JPH07321024A - 位置決め方法およびその装置ならびにこれらを用いた露光装置 - Google Patents

位置決め方法およびその装置ならびにこれらを用いた露光装置

Info

Publication number
JPH07321024A
JPH07321024A JP13522494A JP13522494A JPH07321024A JP H07321024 A JPH07321024 A JP H07321024A JP 13522494 A JP13522494 A JP 13522494A JP 13522494 A JP13522494 A JP 13522494A JP H07321024 A JPH07321024 A JP H07321024A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
piezoelectric element
control
movement stage
command value
positioning
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP13522494A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Kurosawa
博史 黒沢
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Priority to JP13522494A priority Critical patent/JPH07321024A/ja
Priority to US08/448,872 priority patent/US5661388A/en
Publication of JPH07321024A publication Critical patent/JPH07321024A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691Handling of masks or workpieces
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B19/00Programme-control systems
    • G05B19/02Programme-control systems electric
    • G05B19/18Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form
    • G05B19/19Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path
    • G05B19/39Numerical control [NC], i.e. automatically operating machines, in particular machine tools, e.g. in a manufacturing environment, so as to execute positioning, movement or co-ordinated operations by means of programme data in numerical form characterised by positioning or contouring control systems, e.g. to control position from one programmed point to another or to control movement along a programmed continuous path using a combination of the means covered by at least two of the preceding groups G05B19/21, G05B19/27 and G05B19/33
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/41Servomotor, servo controller till figures
    • G05B2219/41326Step motor
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/41Servomotor, servo controller till figures
    • G05B2219/41344Piezo, electrostrictive linear drive
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/41Servomotor, servo controller till figures
    • G05B2219/41457Superposition of movement
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/42Servomotor, servo controller kind till VSS
    • G05B2219/42122First open loop, then closed loop
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/42Servomotor, servo controller kind till VSS
    • G05B2219/42126Bumpless, smooth transfer between two control modes
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/42Servomotor, servo controller kind till VSS
    • G05B2219/42209Two slides, fine and quick, coarse and slow, piggyback, multirate positioner
    • GPHYSICS
    • G05CONTROLLING; REGULATING
    • G05BCONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS OR ELEMENTS
    • G05B2219/00Program-control systems
    • G05B2219/30Nc systems
    • G05B2219/45Nc applications
    • G05B2219/45027Masking, project image on wafer semiconductor, photo tracer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Human Computer Interaction (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Automation & Control Theory (AREA)
  • Control Of Position Or Direction (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Automatic Control Of Machine Tools (AREA)
  • Machine Tool Units (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 制御系の切換えによって圧電素子の駆動電圧
が急激に変化するのを防ぐ。 【構成】 位置決め装置のY軸微動ステージを駆動する
Y圧電素子210の圧電素子駆動回路201は、交互に
Y圧電素子210の駆動電圧を制御する開ループ駆動ラ
イン208と閉ループ駆動ライン209を有し、Y圧電
素子210が開ループ駆動ライン208によって駆動さ
れているときはその出力が第1および第2の分岐ライン
211,212によって閉ループ駆動ライン209に導
入され、閉ループ駆動ライン209に切換えるときにY
圧電素子210の駆動電圧が急激に変化するのを防ぐ。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、露光装置のウエハ等基
板を露光光に対して位置決めする位置決め方法およびそ
の装置ならびにこれらを用いた露光装置に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】近年、半導体製品の高集積化が進み、微
細パターンの転写焼付けを行う露光装置にはより一層の
転写焼付け精度の向上が要求されている。露光装置の転
写焼付け精度の向上のためには、まずウエハ等基板を露
光光に対して位置決めする位置決め装置の精度を向上さ
せることが必要であり、また、半導体製品の製造コスト
を下げるには、大量生産を可能にするためにウエハ等基
板の大形化が望まれこのためには位置決め装置の長スト
ローク化が不可欠である。さらには、位置決めの高速化
や位置決め装置の耐久性の向上も望まれる。そこで、ウ
エハ等基板を吸着した移動台を高速度でステップ移動さ
せる粗動ステージ機構と、レーザ干渉計によって移動台
の現在位置を検出し、目標位置との差に基づいて高精度
の位置決めを行う微動ステージ機構を有する粗微動分離
型の位置決め装置が開発された(特開平03−2829
12号公報参照)。
【0003】図24は粗微動分離型の位置決め装置の概
念を説明するもので、これは、サーボモータC1 によっ
て回転される摩擦ロールC2 によって所定の方向に摩擦
駆動される粗動ステージC3 と、粗動ステージC3 上に
複数の板バネF1 を介して支持され、圧電素子F2 によ
って前記方向に微小量だけ駆動される微動ステージF3
