JP4595374B2 - Black photosensitive resin composition - Google Patents

Black photosensitive resin composition Download PDF

Info

Publication number
JP4595374B2
JP4595374B2 JP2004128096A JP2004128096A JP4595374B2 JP 4595374 B2 JP4595374 B2 JP 4595374B2 JP 2004128096 A JP2004128096 A JP 2004128096A JP 2004128096 A JP2004128096 A JP 2004128096A JP 4595374 B2 JP4595374 B2 JP 4595374B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
carbon atoms
phenyl
alkyl group
substituted
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP2004128096A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2005242279A (en
Inventor
誠治 室
雅人 井上
英之 中井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sumitomo Chemical Co Ltd
Original Assignee
Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sumitomo Chemical Co Ltd filed Critical Sumitomo Chemical Co Ltd
Priority to JP2004128096A priority Critical patent/JP4595374B2/en
Publication of JP2005242279A publication Critical patent/JP2005242279A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4595374B2 publication Critical patent/JP4595374B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Description

本発明は、黒色感光性樹脂組成物とそれを用いて形成した着色パターンに関し、詳しくはカラーフィルタを構成する着色パターン、特にはブラックマトリックスに関する。   The present invention relates to a black photosensitive resin composition and a colored pattern formed using the same, and more particularly to a colored pattern constituting a color filter, particularly a black matrix.

カラーフィルタ(6)は、例えば、液晶表示装置に組み込まれて該装置の表示画像をカラー化するために用いられたり、固体撮像素子に組み込まれてカラー画像を得るために用いられたりする光学素子であって、基板(2)上の同一平面上に互いに隣接して形成された着色パターン(5)からなるものが知られている。ここで、着色パターンは、例えば、赤色画素(5R)、緑色画素(5G)および青色画素(5B)の3原色の色画素と、各色画素の境界に形成されたブラックマトリックス(5BM)とが挙げられる。ここで、各色の色画素は各色に着色された透明な層であり、ブラックマトリックスは黒色で可視光を実質的に透過しない層である。
こうしたカラーフィルタ(6)の製造方法としては、着色感光性樹脂組成物の固形分からなる着色感光性樹脂組成物層(1)を基板(2)の上に形成し(図2(a))、前記の層(1)にフォトマスク(3)を介して光線(4)を照射したのち(図2(b))、光線未照射領域(11)を現像液に溶解させて着色パターン(5)を形成する方法が知られている(図2(c))。着色感光性樹脂組成物に含まれる顔料の色を替えながら上記操作を繰返し行い、各色の着色パターンを順次形成することによって(図3〜図4)、カラーフィルタ(6)を形成することができる。
The color filter (6) is, for example, an optical element that is incorporated into a liquid crystal display device and used to color a display image of the device, or is incorporated into a solid-state imaging device and used to obtain a color image. And what consists of a coloring pattern (5) formed adjacent to each other on the same plane on the substrate (2) is known. Here, the coloring pattern includes, for example, three primary color pixels of a red pixel (5R), a green pixel (5G), and a blue pixel (5B), and a black matrix (5BM) formed at the boundary of each color pixel. It is done. Here, each color pixel is a transparent layer colored in each color, and the black matrix is a layer that is black and does not substantially transmit visible light.
As a method for producing such a color filter (6), a colored photosensitive resin composition layer (1) comprising a solid content of the colored photosensitive resin composition is formed on a substrate (2) (FIG. 2 (a)), After irradiating the layer (1) with the light beam (4) through the photomask (3) (FIG. 2 (b)), the non-light-irradiated region (11) is dissolved in the developer to give a colored pattern (5). A method of forming is known (FIG. 2 (c)). The color filter (6) can be formed by repeating the above operation while changing the color of the pigment contained in the colored photosensitive resin composition and sequentially forming a colored pattern of each color (FIGS. 3 to 4). .

ある種のO−アシルオキシム系化合物が光重合開始剤として作用することは従来知られていた(例えば、特許文献1〜2など参照)。また、O−アシルオキシム系化合物を、光透過性の感光性樹脂組成物に適用する方法は従来知られていた(例えば、特許文献3〜4など参照)。
しかし、このような従来の方法では、着色感光性樹脂組成物層(1)の現像マージンが低下して適切な現像条件の幅が極端に狭くなる場合や、得られる着色パターンの解像度が低下する場合があった。このため、安定して着色パターンを形成するためには現像条件を非常に細かく管理しなければならず、また微細な着色パターンを形成する場合にはその歩留まりが低下しやすいという問題があった。こうした現像マージンの低下や解像度の低下は、着色パターン(5)のなかでも光を透過しないブラックマトリックス(5BM)を形成する場合に特に顕著であった。
It has been conventionally known that certain O-acyloxime compounds act as photopolymerization initiators (see, for example, Patent Documents 1 and 2). Moreover, the method of applying an O-acyl oxime type compound to the light transmissive photosensitive resin composition was conventionally known (for example, refer patent documents 3-4 etc.).
However, in such a conventional method, the development margin of the colored photosensitive resin composition layer (1) is lowered and the width of appropriate development conditions becomes extremely narrow, or the resolution of the resulting colored pattern is lowered. There was a case. For this reason, in order to form a colored pattern stably, the development conditions must be managed very finely, and when a fine colored pattern is formed, the yield tends to decrease. Such a decrease in development margin and a decrease in resolution were particularly remarkable when forming a black matrix (5BM) that does not transmit light among the colored patterns (5).

ところで、エポキシ化合物を変性してなるポリカルボン酸樹脂を黒色感光性樹脂組成物に適用する方法は従来知られていた(例えば、特許文献5など参照)。ここで、より厚みの薄いブラックマトリックスを形成するためには、着色感光性樹脂組成物に含まれる顔料の濃度を高くする必要があるが、顔料の濃度を高くすると、従来の方法では光線に対する感度が十分でなく、光線照射量を確保するためには照射時間を延長する必要があり、生産性の低下が顕著であった。   By the way, a method of applying a polycarboxylic acid resin obtained by modifying an epoxy compound to a black photosensitive resin composition has been conventionally known (see, for example, Patent Document 5). Here, in order to form a thinner black matrix, it is necessary to increase the concentration of the pigment contained in the colored photosensitive resin composition. However, if the concentration of the pigment is increased, the conventional method is sensitive to light. However, it was necessary to extend the irradiation time in order to secure the amount of light irradiation, and the decrease in productivity was remarkable.

特開2000−80068号公報 7頁右欄26行−9頁右欄48行JP, 2000-80068, page 7, right column, line 26-page 9, right column, line 48 特表2002−538241号公報 22頁15行−22頁17行JP-T 2002-538241 No. 22 page 15 line 22 page 17 line 17 特開2001−264530号公報 19頁右欄15行−21頁右欄22行JP-A-2001-264530, page 19, right column, line 15-page 21, right column, line 22 特開2001−261761号公報 8頁左欄28行−9頁右欄8行JP-A-2001-261661, page 8, left column, line 28-page 9, right column, line 8 特開2002−156753号公報 14頁右欄22行−16頁右欄40行JP, 2002-156753, A page 14 right column 22 line -16 page right column 40 line

本発明の目的は、広い現像マージンおよび高い解像度で、かつ高感度で、着色パターンを形成し得る、新たな黒色感光性樹脂組成物を提供することにある。   An object of the present invention is to provide a new black photosensitive resin composition capable of forming a colored pattern with a wide development margin, high resolution, and high sensitivity.

本発明者らは、上記の課題を解決するために、鋭意検討した結果、ある種の光重合開始剤を特定の樹脂と併用することによって、上記の課題を解決し得ることを見出した。
すなわち本発明は、黒色着色剤(A)、バインダー樹脂(B)、エチレン性不飽和結合を有し付加重合可能な化合物(C)、および少なくとも1種の光重合開始剤(D)を含有する黒色感光性樹脂組成物であって、バインダー樹脂(B)が、エポキシ基を2個以上有する化合物と多塩基カルボン酸との反応物に不飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに多塩基カルボン酸の無水物を反応させて得られるポリカルボン酸樹脂(b1)、およびエポキシ基を2個以上有する化合物に不飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに多塩基カルボン酸の無水物を反応させて得られるポリカルボン酸樹脂(b2)からなる群から選ばれる少なくとも1種のポリカルボン酸樹脂であり、かつ、光重合開始剤(D)が、オキシム系化合物を含有する黒色感光性樹脂組成物を提供する。
As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have found that the above problems can be solved by using a certain type of photopolymerization initiator in combination with a specific resin.
That is, the present invention contains a black colorant (A), a binder resin (B), an addition-polymerizable compound (C) having an ethylenically unsaturated bond, and at least one photopolymerization initiator (D). A black photosensitive resin composition, wherein the binder resin (B) reacts an unsaturated monocarboxylic acid with a reaction product of a compound having two or more epoxy groups and a polybasic carboxylic acid, A polycarboxylic acid resin (b1) obtained by reacting an anhydride and a compound obtained by reacting an unsaturated monocarboxylic acid with a compound having two or more epoxy groups and further reacting with an anhydride of a polybasic carboxylic acid. A black photosensitive resin which is at least one polycarboxylic acid resin selected from the group consisting of carboxylic acid resins (b2), and wherein the photopolymerization initiator (D) contains an oxime compound. It provides compositions.

また、本発明は、前記の黒色感光性樹脂組成物を用いて形成される着色パターン、前記の着色パターンを含むカラーフィルタ、前記のカラーフィルタを具備してなる表示装置を提供する。   The present invention also provides a color pattern formed using the black photosensitive resin composition, a color filter including the color pattern, and a display device including the color filter.

本発明の黒色感光性樹脂組成物によれば、解像度、現像マージンおよび感度よく、着色パターン、特にはブラックマトリックスを形成することができ、カラーフィルタひいては液晶表示装置の歩留まりを向上させることができる。   According to the black photosensitive resin composition of the present invention, it is possible to form a colored pattern, particularly a black matrix, with good resolution, development margin and sensitivity, and to improve the yield of the color filter and thus the liquid crystal display device.

本発明の黒色感光性樹脂組成物に含まれる黒色着色剤(A)は1種または2種以上の顔料の混合物であり、それらは無機顔料であってもよいし、有機顔料であってもよいし、それらの混合物であってもよい。前記の無機顔料としては、金属酸化物や金属錯塩のような金属化合物が挙げられ、具体的には、鉄、コバルト、アルミニウム、カドミウム、鉛、銅、チタン、マグネシウム、クロム、亜鉛、アンチモンなどの金属の酸化物または複合金属酸化物が挙げられる。また、前記の有機顔料として具体的には、カラーインデックス(Colour Index)(ザ・ソサイアティ・オブ・ダイヤーズ・アンド・カラーリスツ(The Society of Dyers and Colourists)出版)で、ピグメント(Pigment)に分類されている化合物が挙げられる。
前記の黒色着色剤(A)は、1種又は2種以上の黒色顔料の混合物であってもよく、赤色顔料、緑色顔料、青色顔料、黄色顔料、シアン色顔料、マゼンタ色顔料などの混合によって黒色を得る着色剤であっても良い。
黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、特開平5−311109号公報,特開平6−11613号公報等に記載の黒鉛、特開平4−322219号公報,特開平3−274503号公報等に記載の無機黒色顔料、特開平2−216102号公報等に記載のアゾ系ブラック色素、C.I.ピグメントブラック1、C.I.ピグメントブラック7などの有機黒色顔料などを用いることができる。
混合して用いることができる赤色顔料、緑色顔料、青色顔料、黄色顔料、シアン色顔料、マゼンタ色顔料などとしては、例えば、C.I.ピグメントイエロー1(以下、C.I.ピグメントイエローを省略して、番号のみを記載する。他の色相についても同様に記載する。)、3、12、13、14、15、16、17、20、24、31、55、60、61、65、71、73、74、81、83、93、95、97、98、100、101、104、106、108、109、110、113、114、116、117、119、120、126、127、128、129、138、139、150、151、152、153、154、155、156、166、168、175;
C.I.ピグメントオレンジ1、5、13、14、16、17、24、34、36、38、40、43、46、49、51、61、63、64、71、73;
C.I.ピグメントバイオレット1、19、23、29、32、36、38;
C.I.ピグメントレッド1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、40、41、42、48:1、48:2、48:3、48:4、49:1、49:2、50:1、52:1、53:1、57、57:1、58:2、58:4、60:1、63:1、63:2、64:1、81:1、83、88、90:1、97、101、102、104、105、106、108、112、113、114、122、123、144、146、149、150、151、166、168、170、171、172、174、175、176、177、178、179、180、185、187、188、190、193、194、202、206、207、208、209、215、216、220、224、226、242、243、245、254、255、264、265;
C.I.ピグメントブルー15、15:3、15:4、15:6、60;
C.I.ピグメントグリーン7、36;
C.I.ピグメントブラウン23、25などが挙げられる。
また、黒色顔料を用いた黒色感光性樹脂組成物は、さらに顔料として、前記で例示した赤色顔料、緑色顔料、青色顔料、黄色顔料、シアン色顔料、マゼンタ色顔料などを含有していてもよい。
本発明の黒色感光性樹脂組成物に用いられる黒色着色剤としては、好ましくは、カーボンブラックおよび被覆カーボンブラックからなる群から選ばれる少なくとも1種を含むことができる。
The black colorant (A) contained in the black photosensitive resin composition of the present invention is one or a mixture of two or more pigments, which may be inorganic pigments or organic pigments. Or a mixture thereof. Examples of the inorganic pigment include metal compounds such as metal oxides and metal complex salts, and specifically, iron, cobalt, aluminum, cadmium, lead, copper, titanium, magnesium, chromium, zinc, antimony, and the like. Examples thereof include metal oxides and composite metal oxides. The organic pigment is specifically classified as a pigment in the Color Index (published by The Society of Dyers and Colorists). Compounds.
The black colorant (A) may be a mixture of one kind or two or more kinds of black pigments. By mixing a red pigment, a green pigment, a blue pigment, a yellow pigment, a cyan pigment, a magenta pigment, and the like. A colorant for obtaining black may be used.
Examples of the black pigment include carbon black, graphite described in JP-A-5-311109, JP-A-6-11613, and the like, JP-A-4-322219, JP-A-3-274503, and the like. Inorganic black pigments, azo black dyes described in JP-A-2-216102, and the like; I. Pigment black 1, C.I. I. Organic black pigments such as CI Pigment Black 7 can be used.
Examples of red pigments, green pigments, blue pigments, yellow pigments, cyan pigments, and magenta pigments that can be used in combination include C.I. I. Pigment Yellow 1 (hereinafter, CI Pigment Yellow is omitted and only the number is described. Other hues are also described in the same manner) 3, 12, 13, 14, 15, 16, 17, 20 24, 31, 55, 60, 61, 65, 71, 73, 74, 81, 83, 93, 95, 97, 98, 100, 101, 104, 106, 108, 109, 110, 113, 114, 116 117, 119, 120, 126, 127, 128, 129, 138, 139, 150, 151, 152, 153, 154, 155, 156, 166, 168, 175;
C. I. Pigment Orange 1, 5, 13, 14, 16, 17, 24, 34, 36, 38, 40, 43, 46, 49, 51, 61, 63, 64, 71, 73;
C. I. Pigment violet 1, 19, 23, 29, 32, 36, 38;
C. I. Pigment Red 1, 2, 3, 4, 5, 6, 7, 8, 9, 10, 11, 12, 14, 15, 16, 17, 18, 19, 21, 22, 23, 30, 31, 32, 37, 38, 40, 41, 42, 48: 1, 48: 2, 48: 3, 48: 4, 49: 1, 49: 2, 50: 1, 52: 1, 53: 1, 57, 57: 1, 58: 2, 58: 4, 60: 1, 63: 1, 63: 2, 64: 1, 81: 1, 83, 88, 90: 1, 97, 101, 102, 104, 105, 106, 108, 112, 113, 114, 122, 123, 144, 146, 149, 150, 151, 166, 168, 170, 171, 172, 174, 175, 176, 177, 178, 179, 180, 185, 187, 188, 190, 193, 194, 202, 206, 2 7,208,209,215,216,220,224,226,242,243,245,254,255,264,265;
C. I. Pigment blue 15, 15: 3, 15: 4, 15: 6, 60;
C. I. Pigment green 7, 36;
C. I. And CI pigment brown 23 and 25.
Further, the black photosensitive resin composition using the black pigment may further contain, as a pigment, the red pigment, the green pigment, the blue pigment, the yellow pigment, the cyan pigment, the magenta pigment, and the like exemplified above. .
The black colorant used in the black photosensitive resin composition of the present invention can preferably contain at least one selected from the group consisting of carbon black and coated carbon black.

本発明の黒色感光性樹脂組成物に用いることができる顔料の粒径は、平均粒径で0.005μm〜0.5μmであることが好ましく、より好ましくは0.01μm〜0.3μmである。前記の粒径の顔料は、例えば、ニーダー法、硫酸法、アルカリ還元溶解法などの公知の方法により製造することができる。   The particle size of the pigment that can be used in the black photosensitive resin composition of the present invention is preferably 0.005 μm to 0.5 μm, more preferably 0.01 μm to 0.3 μm, in terms of average particle size. The pigment having the above particle diameter can be produced, for example, by a known method such as a kneader method, a sulfuric acid method, or an alkali reduction dissolution method.

顔料は、その表面がポリマーなどで改質されていてもよい。前記のポリマーとしては、例えば、特開平8−259876号公報等に記載されたポリマーや、市販の各種の顔料分散用ポリマーなどを挙げることができる。具体的にはアクリル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル樹脂、マレイン酸樹脂、エチルセルロース樹脂、ニトロセルロース樹脂などを挙げることができる。樹脂で処理された加工顔料の形態としては、樹脂と顔料が均一に分散している粉末、ペースト状、ペレット状が好ましい。   The surface of the pigment may be modified with a polymer or the like. Examples of the polymer include polymers described in JP-A-8-259876 and various commercially available pigment dispersion polymers. Specific examples include acrylic resins, vinyl chloride-vinyl acetate resins, maleic acid resins, ethyl cellulose resins, nitrocellulose resins, and the like. The form of the processed pigment treated with the resin is preferably a powder, paste, or pellet in which the resin and the pigment are uniformly dispersed.

黒色感光性樹脂組成物における顔料の含有量は、揮発成分が揮発した後の固形分に対して質量分率で、通常、20%以上70%以下、好ましくは30%以上60%以下である。   The content of the pigment in the black photosensitive resin composition is usually 20% or more and 70% or less, preferably 30% or more and 60% or less, based on the solid content after the volatile component is volatilized.

本発明の黒色感光性樹脂組成物に用いられるバインダー樹脂(B)は、黒色感光性樹脂組成物層に、その光線未照射領域が現像液に溶解する性質を付与する成分であり、また黒色感光性樹脂組成物層や形成された着色パターンにおいて顔料を分散させる分散媒として機能するものである。   The binder resin (B) used in the black photosensitive resin composition of the present invention is a component that gives the black photosensitive resin composition layer the property of dissolving the light-irradiated region in the developer. It functions as a dispersion medium for dispersing the pigment in the conductive resin composition layer and the formed colored pattern.

前記のバインダー樹脂(B)としては、2価以上のエポキシ化合物と多塩基カルボン酸との反応物に不飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに多塩基カルボン酸の無水物とを反応させて得られるポリカルボン酸樹脂(b1)および2価以上のエポキシ化合物に不飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに多塩基カルボン酸の無水物とを反応させて得られるポリカルボン酸樹脂(b2)からなる群から選ばれる少なくとも1種のポリカルボン酸樹脂が用いられる。
前記の2価以上のエポキシ化合物としては、例えば、式(VIII)および式(IX)からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物が好ましい。
The binder resin (B) can be obtained by reacting an unsaturated monocarboxylic acid with a reaction product of a divalent or higher valent epoxy compound and a polybasic carboxylic acid, and further reacting with an anhydride of the polybasic carboxylic acid. From the group consisting of polycarboxylic acid resin (b2) obtained by reacting polycarboxylic acid resin (b1) and divalent or higher epoxy compound with unsaturated monocarboxylic acid and further reacting with anhydride of polybasic carboxylic acid At least one polycarboxylic acid resin selected is used.
As the divalent or higher epoxy compound, for example, at least one compound selected from the group consisting of formula (VIII) and formula (IX) is preferable.

