KR100821932B1 - 박판 유리 제조방법 및 제조장치 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 박판 유리의 제조방법에 관한 것으로서, 특히, 두께가 1mm 이하인 박판 유리를 얇은 유리 리본을 인발하여 제조하는 방법에 관한 것이다. 본 발명에 따른 제조방법에 있어서, 유리 용융물은 용융 탱크로부터 유입구를 통해 적어도 하나의 슬롯 노즐을 구비한 인발 탱크로 공급된다. 총 처리량은 유입구의 길이 및 직경과 유입구에서의 유리 용융물의 점성에 의하여 결정된다. 소위, 선형 처리량이라고 불리는 유리 리본의 횡방향 단위길이당 처리량은 노즐 시스템에서의 유리 용융물의 점성 및 노즐 시스템의 기하학적 형상에 의하여 조절된다. 이러한 매개 변수들은 유리 용융물이 노즐에서 배출될 때 슬릿 노즐의 파단부에서 슬릿 노즐의 하면을 적시지 않도록 조절된다.
또한, 본 발명은 박판 유리 제조장치에 관한 것으로서, 유입부(1), 인발 탱크(6) 및 노즐 시스템(9)가 폐쇄 시스템을 구성하는 것을 특징으로 한다. 상기 유입부(1)는 분할된 튜브 구역(2a, 2b, 2c)으로 이루어지는 튜브(2)를 구비하고 있으며, 상기 튜브(2)는 길이가 2~5m 정도이고 단면이 원형으로 50~80mm의 직경를 가진다. 상기 인발 탱크(6)은 수직 및 횡방향으로 분할된 가열 시스템(9)를 구비하고 있다.

Description

박판 유리 제조방법 및 제조장치 {METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING THIN GLASS PANES}
본 발명은 판유리 제조 방법에 관한 것으로서, 보다 구체적으로는 용융된 유리를 용융로로부터 유입구를 통하여 적어도 하나의 데비튜스(debiteuse)를 구비한 인발 탱크로 이송하여, 유리 리본을 수직 하방향으로 인발하여 두께가 3mm이하인 박판유리를 제조하는 방법에 관한 것이다. 또한, 본 발명은 청구항 15에 기재된 바와 같이 이러한 박판 유리의 제조장치에 관한 것이다.
이러한 박판 유리는 휴대전화, 평면 스크린 등의 표시장치 및 컴퓨터의 대용량 저장장치 등과 같은 전자 장치의 기재 유리로서 사용된다. 따라서, 기포나 함유물 등에 의해 결정되는 유리 내부의 품질, 청결도, 미세 주름 및 평면도의 편차(왜곡)에 의하여 결정되는 표면의 기하학적 형상의 품질, 파괴 강도, 및 경량화에 관하여 매우 높은 수준의 품질이 요구된다.
유리가 표시 장치의 기재로서 사용되는 경우, 이러한 유리는 전이온도(transition temperature)에 가까운 온도에서 열적 제조 공정을 거치게 되 며, 이러한 과정에서도 기재 유리는 치수 안정성을 유지해야 한다. 따라서, 높은 전이온도를 갖는 특수 유리나 세라믹 유리가 기재 유리로서 사용되며, 대부분의 이러한 특수 유리나 세라믹 유리는 결정화 경향이 높고, 온도에 대하여 비정형 함수로 나타나는 점성 커브를 갖는다. 결과적으로, 이러한 유리는 일반 유리보다도 더 높은 처리 온도가 요구된다.
이러한 응용 제품들은 대개 대량 생산 제품이기 때문에 가능한 한 저가로 판유리를 생산해야할 필요가 있다. 따라서, 짧은 전·후처리 시간과 높은 처리량과 더불어 유리 결함으로 인하여 발생되는 폐기물을 줄일 수 있는 높은 공정 안정성을 구현하는 것이 바람직하다. 또한, 비용 소요가 많은 그라인딩 공정이나 광택 공정을 줄이거나 생략할 수 있도록 하면서도 표면의 청결도와 표면 기하학적 품질에 대한 수요자의 요구를 포괄적으로 만족시킬 필요가 있다.
현재까지 알려진 인발 방법으로는 상기에 언급한 제품 품질과 경제성에 관한 요구의 일부분 만을 만족시킬 수 밖에 없었다.
여러가지 생산 방법등 중에서 차이점은 데비튜스(debiteuse)의 사용여부에 있다.
예를 들어, 미국 특허 3,338,696에 기재된 데비튜스를 사용하지 않는 인발 방법에서는, 유리 용융물이 쐐기 형상의 긴 홈통으로 이송되며, 이렇게 이송된 유리 용융물이 상기 홈통의 벽면 상단을 넘어 넘치게 되면 쐐기 형상의 홈통의 외벽을 따라 하방향으로 이동하도록 구성된 발명이 기재되어 있다. 이렇게 생성된 유리 필름은 상기 쐐기 형상의 홈통의 꼭지점에서 만나 함께 유동하게 되며, 하방향으로 인발되게 된다. 상기 세라믹 홈통은 부식을 줄이기 위하여 백금으로 도금된다.
상기 제조 방법에서, 총 처리량은 기본적으로 용융로와 상기 홈통 사이의 유입량에 의하여 결정된다. 소위, 선형 처리량으로 불리는 유리 리본의 인발 방향에 대한 횡방향의 단위길이당 처리량은 홈통에서의 유리의 유동, 홈통의 범람순(overflow lip) 근처에서의 유리 용융물의 높이 및 유리 용융물의 점성에 의하여 조절된다. 따라서 매우 정확한 온도 조절이 요구되며 오차 범위는 반드시 0.1℃ 이내가 되어야 한다.
