또는 길이를 영역마다 상이하도록 하기 위하여, 도 9에 나타낸 바와 같이, 5개의 영역에 분할되어 있다. 즉, 가발 베이스(31)는 그 중심 영역이 되는 천정부(31e)와, 이 천정부(31e)에 앞쪽으로 인접하는 전두부(31a), 천정부(31e)에 좌측으로 인접하는 좌측두부(31b)와 천정부(31e)의 우측으로 인접하는 우측두부(31c)와 천정부(31e)의 뒤쪽으로 인접하는 후두부(31d)로 가상적으로 분할된다. 상기 탑 착용형 가발 베이스(31)는, 도 6에 나타낸 프론트 은폐형 가발 베이스(11)와 상이하고, 가발 착용 영역이 착용자의 탑에만 국한되므로, 착용자의 당연히 존재하는 체입부나 이마를 부분적으로 덮도록 형성되지 않는다. 또한, 가발 베이스(31)는, 심는 모발의 굽힘 강성을 영역마다 상이하게 하기 위하여, 전두부(31a), 좌우의 측두부(31b, 31c) 및 후두부(31d)의 외부 둘레를 따라서 구성되는 전체 주변 영역(31A)과, 가발 베이스(31)의 중심 영역을 구획 형성하고 두부의 탑에 대응하는 주요 영역(31B)과, 전체 주변 영역(31A)과 주요 영 역(31B) 사이의 환형 조정 영역(31C)으로 별도로 가상적으로 3 분할된다. 여기에서, 주요 영역(31e)은 5 분할한 영역 중 천정부(31e)에 해당하고, 전체 주변 영역(31A)은 착용자의 가발 착용 영역의 내부 둘레에 인접하는 영역이다.
가발 베이스(31)의 각 영역의 최적 치수에 대하여 아래에 설명한다. 그리고, 가발 베이스(31)의 전두부(31a)의 전단과 후두부(31d)의 후단 사이에서 가발 베이스(31)의 곡면에 따른 길이를 L로 하고, 가발(31)의 좌측두부(31b)와 우측두부(31c)의 양단 사이에서 가발 베이스(31)의 곡면에 따른 길이를 D로 한다.
가발 베이스(31)의 전두부(31a) 및 후두부(31d)의 폭인 L6 및 L7은, 가발 베이스(31)의 전후 길이 L의 각각 1/4이 되는 길이로 한다. 또한, 좌우 양 측두부(31b 및 31c)의 길이인 D6 및 D7은, 좌우 길이 D의 각각 1/4이 되도록 한다. 이에 의해, 가발 베이스(31)의 천정부(31e)는, 가발 베이스(31)의 중심 영역에 있어서, 가발 베이스(31)의 전후 길이 L의 1/2의 전후 길이를 가지고, 또한, 가발 베이스(31)의 좌우 길이 D의 1/2의 좌우 길이를 가지도록 구획 형성된다. 또한, 전두부(31a), 좌측두부(31b), 우측두부(31c), 후두부(31d)의 각 영역을 대략 등분하는 위치를 경계선으로 하고, 가발 베이스(31)의 전체 주변 영역(31A)과 주요 영역(31B) 사이에 심은 모발이 나누어져서 가발 착용이 누출되는 것을 방지하기 위해, 조정 영역(31C)을 구획 형성한다. 이 경계선은 가발 베이스(31)의 외부 둘레와 천정부(31e)의 경계선의 중간 위치에 가발 베이스의 외부 둘레의 전체 둘레를 따라 설치된다.
도 10은 가발 베이스(31)의 각 영역의 최적 치수 설정을 설명하기 위한 모식도이다. 가발 베이스(31)의 전두부(31a)의 전단으로부터 후두부(31d)의 후단까지의 가발 베이스(31)에 따른 전후 방향의 길이를 L로 하고, 좌측두부(31b)의 좌측단과 우측두부(31c)의 우측단 사이의 가발 베이스(31)에 따른 좌우 방향의 길이를 D라 정의하는 것은 도 9의 경우와 마찬가지이다. 이 전후의 길이 L을 4 등분한 길이, 구역을 전두부 측으로부터의 순서로 L11∼L14로 하고, 좌우의 길이 D를 4 등분한 길이, 구역을 좌측두부 측으로부터 순서로 D11∼D14로 하여, 종횡 4 등분한 가상선을 도면상에 나타낸다.
천정부(31e)는 착용자의 외관이나 헤어스타일을 좌우하는 중요한 영역이므로, 가발 중심 근처에 가능한 넓게 확보할 필요가 있다. 따라서, 천정부(31e)는 도 10에 나타낸 바와 같이, 전두부(31a)와의 경계선(35a), 좌측두부(31b)와의 경계선(35b), 우측두부(31c)와의 경계선(35c) 및 후두부(31d)와의 경계선(35d)에 의해 구획 형성된다. 천정부(31e)는 좌측두부(31b)와의 경계선(35b) 및 우측두부(31c)와의 경계선(35c)이 L12+L13의 길이가 되는 구간이 되고, 전두부(31a)와의 경계선(35a) 및 후두부(31d)와의 경계선(35d)이 D12+D13의 길이가 되는 구간이 되도록, 가발 베이스(31)의 중심 영역에 구획 형성된다. 즉, 천정부(31e)의 영역은, 가발 베이스(31)의 전후 길이 L 및 좌우 길이 D의 각각 1/2의 길이로 구획 형성된다.
전두부(31a)는 천정부(31e)와의 경계선(35a) 및 좌우의 측두부(31b, 31c)와의 경계선(35e, 35f)으로 구획 형성된다. 천정부(31e)와의 경계선(35a) 상에서 좌 우의 길이가 D12+D13이 되고, 천정부(31e)와의 경계선(35a)로부터 가발 베이스(31)의 앞쪽 둘레까지의 길이가, 가발 베이스(31)의 전후 길이 L의 1/4의 비율이 되는 L11이 되도록 치수 설정된다. 전두부(31a)의 좌우의 측두부(31b, 31c)와의 경계선(35e, 35f)은, 천정부(31e)와의 경계선(35a)의 좌우의 양단으로부터 각각 좌우 경사 방향, 즉 도면 중의 화살표를 각각 대략 45도 좌우로 회전한 방향으로 연장 형성된다. 경계선(35e, 35f)이 각각 좌우 경사 방향으로 연장되어 있으므로, 전두부(31a)와 좌측두부(31b) 및 우측두부(31c)에 각각 심은 모발에 부적절한 모발의 분리가 생기지 않는다. 그러므로, 가발 착용의 노출을 방지할 수 있다.
좌측두부(31b)는, 전두부(31a)와의 경계선(35e), 천정부(31e)와의 경계선(35b) 및 후두부(31d)와의 경계선(35g)으로 구획 형성된다. 천정부(31e)와의 경계선(35b) 상에서 전후의 길이가 L12+L13이 되고, 천정부(31e)와의 경계선(35b)으로부터 가발 베이스(31)의 좌측 둘레까지의 길이가, 가발 베이스(31)의 좌우 길이 D의 1/4의 비율이 되는 D11로 치수 설정된다. 여기에서, 전두부(31a)와의 경계선(35e)은, 천정부(31e)와의 경계선(35b)의 전단으로부터 좌측 경사 방향으로 연장 형성되는 한편, 후두부(31d)와의 경계선(35g)은, 천정부(31e)와 후두부(31d)와의 경계선(35d)의 좌측 단부가 그 경계선(35d)을 따라 연장 형성되어 있다.
우측두부(31c)는, 전두부(31a)와의 경계선(35f), 천정부(31e)와의 경계선(35c) 및 후두부(31d)와의 경계선(35h)으로 구획 형성된다. 천정부(31e)와의 경 계선(35c) 상에서 전후의 길이가 L12+L13이 되고, 천정부(31e)와의 경계선(35c)으로부터 가발 베이스(31)의 우측 둘레까지의 길이가, 가발 베이스(31)의 좌우 길이 D의 1/4의 비율이 되는 D14로 치수 설정된다. 여기에서, 전두부(31a)와의 경계선(35f)은, 천정부(31e)와의 경계선(35c)의 전단으로부터 우측 경사 방향으로 연장 형성되는 한편, 후두부(31d)와의 경계선(35h)은, 천정부(31e)와 후두부(31d)와의 경계선(35d)를 우측으로 그 경계선(35d)을 따라 연장 형성되어 있다.
