KR100990410B1 - 노광장치 및 디바이스 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (5)
- 원판의 패턴 상을 기판 위에 투영하는 노광장치로서, 상기 노광장치는 투영 광학계와, 가동체를 위치 결정하도록 동작가능한 위치결정장치를 구비하고, 상기 원판을 홀드하는 원판 스테이지 및 상기 기판을 홀드하는 기판 스테이지 중의 적어도 하나를 포함하며, 상기 위치결정장치는,상기 가동체를 구동하는 구동부와,상기 구동부에 전력을 공급하는 전원과,상기 가동체의 구동을 정지시키는 수신된 정지 명령 신호에 응답하여, 상기 구동부에 의해 구동된 상기 가동체의 구동상태에 따라 결정되는 시간의 경과 후에 상기 전원으로부터 상기 구동부로의 전력공급을 정지시키는 제어부를 구비한 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 위치결정장치는, 상기 가동체의 위치, 속도 및 가속도 중의 한 개 이상을 갖는 정보를 검출하는 센서를 더 구비하고,상기 제어부는, 상기 검출된 정보에 의거하여 상기 시간을 결정하는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 정지 명령 신호는, 상기 구동부를 정지시키는 것을 명령하는 스위치의 조작에 따라 발신되는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 제 1 항에 있어서,상기 구동부는, 다이내믹 브레이크를 포함하고,상기 제어부는, 상기 전원에 의한 전력공급에 이상이 검출된 것에 응답해서 상기 다이내믹 브레이크를 작동시키는 것을 특징으로 하는 노광장치.
- 청구항 1 내지 4 중 어느 한 항에 기재된 노광장치를 이용해서 기판을 방사 에너지에 노광하는 것과,노광한 기판을 현상하는 것과,현상한 기판을 처리해서 디바이스를 제조하는 것을 포함한 것을 특징으로 하는 디바이스 제조방법.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2007205848A JP2009043852A (ja) | 2007-08-07 | 2007-08-07 | 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法 |
JPJP-P-2007-00205848 | 2007-08-07 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20090014991A KR20090014991A (ko) | 2009-02-11 |
KR100990410B1 true KR100990410B1 (ko) | 2010-10-29 |
Family
ID=39870019
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020080076853A KR100990410B1 (ko) | 2007-08-07 | 2008-08-06 | 노광장치 및 디바이스 제조방법 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7639344B2 (ko) |
EP (1) | EP2023206A1 (ko) |
JP (1) | JP2009043852A (ko) |
KR (1) | KR100990410B1 (ko) |
TW (1) | TW200919110A (ko) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NL2004401A (en) * | 2009-04-15 | 2010-10-18 | Asml Netherlands Bv | Lithographic apparatus, positioning system, and positioning method. |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000228342A (ja) | 1999-02-04 | 2000-08-15 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2001060614A (ja) | 1999-06-15 | 2001-03-06 | Canon Inc | 半導体製造装置及び半導体デバイス製造方法 |
Family Cites Families (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5040431A (en) * | 1988-01-22 | 1991-08-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Movement guiding mechanism |
JPH07191757A (ja) * | 1993-12-24 | 1995-07-28 | Canon Inc | 位置決めステージ装置 |
JPH07321024A (ja) * | 1994-05-25 | 1995-12-08 | Canon Inc | 位置決め方法およびその装置ならびにこれらを用いた露光装置 |
JPH07328966A (ja) | 1994-06-07 | 1995-12-19 | Fanuc Ltd | ロボットのブレーキ制御方式 |
JPH0878506A (ja) * | 1994-09-05 | 1996-03-22 | Canon Inc | 位置決め制御装置 |
US6566770B1 (en) * | 1999-06-15 | 2003-05-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Semiconductor manufacturing apparatus and device manufacturing method |
JP4266260B2 (ja) * | 1999-12-08 | 2009-05-20 | 西部電機株式会社 | 物品の切出し搬送装置の緊急停止方法 |
-
2007
- 2007-08-07 JP JP2007205848A patent/JP2009043852A/ja active Pending
-
2008
- 2008-08-04 US US12/185,272 patent/US7639344B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2008-08-06 TW TW097129848A patent/TW200919110A/zh unknown
- 2008-08-06 KR KR1020080076853A patent/KR100990410B1/ko active IP Right Grant
- 2008-08-07 EP EP08162028A patent/EP2023206A1/en not_active Withdrawn
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2000228342A (ja) | 1999-02-04 | 2000-08-15 | Canon Inc | 露光装置 |
JP2001060614A (ja) | 1999-06-15 | 2001-03-06 | Canon Inc | 半導体製造装置及び半導体デバイス製造方法 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP2023206A1 (en) | 2009-02-11 |
US20090040499A1 (en) | 2009-02-12 |
JP2009043852A (ja) | 2009-02-26 |
KR20090014991A (ko) | 2009-02-11 |
US7639344B2 (en) | 2009-12-29 |
TW200919110A (en) | 2009-05-01 |
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