からなり、サーボモータC1 の駆動量は図示しないコン
ピュータの粗動ステージ駆動回路によって制御され、圧
電素子F2 の駆動量は、粗動ステージC3 のステップ移
動中は前記コンピュータの指令によって一定の値に維持
され、粗動ステージC3 がステップ移動を完了したのち
には、微動ステージF3 と一体であるミラーF4 の反射
光を受光するレーザ干渉計F5 の出力と前記コンピュー
タに記憶された目標位置との差に基づいて制御される。
【0004】図25は圧電素子F2 の駆動回路を説明す
るもので、これは、コンピュータから送信される開ルー
プ指令値を入力スイッチS1 の一方の接点T1 に導入す
る開ループ指令ラインL1 と、前記コンピュータから送
信される閉ループ指令値を差分器S2 に導入する閉ルー
プ指令ラインL2 と、入力スイッチS1 に接続されたD
/AコンバータS3 と、D/AコンバータS3 の出力電
圧をそのまま出力スイッチS4 の一方の接点T3 に導入
する開ループ駆動ラインL3 と、D/AコンバータS3
の出力電圧を積分器S5 とフィルタS6 を経て出力スイ
ッチS4 の他方の接点T4 に導入する閉ループ駆動ライ
ンL4 からなり、差分器S2 はレーザ干渉計F5 の出力
とコンピュータの閉ループ指令値との差を算出し、これ
を入力スイッチS1 の他方の接点T2 に導入する。出力
スイッチS4 はアンプS7 を介して圧電素子F2 に接続
され、出力スイッチS4 の接点T3 ,T4 を経て圧電素
子F2 に導入された電圧は圧電素子F2 を伸縮させるこ
とで微動ステージF3 を移動させる。出力スイッチS4
の切換えは入力スイッチS1 の切換えと同期して行わ
れ、D/AコンバータS3 が開ループ指令ラインL1
の接点T1 に接続されたときは開ループ駆動ラインL3
の出力電圧が圧電素子F2 を駆動し、他方、D/Aコン
バータS3 が差分器S2 側の接点T2 に接続されたとき
は閉ループ駆動ラインL4 の出力電圧が圧電素子F2
駆動するように構成される。前述のように、粗動ステー
ジ駆動回路はサーボモータC1 によって粗動ステージC
3 をステップ移動させて微動ステージF3 上のウエハ等
基板の大まかな位置決めを高速度で行い、この間、圧電
素子F2 の駆動電圧は開ループ駆動ラインL3 の出力す
なわち開ループ指令値に基づくD/AコンバータS3
出力電圧に保たれる。微動ステージF3 が目標位置まで
所定の誤差の範囲に到達すると入力スイッチS1 と出力
4 の切換えが行われ、以後は圧電素子F2 の駆動電圧
が閉ループ駆動ラインL4 の出力すなわち閉ループ指令
値とレーザ干渉計F5 の出力の差に基づくD/Aコンバ
ータS3 の出力電圧に制御され、微動ステージF3 を目
標位置へ到達させる。
【0005】また、圧電素子による微動ステージの位置
決めを終了して微動ステージ上のウエハを露光すると
き、露光中に図示しないアライメント光学系によってウ
エハとマスクの間の位置ずれを検出し、これに基づいて
微動ステージを駆動するいわゆるリアルタイムAA制御
を行うときも、上記と同様のスイッチの切換えが必要で
ある。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
の技術によれば、スイッチの切換え等によって圧電素子
の駆動電圧が急激に変化するため、圧電素子の寿命が極
めて短いうえに移動台や粗動ステージと圧電素子との間
の連結部が劣化して位置決め精度の低下や疲労破壊を招
くおそれがある。
【0007】なお、微動ステージを駆動する圧電素子に
替えて、公知のパルスモータ等の微駆動装置を用いる場
合も、圧電素子と同様に、スイッチの切換えによる駆動
力の急激な変化はパルスモータ等の寿命を短縮し、位置
決め精度の低下を招く。
【0008】本発明は上記従来の技術の有する問題点に
鑑みてなされたものであり、粗動ステージ上の移動台を
移動させる圧電素子等の駆動手段の制御系の切換えが行
われるときに、駆動手段の駆動力が急激に変化するのを
防ぐことができる位置決め方法およびその装置ならびに
これらを用いた露光装置を提供することを目的とするも
のである。
【0009】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
め本発明の位置決め方法は、粗動ステージ上の移動台を
微小量だけ移動させる駆動手段を一対の切換え自在な制
御系によって交互に制御する位置決め方法であって、前
記一対の制御系を切換えるときに両者の制御量を一時的
に等しくすることを特徴とする。
【0010】制御系を切換える前に一方の制御系に他方
の制御系の制御量を導入するとよい。
【0011】また、制御系を切り換えた後に一方の制御
系の制御量を所定量ずつあるいは所定の比率で所定の値
まで変化させるシーケンスを有するとよい。
【0012】また、本発明の位置決め装置は、粗動ステ
ージ上の移動台を微小量だけ移動させる駆動手段と、該
駆動手段を交互に制御する一対の切換え自在な制御系
と、該一対の制御系のうちの一方の制御量を他方に導入
する分岐手段を有することを特徴とする。
【0013】
【作用】両制御系を切換えるときに両者の制御量が同じ
であるから駆動手段の駆動力が非連続的に変化するおそ
れがない。両制御系の切換え後に一方の制御系の出力を
ゆるやかに変化させることで、駆動手段の駆動力が急激
に変化するのを防ぐことができる。
【0014】
【実施例】本発明の実施例を図面に基いて説明する。
【0015】図1は第1実施例による露光装置に用いら
れる位置決め装置E−1の全体的な構成を説明するもの
で、これは、架台B1 に支持されたY軸粗動ステージ1
1とこれに支持されたX軸粗動ステージ12からなる粗
動ステージである粗動ステージ機構10と、X軸粗動ス
テージ12に支持されたZ軸チルトステージ13とそれ
ぞれ移動台であるY軸微動ステージ21とX軸微動ステ
ージ22と微回動ステージ23からなり、Y軸微動ステ
ージ21とX軸微動ステージ22は微動ステージ機構2
0を構成し、微回動ステージ23はウエハW1 を吸着す
るウエハチャック30を支持し、ウエハチャック30の
位置は、これと一体であるL形のミラー30aの反射光
を受光する複数のレーザ干渉計からなる現在位置検出装
置40によって検出される。
【0016】なお、ウエハチャック30の図示左側に
は、ウエハW1 に微細パターンを転写するための公知の
露光手段である露光光学系(図示せず)が設けられてい
る。
【0017】粗動ステージ機構10は、Y軸粗動ステー
ジ11およびX軸粗動ステージ12によってウエハW1
を直交する2軸(以下、それぞれ「X軸」、「Y軸」と
いう。)のそれぞれの方向へステップ移動させて大まか
な位置決めを行うものであり、Z軸チルトステージ13
は、ウエハW1 を前記2軸に垂直な軸(以下、「Z軸」
という。)に沿って移動させたり、Z軸に対する傾斜角
度ωx、ωyを調節することによって露光光に対するウ
エハW1 の垂直度の調節等を行う。微動ステージ機構2
0のY軸微動ステージ21とX軸微動ステージ22はY
軸方向とX軸方向にそれぞれ微小量だけ駆動されるもの
で、粗動ステージ機構10によるウエハW1 の大まかな
位置決めが完了したのちに、後述するように、現在位置
検出装置40によって検出されたウエハW1 のX軸方向
およびY軸方向の位置(以下、それぞれ、「X現在位
置」、「Y現在位置」という。)とコントローラ50の
主コンピュータ50aに記憶された目標位置との差に基
づいて駆動される。また、微回動ステージ23は現在位
置検出装置40によって測定されたウエハW1 のZ軸の
まわりの回動角度(以下、「ωz現在位置」という。)
に基づいて制御される。
【0018】なお、後述するように、粗動ステージ機構
10はY電動シリンダ14とX電動シリンダ15によっ
て駆動され、また、Z軸チルトステージ13と微動ステ
ージ機構20と微回動ステージ23はそれぞれ圧電素子
からなるZアクチュエータ132a〜132c(図7に
示す)とそれぞれ駆動手段であるY圧電素子210とX
圧電素子310とωz圧電素子410(図9に示す)に
よって微駆動されるもので、これらの電動シリンダおよ
び圧電素子等は主コンピュータ50aを有するコントロ
ーラ50の粗動ステージ駆動回路50b、Z軸チルトス
テージ駆動回路50c、微動ステージ機構駆動回路50
d、微回動ステージ駆動回路50eによってそれぞれ制
御される。
【0019】図2は、微動ステージ機構20のY軸微動
ステージ21を駆動するY圧電素子210の圧電素子駆
動回路201を説明するもので、圧電素子駆動回路20
1は、主コンピュータ50aから送信される指令値であ
る開ループ指令値v0 を入力スイッチ202の一方の接
点202aに導入する開ループ指令ライン203と、主
コンピュータ50aから閉ループ指令ライン204を経
て送信される目標位置である閉ループ指令値v1 と現在
位置検出装置40の出力ve (Y現在位置)との差を算
出する差分器204aと、これと入力スイッチ202の
他方の接点202bを接続する差分値導入ライン204
bと、ビットスライサ205を介して入力スイッチ20
2に接続されたD/Aコンバータ206と、D/Aコン
バータ206の出力電圧をそのまま出力スイッチ207
の一方の接点207aに導入する制御系である開ループ
駆動ライン208と、D/Aコンバータ206の出力電
圧を閉ループ加算器209aとアナログ積分器等の積分
器209bとサーボ補償フィルタ等のフィルタ209c
を経て出力スイッチ207の他方の接点207bに導入
する制御系である閉ループ駆動ライン209を有し、出
力スイッチ207はアンプ210aを介してY圧電素子
210に接続され、Y圧電素子210は、出力スイッチ
207の接点207aまたは207bを経て導入された
駆動電圧によって伸縮する。
【0020】ビットスライサ205は、例えば、パルス
数にして+32767パルスを越える電圧を+3276
7パルスに飽和させ、−32768パルス以下の電圧を
−32768パルスに飽和させる機能を有し、D/Aコ
