JPH05291107A

JPH05291107A - レーザ露光システム

Info

Publication number: JPH05291107A
Application number: JP4096335A
Authority: JP
Inventors: Junichiro Okada; 淳一郎岡田; Yoshihiko Yamamoto; 吉彦山本
Original assignee: Mitsubishi Electric Corp
Current assignee: Mitsubishi Electric Corp
Priority date: 1992-04-16
Filing date: 1992-04-16
Publication date: 1993-11-05

Abstract

(57)【要約】【目的】この発明は、露光生産性を向上できるととも
に、低価格化を図ることができるレーザ露光システムを
得ることを目的とする。【構成】エキシマレーザ３０のレーザ出力端には、レ
ーザバス４００が配設され、このレーザバス４００内に
は、ビームスプリッタ３２とミラー３３とが配設されて
いる。ステッパ１０１ａ（１０１ｂ）は、ミラー５ａ
（５ｂ）、コンデンサレンズ７ａ（７ｂ）および対物レ
ンズ８ａ（８ｂ）からなる縮小投影光学系とシャッタ３
ａ（３ｂ）とで構成されている。ビームスプリッタ３２
とミラー３３とで反射されるレーザビーム３００を入射
できる位置のそれぞれにステッパ１０１ａ、１０１ｂが
配設され、制御装置１２ａ、１２ｂのシャッタ３ａ、３
ｂの開閉制御によりレーザビーム３００を取り込むよう
に構成されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】この発明は、集積形半導体（ＬＳ
Ｉ）の製造プロセスに用いられるレーザ装置、例えばエ
キシマレーザを光源とする複数の縮小投影形露光装置を
備えたレーザ露光システムに関するものである。

【０００２】

【従来の技術】ＬＳＩ製造プロセスにおいて、シリコン
ウエハ上への回路パターンの露光が重要プロセスであ
り、この露光には、従来水銀ランプを光源とする縮小投
影形露光装置（以下、ステッパという）が使用されてい
た。

【０００３】また、ＬＳＩは複雑な電子回路を持つため
に、１つのＬＳＩが完成するまでに電子回路を構成する
複数のパターンのそれぞれを描いたレチクルと呼ばれる
複数のマスクを通して、シリコンウエハ上に複数のパタ
ーンを作製している。つまり、ステッパを用いて１つの
レチクルを通してシリコンウエハ上にパターンが露光さ
れ、次にパターンが露光されたシリコンウエハにエッチ
ング等の処理をして、１つのパターンをウエハ上に作製
する。さらに、次のレチクルを使用して露光し、エッチ
ング等の処理をして、新たなパターンをウエハ上に作製
する。この工程を順次繰り返し行い、ＬＳＩを完成させ
ている。

【０００４】このように、シリコンウエハは、目的のＬ
ＳＩの構造に仕上がるまでに何回かステッパにより露光
されることになり、通常ＬＳＩ量産ラインには、複数台
のステッパが設置されている。

【０００５】図４は従来のステッパの一例を示す基本構
成図、図５はシリコンウエハ上のパターン形成状態を示
す平面図であり、図において１は光源としての水銀ラン
プであり、ＬＳＩのパターンの微細化の進展に対応でき
るように、ｇ線（４３６ｎｍ）やｉ線（３６５ｎｍ）の
短波長光を出す水銀ランプが用いられる。２は水銀ラン
プ１から出射される光ビーム、３は光ビーム２の縮小投
影光学系への取り込みを制御するシャッタ、４はアパー
チャ、５はミラー、６は整形レンズ、７はコンデンサレ
ンズ、８は露光パターンが形成されたレチクル、９は対
物レンズ、１０はウエハ２０を搭載するＸＹテーブル、
１１はＸＹテーブル１０を駆動するモータ、１２はモー
タ１１の駆動を制御するとともにシャッタ３の開閉を制
御する制御装置である。

【０００６】ここで、ステッパ１００は、光ビーム２の
縮小投影光学系への取り込みを制御するシャッタ３と、
アパーチャ４、ミラー５、整形レンズ６、コンデンサレ
ンズ７および対物レンズ９からなる縮小投影光学系と、
ＸＹテーブル１０と、モータ１１と、制御装置１２とか
ら構成されている。

