KR100969132B1 - 우레아를 이용한 탄산세륨 분말의 제조방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 세륨 전구체 용액과 우레아(Urea) 용액을 혼합, 침전반응을 일으켜 탄산세륨 분말을 제조하는 방법에 있어서, 상기 세륨 전구체 용액 및 우레아 용액에 사용되는 용매 중 적어도 1종 이상은 유기용매를 사용하며, 상기 침전반응 온도를 120℃ 내지 300℃ 범위로 조절하여, 육방정계(Hexagonal) 결정구조를 갖는 탄산세륨 분말을 제조하는 방법, 상기 방법으로 제조된 탄산세륨 분말, 이를 원료로 제조된 산화세륨 분말 및 상기 산화세륨 분말을 연마재로 하는 CMP 슬러리를 제공한다.

본 발명은 우레아를 침전제로 사용함으로써 반응의 균일성을 향상시킬 수 있고, 수열합성 반응에 따르는 고온 고압에 대한 위험성과 고가의 장치에 대한 부담 없이 쉽고 저렴하게 육방정계 결정구조를 갖는 탄산세륨 분말을 제조할 수 있다.

탄산세륨, 우레아, 유기용매, 반응온도

Description

우레아를 이용한 탄산세륨 분말의 제조방법{METHOD FOR PREPARING CERIUM CARBONATE POWDER USING UREA }

본 발명은 상압 하에서 우레아를 이용한 침전법에 의해 탄산세륨 분말을 제조하는 방법으로서, 침전반응 온도를 조절하여 육방정계 결정구조를 갖는 탄산세륨 분말을 제조하는 방법에 관한 것이다.

산화세륨은 촉매, 형광체, 화장품, 연마재 등에 널리 사용되고 있는 고기능성 세라믹 물질로서, 최근 반도체 소자의 에스티아이(Shallow Trench Isolation) 공정 및 광학용 유리 연마재로 각광을 받고 있다. 산화세륨의 제조방법은 통상적으로 3가 혹은 4가의 세륨 전구체로부터 침전제를 첨가하여 산화세륨 분말을 직접 제조하는 액상법과, 탄산세륨 등의 중간 원료물질을 제조한 후 고온 소성 공정을 거쳐 산화세륨을 제조하는 고상법 등이 있다.

특히 고상법에서는 산화세륨의 중간물질로 탄산세륨이 널리 이용되고 있으며, 탄산세륨의 종류와 형상에 따라 산화세륨의 물성과 형상에 매우 큰 영향을 미치므로 이에 대한 연구가 활발히 진행되고 있다.

용액 상에서 탄산세륨 분말을 합성하는 종래의 기술로는 1)세륨염과 우레 아(Urea)를 이용하여, 침전반응에 의해 사방정계의 탄산세륨 분말을 제조하는 방법, 2)세륨염과 우레아를 이용하여, 수열반응(hydrothermal reaction)에 의해 육방정계의 탄산세륨 분말을 제조하는 방법 등이 있었으며, 또한 3)염화세륨염, 황화세륨염, 세륨질산염과 우레아를 이용하여 수열반응에 의해 탄산세륨 분말을 제조할 때, 염의 종류, 반응 온도, 반응 시간, 우레아의 농도에 따라 분말의 결정성을 조절하는 방법 등의 시도가 있었다. 하지만 기존의 연구에서는 비교적 낮은 침전반응 온도 및 상압 하에서 분말의 결정성을 조절하는 연구는 아직 없었다.

탄산세륨의 결정구조는 제조 방법에 따라 달라지며, 특히 사방정계(Orthorhombic)와 육방정계(Hexagonal) 등으로 나누어 질 수 있다. 현재까지 알려진 바로는 사방정계(Orthorhombic) 탄산세륨의 제조는 수용액 기반의 침전반응을 통해 이루어 질 수 있으며, 육방정계(Hexagonal) 탄산세륨의 제조는 고온 고압의 수열합성에 의해 제조 가능한 것으로 일반적으로 알려져 있었다. 하지만 수열합성의 경우 공정의 스케일이 커짐에 따라 고압에 대한 위험성과 비싼 장치비에 어려움이 있었다.

