JP2005203802A - 変動する走査速度に対する感度を低下させる被変調リソグラフィビーム - Google Patents
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Abstract
【解決手段】変動する走査速度に対する感度を低下させ、リソグラフィの走査処理時間を改良することができるリソグラフィ装置を提示する。1つの実施形態では、装置は、ビームと基板とが相互に対して移動するにつれて、走査速度に基づいてパターン形成されたリソグラフィビームを変調する変調器を有する。変調器は、ビームの輝度またはサイズのようなパターン形成されたリソグラフィビームの属性を変調するように構成される。
【選択図】図2
Description
放射線(例えば248nm、193nmまたは157nmの波長で作動するエキシマレーザ、または13.6nmで作動するレーザ点火プラズマソースによって生成されるようなUV放射線)の投影ビームPBを供給するように構成された照明システムSO、ILを有し、この特定の例では、放射線システムは放射線ソースSOも有し、さらに、
パターニングデバイス(例えばマスク)MAを支持し、かつ、品目PLおよび測定構造IF1に対して正確にパターニングデバイスの位置決めを行う第一支持構造(マスクテーブル)MTと、
基板W(例えばレジスト塗布したシリコンウェハ)を支持し、かつ、レンズPLに対して基板および/または基板テーブルの位置を正確に示すために、品目PLおよび測定構造IF2(例えば干渉計)に対して正確に基板の位置決めを行う第二オブジェクトテーブル(基板テーブルまたは基板ホルダ)WTと、
マスクMAの照射された部分を基板Wの目標部分C(例えば、1つまたは複数のダイを有する)に描像するように構成された投影システム(「レンズ」)PL(例えばクォーツおよび/またはCaF2レンズシステム、またはこのような材料から作成したレンズ要素を有する反射屈折システム、またはミラーシステム)とを有する。
ステップモードにおいては、マスクテーブルMTは基本的に静止状態に保たれている。そして、マスクの像全体が1回の作動(すなわち1回の「フラッシュ」)で目標部分Cに投影される。次に基板テーブルWTがx方向および/あるいはy方向にシフトされ、異なる目標部分CがビームPBにより照射され得る。
走査モードにおいては、基本的に同じシナリオが当てはまるが、所定の目標部分Cが1回の「フラッシュ」で露光されない。代わりに、投影ビームPBがマスク像を走査できるように、マスクテーブルMTが、速度νで所定の方向(y方向などのいわゆる「走査方向」)に移動可能であり、それと同時に、基板テーブルWTが速度V=Mvで同じ方向または反対方向に移動する。ここで、MはレンズPLの倍率である(通常はM=1/4または1/5)。このように、解像度を妥協することなく、比較的大きい目標部分Cを露光することができる。
他のモードでは、マスクテーブルMTが基本的に静止状態に維持されて、プログラマブルパターニング構造を保持し、投影ビームに与えられたパターンを目標部分Cに投影する間に、基板テーブルWTが動作するか、走査される。このモードでは、一般的にパルス状放射線ソースを使用して、基板テーブルWTを動作させるごとに、または走査中に連続する放射線パルス間に、プログラマブルパターニング構造を必要に応じて更新する。この動作モードは、以上で言及したようなタイプのプログラマブルミラーアレイなどのプログラマブルパターニング構造を使用するマスクなしリソグラフィに容易に適用することができる。
Claims (27)
- リソグラフィ装置であって、
放射線のビームを供給するように構成された照明システムと、
パターニングデバイスを支持するように構成された支持構造とを有し、前記パターニングデバイスがビームの断面にパターンを与え、さらに、
基板を保持するように構成された基板ホルダと、
パターン形成したビームを前記基板の目標部分に投影するように構成された投影システムと、
パターン形成したビームと前記基板とを相互に対して移動するように構成された走査機構と、
走査速度信号に基づいてパターン形成ビームの属性を変調するように構成された変調器とを有し、前記走査速度信号が、前記基板に対するパターン形成ビームの走査速度を示すリソグラフィ装置。 - 前記被変調属性が、パターン形成ビームの有効パワーを含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記被変調属性が、前記照明システムに付随する光源の有効パワーを含む、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調器が、前記照明システムに伴う光源の繰返し率を変調する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調器が、パターン形成したビームを減衰する可変減衰器を駆動するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調器が、前記投影システムと前記照明システムとの少なくとも一方のスリットの幅を変調して、パターン形成したビームの幅を変調するように構成される、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
- さらに、
第一制限要素と、
第二制限要素と、
前記第一および第二制限要素を駆動するように構成された駆動機構とを有し、
前記スリットが、前記第一制限要素と第二制限要素との間に形成され、
前記駆動機構が前記第一制限要素を駆動し、前記第一制限要素を加速して、前記スリット幅を変調し、遅延後に、前記第一制限要素の加速とほぼ同様の方法で前記第二制限要素を駆動し、前記第二制限要素を加速して、前記スリット幅を変調し、