【０００７】つぎに、上記従来のステッパ１００の動作
について説明する。まず、レチクル８をセットし、感光
剤（レジスト）が塗布されたウエハ２０をＸＹテーブル
１０に搭載し、制御装置１２の制御によりモータ１１を
駆動して、ＸＹテーブル１０を適性な位置に移動させ
る。その後、シャッタ３を開閉制御して水銀ランプ１か
ら出射される光ビーム２を縮小投影光学系に取り込む。

【０００８】この光ビーム２は、アパーチャ４を通り、
ミラー５で反射され、整形レンズ６で適切なビーム形状
に整形された後、コンデンサレンズ７に入射される。コ
ンデンサレンズ７で拡張された光ビーム２は、レチクル
８を通過し、レチクル８に形成されたＬＳＩ回路パター
ン情報が備わり、大きな開口率を持つ対物レンズ９で縮
小された後、ウエハ２０上に投射される。この光ビーム
２は、ウエハ２０上のレジストが感光するに十分な時間
投射された後、シャッタ３により遮断される。この時、
ウエハ２０のレジスト上には、精密なパターン像が形成
され、図２中でＰ₁の位置にＬＳＩ１チップ分の露光が
終了する。

【０００９】ついで、ウエハ２０のＰ₂の位置に露光で
きるように、制御装置１２によりモータ１１を駆動して
ＸＹテーブル１０を移動させる。そこで、上記露光操作
を繰り返して、ウエハ２０のＰ₂の位置にＬＳＩ１チッ
プ分の露光を行う。このようにして上記露光操作を順次
繰り返して行い、１枚のウエハ２０上にＬＳＩの所定チ
ップ分の露光が終了した後、制御装置１２によりモータ
１１を駆動して、つぎのウエハ２０と交換し、同様に露
光操作を行っている。

【００１０】一般に、ウエハ２０は、直径５〜６インチ
のシリコンが用いられ、１枚で数十個のＬＳＩが生産さ
れる。また、ＬＳＩチップは、１０ｍｍ程度の正方形が
多く、ＬＳＩの大規模化にともないその寸法は次第に大
きくなっている。このように、ＬＳＩの大規模化、複雑
化が進み、集積度の向上やパターンの微細化の要求か
ら、高精度のパターンが必要となってきた。そこで、ス
テッパには、より微細化するパターンを適正に露光でき
るように、対物レンズ９の開口率の増大や、光源の短波
長化が要求され、特に水銀ランプ１を光源とする上記従
来のステッパでは、適用できないという課題があった。

【００１１】そこで、水銀ランプ１に比べて短波長の光
ビームを出射するレーザ、例えばエキシマレーザを光源
とするステッパが提案され、特にコヒーレンスの向上に
よって発生するスペックルを低減させるレーザ装置（特
開平２ー９８９１９号公報）あるいはエキシマレーザの
狭帯域化手段を備えた露光装置（特開平２ー１０１７３
０号公報）が提案されている。

【００１２】図６は従来のステッパの他の例を示す構成
図であり、図において３０は波長２４８ｎｍのレーザビ
ームを出射する光源としてのエキシマレーザである。図
６に示す上記ステッパ１０１は、制御装置１２の指令に
より必要な時間レーザビーム３００を出射し、図４に示
した上記従来のステッパ１００と同様の動作で、ウエハ
２０上にレチクル８のパターンを縮小投射するものであ
る。この従来のステッパ１０１によれば、エキシマレー
ザ３０は水銀ランプ１に比べて短波長のビームを出射す
るので、高精度で、より微細なパターンを露光すること
ができ、大規模で複雑なＬＳＩを製造することができ
る。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】従来のステッパは以上
のように、光源として水銀ランプ１を用いているので、
ＬＳＩの大規模化、複雑化が進み、集積度の向上やパタ
ーンの微細化の要求にともなう高精度のパターンの露光
に対応できないという課題があった。

【００１４】また、光源としてエキシマレーザ３０を用
いた場合には、高精度のパターンを露光でき、ＬＳＩの
大規模化、複雑化に十分対応することができるが、エキ
シマレーザ３０は高度な技術や高精度の部品を使用し、
かつ、高度な制御をする装置であることから、水銀ラン
プ１に比べて高価となり、ステッパが高価になるという
課題があった。