Figure 0004595374
Figure 0004595374

〔式(VIII)中、pは、平均繰返し単位数を表し、1以上20以下の整数を表す。
16〜R19は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル、炭素数5〜12のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアリール基または炭素数7〜20のアラルキル基を表す。
1〜Q11は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルケニル基、炭素数1〜8のアルキニル基、炭素数5〜12のシクロアルキル、炭素数6〜14のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数1〜8のアルケニルオキシ基、炭素数1〜8のアルキニルオキシ基、炭素数6〜14アリールオキシ基、ニトロ基またはシアノ基を表す。〕、
[In Formula (VIII), p represents the average number of repeating units and represents an integer of 1 or more and 20 or less.
R 16 to R 19 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 12 carbon atoms, or an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms. To express.
Q 1 to Q 11 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkyl group having 5 to 12 carbon atoms. Cycloalkyl, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyloxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkynyloxy group having 1 to 8 carbon atoms, A C6-C14 aryloxy group, a nitro group, or a cyano group is represented. ],

Figure 0004595374
Figure 0004595374

〔式(IX)中、Q12〜Q15は、それぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜6のアルキル基を表す。
Yは、単結合または式(IX−1)〜式(IX−8)のいずれかで表される2価の残基を表す。
20は、炭素数1〜10のアルキレン基を表す。
qは、0〜5の整数を表す。〕
[In Formula (IX), Q 12 to Q 15 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
Y represents a single bond or a divalent residue represented by any one of formulas (IX-1) to (IX-8).
R 20 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.
q represents an integer of 0 to 5. ]

Figure 0004595374
Figure 0004595374

前記の多塩基カルボン酸は、飽和カルボン酸であっても不飽和カルボン酸であってもよく、例えば、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、シトラコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、4,4’−ジフタル酸をはじめとするビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸などが挙げられる。
前記の多塩基カルボン酸は、対応する酸無水物、例えば、無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水シトラコン酸、無水フタル酸などであっても良い。
前記の多塩基酸またはその酸無水物はそれぞれ単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。
前記の不飽和モノカルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−クロルアクリル酸、けい皮酸などが挙げられる。前記の不飽和モノカルボン酸は、それぞれ単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。
バインダー樹脂(B)として使用し得るポリカルボン酸樹脂としては、例えば、式(X)で表される化合物と多塩基酸またはその無水物との縮重合物(特開平4−355450号公報、特開平9−40745号公報、特開平09−325494号公報、特開2000−281738公報など参照。)や、式(X)の前駆体であるエポキシ化合物と多塩基カルボン酸、および/またはモノカルボン酸との反応生成物と多塩基酸またはその無水物との縮重合物として得られるポリカルボン酸樹脂、式(XI)で示されるエポキシ化合物と多価カルボン酸とを反応させて得られる反応物と、不飽和基含有モノカルボン酸とを反応させて新たな反応物を得て、更に酸無水物とを反応させて得られるポリカルボン酸樹脂、式(XII)で示されるエポキシ化合物とカルボン酸との反応物に、更に多塩基カルボン酸またはその無水物を反応させて得られるポリカルボン酸樹脂などが挙げられる。
The polybasic carboxylic acid may be a saturated carboxylic acid or an unsaturated carboxylic acid. For example, maleic acid, succinic acid, itaconic acid, citraconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid , Methyl endomethylenetetrahydrophthalic acid, chlorendic acid, methyltetrahydrophthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid, benzophenone tetracarboxylic acid, 4,4'-diphthalic acid and other biphenyl tetracarboxylic acids, biphenyl ether tetracarboxylic acid Etc.
The polybasic carboxylic acid may be a corresponding acid anhydride such as maleic anhydride, itaconic anhydride, citraconic anhydride, phthalic anhydride, and the like.
The above polybasic acids or acid anhydrides thereof can be used alone or in admixture of two or more.
Examples of the unsaturated monocarboxylic acid include acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid, α-chloroacrylic acid, and cinnamic acid. The unsaturated monocarboxylic acids can be used alone or in admixture of two or more.
Examples of the polycarboxylic acid resin that can be used as the binder resin (B) include, for example, a polycondensation product of a compound represented by the formula (X) and a polybasic acid or an anhydride thereof (JP-A-4-355450, No. 9-40745, JP-A 09-325494, JP-A 2000-281738, etc.), an epoxy compound and a polybasic carboxylic acid and / or a monocarboxylic acid which is a precursor of the formula (X) A polycarboxylic acid resin obtained as a polycondensation product of a reaction product with a polybasic acid or an anhydride thereof, a reaction product obtained by reacting an epoxy compound represented by formula (XI) with a polyvalent carboxylic acid; A polycarboxylic acid resin obtained by reacting with an unsaturated group-containing monocarboxylic acid to obtain a new reactant and further reacting with an acid anhydride, an epoxy having the formula (XII) The reaction of the compound and a carboxylic acid, and the like polycarboxylic acid resin obtained by reacting a polybasic carboxylic acid or its anhydride.

Figure 0004595374
Figure 0004595374

〔式中、R21およびR22は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜6のアルキル基を表す。
23は置換基を有していてもよい炭素数1〜10のアルキレン基を表す。
24は水素原子またはメチル基を表す。
1は式(X−1)〜(X−6)のいずれかで示される2価の残基を表す。
1は0〜5の整数を表す。
2は1〜10の整数を表す。〕
[Wherein, R 21 and R 22 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
R 23 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent.
R 24 represents a hydrogen atom or a methyl group.
Y 1 represents a divalent residue represented by any one of formulas (X-1) to (X-6).
q 1 represents an integer of 0 to 5.
q 2 is an integer from 1 to 10. ]

Figure 0004595374
Figure 0004595374

Figure 0004595374
Figure 0004595374

〔式中、R25およびR26は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数1〜6のアルキル基を表す。
2は、単結合または式(XI−1)〜式(XI−8)のいずれかで示される2価の残基を表す。
[Wherein, R 25 and R 26 each independently represents a hydrogen atom, a halogen atom, or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms.
Y 2 represents a single bond or a divalent residue represented by any one of formulas (XI-1) to (XI-8).

Figure 0004595374
Figure 0004595374

27は、炭素数1〜10のアルキレン基を表す。
28は、水素原子、アルキル基またはグリシジル基を表す。
3は、0〜5の整数を表す。
4は、0〜10の整数を表す。ただし、q4が2〜10の整数を表す場合、異なる繰り返し単位中のR25〜R28は、それぞれ同一でも異なってもよい。〕
R 27 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms.
R 28 represents a hydrogen atom, an alkyl group or a glycidyl group.
q 3 is an integer of 0-5.
q 4 is an integer of 0. However, if the q 4 is an integer of 2 to 10, repeating units in R 25 to R 28 which is different from, may be the same or different. ]

Figure 0004595374
Figure 0004595374

〔式中、p’は、平均繰返し単位数を表し、1以上20以下の数値をとる。
R'16〜R'19はメチル基を表す。
P'1〜P'4、P'9〜P'11は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基または炭素数6〜12のシクロアルキル基を表す。〕
多塩基酸としては、例えば、マレイン酸、コハク酸、イタコン酸、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、メチルエンドメチレンテトラヒドロフタル酸、クロレンド酸、メチルテトラヒドロフタル酸、トリメリット酸、ピロメリット酸、ベンゾフェノンテトラカルボン酸、4,4’−ジフタル酸をはじめとするビフェニルテトラカルボン酸、ビフェニルエーテルテトラカルボン酸などが挙げられる。多塩基無水物としては、前記の多塩基酸の酸無水物などが挙げられる。前記の多塩基酸またはその酸無水物はそれぞれ単独でまたは2種以上を混合して用いることができる。
エポキシ化合物とカルボン酸との反応、エポキシ化合物とカルボン酸との反応物に、更に多塩基カルボン酸またはその無水物を反応させる反応は、例えば、特開平9−80220号公報、特開平8−278630号公報、特開平8−278629号公報、特開平7−64282号公報、特開平7−64281号公報、特開平5−339356号公報などに記載の公知の方法で行われる。反応は、反応の対象となる化合物を混合することによって行われる。反応は、通常20〜250℃で行われ、必要に応じて溶媒を用いてもよい。得られたポリカルボン酸樹脂は、反応混合物のまま用いてもよいし、濃縮、溶媒留去、再沈殿、晶析など、通常行われる取り出し操作を経て用いてもよい。
[Wherein, p ′ represents the average number of repeating units and takes a numerical value of 1 or more and 20 or less.
R ′ 16 to R ′ 19 represent a methyl group.
P ′ 1 to P ′ 4 and P ′ 9 to P ′ 11 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or a cycloalkyl group having 6 to 12 carbon atoms. ]
Examples of polybasic acids include maleic acid, succinic acid, itaconic acid, phthalic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, methylendomethylenetetrahydrophthalic acid, chlorendic acid, methyltetrahydrophthalic acid, trimellitic acid, pyromellitic acid Examples include acids, benzophenone tetracarboxylic acid, biphenyl tetracarboxylic acid such as 4,4′-diphthalic acid, and biphenyl ether tetracarboxylic acid. Examples of the polybasic anhydride include acid anhydrides of the above polybasic acids. The above polybasic acids or acid anhydrides thereof can be used alone or in admixture of two or more.
Reactions between an epoxy compound and a carboxylic acid, and a reaction in which a reaction product of an epoxy compound and a carboxylic acid is further reacted with a polybasic carboxylic acid or an anhydride thereof include, for example, JP-A-9-80220 and JP-A-8-278630. For example, JP-A-8-278629, JP-A-7-64282, JP-A-7-64281, and JP-A-5-339356. The reaction is performed by mixing the compounds to be reacted. Reaction is normally performed at 20-250 degreeC, and you may use a solvent as needed. The obtained polycarboxylic acid resin may be used as it is in the reaction mixture, or may be used after a commonly performed extraction operation such as concentration, solvent distillation, reprecipitation, crystallization, and the like.

多塩基酸または多塩基酸無水物の使用量は、式(VIII)〜式(XII)で示される化合物等の反応させる対象の化合物と多塩基酸またはその多塩基酸無水物の合計量に対して、モル比で、5%以上95%以下であることが好ましく、さらには10%以上90%以下であることがより好ましい。
前記の反応により得られる縮重合物の酸価は、70〜170であることが好ましく、さらには80〜140であることがより好ましい。
前記の宿重合物の分子量は通常、ポリスチレン換算重量平均分子量で、1,000以上50,000以下であることが好ましく、1,500以上20,000以下であることがより好ましい。
The amount of the polybasic acid or polybasic acid anhydride used is the total amount of the compound to be reacted such as the compounds represented by formulas (VIII) to (XII) and the polybasic acid or polybasic acid anhydride The molar ratio is preferably 5% or more and 95% or less, and more preferably 10% or more and 90% or less.
The acid value of the condensation polymer obtained by the above reaction is preferably 70 to 170, and more preferably 80 to 140.
The molecular weight of the above-mentioned polymer is usually 1,000 or more and 50,000 or less, more preferably 1,500 or more and 20,000 or less in terms of polystyrene-equivalent weight average molecular weight.

前記のバインダー樹脂は、黒色感光性樹脂組成物の固形分に対して、質量分率で、通常5%以上90%以下、好ましくは10%以上60%以下、より好ましくは20%以上45%以下の範囲で用いられる。   The binder resin is generally 5% or more and 90% or less, preferably 10% or more and 60% or less, more preferably 20% or more and 45% or less, in mass fraction with respect to the solid content of the black photosensitive resin composition. It is used in the range.

本発明の黒色感光性樹脂組成物に用いられるエチレン性不飽和結合を有し付加重合可能な化合物(C)としては、例えば、末端にエチレン性不飽和結合を少なくとも1個、好ましくは2個以上有する化合物から選ばれ、モノマーであってもよいし、2量体、3量体およびオリゴマーなどのプレポリマーであってもよいし、それらの混合物やそれらの共重合体などであってもよい。
前記のモノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸などの不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステル、不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミドなどがあげられる。
前記の不飽和カルボン酸と脂肪族多価アルコール化合物とのエステルとしては、例えば、エチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、1,3−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリ(アクリロイルオキシプロピル)エ一テル、トリメチロールエタントリアクリレート、へキサンジオールジアクリレート、1,4−シクロヘキサンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテトラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソルビトールヘキサアクリレート、トリ(アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、ポリエステルアクリレートオリゴマーなどのアクリル酸エステル;
テトラメチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、1,3−ブタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタエリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリトールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジメタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタクリレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビトールテトラメタクリレート、ビス〔p−(3−メタクリルオキシ−2−ヒドロキシプロポキシ)フェニル〕ジメチルメタン、ビス〔p−(メタクリルオキシエトキシ)フェニル〕ジメチルメタンなどのメタクリル酸エステル;
エチレングリコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタコネート、1,3−ブタンジオールジイタコネート、1,4ーブタンジオールジイタコネート、テトラメチレングリコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタコネート、ソルビトールテトライタコネートなどのイタコン酸エステル;
エチレングリコールジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロトネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビトールテトラジクロトネートなどのクロトン酸エステル;
エチレングリコールジイソクロトネート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソルビトールテトライソクロトネートなどのイソクロトン酸エステル;
エチレングリコールジマレート、トリエチレングリコールジマレート、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテトラマレートなどのマレイン酸エステルなどが挙げられる。
前記の不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合物とのアミドとしては、例えば、メチレンビス−アクリルアミド、メチレンビス−メタクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−アクリルアミド、1,6−ヘキサメチレンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリスアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キシリレンビスメタクリルアミドなどが挙げられる。
モノマーの他の例としては、例えば、1分子に2個以上のイソシアネート基を有するポリイソシアネート化合物に式(XIII)で示されるビニルモノマーを付加させて得られるビニルウレタン化合物などが挙げられる。
As the compound (C) having an ethylenically unsaturated bond and capable of addition polymerization used in the black photosensitive resin composition of the present invention, for example, at least one ethylenically unsaturated bond at the end, preferably 2 or more It may be a monomer, a prepolymer such as a dimer, trimer or oligomer, a mixture thereof or a copolymer thereof.
Examples of the monomer include an ester of an unsaturated carboxylic acid such as acrylic acid, methacrylic acid, itaconic acid, crotonic acid, isocrotonic acid, and maleic acid and an aliphatic polyhydric alcohol compound, and an unsaturated carboxylic acid and an aliphatic polyhydric compound. And amides with a polyvalent amine compound.
Examples of the ester of the unsaturated carboxylic acid and the aliphatic polyhydric alcohol compound include ethylene glycol diacrylate, triethylene glycol diacrylate, 1,3-butanediol diacrylate, tetramethylene glycol diacrylate, and propylene glycol diester. Acrylate, neopentyl glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, trimethylolpropane tri (acryloyloxypropyl) ether, trimethylolethane triacrylate, hexanediol diacrylate, 1,4-cyclohexanediol diacrylate, tetraethylene Glycol diacrylate, pentaerythritol diacrylate, pentaerythritol triacrylate, pentaerythritol tetra Acrylate, dipentaerythritol diacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, sorbitol triacrylate, sorbitol tetraacrylate, sorbitol pentaacrylate, acrylic acid esters, such as sorbitol hexaacrylate, tri (acryloyloxyethyl) isocyanurate, polyester acrylate oligomer;
Tetramethylene glycol dimethacrylate, triethylene glycol dimethacrylate, neopentyl glycol dimethacrylate, trimethylolpropane trimethacrylate, trimethylolethane trimethacrylate, ethylene glycol dimethacrylate, 1,3-butanediol dimethacrylate, hexanediol dimethacrylate, penta Erythritol dimethacrylate, pentaerythritol trimethacrylate, pentaerythritol tetramethacrylate, dipentaerythritol dimethacrylate, dipentaerythritol hexamethacrylate, sorbitol trimethacrylate, sorbitol tetramethacrylate, bis [p- (3-methacryloxy-2-hydroxypropoxy) phenyl Dimethyl meta , Methacrylic acid esters, such as bis [p- (methacryloxyethoxy) phenyl] dimethyl methane;
Ethylene glycol diitaconate, propylene glycol diitaconate, 1,3-butanediol diitaconate, 1,4-butanediol diitaconate, tetramethylene glycol diitaconate, pentaerythritol diitaconate, sorbitol tetrataconate, etc. Itaconic acid ester;
Crotonic acid esters such as ethylene glycol dicrotonate, tetramethylene glycol dicrotonate, pentaerythritol dicrotonate, sorbitol tetradicrotonate;
Isocrotonic acid esters such as ethylene glycol diisocrotonate, pentaerythritol diisocrotonate, sorbitol tetraisocrotonate;
Mention may be made of maleic esters such as ethylene glycol dimaleate, triethylene glycol dimaleate, pentaerythritol dimaleate and sorbitol tetramaleate.
Examples of the amide of the unsaturated carboxylic acid and the aliphatic polyvalent amine compound include methylene bis-acrylamide, methylene bis-methacrylamide, 1,6-hexamethylene bis-acrylamide, and 1,6-hexamethylene bis-methacrylamide. , Diethylenetriamine trisacrylamide, xylylene bisacrylamide, xylylene bismethacrylamide and the like.
Other examples of the monomer include a vinylurethane compound obtained by adding a vinyl monomer represented by the formula (XIII) to a polyisocyanate compound having two or more isocyanate groups in one molecule.

Figure 0004595374
Figure 0004595374

〔式中、R29およびR30は、それぞれ独立に、水素原子またはメチル基を表す。〕 [Wherein, R 29 and R 30 each independently represents a hydrogen atom or a methyl group. ]

前記のビニルウレタン化合物としては、1分子中に2個以上の重合性ビニル基を含有する化合物が例示される(例えば、特公昭48−41708号公報など。)。また、特開昭51−37193号に記載されているようなウレタンアクリレート類、特開昭48−64183号、特公昭49−43191号、特公昭52−30490号などの各公報に記載されているようなポリエステルアクリレート類等の多官能のアクリレートやメタクリレートも例示される。さらに、日本接着協会誌Vol.20、No.7、300〜308ページ(1984年)に光硬化性モノマーおよびオリゴマーとして紹介されているものも使用することができる。   Examples of the vinyl urethane compound include compounds containing two or more polymerizable vinyl groups in one molecule (for example, Japanese Patent Publication No. 48-41708). Further, urethane acrylates such as those described in JP-A-51-37193, JP-A-48-64183, JP-B-49-43191, JP-B-52-30490, etc. Polyfunctional acrylates and methacrylates such as polyester acrylates are also exemplified. Furthermore, the Japan Adhesion Association Vol. 20, No. 7, pages 300 to 308 (1984), which are introduced as photocurable monomers and oligomers, can also be used.

前記のエチレン性不飽和結合を有し付加重合可能な化合物の使用量は、組成物の固形分に対して、質量分率で通常0.5%以上50%以下、好ましくは1%以上40%以下、より好ましくは5%以上20%以下である。   The use amount of the compound having an ethylenically unsaturated bond and capable of addition polymerization is usually 0.5% to 50%, preferably 1% to 40% by mass fraction with respect to the solid content of the composition. Hereinafter, it is more preferably 5% or more and 20% or less.

