KR100923943B1 - 전자 장치 및 전자 장치의 제조 방법 - Google Patents

전자 장치 및 전자 장치의 제조 방법 Download PDF

Info

Publication number
KR100923943B1
KR100923943B1 KR1020070126036A KR20070126036A KR100923943B1 KR 100923943 B1 KR100923943 B1 KR 100923943B1 KR 1020070126036 A KR1020070126036 A KR 1020070126036A KR 20070126036 A KR20070126036 A KR 20070126036A KR 100923943 B1 KR100923943 B1 KR 100923943B1
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
film
conductor pattern
circuit chip
heating
electronic device
Prior art date
Application number
KR1020070126036A
Other languages
English (en)
Other versions
KR20080068529A (ko
Inventor
히로시 고바야시
Original Assignee
후지쯔 가부시끼가이샤
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 후지쯔 가부시끼가이샤 filed Critical 후지쯔 가부시끼가이샤
Publication of KR20080068529A publication Critical patent/KR20080068529A/ko
Application granted granted Critical
Publication of KR100923943B1 publication Critical patent/KR100923943B1/ko

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/32Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits
    • H05K3/34Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor electrically connecting electric components or wires to printed circuits by soldering
    • H05K3/3494Heating methods for reflowing of solder
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/50Assembly of semiconductor devices using processes or apparatus not provided for in a single one of the subgroups H01L21/06 - H01L21/326, e.g. sealing of a cap to a base of a container
    • H01L21/56Encapsulations, e.g. encapsulation layers, coatings
    • H01L21/563Encapsulation of active face of flip-chip device, e.g. underfilling or underencapsulation of flip-chip, encapsulation preform on chip or mounting substrate
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/81Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a bump connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L24/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K13/00Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
    • H05K13/04Mounting of components, e.g. of leadless components
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/10Bump connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/15Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process
    • H01L2224/16Structure, shape, material or disposition of the bump connectors after the connecting process of an individual bump connector
    • H01L2224/161Disposition
    • H01L2224/16151Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/16221Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/16225Disposition the bump connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32225Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73201Location after the connecting process on the same surface
    • H01L2224/73203Bump and layer connectors
    • H01L2224/73204Bump and layer connectors the bump connector being embedded into the layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • H01L2224/7525Means for applying energy, e.g. heating means
    • H01L2224/75251Means for applying energy, e.g. heating means in the lower part of the bonding apparatus, e.g. in the apparatus chuck
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and for methods related thereto
    • H01L2224/75Apparatus for connecting with bump connectors or layer connectors
    • H01L2224/7525Means for applying energy, e.g. heating means
    • H01L2224/75252Means for applying energy, e.g. heating means in the upper part of the bonding apparatus, e.g. in the bonding head
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8319Arrangement of the layer connectors prior to mounting
    • H01L2224/83192Arrangement of the layer connectors prior to mounting wherein the layer connectors are disposed only on another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/832Applying energy for connecting
    • H01L2224/83201Compression bonding
    • H01L2224/83203Thermocompression bonding, e.g. diffusion bonding, pressure joining, thermocompression welding or solid-state welding
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/838Bonding techniques
    • H01L2224/8385Bonding techniques using a polymer adhesive, e.g. an adhesive based on silicone, epoxy, polyimide, polyester
    • H01L2224/83855Hardening the adhesive by curing, i.e. thermosetting
    • H01L2224/83862Heat curing
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92Specific sequence of method steps
    • H01L2224/921Connecting a surface with connectors of different types
    • H01L2224/9212Sequential connecting processes
    • H01L2224/92122Sequential connecting processes the first connecting process involving a bump connector
    • H01L2224/92125Sequential connecting processes the first connecting process involving a bump connector the second connecting process involving a layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00011Not relevant to the scope of the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/0001Technical content checked by a classifier
    • H01L2924/00014Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01004Beryllium [Be]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01005Boron [B]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01006Carbon [C]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01015Phosphorus [P]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01029Copper [Cu]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01047Silver [Ag]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/10Details of semiconductor or other solid state devices to be connected
    • H01L2924/11Device type
    • H01L2924/14Integrated circuits
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/30Technical effects
    • H01L2924/35Mechanical effects
    • H01L2924/351Thermal stress
    • H01L2924/3511Warping
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K1/00Printed circuits
    • H05K1/18Printed circuits structurally associated with non-printed electric components
    • H05K1/189Printed circuits structurally associated with non-printed electric components characterised by the use of a flexible or folded printed circuit
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/10Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
    • H05K2201/10613Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
    • H05K2201/10621Components characterised by their electrical contacts
    • H05K2201/10674Flip chip
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2201/00Indexing scheme relating to printed circuits covered by H05K1/00
    • H05K2201/10Details of components or other objects attached to or integrated in a printed circuit board
    • H05K2201/10613Details of electrical connections of non-printed components, e.g. special leads
    • H05K2201/10954Other details of electrical connections
    • H05K2201/10977Encapsulated connections
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/01Tools for processing; Objects used during processing
    • H05K2203/0195Tool for a process not provided for in H05K3/00, e.g. tool for handling objects using suction, for deforming objects, for applying local pressure
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/02Details related to mechanical or acoustic processing, e.g. drilling, punching, cutting, using ultrasound
    • H05K2203/0278Flat pressure, e.g. for connecting terminals with anisotropic conductive adhesive
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/30Assembling printed circuits with electric components, e.g. with resistor
    • H05K3/303Surface mounted components, e.g. affixing before soldering, aligning means, spacing means
    • H05K3/305Affixing by adhesive
    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/38Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal
    • H05K3/381Improvement of the adhesion between the insulating substrate and the metal by special treatment of the substrate
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49124On flat or curved insulated base, e.g., printed circuit, etc.
    • Y10T29/4913Assembling to base an electrical component, e.g., capacitor, etc.
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10TTECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00Metal working
    • Y10T29/49Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49002Electrical device making
    • Y10T29/49117Conductor or circuit manufacturing
    • Y10T29/49169Assembling electrical component directly to terminal or elongated conductor