ンバータ206に過大な偏差が導入されるのを防ぐもの
である。出力スイッチ207と入力スイッチ202の切
換えは同期して行われ、D/Aコンバータ206が開ル
ープ指令ライン203側の接点202aに接続されたと
きは開ループ指令値v0 に基づく制御量であるD/Aコ
ンバータ206の出力電圧V0 が開ループ駆動ライン2
08を経てY圧電素子210に導入されてこれを駆動
し、他方、D/Aコンバータ206が閉ループ指令ライ
ン204側の接点202bに接続されたときは閉ループ
指令値v1と現在位置検出装置40の出力ve の差に基
づく制御量であるD/Aコンバータ206の出力電圧V
1 が閉ループ駆動ライン209を経てY圧電素子210
に導入される。
【0021】開ループ駆動ライン208は、その出力電
圧V0 を反転増幅器211aと開ループ加算器211b
と開閉スイッチ211cを経て閉ループ駆動ライン20
9に導入する第1の分岐ライン211と、同じく開ルー
プ駆動ライン208の出力電圧V0 を、比較器112a
において閉ループ駆動ライン209の出力電圧V1 と比
較し、その差分値をアンプ112bを経て開ループ加算
器211bに導入する分岐手段である第2の分岐ライン
212を有し、これらは、図2に示すようにY圧電素子
210に開ループ駆動ライン208の出力電圧V0 が導
入されているときに、D/Aコンバータ206から閉ル
ープ駆動ライン209に導入された電圧を第1の分岐ラ
イン211によって開ループ駆動ライン208から導入
された逆極性の電圧によって一旦相殺したうえで、開ル
ープ駆動ライン208の出力電圧V0 を第2の分岐ライ
ン212によって閉ループ駆動ライン209へ導入し、
出力スイッチ207の閉ループ駆動ライン209側の接
点207bの電圧が開ループ駆動ライン208側の接点
207aの電圧すなわち開ループ駆動ライン208の出
力電圧V0 と等しくなるように制御する。
【0022】粗動ステージ機構10によってウエハW1
のステップ移動が行われている間は、開閉スイッチ21
1cが閉じており、入力スイッチ202および出力スイ
ッチ207が開ループ駆動ライン208側の接点202
a,207aに接続され、開ループ指令値v0 に基づく
出力電圧V0 がY圧電素子210に導入される。以下、
この状態を「開ループ制御状態」という。ウエハW1
ステップ移動が完了した後は、開閉スイッチ211cが
開き入力スイッチ202および出力スイッチ207が閉
ループ駆動ライン209側の接点202b,207bに
切換えられて、現在位置検出装置40の出力ve (Y現
在位置)と閉ループ指令ライン204から導入される閉
ループ指令値v1 の差が差分器204aによって算出さ
れ、算出された差分値に基づく出力電圧V1 がY圧電素
子210に導入されて最終的な位置決めが行われる。以
下、この状態を「閉ループ制御状態」という。
【0023】開ループ制御状態から閉ループ制御状態に
切換えるとき、開ループ指令値v0と差分器204aの
出力に差があっても、出力スイッチ207の閉ループ駆
動ライン209側の接点207bは前述のように開ルー
プ制御状態からひき続き開ループ駆動ライン208側の
接点207aと同じ電圧に保たれているため、圧電素子
210の駆動電圧は、前述の切換えによって非連続的に
変化することなく、閉ループ駆動ライン209の積分器
209b等による応答遅れのためにゆるやかな勾配で変
化する。
【0024】また、閉ループ制御状態から開ループ制御
状態に切換えるときにも、差分器204aの出力と開ル
ープ指令値v0 との間に差があるとY圧電素子210の
駆動電圧が非連続的に変化してY圧電素子210の寿命
が短縮したりY軸微動ステージ21やX軸微動ステージ
22との間の接続部分の劣化が起きるおそれがある。そ
こで、主コンピュータ50aに、切換え直前のY圧電素
子210の駆動電圧Vi をA/Dコンバータ210bに
よって読みとってA/D変換した値vi を主コンピュー
タ50aに転送し、これに開ループ指令値v0 の数値を
一致させることで開ループ駆動ライン208の出力電圧
が閉ループ駆動ライン209の出力電圧に等しくなるよ
うに制御したうえで、入力スイッチ202と出力スイッ
チ207を切換えたのち、開ループ指令値v0 の数値を
予め主コンピュータ50aに登録された所定の値である
目標値v0eまで徐々に変化させるシーケンスである指令
値変更シーケンスR10を設ける。
【0025】指令値変更シーケンスR10は以下のよう
に行われる。図3に示すように、ステップS11でA/
Dコンバータ210bによってY圧電素子210の駆動
電圧Vi の読みこみを行い、これをA/D変換した値v
i を開ループ指令値v0 に転送したうえで入力スイッチ
202と出力スイッチ207の切換えを行い、ステップ
S13で開ループ指令値v0 と目標値v0eを比較し、v
0 >v0eであればステップS14で開ループ指令値v0
を所定量、例えば0.1ボルトだけ減少させ、ステップ
S15で所定の時間、例えば0.01秒だけ待機させた
うえでステップS13へもどる。ステップS13でv0
>v0eでなければステップS16で開ループ指令値v0
と目標値v0eを比較し、v0 <v0eであればステップS
17で開ループ指令値v0 を所定量、例えば0.1ボル
トだけ増加させ、ステップS18で所定の時間、例えば
0.01秒だけ待機させたうえでステップS16へもど
る。ステップS16でv0 <v0eでなければ、v0 =v
0eであり、指令値変更シーケンスR10は終了する。こ
のような指令値変更シーケンスR10を設けることで、
閉ループ制御状態から開ループ制御状態へ切換えたとき
のY圧電素子210の駆動電圧をゆるやかに変化させる
ことができる。
【0026】図4はY圧電素子210の圧電素子駆動回
路201を開ループ制御状態から閉ループ制御状態へ切
換えたのち、再び開ループ制御状態へもどしたときのY
圧電素子210の電圧の変化を示すグラフであって、圧
電素子駆動回路201は、時刻0〜t1 の期間T1 は開
ループ制御状態、時刻t1 〜t2 の期間T2 は閉ループ
制御状態、時刻t2 〜t3 の期間T3 は指令値変更シー
ケンスR10を進行中、時刻t3 以後は粗動ステージ機
構10による次回のステップ移動のための開ループ制御
状態にある。時刻0〜t1 の期間T1 の開ループ制御状
態においては前述のように開ループ指令値v0 に基づく
駆動電圧がY圧電素子210に導入されその電圧が75
Vの一定値に保たれている。時刻t1 において開ループ
制御状態から閉ループ制御状態に切換えたときは、前述
のように出力スイッチ207の両接点207a,207
bが等しい電圧に保たれているためにY圧電素子210
の駆動電圧は非連続的に変化することなく、閉ループ駆
動ライン209の応答遅れ等によって曲線aに沿ってゆ
るやかに変化する。また、閉ループ制御状態から開ルー
プ制御状態に切換わるときも、指令値変更シーケンスR
10によって開ループ駆動ライン208が制御されるた
め、Y圧電素子210の駆動電圧は連続的かつゆるやか
な曲線bに沿って変化する。曲線bの形状は指令値変更
シーケンスR10における開ループ指令値v0 の増減量
と待機時間によって決定されるもので、これらを経時的
に変化させることで曲線cのように指令値変更シーケン
スR10の期間T3 の始めと終わりの勾配を極めて小さ
くすれば、Y圧電素子210や位置決め装置全体に与え
る衝撃等を大幅に低減できる。
【0027】なお、X微動ステージ22を駆動するX圧
電素子310や微回動ステージ23を駆動するωz圧電
素子410(図9に示す)も圧電素子駆動回路201と
同様の圧電素子駆動回路によって制御され、また、閉ル
ープ制御状態から開ループ制御状態への切換えまたはそ
の逆も上記と同様に行われる。
【0028】次に、粗動ステージ機構10とZ軸チルト
ステージ13と微動ステージ機構20と微回動ステージ
23およびコントローラ50の具体的な構成を説明す
る。
【0029】図5は粗動ステージ機構10を示す模式断
面図であって、前述のY軸粗動ステージ11は、床面B
1 に固定された架台10aと一体である一対のYガイド
11aに沿ってY電動シリンダ14によって垂直方向に
往復移動され、X軸粗動ステージ12はY軸粗動ステー
ジ11と一体である一対のXガイド12aに沿ってX電
動シリンダ15によって水平方向に往復移動される。Y
電動シリンダ14およびX電動シリンダ15はいずれ
も、サーボモータ16aによって回転される送りねじ1
6bと、これに螺合するナット16cと一体である送り
棒16dを有し、送りねじ16bの回転によって送り棒
16dを往復移動させることでY軸粗動ステージ11ま
たはX軸粗動ステージ12を往復移動させる。なお、Y
軸粗動ステージ11は重力を相殺するための一対のバラ
ンサベルト11bによって懸下され、バランサベルト1
1bの張力はバランサシリンダ11cから回転軸11d
に与えられるトルクによって制御される。
【0030】図6は粗動ステージ駆動回路50bを説明
するもので、これは、主コンピュータ50aに接続され
たパルスジェネレータ17aとその駆動パルスによって
駆動されるサーボドライバ17bを有し、サーボドライ
バ17bの出力はエンコーダ17cを経てサーボモータ
16aに導入されてこれを駆動し、ナット16cを送り
ねじ16bに沿って移動させる。なお、ナット16cの
移動路の両端にはストロークリミットセンサ17d,1
7eが設けられ、両者の間には原点センサ17fが配設
され、これらの出力から、Y軸粗動ステージ11やX軸
粗動ステージ12が所定の移動路の末端あるいは中央に
位置したことを感知できるように構成されている。
【0031】図7はZ軸チルトステージ13を示す立面
図であって、ウエハチャック30のZ軸方向の位置を周
方向に等間隔で検出する3個のギャップセンサ131a
〜131cからなる傾斜角度検出装置131と、ウエハ
チャック30の周方向に等間隔で離間した3個の部位を
それぞれZ軸方向に駆動する3個のZアクチュエータ1