本発明の黒色感光性樹脂組成物は、光重合開始剤(D)として、オキシム系化合物を含む。前記のオキシム系化合物としては、式(I)〜(IV)からなる群から選ばれる少なくとも1種の光重合開始剤が好ましい。   The black photosensitive resin composition of this invention contains an oxime type compound as a photoinitiator (D). The oxime compound is preferably at least one photopolymerization initiator selected from the group consisting of formulas (I) to (IV).

Figure 0004595374
Figure 0004595374

〔式(I)〜(IV)中、R〜R15はそれぞれ下記の意味を表す。
1は、フェニル基[該フェニル基は、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基、−OR8、−SR9および−NR1011からなる群から選ばれる少なくとも1個の基により置換されていてもよい。]、メチル基、炭素数2〜20のアルキル基[該アルキル基は、−O−の1個以上により中断、および/またはヒドロキシ基の1個以上により置換されていてもよい。]、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数2〜20のアルカノイル基、ベンゾイル基[該ベンゾイル基は、炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基、−OR8、−SR9および−NR1011からなる群から選ばれる少なくとも1個により置換されていてもよい。]、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基[該アルコキシカルボニル基は、−O−の1個以上により中断、および/またはヒドロキシ基の1個以上により置換されていてもよい。]、フェノキシカルボニル基[該フェノキシカルボニル基は、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、−OR8、−SR9および−NR1011からなる群から選ばれる少なくとも1個により置換されていてもよい。]、−CONR1011基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜4のハロゲン化アルキル基[該ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。]、−SO−Z[式中、Zは炭素数1〜6のアルキル基を表す。]、−SO2−Z[式中、Zは前記と同じ意味を表す。]、−Z2−SO−Z3[式中、Z2は炭素数1〜12のアルキレン基を表す。Z3は炭素数6〜12のアリール基を表す。]、−Z−SO2−Z3[式中、Zは炭素数1〜12のアルキレン基を表す。Z3は前記と同じ意味を表す。]、−SO2O−Z[式中、Zは炭素数6〜10のアリール基を表す。]、またはジフェニル−ホスフィノイル基を表す。
[In formulas (I) to (IV), R 1 to R 15 each have the following meaning.
R 1 represents a phenyl group [the phenyl group is at least one selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, —OR 8 , —SR 9 and —NR 10 R 11 . It may be substituted by a group. ], A methyl group, an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms [the alkyl group may be interrupted by one or more of -O-, and / or substituted by one or more of hydroxy groups. ], A cycloalkyl group having 5-8 carbon atoms, alkanoyl group having 2 to 20 carbon atoms, a benzoyl group [wherein the benzoyl group is an alkyl group, a phenyl group having 1 to 6 carbon atoms, -OR 8, -SR 9 and - It may be substituted with at least one selected from the group consisting of NR 10 R 11 . ], An alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms [the alkoxycarbonyl group may be interrupted by one or more of —O— and / or substituted by one or more of hydroxy groups. ], A phenoxycarbonyl group [the phenoxycarbonyl group is composed of at least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, a phenyl group, —OR 8 , —SR 9 and —NR 10 R 11. May be substituted. ], - CONR 10 R 11 group, a cyano group, a nitro group, halogenated alkyl group [the halogen atom of from 1 to 4 carbon atoms, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. ], - SO-Z 1 [wherein, Z 1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ], - SO 2 -Z 1 [wherein, Z 1 are as defined above. ], - Z 2 -SO-Z 3 [ wherein, Z 2 represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms. Z 3 represents an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. ], - Z 4 -SO 2 -Z 3 [ wherein, Z 4 represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms. Z 3 represents the same meaning as described above. ], - in SO 2 O-Z 5 [wherein, Z 5 represents an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. Or a diphenyl-phosphinoyl group.

2は、炭素数2〜12のアルカノイル基[該アルカノイル基は、ハロゲン原子またはシアノ基の1個以上により置換されていてもよい。]、炭素数4〜6のアルケノイル基[ただし、アルケノイル基の二重結合はカルボニル基と共役しない。]、ベンゾイル基[該ベンゾイル基は、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、−OR8、−SR9および−NR1011からなる群から選ばれる少なくとも1個により置換されていてもよい。]、炭素数2〜6のアルコキシカルボニル基またはフェノキシカルボニル基[該フェノキシカルボニル基は、炭素数1〜6のアルキル基またはハロゲン原子により置換されていてもよい。]を表す。 R 2 represents an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms [the alkanoyl group may be substituted with one or more halogen atoms or cyano groups. ], An alkenoyl group having 4 to 6 carbon atoms [wherein the double bond of the alkenoyl group is not conjugated with the carbonyl group. A benzoyl group [the benzoyl group is substituted by at least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group, —OR 8 , —SR 9 and —NR 10 R 11. It may be. ], A C2-C6 alkoxycarbonyl group or a phenoxycarbonyl group [this phenoxycarbonyl group may be substituted by a C1-C6 alkyl group or a halogen atom. ].

3〜R7は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基[該フェニル基は、−OR8、−SR9および−NR1011からなる群から選ばれる少なくとも1個の基により置換されていてもよい。]、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数2〜12のアルカノイル基、炭素数2−12のアルコキシカルボニル基[該アルコキシカルボニル基は、そのアルキル鎖が−O−の1個以上により中断、および/またはヒドロキシル基の1個以上により置換されていてもよい。]、フェノキシカルボニル基、−OR8、−SR9、−SOR9、−SO29または−NR1011[ここで、−OR8、−SR9および−NR1011は、R3〜R7として存在するフェニル環の前記の置換基またはフェニル環の炭素原子の一つと、R8〜R11の1個の水素原子を除いた基を介して5員環または6員環を形成してもよい。ただし、環を形成する場合、R8〜R11は、水素原子ではない。]を表す。ただし、R3〜R7の少なくとも一つは、−OR8、−SR9および−NR1011からなる群から選ばれる。 R 3 to R 7 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, or a phenyl group [the phenyl group is selected from the group consisting of —OR 8 , —SR 9 and —NR 10 R 11. Optionally substituted with at least one group. ], A benzyl group, a benzoyl group, an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms [wherein the alkoxycarbonyl group is interrupted by one or more of -O-, and / or It may be substituted by one or more of the hydroxyl groups. ], Phenoxycarbonyl group, —OR 8 , —SR 9 , —SOR 9 , —SO 2 R 9 or —NR 10 R 11 [wherein —OR 8 , —SR 9 and —NR 10 R 11 represent R 3 formation and one of the carbon atoms of the substituent or the phenyl ring of the phenyl rings present, a 5- or 6-membered ring via a single group formed by removing a hydrogen atom of R 8 to R 11 as to R 7 May be. However, when forming a ring, R < 8 > -R < 11 > is not a hydrogen atom. ]. However, at least one of R 3 to R 7 is selected from the group consisting of —OR 8 , —SR 9 and —NR 10 R 11 .

8は、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基[該アルキル基は、−OH、−SH、シアノ基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数3〜6のアルケンオキシ基、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2(CO)O−T1(式中、T1は炭素数1〜4のアルキル基を表す。)、−O(CO)−Z(式中、Zは炭素数1〜4のアルキル基を表す。)、−O(CO)−Ph(式中、Phはフェニル基を表す。)、−(CO)OHまたは−(CO)O−T2(式中、T2は炭素数1〜4のアルキル基を表す。)で置換されていてもよい。また、該アルキル基は、−O−の1個以上により中断されていてもよい。]、−(CH2CH2O)−H[式中、nは、1〜20の整数を表す。]、炭素数2〜8のアルカノイル基、炭素数3〜12のアルケニル基、炭素数3〜6のアルケノイル基、シクロヘキシル基、フェニル基[該フェニル基は、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキル基または炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよい。]、−Ph−T3[式中、Phはフェニル基を表す。T3は炭素数1〜3のアルキル基を表す。]、−SiT4 rPh3-r[式中、T4は炭素数1〜8のアルキル基を表す。Phはフェニル基を表す。rは、1〜3の整数を表す。]または式(V)を表す。 R 8 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms [the alkyl group is —OH, —SH, a cyano group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkeneoxy group having 3 to 6 carbon atoms, — OCH 2 CH 2 CN, -OCH 2 CH 2 (CO) O-T 1 ( where T 1 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.), - O (CO) -Z 6 ( wherein, Z 6 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.), —O (CO) —Ph (wherein Ph represents a phenyl group), — (CO) OH or — (CO) OT 2 (Wherein T 2 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms). The alkyl group may be interrupted by one or more of -O-. ], — (CH 2 CH 2 O) n —H [wherein n represents an integer of 1 to 20. ], An alkanoyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenoyl group having 3 to 6 carbon atoms, a cyclohexyl group, a phenyl group [the phenyl group is a halogen atom, an alkyl having 1 to 12 carbon atoms] Group or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms may be substituted. ], - Ph-T 3 [wherein, Ph represents a phenyl group. T 3 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. ], - SiT 4 r Ph 3 -r [ wherein, T 4 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Ph represents a phenyl group. r represents an integer of 1 to 3. ] Or the formula (V).

Figure 0004595374
Figure 0004595374

式(V)中、R1およびR2は前記と同じ意味を表す。
1は、直接結合、炭素数1〜12のアルキレンオキシ基[該アルキレンオキシ基は、1〜5個の−O−、−S−および/または−NR10−により中断されていてもよい。]または炭素数1〜12のオキシアルキレン基[該オキシアルキレン基は、1〜5個の−O−、−S−および/または−NR10−により中断されていてもよい。]を表す。
In formula (V), R 1 and R 2 represent the same meaning as described above.
M 1 is a direct bond, an alkyleneoxy group having 1 to 12 carbon atoms [the alkyleneoxy group may be interrupted by 1 to 5 —O—, —S— and / or —NR 10 —. Or an oxyalkylene group having 1 to 12 carbon atoms [the oxyalkylene group may be interrupted by 1 to 5 —O—, —S— and / or —NR 10 —. ].

9は、水素原子、メチル基、炭素数2〜12のアルキル基[該アルキル基は、−OH、−SH、シアノ基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数3〜6のアルケンオキシ基、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2(CO)O−T5(式中、T5は炭素数1〜4のアルキル基を表す。)、−O(CO)−T6(式中、T6は炭素数1〜4のアルキル基を表す。)、−O(CO)−Ph(式中、Phはフェニル基を表す。)、−(CO)OHまたは−(CO)O−T7(式中、T7は炭素数1〜4のアルキル基を表す。)で置換されていてもよい。また、該アルキル基は、−O−または−S−の1個以上により中断されていてもよい。]、炭素数3〜12のアルケニル基、シクロヘキシル基、フェニル基[該フェニル基は、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキル基または炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよい。]または式(VI)を表す。 R 9 is a hydrogen atom, a methyl group, an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms [the alkyl group is —OH, —SH, a cyano group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkeneoxy having 3 to 6 carbon atoms; groups, -OCH 2 CH 2 CN, -OCH 2 CH 2 (CO) O-T 5 ( wherein, T 5 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.), - O (CO) -T 6 ( In the formula, T 6 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.), —O (CO) —Ph (wherein Ph represents a phenyl group), — (CO) OH or — (CO) O -T 7 (wherein T 7 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) may be substituted. The alkyl group may be interrupted by one or more of -O- or -S-. ], A C3-C12 alkenyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group [this phenyl group may be substituted with a halogen atom, a C1-C12 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group. ] Or formula (VI).

Figure 0004595374
Figure 0004595374

式(VI)中、R1およびR2は前記と同じ意味を表す。
2は、直接結合または−T14−S−[式中、T14は、炭素数1〜12のアルキレン基(該アルキレン基は、1〜5個の−O−、−S−、および/または−NR10−により中断されていてもよい。)を表す。]を表す。
In formula (VI), R 1 and R 2 represent the same meaning as described above.
M 2 represents a direct bond or —T 14 —S— [wherein T 14 represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms (the alkylene group includes 1 to 5 —O—, —S—, and / or Or may be interrupted by -NR 10- ). ].

10およびR11は、互いに独立して、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基、−T9−O−T10[式中、T9は炭素数1〜6のアルキレン基を表す。T10は炭素数1〜6のアルキル基を表す。]、炭素数3〜5のアルケニル基、炭素数5〜12のシクロアルキル基、フェニル基[該フェニル基は、炭素数1〜12のアルキル基または炭素数1〜4のアルコキシ基により置換されていてもよい。]、炭素数2〜3のアルカノイル基、炭素数3〜6のアルケノイル基またはベンゾイル基を表す。
また、R10およびR11が同一の窒素原子に結合する場合、一緒になって、炭素数2〜6のアルキレン基[該アルキレン基は、−O−または−NR8−により中断、および/またはヒドロキシル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数2〜4のアルカノイルオキシ基またはベンゾイルオキシ基で置換されていてもよい。]を表す。
10が水素原子であるとき、R11は、式(VII)であってもよい。
R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms, -T 9 -O-T 10 [wherein T 9 is carbon The alkylene group of number 1-6 is represented. T 10 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ], An alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a phenyl group [the phenyl group is substituted by an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. May be. ], An alkanoyl group having 2 to 3 carbon atoms, an alkenoyl group having 3 to 6 carbon atoms or a benzoyl group.
When R 10 and R 11 are bonded to the same nitrogen atom, they are taken together to form an alkylene group having 2 to 6 carbon atoms [the alkylene group is interrupted by —O— or —NR 8 —, and / or It may be substituted with a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkanoyloxy group having 2 to 4 carbon atoms, or a benzoyloxy group. ].
When R 10 is a hydrogen atom, R 11 may be the formula (VII).

Figure 0004595374
Figure 0004595374

式(VII)中、R1およびR2は前記と同じ意味を表す。
3は、直接結合、ピペラジノ基または−T14−NH−[式中、T14は、炭素数1〜12のアルキレン基(該アルキレン基は、1〜5個の−O−、−S−、および/または−NR10−により中断されていてもよい。)を表す。]を表す。
In formula (VII), R 1 and R 2 represent the same meaning as described above.
M 3 is a direct bond, piperazino group or —T 14 —NH— [wherein T 14 is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms (the alkylene group is 1 to 5 —O—, —S— , and / or -NR 10 -. which may be interrupted by) represents an. ].

12は、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基[該アルコキシカルボニル基は、−O−の1個以上により中断、および/または場合によりヒドロキシル基の1個以上により置換されていてもよい。]、フェノキシカルボニル基[該フェノキシカルボニル基は、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、OR8またはNR1011の1個以上により置換されていてもよい。]、炭素数5〜8のシクロアルキル基、−CONR1011、シアノ基、フェニル基[該フェニル基は、SR9により置換されていてもよく、R13〜R15を有するフェニル環の炭素原子への結合を構築することにより、水素原子1個を除いたR9(ただし、環構造を形成する場合、R9は水素原子またはシアノ基ではない。)を介して、5員環または6員環が形成されてもよい。]を表す。
ここで、R13〜R15の少なくとも1個が、−SR9であるならば、R12は、メチル基または炭素数2〜12のアルキル基[該アルキル基は、ハロゲン原子、−OH、−OR2、フェニル基、ハロゲン化フェニル基またはSR9置換フェニル基の1個以上により置換されていてもよく、あるいは−O−および/または−NH(CO)−により中断されていてもよい。]を表す。
R 12 represents an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms [the alkoxycarbonyl group may be interrupted by one or more of —O— and / or optionally substituted by one or more of hydroxyl groups. ], Phenoxycarbonyl group [wherein phenoxycarbonyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, a phenyl group, optionally substituted by one or more OR 8 or NR 10 R 11. ], A cycloalkyl group having 5-8 carbon atoms, -CONR 10 R 11, a cyano group, a phenyl group [wherein the phenyl group may be substituted by SR 9, carbon of the phenyl ring with R 13 to R 15 By building a bond to the atom, via R 9 without one hydrogen atom (however, when forming a ring structure, R 9 is not a hydrogen atom or a cyano group), Member rings may be formed. ].
Here, when at least one of R 13 to R 15 is —SR 9 , R 12 represents a methyl group or an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms [the alkyl group is a halogen atom, —OH, — It may be substituted by one or more of OR 2 , phenyl group, halogenated phenyl group or SR 9 substituted phenyl group, or may be interrupted by —O— and / or —NH (CO) —. ].

13〜R15は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基[該フェニル基は、−OR8、−SR9および−NR1011からなる群から選ばれる少なくとも1個の基により置換されていてもよい。]、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数2〜12のアルカノイル基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基[該アルコキシカルボニル基は、−O−の1個以上により中断、および/またはヒドロキシル基の1個以上により置換されていてもよい。]、フェノキシカルボニル基、−OR8、−SR9、−SOR9、−SO29または−NR1011[ここで、−OR8、−SR9および−NR1011は、R〜Rとして存在するフェニル環の前記の置換基またはフェニル環の炭素原子の一つと、R8〜R11の1個の水素原子を除いた基を介して5員環または6員環を形成してもよい。ただし、環を形成する場合、R8〜R11は、水素原子ではない。]を表す。ただし、R13〜R15の少なくとも一つは、−OR8、−SR9または−NR1011を表す。 R 13 to R 15 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group [the phenyl group is —OR 8 , —SR 9 and — It may be substituted with at least one group selected from the group consisting of NR 10 R 11 . ], A benzyl group, a benzoyl group, an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms [the alkoxycarbonyl group is interrupted by one or more of -O-, and / or one of hydroxyl groups] It may be substituted by more than one. ], Phenoxycarbonyl group, —OR 8 , —SR 9 , —SOR 9 , —SO 2 R 9 or —NR 10 R 11 [wherein —OR 8 , —SR 9 and —NR 10 R 11 represent R 3 formation and one of the carbon atoms of the substituent or the phenyl ring of the phenyl rings present, a 5- or 6-membered ring via a single group formed by removing a hydrogen atom of R 8 to R 11 as to R 7 May be. However, when forming a ring, R < 8 > -R < 11 > is not a hydrogen atom. ]. However, at least one of R 13 to R 15 represents —OR 8 , —SR 9 or —NR 10 R 11 .

Xは、炭素数1〜12のアルキレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基、−(CO)O−T12−O(CO)−[式中、T12は炭素数2〜12のアルキレン基を表す。]、−(CO)O−(CH2CH2O)−(CO)−[式中、nは、1〜20の整数を表す。]、または−(CO)−T13−(CO)−[式中、T13は炭素数2〜12のアルキレン基を表す]を表す。〕 X is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, cyclohexylene group, phenylene group,-(CO) O-T 12 -O (CO)-[wherein T 12 represents an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms. . ], - (CO) O- ( CH 2 CH 2 O) n - (CO) - [ wherein, n represents an integer of 1 to 20. ], Or - (CO) -T 13 - ( CO) - [ wherein, T 13 represents a] represents an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms. ]

上記の化合物のうち、式(I)および(III)において、R、RおよびRが水素原子を表す化合物が好ましく、R1がn−ヘキシル基を表し、Rがベンゾイル基を表し、Rがフェニルチオ基を表す化合物がより好ましい。 Among the above compounds, in the formulas (I) and (III), compounds in which R 3 , R 6 and R 7 represent a hydrogen atom are preferable, R 1 represents an n-hexyl group, and R 2 represents a benzoyl group. And a compound in which R 5 represents a phenylthio group is more preferable.

