KR100860432B1 - Black photosensitive composition - Google Patents

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Abstract

열에 대한 형상 안정성이 높은 블랙 매트릭스를 형성하는 것이 가능한 흑색 감광성 조성물을 제공한다. 또, 본 발명에서는 이 흑색 감광성 조성물로 형성된 블랙 매트릭스, 잉크젯 방식 컬러 필터용 격벽, 및 액정 표시 소자용 스페이서를 제공한다. 광중합성 화합물과 광중합 개시제와 흑색 안료를 함유하는 흑색 감광성 조성물에 있어서, 형상 안정제로서 유기 안료를 함유하였다.Provided are black photosensitive compositions capable of forming a black matrix having high shape stability against heat. Moreover, this invention provides the black matrix formed from this black photosensitive composition, the partition for inkjet type color filters, and the spacer for liquid crystal display elements. In the black photosensitive composition containing a photopolymerizable compound, a photoinitiator, and a black pigment, the organic pigment was contained as a shape stabilizer.

형상 안정성, 블랙 매트릭스, 흑색 감광성 조성물, 컬러 필터, 격벽 Shape stability, black matrix, black photosensitive composition, color filter, bulkhead

Description

흑색 감광성 조성물{BLACK PHOTOSENSITIVE COMPOSITION}Black photosensitive composition {BLACK PHOTOSENSITIVE COMPOSITION}

특허문헌 1: 일본 특허공개 평성 6-289216호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-289216

  본 발명은 흑색 감광성 조성물에 관한 것이다. 구체적으로는, 블랙 매트릭스(black matrix) 등의 차광성의 막을 형성하기 위한 흑색 감광성 조성물에 관한 것이다.The present invention relates to a black photosensitive composition. Specifically, it relates to a black photosensitive composition for forming a light shielding film such as a black matrix.

  액정 디스플레이(liquid crystal display) 등의 표시체는 서로 대향하여 쌍으로 되는 전극이 형성된 2매의 기판의 사이에 액정층을 사이에 두는 구조로 되어 있다. 그리고, 일방의 기판의 내측에는 적색(R), 녹색(G), 청색(B) 등의 각 색으로 이루어지는 화소(pixel)를 가지는 컬러 필터(color filter)가 형성되어 있다. 그리고, 이 컬러 필터에서는 각 화소에 있어서의 다른 색의 혼색을 방지하거나, 전극의 패턴(pattern)을 숨기거나 하기 위해서, 통상, R, G, B 각 색의 화소를 구획하도록 매트릭스(matrix) 형상으로 배치된 블랙 매트릭스(black matrix)가 형성되어 있다.   일반적으로 컬러 필터는 리소그래피(lithography)법에 의해 형성된다. 구체적으로는 우선, 기판에 흑색의 감광성 조성물을 도포, 노광, 현상하고 블랙 매트릭 스를 형성한다. 이어서, 적(R), 녹(G), 청(B) 각 색의 감광성 조성물마다 도포, 노광, 현상을 반복함으로써, 각 색의 패턴을 소정의 위치에 형성하여 컬러 필터를 형성한다.A display body such as a liquid crystal display has a structure in which a liquid crystal layer is sandwiched between two substrates on which paired electrodes are formed to face each other. Then, inside one substrate, a color filter having pixels consisting of colors such as red (R), green (G), and blue (B) is formed. In this color filter, in order to prevent mixing of different colors in each pixel, or to hide a pattern of electrodes, a matrix shape is usually formed so as to partition pixels of R, G, and B colors. A black matrix arranged as is formed. In general, color filters are formed by lithography. Specifically, first, a black photosensitive composition is coated, exposed and developed on a substrate to form a black matrix. Subsequently, application | coating, exposure, and image development are repeated for every photosensitive composition of red (R), green (G), and blue (B), and the pattern of each color is formed in a predetermined position, and a color filter is formed.

또, 종래의 블랙 매트릭스 형성용 감광성 조성물에는 차광성을 부여하기 위해서, 카본 블랙 이외에도 유기 안료가 보조 안료로서 함유되어 있는 것이 있다(특허문헌 1 참조).Moreover, in order to provide light-shielding property, the conventional photosensitive composition for black matrix formation may contain organic pigment as an auxiliary pigment other than carbon black (refer patent document 1).

  그러나, 블랙 매트릭스에 높은 차광성을 부여하는데는 차광 재료의 함유량을 많게 하거나 막 두께를 두껍게 해야 한다. 그 때문에 광학 농도가 높게 되고, 노광시에 광이 막의 심부까지 도달하지 않고 광경화(감광 반응)가 충분히 진행하지 않는 경우가 있었다. 그 결과, 현상 마진이 좁게 되고, 패턴의 직선성이 낮아지거나 패턴이 기판으로부터 벗겨지거나 기판 상에 찌꺼기가 발생하거나 하는 경우가 있었다. However, in order to provide high light-shielding property to a black matrix, it is necessary to increase the content of the light-shielding material or to increase the film thickness. Therefore, optical density became high, and light might not reach the deep part of a film | membrane at the time of exposure, and photocuring (photosensitive reaction) did not fully advance. As a result, development margin narrowed, the linearity of a pattern became low, a pattern peeled off from a board | substrate, and the dregs might generate | occur | produce on a board | substrate.

  또, 근년 들어 주목되고 있는 잉크젯(ink jet) 방식을 이용하여 컬러 필터를 형성하는 경우, 종래의 블랙 매트릭스에서는 위로부터 잉크 조성물을 분사하면, 잉크 조성물이 패턴의 밖으로 벗어나 버리는 경우가 있다. 그 때문에, 이와 같은 잉크 조성물의 벗어남을 방지하기 위해서, 블랙 매트릭스의 막 두께를 크게 할 필요가 있었다. In addition, in the case of forming a color filter using an ink jet method which has been attracting attention in recent years, in the conventional black matrix, when the ink composition is sprayed from above, the ink composition may come out of the pattern. Therefore, in order to prevent this ink composition from coming off, it was necessary to enlarge the film thickness of a black matrix.

  상기와 같이 블랙 매트릭스를 후막으로 한 경우에는 패턴 표면에 주름이 발생한다고 하는 문제가 생기게 되었다. 또한, 블랙 매트릭스가 박막인 경우에는 일 어나기 어렵지만, 열처리시에 막이 변형해 버린다고 하는 문제가 생긴다. As described above, when the black matrix is a thick film, there is a problem that wrinkles occur on the pattern surface. In addition, when the black matrix is a thin film, it is difficult to occur, but there is a problem that the film is deformed during the heat treatment.

이상의 과제를 감안하여, 본 발명에서는 열에 대한 형상 안정성이 높은 블랙 매트릭스를 형성하는 것이 가능한 블랙 매트릭스 형성용의 흑색 감광성 조성물을 제공하는 것을 목적으로 한다. 또, 본 발명에서는 이 흑색 감광성 조성물로 형성된 블랙 매트릭스, 잉크젯 방식 컬러 필터용 격벽, 및 액정 표시 소자용 스페이서(spacer)를 제공하는 것을 목적으로 한다.In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a black photosensitive composition for forming a black matrix capable of forming a black matrix having high shape stability against heat. Moreover, an object of this invention is to provide the black matrix formed from this black photosensitive composition, the partition for inkjet type color filters, and the spacer for liquid crystal display elements.

  본 발명자들은 흑색 감광성 조성물에 형상 안정제를 함유시키는 것이 블랙 매트릭스의 형상의 안정화에 유효하다는 것을 알아냈다. 구체적으로는, 형상 안정제로서 유기 안료를 함유시키는 것이 유효하다는 것을 알아내어 본 발명을 완성하기에 이르렀다.The inventors found that incorporating a shape stabilizer into the black photosensitive composition is effective for stabilizing the shape of the black matrix. Specifically, it has been found that it is effective to contain an organic pigment as a shape stabilizer, and the present invention has been completed.

본 발명은 광중합성 화합물과 광중합 개시제와 흑색 안료를 함유하는 흑색 감광성 조성물로서, 형상 안정제로서 유기 안료를 함유하는 흑색 감광성 조성물, 및 이 흑색 감광성 조성물로 형성된 블랙 매트릭스, 잉크젯 방식 컬러 필터용 격벽, 및 액정 표시 소자용 스페이서를 제공하는 것이다.The present invention provides a black photosensitive composition containing a photopolymerizable compound, a photopolymerization initiator, and a black pigment, a black photosensitive composition containing an organic pigment as a shape stabilizer, a black matrix formed from the black photosensitive composition, a partition for an inkjet type color filter, and It is to provide a spacer for a liquid crystal display device.

  이하, 본 발명의 실시 형태에 대해서 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of this invention is described.

  본 발명에 관계되는 흑색 감광성 조성물은 광중합성 화합물과 광중합 개시제와 흑색 안료를 포함하고, 또한 형상 안정제로서 유기 안료를 함유하고 있다.The black photosensitive composition which concerns on this invention contains a photopolymerizable compound, a photoinitiator, and a black pigment, and contains the organic pigment as a shape stabilizer.

[광중합성 화합물][Photopolymerizable Compound]

  「광중합성 화합물」이란 자외선 등의 광의 조사를 받아 중합하고 경화하는 물질을 말한다. 광중합성 화합물로서는 에틸렌(ethylene)성 이중 결합을 가지는 화합물이 바람직하다.A "photopolymerizable compound" means the substance which superposes | polymerizes and hardens | cures by irradiation of light, such as an ultraviolet-ray. As the photopolymerizable compound, a compound having an ethylene double bond is preferable.