【００１５】この発明は、上記のような課題を解決する
ためになされたもので、露光生産性を向上できるととも
に、低価格化を図ることができるレーザ露光システムを
得ることを目的とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】この発明の第１の発明に
係るレーザ露光システムは、レーザ装置と、このレーザ
装置のレーザ出力端に設置されたレーザバスと、このレ
ーザバス内に配設され、レーザ装置から出射されたレー
ザビームを透過および反射する光分配器と、レーザバス
内に配設され、光分配器を透過したレーザビームを反射
するミラーと、光分配器およびミラーで反射されたレー
ザビームを入射する位置のそれぞれに配設され、シャッ
タとレーザビームで縮小投影する縮小投影光学系とから
構成される複数の縮小投影形露光装置と、シャッタの開
閉を制御し、縮小投影形露光装置へのレーザビームの入
射を制御する制御装置とを備えたものである。

【００１７】また、この発明の第２の発明に係るレーザ
露光システムは、レーザ装置と、このレーザ装置のレー
ザ出力端に設置されたレーザバスと、このレーザバス内
に配設され、レーザ装置から出射されたレーザビームを
反射する複数の可動ミラーと、可動ミラーを駆動し、レ
ーザビームの反射を制御する制御装置と、複数の可動ミ
ラーで反射されたレーザビームを入射する位置のそれぞ
れに配設された複数の縮小投影形露光装置とを備えたも
のである。

【００１８】

【作用】この発明の第１の発明においては、光分配器と
ミラーとがレーザ装置のレーザ出力端に設置されたレー
ザバス内に配設され、複数の縮小投影形露光装置が光分
配器およびミラーで反射されたレーザビームを入射する
位置のそれぞれに配設され、さらにシャッタの開閉を制
御する制御装置が配設されているので、制御装置のシャ
ッタの開閉制御により、光分配器とミラーとのそれぞれ
で反射されたレーザビームを複数の縮小投影形露光装置
に選択的に取り込み露光でき、１台のレーザ装置を複数
の縮小投影系露光装置で共有することができるととも
に、レーザ装置で出射されるレーザビームを用いている
ので、高精度、より微細なパターンを露光することがで
きる。

【００１９】また、この発明の第２の発明においては、
複数の可動ミラーがレーザ装置のレーザ出力端に設置さ
れたレーザバス内に配設され、複数の縮小投影形露光装
置が複数の可動ミラーで反射されたレーザビームを入射
する位置のそれぞれに配設され、さらに複数の可動ミラ
ーを駆動する制御装置が配設されているので、制御装置
の可動ミラーの駆動制御により、複数の可動ミラーのそ
れぞれで反射されたレーザビームを複数の縮小投影形露
光装置に選択的に取り込み露光することができる。

【００２０】

【実施例】以下、この発明の実施例を図について説明す
る。実施例１．図１はこの発明の第１の発明に係る一実施例
を示すレーザ露光システムの構成図であり、図において
図４および図６に示した従来のステッパと同一または相
当部分には同一符号を付し、その説明を省略する。図に
おいて、３２はエキシマレーザ３０のレーザ出力端に設
けられたレーザバス４００を通るエキシマレーザ３０の
レーザビーム３００を透過光と反射光とに分ける光分配
器としてのビームスプリッタ、３３はビームスプリッタ
３２の後段に配設され、ビームスプリッタ３２を透過し
たレーザビーム３００を反射するミラー、３４はエキシ
マレーザ３０の発振を制御するエキシマレーザ制御装
置、１０１ａおよび１０１ｂはそれぞれステッパであ
る。

【００２１】ここで、ステッパ１０１ａは、制御装置１
２ａにより開閉制御され、レーザビーム３００の縮小投
影光学系への取り込みを制御するシャッタ３ａと、一対
のミラー５ａ、コンデンサレンズ７ａおよび対物レンズ
９ａから構成される縮小投影光学系と、ＸＹテーブル１
０ａと、モータ１１ａと、制御装置１２ａとで構成され
ており、ステッパ１０１ｂも同様に構成されている。

【００２２】つぎに、上記実施例１の動作について説明
する。まず、一方のステッパ１０１ａにおいて、レチク
ル８ａをセットし、感光剤（レジスト）が塗布されたウ
エハ２０ａをＸＹテーブル１０ａに搭載し、制御装置１
２ａの制御によりモータ１１ａを駆動して、ＸＹテーブ
ル１０ａを適性な位置に移動させる。さらに、他方のス
テッパ１０１ｂにおいて、同様にレチクル８ｂおよびウ
エハ２０ｂをセットする。その後、制御装置１２ａ、１
２ｂからエキシマレーザ制御装置３４に通信し、必要な
時期にレーザビーム３００を出射させる。