本発明の黒色感光性樹脂組成物に用いられる光重合開始剤(D)としては、前記の式(I)〜(IV)の化合物に加えて、異なる光重合開始剤を同時に用いても良い。これらの化合物は、エチレン性不飽和結合を有し付加重合可能な化合物の重合を開始させうる化合物であれば、特に限定されるものではなく、アセトフェノン系光重合開始剤、ベンゾイン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、チオキサントン系光重合開始剤、トリアジン系光重合開始剤、オキサジアゾール系光重合開始剤などを用いることができる。
前記のアセトフェノン系光重合開始剤としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンジルジメチルケタール、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−(2−ヒドロキシエトキシ)フェニル〕プロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2−メチル−2−モルホリノ−1−(4−メチルチオフェニル)プロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルホリノフェニル)ブタン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−〔4−(1−メチルビニル)フェニル〕プロパン−1−オンのオリゴマーなどが挙げられる。
前記のベンゾイン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテルなどが挙げられる。
前記のベンゾフェノン系光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、o−ベンゾイル安息香酸メチル、4−フェニルベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド、3,3’,4,4’−テトラ(tert−ブチルパーオキシカルボニル)ベンゾフェノン、2,4,6−トリメチルベンゾフェノンなどが挙げられる。
前記のチオキサントン系光重合開始剤としては、例えば、2−イソプロピルチオキサントン、4−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントンなどが挙げられる。
前記のトリアジン系光重合開始剤としては、例えば、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(1−p−ジメチルアミノフェニル−1,3−ブタジエニル)−s−トリアジン、2−トリクロロメチル−4−アミノ−6−p−メトキシスチリル−s−トリアジン、2−(ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4−エトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4−ブトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−〔4−(2−メトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−〔4−(2−エトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−〔4−(2−ブトキシエチル)−ナフト−1−イル〕−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(2−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(6−メトキシ−5−メチル−ナフト−2−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(6−メトキシ−ナフト−2−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(5−メトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4,7−ジメトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(6−エトキシ−ナフト−2−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、2−(4,5−ジメトキシ−ナフト−1−イル)−4,6−ビス−トリクロロメチル−s−トリアジン、4−〔p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−メチル−p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−メチル−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔p−N,N−ジ(フェニル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(p−N−クロロエチルカルボニルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔p−N−(p−メトキシフェニル)カルボニルアミノフェニル〕2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−ブロモ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−クロロ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−フロロ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−ブロモ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−クロロ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−フロロ−p−N,N−ジ(エトキシカルボニルメチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−ブロモ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−クロロ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔o−フロロ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−ブロモ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−クロロ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−〔m−フロロ−p−N,N−ジ(クロロエチル)アミノフェニル〕−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−ブロモ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−クロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−フロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−ブロモ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−クロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−フロロ−p−N−エトキシカルボニルメチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−ブロモ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−クロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(m−フロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−ブロモ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−クロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジン、4−(o−フロロ−p−N−クロロエチルアミノフェニル)−2,6−ジ(トリクロロメチル)−s−トリアジンなどが挙げられる。
前記のオキサジアゾール系光重合開始剤としては、例えば、2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−シアノスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−ブトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−ヒドロキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−クロロスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−メトキシフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−ブトキシフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(2−ナフチル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(β−(2−ベンゾフリル)ビニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(β−(6−メトキシ−2−ベンゾフリル)ビニル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(2−ベンゾフリル)−1,3,4−オキサジアゾールなどが挙げられる。
また、光重合開始剤として、例えば、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、2,2’−ビス(o−クロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾール、10−ブチル−2−クロロアクリドン、2−エチルアントラキノン、ベンジル、9,10−フェナンスレンキノン、カンファーキノン、フェニルグリオキシル酸メチル、チタノセン化合物などを用いることもできる。
前記の光重合開始剤の中でも、ベンゾフェノン系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤、トリクロロメチル基が導入されているトリアジン系光重合開始剤、トリクロロメチル基が導入されているオキサジアゾール系光重合開始剤が好ましく用いられる。
ベンゾフェノン系光重合開始剤、アセトフェノン系光重合開始剤としては、それぞれ前述のものが挙げられる。
前記のトリクロロメチル基が導入されているトリアジン系光重合開始剤としては、例えば、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシフェニル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシナフチル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−ピペロニル−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−(4−メトキシスチリル)−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(5−メチルフラン−2−イル)エテニル〕−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(フラン−2−イル)エテニル〕−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(4−ジエチルアミノ−2−メチルフェニル)エテニル〕−1,3,5−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−〔2−(3,4−ジメトキシフェニル)エテニル〕−1,3,5−トリアジンなどが挙げられる。
前記のトリクロロメチル基が導入されているオキサジアゾール系光重合開始剤としては、例えば、2−トリクロロメチル−5−スチリル−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−シアノスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−メトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(p−ブトキシスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール、2−トリクロロメチル−5−(β−(2−ベンゾフリル)ビニル)−1,3,4−オキサジアゾールなどが挙げられる。
As a photoinitiator (D) used for the black photosensitive resin composition of this invention, in addition to the compound of said Formula (I)-(IV), you may use a different photoinitiator simultaneously. These compounds are not particularly limited as long as they are compounds capable of initiating addition polymerization of compounds having an ethylenically unsaturated bond, and include acetophenone photopolymerization initiators and benzoin photopolymerization initiators. Benzophenone photopolymerization initiators, thioxanthone photopolymerization initiators, triazine photopolymerization initiators, oxadiazole photopolymerization initiators, and the like can be used.
Examples of the acetophenone photopolymerization initiator include diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzyldimethyl ketal, and 2-hydroxy-2-methyl-1- [4. -(2-hydroxyethoxy) phenyl] propan-1-one, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-2-morpholino-1- (4-methylthiophenyl) propan-1-one, 2-benzyl-2- And oligomers of dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) butan-1-one and 2-hydroxy-2-methyl-1- [4- (1-methylvinyl) phenyl] propan-1-one.
Examples of the benzoin photopolymerization initiator include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, and benzoin isobutyl ether.
Examples of the benzophenone photopolymerization initiator include benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4-phenylbenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, 3,3 ′, 4,4′-tetra ( tert-butylperoxycarbonyl) benzophenone, 2,4,6-trimethylbenzophenone, and the like.
Examples of the thioxanthone photopolymerization initiator include 2-isopropylthioxanthone, 4-isopropylthioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2,4-dichlorothioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, and the like.
Examples of the triazine photopolymerization initiator include 2,4-bis (trichloromethyl) -6-p-methoxystyryl-s-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (1-p -Dimethylaminophenyl-1,3-butadienyl) -s-triazine, 2-trichloromethyl-4-amino-6-p-methoxystyryl-s-triazine, 2- (naphth-1-yl) -4,6- Bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4-ethoxy-naphth-1-yl)- 4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (4-butoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- [4- (2- Toxiethyl) -naphth-1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- [4- (2-ethoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl -S-triazine, 2- [4- (2-butoxyethyl) -naphth-1-yl] -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (2-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (6-methoxy-5-methyl-naphth-2-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (6- Methoxy-naphth-2-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (5-methoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2 -(4,7 Dimethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2- (6-ethoxy-naphth-2-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 2 -(4,5-dimethoxy-naphth-1-yl) -4,6-bis-trichloromethyl-s-triazine, 4- [pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6 -Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-methyl-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [PN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-methyl-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl ] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (pN- Ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [pN, N-di (phenyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s- Triazine, 4- (p-N-chloroethylcarbonylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [pN- (p-methoxyphenyl) carbonylaminophenyl] 2,6 -Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-N, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-tri 4- [m-bromo-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-chloro-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-fluoro-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2 , 6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-bromo-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-chloro-pN, N-di (ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl-2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-fluoro-pN, N- (Ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-bromo-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di ( Trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-chloro-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [o-fluoro- p-N, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-bromo-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2 , 6-Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- [m-chloro-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4 -[M-Fluoro-pN, N-di (chloroethyl) aminophenyl] -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-bromo-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) ) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-chloro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (M-Fluoro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-bromo-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2, 6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-chloro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloro Til) -s-triazine, 4- (o-fluoro-pN-ethoxycarbonylmethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-bromo-pN- Chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (m-chloro-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine 4- (m-fluoro-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-bromo-pN-chloroethylaminophenyl) -2 , 6-Di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- (o-chloro-pN-chloroethylaminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine, 4- Such as o- Fluorochemicals -p-N-chloroethyl aminophenyl) -2,6-di (trichloromethyl) -s-triazine.
Examples of the oxadiazole-based photopolymerization initiator include 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-cyanostyryl) -1, 3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-methoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-butoxystyryl) -1,3 4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-hydroxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-chlorostyryl) -1,3,4 Oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-methoxyphenyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-butoxyphenyl) -1, , 4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (2-naphthyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (β- (2-benzofuryl) vinyl) -1, 3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (β- (6-methoxy-2-benzofuryl) vinyl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (2- And benzofuryl) -1,3,4-oxadiazole.
Examples of the photopolymerization initiator include 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, 2,2′-bis (o-chlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetraphenyl-1,2 '-Biimidazole, 10-butyl-2-chloroacridone, 2-ethylanthraquinone, benzyl, 9,10-phenanthrenequinone, camphorquinone, methyl phenylglyoxylate, titanocene compound and the like can also be used.
Among the above photopolymerization initiators, benzophenone photopolymerization initiator, acetophenone photopolymerization initiator, triazine photopolymerization initiator having a trichloromethyl group introduced therein, and oxadiazole type having a trichloromethyl group introduced therein A photopolymerization initiator is preferably used.
Examples of the benzophenone photopolymerization initiator and the acetophenone photopolymerization initiator include those described above.
Examples of the triazine photopolymerization initiator into which the trichloromethyl group is introduced include 2,4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxyphenyl) -1,3,5-triazine, 2, 4-bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxynaphthyl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6-piperonyl-1,3,5-triazine, 2,4 -Bis (trichloromethyl) -6- (4-methoxystyryl) -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (5-methylfuran-2-yl) ethenyl ] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (furan-2-yl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloro) Methyl) -6 [2- (4-Diethylamino-2-methylphenyl) ethenyl] -1,3,5-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [2- (3,4-dimethoxyphenyl) ethenyl]- 1,3,5-triazine and the like can be mentioned.
Examples of the oxadiazole photopolymerization initiator into which the trichloromethyl group is introduced include 2-trichloromethyl-5-styryl-1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- ( p-cyanostyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p-methoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (p- Butoxystyryl) -1,3,4-oxadiazole, 2-trichloromethyl-5- (β- (2-benzofuryl) vinyl) -1,3,4-oxadiazole, and the like.

本発明の黒色感光性樹脂組成物は、光重合開始助剤を含有していてもよい。光重合開始助剤としては、例えば、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、4−ジメチルアミノ安息香酸2−エチルヘキシル、安息香酸2−ジメチルアミノエチル、N,N−ジメチルパラトルイジン、4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン(通称ミヒラーズケトン)、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、9,10−ジメトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジメトキシアントラセン、9,10−ジエトキシアントラセン、2−エチル−9,10−ジエトキシアントラセンなどが挙げられる。これらの中でも、4,4′−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンなどのベンゾフェノン系光重合開始助剤が好ましく用いられる。これら光重合開始助剤はそれぞれ単独でまたは2種以上組み合わせて用いることができる。
前記の光重合開始助剤を用いる場合、その使用量は光重合開始剤1モルに対して好ましくは10モル以下、好ましくは0.01モル以上5モル以下ある。
The black photosensitive resin composition of the present invention may contain a photopolymerization initiation aid. Examples of the photopolymerization initiation assistant include triethanolamine, methyldiethanolamine, triisopropanolamine, methyl 4-dimethylaminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate, and 4-dimethylaminobenzoate. 2-ethylhexyl acid, 2-dimethylaminoethyl benzoate, N, N-dimethylparatoluidine, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone (commonly known as Michler's ketone), 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 9, Examples include 10-dimethoxyanthracene, 2-ethyl-9,10-dimethoxyanthracene, 9,10-diethoxyanthracene, and 2-ethyl-9,10-diethoxyanthracene. Among these, benzophenone photopolymerization initiation assistants such as 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone are preferably used. These photopolymerization initiation assistants can be used alone or in combination of two or more.
When using the said photoinitiator adjuvant, the usage-amount is with respect to 1 mol of photoinitiators, Preferably it is 10 mol or less, Preferably they are 0.01 mol or more and 5 mol or less.

本発明の黒色感光性樹脂組成物における光重合開始剤および光重合開始助剤の合計使用量は、黒色感光性樹脂組成物の固形分に対して質量分率で通常1%以上50%以下、好ましくは3%以上30%以下、より好ましくは3%以上15%以下である。   The total use amount of the photopolymerization initiator and the photopolymerization initiation assistant in the black photosensitive resin composition of the present invention is usually 1% or more and 50% or less by mass fraction with respect to the solid content of the black photosensitive resin composition. Preferably they are 3% or more and 30% or less, More preferably, they are 3% or more and 15% or less.

本発明の黒色感光性樹脂組成物は、熱重合防止剤、充填剤、バインダー樹脂以外の高分子化合物、界面活性剤、密着促進剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、凝集防止剤などの添加剤を含有していてもよい。   The black photosensitive resin composition of the present invention includes additives such as thermal polymerization inhibitors, fillers, polymer compounds other than binder resins, surfactants, adhesion promoters, antioxidants, ultraviolet absorbers, and aggregation inhibitors. May be contained.

前記の熱重合防止剤は、例えば、黒色感光性樹脂組成物の保存中に(C)1個以上のエチレン性不飽和結合を有し付加重合可能な化合物が熱重合を開始してしまうことを防止するために含有してもよい。前記の熱重合防止剤としては、例えば、ハロイドキノン、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、N−ニトロソフェニルヒドロキシアミン第一セリウム塩等が挙げられる。熱重合防止剤を含有する場合、その含有量は、黒色感光性樹脂組成物の全量に対して質量分率で通常0.01%以上5%以下程度である。   The thermal polymerization inhibitor is, for example, that during storage of the black photosensitive resin composition, (C) a compound having one or more ethylenically unsaturated bonds and capable of addition polymerization starts thermal polymerization. It may be contained to prevent it. Examples of the thermal polymerization inhibitor include haloid quinone, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl-6- t-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-tert-butylphenol), N-nitrosophenylhydroxyamine primary cerium salt and the like. When the thermal polymerization inhibitor is contained, the content is usually about 0.01% or more and 5% or less in terms of mass fraction with respect to the total amount of the black photosensitive resin composition.

前記の充填剤としては、例えば、ガラス、アルミナなどが挙げられる。   Examples of the filler include glass and alumina.

前記のバインダー樹脂以外の高分子化合物としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリアクリル酸、ポリエチレングリコールモノアルキルエーテル、ポリフロロアルキルアクリレートなどが挙げられる。   Examples of the polymer compound other than the binder resin include polyvinyl alcohol, polyacrylic acid, polyethylene glycol monoalkyl ether, and polyfluoroalkyl acrylate.

前記の界面活性剤は、ノニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤のいずれであってもよい。   The surfactant may be any of a nonionic surfactant, a cationic surfactant, and an anionic surfactant.

前記の密着促進剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(2−メトキシエトキシ)シラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、N−(2−アミノエチル)−3−アミノプロピルトリメトキシシラン、3−アミノプロピルトリエトキシシラン、3−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル)エチルトリメトキシシラン、3−クロロプロピルメチルジメトキシシラン、3−クロロプロピルトリメトキシシラン、3−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3−メルカプトプロピルトリメトキシシランなどが挙げられる。   Examples of the adhesion promoter include vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyltris (2-methoxyethoxy) silane, N- (2-aminoethyl) -3-aminopropylmethyldimethoxysilane, N- (2 -Aminoethyl) -3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 2- (3,4-epoxycyclohexyl) ) Ethyltrimethoxysilane, 3-chloropropylmethyldimethoxysilane, 3-chloropropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane and the like.

前記の酸化防止剤としては、例えば、2,2−チオビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,6−ジ−t−ブチルフェノールなどが挙げられる。   Examples of the antioxidant include 2,2-thiobis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2,6-di-t-butylphenol, and the like.

前記の紫外線吸収剤としては、例えば、2−(3−t−ブチル−5−メチル−2−ヒドロキシフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、アルコキシベンゾフェノンなどが挙げられる。   Examples of the ultraviolet absorber include 2- (3-t-butyl-5-methyl-2-hydroxyphenyl) -5-chlorobenzotriazole, alkoxybenzophenone, and the like.

前記の凝集防止剤としては、例えば、ポリアクリル酸ナトリウムなどが挙げられる。   Examples of the aggregation preventing agent include sodium polyacrylate.

本発明の黒色感光性樹脂組成物は、有機カルボン酸、有機アミン化合物などを含有していてもよい。   The black photosensitive resin composition of the present invention may contain an organic carboxylic acid, an organic amine compound, and the like.

前記の有機カルボン酸としては、例えば、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、カプロン酸、ジエチル酢酸、エナント酸、カプリル酸などの脂肪族モノカルボン酸、
シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ブラシル酸、メチルマロン酸、エチルマロン酸、ジメチルマロン酸、メチルコハク酸、テトラメチルコハク酸、シトラコン酸などの脂肪族ジカルボン酸、
トリカルバリル酸、アコニット酸、カンホロン酸などの脂肪族トリカルボン酸、安息香酸、トルイル酸、クミン酸、ヘメリト酸、メシチレン酸などの芳香族モノカルボン酸、
フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、トリメリト酸、トリメシン酸、メロファン酸、ピロメリト酸などの芳香族ポリカルボン酸、
フェニル酢酸、ヒドロアトロパ酸、ヒドロケイ皮酸、マンデル酸、フェニルコハク酸、アトロパ酸、ケイ皮酸、ケイ皮酸メチル、ケイ皮酸ベンジル、シンナミリデン酢酸、クマル酸、ウンベル酸などの分子量1000以下の有機カルボン酸などが挙げられる。
Examples of the organic carboxylic acid include aliphatic monocarboxylic acids such as formic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, valeric acid, pivalic acid, caproic acid, diethyl acetic acid, enanthic acid, caprylic acid,
Oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, brassic acid, methylmalonic acid, ethylmalonic acid, dimethylmalonic acid, methylsuccinic acid, tetramethylsuccinic acid, Aliphatic dicarboxylic acids such as citraconic acid,
Aliphatic tricarboxylic acids such as tricarballylic acid, aconitic acid, camphoric acid, aromatic monocarboxylic acids such as benzoic acid, toluic acid, cumic acid, hemelitic acid, mesitylene acid,
Aromatic polycarboxylic acids such as phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, trimesic acid, melophanoic acid, pyromellitic acid,
Organic carbons having a molecular weight of 1000 or less, such as phenylacetic acid, hydroatropic acid, hydrocinnamic acid, mandelic acid, phenylsuccinic acid, atropic acid, cinnamic acid, methyl cinnamate, benzyl cinnamate, cinnamylideneacetic acid, coumaric acid, and umberic acid An acid etc. are mentioned.