또한, 우레아를 침전제로 사용하는 경우 반응이 매우 안정적으로 일어나고, 균일한 침전이 형성되어 분말 물성의 균일성이 향상되는 등의 여러 장점이 있으나, 상압 하에서 수용액 기반의 침전반응에 의해 탄산세륨을 제조할 때 우레아가 침전제인 경우에는 탄산세륨의 결정구조 제어가 매우 어려운 문제점이 있다.

본 발명자들은 상압 하에서 우레아를 침전제로 사용한 침전 반응에 의해 탄산세륨을 제조할 때, 침전반응 온도를 120℃ 이상으로 높이는 경우, 기존의 사방정계 이외에 육방정계 결정구조를 갖는 탄산세륨 분말을 얻을 수 있다는 것을 발견하였다. 따라서, 반응용액에 적어도 1종 이상의 유기용매를 포함시킴으로써, 유기용매의 다양한 끓는점에 따라 침전반응 온도도 다양하게 변화시킬 수 있으며, 이에 따라 생성되는 탄산세륨의 결정구조도 용이하게 제어할 수 있다는 것을 밝혀 내었다.

본 발명은 이에 기초한 것이다.

본 발명은 세륨 전구체 용액과 우레아(Urea) 용액을 혼합, 침전반응을 일으켜 탄산세륨 분말을 제조하는 방법에 있어서, 상기 세륨 전구체 용액 및 우레아 용액에 사용되는 용매 중 적어도 1종 이상은 유기용매를 사용하며, 상기 침전반응 온도를 120℃ 내지 300℃ 범위로 조절하여, 육방정계(Hexagonal) 결정구조를 갖는 탄산세륨 분말을 제조하는 방법을 제공한다.

또한, 본 발명은 상기의 방법에 의해 제조된 탄산세륨 분말을 제공한다.

그리고, 본 발명은 상기에 기재된 탄산세륨 분말을 300℃ 내지 1500℃에서 열처리하여 제조된 산화세륨 분말을 제공한다.

또한, 본 발명은 상기에 기재된 산화세륨 분말을 연마재로 포함하는 CMP 슬러 리를 제공한다.

본 발명은 탄산세륨을 상압 하에서 침전법으로 제조할 때, 우레아를 침전제로 사용하고, 용매로서 1종 이상의 유기용매를 사용하고, 침전반응의 온도를 변화시킴으로써, 육방정계 결정구조를 갖는 탄산세륨 분말을 용이하게 제조할 수 있다. 따라서, 우레아를 침전제로 사용함으로써 반응의 균일성을 향상시킬 수 있고, 수열합성 반응에 따르는 고온 고압에 대한 위험성과 고가의 장치에 대한 부담 없이 쉽고 저렴하게 육방정계 결정구조를 갖는 탄산세륨 분말을 제조할 수 있으며, 이로부터 제조되는 산화세륨의 물성 제어가 용이하여 CMP 연마재로서의 성능을 향상시킬 수 있다.

세륨 전구체와 탄산 전구체로부터 침전반응에 의해 탄산세륨이 생성되는 반응은 다음과 같이 예상할 수 있으며, 하기 반응식 1은 사방정계 탄산세륨이, 반응식 2는 육방정계 탄산세륨이 생성되는 반응식이다.

[반응식 1]

2[Ce₂(H₂O)_n]³⁺ + 3CO₃ ^{2 -} → Ce₂O(CO₃)₂·H₂O + CO₂ + (n-1)H₂O

[반응식 2]

[Ce(H₂O)_n]³⁺ + H₂O → [Ce(OH)(H₂O)_n-1]²⁺ + H₃O⁺

[Ce(OH)(H₂O)_n-1]²⁺ + CO₃ ^{2 -} → Ce(OH)CO₃ + (n-1)H₂O

수용액 기반의 일반적인 침전반응에 의해, 사방정계 탄산세륨은 용이하게 제조할 수 있는 것으로 알려져 있으나, 육방정계의 탄산세륨의 경우에는 수용액으로 제조하는 데 어려움이 있었다.