【００２３】このレーザビーム３００は、レーザーバス
４００を通り、ビームスプリッタ３２で透過光と反射光
に分けられ、ビームスプリッタ３２を透過したレーザビ
ーム３００はミラー３３で反射される。そこで、ステッ
パ１０１ａにおいて、制御装置１２ａの制御によりシャ
ッタ３ａを開ける。ビームスプリッタ３２で反射された
レーザビーム３００は、ステッパ１０１ａに入射し、一
対のミラー５ａを介してコンデンサレンズ７ａに入射さ
れる。コンデンサレンズ７ａで拡張されたレーザビーム
３００は、レチクル８ａを通過し、レチクル８ａに形成
されたＬＳＩ回路パターン情報が備わり、大きな開口率
を持つ対物レンズ９ａで縮小された後、ウエハ２０ａ上
に投射される。

【００２４】一方、ステッパ１０１ｂにおいては、制御
装置１２ｂの制御によりシャッタ３ｂが閉じられ、ミラ
ー３３で反射されたレーザビーム３００は、シャッタ３
ｂで遮断される。また、必要に応じてシャッタ３ｂが開
けられると、ミラー３３で反射されたレーザビーム３０
０は、ステッパ１０１ｂに入射し、同様にして、ウエハ
２０ｂ上に投射される。

【００２５】このようにして、ウエハ２０ａ、２０ｂの
レジスト上に、ＬＳＩ１チップ分の露光が終了する。つ
いで、制御装置１２ａ、１２ｂの制御によりモータ１１
ａ、１１ｂを駆動してＸＹテーブル１０ａ、１０ｂを移
動し、ウエハ２０ａ、２０ｂを所望の位置に移動させ
る。さらに、上述の露光操作を繰り返し、最終的にウエ
ハ２０ａ、２０ｂの全面にＬＳＩを露光する。しかる
後、ウエハを交換し、上述の露光操作を実施する。

【００２６】ここで、ウエハ２０を次の位置に移動する
間（約１ｓｅｃ）およびウエハ２０を交換する間（約数
十ｓｅｃ）は、ステッパ１０１ａ、１０１ｂにとってレ
ーザビーム３００は必要なく、エキシマレーザ３０およ
びステッパ１０１ａ、１０１ｂをつぎのように駆動制御
する必要がある。また、露光時間は約２００ｍｓｅｃで
ある。

【００２７】つぎに、エキシマレーザ３０およびステッ
パ１０１ａ、１０１ｂの駆動方法について説明する。第
１の駆動方法は、エキシマレーザ３０を連続運転して、
レーザバス４００内にレーザビーム３００を常に供給さ
せておき、制御装置１２ａ、１２ｂによりステッパ１０
１ａ、１０１ｂがレーザビーム３００を必要とするか否
かを判断し、つまり露光フェイズかどうかを判断し、必
要な時（露光フェイズ）にのみシャッタ３ａ、３ｂを開
けて、ステッパ１０１ａ、１０１ｂ内にレーザビーム３
００を導入し、それ以外の時にはシャッタ３ａ、３ｂを
閉じて、レーザビーム３００の導入を遮断するものであ
る。

【００２８】第２の駆動方法は、制御装置１２ａ、１２
ａにより、ステッパ１０１ａ、１０１ｂがレーザビーム
３００を必要とするか否かを判断し、必要な時にのみエ
キシマレーザ３０を駆動してレーザバス４００内にレー
ザビーム３００を供給するとともに、シャッタ３ａ、３
ｂを開閉制御して、ステッパ１０１ａ、１０１ｂにレー
ザビーム３００を導入するものである。

【００２９】つまり、制御装置１２ａ、１２ｂからエキ
シマレーザ制御装置３４に発振要求信号を送信する。エ
キシマレーザ制御装置３４は発振要求信号の受信と同時
あるいは一定時間後にエキシマレーザ３０を駆動させ
て、レーザバス４００内にレーザビーム３００を供給す
るとともに、発振開始信号を制御装置１２ａ、１２ｂに
送信する。制御装置１２ａ、１２ｂは、発振開始信号を
受信すると、シャッタ３ａ、３ｂを開けて、ステッパ１
０１ａ、１０１ｂ内にレーザビーム３００を導入する。
露光終了後、制御装置１２ａ、１２ｂは、発振停止信号
をエキシマレーザ制御装置３４に送信するとともに、シ
ャッタ３ａ、３ｂを閉じる。エキシマレーザ制御装置３
４は、発振停止信号を受信して、エキシマレーザ３０の
駆動を停止させる。