32a〜132cを有し、各Zアクチュエータ132a
〜132cは圧電素子によって駆動されるインチワーム
駆動型のアクチュエータである。傾斜角度検出装置13
1は、各ギャップセンサ131a〜131cの出力から
ウエハチャック30のZ軸方向の位置とZ軸に対する傾
斜角度ωx,ωy(以下、それぞれ、「ωx現在位
置」、「ωy現在位置」という。)を検出し、これらに
基づいて各Zアクチュエータ132a〜132cが駆動
される。なお、このように、ギャップセンサとZアクチ
ュエータを近接して設け、かつこれらの数をそれぞれ3
個として周方向に120゜の中心角で配設すれば各Zア
クチュエータの駆動力の干渉を最小限にすることができ
る。
【0032】図8はZ軸チルトステージ駆動回路50c
に設けられる各Zアクチュエータ132a〜132cの
駆動回路133を示す。これは、各Zアクチュエータ1
32a〜132cに対して閉ループ制御を行うもので、
傾斜角度検出装置131からの現在位置計測信号はバッ
ファアンプ131aを経由して差分器130aに入力さ
れる。一方、コントローラ50の主コンピュータ50a
から指令されるZ指令値はD/Aコンバータ130bに
よってアナログ信号化され、差分器130aで現在位置
との差分をとられ偏差信号となる。この偏差信号は絶対
値回路130cに入力され、絶対値化された信号出力は
V/Fコンバータ130dによってパルス列に変換され
る。方向判別回路130eは前記偏差信号の極性に基づ
いて駆動方向を指示するための論理信号を出力する。マ
ルチプレクサ130fはこの論理信号の論理レベルによ
って入力するパルス列を、正方向と逆方向に振り分けて
各Zアクチュエータ132a〜132cのドライバ側の
処理回路130gに出力する。同処理回路130gはパ
ルス入力1パルスにつき一定量の位置変位をもたらす構
成になっており、等価的には積分器になっている。停止
判別回路130hは、前記偏差信号が規定精度内に入っ
ている場合、正確に偏差が0になっていない場合でも駆
動パルスを出力させないようにする役割をもっている。
これによって位置決め終了後の不要なサーボエラーによ
る振動発生は軽減される。
【0033】図9は微動ステージ機構20を示すもの
で、Y軸微動ステージ21は4個の板バネ24a〜24
dによってフレーム20aに対してY軸方向のみ微小量
だけ往復移動自在に支持され、X軸微動ステージ22は
同じく4個の板バネ25a〜25dによってY軸微動ス
テージ21に対してX軸方向のみに微小量だけ往復移動
自在に支持され、Y軸微動ステージ21およびX軸微動
ステージ22はそれぞれのY圧電素子210とX圧電素
子310によって前記方向へ駆動される。Y圧電素子2
10は前述の圧電素子駆動回路201によって制御さ
れ、X圧電素子310も同様である。また、微回動ステ
ージ23はX軸微動ステージ22の間に同方向に等間隔
で設けられた複数の板バネ23a〜23gによって支持
され、ωz圧電素子410によって周方向へ駆動され
る。
【0034】図10はコントローラ50の構成を説明す
るもので、これは複数枚の回路基板501〜508とこ
れらを電気的に結合する主バス509からなり、第1の
回路基板501には主コンピュータ50aの演算処理部
であるCPUと記憶部等が搭載されており、第2の回路
基板502は前述のパルスジェネレータ17a等を入力
端とする粗動ステージ駆動回路50bが搭載され、Y軸
粗動ステージ11のY電動シリンダ14やX軸粗動ステ
ージ12のX電動シリンダ15を駆動する。第3、第4
の回路基板503,504はZ軸チルトステージ13を
駆動するZ軸チルトステージ駆動回路50cを分割して
搭載し、各Zアクチュエータ132a〜132cを駆動
する。第5の回路基板505は微動ステージ機構駆動回
路50dを搭載し、現在位置検出装置40のY現在位置
出力端およびX現在位置出力端のそれぞれの出力と主コ
ンピュータ50aの開ループ指令値や閉ループ指令値に
基づいてY軸微動ステージ21のY圧電素子210とX
軸微動ステージ22のX圧電素子310をそれぞれ駆動
する圧電素子駆動回路からなり、その構成は図2に示し
た通りである。
【0035】第6の回路基板506は微回動ステージ駆
動回路50eを搭載し、また、第7の回路基板507と
ともに、現在位置検出装置40と傾斜角度検出装置13
1からウエハチャック30のωz現在位置とωx現在位
置とωy現在位置を取りこむ計測値入力回路を搭載す
る。第8の回路基板508は通信インターフェース回路
を搭載し、位置決め装置と外部の機構とのデータのやり
とりや同期運転を行うためのトリガを通信経路508a
を介して行う。
【0036】本実施例の位置決め装置E−1は図11に
示す位置決めシーケンスP10によってウエハチャック
30の位置決めを行う。まず、ステップS101でウエ
ハチャック30の目標位置をY軸粗動ステージ11のY
電動シリンダ14とX軸粗動ステージ12のX電動シリ
ンダ15を駆動するためのパルス数に変換し、ステップ
S102で傾斜角度検出装置131によるωx、ωy現
在位置を読みこんで主コンピュータ50aの記憶部に保
存し、ステップS103で前述のパルス数を粗動ステー
ジ駆動回路50bのパルスジェネレータにセットし、同
時にステップS104でY軸微動ステージ21のY圧電
素子210とX軸微動ステージ22のX圧電素子310
の圧電素子駆動回路を前述の指令値変更シーケンスR1
0によって閉ループ制御状態から開ループ制御状態に切
換える。ステップS103とステップS104が終了し
たのをステップS105で確認後、ステップS106で
Y軸粗動ステージ11のY電動シリンダ14とX軸粗動
ステージ12のX電動シリンダ15を駆動し、ステップ
S107で残留振動が減衰するまで待機したのち、ステ
ップS108で現在位置検出装置40によってX,Y現
在位置を検出し、ステップS109でX,Y現在位置と
X,Y目標位置を比較して、偏差が例えば1μm以下の
条件を満たしているか否かを調べる。前記条件が満たさ
れていないときはステップS110で位置補正のための
パルス数を算出し、ステップS111で補正用のパルス
数を前述のパルスジェネレータにセットしてステップS
106にもどる。
【0037】ステップS109で前述の条件を満たして
いればステップS112でωx、ωy現在位置と前回の
値を比較して差分値を微回動ステージ13の各Zアクチ
ュエータ132a〜132cに出力する。なお、この差
分値はY軸粗動ステージ11やX軸粗動ステージ12の
案内面の歪み等によって発生するものである。ステップ
S112と同時にステップS113で微動ステージ機構
20のY圧電素子210とX圧電素子310のそれぞれ
の圧電素子駆動回路を開ループ制御状態から閉ループ制
御状態に切換えてこれらを駆動し、ステップS114で
精度チェックを行い、残留振動があれば、ステップS1
15で所定時間待機する。このとき残留振動が減衰しな
いときはタイムアウトエラーとしてステップS116で
エラー処理シーケンスに入る。
【0038】図12は第1実施例の一変形例によるコン
トローラ51を示すもので、これは、第1実施例のコン
トローラ50の第5ないし第7の回路基板505〜50
7の替わりに微動ステージ機構20に関する信号を局所
的に高速度でやりとりするためのローカルバスコンピュ
ータ51aを搭載した第5の回路基板515を主バス5
09に接続し、ローカルバス510によって、Y圧電素
子210、X圧電素子310、ωz圧電素子410のそ
れぞれの圧電素子駆動回路を搭載した第6の基板回路5
16と、現在位置検出装置40の各出力、すなわち、ウ
エハチャック30のY現在位置、X現在位置、ωz現在
位置と、傾斜角度検出装置131の各出力、すなわち、
ウエハチャック30のωx現在位置とωy現在位置を取
りこむ計測値入力回路を搭載した第7の基板回路517
をローカルバスコンピュータ51aに接続したものであ
り、ローカルバスコンピュータ51aは、第6、第7の
基板回路516,517に対するアクセスを行うデュア
ルポートラムRAMと、以下に述べるローカルバスメイ
ンシーケンスM10と第1、第2のタイマー割込みシー
ケンスT10,T20によってデータ処理を行うソフト
ウエアを有し、該ソフトウエアは、図13に示すように
ローカルバスメインシーケンスM10の進行に伴って変
化するY圧電素子210、X圧電素子310、ωz圧電
素子410のそれぞれの開ループ指令値および閉ループ
指令値(以下、それぞれ「Y開ループ指令値(逐次)」
「X開ループ指令(逐次)」「ωz開ループ指令(逐
次)」「Y閉ループ指令値(逐次)」「X閉ループ指令
(逐次)」「ωz閉ループ指令(逐次)」という。)を
表示する逐次指令値テーブル511aと、予め主バス5
09を経てローカルバスコンピュータ51aに導入され
た各指令値の目標値(X,Y,ωz目標位置)(以下、
それぞれ「Y開ループ指令値(最終)」「X開ループ指
令(最終)」「ωz開ループ指令(最終)」「Y閉ルー
プ指令値(最終)」「X閉ループ指令(最終)」「ωz
閉ループ指令(最終)」という。)を記憶する最終指令
値テーブル511bと、所定のディジタル演算処理を行
う演算部等を有する。
【0039】ローカルバスメインシーケンスM10は、
主コンピュータ50aの指令に基づいてY圧電素子21
0、X圧電素子310、ωz圧電素子410のそれぞれ
の圧電素子駆動回路を閉ループ制御状態から開ループ制
御状態あるいはその逆に切換えるもので、図13に示す
ように、ステップS201でローカルバスコンピュータ
51aの電源投入あるいはシステムリセットのアサート
時にメモリーチェックを行い、ステップS202で各ペ
リフェラルポートの初期化を行い、動作環境が整ったこ
とを確認し、ステップS203で第1および第2のタイ
マー割込みシーケンスT10,T20の割込みインター
バルをセットし、ステップS204で割込みを許可す
る。
【0040】なお、第1のタイマー割込みシーケンスT
10は、Y圧電素子210、X圧電素子310、ωz圧
電素子410のそれぞれの圧電素子駆動回路のD/Aコ