후두부(31d)는, 천정부(31e)와의 경계선(35d) 및 좌우의 측두부(31b, 31c)와의 경계선(35g, 35h)으로 구획 형성된다. 천정부(31e)와의 경계선(35d) 상에서 좌우의 길이는 D12+D13이지만, 좌우의 측두부(31b, 31c)의 외부 둘레까지 연장 형성되어 있다. 또한, 천정부(31e)와의 경계선(35d)으로부터 가발 베이스(31)의 뒤쪽 둘레까지의 길이가, 가발 베이스(31)의 전후 길이 L의 1/4의 비율이 되는 L14로 치수 설정된다. 여기에서, 후두부(31d)의 좌우의 측두부(31b, 31c)와의 경계선(35g, 35h)은, 천정부(31e)와 후두부(31d)와의 경계선(35d)을 좌우로 각각 연장 형성되어 있다. 그러므로, 후두부(31d)에 심어진 모발은, 착용자의 자모와 함께 두피에 납작하게 누워서, 자모와 모발이 친화된다. 따라서, 모발의 부적절한 분리가 생기지 않기 때문에, 가발 착용이 노출되는 것을 방지한다.
이상과 같이, 천정부(31e)는 착용자의 외관이나 헤어스타일을 좌우하는 중요한 영역에 있으므로, 가능한 넓게 확보할 필요가 있으므로, 세로 L의 1/2의 비율과 가로 D의 1/2의 비율의 각 치수를 가지도록 구성된다. 한편, 착용자의 자모의 컬 직경이나 길이를 배려해 선택된 모발이 심어진 전두부(31a), 좌우의 측두부(31b, 31c) 및 후두부(31d)는, 전두부(31a), 좌우의 측두부(31b, 31c), 후두부(31d)와의 경계선(35a∼35d)으로부터 외측 방향으로 개략 세로 L의 1/4의 비율과 가로 D의 1/4의 비율의 치수를 가지는 밸런스로 구분 배치된다. 이로써, 착용자의 외관이나 헤어스타일을 좌우하는 중요한 영역에 있는 천정부(33e)를 가능한 넓게 확보할 수 있고, 또한, 착용자의 자모의 컬 직경이나 길이에 맞춘 모발을 심는 전두부(31a), 좌우의 측두부(31b, 31c), 후두부(31d)의 각 영역에는, 착용자의 자모와 충분히 친화되는 모발을 심을 수 있다. 따라서, 착용자의 취향의 헤어스타일을 형성할 수 있으며, 가발에 심은 모발이 자모와 친화되어 가발 착용이 노출되지 않는다.
이어서, 도 10과 상이한 비율로 분할된 비교예를 설명한다.
도 11은, 가발 베이스의 영역 구분과 관련된 제1 비교예를 나타낸 도면이다. 도면 중의 L, D 및 화살표는 도 10의 경우와 동일하다. 도 11에 나타낸 가발 베이스(32)는, 도 10과 마찬가지로, 전두부(32a), 좌우의 측두부(32b, 32c), 후두부(32d) 및 천정부(32e)의 5개의 영역으로 구분되는 점에서 공통되어 있지만, 가발 베이스(32)의 전후 길이 L을 3 등분한 길이, 구역을 전두부 측으로부터의 순으로 L15∼L17로 하고, 좌우의 길이 D를 3 등분한 길이, 구역을 좌측두부 측으로부터의 순으로 D15∼D17로 하여, 종횡 각각 3 등분한 가상선을 도면상에 나타낸 점에서 도 10과 상이하다. 즉, 천정부(32e)는, 좌측두부(32b)와의 경계선(36b) 및 우측두부(32c)와의 경계선(36c)이 L16의 길이가 되는 구간이 되고, 전두부(32a)와의 경계 선(36a) 및 후두부(32d)와의 경계선(36d)이 D16의 길이가 되는 구간이 되도록, 가발 베이스(32)의 중심 영역에 구획 형성된다. 즉, 천정부(32e)의 영역은, 가발 베이스(32)의 전후 길이 L 및 좌우 길이 D의 각각 1/3의 길이로 구획 형성된다.
좌측두부(32b)는, 전두부(32a)와의 경계선(36e), 천정부(32e)와의 경계선(36b) 및 후두부(32d)와의 경계선(36g)으로 구획 형성되는 점에서 도 10의 경우와 동일하지만, 천정부(32e)와의 경계선(36b) 상에서 전후의 길이가 L16이 되고, 천정부(32e)와의 경계선(36b)으로부터 가발 베이스(32)의 좌측 둘레까지의 길이가 가발 베이스(32)의 좌우 길이 D의 1/3의 비율이 되는 D15가 되도록 치수 설정되는 점에서 도 10의 경우와 상이하다. 우측두부(32c)는, 전두부(32a)와의 경계선(36f), 천정부(32e)와의 경계선(36c) 및 후두부(32d)와의 경계선(36h)으로 구획 형성되는 점에서 도 10의 경우와 동일하지만, 천정부(32e)와의 경계선(36c) 상에서 전후의 길이가 L16이 되고, 천정부(32e)와의 경계선(36c)으로부터 가발 베이스(32)의 우측 둘레까지의 길이가 가발 베이스(32)의 좌우 길이 D의 1/3의 비율이 되는 D17이 되도록 치수 설정되는 점에서 상이하다. 좌우의 측두부(32b, 32c)에 있어서, 전두부(32a)와의 경계선(36e, 36f)이 천정부(32e)와의 경계선(36c)의 전단으로부터 좌우 경사 방향으로 연장 형성되며, 후두부(32d)와의 경계선(36g, 36h)이 천정부(32e)와 후두부(32d)와의 경계선(35d)을 좌우 측으로 연장 형성되는 점은 도 10과 동일하다.
도 11에 나타낸 영역 구분에서는, 천정부(32e)를 전후 길이 L의 1/3의 비율과 좌우 길이 D의 1/3의 비율로 치수 설정하므로, 첫째, 착용자의 외관이나 헤어스타일을 좌우하는 중요한 영역에 있는 천정부(32e)를 넓게 확보할 수 없고, 착용자가 원하는 헤어스타일을 형성할 수 없게 되므로 바람직하지 않다. 둘째, 천정부(32e)에 비해 전두부(32a), 좌우의 측두부(32b, 32c), 후두부(32d)의 각 영역의 면적이 넓어지고, 가발 베이스(32) 전체에 심어진 모발이 밸런스를 이루지 못하고, 가발 착용이 노출되므로 바람직하지 않다.
도 12는, 가발 베이스의 영역 구분과 관련된 제2 비교예를 나타낸 도면이다. 도면 중의 L, D 및 화살표는 도 10의 경우와 동일하다. 도 12에 나타낸 가발 베이스(33)는, 도 10과 마찬가지로, 전두부(33a), 좌우의 측두부(33b, 33c), 후두부(33d) 및 천정부(33e)의 5개의 영역으로 구분되는 점에서는 공통되지만, 가발 베이스(33)의 전후 길이 L을 5 등분한 길이, 구역을 전두부 측으로부터의 순으로 L18∼L32로 하고, 좌우의 길이 D를 5 등분한 길이, 구역을 좌측두부 측으로부터의 순으로 D18∼D22로 하고, 종횡 각각 5 등분한 가상선을 도면상에 나타낸 점에서 도 10과는 상이하다. 즉, 천정부(33e)는, 좌측두부(33b)와의 경계선(37b) 및 우측두부(33c)와의 경계선(37c)이 L19+L20+L21의 길이가 되는 구간이 되고, 전두부(33a)와의 경계선(37a) 및 후두부(33d)와의 경계선(37d)이 D19+D20+D21의 길이가 되는 구간이 되도록, 가발 베이스(33)의 중심 영역에 구획 형성된다. 즉, 천정부(33e)의 영역은, 가발 베이스(33)의 전후 길이 L 및 좌우 길이 D의 각각 3/5의 길이로 구획 형성된다.