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Credit Cards Or The Like (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)
  • Encapsulation Of And Coatings For Semiconductor Or Solid State Devices (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)

Abstract

본 발명은 보이드의 발생을 억제함으로써 신뢰성을 향상시킨 전자 장치의 제조 방법 등을 제공하는 것을 목적으로 한다.
전자 장치(1)의 제조 방법에 있어서, 수지 재료로 이루어지고 회로 칩(12)을 탑재하는 필름(111)의, 회로 칩(12)을 탑재하는 탑재면(11a)과는 반대측의 이면(11b)을 조면(粗面, roughening) 가공하는 조면 공정과, 필름상에 도체 패턴(112)이 형성되어 이루어지는 기체(11)의 도체 패턴이 형성된 측의 면에 열경화 접착제(13)를 부착시키는 부착 공정과, 회로 칩(12)을 기체(11)에 놓는 탑재 공정과, 회로 칩측에 접촉하는 누름부(21)와 필름의 이면(11b)에 접촉하는 지지부(22)를 갖는 가열 장치(2)에 의해 기체(11)를 회로 칩(12)측과 필름(111)측의 양측에서 끼우는 협지(挾持) 공정과, 가열 장치(2)에 의해 열경화 접착제(13)를 가열하여 경화시킴으로써 회로 칩(12)을 도체 패턴(112)에 고정시키는 가열 공정을 구비하였다.