ンバータに入力する電圧を演算して出力処理を行い、第
2のタイマー割込みシーケンスT20は、定期的に第7
の回路基板507の計測値入力回路から導入された現在
位置データをローカルバスコンピュータ51aのメモり
内の現在位置データテーブルFIFOにストックするも
のである。
【0041】主コンピュータ50aからローカルバスコ
ンピュータ51aのコマンドディスクリミネータに閉ル
ープ制御状態から開ループ制御状態に切換える指令(コ
マンド)が送られてきたときは(ステップS205
a)、ステップS206で、図3に示した指令値変更シ
ーケンスR10によってY圧電素子210、X圧電素子
310のそれぞれの制御量である駆動電圧をA/D変換
した値を各圧電素子駆動回路の開ループ指令値に転送し
たうえでY圧電素子210とX圧電素子310のそれぞ
れの圧電素子駆動回路のスイッチの切換を行い、前記閉
ループ指令値を最終指令値テーブル511bに記憶され
たY開ループ指令値(最終)とX開ループ指令値(最
終)まで徐々に変化させる。
【0042】また、主コンピュータ50aからローカル
バスコンピュータ51aのコマンドディスクリミネータ
に開ループ制御状態から閉ループ制御状態に切換える指
令が送られてきたときは(ステップS205b)、ステ
ップS207で現在位置データテーブルFIFOのデー
タに基づいて制御量である仮指令値を算出し、これを各
圧電素子駆動回路の閉ループ指令値に転送し、ステップ
S208でY圧電素子210とX圧電素子310の圧電
素子駆動回路のスイッチ切換を行ったのち、ステップS
209で各圧電素子駆動回路の閉ループ指令値に最終指
令値テーブル511bのY閉ループ指令値(最終)とX
閉ループ指令値(最終)を転送する。
【0043】本変形例は、このように、開ループ制御状
態から閉ループ制御状態に切換えるときにも、スイッチ
切換の前に現在位置データテーブルFIFOのデータか
ら求められた制御量を各圧電素子駆動回路の閉ループ指
令値に導入するものであるため、図2に示すような開ル
ープ駆動ライン208の出力V0 を閉ループ駆動ライン
209に導入するための第1および第2の分岐ライン2
11,212を必要とせず、従って、回路構成を簡略化
できるという利点を有する。
【0044】閉ループ制御状態であるにもかかわらず、
主コンピュータ50aからローカルバスコンピュータ5
1aのコマンドディスクリミネータに開ループ制御状態
から閉ループ制御状態へ切換える指令またはその逆の指
令が送られてきたときは(ステップS205c)、ステ
ップS210で指令を無効にして最終指令値テーブル5
11bのステータスを主バス509の主コンピュータ5
0aに送り、その後は、指令なしの場合(ステップS2
05d)と同様に待機状態もしくはポーリング状態とな
る。
【0045】図15は第1のタイマー割込みシーケンス
T10を説明するもので、タイマー割込みシーケンスT
10の割込みインターバルは、ローカルバスコンピュー
タ51aにおける演算処理に要する時間によって制約を
受けるもので、割込みインターバルが短いほど綿密で応
答性のよい制御が実現されるが、これに伴って演算に消
費できる時間が短くなって計算量が増えるため、現在の
技術では0.1〜1msecに設定するのが一般的であ
る。
【0046】タイマー割込みシーケンスT10は、ステ
ップS301で逐次指令値テーブル511aの制御ステ
ータスからY圧電素子210とX圧電素子310の圧電
素子駆動回路が閉ループ制御状態であるか、開ループ制
御状態であるかを判別し、閉ループ制御状態であるとき
はステップS302で現在位置データテーブルFIFO
から最新のY現在位置とX現在位置の計測値や、これら
を補正するために必要なωz現在位置、ωx現在位置、
ωy現在位置を加えたもの、あるいは各計測値の過去数
回にわたるデータをリードする。
【0047】リードされたデータをステップS303で
ディジタルフィルタ演算処理し、演算結果をステップS
304でY圧電素子210、X圧電素子310、ωz圧
電素子410のD/Aコンバータに出力して割込みを終
了する。ステップS301において開ループ制御状態で
あると判別されたときは逐次指令値テーブル511aの
X開ループ指令値(逐次)と、Y開ループ指令値(逐
次)と、ωz開ループ指令値(逐次)をそのまま前記D
/Aコンバータのそれぞれに出力する。
【0048】図16は第2のタイマー割込みシーケンス
T20を説明するもので、タイマー割り込みシーケンス
T20の割込みインターバルは、現在位置検出装置40
および傾斜角度検出装置131の各レーザ干渉計のサン
プリング間隔に基づいて設定されるもので、通常は第1
のタイマー割込みシーケンスT10の割込みインターバ
ルの1/10程度である。第2のタイマー割込みシーケ
ンスT20は、ステップS401で各レーザ干渉計の計
測値をリードし、ステップS402で現在位置データテ
ーブルFIFOのデータ更新を行い、割込みを終了す
る。
【0049】ローカルバスメインシーケンスM10、第
1のタイマー割込みシーケンスT10、第2のタイマー
割込みシーケンスT20によるデータの流れは、図14
に示すように、まず、最終指令値テーブル511bのコ
マンドレジスタにおいて主バス509の主コンピュータ
50aの指令値変更指令が受理され、閉ループ制御状態
に切換える場合はX、Y、ωz閉ループ指令値(最
終)、開ループ制御状態に切換える場合はX、Y、ωz
開ループ指令値(最終)が主バス509の主コンピュー
タ50aから転送され、ステータスによって確認され
る。ローカルバスメインシーケンスM10による指令値
変更の進行に伴って逐次指令値テーブル511aのX、
Y、ωz閉ループ指令値(逐次)またはX、Y、ωz開
ループ指令値(逐次)が逐次書きかえられてゆき、ロー
カルバスメインシーケンスM10の終了時には、最終指
令値テーブル511bのデータと一致する。第1のタイ
マー割込みシーケンスT10は、ローカルバスメインシ
ーケンスM10の終了時の逐次指令値テーブル511a
のデータと第2のタイマー割込みシーケンスT20によ
ってリードされた各計測値を用いて演算処理を行い、演
算結果を各D/Aコンバータに出力する。逐次指令値テ
ーブル511aの制御ステータスは、閉ループ制御状態
と、開ループ制御状態のいずれに切換中であるかを表示
する。
【0050】図17は第2実施例による位置決め装置E
−2の全体的な構成を示すもので、これは、第1実施例
と同様にY軸粗動ステージ11とX軸粗動ステージ12
からなる粗動ステージ機構10とY軸微動ステージ21
とX軸微動ステージ22からなる微動ステージ機構20
と微回動ステージ23等を有し、第1実施例と同様に主
コンピュータ600(図18)に記憶された目標位置に
対する位置決め(以下、「絶対位置制御」という。)を
行う制御系である絶対位置制御系に加えて、前記位置決
めを完了したのちに、マスクホルダ160に保持された
マスクM2 とウエハチャック30に保持されたウエハW
2 の間の位置ずれをアライメント光学系170によって
検出し、検出された位置ずれに基づいてY圧電素子、X
圧電素子のそれぞれの駆動電圧を変化させる制御系であ
るリアルタイムAA制御系を設けて、露光中のウエハW
2 とマスクM2 の間の位置ずれに起因する転写ずれを解
消するいわゆるリアルタイムAA制御を行うように構成
したものである。
【0051】すなわち、図18に示すように、Y圧電素
子210を制御する圧電素子駆動回路201(図2に示
す)の差分器204aの上流側に第1の切換えスイッチ
601を設け、これによって、前記主コンピュータ60
0に予め設定されたリアルタイムAA制御目標値と逐次
更新される目標位置である絶対位置制御目標値のいずれ
かを指令値として選択的に差分器204aに導入すると
ともに、第1の切換えスイッチ601と同期して作動す
る第2の切換えスイッチ602によって、差分器204
aに導入する減算値を現在位置検出装置40またはアラ
イメント光学系170の出力に切換えるように構成され
ている。図示しないX圧電素子についても同様である。
【0052】なお、Y軸粗動ステージ11、X軸粗動ス
テージ12、Y軸微動ステージ21、X軸微動ステージ
22、微回動ステージ23、Z軸チルトステージ13、
現在位置検出装置40および圧電素子駆動回路201等
については第1実施例と同様であるので同一符号で表
し、説明は省略する。
【0053】アライメント光学系170はマスクM2
コーナーに設けられた4個のアライメントマークMM
(図19に示す)のそれぞれにアライメント光AAを照
射してマスクM2 とウエハW2 の位置ずれを検出する4
個のピックアップ170aを有し、各ピックアップ17
0aは、ピックアップステージ170bに保持される。
【0054】各アライメント光AAは、図19に示すよ
うに、レーザダイオード171から発生されるレーザ光
であり、コリメータレンズ172を経てマスクM2 のア
ライメントマークMMに照射され、ウエハW2 のアライ
メントマークWMの反射光を受光部173によって検出
することでマスクM2 とウエハW2 の位置ずれを検出す
る。
【0055】なお、ウエハW2 のアライメントマークW
MとマスクM2 のアライメントマークMMは、XY平面
内におけるマスクM2 とウエハW2 の位置ずれを検出す
るためのAAマーク部WM1 ,MM1 とZ軸方向の離間
距離(ギャップ)の変化を検出するためのAFマーク部
WM2 ,MM2 を有し、ピックアップ170aの受光部
173は前記AAマーク部WM1 ,MM1 と前記前記A
Fマーク部WM2 ,MM2 の反射光を個別に受光する受
光素子173a,173bを有し、両者の出力はそれぞ
れアンプ174a,174bを経てファインAA,AF
信号処理部175に導入される。また、AA,AF信号
処理部175はレーザダイオード171を駆動するレー
ザドライバ176とともに、インターフェイス177を
介して主コンピュータ600に接続される。すなわち、
アライメント光学系170は4個のピックアップ170