前記の有機アミン化合物としては通常、分子量1000以下の有機アミン化合物が用いられ、例えば、n−プロピルアミン、イソプロピルアミン、n−ブチルアミン、イソブチルアミン、t−ブチルアミン、n−ペンチルアミン、n−ヘキシルアミン、n−ヘプチルアミン、n−オクチルアミン、n−ノニルアミン、n−デシルアミン、n−ウンデシルアミン、n−ドデシルアミン、シクロヘキシルアミン、o−メチルシクロヘキシルアミン、m−メチルシクロヘキシルアミン、p−メチルシクロヘキシルアミン、o−エチルシクロヘキシルアミン、m−エチルシクロヘキシルアミン、p−エチルシクロヘキシルアミンなどのモノ(シクロ)アルキルアミン類;
メチル・エチルアミン、ジエチルアミン、メチル・n−プロピルアミン、エチル・n−プロピルアミン、ジ−n−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、ジ−n−ブチルアミン、ジイソブチルアミン、ジ−t−ブチルアミン、ジ−n−ペンチルアミン、ジ−n−ヘキシルアミン、メチル・シクロヘキシルアミン、エチル・シクロヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミンなどのジ(シクロ)アルキルアミン類;
ジメチル・エチルアミン、メチル・ジエチルアミン、トリエチルアミン、ジメチル・n−プロピルアミン、ジエチル・n−プロピルアミン、メチル・ジ−n−プロピルアミン、エチル・ジ−n−プロピルアミン、トリ−n−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、トリ−n−ブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリ−t−ブチルアミン、トリ−n−ペンチルアミン、トリ−n−ヘキシルアミン、ジメチル・シクロヘキシルアミン、ジエチル・シクロヘキシルアミン、メチル・ジシクロヘキシルアミン、エチル・ジシクロヘキシルアミン、トリシクロヘキシルアミンなどのトリ(シクロ)アルキルアミン類;
2−アミノエタノール、3−アミノ−1−プロパノール、1−アミノ−2−プロパノール、4−アミノ−1−ブタノール、5−アミノ−1−ペンタノール、6−アミノ−1−ヘキサノール、4−アミノ−1−シクロヘキサノールなどのモノ(シクロ)アルカノールアミン類;
ジエタノールアミン、ジ−n−プロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、ジ−n−ブタノールアミン、ジイソブタノールアミン、ジ−n−ペンタノールアミン、ジ−n−ヘキサノールアミン、ジ(4−シクロヘキサノール)アミンなどのジ(シクロ)アルカノールアミン類;
トリエタノールアミン、トリ−n−プロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、トリ−n−ブタノールアミン、トリイソブタノールアミン、トリ−n−ペンタノールアミン、トリ−n−ヘキサノールアミン、トリ(4−シクロヘキサノール)アミンなどのトリ(シクロ)アルカノールアミン;
3−アミノ−1,2−プロパンジオール、2−アミノ−1,3−プロパンジオール、4−アミノ−1,2−ブタンジオール、4−アミノ−1,3−ブタンジオール、4−アミノ−1,2−シクロヘキサンジオール、4−アミノ−1,3−シクロヘキサンジオール、3−ジメチルアミノ−1,2−プロパンジオール、3−ジエチルアミノ−1,2−プロパンジオール、2−ジメチルアミノ−1,3−プロパンジオール、2−ジエチルアミノ−1,3−プロパンジオールなどのアミノ(シクロ)アルカンジオール類;
1−アミノシクロペンタンメタノール、4−アミノシクロペンタンメタノール、1−アミノシクロヘキサンメタノール、4−アミノシクロヘキサンメタノール、4−ジメチルアミノシクロペンタンメタノール、4−ジエチルアミノシクロペンタンメタノール、4−ジメチルアミノシクロヘキサンメタノール、4−ジエチルアミノシクロヘキサンメタノールなどのアミノ基含有シクロアルカンメタノール類;
β−アラニン、2−アミノ酪酸、3−アミノ酪酸、4−アミノ酪酸、2−アミノイソ酪酸、3−アミノイソ酪酸、2−アミノ吉草酸、5−アミノ吉草酸、6―アミノカプロン酸、1―アミノシクロプロパンカルボン酸、1―アミノシクロヘキサンカルボン酸、4―アミノシクロヘキサンカルボン酸などのアミノカルボン酸類などが挙げられる。
また、例えば、アミノ基が直接フェニル基に結合した化合物、アミノ基が炭素鎖を介してフェニル基に結合した化合物なども挙げられる。
アミノ基が直接フェニル基に結合した化合物としては、例えば、アニリン、o−メチルアニリン、m−メチルアニリン、p−メチルアニリン、p−エチルアニリン、p−n−プロピルアニリン、p−イソプロピルアニリン、p−n−ブチルアニリン、p−t−ブチルアニリン、1−ナフチルアミン、2−ナフチルアミン、N,N−ジメチルアニリン、N,N−ジエチルアニリン、p−メチル−N,N−ジメチルアニリンなどの芳香族アミン類;
o−アミノベンジルアルコール、m−アミノベンジルアルコール、p−アミノベンジルアルコール、p−ジメチルアミノベンジルアルコール、p−ジエチルアミノベンジルアルコールなどのアミノベンジルアルコール類;
o−アミノフェノール、m−アミノフェノール、p−アミノフェノール、p−ジメチルアミノフェノール、p−ジエチルアミノフェノールなどのアミノフェノール類;
m−アミノ安息香酸、p−アミノ安息香酸、p−ジメチルアミノ安息香酸、p−ジエチルアミノ安息香酸などのアミノ安息香酸(誘導体)類などが挙げられる。
As the organic amine compound, an organic amine compound having a molecular weight of 1000 or less is usually used. For example, n-propylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, t-butylamine, n-pentylamine, n-hexylamine. N-heptylamine, n-octylamine, n-nonylamine, n-decylamine, n-undecylamine, n-dodecylamine, cyclohexylamine, o-methylcyclohexylamine, m-methylcyclohexylamine, p-methylcyclohexylamine Mono (cyclo) alkylamines such as o-ethylcyclohexylamine, m-ethylcyclohexylamine, p-ethylcyclohexylamine;
Methyl ethylamine, diethylamine, methyl n-propylamine, ethyl n-propylamine, di-n-propylamine, diisopropylamine, di-n-butylamine, diisobutylamine, di-t-butylamine, di-n-pentyl Di (cyclo) alkylamines such as amine, di-n-hexylamine, methyl cyclohexylamine, ethyl cyclohexylamine, dicyclohexylamine;
Dimethyl ethylamine, methyl diethylamine, triethylamine, dimethyl n-propylamine, diethyl n-propylamine, methyl di-n-propylamine, ethyl di-n-propylamine, tri-n-propylamine, tri Isopropylamine, tri-n-butylamine, triisobutylamine, tri-t-butylamine, tri-n-pentylamine, tri-n-hexylamine, dimethyl cyclohexylamine, diethyl cyclohexylamine, methyl dicyclohexylamine, ethyl Tri (cyclo) alkylamines such as dicyclohexylamine and tricyclohexylamine;
2-aminoethanol, 3-amino-1-propanol, 1-amino-2-propanol, 4-amino-1-butanol, 5-amino-1-pentanol, 6-amino-1-hexanol, 4-amino- Mono (cyclo) alkanolamines such as 1-cyclohexanol;
Diethanolamine, di-n-propanolamine, diisopropanolamine, di-n-butanolamine, diisobutanolamine, di-n-pentanolamine, di-n-hexanolamine, di (4-cyclohexanol) amine and the like (Cyclo) alkanolamines;
Triethanolamine, tri-n-propanolamine, triisopropanolamine, tri-n-butanolamine, triisobutanolamine, tri-n-pentanolamine, tri-n-hexanolamine, tri (4-cyclohexanol) amine Tri (cyclo) alkanolamines such as;
3-amino-1,2-propanediol, 2-amino-1,3-propanediol, 4-amino-1,2-butanediol, 4-amino-1,3-butanediol, 4-amino-1, 2-cyclohexanediol, 4-amino-1,3-cyclohexanediol, 3-dimethylamino-1,2-propanediol, 3-diethylamino-1,2-propanediol, 2-dimethylamino-1,3-propanediol Amino (cyclo) alkanediols such as 2-diethylamino-1,3-propanediol;
1-aminocyclopentanemethanol, 4-aminocyclopentanemethanol, 1-aminocyclohexanemethanol, 4-aminocyclohexanemethanol, 4-dimethylaminocyclopentanemethanol, 4-diethylaminocyclopentanemethanol, 4-dimethylaminocyclohexanemethanol, 4- Amino group-containing cycloalkanemethanols such as diethylaminocyclohexanemethanol;
β-alanine, 2-aminobutyric acid, 3-aminobutyric acid, 4-aminobutyric acid, 2-aminoisobutyric acid, 3-aminoisobutyric acid, 2-aminovaleric acid, 5-aminovaleric acid, 6-aminocaproic acid, 1-aminocyclo Examples thereof include aminocarboxylic acids such as propanecarboxylic acid, 1-aminocyclohexanecarboxylic acid, and 4-aminocyclohexanecarboxylic acid.
Moreover, for example, a compound in which an amino group is directly bonded to a phenyl group, a compound in which an amino group is bonded to a phenyl group via a carbon chain, and the like can be given.
Examples of the compound in which the amino group is directly bonded to the phenyl group include aniline, o-methylaniline, m-methylaniline, p-methylaniline, p-ethylaniline, pn-propylaniline, p-isopropylaniline, p Aromatic amines such as n-butylaniline, pt-butylaniline, 1-naphthylamine, 2-naphthylamine, N, N-dimethylaniline, N, N-diethylaniline, p-methyl-N, N-dimethylaniline Kind;
aminobenzyl alcohols such as o-aminobenzyl alcohol, m-aminobenzyl alcohol, p-aminobenzyl alcohol, p-dimethylaminobenzyl alcohol, p-diethylaminobenzyl alcohol;
aminophenols such as o-aminophenol, m-aminophenol, p-aminophenol, p-dimethylaminophenol, p-diethylaminophenol;
Examples include aminobenzoic acids (derivatives) such as m-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, p-dimethylaminobenzoic acid, and p-diethylaminobenzoic acid.

前記の有機カルボン酸、有機アミン化合物を用いる場合は、それぞれ単独でまたは2種以上を混合して使用される。前記の有機カルボン酸、有機アミン化合物を用いる場合、黒色感光性樹脂組成物におけるその含有量は通常、黒色感光性樹脂組成物に対して質量分率で通常0.001%以上15%以下、好ましくは0.01%以上10%以下である。   When using the said organic carboxylic acid and an organic amine compound, it is used individually or in mixture of 2 or more types, respectively. When the organic carboxylic acid or organic amine compound is used, its content in the black photosensitive resin composition is usually 0.001% or more and 15% or less, preferably by mass fraction with respect to the black photosensitive resin composition. Is 0.01% or more and 10% or less.

前記の黒色感光性樹脂組成物は、通常、溶剤で希釈された状態で基板(2)上に塗布される(図2(a))。溶剤としては、例えば、エステル類、エーテル類、ケトン類、芳香族炭化水素類などが挙げられる。
エステル類としては、例えば、酢酸エチル、酢酸−n−ブチル、酢酸イソブチル、ギ酸アミル、酢酸イソアミル、酢酸イソブチル、プロピオン酸ブチル、酪酸イソプロピル、酪酸エチル、酪酸ブチル、アルキルエステル類、乳酸メチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、3−オキシプロピオン酸メチル、3−オキシプロピオン酸エチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、3−メトキシプロピオン酸エチル、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸メチル、2−オキシプロピオン酸エチル、2−オキシプロピオン酸プロピル、2−メトキシプロピオン酸メチル、2−メトキシプロピオン酸エチル、2−メトキシプロピオン酸プロピル、2−エトキシプロピオン酸メチル、2−エトキシプロピオン酸エチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−オキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、2−メトキシ−2−メチルプロピオン酸メチル、2−エトキシ−2−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、2−オキソブタン酸メチル、2−オキソブタン酸エチルなどが挙げられる。
エーテル類としては、例えば、ジエチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールプロピルエーテルアセテートなどが挙げられる。
ケトン類としては、例えば、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、2−ヘプタノン、3−ヘプタノンなどが挙げられる。
芳香族炭化水素類としては、例えば、トルエン、キシレンなどが挙げられる。
The black photosensitive resin composition is usually applied on the substrate (2) in a state diluted with a solvent (FIG. 2 (a)). Examples of the solvent include esters, ethers, ketones, aromatic hydrocarbons and the like.
Esters include, for example, ethyl acetate, n-butyl acetate, isobutyl acetate, amyl formate, isoamyl acetate, isobutyl acetate, butyl propionate, isopropyl butyrate, ethyl butyrate, butyl butyrate, alkyl esters, methyl lactate, ethyl lactate , Methyl oxyacetate, ethyl oxyacetate, butyl oxyacetate, methyl methoxyacetate, ethyl methoxyacetate, butyl methoxyacetate, methyl ethoxyacetate, ethyl ethoxyacetate, methyl 3-oxypropionate, ethyl 3-oxypropionate, 3-methoxy Methyl propionate, ethyl 3-methoxypropionate, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, methyl 2-oxypropionate, ethyl 2-oxypropionate, propyl 2-oxypropionate, 2-metho Methyl cypropionate, ethyl 2-methoxypropionate, propyl 2-methoxypropionate, methyl 2-ethoxypropionate, ethyl 2-ethoxypropionate, methyl 2-oxy-2-methylpropionate, 2-oxy-2- Ethyl methyl propionate, methyl 2-methoxy-2-methylpropionate, ethyl 2-ethoxy-2-methylpropionate, methyl pyruvate, ethyl pyruvate, propyl pyruvate, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, 2-oxobutane Examples include methyl acid and ethyl 2-oxobutanoate.
Examples of ethers include diethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, methyl cellosolve acetate, ethyl cellosolve acetate, diethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, propylene glycol methyl ether acetate, Examples include propylene glycol ethyl ether acetate and propylene glycol propyl ether acetate.
Examples of ketones include methyl ethyl ketone, cyclohexanone, 2-heptanone, and 3-heptanone.
Examples of aromatic hydrocarbons include toluene and xylene.

前記の溶剤の中でも、3−エトキシプロピオン酸メチル、3−エトキシプロピオン酸エチル、エチルセロソルブアセテート、乳酸エチル、ジエチレングリコールジメテチルエーテル、酢酸ブチル、3−メトキシプロピオン酸メチル、2−ヘプタノン、シクロヘキサノン、エチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトールアセテート、プロピレングリコールメチルエーテルアセテートなどが好ましく用いられる。   Among the above solvents, methyl 3-ethoxypropionate, ethyl 3-ethoxypropionate, ethyl cellosolve acetate, ethyl lactate, diethylene glycol dimethyl ether, butyl acetate, methyl 3-methoxypropionate, 2-heptanone, cyclohexanone, ethylcarbi Tall acetate, butyl carbitol acetate, propylene glycol methyl ether acetate and the like are preferably used.

前記の溶剤は、それぞれ単独でまたは2種以上を混合して用いられる。溶剤の使用量としては、黒色感光性樹脂組成物における固形分が、質量分率で、通常、2%以上50%以下の範囲となるように選択される。   These solvents may be used alone or in admixture of two or more. The amount of the solvent used is selected so that the solid content in the black photosensitive resin composition is usually in the range of 2% to 50% in terms of mass fraction.

前記の黒色感光性樹脂組成物は、例えば、回転塗布法(スピンコート法)、スリットコート法、スリット&スピンコート法、キャスト法、ロール塗布法などの通常の塗布方法で、基板(2)上に塗布することができる。
基板(2)としては、例えば、ガラス基板、シリコン基板などのほか、ポリカーボネート基板、ポリエステル基板、芳香族ポリアミド基板、ポリアミドイミド基板、ポリイミド基板などの樹脂基板を用いることができる。前記の基板は、シランカップリング剤などの薬品による薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング処理、スパッタリング処理、気相反応処理、真空蒸着処理などの前処理が施されていてもよい。
黒色感光性樹脂組成物を基板(2)上に塗布後、乾燥して溶剤を揮発させることで、基板上に黒色感光性樹脂組成物層(1)を形成することができる(図2(a))。該層は、黒色感光性樹脂組成物の固形分からなる層であり、その厚さは、通常0.1μm〜10μm、好ましくは0.2μm〜5.0μm、より好ましくは0.2μm〜3.0μmである。
次いで黒色感光性樹脂組成物層(1)にフォトマスク(3)を介して光線(4)を照射する(図2(b))。
フォトマスク(3)は、例えば、ガラス板(31)などの表面に遮光層(32)が設けられたものである。遮光層によって光線(4)は遮蔽される。ガラス板のうちの遮光層が設けられていない部分は透光部(33)であって、光線は該透光部を透過して黒色感光性樹脂組成物層(1)に照射され、該層(1)は、該透光部のパターンにしたがって露光される。
光線(4)としては通常、g線(波長436nm)、i線(波長365nm)などの紫外線が用いられる。光線は平行光となって黒色感光性樹脂組成物層(1)に照射されることが好ましく、通常はマスクアライナー(図示せず)などを介して照射される。本発明の形成方法によれば、解像度よく着色パターンを形成するので、例えば、幅が20μm程度以下、さらには10μm程度以下、特には5μm以下の着色パターンを容易に安定して形成することができる。
光線の照射量は、用いた黒色着色剤(A)の含有量、バインダー樹脂(B)の種類や含有量、1個以上のエチレン性不飽和結合を有し付加重合可能な化合物(C)の種類や含有量、光重合開始剤(D)の種類や含有量などに応じて適宜選択される。
露光後、現像する(図2(c))。現像するには、露光後の黒色感光性樹脂組成物層(1)を現像液に接触させればよい。現像液に接触することによって、黒色感光性樹脂組成物層のうちで光線が照射されなかった光線未照射領域(11)が現像液に溶解する。
現像液としては、例えば、アルカリ性水溶液を用いることができる。アルカリ性水溶液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム,硅酸ナトリウム、メタ硅酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、1,8−ジアザビシクロ−〔5,4,0〕−7−ウンデセンなどの水溶性のアルカリ化合物の水溶液が用いられ、その濃度はアルカリ性水溶液に対して質量分率で通常0.001%以上10%以下、好ましくは0.01%以上1%以下程度である。前記のアルカリ性水溶液は、メタノール、エタノールなどの水溶性の有機溶剤、界面活性剤などを含有していてもよい。現像液として有機溶剤を用いることもでき、例えば、黒色感光性樹脂組成物を希釈するに用いる溶剤として前記したのと同様の有機溶剤を適宜組み合わせて用いてもよい。
現像方法は、特に限定されるものではなく、例えば、ディップ現像法(浸漬現像法)、シャワー現像法、スプレー現像法、パドル現像法(液盛り現像法)などの方法で現像することができる。現像温度は通常10℃〜40℃の範囲であり、現像時間は通常10秒〜300秒である。
現像によって、黒色感光性樹脂組成物層のうちの光線が照射されなかった光線未照射領域(11)は現像液に溶解して除去される。その一方で光線が照射された光線照射領域(12)は残って着色パターン(5)を構成する。
現像後、乾燥することで、着色パターン(5)を得るが(図2(c))、現像液としてアルカリ性水溶液を用いた場合には通常、現像後水洗したのちに、乾燥する。乾燥後、さらに加熱処理してもよい。
このようにして、着色パターンを得るが、本発明の形成方法によれば、現像におけるマージンが広いので、歩留まりが向上でき、また解像度がよいので、細かい着色パターンであっても、容易に形成することができる。
得られた着色パターンは、ブラックマトリックスとして有用である。
The black photosensitive resin composition is formed on the substrate (2) by a normal coating method such as a spin coating method (spin coating method), a slit coating method, a slit & spin coating method, a casting method, or a roll coating method. Can be applied.
As the substrate (2), for example, a resin substrate such as a polycarbonate substrate, a polyester substrate, an aromatic polyamide substrate, a polyamideimide substrate, and a polyimide substrate can be used in addition to a glass substrate and a silicon substrate. The substrate may be subjected to a pretreatment such as a chemical treatment with a chemical such as a silane coupling agent, a plasma treatment, an ion plating treatment, a sputtering treatment, a gas phase reaction treatment, or a vacuum deposition treatment.
The black photosensitive resin composition layer (1) can be formed on the substrate by coating the black photosensitive resin composition on the substrate (2) and then drying to evaporate the solvent (FIG. 2 (a)). )). The layer is a layer composed of a solid content of the black photosensitive resin composition, and the thickness thereof is usually 0.1 μm to 10 μm, preferably 0.2 μm to 5.0 μm, more preferably 0.2 μm to 3.0 μm. It is.
Next, the black photosensitive resin composition layer (1) is irradiated with the light beam (4) through the photomask (3) (FIG. 2 (b)).
The photomask (3) has a light shielding layer (32) on the surface of a glass plate (31), for example. The light ray (4) is shielded by the light shielding layer. The portion of the glass plate where the light shielding layer is not provided is the light transmitting portion (33), and the light passes through the light transmitting portion and is irradiated onto the black photosensitive resin composition layer (1). (1) is exposed according to the pattern of the translucent portion.
As the light beam (4), ultraviolet rays such as g-line (wavelength 436 nm) and i-line (wavelength 365 nm) are usually used. The light beam is preferably collimated and applied to the black photosensitive resin composition layer (1), and is usually applied via a mask aligner (not shown). According to the forming method of the present invention, since the colored pattern is formed with high resolution, for example, a colored pattern having a width of about 20 μm or less, further about 10 μm or less, and particularly 5 μm or less can be easily and stably formed. .
The amount of light irradiation is the content of the black colorant (A) used, the type and content of the binder resin (B), the compound (C) having at least one ethylenically unsaturated bond and capable of addition polymerization. It is appropriately selected according to the type and content, the type and content of the photopolymerization initiator (D), and the like.
After exposure, development is performed (FIG. 2 (c)). For development, the black photosensitive resin composition layer (1) after exposure may be brought into contact with the developer. By coming into contact with the developer, the light non-irradiated region (11) that has not been irradiated with light in the black photosensitive resin composition layer is dissolved in the developer.
As the developer, for example, an alkaline aqueous solution can be used. Examples of the alkaline aqueous solution include sodium hydroxide, potassium hydroxide, sodium carbonate, sodium oxalate, sodium metasuccinate, aqueous ammonia, ethylamine, diethylamine, dimethylethanolamine, tetramethylammonium hydroxide, tetraethylammonium hydroxide, choline. An aqueous solution of a water-soluble alkaline compound such as pyrrole, piperidine, 1,8-diazabicyclo- [5,4,0] -7-undecene is used, and its concentration is usually 0. It is about 001% to 10%, preferably about 0.01% to 1%. The alkaline aqueous solution may contain a water-soluble organic solvent such as methanol and ethanol, a surfactant, and the like. An organic solvent can also be used as the developer. For example, the same organic solvents as described above may be used in appropriate combination as a solvent used for diluting the black photosensitive resin composition.
The development method is not particularly limited, and for example, development can be performed by a method such as a dip development method (immersion development method), a shower development method, a spray development method, a paddle development method (a liquid development method). The development temperature is usually in the range of 10 ° C. to 40 ° C., and the development time is usually 10 seconds to 300 seconds.
By the development, the light non-irradiated region (11) in the black photosensitive resin composition layer that has not been irradiated with the light is dissolved in the developer and removed. On the other hand, the light-irradiated region (12) irradiated with the light remains to form the colored pattern (5).
A colored pattern (5) is obtained by drying after development (FIG. 2 (c)). When an alkaline aqueous solution is used as the developer, it is usually dried after washing with water after development. You may heat-process after drying.
In this way, a colored pattern is obtained. However, according to the forming method of the present invention, since the development margin is wide, the yield can be improved and the resolution is good, so even a fine colored pattern can be easily formed. be able to.
The obtained colored pattern is useful as a black matrix.