<에틸렌성 이중 결합을 가지는 화합물><Compound Having Ethylenic Double Bond>

  에틸렌성 이중 결합을 가지는 화합물로서는 아크릴산, 메타크릴산, 푸마르산(fumaric acid), 말레산(maleic acid), 푸마르산모노메틸, 푸마르산모노에틸, 2-히드록시에틸아크릴레이트(2-hydroxyethyl acrylate), 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아크릴레이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르메타크릴레이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르아크릴레이트, 에틸렌글리콜모노에틸에테르메타크릴레이트(ethyleneglycol monoethyl ether methacrylate), 글리세롤아크릴레이트, 글리세롤메타크릴레이트, 아크릴산아미드, 메타크릴산아미드, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 2-에틸 헥실아크릴레이트, 2-에틸헥실메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 디에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트(tetraethyleneglycol diacrylate), 테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 브틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트, 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 테트라메틸올프로판테트라 아크릴레이트, 테트라메틸올프로판테트라메타크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이 트(pentaerythritol triacrylate), 펜타에리트리톨트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사메타크릴레이트, 1, 6-헥산디올디아크릴레이트(1, 6-hexanediol diacrylate), 1, 6-헥산디올디메타크릴레이트, 카르도에폭시디아크릴레이트(cardo epoxy diacrylate) 등의 모노머(monomer), 올리고머(oligomer)류; 다가 알코올류와 1염기산 또는 다염기산을 축합하여 얻어지는 폴리에스테르 프리폴리마(polyester prepolymer)에 (메타)아크릴산을 반응하여 얻어지는 폴리에스테르(메타)아크릴레이트(polyester (meth)acrylate), 폴리올(polyol)기와 2개의 이소시아네이트(isocyanate)기를 가지는 화합물을 반응시킨 후, (메타)아크릴산을 반응하여 얻어지는 폴리우레탄(메타)아크릴레이트(polyurethane (meth)acrylate); 비스페놀 A(bisphenol A)형 에폭시(epoxy) 수지, 비스페놀 F형 에폭시 수지, 비스페놀 S형 에폭시 수지, 페놀 또는 크레졸 노볼락(cresol novolak)형 에폭시 수지, 레졸(resol)형 에폭시 수지, 트리페놀메탄형 에폭시 수지, 폴리카르복실산폴리글리시딜에스테르(polyglycidyl polycarboxylate ester), 폴리올폴리글리시딜에스테르, 지방족 또는 지환식 에폭시 수지, 아민에폭시 수지, 디히드록시벤젠형 에폭시 수지 등의 에폭시 수지와 (메타)아크릴산을 반응하여 얻어지는 에폭시(메타)아크릴레이트 수지 등을 들 수 있다. 또한, 상기 에폭시(메타)아크릴레이트 수지에 다염기산무수물을 반응시킨 수지를 이용할 수가 있다. 이들 화합물에는 아크릴로일(acryloyl)기 또는 메타크릴로일(methacryloyl)기가 도입되 어 있기 때문에 가교 효율이 높아지고 도막의 내광성, 내약품성이 우수하다. Examples of the compound having an ethylenic double bond include acrylic acid, methacrylic acid, fumaric acid, maleic acid, monomethyl fumarate, monoethyl fumarate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2 -Hydroxyethyl methacrylate, ethylene glycol monomethyl ether acrylate, ethylene glycol monomethyl ether methacrylate, ethylene glycol monoethyl ether acrylate, ethylene glycol monoethyl ether methacrylate (ethyleneglycol monoethyl ether methacrylate), glycerol acrylic Glycerol methacrylate, acrylic acid amide, methacrylic acid amide, acrylonitrile, methacrylonitrile, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate Acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, 2-ethylhexyl methacryl Rate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, diethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol di Acrylate (tetraethyleneglycol diacrylate), tetraethylene glycol dimethacrylate, butylene glycol dimethacrylate, propylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate , Tetramethylolpropane tetra acrylate, tetramethylol propane tetramethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetrametha Krill Rate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate (1, 6- monomers, oligomers such as hexanediol diacrylate, 1,6-hexanediol dimethacrylate and cardo epoxy diacrylate; condensation of polyhydric alcohols with monobasic or polybasic acids A compound having a polyester (meth) acrylate, a polyol group and two isocyanate groups obtained by reacting (meth) acrylic acid with a polyester prepolymer obtained by Polyurethane (meth) acrylate, obtained by reacting (meth) acrylic acid after the reaction; bisphenol A (bisphenol A) type epoxy ), Bisphenol F type epoxy resin, bisphenol S type epoxy resin, phenol or cresol novolak type epoxy resin, resol type epoxy resin, triphenol methane type epoxy resin, polycarboxylic acid polyglycid Epoxy (meth) obtained by reacting (meth) acrylic acid with an epoxy resin such as a polyglycidyl polycarboxylate ester, a polyol polyglycidyl ester, an aliphatic or alicyclic epoxy resin, an amine epoxy resin, or a dihydroxybenzene type epoxy resin An acrylate resin etc. are mentioned. Moreover, resin which made polybasic acid anhydride react with the said epoxy (meth) acrylate resin can be used. Since these compounds have acryloyl or methacryloyl groups introduced therein, the crosslinking efficiency is high, and the light resistance and chemical resistance of the coating film are excellent.

  그 중에서도 분자 내에 카르도(cardo) 구조를 가지는 수지를 이용하는 것이 바람직하다. 카르도 구조를 가지는 수지는 내열성이나 내약품성이 높기 때문에, 광중합성 화합물에 이용함으로써 흑색 감광성 조성물의 내열성 및 내약품성을 향상시킬 수가 있다. 구체적으로는 하기의 일반식 (1)로 표시되는 수지를 이용하는 것이 바람직하다.Especially, it is preferable to use resin which has a cardo structure in a molecule | numerator. Since resin which has a cardo structure has high heat resistance and chemical-resistance, it can improve the heat resistance and chemical resistance of a black photosensitive composition by using it for a photopolymerizable compound. It is preferable to use resin represented by following General formula (1) specifically ,.

Figure 112007010938237-pat00001
Figure 112007010938237-pat00001

  식 중 X는 하기 일반식 (2)로 표시되는 기이고, Y는 디카르복실산무수물(dicarboxylic acid anhydride)로부터 카르복실산무수물기(-CO-O-CO-)를 제외한 잔기(residue)이고, Z는 테트라카르복실산 2무수물에서 2개의 카르복실산무수물기를 제외한 잔기이고, n은 1에서 20의 정수이다.In the formula, X is a group represented by the following general formula (2), Y is a residue excluding an carboxylic anhydride group (-CO-O-CO-) from dicarboxylic acid anhydride. , Z is a residue except two carboxylic anhydride groups in tetracarboxylic dianhydride, n is an integer from 1 to 20.

Figure 112007010938237-pat00002
Figure 112007010938237-pat00002

  상기 Y를 유도하는 디카르복실산무수물(카르복실산무수물기를 제외하기 전의 디카르복실산무수물)의 구체적인 예로서는, 예를 들면 무수말레산, 무수호박산, 무수이타콘산(itaconic aicd anhydride), 무수프탈산(phthalic acid anhydride), 무수테트라히드로프탈산, 무수헥사히드로프탈산, 무수메틸엔도메틸렌테트라히드로프탈산, 무수클로렌드산(chlorendic acid anhydride), 메틸테트라히드로무수프탈산, 무수글루타르산(glutaric acid anhydride) 등을 들 수 있다.As a specific example of the said dicarboxylic acid anhydride (dicarboxylic acid anhydride before removing a carboxylic acid anhydride group) which induces said Y, for example, maleic anhydride, succinic anhydride, itaconic anhydride, phthalic anhydride (phthalic acid anhydride), tetrahydrophthalic anhydride, hexahydrophthalic anhydride, methylendomethylenetetrahydrophthalic anhydride, chlorendic acid anhydride, methyltetrahydrophthalic anhydride, glutaric anhydride, etc. Can be mentioned.

  또, 상기 Z를 유도하는 테트라카르복실산 2무수물(2개의 카르복실산무수물기를 제외하기 전의 테트라카르복실산 2무수물)의 구체적인 예로서는, 예를 들면 무수피로멜리트산(pyromellitic acid anhydride), 벤조페논테트라카르복실산 2무수물, 비페닐테트라카르복실산 2무수물, 비페닐에테르테트라카르복실산 2무수물 등의 테트라카르복실산 2무수물 등을 들 수 있다.Moreover, as a specific example of the tetracarboxylic dianhydride (tetracarboxylic dianhydride before removing two carboxylic anhydride groups) which induces said Z, pyromellitic acid anhydride and benzophenone are mentioned, for example. Tetracarboxylic dianhydride, such as a tetracarboxylic dianhydride, a biphenyl tetracarboxylic dianhydride, and a biphenyl ether tetracarboxylic dianhydride, etc. are mentioned.

  또한, 상기 에틸렌성 이중 결합을 가지는 화합물은 질량 평균 분자량이 1,000 이상의 것을 이용하는 것이 바람직하다. 질량 평균 분자량을 1,000 이상으로 함으로써 도막을 균일하게 할 수 있다. 또, 질량 평균 분자량이 100,000 이하로 하는 것이 바람직하다. 질량 평균 분자량을 100,000 이하로 함으로써 현상성을 양호하게 할 수가 있다. 본 발명에서는 이 질량 평균 분자량이 1,000 이상의 에틸렌성 이중 결합을 가지는 화합물을 에틸렌성 이중 결합을 가지는 고분자 화합물이라고 칭하는 것으로 한다.Moreover, it is preferable that the compound which has the said ethylenic double bond has a mass mean molecular weight of 1,000 or more. By making a mass average molecular weight 1,000 or more, a coating film can be made uniform. Moreover, it is preferable that mass average molecular weight shall be 100,000 or less. Developability can be made favorable by making a mass mean molecular weight 100,000 or less. In this invention, the compound which has this mass average molecular weight 1,000 or more ethylenic double bond shall be called the high molecular compound which has ethylenic double bond.

  또한, 상기 에틸렌성 이중 결합을 가지는 고분자 화합물은 광중합성 모노머와 조합하여 이용하는 것이 바람직하다. 이 광중합성 모노머로서는 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴 레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트, 에틸렌글리콜디아크릴레이트, 에틸렌글리콜디메타크릴레이트(ethyleneglycol dimethacrylate), 트리에틸렌글리콜디아크릴레이트, 트리에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디아크릴레이트, 테트라에틸렌글리콜디메타크릴레이트, 프로필렌글리콜디아크릴레이트, 프로필렌글리콜디메타크릴레이트, 트리메틸올프로판트리아크릴레이트(trimethylolpropane triacrylate), 트리메틸올프로판트리메타크릴레이트, 테트라메틸올프로판테트라아크릴레이트, 테트라메틸올프로판테트라메타크릴레이트, 펜타에리트리톨트리아크릴레이트(pentaerythritol triacrylate), 펜타에리트리톨트리메타크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타메타크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사메타크릴레이트, 1, 6-헥산디올디아크릴레이트(1, 6-hexanediol diacrylate), 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 카르도에폭시디아크릴레이트(cardo epoxy diacrylate), 아크릴산, 메타크릴산 등을 들 수 있지만, 이들에 한정되는 것은 아니다. 그 중에서도, 다관능성 광중합성 모노머가 바람직하다. 이와 같이 에틸렌성 이중 결합을 가지는 고분자 화합물과 광중합성 모노머를 조합시킴으로써, 경화성을 향상시켜 패턴(pattern) 형성을 용이하게 할 수가 있다.Moreover, it is preferable to use the high molecular compound which has the said ethylenic double bond in combination with a photopolymerizable monomer. As this photopolymerizable monomer, methyl acrylate, methyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, 2-hydroxypropyl methacrylate, ethylene glycol diacrylate, and ethylene glycol dimethacrylate Ethylene (ethyleneglycol dimethacrylate), triethylene glycol diacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, tetraethylene glycol dimethacrylate, propylene glycol diacrylate, propylene glycol dimethacrylate, Trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, tetramethylolpropane tetraacrylate, tetramethylolpropane tetramethacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol Trimetacrylic Yite, pentaerythritol tetraacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, dipentaerythritol pentamethacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate 1,6-hexanediol diacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, cardo epoxy diacrylate, acrylic acid, methacrylic acid, and the like. It is not limited to these. Especially, a polyfunctional photopolymerizable monomer is preferable. Thus, by combining the high molecular compound and the photopolymerizable monomer which have an ethylenic double bond, hardenability can be improved and pattern formation can be made easy.

  상기에서는 광중합성 화합물로서 그 분자 자체가 중합 가능한 것을 들었지만, 본 발명에서는 고분자 바인더와 광중합성 모노머의 혼합물도 광중합성 화합물에 포함되는 것으로 한다.In the above, although the molecule | numerator itself was mentioned as a photopolymerizable compound, in this invention, the mixture of a polymeric binder and a photopolymerizable monomer shall also be included in a photopolymerizable compound.