aによってウエハW2 とマスクM2 の間の3軸方向
(X、Y、Z軸方向)の位置ずれ(以下、「XAA検出
値」、「YAA検出値」、「ωzAA検出値」とい
う。)と、各軸のまわりの回転角度ωx,ωy,ωzを
検出する。
【0056】絶対位置制御系によってウエハチャック3
0を主コンピュータ600から指令された目標位置に位
置決めしたうえで、露光開始前にアライメント光学系1
70の出力に基づくリアルタイムAA制御に切換えると
きには、前記圧電素子の駆動電圧が急激に変化してこれ
らの寿命が短縮したり、各ステージとの連結部が劣化す
るおそれがあるため、切換え直前の制御量である各圧電
素子の駆動電圧をA/D変換した値(以下、「絶対位置
制御値」という。)をリアルタイムAA制御目標値に転
送したうえでこれを1%ずつもとの所定の値に近づける
とともに、ウエハW2 の所定の露光領域の露光が完了し
次の露光領域の露光のために絶対位置制御に切換えると
きは、その直前の制御量である各圧電素子の駆動電圧を
A/D変換した値(以下、「リアルタイムAA制御値」
という。)を絶対位置制御目標値に転送したうえでこれ
を1%ずつもとの所定の値に近づける駆動系切換シーケ
ンスM110を設ける。
【0057】図20は駆動系切換シーケンスM110を
説明するもので、ステップS1001で前記コンピュー
タの電源の投入あるいはシステムリセットのアサート時
にメモリーチェックを行い、ステップS1002でペリ
フェラルポートの初期化を行い、動作環境が整ったこと
を確認し、ステップS1003で後述する第1ないし第
3のタイマー割込みシーケンスT110,T120,T
130の割込みインターバルをセットし、ステップS1
004で割込みを許可する。主コンピュータからコマン
ドディスクリミネータに絶対位置制御からリアルタイム
AA制御に切換える指令(コマンド)が送られてきたと
きは(ステップS1005a)、リアルタイムAA制御
目標値に絶対位置制御値を転送し、ステップS1007
で絶対位置制御からリアルタイムAA制御に切換えて、
転送されたデータD0 の1%に相当する第1の入れかえ
量(1/100)D0 と、もとのリアルタイムAA制御
目標値De の1%に相当する第2の入れかえ量(1/1
00)De を算出し(ステップS1008)、ステップ
S1009で第1と第2の入れかえ量を入れかえて、ス
テップS1010で所定時間待機したのち、ステップS
1008にもどり、ステップS1008で第1、第2の
入れかえ量の割合を2%にしたものを算出し、ステップ
S1009からステップS1010にすすむ工程を前記
入れかえ量の割合が100%になるまで繰返す。主コン
ピュータからコマンドディスクリミネータにリアルタイ
ムAA制御から絶対位置制御に切換える指令が送られて
きたときは(ステップS1005b)、絶対位置制御目
標値にリアルタイムAA制御値を転送し、ステップS1
012でリアルタイムAA制御から絶対位置制御に切換
えて、転送されたデータE0 の1%に相当する第1の入
れかえ量(1/100)E0 ともとの絶対位置制御目標
値Ee の1%に相当する第2の入れかえ量(1/10
0)Ee を算出し(ステップS1013)、ステップS
1014で第1と第2の入れかえ量を入れかえて、ステ
ップS1015で所定時間待機したのち、ステップS1
013にもどり、入れかえ量を2%にしたものを算出
し、ステップS1014からステップS1015にすす
む工程を前記入れかえ量が100%になるまで繰返す。
【0058】また、コンピュータから、絶対位置制御で
あるにもかかわらず絶対位置制御に切換える指令または
その逆の指令が送られてきたときは(ステップS100
5c)、ステップS1016で指令を無効にする信号を
コンピュータに送り、その後は、指令なしの場合(ステ
ップS1005d)と同様に待機状態もしくはポーリン
グ状態となる。
【0059】図21は第1のタイマー割込みシーケンス
T110を説明するもので、これは、ステップS110
1で各圧電素子駆動回路がリアルタイムAA制御状態で
あるか絶対位置制御状態であるかを判別し、リアルタイ
ムAA制御状態であるときはステップS1102で後述
する第3のタイマー割込みシーケンスT130によって
作成されたAA検出値データテーブルFIFO−2から
XAA検出値、YAA検出値、ωzAA検出値を取りこ
み、ステップS1103で演算処理を行い、その結果を
各圧電素子駆動回路のD/Aコンバータに出力する(ス
テップS1104)。ステップS1101で絶対位置制
御状態であると判別されたときは、ステップS1105
で後述する第2のタイマー割込みシーケンスT120に
よって作成された現在位置データテーブルFIFO−1
からX現在位置、Y現在位置、ωz現在位置を取りこ
み、ステップS1106で演算処理を行って、その結果
を各圧電素子駆動回路のD/Aコンバータに出力して割
込みを終了する。
【0060】図22は第2のタイマー割込みシーケンス
T120を示すもので、ステップS1201で現在位置
検出装置の各計測値をリードし、ステップS1202で
現在位置データテーブルFIFO−1を更新して割込み
を終了する。
【0061】図23は第3のタイマー割込みシーケンス
T130を示すもので、ステップS1301でAA検出
値をリードし、ステップS1302で現在位置データテ
ーブルFIFO−2を更新して割込みを終了する。その
他の点は第1実施例と同様であるので説明は省略する。
【0062】なお、第1および第2実施例の微動ステー
ジは駆動装置に圧電素子を用いたものであるが、パルス
モータ等の他の微駆動装置を用いた場合にも同様に適用
できることは言うまでもない。
【0063】
【発明の効果】本発明は上述のとおり構成されているの
で、次に記載するような効果を奏する。
【0064】粗動ステージ上の移動台を移動させる圧電
素子等の駆動手段の制御系を切換えるときに、駆動手段
の駆動力が急激に変化するのを防ぐことができる。その
結果、前記切換えによる駆動手段の短命化を防ぐととも
に、駆動手段と移動台等を接続する接続部分の劣化によ
る位置決め精度の低下や疲労破壊を防ぎ、位置決め精度
が高くしかも耐久性にすぐれた位置決め装置を実現でき
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】第1実施例の全体構造を説明する模式図であ
る。
【図2】第1実施例のY軸微動ステージのY圧電素子の
圧電素子駆動回路を説明する図である。
【図3】第1実施例の開ループ指令値を切換える手順を
示す指令値変更シーケンスを説明するものである。
【図4】第1実施例のY圧電素子の駆動電圧の変化を示
すグラフである。
【図5】第1実施例の粗動ステージ機構を示す模式図で
ある。
【図6】第1実施例の粗動ステージ駆動回路を示す説明
図である。
【図7】第1実施例のZ軸チルトステージを示す模式図
である。
【図8】図7の装置の各Zアクチュエータの駆動回路を
説明する説明図である。
【図9】第1実施例の微動ステージ機構と微回動ステー
ジを示す模式図である。
【図10】第1実施例のコントローラを説明する説明図
である。
【図11】第1実施例による位置決めシーケンスを示す
シーケンス図である。
【図12】第1実施例の一変形例によるコントローラを
説明する説明図である。
【図13】図12の変形例のローカルバスメインシーケ
ンスを説明するシーケンス図である。
【図14】図12の変形例のローカルバスコンピュータ
におけるデータの流れを説明するデータフローチャート
である。
【図15】図13のローカルバスメインシーケンスにお
ける第1のタイマー割込みシーケンスを説明するもので
ある。
【図16】図13のローカルバスメインシーケンスにお
ける第2のタイマー割込みシーケンスを説明するもので
ある。
【図17】第2実施例の全体構造を説明する模式図であ
る。
【図18】第2実施例の微動ステージ機構の制御系を説
明する図である。
【図19】図17の装置のピックアップを説明する説明
図である。
【図20】第2実施例の駆動系切換シーケンスを説明す
るものである。
【図21】第2実施例の駆動系切換シーケンスの第1の
タイマー割込みシーケンスを説明するものである。
【図22】第2実施例の駆動系切換シーケンスの第2の
タイマー割込みシーケンスを説明するものである。
【図23】第2実施例の駆動系切換シーケンスの第3の
タイマー割込みシーケンスを説明するものである。
【図24】従来例の概念を説明する説明図である。
【図25】従来例の微動ステージの圧電素子駆動回路を
説明する説明図である。
【符号の説明】
10 粗動ステージ機構 11 Y軸粗動ステージ 12 X軸粗動ステージ 13 Z軸チルトステージ 20 微動ステージ機構 21 Y軸微動ステージ 22 X軸微動ステージ 23 微回動ステージ 30 ウエハチャック 30a ミラー 40 現在位置検出装置 50,51 コントローラ 50a,600 主コンピュータ 51a ローカルバスコンピュータ 50b 粗動ステージ駆動回路 50c Z軸チルトステージ駆動回路 50d 微動ステージ機構駆動回路 50e 微回動ステージ駆動回路 160 マスクホルダ 170 アライメント光学系 170a ピックアップ 201 圧電素子駆動回路 202 入力スイッチ 203 開ループ指令ライン 204 閉ループ指令ライン 204a 差分器 206 D/Aコンバータ 207 出力スイッチ 208 開ループ駆動ライン 209 閉ループ駆動ライン 210 Y圧電素子 210b A/Dコンバータ 211 第1の分岐ライン 212 第2の分岐ライン 310 X圧電素子 410 ωz圧電素子 509 主バス 510 ローカルバス 511a 逐次指令値テーブル 511b 最終指令値テーブル 601,602 切換スイッチ
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G05D 3/12 305 E H01L 21/68 K // B23Q 15/24 B23Q 1/14 Z