좌측두부(33b)는, 전두부(33a)와의 경계선(37e), 천정부(33e)와의 경계선(37b) 및 후두부(33d)와의 경계선(37g)으로 구획 형성되는 점에서 도 10의 경우와 동일하지만, 천정부(33e)와의 경계선(37b) 상에서 전후의 길이가 L19+L20+L21이 되고, 천정부(33e)와의 경계선(37b)으로부터 가발 베이스(33)의 좌측 둘레까지의 길이가 가발 베이스(33)의 좌우 길이 D의 1/5의 비율이 되는 D18이 되도록 치수 설정되는 점에서 도 10의 경우와 상이하다. 우측두부(33c)는, 전두부(33a)와의 경계선(37f), 천정부(33e)와의 경계선(37c) 및 후두부(33d)와의 경계선(37h)으로 구획 형성되는 점에서는 도 10의 경우와 같지만, 천정부(33e)와의 경계선(37c) 상에서 전후의 길이가 L19+L20+L21이 되고, 천정부(33e)와의 경계선(37c)으로부터 가발 베이스(33)의 우측 둘레까지의 길이가, 가발 베이스(33)의 좌우 길이 D의 1/5의 비율이 되는 D22가 되도록 치수 설정되는 점에서 상이하다. 좌우의 측두부(33b, 33c)에 있어서, 전두부(33a)와의 경계선(37e, 37f)이 천정부(33e)와의 경계선(37c)의 전단으로부터 좌우 경사 방향으로 연장 형성되며, 후두부(33d)와의 경계선(37g, 37h)이 천정부(33e)와 후두부(33d)와의 경계선(37d)를 좌우 측으로 연장 형성되는 점은 도 10과 동일하다.
도 12에 나타낸 영역 구분에서는, 천정부(33e)를 전후 길이 L의 3/5의 비율과 좌우 길이 D의 3/5의 비율로 치수 설정하므로, 착용자의 외관이나 헤어스타일을 좌우하는 중요한 영역에 있는 천정부(33e)를 넓게 확보할 수 있다. 그러나, 착용자의 자모의 컬 직경이나 길이와 맞춘 모발을 심는 전두부(33a), 좌우의 측두부(33b, 33c), 후두부(33d)의 각 영역이 좁아지므로, 착용자의 자모와 심어진 모발이 충분히 친화되지 않으므로 바람직하지 않다.
그리고, 도 5에 나타낸 탑 착용형 가발 베이스(31)에 심어진 모발은, 도 9에 나타낸 바와 같이, 전체 주변 영역(31A), 주요 영역(31B) 및 그 사이의 조정 영역(31C)마다 결정된 소정의 굽힘 강성을 가진다. 가발 베이스(31)의 전체 주변 영역(31A)에 심어진 모발(32)은, 착용자의 탈모부 또는 박모부의 주변 영역에 자모와 혼합되어 배치되므로 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가진다. 이에 대해, 가발 베이스(31) 중 천정부(31e)의 영역(31B)에 심어진 모발은, 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가진다. 그리고, 가발 베이스(31)의 전체 주변 영역(31A)과 천정부(31e)의 영역(31B) 사이의 조정 영역(31C)에 심어진 모발은, 전체 주변 영역(31A)에 심어진 모발과 천정부(31e)의 영역(31B)에 심어진 모발의 중간적인 굽힘 강성을 가지도록 한다. 그리고, 중간적인 휨 강도를 가지도록 하기 위해, 후술하는 바와 같이, 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지는 모발과 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지는 모발을 소정의 개수의 비율로 혼합하거나, 전체 주변 영역(31A)에 심어진 모발의 굽힘 강성과 천정부(31e)의 영역(31B)에 심어진 모발의 굽힘 강성 사이의 소정값을 가지도록 구조나 치수를 조정한다. 이로써, 프론트 은폐형 가발과 마찬가지로, 탑 착용형 가발에 있어서도, 탈모부 주변의 자모와 가발 베이스(31)의 전체 주변 영역(31A)에 심은 모발이 친화되며, 또한, 가발 베이스에 심은 모발끼리의 단차가 형성되지 않고 친화되므로, 가발 착용이 쉽게 노출되지 않는다.
가발 베이스(31)의 영역마다 심어진 모발은, 소정의 굽힘 강성을 가질 뿐만 아니라, 영역마다 소정의 컬 직경 및/또는 길이를 가지는 것이 바람직하다. 즉, 탑 착용형 가발에서는, 전체 주위 영역(31A)에 심는 모발(32)은, 가발 착용 영역 주변의 자모와 동등한 굽힘 강성을 가질 뿐만 아니라, 컬 직경이나 길이가 동등한 것이 바람직하다. 천정부(31e)의 영역(31B)에 심는 모발(33)과 전체 주변 영역(31A)에 심는 모발(32)의 컬 직경이나 길이의 점에서 상이한 경우에는, 컬 직경 및/길이를 서서히 변화시킴으로써, 가발 베이스(31)에 심은 모발에 의해 단차가 형성되지 않고, 가발 착용이 노출되지 않는다. 가발을 착용하기 전, 또는 가발을 착용했을 때에, 가발 베이스(31)에 심은 모발에 컬을 부여하거나, 길이를 조정할 수는 있지만, 작업 공정이 복잡해지므로 바람직하지 않다.
여기에서, 가발 베이스에 대하여 영역마다 길이나 컬 직경이 동일한 모발을 심은 가발과 비교하면, 이 비교예의 가발에서는 각각의 길이나 컬 직경이 동일하므로, 전체적으로 모발이 너무 가지런하여 자유로운 헤어스타일을 형성할 수 없기 때문에 바람직하지 않다. 이와 같은 모발이 너무 가지런한 가발을 착용할지라도, 헤어스타일 조정을 위해, 가발 베이스에 심은 모발을 컷팅할 필요가 있다. 반대로, 가발 베이스에 대해 랜덤하게 길이 및 컬 직경이 상이한 모발을 심어서 형성된 가발과 비교하면, 이 비교예의 가발에서는 헤어스타일 자체가 자유스럽지만, 너무 뿔뿔이 흩어져서 헤어스타일로서의 정리면에서 부족하여 바람직하지 않다. 이에 비 해, 본 발명의 가발과 같이 가발 베이스의 영역마다, 소정의 길이 및 컬 직경의 모발을 심음으로써, 자유로운 헤어스타일을 형성할 수 있다.
이어서, 가발 베이스(11, 31)에 심어진 모발에 대하여 설명한다. 가발 베이스(11, 31)에 심는 모발은, 가발 베이스(11, 31)의 구분 영역마다, 상이한 굽힘 강성을 가지도록 형성할 수 있다. 모발로서, 예를 들면 시스/심 구조의 폴리아미드계 섬유로 형성되는 인공 모발을 사용할 수 있다.
이와 같은 시스/심 구조의 폴리아미드계 섬유로 형성되는 인공 모발은, 폴리아미드 섬유의 특징을 살려, 심부를 휨 강도가 높은 폴리아미드 섬유로 하고, 시스부를 심부보다 휨 강도가 낮은 폴리아미드 섬유로 하고, 시스부와 심부의 질량비를 조정함으로써, 인공 모발의 전체적인 굽힘 강성을 제어할 수 있다. 심부의 재료가 되는 폴리아미드 수지로서 강도와 강성이 높은 반방향족 폴리아미드 수지, 예를 들면, 화학식 1로 표현되는 헥사메틸렌디아민과 테레프탈산의 교호 공중합체로 형성되는 고분자, 예를 들면 나일론 6T 또는 화학식 2로 표현되는 아디프산과 메타크실렌디아민을 아미드 결합으로 교대로 결합한 고분자, 예를 들면 나일론 MXD6 등을 사용할 수 있다. 그리고, 심부의 재료로서 화학식 2로 표현되는 고분자 재료를 사용하여 형성되는 인공 모발이, 심부의 재료로서 화학식 1로 표현되는 고분자 재료를 사용하여 형성되는 인공 모발에 비하여 헤어 세팅이 쉬운 점에서 바람직하다.