  고분자 바인더로서는 현상의 용이함 때문에 염기 현상이 가능한 바인더인 것이 바람직하다.As a polymeric binder, it is preferable that it is a binder which can develop a base for ease of image development.

  구체적으로는 고분자 바인더로서 아크릴산, 메타크릴산 등의 카르복실기를 가지는 모노머와, 아크릴산메틸, 메타크릴산메틸, 아크릴산에틸, 메타크릴산에틸, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 2-히드록시프로필메타크릴레이트(2-hydroxypropyl methacrylate), N-부틸아크릴레이트, N-부틸메타크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 벤질아크릴레이트, 벤질메타크릴레이트, 페녹시아크릴레이트, 페녹시메타크릴레이트, 이소보닐아크릴레이트(isobonyl acrylate), 이소보닐메타크릴레이트, 글리시딜메타크릴레이트, 스티렌, 아크릴아미드, 아크릴로니트릴 등과의 공중합체, 및 페놀 노볼락(phenol novolak)형 에폭시아크릴레이트 중합체, 페놀 노볼락형 에폭시메타크릴레이트 중합체, 크레졸 노볼락(cresol novolak)형 에폭시아크릴레이트 중합체, 크레졸 노볼락형 에폭시메타크릴레이트 중합체, 비스페놀 A(bisphenol A)형 에폭시아크릴레이트 중합체, 비스페놀 S형 에폭시아크릴레이트 중합체 등의 수지를 들 수 있다. 상기 수지를 구성하는 아크릴산, 메타크릴산 등의 카르복실기를 가지는 모노머 성분의 함유량은 5몰%에서 40몰%의 범위가 바람직하다. Specifically, a monomer having a carboxyl group such as acrylic acid and methacrylic acid as a polymer binder, methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate and 2-hydroxyethyl methacryl Latex, 2-hydroxypropyl methacrylate, N-butyl acrylate, N-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, Phenoxyacrylates, phenoxymethacrylates, isobonyl acrylates, isobonyl methacrylates, copolymers with glycidyl methacrylates, styrene, acrylamides, acrylonitrile and the like, and phenol novolacs (phenol novolak) type epoxy acrylate polymer, phenol novolak type epoxy methacrylate polymer, cresol novolak type Resin, such as an epoxy acrylate polymer, a cresol novolak-type epoxy methacrylate polymer, a bisphenol A (bisphenol A) type epoxy acrylate polymer, and a bisphenol S type epoxy acrylate polymer, is mentioned. As for content of the monomer component which has carboxyl groups, such as acrylic acid and methacrylic acid which comprise the said resin, the range of 5 mol%-40 mol% is preferable.

  상기 고분자 바인더의 질량 평균 분자량의 바람직한 범위는 1,000에서 100,000이다. 질량 평균 분자량을 1,000 이상으로 함으로써 도막을 균일하게 할 수 있다. 또, 질량 평균 분자량을 100,000 이하로 함으로써 현상성을 양호하게 할 수가 있다.The preferred range of the mass average molecular weight of the polymeric binder is from 1,000 to 100,000. By making a mass average molecular weight 1,000 or more, a coating film can be made uniform. Moreover, developability can be made favorable by making a mass mean molecular weight 100,000 or less.

  광중합성 화합물로서 고분자 바인더와 광중합성 모노머를 포함하는 경우, 고분자 바인더는 고분자 바인더와 광중합성 모노머와 광중합성 개시제의 합계 100질량부당 10질량부에서 60질량부의 범위로 배합되는 것이 좋다. 배합량을 10질량부 이상으로 함으로써 도포, 건조시에 막을 형성하기 쉽게 할 수가 있고 경화 후의 피막 강도를 충분히 높일 수가 있다. 또, 배합량을 60질량부 이하로 함으로써 현상성을 양호하게 할 수가 있다. When a polymeric binder and a photopolymerizable monomer are included as a photopolymerizable compound, it is preferable that a polymeric binder is mix | blended in the range of 10 mass parts to 60 mass parts per 100 mass parts of total of a polymeric binder, a photopolymerizable monomer, and a photoinitiator. By setting the blending amount to 10 parts by mass or more, it is possible to easily form a film during application and drying, and the film strength after curing can be sufficiently increased. Moreover, developability can be made favorable by making a compounding quantity 60 mass parts or less.

  또, 광중합성 모노머는 고분자 바인더와 광중합성 모노머와 광중합성 개시제의 합계 100질량부당 15질량부에서 50질량부의 범위로 배합되는 것이 바람직하다. 상기 배합량을 15질량부 이상으로 함으로써 광경화 불량을 방지하고 충분한 내열성, 내약품성을 얻을 수 있다. 또 50질량부 이하로 함으로써 도막 형성능을 양호하게 할 수가 있다.Moreover, it is preferable to mix | blend a photopolymerizable monomer in the range of 15 mass parts to 50 mass parts per 100 mass parts of total of a polymeric binder, a photopolymerizable monomer, and a photoinitiator. By making the said compounding quantity 15 mass parts or more, the photocuring defect can be prevented and sufficient heat resistance and chemical-resistance can be obtained. Moreover, coating film formation ability can be made favorable by using 50 mass parts or less.

[광중합 개시제][Photoinitiator]

  광중합 개시제로서는 예를 들면, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤(1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone), 2-히드록시-2-메틸-1-페닐 프로판-1-온, 1-〔4-(2-히드록시에톡시)페닐〕-2-히드록시-2-메틸-1-프로판-1-온, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판 1-온, 1-(4-도데실페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2, 2-디메톡시-1, 2-디페닐에탄-1-온, 비스(4-디메틸아미노페닐)케톤, 2-메틸-1-〔4-(메틸티오)페닐〕-2-모르폴리노프로판-1-온(2-methyl 1-〔4-(methylthio)phenyl〕-2-morpholinopropan-1-one), 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부탄-1-온, 에타논, 1 -[9-에틸-6-(2-메틸벤조일)-9H-카르바졸-3-일]-, 1-(O-아세틸옥심), 2, 4, 6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 4-벤조일-4'-메틸디메틸술피드, 4-디메틸아미노안식향산, 4-디메틸아미노안식향산메틸, 4-디메틸아미노안식향산에틸, 4-디메틸아미노안식향산부틸, 4-디메틸아미노-2-에틸헥실안식향산, 4-디메틸아미노-2-이소아밀안식향산, 벤질-β-메톡시에틸아세탈, 벤질디메틸케탈, 1-페닐-1, 2-프로판디온 2-(O-에톡시카르보닐)옥심, O-벤조일안식향산메틸, 2, 4-디에틸티오크산텐(2, 4-diethylthioxanthene), 2-클로로티오크산텐, 2, 4-디메틸티오크산텐, 1-클로로-4-프로폭시티오크산텐, 티오크산텐(thioxanthene), 2-클로로티오크산텐, 2, 4-디에틸티오크산텐, 2-메틸티오크산텐, 2-이소프로필티오크산텐, 2-에틸안트라퀴논(2-ethylanthraquinone), 옥타메틸안트라퀴논, 1, 2-벤즈안트라퀴논(1, 2-benzanthraquinone), 2, 3-디페닐안트라퀴논, 아조비스이소부티로니트릴, 벤조일퍼록시드(benzoylperoxide), 쿠멘퍼록시드(cumeneperoxide), 2-머캅토벤즈이미다졸(2-mercaptobenzimidazole), 2-머캅토벤즈옥사졸(2-mercaptobenzoxazole), 2-머캅토벤조티아졸(2-mercaptobenzothiazole), 2-(o-클로로페닐)-4, 5-디(m-메톡시페닐)-이미다졸릴 2량체, 벤조페논, 2-클로로벤조페논, p, p'-비스디메틸아미노벤조페논, 4, 4'-비스디에틸아미노벤조페논, 4, 4'-디클로로벤조페논, 3, 3-디메틸-4-메톡시벤조페논, 벤질, 벤조인(benzoin), 벤조인메틸에테르, 벤조인에틸에테르, 벤조인이소프로필에테르, 벤조인 n-부틸에테르, 벤조인이소부틸에테르, 벤조인부틸에테르, 아세트페논, 2, 2-디에톡시아세트페논, p-디메틸아세트페논, p-디메틸아미노프로피오페논, 디클로로아세트페논, 트리클로로아세트페논, p-tert-부틸아세트페논, p-디메틸아미노아세트페논, p-tert-부틸트리클로로아세트페논, p-tert-부틸디클로로아세트페논,α, α-디클로로-4-페녹시아세트페논, 티오크산텐, 2-메틸티오크산텐, 2-이소프로필티오크산텐, 디벤조수베론(dibenzosuberone), 펜틸-4-디메틸아미노벤조에이트, 9-페닐아크리딘(9-phenylacridine), 1, 7-비스-(9-아크리디닐)헵탄, 1, 5-비스-(9-아크리디닐)펜탄, 1, 3-비스-(9-아크리디닐)프로판, p-메톡시트리아진, 2, 4, 6-트리스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-메틸-4, 6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(5-메틸푸란-2-일)에테닐]-4, 6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(푸란-2-일) 에테닐]-4, 6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(4-디에틸아미노-2-메틸페닐)에테닐]-4, 6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-[2-(3, 4-디메톡시페닐)에테닐]-4, 6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-메톡시페닐)-4, 6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(4-에톡시스티릴)-4, 6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진(2-(4-ethoxystyryl)-4, 6-bis(trichloromethyl)-s-triazine), 2-(4-n-부톡시페닐)-4, 6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2, 4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브로모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2, 4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브로모-4-메톡시)페닐-s-트리아진, 2, 4-비스-트리클로로메틸-6-(3-브로모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진, 2, 4-비스-트리클로로메틸-6-(2-브로모-4-메톡시)스티릴페닐-s-트리아진(2,4-bis-trichloromethyl-6-(2-brome-4-methoxy)styrylphenyl-s-triazine) 등을 들 수가 있다. 이러한 광중합 개시제는 단 독 또는 2종 이상 조합하여 이용해도 좋다.As a photoinitiator, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-hydroxy- 2-methyl- 1-phenyl propane- 1-one, 1- [4- (2-hydric, for example) Hydroxyethoxy) phenyl] -2-hydroxy-2-methyl- 1-propane- 1-one, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane 1-one, 1- ( 4-dodecylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropane-1-one, 2, 2-dimethoxy-1, 2-diphenylethane-1-one, bis (4-dimethylaminophenyl) ketone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropane-1-one (2-methyl 1- [4-methylmethyl) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butan-1-one, ethanone, 1- [9-ethyl-6- (2-methylbenzoyl) -9H-carbazole- 3-yl]-, 1- (O-acetyl oxime), 2, 4, 6- trimethyl benzoyl diphenyl phosphine oxide, 4- benzoyl-4'- methyl dimeth Sulfide, 4-dimethylamino benzoic acid, 4-dimethylamino benzoic acid methyl, 4-dimethylamino benzoic acid ethyl, 4-dimethylamino benzoic acid butyl acid, 4-dimethylamino-2-ethylhexyl benzoic acid, 4-dimethylamino-2-isoamyl Benzoic acid, benzyl- (beta)-methoxyethyl acetal, benzyl dimethyl ketal, 1-phenyl- 1, 2- propanedione 2- (O-ethoxycarbonyl) oxime, O-benzoyl benzoate, 2, 4- diethyl tea Oak xanthene (2, 4-diethylthioxanthene), 2-chlorothioxanthene, 2, 4- dimethyl thioxanthene, 1-chloro-4-propoxy thioxanthene, thioxanthene, 2-chlorothioke Santhene, 2, 4-diethyl thioxanthene, 2-methyl thioxanthene, 2-isopropyl thioxanthene, 2-ethylanthraquinone, octamethyl anthraquinone, 1, 2-benzanthraquinone (1,2-benzanthraquinone), 2, 3-diphenylanthraquinone, azobisisobutyronitrile, benzoyl peroxide (be nzoylperoxide, cumeneperoxide, 2-mercaptobenzimidazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzothiazole, 2 -(O-chlorophenyl) -4,5-di (m-methoxyphenyl) -imidazolyl dimer, benzophenone, 2-chlorobenzophenone, p, p'-bisdimethylaminobenzophenone, 4, 4 VIII-bisdiethylamino benzophenone, 4, 4- V-dichloro benzophenone, 3, 3- dimethyl- 4-methoxy benzophenone, benzyl, benzoin (benzoin), benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzo Phosphorus isopropyl ether, benzoin n-butyl ether, benzoin isobutyl ether, benzoin butyl ether, acetphenone, 2, 2-diethoxy acetphenone, p-dimethylacetphenone, p-dimethylaminopropiophenone, dichloro Acetphenone, trichloroacetphenone, p-tert-butylacetphenone, p-dimethylaminoacetphenone, p-tert-part Trichloroacetphenone, p-tert- butyldichloroacetphenone, (alpha), (alpha)-dichloro- 4-phenoxyacephenone, thioxanthene, 2-methyl thioxanthene, 2-isopropyl thioxanthene, dibenzosuberon (dibenzosuberone), pentyl-4-dimethylaminobenzoate, 9-phenylacridine, 1, 7-bis- (9-acridinyl) heptane, 1, 5-bis- (9-arc) Ridinyl) pentane, 1, 3-bis- (9-acridinyl) propane, p-methoxytriazine, 2, 4, 6-tris (trichloromethyl) -s-triazine, 2-methyl-4 , 6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (4-diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl ] -4, 6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) Ethenyl] -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (4 -Ethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine (2- (4-ethoxystyryl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine), 2- (4- n-butoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (3-bromo- 4-methoxy) phenyl-s- Triazine, 2, 4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) phenyl-s-triazine, 2, 4-bis-trichloromethyl-6- (3-bromo -4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine, 2,4-bis-trichloromethyl-6- (2-bromo-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine (2,4 -Bis-trichloromethyl-6- (2-brome-4-methoxy) styrylphenyl-s-triazine) etc. are mentioned. You may use these photoinitiators individually or in combination of 2 or more types.

