KR100857365B1 - 반도체 장치의 범프 구조물 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 제1금속층과, 상기 제1금속층과 전기적으로 연결되어 일체화되며, 반도체 장치의 전극 패드와 전기적으로 접속되는 제2금속층을 포함하며, 상기 제2금속층은 제1금속층의 융점 또는 제1금속층이 다른 물질의 표면과 융착 반응하는 경우의 공융점(eutectic temperature) 보다 높은 녹는점을 갖는 하나 이상의 금속 또는 합금으로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 범프 구조물을 제공한다. 상기 제2금속층은 제1금속층 보다 두께가 큰 것이 바람직하다. 상기 제1금속층과 제2금속층 사이에 확산방지층을 더 포함할 수 있다. 본 발명에 따르면, 2층 이상의 다층 범프 구조물로서 각 층을 구성하는 도전성 물질의 물리적 또는 화학적 성질을 달리하여 범프 구조물의 최외부층의 융착에 의한 퍼짐 현상을 최소화할 수 있다. 또한, 범프 구조물의 기계적 내지 물리적 안정성을 더욱 향상시킬 수 있다. 따라서, 미세 피치의 반도체 패키지 구현에 적합하며, 고가의 범프 재료를 보다 저렴한 다른 재료로 대치하여 제조 비용을 절감시킬 수 있다.
반도체 패키지, 범프, Au, 미세 피치

Description

반도체 장치의 범프 구조물{BUMP STRUCTURE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE}
도 1은 단일 금속으로 형성된 범프 구조물을 보인 단면도.
도 2는 범프 구조물 상단의 수평적 퍼짐 현상을 보인 모식적 단면도.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 범프 구조물을 보인 단면도.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 범프 구조물을 보인 단면도.
도 5는 외부회로기판과 접촉된 범프 구조물을 보인 단면도.
도 6은 외부회로기판과 전기적으로 접속된 범프 구조물을 보인 단면도.
*** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ***
100:기판 110:전극 패드
120:유전층 130:제1금속층
140:제2금속층 150:확산 방지층
200:외부회로기판
본 발명은 반도체 장치의 범프 구조물에 관한 것으로 상단의 퍼짐 현상을 최 소화하고 물리력인 지지력이 우수하며 미세 피치 구현에 적합한 새로운 범프 구조물을 제안한다.
반도체 칩의 고집적화, 고성능화 및 고속화됨에 따라 반도체 패키지를 소형화 및 대량 생산하기 위한 다양한 노력들이 시도되고 있다. 예를 들면 반도체 칩의 패드들 상에 형성된 솔더 재질이나 금속 재질의 범프를 통해 직접적으로 반도체 칩의 패드들과 인쇄회로기판의 전극 단자들을 전기적으로 연결시키는 반도체 패키지가 제안 되었다.
솔더 범프를 이용한 반도체 패키지는 대표적으로 플립칩 볼 그리드 어레이(FCBGA: flip chip ball grid array)나 웨이퍼 레벨 칩 스케일(wafer level chip scale package: WLCSP) 패키지 방식이 적용되고 있다. 금속 재질의 범프를 이용한 반도체 패키지는 대표적으로 칩-온-글래스(chip-on-glass)/TCP(tape carrier package) 방식이 적용되고 있다.
플립칩 볼 그리드 어레이 방식은 반도체 칩의 패드들과 접촉되는 솔더 범프들을 기판의 패드들과 전기적으로 연결하고, 솔더 범프들을 외부의 환경이나 기계적인 문제로부터 보호하기 위해 언더필(underfill)을 실시한 다음, 상기 반도체 칩이 접촉된 기판의 배면에 솔더 볼들을 부착하여 인쇄회로기판의 전극 단자들과 전기적으로 연결함으로써, 반도체 패키지를 완성한다. 웨이퍼 레벨 칩 스케일 패키지는 제품의 경박 단소를 위해 전극 패드를 재배치(redistribution 또는 reconfiguration) 시키고 금속 범프를 통해서 칩과 패키지 사이즈를 동일하게 제조한다.