Figure 112008060223937-pct00001
시스의 재료가 되는 폴리아미드 수지로서 심부의 재료보다 휨 강도가 낮은 폴리아미드 수지, 예를 들면 직쇄 포화 지방족 폴리아미드로서 화학식 3으로 표현되는 카프로락탐의 개환 중합체로 형성되는 고분자, 예를 들면 나일론 6 또는 화학식 4로 표현되는 헥사메틸렌디아민과 아디프산의 교호 공중합체로 형성되는 고분자, 예를 들면 나일론 66 등을 사용할 수 있다.
Figure 112008060223937-pct00002
이와 같이, 폴리아미드계 인공 모발로서 심부에 휨 강도가 높은 폴리아미드를 사용하고, 시스부에는 심부보다 휨 강도가 낮은 폴리아미드를 사용한 시스/심 구조로 하고, 그 시스부와 심부의 질량비를 조정함으로써, 원하는 굽힘 강성을 가지는 섬유를 얻을 수 있다.
이러한 굽힘 강성은 일반적으로 섬유 등에 적용되는 물성값이며, 모발의 경우에도 감촉(외관, 촉감, 질감) 등의 감각적인 성질과 상태에 관련된 물성으로서 최근 알려져 있다. 섬유의 휨 강도의 측정은 직물에 관한 川端식 측정법과 그 원리가 널리 알려져 있지만, 이를 개량한 싱글헤어벤팅테스터(가토텍(株) 제품, 모델 KES-FB2-SH)를 사용하여, 인공 모발의 휨 강도를 측정하였다. 인공 모발 및 천연 모발의 어느 쪽의 경우에도, 각 1cm의 1가닥에 대하여, 모발 전체를 일정 곡률까지 원호형으로 등속도로 굽혀, 그에 따른 미세한 흼 모멘트를 검출하고, 흼 모멘트와 곡률의 관계를 측정하였다. 이하, 흼 모멘트/곡률 변화에 의해 굽힘 강성을 구하였다. 대표적인 측정 조건을 아래에 나타낸다.
(측정 조건)
척(chuck) 사이 거리: 1cm
토크 검출기: 토션 와이어(스틸 와이어)의 토크 검출 방식
토크 감도: 1.Ogf·cm(Full Scale 10V)
곡률: ±2.5cm-1
휨 변위 속도: 0.5cm-1/sec
측정 사이클: 1왕복
여기서, 척은 상기 1cm의 각 모발을 협지하는 기구이다.
시스를 나일론 6 또는 나일론 66, 심을 나일론 6T 또는 나일론 MXD6으로 하고, 용융 방사시의 시스/심 성분의 토출 용량비가 1/2(시스/심의 질량비로 32/68) 에 가까운 값으로 제조한 인공 모발의 굽힘 강성은, 천연 모발의 굽힘 강성의 최소값(약 6.5×10-3gf·cm2/가닥) 부근이었다.
용융 방사시의 시스/심 성분의 토출 용량비가 1/7(시스/심의 질량비로 12/88)에 가까운 값으로 제조한 인공 모발에서는, 천연 모발의 굽힘 강성의 최대값(약 7.8×10-3gf·cm2/가닥) 부근이었다.
그리고, 천연 모발은 사람의 두부에 나 있는 일반적인 두발을 가리키지만, 천연 모발의 굽힘 강성은 개체별로 차가 크기 때문에, 연령층 20∼50대 각 층의 남성 25명, 여성 38명으로부터 두발을 채취하고, 그 중 직경 80㎛의 시료에 대한 휨 강도를 동일한 측정 환경하, 즉, 온도 22℃, 습도 40%의 환경하에서 측정한 값이다. 아래에 나타내는 굽힘 강성은 모두 온도 22℃, 습도 40%의 환경하에서의 값이다.
이어서, 이와 같이 소정의 굽힘 강성을 가지는 인공 모발을 가발 베이스에 심는 패턴에 대하여 설명한다.
먼저, 프론트 은폐형 가발의 경우를 설명한다. 도 13은 심어진 패턴이 제1 내지 제4 형태인 경우의 가발 베이스(11)에 심는 모발의 특성을 나타낸 도표이다.
가발 베이스(11)에 대한 모발의 심어진 패턴의 제1 형태를 설명한다. 제1 형태는 일반적인 착용자에게 적합하다. 가발용 모발은 시스/심 구조의 폴리아미드계 섬유로 구성되어 있다. 가발 베이스(11)의 주변부(11a)에는 천연 모발의 굽힘 강성의 최소값(약 6.5×10-3gf·cm2/가닥)보다 약 4O% 낮도록 3.9×10-3gf·cm2/가닥 의 굽힘 강성을 가지는 인공 모발을 심는다. 그 내측의 제2 대부(11e)에는 3.9×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 인공 모발과 6.5×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 인공 모발을 질량비가 절반이 되도록 균등하게 분포시켜 심는다. 그 내측의 제1 대부(11d), 천정부(11c) 및 전두부(11b)에는 6.5×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 인공 모발을 심는다. 여기에서, 천연 모발의 굽힘 강성은 개체별로 차가 있으며, 착용자의 두피로부터 자라는 모발은 일반적으로 휨 강도가 낮다. 제1 형태의 가발은, 착용자의 자모의 굽힘 강성이 약 3.4∼4.4×10-3gf·cm2/가닥인 경우를 상정한다. 그리고, 가발 중 적어도 주변부에 심는 모발의 굽힘 강성은 착용자의 자모의 굽힘 강성에 대하여, ±O.5∼O.8×10-3gf·cm2/가닥 정도이면 허용할 수 있는 범위이다. 이와 같이 일반적인 천연 모발보다 굽힘 강성이 낮은 인공 모발을 가발 베이스(11)의 주변부(11a)에 심음으로써, 심은 인공 모발이 착용자의 자모와 쉽게 친화된다.
이와 같이, 가발 베이스(11)의 주변부(11a)에 심어진 모발은 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성, 즉, 착용자의 자모와 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지는 한편, 자모와 섞일 가능성이 적은 천정부(11c) 및 전두부(11b)에 심어진 모발은, 주변부(11a)에 심어진 모발에 비해 높은 굽힘 강성을 가진다. 그러므로, 가발 베이스(11)의 주변부(11a)에 심어진 모발은, 착용자의 두피로부터 자라는 잔모와 쉽게 섞이고, 습도 등 환경의 영향에 대해 자모와 유사한 거동을 나타내므로, 가발 착용 이 노출될 가능성이 낮다. 또한, 전두부(11b), 천정부(11c) 및 제1 대부(11d)에 심어진 모발은, 착용자의 잔모보다 높은 강도를 가지므로, 착용자의 필요에 따라 각종 헤어스타일로 할 수 있다.
이어서, 가발 베이스(11)에 대한 모발의 심어진 패턴의 제2 형태를 설명한다. 제1 형태와 상이한 점은, 가발 베이스(11)의 전두부(11b), 천정부(11c) 및 제1 대부(11d)에 심어진 모발 및 제2 대부(11e)에 균등하게 혼합하여 심어진 모발의 강도를 낮게 한 점이다. 가발 베이스에 심어진 모발이 시스/심 구조의 폴리아미드 섬유로 구성되는 점은 제1 형태와 동일하다.
가발 베이스(11)의 주변부(11a)에는 3.9×10×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 인공 모발을 심는다. 내측의 제2 대부(11e)에는 3.9×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 인공 모발과 5.2×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 인공 모발을 질량비를 절반으로 혼합하여 균등하게 분포시켜 심는다. 내측의 제1 대부(11d), 천정부(11c) 및 전두부(11b)에는 5.2×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 인공 모발을 심는다.
제2 형태는 제1 형태와 달리, 전두부(11b), 천정부(11c) 및 제1 대부(11d)에 심어진 모발의 굽힘 강성이 제1 형태에 비하여 낮고, 가발에 심은 모발 전체가 천연 모발의 굽힘 강성보다 낮게 설정되어 있으므로, 비교적 부드러운 모발 질의 착용자에게 적합하다. 즉, 굽힘 강성이 약 3.1∼4.7×10-3gf·cm2/가닥의 자모를 가 지는 사용자에게 적절하다.