이 광중합 개시제는 상기 광중합성 화합물과 광중합 개시제의 합계 100질량부에 대해서 1질량부에서 40질량부 포함되는 것이 바람직하다.It is preferable that this photoinitiator is contained 1 mass part to 40 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of the said photopolymerizable compound and a photoinitiator.

[흑색 안료][Black pigment]

  이 흑색 안료로서는 차광성이 있는 안료이면 특히 한정되는 것은 아니고, 구체적으로는 카본 블랙(carbon black), 티탄 블랙(titanium black), 동, 철, 망간, 코발트, 크롬, 니켈, 아연, 칼슘, 은 등의 금속 산화물, 복합 산화물, 금속 황화물, 금속 황산납 또는 금속 탄산염 등의 무기 안료 등도 들 수 있다. 이들 흑색 안료 중에서도 높은 차광성을 가지는 카본 블랙을 이용하는 것이 보다 바람직하다.The black pigment is not particularly limited as long as it is a pigment having light shielding, and specifically, carbon black, titanium black, copper, iron, manganese, cobalt, chromium, nickel, zinc, calcium, silver Inorganic pigments, such as a metal oxide, a composite oxide, a metal sulfide, a metal lead sulfate, or a metal carbonate, etc. are mentioned. It is more preferable to use carbon black which has high light-shielding property among these black pigments.

  카본 블랙(carbon black)으로서는 채널 블랙(channel black), 퍼니스 블랙(furnace black), 서멀 블랙(thermal black), 램프 블랙(lamp black) 등 공지의 카본 블랙을 이용할 수가 있다. 또, 수지 피복 카본 블랙을 이용하는 것이 바람직하다. As carbon black, well-known carbon black, such as channel black, furnace black, thermal black, lamp black, can be used. Moreover, it is preferable to use resin coating carbon black.

이 수지 피복 카본 블랙은 수지 피복되어 있지 않은 카본 블랙에 비해 도전성이 낮기 때문에, 액정 디스플레이(liquid crystal display)와 같은 액정 표시 소자의 블랙 매트릭스(black matrix)로서 이용한 경우에 전류의 누설(leak)이 적고, 신뢰성이 높은 액정 디스플레이를 형성할 수 있다. Since the resin-coated carbon black has lower conductivity than carbon black without resin coating, leakage of current occurs when used as a black matrix of a liquid crystal display device such as a liquid crystal display. It is possible to form a small liquid crystal display with high reliability.

  또, 분산제로서는 폴리에틸렌이민(polyethyleneimine)계, 우레탄 수지계, 아크릴 수지계의 고분자 분산제를 이용하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable to use the polymer dispersing agent of a polyethyleneimine type | system | group, a urethane resin type, and an acrylic resin type as a dispersing agent.

  이러한 분산제로서는 예를 들면, 비크케미·재팬주식회사 제조의 상품명 BYK -161, 162, 163, 164, 166, 170, 182, 제네카주식회사 제조의 상품명 소르스파스 S3000, S9000, S17000, S20000, S27000, S24000, S26000, S28000 등을 들 수가 있다. As such a dispersing agent, for example, the brand name BYK-161, 162, 163, 164, 166, 170, 182, the product made by Vikchem Japan Co., Ltd. , S26000, S28000, and the like.

[형상 안정제][Shape stabilizer]

  본 발명에 관계되는 흑색 감광성 조성물은 형상 안정제로서 유기 안료를 함유한다. 이 유기 안료를 함유함으로써, 열에 대해서 안정한 블랙 매트릭스를 형성할 수가 있다. 또, 이 유기 안료는 흑색 안료의 색을 조정하는 것도 가능하게 된다. 또한, 유기 안료를 첨가함으로써, 고온으로 처리해도 형상이 안정한 패턴을 형성하는 것이 가능하게 된다. The black photosensitive composition which concerns on this invention contains an organic pigment as a shape stabilizer. By containing this organic pigment, the black matrix stable with heat can be formed. Moreover, this organic pigment can also adjust the color of a black pigment. Moreover, by adding an organic pigment, even if it processes at high temperature, it becomes possible to form the pattern with stable shape.

  또, 이 유기 안료를 첨가함으로써, 블랙 매트릭스를 형성한 때에 패턴(pattern)의 테이퍼각(taper angle)을 조정할 수가 있다.Moreover, by adding this organic pigment, the taper angle of a pattern can be adjusted at the time of forming a black matrix.

  이와 같은 유기 안료로서는 컬러 인덱스(color index)(C. I.; The Society of Dyers and Colourists사 발행)에 있어서 피그먼트(Pigment)로 분류되어 있는 화합물, 구체적으로는 하기의 컬러 인덱스(C. I) 번호가 부착되어 있는 것을 들 수 있다.As such an organic pigment, a compound classified as a pigment in a color index (CI; issued by The Society of Dyers and Colourists), specifically the following color index (C.I) number What is attached is mentioned.

  C. I. 피그먼트 옐로우(pigment yellow) 1(이하, 「C. I. 피그먼트 옐로우」는 동일하게 번호만 기재한다), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53, 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116, 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180, 185; CI pigment yellow 1 (hereinafter, "CI pigment yellow" describes the same number only), 3, 11, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20, 24, 31, 53 , 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 86, 93, 95, 97, 98, 99, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116 , 117, 119, 120, 125, 126, 127, 128, 129, 137, 138, 139, 147, 148, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 167, 168, 175, 180 , 185;

  C. I. 피그먼트 오렌지(pigment orange) 1(이하, 「C. I. 피그먼트 오렌지」는 동일하게 번호만 기재한다), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 55, 59, 61, 63, 64, 71, 73;CI pigment orange 1 (hereafter, "CI pigment orange" lists only the same numbers), 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46 , 49, 51, 55, 59, 61, 63, 64, 71, 73;

  C. I. 피그먼트 바이올렛(pigment violet) 1(이하, 「C. I. 피그먼트 바이올렛」은 동일하게 번호만 기재한다), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, 50;C. I. pigment violet 1 (hereinafter, "C. I. pigment violet" refers to the same number only), 19, 23, 29, 30, 32, 36, 37, 38, 39, 40, 50;

C. I. 피그먼트 레드(pigment red) 1(이하, 「C. I. 피그먼트 레드」는 동일하게 번호만 기재한다), 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48:1, 48:2, 48:3, 48:4, 49:1, 49:2, 50:1, 52:1, 53:1, 57, 57:1, 57:2, 58:2, 58:4, 60:1, 63:1, 63:2, 64:1, 81:1, 83, 88, 90:1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215, 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, 265; CI pigment red 1 (hereinafter, "CI pigment red" describes only the numbers in the same way), 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14 , 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49 : 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 53: 1, 57, 57: 1, 57: 2, 58: 2, 58: 4, 60: 1, 63: 1, 63: 2, 64 : 1, 81: 1, 83, 88, 90: 1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 155 , 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 192, 193, 194, 202, 206, 207, 208, 209, 215 , 216, 217, 220, 223, 224, 226, 227, 228, 240, 242, 243, 245, 254, 255, 264, 265;

  C. I. 피그먼트 블루(pigment blue) 1(이하, 「C. I. 피그먼트 블루」는 동일하게 번호만 기재한다), 2, 15, 15:3, 15:4, 15:6, 16, 22, 60, 64, 66;CI pigment blue 1 (hereinafter "CI pigment blue" lists only number in the same way), 2, 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 16, 22, 60, 64 , 66;

  C. I. 피그먼트 그린(pigment green) 7, C. I. 피그먼트 그린 36, C. I. 피그먼트 그린 37;C. I. pigment green 7, C. I. pigment green 36, C. I. pigment green 37;

  C. I. 피그먼트 브라운(pigment brown) 23, C. I. 피그먼트 브라운 25, C. I. 피그먼트 브라운 26, C. I. 피그먼트 브라운 28;C. I. pigment brown 23, C. I. pigment brown 25, C. I. pigment brown 26, C. I. pigment brown 28;

  C. I. 피그먼트 블랙(pigment black) 1, 피그먼트 블랙 7. C. I. Pigment Black 1, Pigment Black 7.

  또, 상술한 바와 같이, 유기 안료는 형상 안정제로서만이 아니고 카본 블랙의 보조 안료로서 기능하는 경우가 있다. 보조 안료로서는 예를 들면, 프탈로시아닌(phthalocyanine)계 안료, 아조(azo)계 안료 및, 염기성 염료 레이크(lake) 안료 등을 들 수 있다. Moreover, as mentioned above, an organic pigment may function not only as a shape stabilizer but as an auxiliary pigment of carbon black. As an auxiliary pigment, a phthalocyanine pigment, an azo pigment, a basic dye lake pigment, etc. are mentioned, for example.