【００３０】このように、上記第２の駆動方法は、レー
ザビーム３００が必要な時にのみレーザビーム３００を
導入するように、エキシマレーザ３０を間欠運転させる
とともに、シャッタ３ａ、３ｂを開閉制御するものであ
るので、エキシマレーザ３０を連続運転している第１の
駆動方法に比べて、発振コストを低下することができ
る。

【００３１】上記実施例１によれば、光源として水銀ラ
ンプ１に比べて短波長のエキシマレーザ３０を用いてい
るので、ＬＳＩの大規模化、複雑化が進み、集積度の向
上やパターンの微細化の要求にともなう高精度のパター
ンの露光に対応することができる。

【００３２】また、レーザバス４００内にビームスプリ
ッタ３２とミラー３３とを配設し、ビームスプリッタ３
２とミラー３３とのそれぞれから反射されたレーザビー
ム３００をそれぞれ入射できるようにステッパ１０１
ａ、１０１ｂを配設しているので、１台のエキシマレー
ザ３０により２台のステッパ１０１ａ、１０１ｂでウエ
ハ２０の露光作業がなされ、露光生産性を向上できると
ともに、低価格化を図ることができる。

【００３３】実施例２．この実施例２は、この発明の第
１の発明に係る他の実施例である。上記実施例１では、
レーザバス４００内にビームスプリッタ３２とミラー３
３とを配設し、ビームスプリッタ３２とミラー３３との
それぞれから反射されたレーザビーム３００をそれぞれ
入射できるようにステッパ１０１ａ、１０１ｂを配設
し、さらにシャッタ３ａ、３ｂの開閉操作によりステッ
パ１０１ａ、１０１ｂへのレーザビーム３００の取り込
みを制御するものとしているが、この実施例２では、図
２に示すように、ステッパ１０１ａ、１０１ｂに対応し
てレーザバス４００の出力口にシャッタ３５ａ、３５ｂ
を配設するものとしている。

【００３４】上記実施例２では、レーザバス４００の出
力口に設けられたシャッタ３５ａ、３５ｂを、エキシマ
レーザ制御装置３４により開閉制御できるように構成し
ており、ステッパ１０１ａ、１０１ｂに設けられたシャ
ッタ３ａ、３ｂの開閉制御とともにシャッタ３５ａ、３
５ｂの開閉制御により、ステッパ１０１ａ、１０１ｂへ
のレーザビーム３００の取り込みを２重に制御すること
ができ、上記実施例１の効果に加えて、安全性を向上す
ることができる。

【００３５】実施例３．この実施例３は、この発明の第
２の発明に係る一実施例である。図３はこの発明の実施
例３に係るレーザ露光システムを示す構成図であり、図
において３６ａ、３６ｂはそれぞれレーザバス４００内
に回転可能に設けられた可動ミラー、３７ａ、３７ｂは
それぞれ制御装置１２ａ、１２ｂの制御により可動ミラ
ー３６ａ、３６ｂを回転駆動するミラー駆動装置であ
る。

【００３６】つぎに、上記実施例３の動作について説明
する。なお、エキシマレーザ３０の駆動方法は、上記実
施例１と同様に２方式あるが、ここでは間欠運転方式に
ついて説明する。まず、ステッパ１０１ａ内にレチクル
８ａをセットするとともに、感光剤（レジスト）が塗布
されたウエハ２０ａをＸＹテーブル１０ａに搭載し、制
御装置１２ａの制御によりモータ１１ａを駆動して、Ｘ
Ｙテーブル１０ａを適性な位置に移動させる。同様に、
ステッパ１０１ｂ内にもレチクル８ｂ、ウエハ２０ｂを
セットする。