Description

전자 장치 및 전자 장치의 제조 방법{ELECTRONIC DEVICE AND METHOD OF MANUFACTURING SAME}
본 발명은 전자 장치 및 전자 장치의 제조 방법에 관한 것으로, 특히 필름 형상의 기체(基體)에 회로 칩이 탑재된 전자 장치 및 전자 장치의 제조 방법에 관한 것이다.
종래부터, 프린트 배선 기판 등의 기체에 회로 칩이 탑재되어 이루어지는 전자 장치가 널리 알려져 있다. 이러한 전자 장치는 전자 기기에 내장되어서 이 전자 기기를 제어하거나, 또는 단일체로서 외부 기기와 정보를 교환하거나 하는 용도로 사용되고 있다. 전자 장치의 일례로서, 리더 라이터로 대표되는 외부 기기와, 전파에 의해 비접촉으로 정보의 교환을 행하는 여러 가지 RFID(Radio_Frequency_ IDentification) 태그가 알려져 있다. 이 RFID 태그의 일종으로서, 베이스 시트상에 전파 통신용의 도체 패턴과 IC 칩이 탑재된 구성의 것이 제안되어 있고, 이러한 타입의 RFID 태그에 대해서는, 물품 등에 부착되어 그 물품에 관한 정보를 외부 기기와 교환함으로써 물품의 식별 등을 행한다는 이용 형태가 생각되고 있다.
RFID 태그에는, 소형 경량화, 특히 박형화나 유연성(flexibility), 그리고 저비용화가 요구되고 있다. 이것에 대응해서, IC 칩이 탑재되는 기체의 재료로서, 예를 들면 폴리에틸렌테레프탈레이트(PET) 등의 수지 재료로 이루어지는 필름을 채용한 RFID 태그가 제안되어 있다(예를 들면, 특허 문헌 1 참조).
도 5는 종래 기술에 있어서의 RFID 태그를 제조하는 방법을 설명하는 도면이다.
도 5에는, RFID 태그를 제조하기 위한 각 공정이 파트 (a)에서 파트 (d)까지 순서대로 도시되어 있다.
RFID 태그를 제조하기 위해서는, 우선, 도 5의 파트 (a)에 도시하는 바와 같이, PET로 이루어지는 필름(911)에 RFID 태그의 안테나로서 기능하는 도체 패턴(912)이 형성되어 이루어지는 기체(91)를 준비하고, 이 기체(91) 위에, 가열에 의해 경화하는 열경화 접착제(93p)를 부착시킨다.
다음으로, 도 5의 파트 (b)에 도시하는 바와 같이, 기체(91)의 열경화 접착제(93p)가 부착된 부분에 IC 칩(92)을 놓는다. IC 칩(92)에는 도체 패턴(912)에 접속되는 범프(921)가 형성되어 있다. 도 5의 파트 (c)에 도시하는 바와 같이, IC 칩(92)은 범프(921)의 위치와 도체 패턴(912)의 위치가 맞도록 기체(91)에 놓인다.
다음으로, 도 5의 파트 (d)에 도시하는 바와 같이, IC 칩(92)이 놓인 기체(91)는 기체(91)의 필름(911)측과, IC 칩(92)측의 양측에서, 가열 장치(8)에 의해 끼워진다. 다음으로, 가열 장치(8) 중 IC 칩(92)측에 접촉하는 가열 헤드(81)에 의해, 열경화 접착제(93p)가 가열되어 경화된다. 이렇게 해서, IC 칩(92)은 범프(921)가 도체 패턴(912)에 접촉한 상태로 기체(91)에 고정되어, 소형 경량의 RFID 태그가 완성된다.
[특허 문헌 1] 일본 특허 공개 2001-156110호 공보
그러나, 필름(911)의 재료인 PET는 유리 전이점이 약 67℃로서, 내열 온도가 낮기 때문에, 열경화 접착제(93p)를 경화시킬 때의 가열에 의해 변형되기 쉽다.
도 6은 도 5의 파트 (d)의 가열 공정에 있어서의 기체의 상태를 설명하는 도면이다.
도 6의 파트 (a)에 도시하는 바와 같이, IC 칩(92)이 기체(91)에 놓인 상태에서 가열 처리가 행해지면, 기체(91)의 온도가 상승하여, 도 6의 파트 (b)에 도시하는 바와 같이 필름(911)이 변형된다. 경화 중의 열경화 접착제(93p)가 필름(911)의 변형에 따라 유동하면, 열경화 접착제(93p) 중에는 기포가 발생하고, 경화한 후에도 보이드(931)가 되어 잔류한다. 경화한 열경화 접착제(93p) 중의 보이드는 IC 칩(92)과 기체(91)와의 접착력을 저하시키기 때문에, RFID 태그의 신뢰성을 저하시킨다.
이러한 보이드의 발생에 의한 신뢰성 저하의 문제는 RFID 태그에 한하지 않고, 필름 형상의 기체에 회로 칩이 탑재된 전자 장치에 공통되는 문제이다.
본 발명은 상기 사정을 감안하여, 보이드의 발생을 억제함으로써 신뢰성을 향상시킨 전자 장치 및 전자 장치의 제조 방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.
상기 목적을 달성하는 본 발명의 전자 장치의 제조 방법은,
수지 재료로 이루어지고, 회로 칩을 탑재하는 필름의, 이 회로 칩을 탑재하 는 탑재면과는 반대측의 이면을 조면(粗面) 가공하는 조면 공정과,
상기 필름의 상기 탑재면상에 도체 패턴을 형성하는 도체 형성 공정과,
상기 필름상에 도체 패턴이 형성되어 이루어지는 기체의 이 도체 패턴이 형성된 측의 면에 열경화 접착제를 부착시키는 부착 공정과,
상기 도체 패턴에 접속하는 상기 회로 칩을, 상기 열경화 접착제를 통하여 상기 기체에 놓는 탑재 공정과,
상기 기체의 상기 회로 칩측에 접촉하는 누름부와, 상기 조면 공정에서 조면 가공된 상기 필름의 상기 이면에 접촉하여 이 기체를 지지하는 지지부를 갖는, 상기 열경화 접착제를 가열하는 가열 장치에 의해 이 기체를 회로 칩측과 필름측의 양측에서 끼우는 협지(挾持) 공정과,
상기 가열 장치에 의해 상기 열경화 접착제를 가열하여 경화시킴으로써 상기 회로 칩을 상기 도체 패턴에 고정시키는 가열 공정을 구비한 것을 특징으로 한다.
본 발명의 전자 장치의 제조 방법에서는, 가열 공정에 있어서 누름부 및 지지부 사이에 기체를 끼우지만, 지지부에 접촉하는 필름의 면은 조면 가공되어 있어, 필름의 움직임에 대한 마찰력이 증가하기 때문에, 필름이 가열에 의해 용융될 때의 변형이 억제된다. 따라서, 열경화 접착제 중에 있어서의, 필름 변형에 따른 보이드의 발생이 억제되어, 전자 장치의 신뢰성이 향상된다. 또한, 전자 장치의 제조 수율이 향상되기 때문에, 제조 비용이 저렴화된다.
여기에서, 상기 본 발명의 전자 장치의 제조 방법에 있어서, 상기 지지부는 상기 필름에 접촉하는 면이, 상기 조면 공정에 의해 조면 가공되기 전의 상기 필름 보다도 거친 것임이 바람직하다.
제조되는 측의 필름뿐만 아니라, 제조하는 장치측에 있어서의 지지부의 면도 조면 가공됨으로써, 필름의 움직임에 대한 마찰력이 더욱 증대되기 때문에, 필름이 가열에 의해 용융될 때의 변형이 더욱 억제된다.