  유기 안료와 흑색 안료의 질량비는 10:2에서 10:10인 것이 바람직하고, 10:4에서 10:7인 것이 보다 바람직하다.It is preferable that it is 10:10, and 10:10 is more preferable, and, as for the mass ratio of an organic pigment and a black pigment, it is more preferable that it is 10:10.

  또, 상기 유기 안료와 상기 흑색 안료의 합계량은 광중합성 화합물 및 광중합 개시제의 전체 질량에 대해서 60질량%에서 120질량%인 것이 바람직하고, 70질량%에서 105질량%인 것이 보다 바람직하다. 합계량이 80질량% 이하로 함으로써 적절한 감도를 얻을 수 있다. 또, 합계량이 10질량% 이상으로 함으로써 차광성을 높이고, 블랙 매트릭스로서의 기능을 충분히 완수하게 된다.Moreover, it is preferable that it is 60 mass%-120 mass% with respect to the total mass of a photopolymerizable compound and a photoinitiator, and, as for the total amount of the said organic pigment and the said black pigment, it is more preferable that it is 105 mass% at 70 mass%. Appropriate sensitivity can be obtained when total amount is 80 mass% or less. Moreover, when the total amount is 10 mass% or more, light shielding property is improved and the function as a black matrix is fully completed.

  유기 안료 중에서 바람직한 것으로서는 C. I. 피그먼트 블루(pigment blue) 15:6, C. I. 피그먼트 레드(pigment red) 177, C. I. 피그먼트 옐로우(pigment yellow) 139를 들 수 있다. 이들 유기 안료는 차광성의 향상, 형상 안정성의 향상을 보다 촉진시킬 수가 있다.Preferred among the organic pigments include C. I. pigment blue 15: 6, C. I. pigment red 177, and C. I. pigment yellow 139. These organic pigments can promote the improvement of light-shielding property and the improvement of shape stability more.

[그 외의 성분][Other ingredients]

  본 발명에 관계되는 흑색 감광성 조성물에서는 필요에 따라서 첨가제를 배합 할 수가 있다. 구체적으로는 증감제, 경화 촉진제, 광가교제, 광증감제, 분산제, 분산 조제, 충전제, 밀착 촉진제, 산화 방지제, 자외선 흡수제, 응집 방지제 등을 들 수 있다.In the black photosensitive composition which concerns on this invention, an additive can be mix | blended as needed. Specifically, a sensitizer, a hardening accelerator, a photocrosslinker, a photosensitizer, a dispersing agent, a dispersion adjuvant, a filler, an adhesion promoter, antioxidant, a ultraviolet absorber, an aggregation inhibitor, etc. are mentioned.

  또, 흑색 안료의 농도는 후술하듯이, 본 발명에 관계되는 흑색 감광성 조성물을 이용하여 블랙 매트릭스를 형성한 때에, 흑색 감광성 조성물의 막 두께 1μm당의 OD(Optical Density)값이 4 이상이 되도록 조정하는 것이 바람직하다. 흑색 감광성 조성물의 막 두께 1μm당의 OD값이 4 이상이면, 액정 디스플레이의 블랙 매트릭스에 이용한 경우에 충분한 표시 콘트래스트(contrast)를 얻을 수 있다.In addition, the density | concentration of a black pigment is adjusted so that OD (Optical_Density) value per 1 micrometer of film thickness of a black photosensitive composition may become 4 or more, when forming a black matrix using the black photosensitive composition concerning this invention as mentioned later. It is preferable. When the OD value per film thickness of 1 micrometer of a black photosensitive composition is four or more, sufficient display contrast can be obtained when it uses for the black matrix of a liquid crystal display.

  또, 본 발명에 관계되는 흑색 감광성 조성물을 이용하여 블랙 매트릭스를 형성할 때에는 후술하듯이, 기판상에 본 발명의 흑색 감광성 조성물을 도포, 건조하여 막을 형성한다. 이때의 도포성의 개선, 광경화 후의 물성 개선을 위해서, 상기 성분에 더하여 추가로 결합제로서 고분자 바인더를 함유해도 좋다. 결합제는 상용성, 피막 형성성, 현상성, 접착성 등 개선 목적에 따라 적당히 선택하면 좋다.Moreover, when forming a black matrix using the black photosensitive composition which concerns on this invention, the black photosensitive composition of this invention is apply | coated and dried on a board | substrate as mentioned later, and a film is formed. In order to improve the applicability at this time and to improve the physical properties after photocuring, in addition to the above components, a polymer binder may be further included as a binder. What is necessary is just to select a binder suitably according to the objective of improvement, such as compatibility, film formation property, developability, adhesiveness.

  기판 상에 형성된 블랙 매트릭스의 두께로서는 통상 0.5μm에서 10μm의 범위 내에서 설정할 수가 있고, 바람직하게는 1μm에서 5μm, 더 바람직하게는 2μm에서 4μm이다. 막 두께가 2μm 이상이면, 통상의 컬러 필터용 블랙 매트릭스로서 사용할 수 있을 뿐만 아니라, 잉크젯 방식의 컬러 필터의 격벽으로서 사용할 수가 있다.As thickness of the black matrix formed on the board | substrate, it can be set normally in the range of 0.5 micrometer-10 micrometers, Preferably it is 1 micrometer-5 micrometers, More preferably, it is 2 micrometers-4 micrometers. If the film thickness is 2 μm or more, it can be used not only as a black matrix for a normal color filter but also as a partition of an inkjet type color filter.

  또, 이 블랙 매트릭스를 격벽으로서 이용하는 경우에는 프로파일각(profile angle)이 50°이상인 것이 바람직하고, 70°이상인 것이 보다 바람직하다. 또한, 이 프로파일각은 90°미만인 것이 바람직하다. 여기서, 「프로파일각」이란 기판 표면과 패턴의 경사면이 이루는 각도를 말한다. 또, 상기 격벽은 개구부를 가지도록 형성된다. Moreover, when using this black matrix as a partition, it is preferable that profile angle is 50 degrees or more, and it is more preferable that it is 70 degrees or more. Moreover, it is preferable that this profile angle is less than 90 degrees. Here, a "profile angle" means the angle which the surface of a board | substrate and the inclined surface of a pattern make. In addition, the partition wall is formed to have an opening.

  잉크젯 방식으로 컬러 필터를 형성하는 경우, 잉크 조성물이 격벽의 개구부의 밖으로 벗어나 버리는 일이 있다. 그러나, 프로파일각을 50°이상으로 함으로써, 잉크 조성물이 다소 벗어나더라도 벗어난 잉크 조성물을 개구부 내로 되돌릴 수가 있기 때문에 벗어남을 방지하는 것이 가능하게 된다.When forming a color filter by an inkjet system, an ink composition may come out of the opening part of a partition. However, by setting the profile angle to 50 DEG or more, it is possible to return the ink composition which has deviated even if the ink composition is slightly displaced into the opening, thereby preventing the deviation.

   또, 본 발명에 관계되는 흑색 감광성 조성물은 희석을 위한 용제나 열중합 금지제, 소포제, 계면활성제 등을 첨가해도 좋다.Moreover, the black photosensitive composition which concerns on this invention may add the solvent for dilution, a thermal polymerization inhibitor, an antifoamer, surfactant, etc.

  여기서, 흑색 감광성 조성물에 첨가 가능한 용제로서는 예를 들면, 에틸렌글리콜모노메틸에테르(ethyleneglycol monomethyl ether), 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디에틸렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노메틸에테르, 트리에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르, 디프로필렌글리콜모노에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-프로필에테르, 디프로필렌글리콜모노-n-부틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노메틸에테르, 트리프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르((poly)alkyleneglycol monoalkyl ether)류; 에틸 렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(ethyleneglycol monomethyl ether acetate), 에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 (폴리)알킬렌글리콜모노알킬에테르아세테이트((poly)alkyleneglycol monoalkyl ether acetate)류; 디에틸렌글리콜디메틸에테르(diethyleneglycol dimethyl ether), 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 디에틸렌글리콜디에틸에테르, 테트라히드로푸란(tetrahydrofuran) 등의 다른 에테르(ether)류; 메틸에틸케튼, 시클로헥사논, 2-헵타논, 3-헵타논 등의 케톤(ketone)류; 2-히드록시프로피온산메틸(methyl 2-hydroxypropionate), 2-히드록시프로피온산에틸 등의 황산알킬에스테르(alkyl sulfate ester)류; 2-히드록시-2-메틸프로피온산에틸, 3-메톡시프로피온산메틸, 3-메톡시프로피온산에틸, 3-에톡시프로피온산메틸, 3-에톡시프로피온산에틸, 에톡시초산에틸, 히드록시초산에틸, 2-히드록시-3-메틸부탄산메틸(methyl 2-hydroxy-3-methylbutanoate), 3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸아세테이트, 3-메틸-3-메톡시부틸프로피오네이트, 초산에틸, 초산 n-프로필, 초산 i-프로필, 초산 n-부틸, 초산 i-부틸, 포름산 n-펜틸(n-pentyl formate), 초산 i-펜틸, 프로피온산 n-부틸, 낙산에틸(ethyl butyrate), 낙산 n-프로필, 낙산 i-프로필, 낙산 n-부틸, 피르브산메틸(methyl pyruvate), 피르브산에틸, 피르브산 n-프로필, 아세토초산메틸(methyl acetoacetate), 아세트초산에틸, 2-옥소부탄산에틸 등의 다른 에스테르(ester)류; 톨루엔(toluene), 크실렌(xylene) 등의 방향족 탄화수소류; N-메 틸피롤리돈(N-methylpyrrolidone), N, N-디메틸포름아미드, N, N-디메틸아세트아미드 등의 아미드(amide)류 등을 들 수 있다. 이러한 용제는 단독 또는 2종 이상을 혼합하여 사용할 수가 있다.Here, as the solvent which can be added to the black photosensitive composition, for example, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono-n-propyl ether, ethylene glycol mono-n-butyl ether, di Ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol mono-n-propyl ether, diethylene glycol mono-n-butyl ether, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono Methyl ether, propylene glycol monoethyl ether, propylene glycol mono-n-propyl ether, propylene glycol mono-n-butyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, dipropylene glycol mono-n-propyl ether , Dipropylene glycol mono-n-butyl ether, tripropylene glycol (Poly) alkyleneglycol monoalkyl ethers such as collonomethyl ether and tripropylene glycol monoethyl ether; ethyleneglycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl (Poly) alkylene glycol monoalkyl ether acetates such as ether acetate, diethylene glycol monomethyl ether acetate, diethylene glycol monoethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate ether acetates; other ethers such as diethyleneglycol dimethyl ether, diethylene glycol methylethyl ether, diethylene glycol diethyl ether, tetrahydrofuran; methyl ethyl ketone and cyclo Hexanon, 2-heptanone, 3-heptanone, etc. Ketones; alkyl sulfate esters such as methyl 2-hydroxypropionate and ethyl 2-hydroxypropionate; 2-hydroxy-2-methylpropionate, 3- Methyl methoxypropionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl ethoxy acetate, ethyl hydroxyacetate, 2-hydroxy-3-methylbutyrate (methyl 2 -hydroxy-3-methylbutanoate), 3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutyl acetate, 3-methyl-3-methoxybutylpropionate, ethyl acetate, n-propyl acetate, i-acetic acid i- Propyl, n-butyl acetate, i-butyl acetate, n-pentyl formate, i-pentyl acetate, n-butyl propionate, ethyl butyrate, n-propyl butyrate, i-propyl, N-butyl butyrate, methyl pyruvate, ethyl pirbate, n-pyruvate Other esters such as lofil, methyl acetoacetate, ethyl acetate, ethyl 2-oxobutyrate, aromatic hydrocarbons such as toluene and xylene; N-methylpyrrolidone Amides such as (N-methylpyrrolidone), N, N-dimethylformamide, N, and N-dimethylacetamide, and the like. Such a solvent can be used individually or in mixture of 2 or more types.