가발 베이스(11)에 대한 모발의 심어진 패턴의 제3 형태를 설명한다. 제1 형태와 상이한 점은, 제2 형태와는 반대로, 가발 베이스(11)의 전두부(11b), 천정부(11c) 및 제1 대부(11d)에 심어진 모발 및 제2 대부(11e)에 혼합하여 심어진 모발의 강도를 강하게 한 점이다. 가발 베이스(11)에 심어진 모발이 시스/심 구조의 폴리아미드 섬유로 구성되는 점은 제1 형태와 동일하다.
가발 베이스(11)의 주변부(11a)에는 3.9×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 인공 모발을 심는다. 내측의 제2 대부(11e)에는 3.9×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 인공 모발과 7.8×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 인공 모발을 질량비를 절반으로 혼합하여 균등하게 분포시켜 심는다. 내측의 제1 대부(11d), 천정부(11c) 및 전두부(11b) 에는 7.8×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 인공 모발을 심는다.
제1 형태와 달리, 전두부(11b), 천정부(11c) 및 제1 대부(11d)에 심어진 모발의 굽힘 강성을 제1 형태에 비해 높게 하고, 천연 모발과의 격차를 크게 하여, 볼륨감이나 강한 느낌을 갖도록 할 수가 있으며, 지금까지는 불가능했던, 예를 들면 모발이 일어서도록 하는 헤어스타일을 형성할 수 있다. 따라서, 볼륨감 있는 헤어스타일을 요구하는 착용자의 경우에 적합하다. 제3 형태의 가발은 착용자의 자모의 굽힘 강성이 약 3.4∼4.4×10-3gf·cm2/가닥인 경우를 상정한다.
가발 베이스(11)에 대한 모발의 심어진 패턴의 제4 형태를 설명한다. 제4 형태는, 제3 형태에 비하여 가발 베이스(11)의 주변부(11a)에 심어진 모발 및 제2 대부(11e)에 혼합하여 심어진 모발의 강도를 강하게 한 점에서 상이하다. 착용자의 잔모가 가발을 필요로 하지 않는 사람의 천연 모발과 동일한 정도의 강도를 가지는 경우에 적합하다. 가발 베이스(11)에 심어진 모발이 시스/심 구조의 폴리아미드 섬유로 구성되는 점은 제1 형태와 동일하다.
가발 베이스(11)의 주변부(11a)에는 5.2×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 인공 모발을 심는다. 내측의 제2 대부(11e)에는 5.2×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 인공 모발과 7.8×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 인공 모발을 질량비를 절반으로 혼합하여 분포시켜 심는다. 그 내측의 제1 대부(11d), 천정부(11c) 및 전두부(11b)에는 7.8×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 인공 모발을 심는다.
제3 형태와 달리, 착용자의 잔모의 강도가 일반적인 천연 모발과 동일한 강도를 가지는 경우, 즉, 착용자의 잔모의 굽힘 강성이 약 5.O∼6.5×10-3gf·cm2/가닥이면, 잔모와 동일한 정도의 강도를 가지는 인공 모발을 주변부(11a)에 심음으로써, 착용자의 잔모에 대응시킬 수가 있다. 가발 베이스(11)의 전두부(11b)나 천정부(11c)에는 강도가 큰 인공 모발이 심어져 있으므로, 볼륨감 있는 헤어스타일을 형성하고, 헤어의 혼란을 방지할 수 있다.
이상 설명한 바와 같이, 가발 베이스에 심어진 인공 모발은, 제1 내지 제4 형태 모두에서 시스/심 구조를 가지는 폴리아미드계 섬유로 구성되지만, 이하의 제 5 내지 제8 형태와 같이, 시스/심 구조의 폴리아미드계 섬유로 구성되는 제1 인공 모발과 폴리에스테르계 섬유로 구성되는 제2 인공 모발을 적당히 소정의 비율로 균일하게 혼합하여 가발 베이스의 구분 영역에 심을 수도 있다.
폴리에스테르계 섬유로 구성되는 제2 인공 모발은 다음과 같은 구조를 가진다. 폴리에스테르계 섬유로 구성되는 제2 인공 모발은, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트로 구성되는 섬유의 직경을 조정하거나, 방사시에 용융하는 원료로서의 폴리에틸렌테레프탈레이트와 폴리부틸렌테레프탈레이트의 혼합비를 조정함으로써, 모발의 굽힘 강성을 변경할 수 있다. 폴리에틸렌테레프탈레이트를 주성분으로 하는 인공 모발은 직경이 커지면 굽힘 강성이 직선적으로 증가한다. 예를 들면, 평균 직경이 50㎛에서 70㎛로 증가하면, 굽힘 강성이 6.7O×10-3gf·cm2/가닥에서 7.67×10-3gf·cm2/가닥으로 증가한다. 한편, 폴리에틸렌테레프탈레이트에 폴리부틸렌테레프탈레이트를 혼입하고, 그 혼입 비율을 증가시킴으로써, 굽힘 강성을 감소시킬 수 있다. 이 제2 인공 모발의 폴리에스테르계 인공 모발을 제1 인공 모발의 폴리아미드계 인공 모발에 분산시켜 혼입함으로써, 폴리아미드계 섬유의 인공 모발의 집속성(集束性)을 억제하고, 보다 천연 모발에 가까운 감촉을 얻을 수 있다.
가발 베이스(11)에 대한 모발의 심어진 패턴의 제5 형태를 설명한다. 도 14는 심어진 패턴이 제5 형태인 경우의 가발 베이스(11)에 심는 모발의 특성을 나타낸 도표이다. 이 제5 형태는 전술한 제1 형태의 변형예이다. 가발 베이스(11)에 심어진 모발로서 시스/심 구조의 폴리아미드계 섬유로 구성되는 제1 인공 모발과 폴리에스테르계 섬유로 구성되는 제2 인공 모발을 사용하는 점에서 상이하다.
가발 베이스(11)의 제2 대부(11e)에는, 3.9×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 제1 인공 모발과 6.5×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 제1 인공 모발을 질량비가 절반이 되도록 균등하게 분포시켜 혼합하고, 또한 6.5×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 제2 인공 모발을 균등하게 혼합하여 심는다. 이때, 제1 인공 모발과 제2 인공 모발의 혼합율을 질량비로 80:20으로 한다. 제1 대부(11d), 천정부(11c) 및 전두부(11b)에는, 각각, 6.5×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 제1 인공 모발과 6.5×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 제2 인공 모발을 균일하게 혼합하여 심는다. 이때, 제1 인공 모발과 제2 인공 모발의 혼합율을 질량비로 80:20으로 한다. 이상과 같이, 전두부(11b), 천정부(11c), 제1 대부(11d)에는, 제2 인공 모발인 폴리에스테르계 섬유가, 제1 인공 모발인 폴리아미드계 섬유 중에 혼합하여 심어져 있으므로, 폴리아미드계 섬유의 집속성을 억제하여 흐르는 듯한 느낌의 헤어스타일을 형성할 수 있다.
가발 베이스(11)에 대한 모발의 심어진 패턴의 제6 내지 제8 형태를 설명한다. 이 제6 내지 제8 형태는 각각 전술한 제2 내지 제4 형태의 변형예이다. 모두, 가발 베이스(11)에 심어진 모발로서 시스/심 구조의 폴리아미드계 섬유로 구성되는 제1 인공 모발과 폴리에스테르계 섬유로 구성되는 제2 인공 모발을 사용하는 점에서 상이하다.
도 15는 심어진 패턴이 제6 형태인 경우의 가발 베이스(11)에 심는 모발의 특성을 나타낸 도표이다. 제6 형태에서는, 가발 베이스(11)의 제2 대부(11e)에는 3.9×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 제1 인공 모발과 5.2×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 제1 인공 모발을 질량비가 절반이 되도록 균등하게 분포시켜서 혼합하고, 또한 6.5×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 제2 인공 모발을 균일하게 혼합하여 심는다. 이때, 제1 인공 모발과 제2 인공 모발의 혼합율을 질량비로80:20으로 한다. 제1 대부(11d), 천정부(11c) 및 전두부(11b)에는, 각각, 5.2×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 제1 인공 모발과 6.5×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 제2 인공 모발을 균일하게 혼합하여 심는다. 이때, 제1 인공 모발과 제2 인공 모발의 혼합율을 질량비로 80:20으로 한다.