또한, 상기 본 발명의 전자 장치의 제조 방법에 있어서, 상기 전자 장치가 상기 도체 패턴을 통신용의 안테나로서 기능시키고, 상기 회로 칩에 의해 이 도체 패턴을 통한 무선 통신을 행하는 RFID 태그인 것이 바람직하다.
상품이나 카드에 부착된 상태로 사용되는 RFID 태그에는, 소형화나 유연성에 대응하기 위하여 필름을 얇게 하는 것이 요구되고 있다. 본 발명의 전자 장치의 제조 방법은 RFID 태그의 제조에 매우 적합하다.
또한, 상기 목적을 달성하는 본 발명의 전자 장치는 수지 재료로 이루어지는 필름상에 도체 패턴이 형성되어 이루어지는, 이 도체 패턴이 형성된 면과는 반대측의 면이 조면 가공된 기체와,
상기 기체에 열경화 접착제를 통하여 탑재된, 상기 도체 패턴에 전기적으로 접속된 회로 칩을 구비한 것을 특징으로 한다.
본 발명의 전자 장치는 필름이 조면 가공되어 있기 때문에, 제조에 있어서 필름측과 회로 칩측을 가열 장치로 끼워서 가열할 때의 필름의 변형이 억제된다. 따라서, 본 발명의 전자 장치에 따르면, 열경화 접착제 중에 있어서의 보이드가 적기 때문에, 신뢰성이 향상된다.
여기에서, 상기 본 발명의 전자 장치에 있어서, 상기 도체 패턴이 통신용의 안테나로서 기능하는 것이고,
상기 회로 칩이 상기 도체 패턴을 통한 무선 통신을 행하는 것임이 바람직하다.
이상 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면, 보이드의 발생을 억제함으로써, 신뢰성이 향상된 전자 장치 및 전자 장치의 제조 방법이 실현된다.
이하 도면을 참조해서 본 발명의 실시형태에 대하여 설명한다.
도 1은 본 발명의 일실시형태인 RFID 태그를 도시하는 사시도이다.
도 1에 도시하는 RFID 태그(1)는, PET재로 이루어지는 필름(111) 위에 금속제의 안테나 패턴(112)이 형성되어 이루어지는 기체(11)와, 기체(11)에 탑재된 IC 칩(12)과, 기체(11)와 IC 칩(12)을 접착하는 열경화 접착제(13)로 구성되어 있다. 기체(11)의 양면 중, IC 칩(12)을 탑재하는 탑재면(11a)과는 반대측의 이면(11b)은 후술하는 바와 같이 조면 가공되어 있다.
본 실시형태의 RFID 태그(1)는 도시하지 않은 리더 라이터와 비접촉으로 정보의 교환을 행하는 전자 장치이고, 리더 라이터가 발하는 전자장의 에너지를 안테나 패턴(112)에서 전기 에너지로서 받으며, 그 전기 에너지로 IC 칩(12)이 구동된다. 안테나 패턴(112)은 통신용의 안테나로서 기능하고, IC 칩(12)은 안테나 패턴(112)을 통한 무선 통신을 실행한다.
여기에서, RFID 태그(1)는 본 발명에서 말하는 전자 장치의 일례에 상당하 고, 안테나 패턴(112)은 본 발명에서 말하는 도체 패턴의 일례에 상당하며, IC 칩(12)은 본 발명에서 말하는 회로 칩의 일례에 상당한다.
또한, 본원 기술 분야에 있어서의 당업자 사이에서는, 본원 명세서에서 사용하는 「RFID 태그」를, 「RFID 태그」용의 내부 구성 부재(인레이; inlay)라고 해서 「RFID 태그용 인레이」라고 칭하는 경우도 있다. 또는 이 「RFID 태그」를 「무선 IC 태그」라고 칭하는 경우도 있다. 또한, 이 「RFID 태그」에는, 비접촉형 IC 카드도 포함된다.
이하, 이 RFID 태그(1)의 제조 방법에 대하여 설명한다.
도 2 및 도 3은 본 발명의 일실시형태인 RFID 태그의 제조 공정을 나타내는 도면이다.
도 2에는 RFID 태그(1)를 제조하기 위한 각 공정이 파트 (a)에서 파트 (f)까지 순서대로 도시되어 있고, 도 3에는 도 2의 공정에 잇따르는 각 공정이 파트 (g) 및 파트 (h)까지 순서대로 도시되어 있다. 도면을 보기 쉽게 하기 위하여, RFID 태그(1)의 두께 방향의 치수와, IC 칩(12)이 도 1에 도시하는 것보다도 과장되어서 나타나 있다.
RFID 태그(1)를 제조하기 위해서는, 우선, 도 2의 파트 (a)에 도시하는 조면 공정에서, PET재로 이루어지는 필름(111)을 준비하고, IC 칩을 탑재하게 되는 탑재면(11a)과는 반대측의 이면(11b)을 연마 장치(S)로 기계적으로 간다(grind). 이것에 의해, 필름(111)의 이면(11b)이 도 2의 파트 (b)에 도시하는 바와 같이 조면 가공된다.
다음으로, 도 2의 파트 (c)에 도시하는 도체 형성 공정에서, 필름(111)의 탑재면(11a)상에 안테나 패턴(112)을 형성한다. 안테나 패턴(112)은 필름(111)에 동(銅)의 층을 형성하고, 레지스트층을 더 형성하여 에칭함으로써 형성되지만, 구체적인 수법으로서는, 은 페이스트의 인쇄 등 다른 수법도 채용 가능하다. 도 2의 파트 (c)에 도시하는 도체 형성 공정에서, PET재로 이루어지는 필름(111)에 안테나 패턴(112)이 형성된 기체(11)가 얻어진다.
다음으로, 도 2의 파트 (d)에 도시하는 부착 공정에서, 기체(11) 위에 액상의 열경화 접착제(13p)를 부착시킨다. 열경화 접착제(13p)는 기체(11)의 안테나 패턴(112)이 형성된 측의 탑재면(11a) 중의, IC 칩(12)이 탑재되는 영역 및 그 주변에 도포된다.
다음으로, 도 2의 파트 (e) 및 파트 (f)에 도시하는 탑재 공정에서, 기체(11) 중의 열경화 접착제(13p)가 부착된 부분에 IC 칩(12)을 놓는다. IC 칩(12)은 플립칩 기술에 의해 기체(11)에 놓인다. 즉, IC 칩(12)은 회로가 형성된 면(12a)을 기체(11)를 향한 자세로 열경화 접착제(13p)를 통하여 기체(11)에 놓인다. IC 칩(12)의 회로가 형성된 면(12a)에는 안테나 패턴(112)에 접속되는 범프(121)가 형성되어 있다. 도 2의 파트 (f)에 도시하는 바와 같이, IC 칩(12)은 범프(121)의 위치와 안테나 패턴(112)의 위치를 맞춘 상태로 기체(11)에 놓인다.
다음으로, 도 3의 파트 (g)에 도시하는 협지 공정에서, IC 칩(12)이 놓인 기체(11)를, 기체(11)의 필름(111)측과 IC 칩(12)측의 양측에서, 가열 장치(2)에 의해 끼운다. 가열 장치(2)는 기체(11)를 사이에 끼우기 위한 가열 헤드(21) 및 가열 스테이지(22)를 갖고 있고, 가열 헤드(21)는 도시하지 않은 히터를 내장하고 있다. 협지 공정에서, 가열 헤드(21)는 IC 칩(12)에 접촉하고, 가열 스테이지(22)는 필름(111)에 접촉한다. 가열 헤드(21)가 본 발명에서 말하는 누름부의 일례에 상당하며, 가열 스테이지(22)가 본 발명에서 말하는 지지부의 일례에 상당한다.