上記において、本発明の実施の形態について説明を行なったが、上記に開示された本発明の実施の形態は、あくまで例示であって、本発明の範囲はこれらの実施の形態に限定されない。本発明の範囲は、特許請求の範囲によって示され、さらに特許請求の範囲の記載と均等の意味及び範囲内でのすべての変更を含むものである。以下、実施例によって本発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。   While the embodiments of the present invention have been described above, the embodiments of the present invention disclosed above are merely examples, and the scope of the present invention is not limited to these embodiments. The scope of the present invention is defined by the terms of the claims, and further includes meanings equivalent to the description of the claims and all modifications within the scope. EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention in detail, this invention is not limited by these Examples.

実施例1
〔黒色感光性樹脂組成物1の調製〕
(A)黒色着色剤〔黒色顔料(C.I.ピグメントブラック7)198質量部と分散剤45.5質量部との混合物〕184質量部、
(B)バインダー樹脂〔式(XIV)で表される化合物300質量部とビフェニルテトラカルボン酸二無水物50質量部、テトラヒドロフタル酸無水物50質量部とを、特開平8−278630号公報に記載の方法と同様にして反応させて得たポリカルボン酸樹脂〕100質量部、
Example 1
[Preparation of black photosensitive resin composition 1]
(A) Black colorant [mixture of 198 parts by mass of black pigment (CI Pigment Black 7) and 45.5 parts by mass of dispersant] 184 parts by mass,
(B) Binder resin [300 parts by mass of the compound represented by the formula (XIV), 50 parts by mass of biphenyltetracarboxylic dianhydride, 50 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride are described in JP-A-8-278630. Polycarboxylic acid resin obtained by reacting in the same manner as in the above method] 100 parts by mass,

Figure 0004595374
Figure 0004595374

エチレン性不飽和結合を有し付加重合可能な化合物(C)〔ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート〕33質量部、
光重合開始剤(D)〔式(XV)で表される化合物〕14.8質量部および
Compound (C) [dipentaerythritol hexaacrylate] having an ethylenically unsaturated bond and capable of addition polymerization, 33 parts by mass,
Photopolymerization initiator (D) [compound represented by formula (XV)] 14.8 parts by mass and

Figure 0004595374
Figure 0004595374

溶剤(E)〔プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート〕1178質量部を混合して黒色感光性樹脂組成物1を得た。 1178 parts by mass of the solvent (E) [propylene glycol monomethyl ether acetate] was mixed to obtain a black photosensitive resin composition 1.

〔黒色感光性樹脂組成物層の形成〕
前記の黒色感光性樹脂組成物1をガラス基板〔「#1737」コーニング社製〕(2)の表面にスピンコート法で塗布し、100℃で3分間加熱して乾燥させて、黒色感光性樹脂組成物層(1)を基板(2)上に形成した。この乾燥後の黒色感光性樹脂組成物層の厚みは1.0μmであった。
[Formation of black photosensitive resin composition layer]
The black photosensitive resin composition 1 is applied to the surface of a glass substrate (“# 1737” manufactured by Corning) (2) by spin coating, heated at 100 ° C. for 3 minutes and dried to obtain a black photosensitive resin. The composition layer (1) was formed on the substrate (2). The thickness of the black photosensitive resin composition layer after drying was 1.0 μm.

〔黒色パターンの形成(解像度の評価)〕
上記で黒色感光性樹脂組成物層(1)を形成した基板(2)にフォトマスク(3)を介して超高圧水銀灯で紫外線を照射して(照射量は200mJ/cm2)、露光した。フォトマスク(3)としては、線幅が線幅5μm、6μm、7μm、8μm、9μm、10μm、20μm、30μm、40μm、50μmおよび100μmの線状(ラインアンドスペース)の着色パターン(2)を形成するためのフォトマスクを用いた。
露光後の黒色感光性樹脂組成物層を現像液〔水酸化カリウムを質量分率で0.05%含み、ノニオン系界面活性剤を含む水溶液、23℃〕に90秒間浸漬して現像した。
現像後、水洗し、230℃で20分間加熱して、基板(2)上に黒色の着色パターン(ブラックマトリックス)を形成した。このブラックマトリックスを光学顕微鏡で観察したところ、線幅が4μmの着色パターンが再現性よく形成されていた。
[Black pattern formation (resolution evaluation)]
The substrate (2) on which the black photosensitive resin composition layer (1) was formed as described above was irradiated with ultraviolet rays (irradiation amount was 200 mJ / cm 2 ) through a photomask (3) with an ultrahigh pressure mercury lamp, and was exposed. As the photomask (3), linear (line and space) colored patterns (2) having a line width of 5 μm, 6 μm, 7 μm, 8 μm, 9 μm, 10 μm, 20 μm, 30 μm, 40 μm, 50 μm and 100 μm are formed. A photomask was used.
The black photosensitive resin composition layer after the exposure was developed by immersing it in a developer (an aqueous solution containing 0.05% by weight of potassium hydroxide and containing a nonionic surfactant, 23 ° C.) for 90 seconds.
After the development, it was washed with water and heated at 230 ° C. for 20 minutes to form a black colored pattern (black matrix) on the substrate (2). When this black matrix was observed with an optical microscope, a colored pattern having a line width of 4 μm was formed with good reproducibility.

〔黒色パターンの形成(現像マージンの評価)〕
上記と同様にして基板上に形成した黒色感光性樹脂組成物層を露光した黒色感光性樹脂組成物層を、上記で用いたと同じ現像液に浸漬して現像し、10μmが再現する現像時間の幅を観察したところ、40秒から120秒の間、すなわち80秒間の現像マージンで10μmのパターンが再現性よく形成されていた。
[Black pattern formation (evaluation of development margin)]
The black photosensitive resin composition layer exposed on the black photosensitive resin composition layer formed on the substrate in the same manner as described above is developed by immersing in the same developer as used above, and a development time of 10 μm is reproduced. When the width was observed, a 10 μm pattern was formed with good reproducibility between 40 seconds and 120 seconds, that is, with a development margin of 80 seconds.

〔感度の評価〕
マスクパターンとして、遮光層の光線透過率が段階的に変化しているマスクパターンを用いて露光する以外は上記と同様に操作し、パターンが形成されるために必要な最小の光線照射量(感度)を求めた。
得られた感度は80mJ/cm2と非常に高感度であった。
[Evaluation of sensitivity]
Operate in the same manner as above except that exposure is performed using a mask pattern in which the light transmittance of the light-shielding layer changes stepwise as the mask pattern, and the minimum amount of light irradiation (sensitivity required for pattern formation) )
The sensitivity obtained was as high as 80 mJ / cm 2 .

実施例2
〔黒色感光性樹脂組成物2の調製および黒色感光性樹脂組成物層の形成〕
実施例1で使用したバインダー樹脂に代えて、バインダー樹脂〔式(XVI)で表される化合物463質量部とイタコン酸87質量部とを反応させた後、48質量部のアクリル酸を加えて反応させ、更にテトラヒドロフタル酸無水物102質量部を反応させて得たポリカルボン酸樹脂〕33質量部、を用いる以外は実施例1と同様に操作して、黒色感光性樹脂組成物2を得て、黒色感光性樹脂組成物層(厚み1.0μm)を形成した。
Example 2
[Preparation of black photosensitive resin composition 2 and formation of black photosensitive resin composition layer]
Instead of the binder resin used in Example 1, after reacting 463 parts by mass of the compound represented by the formula (XVI) with 87 parts by mass of itaconic acid, 48 parts by mass of acrylic acid was added to react. In addition, a black photosensitive resin composition 2 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 33 parts by mass of a polycarboxylic acid resin obtained by reacting 102 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride was used. A black photosensitive resin composition layer (thickness: 1.0 μm) was formed.

Figure 0004595374
Figure 0004595374

〔評価〕
実施例1で得た黒色感光性樹脂組成物層(1)が形成された基板(2)に代えて上記で得た黒色感光性樹脂組成物層が形成された基板を用いる以外は、実施例1と同様に操作して、解像度、現像マージン、感度を評価した。
結果を表1に示す。
[Evaluation]
Except using the board | substrate with which the black photosensitive resin composition layer obtained above was used instead of the board | substrate (2) with which the black photosensitive resin composition layer (1) obtained in Example 1 was formed, it is Example. In the same manner as in No. 1, the resolution, development margin and sensitivity were evaluated.
The results are shown in Table 1.

実施例3
〔黒色感光性樹脂組成物3の調製および黒色感光性樹脂組成物層の形成〕
実施例1で使用した光重合開始剤にかえて、前記式(XV)で表される化合物7.4質量部と式(XVII)で表される化合物7.4質量部の混合物を用いる以外は実施例1と同様に操作して、黒色感光性樹脂組成物を得て、黒色感光性樹脂組成物層(厚み1.0μm)を形成した。
Example 3
[Preparation of Black Photosensitive Resin Composition 3 and Formation of Black Photosensitive Resin Composition Layer]
Instead of using the photopolymerization initiator used in Example 1, a mixture of 7.4 parts by mass of the compound represented by the formula (XV) and 7.4 parts by mass of the compound represented by the formula (XVII) was used. By operating in the same manner as in Example 1, a black photosensitive resin composition was obtained, and a black photosensitive resin composition layer (thickness: 1.0 μm) was formed.

Figure 0004595374
Figure 0004595374

〔評価〕
実施例2で得た黒色感光性樹脂組成物層(1)が形成された基板(2)に代えて上記で得た黒色感光性樹脂組成物層が形成された基板を用いる以外は、実施例2と同様に操作して、解像度、現像マージン、感度を評価した。
結果を表1に示す。
[Evaluation]
Except using the board | substrate with which the black photosensitive resin composition layer obtained above was used instead of the board | substrate (2) with which the black photosensitive resin composition layer (1) obtained in Example 2 was formed, Example In the same manner as in No. 2, the resolution, development margin and sensitivity were evaluated.
The results are shown in Table 1.

実施例4
〔黒色感光性樹脂組成物4の調製および黒色感光性樹脂組成物層の形成〕
実施例1で使用したバインダー樹脂に代えて、バインダー樹脂〔式(XVIII)で表される化合物(軟化点、エポキシ当量および加水分解性塩素含有量は、それぞれ、74℃、336g/eqおよび230ppmである)98質量部と
Example 4
[Preparation of Black Photosensitive Resin Composition 4 and Formation of Black Photosensitive Resin Composition Layer]
In place of the binder resin used in Example 1, the compound represented by the binder resin [formula (XVIII) (softening point, epoxy equivalent and hydrolyzable chlorine content are 74 ° C., 336 g / eq and 230 ppm, respectively). And 98) parts by mass

Figure 0004595374
Figure 0004595374

21質量部のアクリル酸を加えて反応させ、更にテトラヒドロフタル酸無水物7.2質量部を反応させて得たポリカルボン酸樹脂〕33質量部、を用いる以外は実施例1と同様に操作して、黒色感光性樹脂組成物4を得て、黒色感光性樹脂組成物層(厚み1.0μm)を形成した。 The reaction was conducted in the same manner as in Example 1 except that 21 parts by mass of acrylic acid was added and reacted, and then polycarboxylic acid resin obtained by further reacting 7.2 parts by mass of tetrahydrophthalic anhydride] 33 parts by mass. Then, a black photosensitive resin composition 4 was obtained, and a black photosensitive resin composition layer (thickness: 1.0 μm) was formed.

〔評価〕
実施例1で得た黒色感光性樹脂組成物層(1)が形成された基板(2)に代えて上記で得た黒色感光性樹脂組成物層が形成された基板を用いる以外は、実施例1と同様に操作して、解像度、現像マージン、感度を評価した。
結果を表1に示す。
[Evaluation]
Except using the board | substrate with which the black photosensitive resin composition layer obtained above was used instead of the board | substrate (2) with which the black photosensitive resin composition layer (1) obtained in Example 1 was formed, it is Example. In the same manner as in No. 1, the resolution, development margin and sensitivity were evaluated.
The results are shown in Table 1.

実施例5
〔黒色感光性樹脂組成物3の調製および黒色感光性樹脂組成物層の形成〕
実施例1で使用した光重合開始剤にかえて、前記式(XV)で表される化合物11.1質量部と式(XIX)で表される化合物3.7質量部の混合物を用いる以外は実施例1と同様に操作して、黒色感光性樹脂組成物を得て、黒色感光性樹脂組成物層(厚み1.0μm)を形成した。
Example 5
[Preparation of Black Photosensitive Resin Composition 3 and Formation of Black Photosensitive Resin Composition Layer]
Instead of the photopolymerization initiator used in Example 1, a mixture of 11.1 parts by mass of the compound represented by the formula (XV) and 3.7 parts by mass of the compound represented by the formula (XIX) was used. By operating in the same manner as in Example 1, a black photosensitive resin composition was obtained, and a black photosensitive resin composition layer (thickness 1.0 μm) was formed.

Figure 0004595374
Figure 0004595374

〔評価〕
実施例2で得た黒色感光性樹脂組成物層(1)が形成された基板(2)に代えて上記で得た黒色感光性樹脂組成物層が形成された基板を用いる以外は、実施例2と同様に操作して、解像度、現像マージン、感度を評価した。
結果を表1に示す。
[Evaluation]
Except using the board | substrate with which the black photosensitive resin composition layer obtained above was used instead of the board | substrate (2) with which the black photosensitive resin composition layer (1) obtained in Example 2 was formed, Example In the same manner as in No. 2, the resolution, development margin and sensitivity were evaluated.
The results are shown in Table 1.

実施例6
〔黒色感光性樹脂組成物3の調製および黒色感光性樹脂組成物層の形成〕
実施例1で使用した光重合開始剤にかえて、前記式(XV)で表される化合物7.4質量部、式(XIX)で表される化合物3.7質量部、
Example 6
[Preparation of Black Photosensitive Resin Composition 3 and Formation of Black Photosensitive Resin Composition Layer]
Instead of the photopolymerization initiator used in Example 1, 7.4 parts by mass of the compound represented by the formula (XV), 3.7 parts by mass of the compound represented by the formula (XIX),

Figure 0004595374
Figure 0004595374

および式(XX)で表される化合物3.7質量部の混合物を用いる以外は実施例1と同様に操作して、黒色感光性樹脂組成物を得て、黒色感光性樹脂組成物層(厚み1.0μm)を形成した。 And a black photosensitive resin composition (thickness) obtained in the same manner as in Example 1 except that a mixture of 3.7 parts by mass of the compound represented by the formula (XX) is used. 1.0 μm) was formed.

Figure 0004595374
Figure 0004595374

〔評価〕
実施例2で得た黒色感光性樹脂組成物層(1)が形成された基板(2)に代えて上記で得た黒色感光性樹脂組成物層が形成された基板を用いる以外は、実施例2と同様に操作して、解像度、現像マージン、感度を評価した。
結果を表1に示す。
[Evaluation]
Except using the board | substrate with which the black photosensitive resin composition layer obtained above was used instead of the board | substrate (2) with which the black photosensitive resin composition layer (1) obtained in Example 2 was formed, Example In the same manner as in No. 2, the resolution, development margin and sensitivity were evaluated.
The results are shown in Table 1.

比較例1
〔黒色感光性樹脂組成物5の調製および黒色感光性樹脂組成物層の形成〕
実施例1で使用した光重合開始剤にかえて、前記式(XVII)で表される化合物14.8質量部を用いる以外は実施例1と同様に操作して、黒色感光性樹脂組成物4を得て、黒色感光性樹脂組成物層(厚み1.0μm)を形成した。
Comparative Example 1
[Preparation of Black Photosensitive Resin Composition 5 and Formation of Black Photosensitive Resin Composition Layer]
The black photosensitive resin composition 4 was operated in the same manner as in Example 1 except that 14.8 parts by mass of the compound represented by the formula (XVII) was used instead of the photopolymerization initiator used in Example 1. To obtain a black photosensitive resin composition layer (thickness: 1.0 μm).

〔評価〕
実施例1で得た黒色感光性樹脂組成物層(1)が形成された基板(2)に代えて上記で得た黒色感光性樹脂組成物層が形成された基板を用いる以外は、実施例1と同様に操作して、解像度、現像マージン、感度を評価した。結果を表1に示す。
[Evaluation]
Except using the board | substrate with which the black photosensitive resin composition layer obtained above was used instead of the board | substrate (2) with which the black photosensitive resin composition layer (1) obtained in Example 1 was formed, it is Example. In the same manner as in No. 1, the resolution, development margin and sensitivity were evaluated. The results are shown in Table 1.