  그 중에서도 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(propyleneglycol monomethyl ether acetate), 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트, 디에틸렌글리콜디메틸에테르, 디에틸렌글리콜메틸에틸에테르, 시클로헥사논, 3-메톡시부틸아세테이트는 광중합성 화합물, 광중합 개시제에 대해서 뛰어난 용해성을 나타냄과 아울러, 흑색 안료 등의 불용성 성분의 분산성을 양호하게 할 수가 있기 때문에 바람직하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 3-메톡시부틸아세테이트를 이용하는 것이 특히 바람직하다. 용제는 광중합성 화합물, 광중합 개시제 및 착색제의 합계 100질량부에 대해서 50질량부에서 500질량부의 범위로 이용할 수가 있다. Among them, propylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monomethyl ether acetate, propylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, cyclohexa Non- and 3-methoxy butyl acetate are preferable since they show the outstanding solubility with respect to a photopolymerizable compound and a photoinitiator, and can make the dispersibility of insoluble components, such as a black pigment, favorable, and are propylene glycol monomethyl ether acetate, It is especially preferable to use 3-methoxybutyl acetate. A solvent can be used in 50 mass parts-500 mass parts with respect to a total of 100 mass parts of a photopolymerizable compound, a photoinitiator, and a coloring agent.

  또, 열중합 금지제로서는 히드로퀴논(hydroquinone), 히드로퀴논모노에틸에테르(hydroquinone monoethyl ether) 등을 이용할 수가 있다. 또, 소포제로서는 실리콘계, 불소계 화합물을, 계면활성제로서는 음이온계, 양이온계, 비이온계 등의 공지의 각종 열중합 금지제를 이용할 수가 있다.Moreover, hydroquinone, hydroquinone monoethyl ether, etc. can be used as a thermal polymerization inhibitor. Moreover, a silicone type, a fluorine-type compound can be used as an antifoamer, and various well-known thermal polymerization inhibitors, such as anionic, cationic, and nonionic, can be used as surfactant.

  본 발명에 관계되는 흑색 감광성 조성물의 제조 방법으로서는 상술의 광중합성 화합물과 광중합 개시제와 착색제, 이들을 모두 교반기로 혼합함으로써 얻어진다. 또한, 얻어진 혼합물이 균일하게 되도록 필터를 이용하여 여과해도 좋다. As a manufacturing method of the black photosensitive composition which concerns on this invention, it is obtained by mixing the above-mentioned photopolymerizable compound, a photoinitiator, a coloring agent, and all these with a stirrer. Moreover, you may filter using a filter so that the obtained mixture may become uniform.

[블랙 매트릭스, 스페이서, 및 잉크젯용 격벽의 형성][Formation of black matrix, spacer, and inkjet partition wall]

우선, 본 발명에 관계되는 흑색 감광성 조성물을 기판 상에 롤 코터(roll coater), 리버스 코터(reverse coater), 바 코터(bar coater) 등의 접촉 전사형 도포 장치나 스피너(spinner)(회전식 도포 장치), 커튼 플로우 코터(curtain flow coater) 등의 비접촉형 도포 장치를 이용하여 도포한다. 기판은 광투과성을 가지는 기판이 이용된다.First, the black photosensitive composition according to the present invention is applied onto a substrate by a contact transfer type coating device such as a roll coater, reverse coater, bar coater, or spinner (rotary coating device). And a non-contact type coating device such as a curtain flow coater. As the substrate, a substrate having light transmittance is used.

  유리 기판과 흑색 감광성 조성물의 밀착성을 향상시키기 위해서, 미리 유리 기판 상에 실란 커플링제(silane coupling agent)를 도포해 두어도 좋다. 혹은 흑색 감광성 조성물의 조제시에 실란 커플링제를 첨가해 두어도 좋다. In order to improve the adhesiveness of a glass substrate and a black photosensitive composition, you may apply a silane coupling agent on a glass substrate previously. Or you may add a silane coupling agent at the time of preparation of a black photosensitive composition.

  이 흑색 감광성 조성물을 도포 후 건조시켜 용제를 제거한다. 건조 방법은 특히 한정되지 않고, 예를 들면 (1) 핫 플레이트(hot plate)에서 80℃에서 120℃, 바람직하게는 90℃에서 100℃의 온도에서 60초간에서 120초간 건조하는 방법, (2) 실온에서 수시간에서 수일 방치하는 방법, (3) 온풍 히터나 적외선 히터 중에 수십분에서 수시간 넣어 용제를 제거하는 방법의 어느 방법을 이용해도 좋다. After apply | coating this black photosensitive composition, it dries and removes a solvent. The drying method is not particularly limited, and for example, (1) a method of drying for 60 seconds to 120 seconds at a temperature of 80 ° C to 120 ° C, preferably 90 ° C to 100 ° C in a hot plate, and (2) You may use the method of leaving to stand at room temperature for several hours, and (3) the method of removing a solvent in a warm air heater or an infrared heater in tens of minutes for several hours.

다음에, 네가티브(negative)형의 마스크(mask)를 개재하여, 자외선, 엑시머 레이저(excimer laser)광 등의 활성 에너지선을 조사하여 부분적으로 노광한다. 조사하는 에너지선량은 흑색 감광성 조성물의 조성에 따라 다르지만, 예를 들면 30mJ/cm2에서 2000mJ/cm2 정도가 바람직하다.Next, through a negative mask, active energy rays, such as an ultraviolet-ray and an excimer laser light, are irradiated and partially exposed. Energy dose of irradiation is different according to the composition of the black photosensitive composition, for example, is about 2000mJ / cm 2 preferably at 30mJ / cm 2.

  다음에, 노광 후의 막을 현상액으로 현상함으로써 소망의 형상으로 패터닝(patterning)한다. 현상 방법은 특히 한정되지 않고, 예를 들면 침지법, 스프레 이(sprayer)법 등을 이용할 수가 있다. 현상액으로서는 모노에탄올아민(monoethanolamine), 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등의 유기계의 것이나, 수산화나트륨, 수산화칼륨, 탄산나트륨, 암모니아, 4급 암모늄염 등의 수용액을 들 수 있다. Next, the film after exposure is developed with a developing solution, and patterned to a desired shape. The image development method is not specifically limited, For example, an immersion method, a spray method, etc. can be used. Examples of the developer include organic solvents such as monoethanolamine, diethanolamine and triethanolamine, and aqueous solutions such as sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, ammonia and quaternary ammonium salts.

  다음에, 현상 후의 패턴을 200℃ 정도로 포스트 베이크(post bake)를 행한다. 또, 형성된 패턴을 전면 노광하는 것이 바람직하다.Next, the post-baking pattern is post-baked at about 200 ° C. Moreover, it is preferable to expose the formed pattern to the whole surface.

  이상에 의해, 소정의 형상을 가지는 블랙 매트릭스, 스페이서(spacer) 또는 잉크젯 방식 컬러 필터 형성용 격벽을 형성할 수가 있다. As described above, a partition for forming a black matrix, a spacer, or an inkjet type color filter having a predetermined shape can be formed.

[컬러 필터의 형성][Formation of color filter]

  상기의 방법에 의해 형성된 블랙 매트릭스를 가지는 컬러 필터(color filter)의 제조 공정에 대해서 설명한다.The manufacturing process of the color filter which has a black matrix formed by the said method is demonstrated.

  (1) 리소그래피(lithography) 방식(리소그래피법)에 의한 컬러 필터의 형성(1) Formation of color filter by lithography method (lithography method)

  상기 블랙 매트릭스가 형성된 기판 상에 통상 R, G, B의 3원색의 착색재를 포함하는 흑색 감광성 조성물을 이용하여, 일색마다 상기 블랙 매트릭스의 형성과 동일하게 하고 순차적으로 착색층을 형성한다. 이에 의해 컬러 필터를 형성할 수가 있다. On a substrate on which the black matrix is formed, a black photosensitive composition including colorants of three primary colors of R, G, and B is usually used to form colored layers sequentially in the same manner as the formation of the black matrix for each color. Thereby, a color filter can be formed.

  (2) 잉크젯 방식에 의한 컬러 필터의 형성(2) Formation of color filter by inkjet method

  잉크젯(ink jet) 방식에 의해 컬러 필터를 형성할 때에는 본 발명의 흑색 감광성 조성물로 형성된 잉크젯 방식 컬러 필터 형성용 격벽을 이용한다. 이 격벽은 흑색이기 때문에 블랙 매트릭스로서의 역할도 동시에 완수한다. 그리고, 이 격벽은 잉크를 모으기 위한 개구부(격벽에 둘러싸인 부위)를 가지도록 형성된다.When forming a color filter by the ink jet method, the partition for inkjet type color filter formation formed from the black photosensitive composition of this invention is used. Since the partition is black, it also serves as a black matrix. The partition wall is formed to have an opening (part enclosed by the partition wall) for collecting ink.

  구체적으로는 우선, R, G, B의 잉크를 상기 개구부에 잉크젯 방식으로 토출하여 격벽 내로 모은다. 다음에, 모아진 잉크를 열 혹은 광으로 경화시킨다. 이에 의해 컬러 필터를 형성할 수가 있다.Specifically, first, the ink of R, G, and B is discharged to the opening portion by an inkjet method and collected into the partition wall. Next, the collected ink is cured by heat or light. Thereby, a color filter can be formed.

  본 발명에 관계되는 흑색 감광성 조성물은 패턴을 형성한 때의, 패턴 표면에 있어서의 주름의 발생을 억제하는 것이 가능하다. 따라서, 양호한 블랙 매트릭스를 형성할 수가 있다. 또, 특히 스페이서(spacer)에는 액정층의 두께(셀 갭(cell gap))의 정확함이 요구된다. 본 발명의 흑색 감광성 조성물로 형성된 스페이서에 의하면, 주름의 발생이 억제되어 있고 셀 갭을 보다 정확하게 유지하는 것이 가능하게 된다. 또한, 본 발명의 흑색 감광성 조성물로 형성된 스페이서는 차광성을 가지고 있기 때문에 광의 반사를 억제할 수가 있다. 이에 의해 양호한 표시가 가능한 표시 장치를 제조할 수가 있다.The black photosensitive composition which concerns on this invention can suppress generation | occurrence | production of the wrinkle in the pattern surface at the time of forming a pattern. Thus, a good black matrix can be formed. In addition, in particular, the spacer is required to be accurate in the thickness (cell gap) of the liquid crystal layer. According to the spacer formed with the black photosensitive composition of this invention, generation | occurrence | production of a wrinkle is suppressed and it becomes possible to maintain a cell gap more correctly. Moreover, since the spacer formed from the black photosensitive composition of this invention has light shielding property, reflection of light can be suppressed. Thereby, the display apparatus which can display favorable can be manufactured.