도 4는 가열 장치의 개략 구조를 도시하는 사시도이다.
가열 장치(2)가 구비하는 가열 스테이지(22)는 필름(111)에 접촉하는 면(22a)이 도 2의 파트 (a)에 도시하는 조면 가공 전의 필름(111)보다도 거칠어지도록 조면 가공된 것이다.
도 3으로 되돌아와서 설명을 계속하면, 도 3의 파트 (g)에 도시하는 협지 공정에서, IC 칩(12)이 놓인 기체(11)를, 가열 스테이지(22)와 가열 헤드(21) 사이에 끼운다. 이것에 의해, 범프(121)가 안테나 패턴(112)에 확실하게 접촉한 상태가 된다.
다음으로, 도 3의 파트 (h)에 도시하는 가열 공정에서, 가열 헤드(21)를 발열시켜, 열경화 접착제(13p)를 가열하여 경화시킨다. IC 칩(12)은 열경화 접착제(13p)가 경화함으로써, 범프(121)가 안테나 패턴(112)에 접촉한 상태로 기체(11)에 고정된다. 이 가열 공정에서는, 조면 가공된 필름(111)의 이면(11b)이 가열 스테이지(22)에 접촉하고 있다. 또한, 필름(111)이 접촉하고 있는 가열 스테이지(22)의 면(22a)도, 조면 가공 전의 필름(111)의 이면(11b)보다도 거칠다. 이 때문에, 필름(111)의 움직임에 대한 마찰력이 커서, 가열에 의해 필름(111)이 용융되어도 필름(111)의 변형이 억제된다. 따라서, 열경화 접착제(13p) 내에서, 필름 변형에 수반하는 보이드의 발생이 억제된다.
도 3의 파트 (h)의 가열 공정이 종료되면, RFID 태그(1)(도 1 참조)가 완성된다.
또한, 상술한 실시형태에서는, RFID 태그를 제조하는 방법 및 가열 장치의 예를 설명하였으나, 본 발명은 필름 형상의 기체에 회로 칩이 탑재된 전자 장치의 제조 방법이면 RFID 태그를 대상으로 하는 것에 한정되지 않는다. 본 발명은 예를 들면 극박형의 IC 카드의 제조 방법이나, 기체로서의 플렉서블 인쇄 회로(FPC)에 열경화 접착제에 의해 회로 칩을 고정시킨 프린트 회로 기판 장치의 제조 방법 등에도 적용된다.
또한, 상술한 실시형태에서는, 조면 공정에 있어서, 필름(111)의 이면(11b)을 연마 장치(S)로 기계적으로 가는 것으로서 설명하였으나, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니며, 예를 들면, 조면 공정은 플라스마 분위기 중에서 처리하는 방법이나 약품에 의한 화학적 처리에 의해 조면 가공하는 것이어도 좋다.
또한, 상술한 실시형태에서는, RFID 태그의 기부(基部)를 구성하는 필름은 PET재로 이루어지는 것으로서 설명하였으나, 본 발명이 대상으로 하는 전자 장치의 필름은 이것에 한하지 않고, 폴리에스테르재, 폴리올레핀재, 폴리카보네이트재, 아크릴계 재료 등에서 선택된 재료로 구성되어도 좋다.
상술한 실시형태에서는, 본 발명에서 말하는 누름부에 가열원이 조합되고, 가열 스테이지가 발열하지 않는 것으로서 설명하였으나, 본 발명은 이것에 한정되는 것은 아니며, 가열원이 지지부에 조합되어 있어도 좋고, 또한, 가열원이 누름부 및 지지부와는 별체(別體)의 부분으로서 설치되어 있어도 좋다.
이하, 본 발명의 여러 가지 형태에 대하여 부기한다.
(부기 1)
수지 재료로 이루어지고 회로 칩을 탑재하는 필름의, 상기 회로 칩을 탑재하는 탑재면과는 반대측의 이면을 조면 가공하는 조면 공정과,
상기 필름의 상기 탑재면상에 도체 패턴을 형성하는 도체 형성 공정과,
상기 필름상에 도체 패턴이 형성되어 이루어지는 기체의 상기 도체 패턴이 형성된 측의 면에 열경화 접착제를 부착시키는 부착 공정과,
상기 도체 패턴에 접속하는 상기 회로 칩을, 상기 열경화 접착제를 통하여 상기 기체에 놓는 탑재 공정과,
상기 기체의 상기 회로 칩측에 접촉하는 누름부와, 상기 조면 공정에서 조면 가공된 상기 필름의 상기 이면에 접촉하여 상기 기체를 지지하는 지지부를 갖는, 상기 열경화 접착제를 가열하는 가열 장치에 의해 상기 기체를 회로 칩측과 필름측의 양측에서 끼우는 협지 공정과,
상기 가열 장치에 의해 상기 열경화 접착제를 가열하여 경화시킴으로써 상기 회로 칩을 상기 도체 패턴에 고정시키는 가열 공정을 구비한 것을 특징으로 하는 전자 장치의 제조 방법.
(부기 2)
상기 지지부는 상기 필름에 접촉하는 면이 상기 조면 공정에 의해 조면 가공되기 전의 상기 필름보다도 거친 것임을 특징으로 하는 부기 1에 기재된 전자 장치 의 제조 방법.
(부기 3)
상기 전자 장치는, 상기 도체 패턴을 통신용의 안테나로서 기능시키고, 상기 회로 칩에 의해 상기 도체 패턴을 통한 무선 통신을 행하는 RFID 태그인 것을 특징으로 하는 부기 1에 기재된 전자 장치의 제조 방법.
(부기 4)
수지 재료로 이루어지는 필름상에 도체 패턴이 형성되어 이루어지는, 상기 도체 패턴이 형성된 면과는 반대측의 면이 조면 가공된 기체와,
상기 기체에 열경화 접착제를 통하여 탑재된, 상기 도체 패턴에 전기적으로 접속된 회로 칩을 구비한 것을 특징으로 하는 전자 장치.
(부기 5)
상기 도체 패턴은 통신용의 안테나로서 기능하는 것이고,
상기 회로 칩은 상기 도체 패턴을 통한 무선 통신을 행하는 것임을 특징으로 하는 부기 4에 기재된 전자 장치.
도 1은 본 발명의 일실시형태인 RFID 태그를 도시하는 사시도이다.
도 2는 본 발명의 일실시형태인 RFID 태그의 제조 공정을 도시하는 도면이다.
도 3은 도 2에 도시하는 제조 공정의 계속을 도시하는 도면이다.
도 4는 가열 장치의 개략 구조를 도시하는 사시도이다.
도 5는 종래 기술에 있어서의 RFID 태그를 제조하는 방법을 설명하는 도면이다.
도 6은 도 5의 가열 공정에 있어서의 기체의 상태를 설명하는 도면이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
1: RFID 태그(전자 장치) 2: 가열 장치(제조 장치)
11: 기체 11a: 탑재면
11b: 이면 111: 필름
112: 안테나 패턴(도체 패턴) 12: IC 칩(회로 칩)
13p: 열경화 접착제 2: 가열 장치(전자 부품의 제조 장치)
21: 가열 헤드(가열부, 누름부) 22: 가열 스테이지(지지부)
22a: 필름에 접촉하는 면