예컨대, 상기 반응식 2의 반응에 의해 육방정계 탄산세륨이 형성되기 위해서는 CO₃ ^{2 -}가 Ce 이온에 결합하기 전에, Ce 이온의 약한 가수분해화가 먼저 일어나야 하며, 이러한 반응은 반응온도가 높은 경우에 진행될 것으로 예상된다. 따라서, 수용액 기반의 침전반응은 물의 끓는 점 한계로 인하여 반응 온도를 100℃ 이상으로 할 수 없었으며, 반응 온도를 높이기 위해서는 고온과 고압에 의한 수열합성법을 사용해야 했다. 그러나, 상기 수열합성법의 경우, 공정의 스케일이 커짐에 따라 고압에 대한 위험성이 있으며, 고가의 장치를 사용해야만 한다는 문제점이 있다. 본 발명에서는 수열합성법을 사용하지 않고, 상압 하에서 침전반응에 의해 탄산세륨의 결정구조를 제어하는 방법을 제공한다.

즉, 본 발명은 세륨 전구체와 우레아로부터 상압 하에서 침전반응에 의해 탄산세륨 분말을 제조할 때, 물 만을 용매로 사용한 종래의 방법과는 달리 적어도 1종 이상의 유기용매를 포함하며, 이 때 침전반응의 온도를 변화시키는 것에 의해 생성물인 탄산세륨의 결정구조를 제어하여 육방정계 결정구조를 갖는 탄산세륨 분말을 제조할 수 있다.

우레아를 침전제로 사용하는 반응의 경우, 전술한 바와 같이 반응이 안정적이고 균일한 분말이 형성되는 등의 여러 장점이 있으나, 종래에는 여러가지 반응 조건을 변화시킴에도 불구하고, 얻을 수 있는 탄산세륨의 결정상은 사방정계 결정구조를 갖는 것뿐이었다. 그러나, 본 발명은 적어도 1종 이상의 유기용매를 포함한 용매를 사용함으로써, 상압 하에서도 반응온도를 100℃ 이상으로 변화시킬 수 있어, 우레아를 침전제로 사용함에도 불구하고 육방정계 결정구조를 갖는 탄산세륨을 용이하게 얻을 수 있다.

특히, 침전반응 온도를 120℃ 이상 300℃ 이하로 조절하는 경우, 육방정계 결정구조를 갖는 탄산세륨 분말을 용이하게 얻을 수 있다. 이 때, 침전 반응 온도를 120℃ 이상으로 하기 위해서는 포함되는 유기용매의 끓는 점이 120℃ 이상이어야 한다.

따라서, 상기 침전반응 온도는 용매로서 포함되는 유기용매의 끓는 점보다 낮은 것이 바람직하다. 반응온도가 용매의 끓는 점보다 높을 경우에는 용매의 기화로 인하여 균일한 반응을 기대할 수 없다.

본 발명에 사용되는 유기용매는 끓는 점이 120℃ 이상 300℃ 범위인 것이 바람직하다. 상기 유기용매의 끓는 점이 상기 범위 내일 경우에 용매의 휘발성이 적당하여 다루기가 용이하며, 반응 후 수율이 우수하고, 세척이 용이하다는 잇점이 있다.

상기 유기용매의 비제한적인 예로는

1)알코올계: 탄소수가 6개 이상인 헥산올, 헵탄올, 옥탄올 등

2)글리콜계: 에틸렌 글리콜, 프로필렌 글리콜, 부틸렌 글리콜 등

3)기타: 다이메틸 설폭사이드, 다이메틸 포름아마이드,

이 들 유기용매는 상기 예 중에서 1종 만을 선택할 수도 있고, 2종 이상 선택할 수도 있다. 또한, 세륨 전구체 용액에 사용되는 유기용매와 우레아 용액에 사용되는 유기용매는 동일하거나, 서로 다를 수 있다.

상기 세륨 전구체는 세륨을 포함하는 화합물이라면 특별히 제한되지는 않으나, 염 형태인 것이 바람직하며, 그 비제한적인 예로는 세륨 질산염(cerium nitrate) 또는 세륨 아세테이트(cerium acetate) 등이 있다.

본 발명에서 탄산의 전구체로서 사용된 것은 우레아(Urea, NH₂CONH₂)로서, 탄산이온(CO₃ ^{2 -})의 공급원이며, 또한 pH 조정제의 역할을 할 수도 있다.