比較例2
〔黒色感光性樹脂組成物6の調製および黒色感光性樹脂組成物層の形成〕
実施例1で使用したバインダー樹脂に代えて、ベンジルメタクリレートとメタクリル酸との共重合体〔ベンジルメタクリレート単位の含有量はモル分率で65%、メタクリル酸単位の含有量はモル分率で35%、ポリスチレン換算重量平均分子量は13,000〕80質量部を用い、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの使用量を53質量部とする以外は実施例1と同様に操作して、黒色感光性樹脂組成物5を得て、黒色感光性樹脂組成物層(厚み1.0μm)を形成した。
Comparative Example 2
[Preparation of Black Photosensitive Resin Composition 6 and Formation of Black Photosensitive Resin Composition Layer]
Instead of the binder resin used in Example 1, a copolymer of benzyl methacrylate and methacrylic acid [the content of benzyl methacrylate units is 65% in terms of mole fraction, and the content of methacrylic acid units is 35% in terms of mole fraction. The polystyrene-reduced weight average molecular weight is 13,000]. 80 parts by weight is used, and the black photosensitive resin composition 5 is operated in the same manner as in Example 1 except that the amount of dipentaerythritol hexaacrylate is 53 parts by weight. To obtain a black photosensitive resin composition layer (thickness: 1.0 μm).

〔評価〕
実施例1で得た黒色感光性樹脂組成物層(1)が形成された基板(2)に代えて上記で得た黒色感光性樹脂組成物層が形成された基板を用いる以外は、実施例1と同様に操作して、解像度、現像マージン、感度を評価した。結果を表1に示す。
[Evaluation]
Except using the board | substrate with which the black photosensitive resin composition layer obtained above was used instead of the board | substrate (2) with which the black photosensitive resin composition layer (1) obtained in Example 1 was formed, it is Example. In the same manner as in No. 1, the resolution, development margin and sensitivity were evaluated. The results are shown in Table 1.

Figure 0004595374
Figure 0004595374

本発明の黒色感光性樹脂組成物によれば、解像度、現像マージンおよび感度よく、着色パターン、特にはブラックマトリックスを形成することができ、カラーフィルタひいては液晶表示装置の歩留まりを向上させることができる。   According to the black photosensitive resin composition of the present invention, it is possible to form a colored pattern, particularly a black matrix, with good resolution, development margin and sensitivity, and to improve the yield of the color filter and thus the liquid crystal display device.

カラーフィルタの一例を部分的に示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of a color filter partially. 着色感光性樹脂組成物を用いて基板上に着色パターンを形成する工程を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the process of forming a coloring pattern on a board | substrate using a coloring photosensitive resin composition. 着色感光性樹脂組成物を用いて基板上に着色パターンを形成する工程を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the process of forming a coloring pattern on a board | substrate using a coloring photosensitive resin composition. 着色感光性樹脂組成物を用いて基板上に着色パターンを形成する工程を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the process of forming a coloring pattern on a board | substrate using a coloring photosensitive resin composition.

符号の説明Explanation of symbols

1 :着色感光性樹脂組成物層 11:光線未照射領域
12:光線照射領域
2 :基板
3 :フォトマスク 31:ガラス板
32:遮光層
33:透光部
4 :光線
5 :着色パターン 5R:赤色画素
5G:緑色画素
5B:青色画素
5BM:ブラックマトリックス
6 :カラーフィルタ
1: Colored photosensitive resin composition layer 11: Non-irradiated region
12: Light irradiation area 2: Substrate 3: Photomask 31: Glass plate
32: Light shielding layer
33: Translucent part 4: Light beam 5: Colored pattern 5R: Red pixel
5G: Green pixel
5B: Blue pixel
5BM: Black matrix 6: Color filter

Claims (11)

黒色着色剤(A)、バインダー樹脂(B)、エチレン性不飽和結合を有し付加重合可能な化合物(C)、および少なくとも1種の光重合開始剤(D)を含有する黒色感光性樹脂組成物であって、
バインダー樹脂(B)が、エポキシ基を2個以上有する化合物と多塩基カルボン酸との反応物に不飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに多塩基カルボン酸の無水物を反応させて得られるポリカルボン酸樹脂(b1、およびエポキシ基を2個以上有する化合物に不飽和モノカルボン酸を反応させ、さらに多塩基カルボン酸の無水物を反応させて得られるポリカルボン酸樹脂(b2)からなる群から選ばれる少なくとも1種のポリカルボン酸樹脂であり、かつ、光重合開始剤(D)が、オキシム系化合物を含む光重合開始剤であり、さらにトリアジン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始剤、ベンゾフェノン系光重合開始助剤およびアセトフェノン系光重合開始剤からなる群から選ばれる少なくとも1種を含有する黒色感光性樹脂組成物。
Black photosensitive resin composition containing black colorant (A), binder resin (B), compound (C) having an ethylenically unsaturated bond and capable of addition polymerization, and at least one photopolymerization initiator (D) A thing,
A polycarboxylic acid obtained by reacting an unsaturated monocarboxylic acid with a reaction product of a compound having two or more epoxy groups and a polybasic carboxylic acid, and further reacting an anhydride of the polybasic carboxylic acid with the binder resin (B). Acid resin (b1 and selected from the group consisting of polycarboxylic acid resin (b2) obtained by reacting unsaturated monocarboxylic acid with a compound having two or more epoxy groups and further reacting with anhydride of polybasic carboxylic acid At least one polycarboxylic acid resin, and the photopolymerization initiator (D) is a photopolymerization initiator containing an oxime compound , and further a triazine photopolymerization initiator, a benzophenone photopolymerization initiator, black photosensitive resin composition containing at least one selected from the group consisting of benzophenone photopolymerization initiation aid and acetophenone photopolymerization initiator .
オキシム系化合物が、式(I)〜(IV)で示される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物を含有する請求項1記載の黒色感光性樹脂組成物。
Figure 0004595374
〔式(I)〜(IV)中、R〜R15はそれぞれ下記の意味を表す。
1は、フェニル基[該フェニル基は、ハロゲン原子、炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基、−OR8、−SR9および−NR1011からなる群から選ばれる少なくとも1個の基により置換されていてもよい。]、メチル基、炭素数2〜20のアルキル基[該アルキル基は、−O−の1個以上により中断、および/またはヒドロキシル基の1個以上により置換されていてもよい。]、炭素数5〜8のシクロアルキル基、炭素数2〜20のアルカノイル基、ベンゾイル基[該ベンゾイル基は、炭素数1〜6のアルキル基、フェニル基、−OR8、−SR9および−NR1011からなる群から選ばれる少なくとも1個により置換されていてもよい。]、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基[該アルコキシカルボニル基は、−O−の1個以上により中断、および/またはヒドロキシル基の1個以上により置換されていてもよい。]、フェノキシカルボニル基[該フェノキシカルボニル基は、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、−OR8、−SR9および−NR1011からなる群から選ばれる少なくとも1個により置換されていてもよい。]、−CONR1011基、シアノ基、ニトロ基、炭素数1〜4のハロゲン化アルキル基[該ハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子またはヨウ素原子を表す。]、−SO−Z[式中、Zは炭素数1〜6のアルキル基を表す。]、−SO2−Z[式中、Zは前記と同じ意味を表す。]、−Z2−SO−Z3[式中、Z2は炭素数1〜12のアルキレン基を表し、Z3は炭素数6〜12のアリール基を表す。]、−Z−SO2−Z3[式中、Zは炭素数1〜12のアルキレン基を表し、Z3は前記と同じ意味を表す。]、−SO2O−Z[式中、Zは炭素数6〜10のアリール基を表す。]、またはジフェニル−ホスフィノイル基を表し;
2は、炭素数2〜12のアルカノイル基[該アルカノイル基は、ハロゲン原子またはシアノ基の1個以上により置換されていてもよい。]、炭素数4〜6のアルケノイル基[ただし、アルケノイル基の二重結合はカルボニル基と共役しない。]、ベンゾイル基[該ベンゾイル基は、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、シアノ基、−OR8、−SR9および−NR1011からなる群から選ばれる少なくとも1個により置換されていてもよい。]、炭素数2〜6のアルコキシカルボニル基またはフェノキシカルボニル基[該フェノキシカルボニル基は、炭素数1〜6のアルキル基またはハロゲン原子により置換されていてもよい。]を表し;
3〜R7は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基[該フェニル基は、−OR8、−SR9および−NR1011からなる群から選ばれる少なくとも1個の基により置換されていてもよい。]、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数2〜12のアルカノイル基、炭素数2−12のアルコキシカルボニル基[該アルコキシカルボニル基は、そのアルキル鎖が−O−の1個以上により中断、および/またはヒドロキシル基の1個以上により置換されていてもよい。]、フェノキシカルボニル基、−OR8、−SR9、−SOR9、−SO29または−NR1011[ここで、−OR8、−SR9および−NR1011は、R3〜R7として存在するフェニル環の前記の置換基またはフェニル環の炭素原子の一つと、R8〜R11の1個の水素原子を除いた基を介して5員環または6員環を形成してもよい。ただし、環を形成する場合、R8〜R11は、水素原子ではない。]を表すが、R3〜R7の少なくとも一つは、−OR8、−SR9および−NR1011からなる群から選ばれ;
8は、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基[該アルキル基は、−OH、−SH、シアノ基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数3〜6のアルケンオキシ基、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2(CO)O−T1(式中、T1は炭素数1〜4のアルキル基を表す。)、−O(CO)−Z(式中、Zは炭素数1〜4のアルキル基を表す。)、−O(CO)−Ph(式中、Phはフェニル基を表す。)、−(CO)OHまたは−(CO)O−T2(式中、T2は炭素数1〜4のアルキル基を表す。)で置換されていてもよく、また、該アルキル基は、−O−の1個以上により中断されていてもよい。]、−(CH2CH2O)−H[式中、nは、1〜20の整数を表す。]、炭素数2〜8のアルカノイル基、炭素数3〜12のアルケニル基、炭素数3〜6のアルケノイル基、シクロヘキシル基、フェニル基[該フェニル基は、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキル基または炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよい。]、−Ph−T3[式中、Phはフェニル基を表す。T3は炭素数1〜3のアルキル基を表す。]、−SiT4 rPh3-r[式中、T4は炭素数1〜8のアルキル基を表し、Phはフェニル基を表し、rは、1〜3の整数を表す。]または式(V)を表し、
Figure 0004595374

式(V)中、R1およびR2は前記と同じ意味を表し、M1は、単結合、炭素数1〜12のアルキレンオキシ基[該アルキレンオキシ基は、1〜5個の−O−、−S−および/または−NR10−により中断されていてもよい。]または炭素数1〜12のオキシアルキレン基[該オキシアルキレン基は、1〜5個の−O−、−S−および/または−NR10−により中断されていてもよい。]を表し;
9は、水素原子、メチル基、炭素数2〜12のアルキル基[該アルキル基は、−OH、−SH、シアノ基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数3〜6のアルケンオキシ基、−OCH2CH2CN、−OCH2CH2(CO)O−T5(式中、T5は炭素数1〜4のアルキル基を表す。)、−O(CO)−T6(式中、T6は炭素数1〜4のアルキル基を表す。)、−O(CO)−Ph(式中、Phはフェニル基を表す。)、−(CO)OHまたは−(CO)O−T7(式中、T7は炭素数1〜4のアルキル基を表す。)で置換されていてもよい。また、該アルキル基は、−O−または−S−の1個以上により中断されていてもよい。]、炭素数3〜12のアルケニル基、シクロヘキシル基、フェニル基[該フェニル基は、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキル基または炭素数1〜4のアルコキシ基で置換されていてもよい。]または式(VI)を表し、
Figure 0004595374

式(VI)中、R1およびR2は前記と同じ意味を表し、M2は、単結合または−T14−S−[式中、T14は、炭素数1〜12のアルキレン基(該アルキレン基は、1〜5個の−O−、−S−、および/または−NR10−により中断されていてもよい。)を表す。]を表し;
10およびR11は、互いに独立して、水素原子、炭素数1〜12のアルキル基、炭素数2〜4のヒドロキシアルキル基、−T9−O−T10[式中、T9は炭素数1〜6のアルキレン基を表し、T10は炭素数1〜6のアルキル基を表す。]、炭素数3〜5のアルケニル基、炭素数5〜12のシクロアルキル基、フェニル基[該フェニル基は、炭素数1〜12のアルキル基または炭素数1〜4のアルコキシ基により置換されていてもよい。]、炭素数2〜3のアルカノイル基、炭素数3〜6のアルケノイル基またはベンゾイル基を表し、また、R10およびR11が同一の窒素原子に結合する場合、一緒になって、炭素数2〜6のアルキレン基[該アルキレン基は、−O−または−NR8−により中断、および/またはヒドロキシル基、炭素数1〜4のアルコキシ基、炭素数2〜4のアルカノイルオキシ基またはベンゾイルオキシ基で置換されていてもよい。]を形成していてもよく、R10が水素原子であるとき、R11は、式(VII)であってもよく、
Figure 0004595374

式(VII)中、R1およびR2は前記と同じ意味を表し、M3は、単結合、ピペラジノ基または−T14−NH−[式中、T14は、炭素数1〜12のアルキレン基(該アルキレン基は、1〜5個の−O−、−S−、および/または−NR10−により中断されていてもよい。)を表す。]を表し;
12は、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基[該アルコキシカルボニル基は、−O−の1個以上により中断、および/または場合によりヒドロキシル基の1個以上により置換されていてもよい。]、フェノキシカルボニル基[該フェノキシカルボニル基は、炭素数1〜6のアルキル基、ハロゲン原子、フェニル基、OR8またはNR1011の1個以上により置換されていてもよい。]、炭素数5〜8のシクロアルキル基、−CONR1011、シアノ基、フェニル基[該フェニル基は、SR9により置換されていてもよく、R13〜R15を有するフェニル環の炭素原子への結合を構築することにより、水素原子1個を除いたR9(ただし、環構造を形成する場合、R9は水素原子またはシアノ基ではない。)を介して、5員環または6員環が形成されてもよい。]を表すが、R13〜R15の少なくとも1個が、−SR9であるならば、R12は、メチル基または炭素数2〜12のアルキル基[該アルキル基は、ハロゲン原子、−OH、−OR2、フェニル基、ハロゲン化フェニル基またはSR9置換フェニル基の1個以上により置換されていてもよく、あるいは−O−および/または−NH(CO)−により中断されていてもよい。]を表し;
13〜R15は、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜12のアルキル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基[該フェニル基は、−OR8、−SR9および−NR1011からなる群から選ばれる少なくとも1個の基により置換されていてもよい。]、ベンジル基、ベンゾイル基、炭素数2〜12のアルカノイル基、炭素数2〜12のアルコキシカルボニル基[該アルコキシカルボニル基は、−O−の1個以上により中断、および/またはヒドロキシル基の1個以上により置換されていてもよい。]、フェノキシカルボニル基、−OR8、−SR9、−SOR9、−SO29または−NR1011[ここで、−OR8、−SR9および−NR1011は、R〜Rとして存在するフェニル環の前記の置換基またはフェニル環の炭素原子の一つと、R8〜R11の1個の水素原子を除いた基を介して5員環または6員環を形成してもよいが、環を形成する場合、R8〜R11は、水素原子ではない。]を表すが、R13〜R15の少なくとも一つは、−OR8、−SR9または−NR1011を表し;
Xは、炭素数1〜12のアルキレン基、シクロヘキシレン基、フェニレン基、−(CO)O−T12−O(CO)−[式中、T12は炭素数2〜12のアルキレン基を表す。]、−(CO)O−(CH2CH2O)−(CO)−[式中、nは、1〜20の整数を表す。]、または−(CO)−T13−(CO)−[式中、T13は炭素数2〜12のアルキレン基を表す]を表す。〕
The black photosensitive resin composition according to claim 1, wherein the oxime compound contains at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by formulas (I) to (IV).
Figure 0004595374
[In formulas (I) to (IV), R 1 to R 15 each have the following meaning.
R 1 represents a phenyl group [the phenyl group is at least one selected from the group consisting of a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a phenyl group, —OR 8 , —SR 9 and —NR 10 R 11 . It may be substituted by a group. ], A methyl group, an alkyl group having 2 to 20 carbon atoms [the alkyl group may be interrupted by one or more of -O-, and / or substituted by one or more of hydroxyl groups. ], A cycloalkyl group having 5-8 carbon atoms, alkanoyl group having 2 to 20 carbon atoms, a benzoyl group [wherein the benzoyl group is an alkyl group, a phenyl group having 1 to 6 carbon atoms, -OR 8, -SR 9 and - It may be substituted with at least one selected from the group consisting of NR 10 R 11 . ], An alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms [the alkoxycarbonyl group may be interrupted by one or more of —O— and / or substituted by one or more of hydroxyl groups. ], A phenoxycarbonyl group [the phenoxycarbonyl group is composed of at least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, a phenyl group, —OR 8 , —SR 9 and —NR 10 R 11. May be substituted. ], - CONR 10 R 11 group, a cyano group, a nitro group, halogenated alkyl group [the halogen atom of from 1 to 4 carbon atoms, a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom or an iodine atom. ], - SO-Z 1 [wherein, Z 1 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ], - SO 2 -Z 1 [wherein, Z 1 are as defined above. ], - Z 2 -SO-Z 3 [ wherein, Z 2 represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, Z 3 represents an aryl group having 6 to 12 carbon atoms. ], -Z 4 -SO 2 -Z 3 [wherein Z 4 represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, and Z 3 represents the same meaning as described above.] ], - in SO 2 O-Z 5 [wherein, Z 5 represents an aryl group having 6 to 10 carbon atoms. Or a diphenyl-phosphinoyl group;
R 2 represents an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms [the alkanoyl group may be substituted with one or more halogen atoms or cyano groups. ], An alkenoyl group having 4 to 6 carbon atoms [wherein the double bond of the alkenoyl group is not conjugated with the carbonyl group. A benzoyl group [the benzoyl group is substituted by at least one selected from the group consisting of an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, a cyano group, —OR 8 , —SR 9 and —NR 10 R 11. It may be. ], A C2-C6 alkoxycarbonyl group or a phenoxycarbonyl group [this phenoxycarbonyl group may be substituted by a C1-C6 alkyl group or a halogen atom. ];
R 3 to R 7 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, or a phenyl group [the phenyl group is selected from the group consisting of —OR 8 , —SR 9 and —NR 10 R 11. Optionally substituted with at least one group. ], A benzyl group, a benzoyl group, an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms [wherein the alkoxycarbonyl group is interrupted by one or more of -O-, and / or It may be substituted by one or more of the hydroxyl groups. ], Phenoxycarbonyl group, —OR 8 , —SR 9 , —SOR 9 , —SO 2 R 9 or —NR 10 R 11 [wherein —OR 8 , —SR 9 and —NR 10 R 11 represent R 3 formation and one of the carbon atoms of the substituent or the phenyl ring of the phenyl rings present, a 5- or 6-membered ring via a single group formed by removing a hydrogen atom of R 8 to R 11 as to R 7 May be. However, when forming a ring, R < 8 > -R < 11 > is not a hydrogen atom. Wherein at least one of R 3 to R 7 is selected from the group consisting of —OR 8 , —SR 9 and —NR 10 R 11 ;
R 8 is a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms [the alkyl group is —OH, —SH, a cyano group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkeneoxy group having 3 to 6 carbon atoms, — OCH 2 CH 2 CN, -OCH 2 CH 2 (CO) O-T 1 ( where T 1 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.), - O (CO) -Z 6 ( wherein, Z 6 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.), —O (CO) —Ph (wherein Ph represents a phenyl group), — (CO) OH or — (CO) OT 2 (Wherein T 2 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms), and the alkyl group may be interrupted by one or more of —O—. ], — (CH 2 CH 2 O) n —H [wherein n represents an integer of 1 to 20. ], An alkanoyl group having 2 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 3 to 12 carbon atoms, an alkenoyl group having 3 to 6 carbon atoms, a cyclohexyl group, a phenyl group [the phenyl group is a halogen atom, an alkyl having 1 to 12 carbon atoms] Group or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms may be substituted. ], - Ph-T 3 [wherein, Ph represents a phenyl group. T 3 represents an alkyl group having 1 to 3 carbon atoms. ], - SiT in 4 r Ph 3-r [wherein, T 4 represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, Ph represents a phenyl group, r is represents an integer of 1 to 3. ] Or formula (V),
Figure 0004595374