【００３７】ついで、ステッパ１０１ａが露光ステージ
にあるか否かを制御装置１２ａにより判断し、露光ステ
ージにある場合には、制御装置１２ａからエキシマレー
ザ制御装置３４に発振要求信号を送信する。エキシマレ
ーザ制御装置３４は、発振要求信号を受信すると、エキ
シマレーザ３０を駆動してレーザバス４００にレーザビ
ーム３００を出射するとともに、発振開始信号を制御装
置１２ａに送信する。制御装置１２ａでは、発振開始信
号を受信すると、ミラー駆動装置３７ａを駆動して可動
ミラー３６ａをレーザビーム３００に対して４５°の角
度まで回転させる。ついで、シャッタ３ａを開けて、可
動ミラー３６ａで反射されたレーザビーム３００をステ
ッパ１０１ａ内に取り込み、縮小投影光学系によりレチ
クル８ａ上のパターンをウエハ２０ａ上に投影露光す
る。

【００３８】露光が終了すると、制御装置１２ａは、シ
ャッタ３ａを閉じ、ミラー駆動装置３７ａを駆動して可
動ミラー３６ａを回転し、レーザビーム３００の光路を
解放するとともに、エキシマレーザ制御装置３４に発振
停止信号を送信する。エキシマレーザ制御装置３４は、
発振停止信号を受信するとエキシマレーザ３０の発振を
停止させる。ついで、制御装置１２ａは、モータ１１ａ
を駆動しＸＹテーブル１０ａを移動して、ウエハ２０ａ
をつぎの露光位置に移動させる。さらに、上述の露光操
作を順次繰り返し、最終的にウエハ２０ａの全面にＬＳ
Ｉを露光する。しかる後、ウエハを交換し、上述の露光
操作を実施する。

【００３９】一方、ステッパ１０１ｂにおいても、同様
に、露光ステージにあるか否かを制御装置１２ｂにより
判断し、露光ステージにある場合には、エキシマレーザ
制御装置３４を介してエキシマレーザ３０を駆動し、ミ
ラー駆動装置３７ｂを介して可動ミラー３６ｂを回転さ
せ、シャッタ３ｂを開けて、レーザビーム３００を取り
込み、露光ステージにない場合には、エキシマレーザ制
御装置３４を介してエキシマレーザ３０を発振停止し、
ミラー駆動装置３７ｂを介して可動ミラー３６ｂをレー
ザビーム３００の光路を解放するように回転し、シャッ
タ３ｂを閉じるように動作している。

【００４０】ここで、可動ミラー３６ａ、３６ｂがレー
ザバス４００内に直列に配設されているので、レーザビ
ーム３００を反射するように可動ミラー３６ａを回転駆
動した場合には、レーザビーム３００が可動ミラー３６
ｂまで到達されない。そこで、ステッパ１０１ａ、１０
１ｂでの露光フェイズが重複しないようにシステムを動
作させる必要がある。つまり、各ステッパのフェイズを
監視し、一方のステッパにおいて露光フェイズとし、他
方のステッパにおいてウエハの移動もしくは交換フェイ
ズとなるように、システム全体を調停制御することにな
り、高効率の露光システムが実現できる。なお、このよ
うな調停制御は、簡単なシーケンス制御で実現できる。

【００４１】上記実施例３によれば、レーザバス４００
内に可動ミラー３６ａ、３６ｂを回転可能に配設し、レ
ーザビーム３００を反射するように制御装置１２ａ、１
２ｂにより可動ミラー３６ａ、３６ｂを回転制御し、さ
らに可動ミラー３６ａ、３６ｂのそれぞれから反射され
たレーザビーム３００をそれぞれ入射できるようにステ
ッパ１０１ａ、１０１ｂを配設しているので、上記実施
例１の効果に加え、レーザビーム３００は可動ミラー３
６ａ、３６ｂのそれぞれでロスなく反射されて、２台の
ステッパ１０１ａ、１０１ｂのそれぞれに１００％のパ
ワーのレーザビーム３００が取り込まれ、各ステッパに
おける露光条件が等しくなり、露光効率が高められ、露
光作業性を向上することができる。

【００４２】なお、上記各実施例では、ステッパ１０１
の光源としてエキシマレーザ３０を用いるものとして説
明しているが、光源としてはエキシマレーザ３０に限ら
ず、水銀ランプ１より短波長のレーザであれば、同様の
効果を奏する。

【００４３】また、上記各実施例では、ステッパ１０１
を２台設置するものとして説明しているが、設置するス
テッパ１０１は３台以上であってもよく、例えば３台の
ステッパ１０１を設置する場合には、レーザバス４００
内に２つのビームスプリッタ３２と１つのミラー３３と
を配設する、もしくはレーザバス４００内に３つの可動
ミラー３６を回転可能に配設すればよい。