한편, 상기 세륨 전구체 및 우레아를 각각 용매에 용해시켜 전구체 용액을 제조할 때, 상기 용매 중 적어도 1종 이상은 유기용매를 포함하는 것이 바람직하다. 예컨대, 세륨 전구체 용액은 용매로 물, 유기용매, 또는 물과 유기용매의 혼합액을 사용할 수 있으며, 우레아 용액도 용매로 물, 유기용매, 또는 물과 유기용매의 혼합액을 사용할 수 있으며, 다만 세륨 전구체 용액과 우레아 용액 중 하나 이상에는 반드시 유기용매를 포함하는 형태이어야 한다. 즉, 세륨 전구체 용액과 우레아 용액이 모두 물 만을 용매로 하는 경우가 아니라면 모두 본 발명의 범주에 속할 수 있다.

이 때, 상기 세륨 전구체 및 우레아의 유기용매에 대한 용해도를 고려할 때, 상기 세륨 전구체의 경우 용매와의 중량비가 1 : 100 내지 1 : 1이 되도록 혼합하여 용해시키는 것이 바람직하며, 우레아의 경우 용매와의 중량비가 1 : 100 내지 1 : 1이 되도록 혼합하여 용해시키는 것이 바람직하다.

세륨 전구체와 우레아의 농도가 낮을 수록 용액에 잘 용해되며, 균일한 침전 반응과 더불어 부드럽게 반응이 진행되므로, 결과적으로 균일한 입도의 분말을 제조할 수 있는 장점이 있으나, 상기 범위보다 낮은 농도의 경우에는 수율이 낮은 단점이 있어 실제 공정에 적용하기 부적절하다는 문제점이 있다. 또한, 상기 범위보다 농도가 높을 경우에는 용해시간이 오래 걸리고, 반응이 격렬해지며, 끓어오름 현상이 발생하여 반응이 어렵다는 문제점이 있다.

상기와 같이 제조된 세륨 전구체 용액과 우레아 용액을 혼합함으로써 침전반응을 일으켜 탄산세륨 분말을 침전시킬 수 있다.

이 때, 상기 세륨 전구체 용액과 탄산 전구체 용액의 혼합비는 혼합된용액 중에서 세륨 전구체 1 M 당 탄산 전구체 몰농도가 0.1 M 내지 20 M이 되도록 혼합하는 것이 바람직하다. 탄산 전구체의 농도가 상기 범위보다 낮아질 경우에는 최종 탄산세륨 분말의 수율이 떨어진다는 문제점이 있으며, 상기 범위보다 높아질 경우에는 두 용액의 반응시 끓어오름 현상이 생겨 반응에 어려움을 야기시킬 수 있다는 문제점이 있다.

또한, 침전 반응시간이 증가할수록 반응의 진행 정도가 높아지게 되고, 이에 따라 최종 수득되는 탄산세륨 분말의 결정성에도 영향을 미치게 되므로, 상기 침전 반응시 반응시간은 30분 내지 60시간 범위에서 실시하는 것이 바람직하다.

이와 같이 제조된 탄산세륨 분말은 원심분리, 세척을 거쳐 약 90℃에서 24시간 동안 건조하는 것이 바람직하다.

한편, 상기에 기재된 방법에 의해 제조된 탄산세륨 분말은 유기용매를 이용하여 제조된 것이 특징이므로, 원심분리 세척, 및 건조 과정을 거치더라도 유기용매가 탄산세륨 분말의 표면 및 내부에 잔류할 수 있다. 이러한 잔류 유기용매는 TOC(Total Organic Carbon)등을 사용하여, 잔류 탄소량을 측정함으로써 분석될 수 있으며, 분석방법에 따라서는 탄산세륨을 구성하는 탄산기(-CO₃)와 함께 검출될 수 있으므로, 상기 탄산기는 제외하고 잔류 탄소량을 분석하는 것이 바람직하다. 예컨대 본 발명의 탄산세륨 분말은 탄산기(-CO₃)를 제외한 탄소의 잔류량이 0.1 ppm ~ 100 ppm 범위인 것일 수 있다. 상기 범위 미만의 값은 분석 오차이거나 또는 물 만을 용매로 한 경우에도 검출될 수 있는 값이다.

본 발명에 기재된 산화세륨 분말은 탄산세륨 분말로부터 일반적으로 당업자에게 알려진 고온 소성에 의한 분말 제조 방법에 의하여 제조될 수 있고, 바람직하게는 본 발명의 방법에 의해 제조된 탄산세륨 분말을 300℃ 내지 1500℃에서 열처리하는 소성단계를 포함하는 것일 수 있다.