Claims (5)

  1. 수지 재료로 이루어지고 회로 칩을 탑재하는 필름의, 상기 회로 칩을 탑재하는 탑재면과는 반대측의 이면을 조면(粗面) 가공하는 조면 단계와,
    상기 필름의 상기 탑재면상에 도체 패턴을 형성하는 도체 형성 단계와,
    상기 필름상에 도체 패턴이 형성되어 이루어지는 기체(基體)의 상기 도체 패턴이 형성된 측의 면에 열경화 접착제를 부착시키는 부착 단계와,
    상기 도체 패턴에 접속하는 상기 회로 칩을, 상기 열경화 접착제를 통하여 상기 기체에 놓는 탑재 단계와,
    상기 기체의 상기 회로 칩측에 접촉하는 누름부와, 상기 조면 공정에서 조면 가공된 상기 필름의 상기 이면에 접촉하여 상기 기체를 지지하는 지지부를 갖는, 상기 열경화 접착제를 가열하는 가열 장치에 의해 상기 기체를 회로 칩측과 필름측의 양측에서 끼우는 협지(挾持) 단계와,
    상기 가열 장치에 의해 상기 열경화 접착제를 가열하여 경화시킴으로써 상기 회로 칩을 상기 도체 패턴에 고정시키는 가열 단계
    를 구비한 것을 특징으로 하는 전자 장치의 제조 방법.
  2. 제1항에 있어서, 상기 지지부는 상기 필름에 접촉하는 면이, 상기 조면 공정에 의해 조면 가공되기 전의 상기 필름보다도 거친 것임을 특징으로 하는 전자 장치의 제조 방법.
  3. 제1항에 있어서, 상기 전자 장치는, 상기 도체 패턴을 통신용의 안테나로서 기능시키고, 상기 회로 칩에 의해 상기 도체 패턴을 통한 무선 통신을 행하는 RFID 태그인 것을 특징으로 하는 전자 장치의 제조 방법.
  4. 수지 재료로 이루어지는 필름상에 도체 패턴이 형성되어 이루어지는, 상기 도체 패턴이 형성된 면과는 반대측의 면이 조면 가공된 기체와,
    상기 기체에 열경화 접착제를 통하여 탑재된, 상기 도체 패턴에 전기적으로 접속된 회로 칩
    을 구비한 것을 특징으로 하는 전자 장치.
  5. 제4항에 있어서, 상기 도체 패턴은 통신용의 안테나로서 기능하는 것이고,
    상기 회로 칩은 상기 도체 패턴을 통한 무선 통신을 행하는 것임을 특징으로 하는 전자 장치.
KR1020070126036A 2007-01-18 2007-12-06 전자 장치 및 전자 장치의 제조 방법 KR100923943B1 (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007009261A JP5029026B2 (ja) 2007-01-18 2007-01-18 電子装置の製造方法
JPJP-P-2007-00009261 2007-01-18