이와 같은 다양한 반도체 패키지 기술에 있어서, 범프의 구조는 반도체 패키지의 경박 단소화 및 미세 피치를 구현함에 있어서 매우 중요하다. 그런데, 범프 구조물로 사용되는 금속이 전기적 접속을 위하여 외부회로기판 등과의 융착시 구조적인 변형이 심하게 되어 인접하는 전극 간의 브릿지(bridge)가 발생되거나, 범프 구조물 내지 패키지 구조의 오염과 손상이 발생하여 제조 수율(yield)을 감소시킬 뿐만 아니라, 반도체 장치의 기능을 저하시키는 문제가 심각하게 발생하고 있다.
예를 들어, 도 1에 도시한 바와 같이 기판(10) 상면에서 유전층(30)에 의해 노출된 전극 패드(20) 위에 형성되는 범프 구조물(40)은 외부회로기판 또는 다른 반도체 장치와 전기적으로 접속될 때, 국부적인 융착에 의하여 상부 표면(도 2의 X)이 심하게 변형이 일어나게 된다.
또한, 도 2에 도시한 바와 같이 구조적인 안정성이 약화되어 범프 구조물(40')의 형태가 심하게 변형된다. 이러한 범프 구조물의 원치않는 변형은 주변의 범프와 연결되거나 기판의 기 형성된 구조물 및 배선으로 침투 내지 접촉하여 전기적인 불량을 야기한다.
이와 같이 범프 구조물 상단의 융착에 의한 수평적 퍼짐은 인접 전극간의 전기적 연결을 발생시켜 반도체 장치의 동작 특성을 저해할 뿐만 아니라, 미세 피치의 소자 설계와 공정 적용에 한계가 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 범프 구조물 상단부의 수평적 퍼짐 및 수직적 변형을 억제하고 물리적인 지지력을 향상시킨 새로운 반도체 장치의 범프 구조물을 제공하는 것이다.
또한, 본 발명의 다른 목적은 미세 피치의 반도체 패키징 공정시 인접 전극간의 브릿지(bridge)를 방지하고, 반도체 장치에 형성되어 있는 부품들의 오염 또는 손상을 방지하여 수율을 증가시키고, 성능 저하를 개선하는데 있다.
상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일 관점에 따르면 인쇄회로기판을 포함한 각종 기판, 전기적 부품 또는 기계적 부품과 전기적으로 접속되는 제1금속층과, 상기 제1금속층과 전기적으로 연결되어 일체화되며, 반도체 장치의 전극 패드와 전기적으로 접속되는 제2금속층을 포함하며, 상기 제2금속층은 제1금속층의 융점 또는 제1금속층이 다른 물질의 표면과 융착 반응하는 경우의 공융점(eutectic temperature) 보다 높은 녹는점을 갖는 하나 이상의 금속 또는 합금으로 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 범프 구조물을 제공한다.
상기 제2금속층은 제1금속층 보다 두께가 큰 것이 바람직하며, 예를 들어 제1금속층 두께의 1 배 이상, 바람직하게는 1.5 ~ 2 배 이상의 수직 두께로 제2금속층을 형성하여 범프 구조물의 구조적 안정성을 높이고, 제1금속층의 융착에 의한 퍼짐을 개선할 수 있다.
본 발명은 상기 제1금속층과 제2금속층 사이에 확산방지층을 더 포함할 수 있다. 본 발명은 상기 제1금속층 상부에 솔더층을 더 포함할 수 있다.
본 발명의 다른 관점에 따르면, 인쇄회로기판을 포함한 각종 기판, 전기적 부품 또는 기계적 부품과 전기적으로 접속되는 제1금속층과, 상기 제1금속층과 전 기적으로 연결되어 일체화되며, 반도체 장치의 전극 패드와 전기적으로 접속되는 제2금속층을 포함하며, 상기 제2금속층은 제1금속층 보다 수직 두께가 큰 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 범프 구조물을 제공한다.
본 발명에 따르면, 2층 이상의 다층 범프 구조물로서 각 층을 구성하는 도전성 물질의 물리적 또는 화학적 성질을 달리하여 범프 구조물이 외부회로기판이나 기타 반도체 소자 등에 전기적으로 접속될 때, 범프 구조물의 최외부층의 융착에 의한 퍼짐 현상을 최소화할 수 있다. 또한, 범프 구조물의 기계적 내지 물리적 안정성을 더욱 향상시킬 수 있다. 따라서, 미세 피치의 반도체 패키지 구현에 적합하며, 고가의 범프 재료를 보다 저렴한 다른 재료로 대치하여 제조 비용을 절감시킬 수 있다.
