KR100857957B1 - (메트)아크릴산 무수물의 제조방법 및 (메트)아크릴산에스테르의 제조방법 - Google Patents
(메트)아크릴산 무수물의 제조방법 및 (메트)아크릴산에스테르의 제조방법 Download PDFInfo
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- 제 1 항에 있어서,상기 중화 세정 공정에 앞서, 상기 반응액을 미리 저극성 용매에 용해시켜 두는 것을 특징으로 하는 (메트)아크릴산 무수물의 제조방법.
- 제 1 항에 있어서,제조되는 (메트)아크릴산 무수물이 반도체 레지스트용 중합체의 원료가 되는 (메트)아크릴산 에스테르 단량체의 원료인 (메트)아크릴산 무수물의 제조방법.
- 제 4 항에 있어서,제 2 급 또는 제 3 급 알콜류가 하기 화학식 1 또는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물이고, 제조되는 (메트)아크릴산 에스테르가 하기 화학식 3 또는 하기 화학식 4로 표시되는 (메트)아크릴산 에스테르인 것을 특징으로 하는 (메트)아크릴산 에스테르의 제조방법.화학식 1[상기 식에서,R1은 수소 또는 알킬기를 나타내고, n 및 m은 독립적으로 0 또는 1개의 메틸렌기의 수를 나타낸다]화학식 2[상기 식에서,R2는 알킬기를 나타낸다]화학식 3[상기 식에서,R1은 수소 또는 알킬기를 나타내고, n 및 m은 독립적으로 0 또는 1개의 메틸렌기의 수를 나타내고, R3은 수소 또는 메틸기를 나타낸다]화학식 4[상기 식에서,R2는 알킬기를 나타내고, R3은 수소 또는 메틸기를 나타낸다]
- 제 5 항에 있어서,상기 에스테르화 공정을 80℃ 이하의 반응 온도에서 수행하는 것을 특징으로 하는 (메트)아크릴산 에스테르의 제조방법.
- 제 6 항에 있어서,제조되는 (메트)아크릴산 에스테르가 상기 화학식 3으로 표시되는 (메트)아크릴산 에스테르로서,상기 에스테르화 공정후에 얻어지는 (메트)아크릴산 에스테르를 저극성 용매로 세정하고, 추가로 산성 수용액, 알칼리성 수용액 또는 이들 둘다로 세정하는 세정 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 (메트)아크릴산 에스테르의 제조방법.
- 제 6 항에 있어서,제조되는 (메트)아크릴산 에스테르가 상기 화학식 4로 표시되는 (메트)아크릴산 에스테르로서,상기 에스테르화 공정후에 얻어지는 (메트)아크릴산 에스테르를 알칼리성 수용액으로 세정하고, 추가로 산성 수용액으로 세정하는 세정 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 (메트)아크릴산 에스테르의 제조방법.
- 제 7 항에 있어서,상기 세정 공정후에 얻어진 (메트)아크릴산 에스테르를 박막 증류하는 것을 특징으로 하는 (메트)아크릴산 에스테르의 제조방법.
- 제 8 항에 있어서,상기 세정 공정후에 얻어진 (메트)아크릴산 에스테르를 박막 증류하는 것을 특징으로 하는 (메트)아크릴산 에스테르의 제조방법.
- (메트)아크릴산과 이하의 구조식으로 표시되는 지방산 무수물을 반응시키는 공정,반응후의 반응액을, 미리 저극성 용매에 용해시킨 후, pH 7.5 내지 13.5의 알칼리 수용액으로 중화 세정하는 공정 및중화 세정 후의 반응액에 포함되는 (메트)아크릴산 무수물과 제 2 급 또는 제 3 급 알콜류를 25℃의 물중에서의 산성도(pKa)가 11 이하인 염기성 화합물의 공존하에 반응시키는 에스테르화 공정을 포함하는 (메트)아크릴산 에스테르의 제조방법.[상기 식에서,R4는 탄소수 1 내지 3의 알킬기를 나타내고, 2개의 R4는 서로 상이할 수도 동일할 수도 있다]
- 제 11 항에 있어서,제 2 급 또는 제 3 급 알콜류가 하기 화학식 1 또는 하기 화학식 2로 표시되는 화합물이고, 제조되는 (메트)아크릴산 에스테르가 하기 화학식 3 또는 하기 화학식 4로 표시되는 (메트)아크릴산 에스테르인 것을 특징으로 하는 (메트)아크릴산 에스테르의 제조방법.화학식 1[상기 식에서,R1은 수소 또는 알킬기를 나타내고, n 및 m은 독립적으로 0 또는 1개의 메틸렌기의 수를 나타낸다]화학식 2[상기 식에서,R2는 알킬기를 나타낸다]화학식 3[상기 식에서,R1은 수소 또는 알킬기를 나타내고, n 및 m은 독립적으로 0 또는 1개의 메틸렌기의 수를 나타내고, R3은 수소 또는 메틸기를 나타낸다]화학식 4[상기 식에서,R2는 알킬기를 나타내고, R3은 수소 또는 메틸기를 나타낸다]
- 제 12 항에 있어서,상기 에스테르화 공정을 80℃ 이하의 반응 온도에서 수행하는 것을 특징으로 하는 (메트)아크릴산 에스테르의 제조방법.
- 제 13 항에 있어서,제조되는 (메트)아크릴산 에스테르가 상기 화학식 3으로 표시되는 (메트)아크릴산 에스테르로서,상기 에스테르화 공정후에 얻어지는 (메트)아크릴산 에스테르를 저극성 용매로 세정하고, 추가로 산성 수용액, 알칼리성 수용액 또는 이들 둘다로 세정하는 세정 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 (메트)아크릴산 에스테르의 제조방법.
- 제 13 항에 있어서,제조되는 (메트)아크릴산 에스테르가 상기 화학식 4로 표시되는 (메트)아크릴산 에스테르로서,상기 에스테르화 공정후에 얻어지는 (메트)아크릴산 에스테르를 알칼리성 수용액으로 세정하고, 추가로 산성 수용액으로 세정하는 세정 공정을 포함하는 것을 특징으로 하는 (메트)아크릴산 에스테르의 제조방법.
- 제 14 항에 있어서,상기 세정 공정후에 얻어진 (메트)아크릴산 에스테르를 박막 증류하는 것을 특징으로 하는 (메트)아크릴산 에스테르의 제조방법.
- 제 15 항에 있어서,상기 세정 공정후에 얻어진 (메트)아크릴산 에스테르를 박막 증류하는 것을 특징으로 하는 (메트)아크릴산 에스테르의 제조방법.
- 제 4 항에 있어서,제조되는 (메트)아크릴산 에스테르가 반도체 레지스트용 중합체의 원료인 (메트)아크릴산 에스테르의 제조방법.
- 제 11 항에 있어서,제조되는 (메트)아크릴산 에스테르가 반도체 레지스트용 중합체의 원료인 (메트)아크릴산 에스테르의 제조방법.
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