Publications (2)

Publication Number Publication Date
KR20080068529A KR20080068529A (ko) 2008-07-23
KR100923943B1 true KR100923943B1 (ko) 2009-10-29

Family

ID=39387240

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020070126036A KR100923943B1 (ko) 2007-01-18 2007-12-06 전자 장치 및 전자 장치의 제조 방법

Country Status (7)

Country Link
US (1) US8356406B2 (ko)
EP (1) EP1947918B1 (ko)
JP (1) JP5029026B2 (ko)
KR (1) KR100923943B1 (ko)
CN (1) CN100593364C (ko)
DE (1) DE602007009785D1 (ko)
TW (1) TWI336223B (ko)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN111541020B (zh) * 2020-05-08 2021-08-10 北京航空航天大学 一种基于液气相变致动器的天线及其制备方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001156110A (ja) * 1999-11-24 2001-06-08 Omron Corp 半導体チップの実装方法、並びに、電磁波読み取り可能なデータキャリアの製造方法
JP2005032944A (ja) * 2003-07-11 2005-02-03 Athlete Fa Kk 電子部品のボンディング方法および電子部品のボンディング装置
KR20050079621A (ko) * 2004-02-05 2005-08-10 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 종이형 rfig 태그 및 그 제조 방법
JP2006253269A (ja) 2005-03-09 2006-09-21 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd プリント配線基板、半導体装置およびプラズマディスプレイ装置