In formula (V), R 1 and R 2 represent the same meaning as described above, M 1 represents a single bond, an alkyleneoxy group having 1 to 12 carbon atoms [the alkyleneoxy group is 1 to 5 —O— , -S- and / or -NR 10 - it may be interrupted by. Or an oxyalkylene group having 1 to 12 carbon atoms [the oxyalkylene group may be interrupted by 1 to 5 —O—, —S— and / or —NR 10 —. ];
R 9 is a hydrogen atom, a methyl group, an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms [the alkyl group is —OH, —SH, a cyano group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkeneoxy having 3 to 6 carbon atoms; groups, -OCH 2 CH 2 CN, -OCH 2 CH 2 (CO) O-T 5 ( wherein, T 5 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.), - O (CO) -T 6 ( In the formula, T 6 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.), —O (CO) —Ph (wherein Ph represents a phenyl group), — (CO) OH or — (CO) O -T 7 (wherein T 7 represents an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms) may be substituted. The alkyl group may be interrupted by one or more of -O- or -S-. ], A C3-C12 alkenyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group [this phenyl group may be substituted with a halogen atom, a C1-C12 alkyl group or a C1-C4 alkoxy group. ] Or formula (VI)
Figure 0004595374

In formula (VI), R 1 and R 2 represent the same meaning as described above, M 2 represents a single bond or —T 14 —S— [wherein T 14 represents an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms (including An alkylene group may be interrupted by 1 to 5 —O—, —S—, and / or —NR 10 —. ];
R 10 and R 11 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a hydroxyalkyl group having 2 to 4 carbon atoms, -T 9 -O-T 10 [wherein T 9 is carbon represents an alkylene group having 1 to 6, T 10 represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. ], An alkenyl group having 3 to 5 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, a phenyl group [the phenyl group is substituted by an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms. May be. Represents an alkanoyl group having 2 to 3 carbon atoms, an alkenoyl group having 3 to 6 carbon atoms or a benzoyl group, and when R 10 and R 11 are bonded to the same nitrogen atom, -6 alkylene group [the alkylene group is interrupted by -O- or -NR 8- and / or a hydroxyl group, an alkoxy group having 1 to 4 carbon atoms, an alkanoyloxy group having 2 to 4 carbon atoms or a benzoyloxy group May be substituted. And when R 10 is a hydrogen atom, R 11 may be of formula (VII)
Figure 0004595374

In formula (VII), R 1 and R 2 represent the same meaning as described above, and M 3 represents a single bond, a piperazino group or —T 14 —NH— [wherein T 14 is an alkylene having 1 to 12 carbon atoms. A group (the alkylene group may be interrupted by 1 to 5 —O—, —S—, and / or —NR 10 —). ];
R 12 represents an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms [the alkoxycarbonyl group may be interrupted by one or more of —O— and / or optionally substituted by one or more of hydroxyl groups. ], Phenoxycarbonyl group [wherein phenoxycarbonyl group, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, a halogen atom, a phenyl group, optionally substituted by one or more OR 8 or NR 10 R 11. ], A cycloalkyl group having 5-8 carbon atoms, -CONR 10 R 11, a cyano group, a phenyl group [wherein the phenyl group may be substituted by SR 9, carbon of the phenyl ring with R 13 to R 15 By building a bond to the atom, via R 9 without one hydrogen atom (however, when forming a ring structure, R 9 is not a hydrogen atom or a cyano group), Member rings may be formed. In the case where at least one of R 13 to R 15 is —SR 9 , R 12 represents a methyl group or an alkyl group having 2 to 12 carbon atoms [the alkyl group is a halogen atom, —OH , —OR 2 , a phenyl group, a halogenated phenyl group, or an SR 9 substituted phenyl group, or may be interrupted by —O— and / or —NH (CO) —. . ];
R 13 to R 15 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cyclopentyl group, a cyclohexyl group, a phenyl group [the phenyl group is —OR 8 , —SR 9 and — It may be substituted with at least one group selected from the group consisting of NR 10 R 11 . ], A benzyl group, a benzoyl group, an alkanoyl group having 2 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 12 carbon atoms [the alkoxycarbonyl group is interrupted by one or more of -O-, and / or one of hydroxyl groups] It may be substituted by more than one. ], A phenoxycarbonyl group, —OR 8 , —SR 9 , —SOR 9 , —SO 2 R 9 or —NR 10 R 11 [wherein —OR 8 , —SR 9 and —NR 10 R 11 are R 3 Forming a 5-membered or 6-membered ring through one of the above substituents of the phenyl ring existing as -R 7 or one of the carbon atoms of the phenyl ring and a group obtained by removing one hydrogen atom of R 8 -R 11 However, when forming a ring, R < 8 > -R < 11 > is not a hydrogen atom. Wherein at least one of R 13 to R 15 represents —OR 8 , —SR 9 or —NR 10 R 11 ;
X is an alkylene group having 1 to 12 carbon atoms, cyclohexylene group, phenylene group,-(CO) O-T 12 -O (CO)-[wherein T 12 represents an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms. . ], - (CO) O- ( CH 2 CH 2 O) n - (CO) - [ wherein, n represents an integer of 1 to 20. ], Or - (CO) -T 13 - ( CO) - [ wherein, T 13 represents a] represents an alkylene group having 2 to 12 carbon atoms. ]
1が、フェニル基、または炭素数2〜8のアルキル基であり、Rが、炭素数2〜6のアルカノイル基、またはベンゾイル基[該ベンゾイル基は、炭素数1〜6のアルキル基およびハロゲン原子からなる群から選ばれる少なくとも1個により置換されていてもよい。]であり、R、R、Rが、互いに独立して、水素原子、ハロゲン原子、またはフェニル基[該フェニル基は、−OR8、−SR9および−NR1011からなる群から選ばれる少なくとも1個の基により置換されていてもよい。]であり、Rが、−OR8、−SR9、または−NR1011[ここで、−OR8、−SR9および−NR1011は、R3〜R7として存在するフェニル環の前記の置換基またはフェニル環の炭素原子の一つと、R8〜R11の1個の水素原子を除いた基を介して5員環または6員環を形成してもよい。ただし、環を形成する場合、R8〜R11は、水素原子ではない。]である請求項2記載の黒色感光性樹脂組成物。 R 1 is a phenyl group or an alkyl group having 2 to 8 carbon atoms; R 2 is an alkanoyl group having 2 to 6 carbon atoms or a benzoyl group [the benzoyl group is an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms; It may be substituted with at least one selected from the group consisting of halogen atoms. R 3 , R 6 and R 7 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom or a phenyl group [the phenyl group is a group consisting of —OR 8 , —SR 9 and —NR 10 R 11] It may be substituted with at least one group selected from And R 5 is —OR 8 , —SR 9 , or —NR 10 R 11, wherein —OR 8 , —SR 9 and —NR 10 R 11 are phenyl present as R 3 to R 7. and one of the carbon atoms of the substituent or the phenyl ring of the ring, may form a 5- or 6-membered ring via a single group formed by removing a hydrogen atom of R 8 to R 11. However, when forming a ring, R < 8 > -R < 11 > is not a hydrogen atom. The black photosensitive resin composition according to claim 2. 、RおよびRがいずれも水素原子である請求項2または3記載の黒色感光性樹脂組成物。 4. The black photosensitive resin composition according to claim 2, wherein R 3 , R 6 and R 7 are all hydrogen atoms. 1がn−ヘキシル基であり、Rがベンゾイル基であり、Rがフェニルチオ基である請求項2〜4のいずれかに記載の黒色感光性樹脂組成物。 The black photosensitive resin composition according to claim 2 , wherein R 1 is an n-hexyl group, R 2 is a benzoyl group, and R 5 is a phenylthio group. エポキシ基を2個以上有する化合物が、式(VIII)および式(IX)で示される化合物からなる群から選ばれる少なくとも1種の化合物である請求項1〜のいずれかに記載の黒色感光性樹脂組成物。
Figure 0004595374

〔式(VIII)中、pは、1以上20以下の整数を表し、
16〜R19は、それぞれ独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数5〜12のシクロアルキル基、炭素数6〜14のアリール基、または炭素数7〜20のアラルキル基を表し、
1〜Q11は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数1〜8のアルケニル基、炭素数1〜8のアルキニル基、炭素数5〜12のシクロアルキル基、炭素数6〜14のアリール基、炭素数7〜20のアラルキル基、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数1〜8のアルケニルオキシ基、炭素数1〜8のアルキニルオキシ基、炭素数6〜14のアリールオキシ基、ニトロ基またはシアノ基を表す。〕、
Figure 0004595374

〔式(IX)中、Q12〜Q15は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子または炭素数1〜8のアルキル基を表し、
20は、炭素数1〜10のアルキレン基を表し、
qは、0〜5の整数を表し、
Yは、単結合または式(IX−1)〜式(IX−8)のいずれかで表される2価の残基を表す。〕
Figure 0004595374
The black photosensitive composition according to any one of claims 1 to 5 , wherein the compound having two or more epoxy groups is at least one compound selected from the group consisting of compounds represented by formula (VIII) and formula (IX). Resin composition.
Figure 0004595374

[In formula (VIII), p represents an integer of 1 or more and 20 or less,
R 16 to R 19 are each independently a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a cycloalkyl group having 5 to 12 carbon atoms, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, or an aralkyl having 7 to 20 carbon atoms. Represents a group,
Q 1 to Q 11 are each independently a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyl group having 1 to 8 carbon atoms, an alkynyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an alkyl group having 5 to 12 carbon atoms. A cycloalkyl group, an aryl group having 6 to 14 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 8 carbon atoms, an alkenyloxy group having 1 to 8 carbon atoms, and an alkynyloxy group having 1 to 8 carbon atoms Represents an aryloxy group having 6 to 14 carbon atoms, a nitro group, or a cyano group. ],
Figure 0004595374

Wherein (IX), Q 12 ~Q 15 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms,
R 20 represents an alkylene group having 1 to 10 carbon atoms,
q represents an integer of 0 to 5;
Y represents a single bond or a divalent residue represented by any one of formulas (IX-1) to (IX-8). ]
Figure 0004595374
黒色着色剤(A)が、カーボンブラックおよび被覆カーボンブラックからなる群から選ばれる少なくとも1種の黒色着色剤を含有する請求項1〜のいずれかに記載の黒色感光性組成物。 The black photosensitive composition according to any one of claims 1 to 6 , wherein the black colorant (A) contains at least one black colorant selected from the group consisting of carbon black and coated carbon black. 請求項1〜のいずれかに記載の黒色感光性樹脂組成物を用いて形成される着色パターン。 Colored pattern formed using the black photosensitive resin composition according to any one of claims 1-7. ブラックマトリックス用である請求項記載の着色パターン。 The colored pattern according to claim 8 , which is for a black matrix. 請求項または記載の着色パターンを含むカラーフィルタ。 A color filter comprising a colored pattern of claim 8 or 9, wherein. 請求項1記載のカラーフィルタを具備してなる表示装置。 Display device comprising comprising a color filter according to claim 1 0, wherein.
JP2004128096A 2003-04-24 2004-04-23 Black photosensitive resin composition Expired - Lifetime JP4595374B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004128096A JP4595374B2 (en) 2003-04-24 2004-04-23 Black photosensitive resin composition

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003119516 2003-04-24
JP2004023110 2004-01-30
JP2004128096A JP4595374B2 (en) 2003-04-24 2004-04-23 Black photosensitive resin composition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2005242279A JP2005242279A (en) 2005-09-08
JP4595374B2 true JP4595374B2 (en) 2010-12-08

Family

ID=35024042

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004128096A Expired - Lifetime JP4595374B2 (en) 2003-04-24 2004-04-23 Black photosensitive resin composition

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4595374B2 (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190129717A (en) 2018-05-11 2019-11-20 주식회사 트리엘 Novel oxime ester compound and photoresist composition containing the same

Families Citing this family (24)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP4448381B2 (en) * 2004-05-26 2010-04-07 東京応化工業株式会社 Photosensitive composition
KR100763744B1 (en) * 2005-11-07 2007-10-04 주식회사 엘지화학 Triazine based photoactive compound comprising oxime ester
JP4738190B2 (en) * 2006-02-01 2011-08-03 株式会社Adeka Epoxy resin, alkali-developable resin composition, and alkali-developable photosensitive resin composition
JP4745093B2 (en) * 2006-03-17 2011-08-10 東京応化工業株式会社 Black photosensitive composition
JP4745092B2 (en) * 2006-03-17 2011-08-10 東京応化工業株式会社 Black photosensitive composition, light-shielding film and EL device manufactured from this black photosensitive composition
JP4949809B2 (en) * 2006-11-14 2012-06-13 東京応化工業株式会社 Colored photosensitive resin composition
EP2072500B1 (en) 2006-12-27 2012-09-26 Adeka Corporation Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing the compound
EP2128132B1 (en) 2006-12-27 2014-01-15 Adeka Corporation Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing the same
JP5030638B2 (en) * 2007-03-29 2012-09-19 富士フイルム株式会社 Color filter and manufacturing method thereof
KR101418735B1 (en) 2007-12-25 2014-07-11 가부시키가이샤 아데카 Oxime esters and photopolymerization initiators containing the same
JP2009244401A (en) * 2008-03-28 2009-10-22 Fujifilm Corp Black photosensitive resin composition for solid state image sensor and method of forming image
JP5344843B2 (en) * 2008-03-31 2013-11-20 富士フイルム株式会社 Polymerizable composition and solid-state imaging device
JP5336274B2 (en) 2008-07-09 2013-11-06 東京応化工業株式会社 Colored photosensitive resin composition and oxime photopolymerization initiator
JP5620774B2 (en) * 2009-10-15 2014-11-05 住友化学株式会社 Resin composition
JP4818458B2 (en) 2009-11-27 2011-11-16 株式会社Adeka Oxime ester compound and photopolymerization initiator containing the compound
JP6095104B2 (en) * 2012-12-26 2017-03-15 日本化薬株式会社 Active energy ray-curable resin composition, colored spacer for display element, and black matrix
KR101910674B1 (en) * 2013-06-25 2018-10-22 동우 화인켐 주식회사 A black photosensitive resin composition, color filter and display device comprising the same
KR101435652B1 (en) 2014-01-17 2014-08-28 주식회사 삼양사 NOVEL FLUORENYL β-OXIME ESTER COMPOUNDS, PHOTOPOLYMERIZATION INITIATOR AND PHOTORESIST COMPOSITION CONTAINING THE SAME
JP6375236B2 (en) 2014-02-04 2018-08-15 新日鉄住金化学株式会社 Photosensitive composition for light shielding film and cured product thereof
KR101824429B1 (en) 2015-01-26 2018-02-06 주식회사 삼양사 Novel di-oxime ester compounds and photopolymerization initiator and photoresist composition containing the same
KR101824443B1 (en) 2015-04-09 2018-02-05 주식회사 삼양사 Novel fluorenyl oxime ester compounds, photopolymerization initiator and photoresist composition containing the same
KR101828927B1 (en) 2015-02-06 2018-02-14 주식회사 삼양사 Novel oxime ester compounds, photopolymerization initiator and photoresist composition containing the same
KR101777845B1 (en) 2015-06-08 2017-09-12 주식회사 삼양사 Novel fluoranthene oxime ester derivates, photopolymerization initiator and photoresist composition containing the same
KR102613079B1 (en) 2015-07-17 2023-12-12 타코마테크놀러지 주식회사 Oxime ester compound and photosensitive resin composition containing the compound

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002105112A (en) * 2000-09-29 2002-04-10 Taiyo Ink Mfg Ltd Photosensitive paste composition and panel having cured pattern formed from the composition
JP2002519732A (en) * 1998-06-26 2002-07-02 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド Photopolymerizable thermosetting resin composition
JP2004295084A (en) * 2003-03-12 2004-10-21 Mitsubishi Chemicals Corp Photosensitive composition, photosensitive color composition, color filter, and liquid crystal display
JP2005025169A (en) * 2002-10-28 2005-01-27 Mitsubishi Chemicals Corp Photopolymerizable composition and color filter using the same

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0402894B1 (en) * 1989-06-16 1995-07-26 Ciba-Geigy Ag Photoresist
JPH10301276A (en) * 1997-04-23 1998-11-13 Nippon Steel Chem Co Ltd Photosensitive colored composition and color filter using the same

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2002519732A (en) * 1998-06-26 2002-07-02 チバ スペシャルティ ケミカルズ ホールディング インコーポレーテッド Photopolymerizable thermosetting resin composition
JP2002105112A (en) * 2000-09-29 2002-04-10 Taiyo Ink Mfg Ltd Photosensitive paste composition and panel having cured pattern formed from the composition
JP2005025169A (en) * 2002-10-28 2005-01-27 Mitsubishi Chemicals Corp Photopolymerizable composition and color filter using the same
JP2004295084A (en) * 2003-03-12 2004-10-21 Mitsubishi Chemicals Corp Photosensitive composition, photosensitive color composition, color filter, and liquid crystal display

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20190129717A (en) 2018-05-11 2019-11-20 주식회사 트리엘 Novel oxime ester compound and photoresist composition containing the same

Also Published As

Publication number Publication date
JP2005242279A (en) 2005-09-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4595374B2 (en) Black photosensitive resin composition
JP2010170093A (en) Photosensitive black-colored resin composition, black matrix substrate, and method of manufacturing color filter
JP2010156879A (en) Photosensitive composition, color filter and liquid crystal display
JP2010039475A (en) Photosensitive resin composition for ultraviolet laser exposure, pattern forming method, color filter manufactured using the method, method for manufacturing color filter, and liquid crystal display
KR101056720B1 (en) Black photosensitive resin composition
JP2003066597A (en) Black photosensitive resin composition for forming black matrix
US20090185059A1 (en) Colored negative photoresist composition, colored pattern comprising the same, and method for producing the colored pattern
KR101768990B1 (en) Photosensitive composition, color filter, and liquid crystal display device
KR100937918B1 (en) Resin composition
JP2005258254A (en) Black photosensitive resin composition
JP2010156881A (en) Photosensitive composition, colored photosensitive composition, color filter and liquid crystal display
JP2005242280A (en) Black photosensitive resin composition
JP4400025B2 (en) Method for producing polycarboxylic acid resin
JP2013029709A (en) Colored photosensitive resin composition, color filter, and liquid crystal display element having color filter
JP2003177530A (en) Photosensitive composition
JP2002229205A (en) Colored photosensitive resin composition
JP4967212B2 (en) Resin composition
JP2003107702A (en) Resin composition
JP3941494B2 (en) Reaction product and photosensitive resin composition containing the same
KR100936901B1 (en) Process for forming a colored pattern
JP4830233B2 (en) Manufacturing method of color filter
JP2003107693A (en) Resin composition
JP2004043575A (en) Resin composition
JP2004043573A (en) Resin composition
JP2002156753A (en) Colored photosensitive resin composition for color filter

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20070323

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425

Effective date: 20080130

RD05 Notification of revocation of power of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425

Effective date: 20080513

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100112

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100202

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100401

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20100824

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20100906

R151 Written notification of patent or utility model registration

Ref document number: 4595374

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131001

Year of fee payment: 3

S531 Written request for registration of change of domicile

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531

R350 Written notification of registration of transfer

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350