실시예Example

  이하에 본 발명을 실시예에 근거하여 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Below, this invention is demonstrated based on an Example.

[합성예 1]Synthesis Example 1

  벤질메타크릴레이트 56질량부, 2-히드록시에틸메타크릴레이트 36질량부, 글리시딜메타크릴레이트 78질량부를 에틸렌글리콜모노메틸에테르아세테이트 250질량부에 용해시키고, 아조비스이소부티로니트릴(azobisisobutyronitrile) 2질량부를 가하고 가열 중합을 하였다.56 parts by mass of benzyl methacrylate, 36 parts by mass of 2-hydroxyethyl methacrylate, and 78 parts by mass of glycidyl methacrylate were dissolved in 250 parts by mass of ethylene glycol monomethyl ether acetate, and azobisisobutyronitrile (azobisisobutyronitrile) ) 2 parts by mass was added to carry out heat polymerization.

  그 후, 중합 금지제로서 메틸히드로퀴논 2질량부를 용해시킨 아크릴산 40질 량부를 첨가하고 반응시켰다. 다음에, 테트라히드로프탈산무수물 42질량부를 가하여 반응시키고 수지를 얻었다. 얻어진 수지의 질량 평균 분자량은 3000이었다. Then, 40 mass parts of acrylic acid which melt | dissolved 2 mass parts of methylhydroquinone as a polymerization inhibitor was added, and it reacted. Next, 42 mass parts of tetrahydrophthalic anhydrides were added and reacted, and resin was obtained. The mass average molecular weight of obtained resin was 3000.

[실시예 1∼6, 비교예 1][Examples 1 to 6 and Comparative Example 1]

  표 1의 각 성분을 혼합하고, 용제 이외의 고형분의 농도가 25질량%로 되도록 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트(propyleneglycol monomethyl ether acetate)로 조정하여 흑색 감광성 조성물을 얻었다.Each component of Table 1 was mixed, it adjusted with propylene glycol monomethyl ether acetate so that the density | concentration of solid content other than a solvent might be 25 mass%, and the black photosensitive composition was obtained.

광중합성 화합물Photopolymerizable compound 광중합 개시제Photopolymerization initiator 안료 분산액Pigment dispersion 실시예 1Example 1 수지A: 30질량부 DPHA: 10질량부Resin A: 30 parts by mass DPHA: 10 parts by mass 이르가큐어 369: 10질량부Irgacure 369: 10 parts by mass 블루 분산액: 193질량부 카본 분산액: 48질량부Blue dispersion: 193 parts by mass Carbon dispersion: 48 parts by mass 실시예 2Example 2 수지A: 30질량부 DPHA: 10질량부Resin A: 30 parts by mass DPHA: 10 parts by mass 이르가큐어 369: 10질량부Irgacure 369: 10 parts by mass 레드 분산액: 193질량부 카본 분산액: 48질량부Red dispersion: 193 parts by mass Carbon dispersion: 48 parts by mass 실시예 3Example 3 수지A: 30질량부 DPHA: 10질량부Resin A: 30 parts by mass DPHA: 10 parts by mass 이르가큐어 369: 10질량부Irgacure 369: 10 parts by mass 옐로 분산액: 193질량부 카본 분산액: 48질량부Yellow dispersion: 193 parts by mass Carbon dispersion: 48 parts by mass 실시예 4Example 4 수지A: 30질량부 DPHA: 10질량부Resin A: 30 parts by mass DPHA: 10 parts by mass 이르가큐어 369: 10질량부Irgacure 369: 10 parts by mass 블루 분산액: 100질량부 레드 분산액: 93질량부 카본 분산액: 48질량부Blue dispersion: 100 parts by mass Red dispersion: 93 parts by mass Carbon dispersion: 48 parts by mass 실시예 5Example 5 수지A: 30질량부 DPHA: 10질량부Resin A: 30 parts by mass DPHA: 10 parts by mass 이르가큐어 369: 10질량부Irgacure 369: 10 parts by mass 블루 분산액: 70질량부 레드 분산액: 70질량부 옐로 분산액: 53질량부 카본 분산액: 48질량부Blue dispersion: 70 parts by mass Red dispersion: 70 parts by mass Yellow dispersion: 53 parts by mass Carbon dispersion: 48 parts by mass 실시예 6Example 6 수지A: 30질량부 DPHA: 10질량부Resin A: 30 parts by mass DPHA: 10 parts by mass 이르가큐어 369: 10질량부Irgacure 369: 10 parts by mass 블루 분산액: 140질량부 카본 분산액: 100질량부Blue dispersion: 140 parts by mass Carbon dispersion: 100 parts by mass 비교예 1Comparative Example 1 수지A: 30질량부 DPHA: 10질량부Resin A: 30 parts by mass DPHA: 10 parts by mass 이르가큐어 369: 10질량부Irgacure 369: 10 parts by mass 카본 분산액: 208질량부Carbon dispersion: 208 parts by mass

  표 중의 각 성분명의 약칭과 정식 명칭의 대응은 이하와 같다.Correspondence of the abbreviation of each component name in a table | surface, and a formal name is as follows.

  DPHA: 디펜타에리트리톨헥사아크릴레이트DPHA: dipentaerythritol hexaacrylate

  이르가큐어 369: 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1(2-benzyl-2-dimethylamino-1-(4-morpholinophenyl)-butanone-1)(치바스페셜티케미컬사 제조)Irgacure 369: 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1 (2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1) (Ciba specialty chemical company make)

  블루 분산액: 블루 안료 분산액 CF 블루 UM(C. I. 피그먼트 블루 15:6, 20질량% 함유: 미쿠니색소 제조)Blue dispersion liquid: Blue pigment dispersion liquid CF blue UM (C: I. pigment blue 15: 6, 20 mass% containing: Mikuni dye production)

  카본 분산액:「카본 분산액 CF 블랙 EX-1455」(고저항 카본 24질량%함유: 미쿠니색소 제조)Carbon dispersion liquid: "Carbon dispersion liquid CF black EX-1455" (24 mass% of high resistance carbon content: Mikuni dye production)

  레드 분산액:「CF 레드 EX-109」(C. I. 피그먼트 레드 177, 안트라퀴논계 적색 안료 20질량% 함유)Red dispersion: "CF red EX-109" (C. I. pigment red 177, anthraquinone system red pigment 20 mass% containing)

  옐로우 분산액:「CF 옐로우 HM」(C. I. 피그먼트 옐로우 139, 모노아조계 황색 안료 20질량% 함유)Yellow dispersion: "CF yellow HM" (C.I. pigment yellow 139, 20 mass% of monoazo-based yellow pigments)

  (블랙 매트릭스의 형성)(Formation of black matrix)

  얻어진 흑색 감광성 조성물을 유리 기판상에 스핀 코터(spin coater)를 이용하여 도포하고, 90℃에서 2분간 건조시켜 흑색 감광성 조성물층을 형성하였다.The obtained black photosensitive composition was apply | coated on a glass substrate using a spin coater, and it dried at 90 degreeC for 2 minutes, and formed the black photosensitive composition layer.

  다음에, 이 흑색 감광성 조성물층에 네가티브 마스크(negative mask)를 개재하여 자외선을 선택적으로 조사하였다. 그 후, 2.38% 테트라메틸암모늄히드록시드(tetramethyl ammonium hydroxide) 수용액으로 현상하고, 220℃의 오븐 중에서 30분간 포스트 베이크(post bake)함으로써, 두께 2.5μm의 블랙 매트릭스 패턴(black matrix pattern)을 형성하였다.Next, ultraviolet rays were selectively irradiated to this black photosensitive composition layer through a negative mask. Thereafter, the solution was developed with an aqueous 2.38% tetramethyl ammonium hydroxide solution and post-baked in an oven at 220 ° C. for 30 minutes to form a black matrix pattern having a thickness of 2.5 μm. It was.

  (평가)(evaluation)

  상기 형성된 블랙 매트릭스에 대해서, 주름의 발생, OD값, 테이퍼각(taper angle)에 대해서 평가하였다. 그 결과를 표 2에 나타낸다.The formed black matrix was evaluated for the occurrence of wrinkles, the OD value, and the taper angle. The results are shown in Table 2.

주름의 발생Occurrence of wrinkles OD값OD value 테이퍼각Taper angle 실시예 1Example 1 radish 4.54.5 80°80 ° 실시예 2Example 2 radish 4.24.2 80°80 ° 실시예 3Example 3 radish 4.04.0 80°80 ° 실시예 4Example 4 radish 4.34.3 80°80 ° 실시예 5Example 5 radish 4.24.2 80°80 ° 실시예 6Example 6 radish 8 이상8 or more 70°70 ° 비교예 1Comparative Example 1 U 8 이상8 or more 20°20 °

본 발명에 의하면, 흑색 감광성 조성물에 형상 안정제를 함유시킴으로써, 열에 대한 형상 안정성이 높은 블랙 매트릭스를 형성하는 것이 가능하게 되었다. 또, 형상 안정제를 유기 안료로 함으로써, 흑색 안료의 흑색을 조정하면서 블랙 매트릭스의 형상을 안정화시키는 것이 가능하게 되었다. 또, 유기 안료를 첨가함으로써 블랙 매트릭스의 테이퍼각(taper angle)을 조정하는 것이 가능하게 되었다. 그 결과, 잉크 조성물이 들어가기 쉬운 패턴을 가진 블랙 매트릭스, 잉크젯 방식 컬러 필터용 격벽 및 액정 표시 소자용 스페이서를 제공하는 것이 가능하게 되었다.According to the present invention, by including the shape stabilizer in the black photosensitive composition, it is possible to form a black matrix having high shape stability against heat. Moreover, by making a shape stabilizer into an organic pigment, it became possible to stabilize the shape of a black matrix, adjusting the black of a black pigment. Moreover, it became possible to adjust the taper angle of a black matrix by adding an organic pigment. As a result, it became possible to provide the black matrix which has a pattern which an ink composition easily enters, the partition for inkjet type color filters, and the spacer for liquid crystal display elements.