Family Cites Families (32)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS57128948A (en) 1981-02-02 1982-08-10 Sharp Corp Electronic part
JPS60236250A (ja) 1984-05-10 1985-11-25 Toshiba Corp Icカ−ドの製造方法
JPS62216259A (ja) * 1986-03-17 1987-09-22 Fujitsu Ltd 混成集積回路の製造方法および構造
WO1997016848A1 (fr) * 1995-10-31 1997-05-09 Ibiden Co., Ltd. Module de composant electronique et son procede de fabrication
US5872338A (en) * 1996-04-10 1999-02-16 Prolinx Labs Corporation Multilayer board having insulating isolation rings
JPH1041694A (ja) * 1996-07-25 1998-02-13 Sharp Corp 半導体素子の基板実装構造及びその実装方法
US6286207B1 (en) * 1998-05-08 2001-09-11 Nec Corporation Resin structure in which manufacturing cost is cheap and sufficient adhesive strength can be obtained and method of manufacturing it
US6462284B1 (en) * 1998-07-01 2002-10-08 Seiko Epson Corporation Semiconductor device and method of manufacture thereof
DE69939221D1 (de) * 1998-09-03 2008-09-11 Ibiden Co Ltd Mehrschichtige leiterplatte und verfahren zu deren herstellung
JP2000138387A (ja) 1998-10-29 2000-05-16 Dainippon Printing Co Ltd 太陽電池モジュ−ル用表面保護シ−トおよびそれを使用した太陽電池モジュ−ル
US6117059A (en) 1998-11-07 2000-09-12 Branson Ultrasonics Corporation Method of manufacturing a filtration bag
US6353420B1 (en) * 1999-04-28 2002-03-05 Amerasia International Technology, Inc. Wireless article including a plural-turn loop antenna
KR100940764B1 (ko) * 1999-09-14 2010-02-10 소니 케미카루 앤드 인포메이션 디바이스 가부시키가이샤 이방성 도전접속체 및 제조방법
JP3365367B2 (ja) * 1999-09-14 2003-01-08 ソニーケミカル株式会社 Cog実装品および接続材料
US6421013B1 (en) * 1999-10-04 2002-07-16 Amerasia International Technology, Inc. Tamper-resistant wireless article including an antenna
EP1143378A1 (en) * 2000-04-04 2001-10-10 Smartag (S) Pte. Ltd. Method for manufacturing of RFID inlet
WO2002056378A1 (en) * 2001-01-11 2002-07-18 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Circuit board and production method therefor
JP3866058B2 (ja) * 2001-07-05 2007-01-10 シャープ株式会社 半導体装置、配線基板及びテープキャリア
JP2003141486A (ja) 2001-11-08 2003-05-16 Oji Paper Co Ltd 非接触icカードとその製造方法
JP3823845B2 (ja) * 2002-02-26 2006-09-20 セイコーエプソン株式会社 実装構造体
JP3791431B2 (ja) * 2002-02-26 2006-06-28 セイコーエプソン株式会社 実装構造体の製造装置
JP3533665B1 (ja) * 2002-12-17 2004-05-31 オムロン株式会社 電子部品モジュールの製造方法、並びに電磁波読み取り可能なデータキャリアの製造方法。
JP4065799B2 (ja) 2003-03-12 2008-03-26 株式会社ルネサステクノロジ 超音波接合装置および方法
US7090946B2 (en) * 2004-02-19 2006-08-15 Maxwell Technologies, Inc. Composite electrode and method for fabricating same
JP4791708B2 (ja) * 2004-06-23 2011-10-12 リンテック株式会社 電子部品実装用接着性樹脂材料及びそれを用いた電子デバイス並びに該電子部品実装用接着性樹脂材料の製造方法
JP4385895B2 (ja) * 2004-08-26 2009-12-16 カシオ計算機株式会社 ボンディング装置
JP4676196B2 (ja) 2004-12-16 2011-04-27 富士通株式会社 Rfidタグ
JP4750450B2 (ja) * 2005-04-05 2011-08-17 富士通株式会社 Rfidタグ
JP2008040904A (ja) * 2006-08-08 2008-02-21 Hitachi Ltd Rfidタグおよびその読み取り方法
US20080149371A1 (en) * 2006-12-22 2008-06-26 Angstrom Power Inc. Flexible circuit
JP4860494B2 (ja) * 2007-01-18 2012-01-25 富士通株式会社 電子装置の製造方法
JP2008177351A (ja) * 2007-01-18 2008-07-31 Fujitsu Ltd 電子装置および電子装置の製造方法

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001156110A (ja) * 1999-11-24 2001-06-08 Omron Corp 半導体チップの実装方法、並びに、電磁波読み取り可能なデータキャリアの製造方法
JP2005032944A (ja) * 2003-07-11 2005-02-03 Athlete Fa Kk 電子部品のボンディング方法および電子部品のボンディング装置
KR20050079621A (ko) * 2004-02-05 2005-08-10 가부시키가이샤 히타치세이사쿠쇼 종이형 rfig 태그 및 그 제조 방법
JP2006253269A (ja) 2005-03-09 2006-09-21 Mitsui Mining & Smelting Co Ltd プリント配線基板、半導体装置およびプラズマディスプレイ装置

Also Published As

Publication number Publication date
DE602007009785D1 (de) 2010-11-25
EP1947918A2 (en) 2008-07-23
US20090114435A1 (en) 2009-05-07
CN101227799A (zh) 2008-07-23
EP1947918A3 (en) 2009-10-14
KR20080068529A (ko) 2008-07-23
CN100593364C (zh) 2010-03-03
EP1947918B1 (en) 2010-10-13
JP2008177349A (ja) 2008-07-31
TWI336223B (en) 2011-01-11
JP5029026B2 (ja) 2012-09-19
TW200833205A (en) 2008-08-01
US8356406B2 (en) 2013-01-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100816107B1 (ko) Rfid 태그의 제조 방법, 및 rfid 태그
KR100945775B1 (ko) 전자 장치 및 전자 장치의 제조 방법
EP1744268A2 (en) RFID tag and manufacturing method thereof
KR100945771B1 (ko) 전자 장치의 제조 방법
KR20080068524A (ko) 전자 장치의 제조 방법 및 제조 장치
KR100923943B1 (ko) 전자 장치 및 전자 장치의 제조 방법
KR20080078538A (ko) 전자 장치의 제조 방법, 전자 장치가 실장된 전자 기기의제조 방법 및 전자 장치가 장착된 물품의 제조 방법
JP2003203944A (ja) 非接触通信機器用モジュール及びその製造方法
KR20090042709A (ko) Rfid 태그 및 rfid 태그 제조 방법
JP2007220978A (ja) Icチップ保持体及びicチップの接合方法
JP2003091709A (ja) Icカード及びその製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E701 Decision to grant or registration of patent right
GRNT Written decision to grant
FPAY Annual fee payment

Payment date: 20121002

Year of fee payment: 4

FPAY Annual fee payment

Payment date: 20131001

Year of fee payment: 5

LAPS Lapse due to unpaid annual fee