산화세륨을 CMP 슬러리용 연마재로 사용하는 경우, 산화세륨의 원료인 탄산세륨의 결정구조는 산화세륨 분말의 크기 및 형상은 물론, 연마재로서의 연마특성에도 큰 영향을 미친다.

상기의 산화세륨 분말을 연마재로 하는 CMP 슬러리는 상기 산화세륨 분말을 분산제와 함께 용매에 분산시킴으로써 제조할 수 있다.

상기 분산제는 비이온성 고분자 분산제 또는 음이온성 고분자 분산제를 사용할 수 있다. 상기 비이온성 고분자 분산제는 폴리 비닐 알코올(PAA), 에틸렌 글리콜(EG), 글리세린, 폴리 에틸렌 글리콜(PEG) ,폴리 프로필렌 글리콜(PPG) 및 폴리 비닐 피롤리돈(PVP)으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택될 수 있으며, 상기 음이온성 고분자 분산제는 폴리 아크릴산, 폴리 아크릴산 암모늄염 및 폴리 아크릴 말레익산으로 이루어진 군으로부터 1종 이상 선택될 수 있다. 그러나 반드시 이에 한정되는 것은 아니다.

상기 분산제는 산화세륨 연마재 100 중량부를 기준으로 0.001 내지 10 중량부로 포함되는 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 0.02 내지 3.0 중량부가 포함되도록 한다. 분산제의 함량이 0.001 중량부 미만인 경우에는 분산력이 낮아 침전이 빨리 진행되므로, 연마액의 이송 시 침전이 발생되어 연마재의 공급이 균일하지 못하게 된다. 반대로, 10 중량부를 초과하는 경우에는 연마재 입자 주변에 일종의 쿠션역할을 하는 분산제 폴리머 층이 두텁게 형성되어, 연마재 표면이 실리카 연마면에 접촉되기가 어려워져 연마 속도가 낮아 지게된다.

상기 CMP슬러리는 산화세륨 분말 및 분산제를 물에 혼합한 후 pH 6 내지 8로 적정하는 것이 바람직하다. 적정 시에는 1N KOH 또는 1N HNO₃ 등이 이용될 수 있다.

pH 적정이 끝나면 분산 및 저장안정성을 향상시키기 위하여 분산안정화 공 정을 거치는 것이 바람직하다. 분산 안정화 공정은 당업자에게 알려진 분산장비를 사용할 수 있으며, 예컨대 APEX mill(Kotobuki eng. & mfg. Co. 일본)을 사용하여 수행할 수 있다. 상기 분산안정화 공정에서 AFEX mill 조건은 0.01 내지 1 mm 크기의 지르코니아 비드를 사용하고, 산화세륨 슬러리는 펌프를 사용하여 10 내지 1000 ml/min의 속도로 이송시켜 유입하고, 2000 내지 5000 rpm의 속도로 1 내지 20 pass로 반복 회전시키는 것이 바람직하다.

하기에서는 실시예를 통해 본 발명을 더욱 구체적으로 설명할 것이나, 본 발명은 하기 실시예에 의해 한정되는 것은 아니다.

[실시예 1]

세륨 질산염 0.1 mol을 상온에서 증류수 50 mL에 용해시킨 후, 용해된 세륨염에 에틸렌글리콜(끓는점 196 ℃) 50 mL를 혼합하였다. 또한, 다른 용기에 침전제로 우레아 0.1 mol을 상온에서 증류수 50 mL에 용해시킨 후, 용해된 우레아에 에틸렌 글리콜(끓는점 196 ℃) 50 mL을 혼합하였다. 그 다음, 상기 두 용액을 혼합하여 150 ℃에서 24 시간 동안 침전반응시켰다. 이렇게 생성된 수득물을 XRD 분석한 결과, 도 1에 나타낸 바와 같이 육방정계의 탄산세륨 분말(Hexagonal)임을 확인할 수 있었다.

[실시예 2]

세륨 질산염은 에틸렌글리콜(끓는점 196 ℃) 100 mL에 용해시키고, 우레아는 증류수 100 mL에 용해시킨 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 탄산 세륨 분말을 제조하였으며, 이를 XRD 분석한 결과, 도 1에 나타낸 바와 같이 육방정계의 탄산세륨 분말(Hexagonal)임을 확인할 수 있었다.