【００４４】さらに、上記各実施例では、各ステッパ１
０１に設けられた制御装置１２によりシャッタ３、エキ
シマレーザ制御装置３４あるいはミラー駆動装置３７を
制御するものとして説明しているが、複数の制御装置を
配設してそれぞれを個々に制御するようにしてもよく、
１つの制御装置を配設して全体を統合して制御するよう
にしてもよい。

【００４５】

【発明の効果】この発明は、以上のように構成されてい
るので、以下に記載されるような効果を奏する。

【００４６】この発明の第１の発明によれば、レーザ装
置と、このレーザ装置のレーザ出力端に設置されたレー
ザバスと、このレーザバス内に配設され、レーザ装置か
ら出射されたレーザビームを透過および反射する光分配
器と、レーザバス内に配設され、光分配器を透過したレ
ーザビームを反射するミラーと、光分配器およびミラー
で反射されたレーザビームを入射する位置のそれぞれに
配設され、シャッタとレーザビームで縮小投影する縮小
投影光学系とから構成される複数の縮小投影形露光装置
と、シャッタの開閉を制御し、縮小投影形露光装置への
レーザビームの入射を制御する制御装置とを備えている
ので、１台のレーザ装置により複数の縮小投影形露光装
置で露光作業を実施でき、低価格化を図るとともに、生
産性を高めることができる。

【００４７】また、この発明の第２の発明によれば、レ
ーザ装置と、このレーザ装置のレーザ出力端に設置され
たレーザバスと、このレーザバス内に配設され、レーザ
装置から出射されたレーザビームを反射する複数の可動
ミラーと、可動ミラーを駆動し、レーザビームの反射を
制御する制御装置と、複数の可動ミラーで反射されたレ
ーザビームを入射する位置のそれぞれに配設された複数
の縮小投影形露光装置とを備えているので、複数の縮小
投影形露光装置のそれぞれに取り込むレーザビームの強
度を等しくできるとともに強くすることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】この発明の実施例１を示すレーザ露光システム
の構成図である。

【図２】この発明の実施例２を示すレーザ露光システム
の構成図である。

【図３】この発明の実施例３を示すレーザ露光システム
の構成図である。

【図４】従来の縮小投影形露光装置の一例を示す構成図
である。

【図５】シリコンウエハ上のパターン形成状態を示す平
面図である。

【図６】従来の縮小投影形露光装置の他の例を示す構成
図である。

【符号の説明】

３ａ、３ｂシャッタ５ａ、５ｂミラー（縮小投影光学系）７ａ、７ｂコンデンサレンズ（縮小投影光学系）９ａ、９ｂ対物レンズ（縮小投影光学系）１２ａ、１２ｂ制御装置３０エキシマレーザ３２ビームスプリッタ（光分配器）３３ミラー３６ａ、３６ｂ可動ミラー１０１ａ、１０１ｂステッパ（縮小投影形露光装置）３００レーザビーム４００レーザバス

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｈ０１Ｓ 3/101 8934−4Ｍ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】レーザ装置と、前記レーザ装置のレーザ
出力端に設置されたレーザバスと、前記レーザバス内に
配設され、前記レーザ装置から出射されたレーザビーム
を透過および反射する光分配器と、前記レーザバス内に
配設され、前記光分配器を透過した前記レーザビームを
反射するミラーと、前記光分配器および前記ミラーで反
射された前記レーザビームを入射する位置のそれぞれに
配設され、シャッタと前記レーザビームで縮小投影する
縮小投影光学系とから構成される複数の縮小投影形露光
装置と、前記シャッタの開閉を制御し、前記縮小投影形
露光装置への前記レーザビームの入射を制御する制御装
置とを備えたことを特徴とするレーザ露光システム。
【請求項２】レーザ装置と、前記レーザ装置のレーザ
出力端に設置されたレーザバスと、前記レーザバス内に
配設され、前記レーザ装置から出射されたレーザビーム
を反射する複数の可動ミラーと、前記可動ミラーを駆動
し、前記レーザビームの反射を制御する制御装置と、複
数の前記可動ミラーで反射された前記レーザビームを入
射する位置のそれぞれに配設された複数の縮小投影形露
光装置とを備えたことを特徴とするレーザ露光システ
ム。