도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 범프 구조물을 보인 단면도이다. 인쇄회로기판이나 실리콘 기판 등의 기판(100) 표면의 소정 영역에 형성되며 유전층(120)에 덮힌 채로 국부적으로 노출된 전극 패드(110) 위에 범프 구조물을 구성하는 제1금속층(130)과 제2금속층(140)이 적층되어 하나로 일체화되어 있다. 상기 전극 패드는 기판(100) 내부에서 재배치된 배선(미도시)의 일단에 형성될 수도 있다.
상기 제1금속층(130)은 제2금속층(140) 보다 수직 두께가 작으며, 제1금속층(130) 및 제2금속층(140)은 도전성이 우수한 하나 이상의 금속으로 형성된다.
상기 제1금속층(130)으로는 예를 들어, 도전성이 우수한 금속 또는 일종 이상의 합금이 사용될 수 있고, 본 발명의 일실시예에서는 Au를 적용하지만, 반드시 이에 한정될 필요는 없다. 제1금속층(130)의 높이는 수십 Å 내지 수백 ㎛ 까지 적용가능 하며, 기판 구조에 따라 탄력적으로 적용 가능하다. 또한, 도시되지는 않았지만 상기 제1금속층 상부에 추가로 공융점 솔더(Eutectic solder : Sn/37Pb), 고융점 솔더(High Lead solder : Sn/95Pb), 납이 없는 솔더(Lead free solder : Sn/Ag, Sn/Cu, Sn/Zn, Sn/Zn/Bi, Sn/Zn/Bi, Sn/Ag/Cu, Sn/Ag/Bi) 중에서 선택되는 어느 하나의 물질로 구성되는 솔더층을 더 포함할 수도 있다.
상기 제2금속층(140)은 제1금속층(130)이 외부회로기판 내지 반도체 소자 등과 물리적으로 접촉하여 전기적 접속을 이룰 때 접촉 표면에서의 융착시 공융점 보다 높은 녹는점을 가지는 것이 바람직하다. 제1금속층(130)이 반도체 기판 재료인 실리콘이나 기타 도전성 물질 등과 전기적으로 접속하는 경우 접촉 표면에서 융착에 의하여 공융 반응(eutectic reaction)이 발생하며, 이 경우 제1금속층의 녹는점 보다 낮은 온도에서 융착이 발생한다. 융착에 의하여 제1금속층(130)은 수평적으로 퍼지게 되어 접촉 계면의 면적이 증가된다.
예를 들어, 제1금속층으로 Au가 사용되고, 범프 구조물과 접합되는 외부회로기판의 재질이 실리콘인 경우, 접촉 계면에서는 Au-Si의 공융 반응이 일어나며, Au-Si의 공융 온도인 363℃ 보다 녹는점(melting point)이 높은 모든 금속이 제2금속층으로 사용될 수 있다. 본 발명의 일실시예에서는 제2금속층으로 Cu를 사용하였으나, 반드시 이에 한정될 필요는 없으며, 티타늄 또는 티타늄 합금, 크롬 또는 크롬 합금, 구리 또는 구리 합금, 니켈 또는 니켈 합금, 금 또는 금 합금, 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 바나듐 또는 바나듐 합금 등 다양한 금속이 사용될 수 있다.
상기 제2금속층(140)은 제1금속층(130)이 융착에 의하여 수평적으로 퍼지게 될 때, 그 하부에서 물리적인 지지력을 제공함과 동시에 과도한 수평적 퍼짐을 방지함으로써 하나의 범프 구조물이 인접하는 범프 구조물에 전기적으로 연결되는 현상을 방지할 수 있다.
또한, 제2금속층(140)이 하부에서 제1금속층(130)을 지지하면서 하나의 일체화된 적층 구조물을 형성하기 때문에, 제1금속층(130)만으로 범프 구조물을 형성하는 경우 보다 제1금속층(130)의 상대적인 두께 비율을 줄일 수 있으며, 그 결과 제1금속층으로 고가의 금속을 사용하는 경우에 범프 구조물 형성에 소요되는 비용을 크게 절감시키는 장점이 있다. 예를 들어, 제1금속층만으로 Au를 사용하여 범프 구조물을 형성하는 경우 보다 제1금속층과 제2금속층을 함께 적층한 다층 구조물의 경우 범프 구조물 형성에 약 3 ~ 4 배 이상의 재료비 절감 효과를 얻을 수 있다.