[실시예 3]

세륨 질산염과 우레아를 용해시키는 용매로서, 증류수 50 mL + 에틸렌글리콜(끓는점 196 ℃) 50 mL를 사용하는 대신에 증류수 60 mL + 1,3-프로판디올(끓는점 214 ℃) 40 mL를 사용한 것을 제외하고는 상기 실시예 1과 동일한 방법으로 탄산세륨 분말을 제조하였으며, 이를 XRD 분석한 결과, 도 1에 나타낸 바와 같이 육방정계의 탄산세륨 분말(Hexagonal)임을 확인할 수 있었다.

[비교예 1]

침전반응 온도를 150℃ 대신에 90℃로 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 탄산세륨 분말을 제조하였으며, 이를 XRD 분석한 결과, 도 1에 나타낸 바와 같이 사방정계의 탄산세륨 분말(Orthorhombic)임을 확인할 수 있었다.

[비교예 2]

침전반응 온도를 90℃ 대신에 105℃로 한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 탄산세륨 분말을 제조하였으며, 이를 XRD 분석한 결과, 도 1에 나타낸 바와 같이 사방정계의 탄산세륨 분말(Orthorhombic)임을 확인할 수 있었다.

[비교예 3]

유기용매를 사용하지 않고, 증류수 만을 용매로 사용한 것을 제외하고는 실시예 1과 동일한 방법으로 탄산세륨 분말을 제조하였으며, 이를 XRD 분석한 결과, 도 1에 나타낸 바와 같이 사방정계의 탄산세륨 분말(Orthorhombic)임을 확인할 수 있 었다.

한편, 끓는점의 온도가 60 ℃ 미만인 유기용매를 사용한 경우에는 우레아의 분해가 일어나지 않아 탄산세륨 분말이 형성되지 않았으며, 끓는점의 온도가 300 ℃를 초과하는 유기용매를 사용한 경우에는 반응시 반응기 내에서 반응물이 녹아 반응물을 수득할 수 없었다.

도 1은 실시예 1 내지 3 및 비교예 1 내지 3에서 제조된 탄산세륨 분말의 X선 회절 분석(X-Ray Diffraction Analysis, 이하 XRD) 결과를 나타낸 것이다.

Claims (11)

1. 세륨 전구체 용액과 우레아(Urea) 용액을 혼합, 침전반응을 일으켜 탄산세륨 분말을 제조하는 방법에 있어서,

   상기 세륨 전구체 용액 및 우레아 용액에 사용되는 용매 중 적어도 1종 이상은 알코올계 용매, 글리콜계 용매, 다이메틸 설폭사이드 및 다이메틸 포름아마이드로 이루어진 군에서 선택된 유기용매를 사용하며,

   상기 침전반응 온도를 120 ℃ 내지 300 ℃ 범위로 조절하여, 육방정계(Hexagonal) 결정구조를 갖는 탄산세륨 분말을 제조하는 방법.
2. 삭제
3. 삭제
4. 제 1항에 있어서, 상기 세륨 전구체는 세륨 질산염 또는 세륨 아세테이트인 것이 특징인 탄산세륨 분말을 제조하는 방법.
5. 제 1항에 있어서, 세륨 전구체 용액 중 세륨 전구체와 용매와의 중량비가 1 : 100 내지 1 : 1 범위이고, 우레아 용액 중 우레아와 용매와의 중량비가 1 : 100 내지 1 : 1 범위인 것이 특징인 탄산세륨 분말을 제조하는 방법.
6. 제 1항에 있어서, 침전반응시 세륨 전구체 대 우레아의 혼합 몰비는 1 : 0.1 내지 1 : 20 범위인 것이 특징인 탄산세륨 분말을 제조하는 방법.
7. 제 1항에 있어서, 침전반응 시간은 30분 내지 60시간 범위인 것이 특징인 탄산세륨 분말을 제조하는 방법.
8. 제 1항에 있어서, 상기 침전반응은 상압 하에서 수행되는 것이 특징인 탄산세륨 분말을 제조하는 방법.
9. 제 1항 및 제4항 내지 제 8항 중 어느 한 항에 기재된 방법에 의해 제조되어 육방정계 결정 구조를 갖는 탄산세륨 분말.
10. 제 9항에 기재된 탄산세륨 분말을 300℃ 내지 1500℃에서 열처리하여 제조된 산화세륨 분말.
11. 제 10항에 기재된 산화세륨 분말을 연마재로 포함하는 CMP 슬러리.

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