駆動機構が、前記走査速度信号に基づいて前記第一制限要素の加速、前記第二制限要素、および前記遅延を決定する、請求項6に記載のリソグラフィ装置。 - 前記変調器が、走査速度にほぼ比例して、パターン形成したビームの単位時間当たりの総露光エネルギを変調するように構成される、請求項7に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調器がさらに、減速または加速中に前記基板の前記目標部分へのパターン形成ビームの投影を開始するように構成される、請求項8に記載のリソグラフィ装置。
- デバイス製造方法であって、
基板を設けることと、
放射線のビームを設けることと、
前記放射線ビームの断面にパターンを与えることと、
パターンを形成した放射線のビームを前記基板の目標部分に投影することと、
パターン形成したビームと前記基板を相互に対して移動することと、
前記基板に対するパターン形成ビームの走査速度に基づいて、パターン形成ビームの属性を変調することとを含むデバイス製造方法。 - 前記被変調属性が、パターン形成ビームの有効パワーを含む、請求項10に記載のデバイス製造方法。
- 前記被変調属性が、前記照明システムに付随する光源の有効パワーを含む、請求項10に記載のデバイス製造方法。
- 前記被変調属性が、前記照明システムに伴う光源の繰返し率を含む、請求項10に記載のデバイス製造方法。
- 前記被変調属性が、パターン形成ビームの減衰を含む、請求項10に記載のデバイス製造方法。
- さらに、投影システムと照明システムとの少なくとも一方のスリットの幅を変調して、パターン形成したビームの幅を変調することを含む、請求項10に記載のデバイス製造方法。
- 前記被変調属性が、走査速度にほぼ比例した、パターン形成したビームの単位時間当たりの総露光エネルギを含む、請求項10に記載のデバイス製造方法。
- リソグラフィ装置で、
放射線のビームを供給する手段と、
パターニング手段を支持する手段とを有し、前記パターニング手段が投影ビームの断面にパターンを与え、さらに、
基板を保持する手段と、
パターンを形成したビームを前記基板の目標部分に投影する手段と、
パターンを形成したビームと基板とを相互に移動させる手段と、
走査速度の変動に対する感度を低下させるために、パターンを形成したビームと前記基板とが相互に対して移動するにつれて、走査速度を示す走査速度信号に基いてパターン形成ビームの属性を変調する手段とを有するリソグラフィ装置。 - 前記被変調属性が、パターン形成ビームの有効パワーを含む、請求項17に記載のリソグラフィ装置。
- 前記被変調属性が、前記放射線手段に付随する光源の有効パワーを含む、請求項17に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調器が、前記放射線手段に伴う前記照明システムの光源の繰返し率を変調する、請求項17に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調手段が、パターンを形成したビームを減衰させる可変減衰器を駆動するように構成される、請求項17に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調手段が、前記投影システムと前記放射線手段との少なくとも一方のスリットの幅を変調して、パターン形成したビームの幅を変調するように構成される、請求項17に記載のリソグラフィ装置。
- さらに、
第一制限手段と、
第二制限手段と、
前記第一および第二制限手段を駆動する駆動手段とを有し、
前記スリットは、前記第一と第二制御手段との間で画成され、
前記駆動手段が前記第一制限手段を駆動し、前記第一制限手段を加速して、前記スリット幅を変調し、遅延後に、前記第一制限手段の加速とほぼ同様の方法で前記第二制限手段を駆動し、前記第二制限手段を加速して、前記スリット幅を変調し、
駆動手段が、前記走査速度信号に基づいて前記第一制限手段および、前記第二制限手段の加速、および前記遅延を決定する、請求項22に記載のリソグラフィ装置。 - 前記変調手段が、前記走査速度にほぼ比例して、パターン形成したビームの単位時間当たりの総露光エネルギを変調するように構成される、請求項23に記載のリソグラフィ装置。
- 前記変調手段がさらに、減速または加速中に前記基板の前記目標部分へのパターン形成ビームの投影を開始するように構成される、請求項24に記載のリソグラフィ装置。
- さらに、
第一制限要素と、
第一制限要素と自身との間にスリットが形成されるように、第一制限要素に対して配置された第二制限要素とを有し、前記スリットが、パターンを形成したビームに対応するように開口を画定する幅を有し、さらに、
第一および第二制限要素を駆動する駆動手段とを有し、
変調器が、第一制限要素を加速し、遅延の後に第二制限要素を加速するように駆動機構に指示することによって、スリット幅を変調し、第一および第二制限要素の加速および遅延は、走査速度信号に基づき、
変調器が、走査速度信号に基づいて、照明システムに付随する光源の輝度も変調する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。 - さらに、
第一制限要素と、
第一制限要素と自身との間にスリットが形成されるように、第一制限要素に対して配置された第二制限要素とを有し、前記スリットが、パターンを形成したビームに対応するように開口を画定する幅を有し、さらに、
第一および第二制限要素を駆動する駆動手段とを有し、
変調器が、第一制限要素を加速し、遅延の後に第二制限要素を加速するように駆動機構に指示することによって、スリット幅を変調し、第一および第二制限要素の加速および遅延は、走査速度信号に基づき、
変調器が、走査速度信号に基づいて、照明システムに付随する光源の繰返し率も変調する、請求項1に記載のリソグラフィ装置。
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