도 4는 본 발명의 다른 실시예에 따른 범프 구조물의 단면을 보인 것으로서, 앞선 실시예에서와는 달리 범프 구조물이 3층의 적층 구조로 형성되어 있는 것을 볼 수 있다.
제1금속층(130)과 제2금속층(140) 사이에 부가적으로 확산 방지층(150)이 삽입되어 있다. 이 확산 방지층은 제1금속층(130)과 제2금속층(140) 사이의 접합력을 향상시켜주고 확산을 방지하는 역할을 한다. 상기 확산 방지층(150)으로는 상기 확산 방지층(150)으로는 니켈, 티타늄, 크롬, 구리, 바나듐, 알루미늄, 금, 코발트, 망간, 팔라듐 또는 이들의 합금 등 일반적으로 사용되는 확산방지층 및 접합층 재료는 모두 사용이 가능하며, 단일층 또는 복합층으로도 형성할 수 있다.
도 5 및 도 6은 본 발명에 따른 범프 구조물을 통해 반도체 장치와 다른 반 도체 장치(또는 외부회로기판) 간의 전기적인 접속 구조를 형성한 모습을 도시하고 있다.
먼저, 도 5에 도시한 바와 같이 범프 구조물이 형성되어 있는 기판(100)에 다른 반도체 장치 또는 외부회로기판(200)을 근접하여 배치하고, 상기 다른 반도체 장치 또는 외부회로기판(200)의 표면을 범프 구조물의 최상부인 제1금속층(130)에 접촉시킨다. 열처리를 통해 범프 구조물의 제1금속층(130)을 상기 다른 반도체 장치 또는 외부회로기판(200)의 표면에 융착시키면, 부분적으로 제1금속층(130)이 용융되어 물리적 접합 및 전기적 접속이 이루어진다.
제1금속층 하부의 제2금속층은 제1금속층과 상기 다른 반도체 장치 또는 외부회로기판(200)의 표면과의 공융 온도 보다도 녹는점이 크기 때문에 상기 융착 과정 동안에도 물리적인 형태가 변화되지 않으며, 범프 구조물을 견고하게 유지시킨다.
따라서, 도 6에 도시한 바와 같이, 최종적인 형태는 범프 구조물의 상단인 제1금속층(130)이 부분적으로 수평적인 퍼짐이 발생하더라도 전체적인 범프 구조물의 형태는 최초 상태와 크게 달라지지 않은 견고한 상태를 유지한다. 특히, 제1금속층(130)이 접합 과정에서 용융이 심하게 되더라도 제2금속층(140) 상단까지의 높이로 제한되므로 제1금속층(130) 용융으로 인한 각종 문제점들이 해결되며, 제품 수율 향상과 공정 신뢰성을 달성할 수 있다.
또한, 반도체 장치와 외부회로기판 또는 다른 반도체 장치 간의 전기적 접속에 필요한 공간을 일종의 스페이서로 작용하는 제2금속층의 높이로 조절 가능하며, 제1 금속층의 높이를 조절하여 수평적의 퍼짐을 최소화시킬 수 있다. 이를 위하여 상기 제2금속층은 제1금속층 보다 수직 두께가 큰 것이 바람직하며, 더욱 바람직하게는 1.5 ~ 2 배 이상 큰 것이 적절하다.
또한, 각 범프 구조물들의 높이 균일도가 우수하여 범프 구조물과 외부회로기판 또는 다른 반도체 장치와의 접합 불량을 방지할 수 있다. 특히, 제1금속층의 수평적 퍼짐이 방지되어 미세 피치의 반도체 패키지 구현이 가능하다.
본 발명은 광범위한 반도체 장치 및 반도체 패키지에 적용될 수 있다. 뿐만 아니라 상기 반도체 장치로는 금속배선이 형성된 실리콘 웨이퍼 소자, 실리콘을 비롯한 각종 금속으로 형성된 이차원 또는 삼차원 구조물을 가지는 전자 소자 등이 포함될 수 있다.