Claims (11)

광중합성 화합물과, 광중합 개시제와, 흑색 안료를 함유하는 흑색 감광성 조성물로서,As a black photosensitive composition containing a photopolymerizable compound, a photoinitiator, and a black pigment, 상기 광중합성 화합물이 분자 내에 카르도 구조를 가지는 수지이고,The photopolymerizable compound is a resin having a cardo structure in the molecule,   형상 안정제로서 유기 안료를 함유하고, It contains an organic pigment as a shape stabilizer, 상기 유기 안료와 상기 흑색 안료의 질량비는 10:2에서 10:10이고, The mass ratio of the organic pigment and the black pigment is from 10: 2 to 10:10, 상기 유기 안료와 상기 흑색 안료의 합계량은 용제 이외의 전 고형 성분에 대해서 60질량%에서 120질량%이고,The total amount of the said organic pigment and the said black pigment is 60 mass%-120 mass% with respect to all solid components other than a solvent, 상기 흑색 감광성 조성물로부터 형성되는 패턴의 프로파일각이 50°이상인 흑색 감광성 조성물.The black photosensitive composition whose profile angle of the pattern formed from the said black photosensitive composition is 50 degrees or more. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 흑색 안료는 카본 블랙인 것을 특징으로 하는 흑색 감광성 조성물.The black pigment is a black photosensitive composition, characterized in that the carbon black. 삭제delete 삭제delete   제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 유기 안료는 C. I. 피그먼트 블루 15:6, C. I. 피그먼트 레드 177, C. I. 피그먼트 옐로우 139로부터 선택되는 적어도 1종을 포함하는 계 안료인 것을 특 징으로 하는 흑색 감광성 조성물.The organic photosensitive composition, wherein the organic pigment is a pigment based on at least one selected from C. I. Pigment Blue 15: 6, C. I. Pigment Red 177, and C. I. Pigment Yellow 139.   제1항에 있어서,The method of claim 1, 2μm 이상의 후막 형성용인 것을 특징으로 하는 흑색 감광성 조성물.A black photosensitive composition, characterized in that for forming a thick film of 2 µm or more.   제1항, 제2항, 제5항, 및 제6항 중 어느 한 항에 기재된 흑색 감광성 조성물로 형성된 블랙 매트릭스.The black matrix formed from the black photosensitive composition of any one of Claims 1, 2, 5, and 6. 제7항에 있어서, The method of claim 7, wherein 광학 밀도가 4 이상인 것을 특징으로 하는 블랙 매트릭스.An optical density is 4 or more, The black matrix characterized by the above-mentioned. 삭제delete 제1항, 제2항, 제5항, 및 제6항 중 어느 한 항에 기재된 흑색 감광성 조성물에 의해 형성된 잉크젯 방식 컬러 필터용 격벽.The partition for inkjet type color filters formed with the black photosensitive composition of any one of Claims 1, 2, 5, and 6. 제1항, 제2항, 제5항, 및 제6항 중 어느 한 항에 기재된 흑색 감광성 조성물에 의해 형성된 액정 표시 소자용 스페이서.The liquid crystal display element spacer formed with the black photosensitive composition of any one of Claims 1, 2, 5, and 6.
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180043994A (en) 2016-10-21 2018-05-02 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same
KR20180058949A (en) 2016-11-25 2018-06-04 동우 화인켐 주식회사 Black photosensitive resin composition, black matrix, column sapcer and column spacer combined with black matrix for image display device produced using the same

Families Citing this family (36)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008304710A (en) * 2007-06-07 2008-12-18 Hitachi Chem Co Ltd Photosensitive resin composition and photosensitive film
KR101082479B1 (en) * 2007-12-04 2011-11-11 주식회사 엘지화학 Alkali-soluble binder, preparing method thereof, and photoresist composition contanining the same
CN101681102B (en) * 2007-12-19 2014-04-02 东洋油墨制造株式会社 Color composition, method for producing color filter, and color filter
JP5047057B2 (en) * 2008-05-20 2012-10-10 東洋インキScホールディングス株式会社 Photosensitive coloring composition for color filter and color filter
JP5124341B2 (en) * 2008-05-20 2013-01-23 東洋インキScホールディングス株式会社 Photosensitive coloring composition for color filter and color filter
KR101328332B1 (en) * 2008-06-20 2013-11-11 코오롱인더스트리 주식회사 Photopolymerizable resin composition
KR101148548B1 (en) * 2008-09-30 2012-05-21 코오롱인더스트리 주식회사 Photopolymerizable resin composition
WO2010038978A2 (en) * 2008-09-30 2010-04-08 Kolon Industries, Inc. Photopolymer resin composition
KR101368539B1 (en) * 2009-06-26 2014-02-27 코오롱인더스트리 주식회사 Photopolymerizable resin composition
JP5385729B2 (en) * 2009-09-01 2014-01-08 昭和電工株式会社 Photosensitive resin
JP5535842B2 (en) * 2009-09-30 2014-07-02 富士フイルム株式会社 Black curable composition for wafer level lens and wafer level lens
KR101705360B1 (en) * 2010-03-15 2017-02-09 동우 화인켐 주식회사 A black photosensitive resin composition, color filter and liquid crystal display device having the same
EP2567284B1 (en) * 2010-05-03 2016-08-31 Basf Se Color filter for low temperature applications
JP6119104B2 (en) * 2012-03-27 2017-04-26 東レ株式会社 Photosensitive black resin composition, resin black matrix substrate and touch panel using the same
KR102028489B1 (en) 2013-06-25 2019-10-04 동우 화인켐 주식회사 A black photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
CN103558706A (en) * 2013-11-05 2014-02-05 京东方科技集团股份有限公司 Display substrate and preparation method thereof and display device
JP6217404B2 (en) * 2014-01-17 2017-10-25 東洋インキScホールディングス株式会社 Black composition and black coating film
JP6815717B2 (en) * 2015-03-05 2021-01-20 日鉄ケミカル&マテリアル株式会社 A black resin composition for a light-shielding film, a substrate with a light-shielding film having a light-shielding film obtained by curing the composition, and a color filter and a touch panel having the substrate with the light-shielding film.
JP6464764B2 (en) * 2015-01-16 2019-02-06 Jsr株式会社 Radiation-sensitive coloring composition, spacer, method for forming the same, and liquid crystal display device
JP2016177190A (en) * 2015-03-20 2016-10-06 三菱化学株式会社 Photosensitive coloring composition for forming colored spacer, cured product, colored spacer, and image display device
JP6278933B2 (en) * 2015-09-02 2018-02-14 株式会社タムラ製作所 Insulating film forming method, electronic substrate manufacturing method, and photosensitive resin composition
KR101755318B1 (en) * 2015-11-19 2017-07-10 롬엔드하스전자재료코리아유한회사 Method for preparing column spacer
KR20180085231A (en) 2017-01-18 2018-07-26 동우 화인켐 주식회사 Black photosensitive resin composition, black matrix, column sapcer and column spacer combined with black matrix for image display device produced using the same
KR101970325B1 (en) 2017-01-20 2019-08-13 동우 화인켐 주식회사 Black photosensitive resin composition, black matrix, column sapcer and column spacer combined with black matrix for image display device produced using the same
KR102386493B1 (en) * 2018-01-15 2022-04-14 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device using the same
KR102202344B1 (en) 2019-01-04 2021-01-13 동우 화인켐 주식회사 Black photosensitive resin composition, black matrix, column sapcer and column spacer combined with black matrix for image display device produced using the same
CN111722471B (en) 2019-03-20 2024-04-09 东友精细化工有限公司 Photosensitive resin composition, display partition wall structure and display device
KR102221151B1 (en) 2019-03-20 2021-02-26 동우 화인켐 주식회사 A photo sensitive resin composition, a display partition wall structure prepared using the composition, and a display devide comprising the same
KR102542250B1 (en) 2019-03-28 2023-06-12 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition, color filter comprising black matrix and/or column spacer produced using the same, and image display device including color filter
KR20210061933A (en) 2019-11-20 2021-05-28 동우 화인켐 주식회사 A photo sensitive resin composition, a wall structure for a color conversion pixel prepared using the composition, and a display device comprising the same
KR20210094780A (en) 2020-01-22 2021-07-30 동우 화인켐 주식회사 Black photosensitive resin composition, cured film and black matrix produced using the same
KR20210102646A (en) 2020-02-12 2021-08-20 동우 화인켐 주식회사 Black photosensitive resin composition, cured film and black matrix produced using the same
KR20210115839A (en) 2020-03-16 2021-09-27 동우 화인켐 주식회사 A photosensitive resin composition for forming partition wall, a partition wall structure prepared using the composition, and a display device comprising the partition wall structure
KR20220122372A (en) 2021-02-26 2022-09-02 동우 화인켐 주식회사 A photosensitive resin composition for forming partition wall, a partition wall structure prepared using the composition, and a display device comprising the partition wall structure
KR20220122893A (en) 2021-02-26 2022-09-05 동우 화인켐 주식회사 A photosensitive resin composition for forming partition wall, a partition wall structure prepared using the composition, and a display device comprising the partition wall structure
KR20220122892A (en) 2021-02-26 2022-09-05 동우 화인켐 주식회사 A photosensitive resin composition for forming partition wall, a partition wall structure prepared using the composition, and a display device comprising the partition wall structure

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010030594A (en) * 1998-07-14 2001-04-16 브루어 테리 엘. Photosensitive black matrix composition and process of making it
KR20020093587A (en) * 2001-06-06 2002-12-16 제이에스알 가부시끼가이샤 Radiosensitive Composition for Color Liquid Crystal Display Device
JP2004295084A (en) 2003-03-12 2004-10-21 Mitsubishi Chemicals Corp Photosensitive composition, photosensitive color composition, color filter, and liquid crystal display
KR20070094459A (en) * 2006-03-17 2007-09-20 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 Black photosensitive composition, shielding film and el device manufactured by the black photosensitive composition

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07100764B2 (en) * 1990-07-03 1995-11-01 宇部興産株式会社 Black photocurable polymer composition and method for forming black photocurable film
JP3346647B2 (en) * 1993-05-12 2002-11-18 富士写真フイルム株式会社 Light-shielding photosensitive resin composition and light-shielding image forming method
JP3856402B2 (en) * 1995-10-13 2006-12-13 東京応化工業株式会社 Photosensitive resin composition for light shielding film formation, black matrix formed with the photosensitive resin composition for light shielding film formation, and method for producing the same
JPH10114836A (en) * 1996-10-11 1998-05-06 Nippon Kayaku Co Ltd Black pigment composition, black radiation-sensitive resin composition, and black cured film
JP4302075B2 (en) * 1997-02-28 2009-07-22 三菱化学株式会社 Black resist composition for forming black matrix
JP2001154009A (en) * 1999-11-26 2001-06-08 Canon Inc Ink for color filter, color filter, method of producing the color filter, and liquid crystal element using the color filter
JP2004219809A (en) * 2003-01-16 2004-08-05 Fuji Photo Film Co Ltd Light-shielding photosensitive resin composition, light-shielding photosensitive resin transfer material, method for forming light-shielding picture and color filter
JP4595374B2 (en) * 2003-04-24 2010-12-08 住友化学株式会社 Black photosensitive resin composition
JP2005140993A (en) * 2003-11-06 2005-06-02 Sekisui Chem Co Ltd Photocurable resin composition, columnar spacer, particle spacer fixing agent and liquid crystal display element

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20010030594A (en) * 1998-07-14 2001-04-16 브루어 테리 엘. Photosensitive black matrix composition and process of making it
KR20020093587A (en) * 2001-06-06 2002-12-16 제이에스알 가부시끼가이샤 Radiosensitive Composition for Color Liquid Crystal Display Device
JP2004295084A (en) 2003-03-12 2004-10-21 Mitsubishi Chemicals Corp Photosensitive composition, photosensitive color composition, color filter, and liquid crystal display
KR20070094459A (en) * 2006-03-17 2007-09-20 도쿄 오카 고교 가부시키가이샤 Black photosensitive composition, shielding film and el device manufactured by the black photosensitive composition

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20180043994A (en) 2016-10-21 2018-05-02 동우 화인켐 주식회사 Colored photosensitive resin composition, color filter and image display device produced using the same
KR20180058949A (en) 2016-11-25 2018-06-04 동우 화인켐 주식회사 Black photosensitive resin composition, black matrix, column sapcer and column spacer combined with black matrix for image display device produced using the same

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