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 粗動ステージ上の移動台を微小量だけ移
    動させる駆動手段を一対の切換え自在な制御系によって
    交互に制御する位置決め方法であって、前記一対の制御
    系を切換えるときに両者の制御量を一時的に等しくする
    ことを特徴とする位置決め方法。
  2. 【請求項2】 制御系を切換える前に一方の制御系に他
    方の制御系の制御量を導入することを特徴とする請求項
    1記載の位置決め方法。
  3. 【請求項3】 制御系を切り換えた後に一方の制御系の
    制御量を所定量ずつあるいは所定の比率で所定の値まで
    変化させるシーケンスを有することを特徴とする請求項
    2記載の位置決め方法。
  4. 【請求項4】 一方の制御系が予め設定された指令値に
    基づいて駆動手段を制御するように構成され、他方の制
    御系が逐次更新される目標位置と移動台の現在位置の差
    に基づいて前記駆動手段を制御するように構成されてい
    ることを特徴とする請求項1ないし3いずれか1項記載
    の位置決め方法。
  5. 【請求項5】 一方の制御系が移動台と他の物体の間に
    検出された位置ずれに基づいて駆動手段を制御するよう
    に構成され、他方の制御系が逐次更新される目標位置と
    前記移動台の現在位置の差または予め設定された指令値
    に基づいて前記駆動手段を制御するように構成されてい
    ることを特徴とする請求項1ないし3いずれか1項記載
    の位置決め方法。
  6. 【請求項6】 駆動手段が圧電素子を有することを特徴
    とする請求項1ないし5いずれか1項記載の位置決め方
    法。
  7. 【請求項7】 駆動手段がパルスモータを有することを
    特徴とする請求項1ないし5いずれか1項記載の位置決
    め方法。
  8. 【請求項8】 粗動ステージ上の移動台を微小量だけ移
    動させる駆動手段と、該駆動手段を交互に制御する一対
    の切換え自在な制御系と、該一対の制御系のうちの一方
    の制御量を他方に導入する分岐手段を有する位置決め装
    置。
  9. 【請求項9】 一方の制御系が予め設定された指令値に
    基づいて駆動手段を制御するように構成され、他方の制
    御系が逐次更新される目標位置と移動台の現在位置の差
    に基づいて前記駆動手段を制御するように構成されてい
    ることを特徴とする請求項8記載の位置決め装置。
  10. 【請求項10】 駆動手段が圧電素子を有することを特
    徴とする請求項8または9記載の位置決め装置。
  11. 【請求項11】 駆動手段がパルスモータを有すること
    を特徴とする請求項8または9記載の位置決め装置。
  12. 【請求項12】 請求項8ないし11いずれか1項記載
    の位置決め装置と、これによって位置決めされた被露光
    物を露光する露光手段を有する露光装置。
JP13522494A 1994-05-24 1994-05-25 位置決め方法およびその装置ならびにこれらを用いた露光装置 Pending JPH07321024A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13522494A JPH07321024A (ja) 1994-05-25 1994-05-25 位置決め方法およびその装置ならびにこれらを用いた露光装置
US08/448,872 US5661388A (en) 1994-05-24 1995-05-24 Positioning method and positioning system