이상에서 바람직한 실시예를 통하여 본 발명을 예시적으로 설명하였으나, 본 발명은 이와 같은 특정 실시예에만 한정되는 것은 아니며 본 발명에서 제시한 기술적 사상, 구체적으로는 특허청구범위에 기재된 범주 내에서 다양한 형태로 수정, 변경, 또는 개선될 수 있을 것이다.
이상에서 살펴본 바와 같이, 본 발명에 따르면 2층 이상의 다층 범프 구조물로서 각 층을 구성하는 도전성 물질의 물리적 또는 화학적 성질을 달리하여 범프 구조물이 외부회로기판이나 기타 반도체 소자 등에 전기적으로 접속될 때, 범프 구조물의 최외부층의 융착에 의한 퍼짐 현상을 최소화할 수 있다. 또한, 범프 구조물의 기계적 내지 물리적 안정성을 더욱 향상시킬 수 있다. 따라서, 미세 피치의 반도체 패키지 구현에 적합하며, 고가의 범프 재료를 보다 저렴한 다른 재료로 대치하여 제조 비용을 절감시킬 수 있다.

Claims (13)

  1. 인쇄회로기판을 포함하는 각종 기판, 전기적 부품 또는 기계적 부품과 전기적으로 접속되는 제1금속층과,
    상기 제1금속층과 전기적으로 연결되어 일체화되며, 반도체 장치의 전극 패드와 전기적으로 접속되는 제2금속층을 포함하며,
    상기 제2금속층은 제1금속층의 융점 또는 제1금속층이 다른 물질의 표면과 융착 반응하는 경우의 공융점(eutectic temperature) 보다 높은 녹는점을 갖는 하나 이상의 금속 또는 합금으로 구성되며,
    상기 제1금속층은 Au로 구성되는 것을 특징으로 하는
    반도체 장치의 범프 구조물.
  2. 제1항에 있어서, 상기 제2금속층은 제1금속층 보다 두께가 큰 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 범프 구조물.
  3. 제1항에 있어서, 상기 제1금속층과 제2금속층 사이에 하나 이상의 확산방지층을 더 포함하는 반도체 장치의 범프 구조물.
  4. 제3항에 있어서, 상기 확산방지층은 니켈, 티타늄, 크롬, 구리, 바나듐, 알루미늄, 금, 코발트, 망간, 팔라듐 또는 이들의 합금 중에서 선택되는 어느 하나 이상의 물질을 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 범프 구조물.
  5. 제1항에 있어서, 상기 제1금속층 상부에 솔더층을 더 포함하는 반도체 장치의 범프 구조물.
  6. 삭제
  7. 제1항에 있어서, 상기 제2금속층은 티타늄 또는 티타늄 합금, 크롬 또는 크롬 합금, 구리 또는 구리 합금, 니켈 또는 니켈 합금, 금 또는 금 합금, 알루미늄 또는 알루미늄 합금, 바나듐 또는 바나듐 합금 중에서 선택되는 어느 하나 이상의 물질로 구성되는 반도체 장치의 범프 구조물.
  8. 제1항에 있어서, 상기 반도체 장치의 전극 패드는 재배치된 배선의 일단에 형성되어 있는 반도체 장치의 범프 구조물.
  9. 인쇄회로기판을 포함한 각종 기판 및 전기적 부품 또는 기계적 부품과 전기적으로 접속되는 제1금속층과,
    상기 제1금속층과 전기적으로 연결되어 일체화되며, 반도체 장치의 전극 패드와 전기적으로 접속되는 제2금속층을 포함하며,
    상기 제2금속층은 제1금속층 보다 수직 두께가 크고, 상기 제2금속층은 제1금속층의 융점 또는 제1금속층이 다른 물질의 표면과 융착 반응하는 경우의 공융점보다 높은 녹는점을 갖는 하나 이상의 금속 또는 합금으로 구성되는 것을 특징으로 하는
    반도체 장치의 범프 구조물.
  10. 삭제
  11. 제9항에 있어서, 상기 제1금속층과 제2금속층 사이에 하나 이상의 확산방지층을 더 포함하는 반도체 장치의 범프 구조물.
  12. 제9항에 있어서, 상기 제1금속층 상부에 솔더층을 더 포함하는 반도체 장치의 범프 구조물.
  13. 삭제
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