도 16은 심어진 패턴이 제7 형태인 경우의 가발 베이스(11)에 심는 모발의 특성을 나타낸 도표이다. 제7 형태에서는 가발 베이스(11)의 제2 대부(11e)에는, 3.9×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 제1 인공 모발과 7.8×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 제1 인공 모발을 질량비로 절반이 되도록 균등하게 분포하도록 혼합하고, 또한 6.5×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 제2 인공 모발을 균일하게 혼합하여 심는다. 이때, 제1 인공 모발과 제2 인공 모발의 혼합율을 질량비로 80:20으로 한 다. 제1 대부(11d), 천정부(11c) 및 전두부(11b)에는, 각각, 7.8×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 제1 인공 모발과 6.5×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 제2 인공 모발을 균일하게 혼합하여 심는다. 이때, 제1 인공 모발과 제2 인공 모발의 혼합율을 질량비로 80:20으로 한다.
도 17은 심어진 패턴이 제8 형태인 경우의 가발 베이스(11)에 심는 모발의 특성을 나타낸 도표이다. 제8 형태에서는, 가발 베이스(11)의 제2 대부(11e)에는, 5.2×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 제1 인공 모발과 7.8×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 제1 인공 모발을 질량비로 절반이 되도록 균등하게 분포시켜 혼합하고, 또한 6.5×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 제2 인공 모발을 균일하게 혼합하여 심는다. 이때, 제1 인공 모발과 제2 인공 모발의 혼합율을 질량비로 80:20으로 한다. 제1 대부(11d), 천정부(11c) 및 전두부(11b)에는, 각각, 7.8×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 제1 인공 모발과 6.5×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 제2 인공 모발을 균일하게 혼합하여 심는다. 이때, 제1 인공 모발과 제2 인공 모발의 혼합율을 질량비로 80:20으로 한다.
제6 내지 제8 형태는, 제5 형태와 마찬가지로, 각각 제2 내지 제4 형태로서 나타낸 가발의 바람직한 경우에 있어서, 또한, 제2 인공 모발인 폴리에스테르계 섬유가 제1 인공 모발인 폴리아미드계 섬유의 집속성을 억제하여, 흐르는 듯한 느낌의 헤어스타일을 형성할 수 있다.
상기 제1 내지 제8 형태에서는, 프론트 은폐형 가발에 있어서 영역마다 굽힘 강성이 상이한 모발을 심는 경우를 나타내고 있지만, 제1 내지 제8 형태의 각 경우에 있어서, 5개의 영역마다 컬 직경 및/또는 길이가 상이한 모발을 심을 수도 있다. 이하, 제9 형태 및 제10 형태로서, 추가로 제1 형태에서 각 부위마다 컬 직경 및 길이가 정해진 모발을 심은 예를 설명하지만, 굽힘 강성은 가발 베이스의 영역에 따라서 상이하지 않고 대략 동일하며, 컬 직경 및/또는 길이가 상이하도록 할 수도 있다.
가발 베이스(11)에 대한 모발의 심어진 패턴의 제9 형태를 설명한다. 도 18은 심어진 패턴이 제9 형태인 경우의 가발 베이스(11)에 심는 모발의 특성을 나타낸 도표이다. 제9 형태와 제1 형태의 상이한 점은 주변부(11a), 전두부(11b), 천정부(11c), 제1 대부(11d) 및 제2 대부(11e)에 심어진 모발이, 심어진 부위마다 소정의 굽힘 강성을 가질 뿐만 아니라, 부위마다 소정의 컬 직경 및/또는 길이를 가지는 점이다.
주변부(11a)에는, 컬 직경이 35mm, 길이가 9cm, 굽힘 강성이 3.9×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 심는다. 전두부(11b)에는, 컬 직경이 23mm, 길이가 7cm, 굽힘 강성이 6.5×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 심는다. 천정부(11c)에는, 컬 직경이 26mm, 길이가 6cm, 굽힘 강성이 6.5×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 심는다. 제1 대부(11d)에는, 컬 직경이 28mm, 길이가 7cm, 굽힘 강성이 6.5×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 심는다. 제2 대부(11e)에는, 컬 직경이 32mm, 길이가 8cm, 굽힘 강성이 3.9×10-3gf·cm2/가닥인 모발과 컬 직경이 32mm, 길이가 8cm, 굽힘 강성이 6.5×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 절반씩 혼합하여 심는다.
가발 베이스(11)에 대한 모발의 심어진 패턴의 제10 형태를 설명한다. 도 19는 심어진 패턴이 제10 형태인 경우의 가발 베이스(11)에 심는 모발의 특성을 나타낸 도표이다. 제10 형태와 제1 형태의 상이한 점은 주변부(11a), 전두부(11b), 천정부(11c), 제1 대부(11d) 및 제2 대부(11e)에 심어진 모발이, 심어진 부위마다 소정의 굽힘 강성을 가질 뿐만 아니라, 부위마다 소정의 컬 직경 및/또는 길이를 가지는 점이다.
주변부(11a)에는, 컬 직경이 40mm, 길이가 10cm, 굽힘 강성이 3.9×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 심는다. 전두부(11b)에는, 컬 직경이 3Omm, 길이가 8cm, 굽힘 강성이 6.5×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 심는다. 천정부(11c)에는, 컬 직경이 3mm, 길이가 7cm, 굽힘 강성이 6.5×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 심는다. 제1 대부(11d)에는, 컬 직경이 35mm, 길이가 8cm, 굽힘 강성이 6.5×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 심는다. 제2 대부(11e)에는, 컬 직경이 4Omm, 길이가 9cm, 굽힘 강성이 3.9×10-3gf·cm2/가닥인 모발과 컬 직경이 4Omm, 길이가 9cm, 굽힘 강성이 6.5×10-3gf· cm2/가닥인 모발을 절반씩 혼합하여 심는다.
제9 형태 및 제10 형태로서, 제1 형태에서 각 부위마다 컬 직경 및 길이가 정해진 모발을 심은 예를 설명하였으나, 제2 형태 내지 제8 형태와 마찬가지로 각 부위마다 컬 직경 및 길이가 정해진 모발을 심은 가발을 구성할 수도 있다.
이어서, 탑 착용형 가발에 대하여 설명한다.
도 20은 심어진 패턴이 제11 내지 제13 형태인 경우의 가발 베이스(31)에 심는 모발의 특성을 나타낸 도표이다. 가발 베이스(31)에 대한 모발의 심어진 패턴의 제11 형태를 설명한다. 이 제11 형태는 일반적인 착용자에게 적합하다. 가발 베이스(31)에 심어진 모발은 시스/심 구조의 폴리아미드계 섬유로 구성되어 있다. 가발 베이스(31)의 전체 주변 영역(31A)에는 천연 모발의 굽힘 강성의 최소값(약 6.5×10-3gf·cm2/가닥)보다 약 4O% 낮은 3.9×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 인공 모발을 심는다. 그 내측의 조정 영역(31C)에는, 3.9×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 인공 모발과 6.5×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 인공 모발을 질량비가 절반이 되도록 균일하게 분포시켜 심는다. 그 내측의 천정부(31e)의 영역(31B)에는 6.5×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 인공 모발을 심는다. 여기에서, 천연 모발의 굽힘 강성은 개체마다 차이가 있으며, 가발을 필요로 하는 사람의 두피로부터 자라는 모발은 일반적으로 휨 강도가 낮다. 제11 형 태의 가발은 착용자의 자모의 굽힘 강성이 약 3.4∼4.4×10-3gf·cm2/가닥의 경우를 상정한다.