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP13522494A JPH07321024A (ja) 1994-05-25 1994-05-25 位置決め方法およびその装置ならびにこれらを用いた露光装置

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH07321024A true JPH07321024A (ja) 1995-12-08

Family

ID=15146724

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13522494A Pending JPH07321024A (ja) 1994-05-24 1994-05-25 位置決め方法およびその装置ならびにこれらを用いた露光装置

Country Status (2)

Country Link
US (1) US5661388A (ja)
JP (1) JPH07321024A (ja)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003288121A (ja) * 2002-03-28 2003-10-10 Taiheiyo Cement Corp 圧電アクチュエータを用いた微動ステージ装置の位置決め制御方法及び制御装置
JP2007212861A (ja) * 2006-02-10 2007-08-23 Nsk Ltd 露光装置
JP2009043852A (ja) * 2007-08-07 2009-02-26 Canon Inc 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP2017083911A (ja) * 2012-04-27 2017-05-18 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ装置
JP2018521347A (ja) * 2015-07-09 2018-08-02 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 可動サポート及びリソグラフィ装置
KR20190019088A (ko) * 2016-06-20 2019-02-26 넥스페리아 비 브이 반도체 디바이스 위치 결정을 위한 반도체 디바이스 위치 결정 시스템과 방법

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3755862B2 (ja) * 1999-05-26 2006-03-15 キヤノン株式会社 同期位置制御装置および方法
US6618120B2 (en) * 2001-10-11 2003-09-09 Nikon Corporation Devices and methods for compensating for tilting of a leveling table in a microlithography apparatus
JP3907497B2 (ja) * 2002-03-01 2007-04-18 キヤノン株式会社 位置決め装置及びその制御方法、並びに露光装置、並びにその制御方法により制御される露光装置により半導体デバイスを製造する製造方法
JP3833148B2 (ja) * 2002-06-25 2006-10-11 キヤノン株式会社 位置決め装置及びその制御方法、露光装置、デバイスの製造方法、半導体製造工場、露光装置の保守方法
US20040145751A1 (en) * 2003-01-28 2004-07-29 Binnard Michael B. Square wafer chuck with mirror

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CH594918A5 (ja) * 1973-12-13 1978-01-31 Hell Rudolf Dr Ing Gmbh
US5157700A (en) * 1988-09-02 1992-10-20 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus for controlling intensity of exposure radiation
US4987526A (en) * 1989-02-02 1991-01-22 Massachusetts Institute Of Technology System to provide high speed, high accuracy motion
EP0412756B1 (en) * 1989-08-07 1995-10-25 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus
JP2777915B2 (ja) * 1989-08-30 1998-07-23 キヤノン株式会社 位置合わせ機構
EP0446076B1 (en) * 1990-03-09 1997-07-09 Canon Kabushiki Kaisha Exposure apparatus
JP2714219B2 (ja) * 1990-03-30 1998-02-16 株式会社東芝 位置決め装置

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2003288121A (ja) * 2002-03-28 2003-10-10 Taiheiyo Cement Corp 圧電アクチュエータを用いた微動ステージ装置の位置決め制御方法及び制御装置
JP2007212861A (ja) * 2006-02-10 2007-08-23 Nsk Ltd 露光装置
JP2009043852A (ja) * 2007-08-07 2009-02-26 Canon Inc 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP2017083911A (ja) * 2012-04-27 2017-05-18 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. リソグラフィ装置
JP2018521347A (ja) * 2015-07-09 2018-08-02 エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. 可動サポート及びリソグラフィ装置
US10228626B2 (en) 2015-07-09 2019-03-12 Asml Netherlands B.V. Movable support and lithographic apparatus
KR20190019088A (ko) * 2016-06-20 2019-02-26 넥스페리아 비 브이 반도체 디바이스 위치 결정을 위한 반도체 디바이스 위치 결정 시스템과 방법
JP2019518339A (ja) * 2016-06-20 2019-06-27 ネクスペリア ベー.フェー. 半導体デバイス位置決めシステム及び半導体デバイス位置決め方法

Also Published As

Publication number Publication date
US5661388A (en) 1997-08-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US5744924A (en) Guideless stage with isolated reaction frame
EP0913236B1 (en) Articulated robot
US5179863A (en) Method and apparatus for setting the gap distance between a mask and a wafer at a predetermined distance
US6359688B2 (en) Projection exposure apparatus and method of controlling same
EP0833208A2 (en) A stage apparatus
JPH07321024A (ja) 位置決め方法およびその装置ならびにこれらを用いた露光装置
JP2000036531A (ja) 位置決め装置およびステ―ジ制御方法
US9523569B2 (en) Positioning apparatus, lithography apparatus, and article manufacturing method
JP2010182867A (ja) 位置決め装置、露光装置及びデバイス製造方法
JP2003254739A (ja) 位置決め装置及びその制御方法、並びに露光装置、並びにその制御方法により制御される露光装置により半導体デバイスを製造する製造方法
WO2001040875A1 (en) Dual-stage lithography apparatus and method
KR100206631B1 (ko) 투영 노광 장치 및 회로 기판의 노광 방법
JPH01147516A (ja) ビーム位置制御装置
JPH06260392A (ja) 投影露光装置
US6630986B2 (en) Scanning type exposure apparatus and a device manufacturing method using the same
JP2001059704A (ja) 位置決めステージ装置、半導体露光装置およびデバイス製造方法
JP2003203855A (ja) 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法
JPH08297508A (ja) 位置決め装置
JPH01250891A (ja) 平面位置決め装置
JPH10125594A (ja) ステージ制御装置及び露光装置
JPH1070065A (ja) 露光装置
JP2014085649A (ja) 露光装置
JP2580572B2 (ja) 投影露光装置
US20030097205A1 (en) Control scheme and system for active vibration isolation
JPH07245257A (ja) 投影露光装置