이와 같이, 가발 베이스(31)의 전체 주변 영역(31A)에 심어진 모발은, 평균적인 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성, 즉, 착용자의 자모와 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지는 한편, 자모와 섞일 가능성이 적은 천정부(31e)의 영역(31B)에 심어진 모발은, 전체 주변 영역(31A)에 심어진 모발에 비해 높은 굽힘 강성을 가진다. 그러므로, 가발 베이스(31)의 전체 주변 영역(31A)에 심어진 모발은, 착용자의 두피로부터 자라는 잔모와 쉽게 섞이고, 습도 등 환경의 영향에 대해 자모와 유사한 거동을 나타내므로, 가발 착용이 쉽게 노출되지 않는다. 또한, 천정부(31e)의 영역(31B) 및 조정 영역(31C)에 심어진 모발은, 착용자의 잔모보다 높은 강도를 가지므로, 볼륨감을 나타내기 쉬우며, 착용자의 필요에 따라 각종 헤어스타일로 할 수 있다.
가발 베이스(31)에 대한 모발의 심어진 패턴의 제12 형태를 설명한다. 제11 형태와 다른 점은, 가발 베이스(31)의 천정부(31e)의 영역(31B)에 심어진 모발 및 조정 영역(31C)에 균등하게 혼합하여 심어진 모발의 강도를 낮게 한 점이다. 모발이 시스/심 구조의 폴리아미드 섬유로 구성되는 점은 제11 형태와 동일하다. 가발 베이스(31)의 전체 주변 영역(31A)에는 3.9×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 인공 모발을 심는다. 내측의 조정 영역(31C)에는, 3.9×10-3gf·cm2/가닥의 굽 힘 강성을 가지는 인공 모발과 5.2×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 인공 모발을 질량비를 절반으로 혼합하여 균등하게 분포시켜 심는다. 또한 내측의 천정부(31e)의 영역(31B)에는 5.2×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성을 가지는 인공 모발을 심는다.
제12 형태는 제11 형태와 달리, 천정부(31e)의 영역(31B)에 심어진 모발의 굽힘 강성이 제11 형태에 비해 낮고, 가발에 심은 모발 전체를 천연 모발의 굽힘 강성보다 낮게 설정하므로, 비교적 부드러운 모발 질의 착용자에게 적합하다. 즉, 굽힘 강성이 약 3.1∼4.7×10-3gf·cm2/가닥의 자모를 가지는 사용자에 적합하다.
가발 베이스(31)에 대한 모발의 심어진 패턴의 제13 형태를 설명한다. 제11 형태와 다른 점은, 제12 형태와는 반대로, 가발 베이스(31)의 천정부(31e)의 영역(31B)에 심어진 모발 및 조정 영역(31C)에 혼합해 심어진 모발의 강도를 강하게 한 점이다. 모발이 시스/심 구조의 폴리아미드 섬유로 구성되는 점은 제11 형태와 동일하다. 가발 베이스(31)의 전체 주변 영역(31A)에는 3.9×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 인공 모발을 심는다. 내측의 조정 영역(31C)에는, 5.2×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 인공 모발과 6.5×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 인공 모발을 질량비를 절반으로 혼합하여 균등하게 분포시켜 심는다. 내측의 천정부(31e)의 영역(31B)에는 6.5×10-3gf·cm2/가닥의 굽힘 강성의 인공 모발을 심는다.
제11 형태와 달리, 천정부(31e)에 심어진 모발의 굽힘 강성을 제11 형태에 비해 높게 하고, 천연 모발과의 격차를 크게 하여, 볼륨감이나 강한 느낌을 갖도록 할 수 있어서 지금까지 불가능했던, 예를 들면 모발이 일어선 헤어스타일을 형성할 수 있다. 따라서, 볼륨감 있는 헤어스타일을 요구하는 착용자의 경우에 적합하다. 제13 형태의 가발은 착용자의 자모의 굽힘 강성이 약 3.4∼4.4×10-3gf·cm2/가닥의 경우를 상정한다.
상기 제11 내지 제13 형태에서는, 탑 착용형 가발에 있어서 영역마다 굽힘 강성이 상이한 모발을 심는 경우를 나타내고 있지만, 전술한 바와 같이, 프론트 은폐형 가발에 있어서의 제5 내지 제8 형태와 같이, 가발 베이스(31)에 심어진 모발로서 시스/심 구조의 폴리아미드계 섬유로 구성되는 제1 인공 모발과 폴리에스테르계 섬유로 구성되는 제2 인공 모발을 사용할 수도 있다. 또한, 제11 내지 제13 형태의 각 경우에 있어서, 5개의 영역마다 컬 직경 및/또는 길이가 상이한 모발을 심을 수도 있다. 이하, 제14 형태 및 제15 형태로서, 제11 형태에서 추가로 각 부위마다 컬 직경 및 길이가 정해진 모발을 심은 예를 설명하지만, 굽힘 강성은 가발 베이스의 영역에 상관없이 대략 동일하며, 컬 직경 및/또는 길이가 상이하도록 할 수도 있다.
가발 베이스(31)에 대한 모발의 심어진 패턴의 제14 형태를 설명한다. 도 21은 심어진 패턴이 제14 형태인 경우의 가발 베이스(31)에 심는 모발의 특성을 나타낸 도표이다. 제14 형태에서는, 가발 베이스(31)가 소정의 굽힘 강성의 모발을 심기 위한 영역 구분과 소정의 컬 직경 및/또는 길이의 모발을 심기 위한 영역 구분으로 별개로 상이하게 정해져 있다. 즉, 천정부(31e)인 주요 영역(31B)에는, 컬 직경이 3Omm, 길이가 18cm, 굽힘 강성이 6.5×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 심는다. 전체 주변 영역(31A)에서 전두부(31a)의 영역에는, 컬 직경이 30mm, 길이가 15cm, 굽힘 강성이 3.9×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 심는다. 전체 주변 영역(31A)에서 좌우의 측두부(31b, 31c)의 영역에는, 컬 직경이 35mm, 길이가 20cm , 굽힘 강성이 3.9×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 심는다. 전체 주변 영역(31A)에서 후두부(31d)의 영역에는, 컬 직경이 45mm, 길이가 30cm, 굽힘 강성이 3.9×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 심는다. 조정 영역(31C)에서 전두부(31a)의 영역에는, 컬 직경이 3Omm, 길이가 15cm, 굽힘 강성이 3.9×10-3gf·cm2/가닥인 모발과 컬 직경이 3Omm, 길이가 15cm, 굽힘 강성이 6.5×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 질량비를 절반으로 혼합하여 심는다. 조정 영역(31C)에서 좌우의 측두부(31b, 31c)의 영역에는, 컬 직경이 35mm, 길이가 2Ocm, 굽힘 강성이 3.9×10-3gf·cm2/가닥인 모발과 컬 직경이 35mm, 길이가 2Ocm, 굽힘 강성이 6.5×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 질량비를 절반으로 혼합하여 심는다. 조정 영역(31C)에서 후두부(31d)의 영역에는, 컬 직경이 45mm, 길이가 3Ocm, 굽힘 강성이 3.9×10-3gf·cm2/가닥인 모발과 컬 직경이 45mm, 길이가 3Ocm, 굽힘 강성이 6.5×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 질량비를 절반으로 혼합하여 심는다.
가발 베이스(31)에 대한 모발의 심어진 패턴의 제15 형태를 설명한다. 도 22는 심어진 패턴이 제15 형태인 경우의 가발 베이스(31)에 심는 모발의 특성을 나타낸 도표이다. 제15 형태에서는, 제14 형태와 마찬가지로, 가발 베이스(31)에 소정의 굽힘 강성의 모발을 심기 위한 영역 구분과 소정의 컬 직경 및/또는 길이의 모발을 심기 위한 영역 구분이 별개로 상이하게 정해져 있다. 즉, 천정부(31e)인 주요 영역(31B)에는, 컬 직경이 40mm, 길이가 25cm, 굽힘 강성이 6.5×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 심는다. 전체 주변 영역(31A)에서 전두부(31a)의 영역에는, 컬 직경이 35mm, 길이가 2Ocm, 굽힘 강성이 3.9×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 심는다. 전체 주변 영역(31A)에서 좌우의 측두부(31b, 31c)의 영역에는, 컬 직경이 45mm, 길이가 3Ocm, 굽힘 강성이 3.9×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 심는다. 전체 주변 영역(31A)에서 후두부(31d)의 영역에는, 컬 직경이 60mm, 길이가 35cm, 굽힘 강성이 3.9×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 심는다. 조정 영역(31C)에서 전두부(31a)의 영역에는, 컬 직경이 35mm, 길이가 2Ocm, 굽힘 강성이 3.9×10-3gf·cm2/가닥인 모발과 컬 직경이 35mm, 길이가 2Ocm, 굽힘 강성이 6.5×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 질량비를 절반으로 혼합하여 심는다. 조정 영역(31C)에서 좌우의 측두부(31b, 31c)의 영역에는, 컬 직경이 45mm, 길이가 30cm, 굽힘 강성이 3.9×10-3gf·cm2/가닥인 모발 과 컬 직경이 45mm, 길이가 3Ocm, 굽힘 강성이 6.5×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 질량비를 절반으로 혼합하여 심는다. 조정 영역(31C)에서 후두부(31d)의 영역에는, 컬 직경이 60mm, 길이가 35cm, 굽힘 강성이 3.9×10-3gf·cm2/가닥인 모발과 컬 직경이 6Omm, 길이가 35cm, 굽힘 강성이 6.5×10-3gf·cm2/가닥인 모발을 질량비를 절반으로 혼합하여 심는다.
제14 형태 및 제15 형태로서, 제11 형태에서 추가로 각 부위마다 컬 직경 및 길이가 정해진 모발을 심은 예를 설명하였으나, 제12 형태 및 제13 형태에서도 마찬가지로 각 부위마다 컬 직경 및 길이가 정해진 모발을 심은 가발을 구성할 수도 있다.
이와 같이, 가발 베이스(11, 31)의 천정부(11c, 31e)의 영역에 굽힘 강성이 높은 모발을 심을 수 있으므로, 식모 작업시, 모발의 뿌리 근처에 미세한 간격으로 파형을 주는, 이른바 크림핑 가공(crimping)을 행하여 심은 후의 모발이 일어서도록 할 필요가 없으며, 크리핑 가공에 의해 곱슬머리가 되지 않고, 외관이 손상되지도 않는다. 또한, 가발 베이스(11, 31)에 심는 모발의 밀도를 크게 할 필요도 없으므로, 헤어스타일의 외관 자체가 변하지도 않는다.
이상 설명한 심어진 패턴에 한정되지 않고, 특허 청구의 범위에 기재한 발명의 범위 내에서 적당히 변경할 수 있다. 예를 들면, 가발 베이스에 심는 모발의 영역에 따라, 모발의 굽힘 강성뿐만 아니라, 모발의 길이나 굵기, 색상, 기타 모발에 부여되는 컬의 크기 등을 조정하여, 가발 착용의 노출 없이 착용자 취향의 헤어 스타일을 형성할 수 있다.

Claims (12)

  1. 가발 베이스와 상기 가발 베이스에 심어진 모발을 포함하는 가발로서,
    상기 가발 베이스가 좌우측두부 측의 주변부 및 후두부 측의 주변부를 포함하여 복수의 영역으로 구분되며,
    상기 가발 베이스의 구분된 영역에 심어진 모발이 영역마다 설정된 소정의 굽힘 강성을 가지고,
    상기 주변부에 심어진 모발이 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지는 것을 특징으로 하는 가발.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 가발 베이스 상의 구분된 영역 중 상기 가발 베이스의 중심 영역이 되는 천정부로 근접할수록 상기 주변부에 심어진 모발보다 굽힘 강성이 높은 모발이 심어진 것을 특징으로 하는 가발.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 가발 베이스가, 적어도 가발 베이스의 중심 영역이 되는 천정부와, 상기 주변부와, 상기 주변부를 따라 상기 천정부와 상기 주변부 사이에 구획 형성되는 중간 영역으로 구분되며,
    상기 천정부에 심어진 모발이 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지고,
    상기 주변부에 심어진 모발이 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지고,
    상기 중간 영역에, 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지는 모발과 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지는 모발이 혼재되어 심어진 것을 특징으로 하는 가발.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 가발 베이스의 구분된 영역에 심어진 모발이, 영역마다 설정된 소정의 컬 직경 및/또는 길이를 가지고,
    상기 주변부에 심어진 모발이, 착용자의 두피로부터 자라는 자모(自毛)와 동일한 정도의 컬 직경 및/또는 길이를 가지는 것을 특징으로 하는 가발.
  5. 가발 베이스와 상기 가발 베이스에 심어진 모발을 포함하는 가발로서,
    상기 가발 베이스가, 전두부 측의 주변, 좌우측두부 측의 주변 및 후두부 측의 주변으로 이루어진 전체 주변부를 포함하는 복수의 영역으로 구분되며,
    상기 가발 베이스의 구분된 영역에 심어진 모발이 영역마다 설정된 소정의 굽힘 강성을 가지고,
    상기 전체 주변부에 심어진 모발이 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지는 것을 특징으로 하는 가발.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 가발 베이스가, 가발 베이스의 중심 영역이 되는 천정부와, 전두부 측의 주변, 좌우측두부 측의 주변 및 후두부 측의 주변으로 이루어진 상기 전체 주변부와, 상기 전체 주변부를 따라 상기 천정부와 상기 전체 주변부 사이에 구획 형성되는 중간 영역으로 구분되며,
    상기 천정부에 심어진 모발이 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지고,
    상기 전체 주변부에 심어진 모발이 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지고,
    상기 중간 영역에, 천연 모발과 동일한 정도의 굽힘 강성을 가지는 모발과 천연 모발보다 낮은 굽힘 강성을 가지는 모발이 혼재되어 심어진 것을 특징으로 하는 가발.
  7. 제5항에 있어서,
    상기 가발 베이스의 구분된 영역에 심어진 모발이 영역마다 설정된 소정의 컬 직경 및/또는 길이를 가지고,
    상기 전체 주변부에 심어진 모발이 착용자의 두피로부터 자라는 자모와 동일한 정도의 컬 직경 및/또는 길이를 구비한 것을 특징으로 하는 가발.
  8. 제1항에 있어서,
    상기 모발이, 심부와 상기 심부(芯部)를 덮는 시스(sheath)부로 이루어지는 시스/심 구조를 가지며, 상기 심부가 폴리아미드 수지로 형성되고, 상기 시스부가 상기 심부보다 강도가 낮은 폴리아미드 수지로 형성되고, 상기 시스부와 상기 심부의 질량비에 의하여 굽힘 강성이 제어되는 것을 특징으로 하는 가발.
  9. 제1항에 있어서,
    상기 모발이 폴리아미드계 수지로 형성되는 제1 인공 모발과 폴리에스테르계 수지로 형성되는 제2 인공 모발을 소정의 비율로 혼합시켜서 형성되며,
    상기 제1 인공 모발이 심부와 상기 심부를 덮는 시스부로 이루어지는 시스/심 구조를 가지며,
    상기 심부가 폴리아미드 수지로 형성되고, 상기 시스부가 상기 심부보다 강도가 낮은 폴리아미드 수지로 형성되고, 상기 시스부와 상기 심부의 질량비에 의하여 굽힘 강성이 제어되는 것을 특징으로 하는 가발.
  10. 제5항에 있어서,
    상기 모발이 심부와 상기 심부를 덮는 시스부로 이루어지는 시스/심 구조를 가지며,
    상기 심부가 폴리아미드 수지로 형성되고, 상기 시스부가 상기 심부보다 강도가 낮은 폴리아미드 수지로 형성되고, 상기 시스부와 상기 심부의 질량비에 의하여 굽힘 강성이 제어되는 것을 특징으로 하는 가발.
  11. 제5항에 있어서,
    상기 모발이 폴리아미드계 수지로 형성되는 제1 인공 모발과 폴리에스테르계 수지로 형성되는 제2 인공 모발을 소정의 비율로 혼합시켜서 형성되며,
    상기 제1 인공 모발이 심부와 상기 심부를 덮는 시스부로 이루어지는 시스/심 구조를 가지며,
    상기 심부가 폴리아미드 수지로 형성되고, 상기 시스부가 상기 심부보다 강도가 낮은 폴리아미드 수지로 형성되고, 상기 시스부와 상기 심부의 질량비에 의하여 굽힘 강성이 제어되는 것을 특징으로 하는 가발.
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