형태의 변화나 처리량의 변경을 위해서는, 홈통 내에서의 유리 용융물의 유동을 위하여 설치되는 인발 홈통의 새로운 기하 도형적 배치가 요구된다. 새로운 인발 홈통을 설치하는 데는 약 일주일 이상이 소요되기 때문에 바람직한 생산의 유동성은 극히 제한된 정도에서만 이루어질 수 있다.
부식된 홈통의 선단부는 단조(tilting)나 신장(stretching) 등을 통하여 원상 복구될 수 없기 때문에, 이러한 선단부가 부식된 홈통은 반드시 교체하고 새로이 공정을 다시 시작해야 한다.
좁은 경계부를 갖는 광폭 유리 리본을 생산하기 위해서는, 유리 리본은 단부에서 소위 보더 롤러라고 하는 기구를 통하여 리본의 횡방향으로 신장되어야 한다. 이러한 보더 롤러는 생산 공정의 복잡화를 가중시킨다.
슬릿(slit) 노즐을 이용한 인발 방법들의 차이점은 인발봉이나 스프레더(spreader)를 사용하는지 여부에 있다.
특허공개 SU 617,390에 기재되어 있는, 인발봉없이 슬릿 노즐만을 사용하는 방법에 있어서, 정련기와 조절장치로부터 유입된 유리 용융물은 내화성 물질로 제조된 범람둑(overflow weir)의 양 측면의 반대 벽면을 타고 흘러 넘치도록 구성되어있다. 이렇게 양측 벽면을 타고 범람된 유리 용융물의 필름은 노즐의 위로 함께 흐르게 되어 하측 방향으로 인발된다. 처리량은 범람순(overflow lip)에서의 유리 유동물의 높이에 의하여 결정된다. 이는 정련기에서의 유동물을 조절하거나 범람 블록을 보다 깊이 침하시킴으로써 조절 가능하다.
인발봉없이 슬릿 노즐만을 사용하는 방법은 표면 품질, 특히 미세 주름에 관하여 강화된 요구를 만족시킬 수 없다. 유리 용융물의 오니온 구역(onion region)에서의 짧은 체류 시간과 유리 용융물의 높은 점성 때문에 표면의 불규칙성은 치유될 수 없다.
유리 용융물이 임계 점성 밑으로 떨어졌을 때 오니온 구역(onion region)에서 불안정성이 증가되기 때문에 소정의 공정 온도 이상을 초과할 수는 없다. 결과적으로 현재 알려진 인발봉을 사용하지 않는 인발 방법으로는 결정화 경향이 강화된 특수 유리를 제조할 수 없다.
상기에서 언급한 단점들은 내부 인발봉을 구비한 슬릿 노즐을 사용함으로써 부분적으로 극복될 수 있다.
미국 특허 1,759,229는 판유리 제조를 위한 인발 방법에 대하여 기재하고 있는 바, 이러한 방법에서 유리는 정련기 또는 조절장치의 저면에 설치된 슬릿 노즐을 통하여 장사방형(편능형)의 단면을 갖는 스프레더로 유동하게 되고, 이 스프레더 위로 하방 인발된다. 슬릿 노즐 하부에서, 스프레더는 저면을 향하여 넓어지는 형태의 요부에 삽입 체결된다. 정련기 또는 조절장치의 유리조 깊이는 슬릿 노즐의 단부 쪽으로 증가하는 형태를 갖는다. 여기서 중요한 점은 슬릿 노즐은 단부쪽으로 넓어지며, 사용되는 정렬 가능한 스프레더는 중앙부에서 상방향으로 절곡된 형태로 구성되어야 한다는 점이다.
상기 스프레더의 쐐기 형상의 하부에는 인발 방향에 대하여 횡 방향으로 연장 형성되는 가열 또는 냉각 요소를 구비할 수 있는 내부 공간이 구비되어 있다. 스프레더의 온도는 온도 조절 매체의 흐름을 조절함으로써 조정 가능하다.
유리 용융물의 유동은 노즐과 스프레더의 기하학적 형상, 정련기 또는 조절장치에서의 온도 수준과 변화 추이, 및 노즐에 대한 스프레더의 위치에 영향을 받는다. 상기 스프레더는 유리 용융물의 온도를 인발 방향의 횡방향으로 균일하게 유지해야만 소정의 규격에 맞는 균일한 외관을 갖는 평판 유리를 생산할 수 있다.
독일 특허출원 AS 15 96 484는 가열 가능한 폐쇠 채널을 통하여 용융로에 연결된 균일화 장치를 구비한 기구를 개시하고 있으며, 상기 용융로는 저면에 백금으로 만들어진 슬릿이 구비된 노즐이 형성되어 있다. 상기 노즐의 하부에는 수직 방향으로 배치된 판의 형태로 인발봉이 구비되어 있다. 노즐에서 배출된 유리 용융물은 상기 인발봉의 양면을 따라 하방향으로 이동하여 하단부에서 합쳐져 유리 리본을 형성하게 된다.
내부의 열발산을 위하여 인발봉의 내부에는 천공이 구비되며, 이 천공을 통하여 냉매를 유동시킬 수 있도록 구성된다. 또한, 냉각체가 인발봉 저부의 외측에 부착된다. 이러한 인발봉의 높이는 조절 스쿠류로 조정하는 것이 가능하다.
일본 특허 2-217,327호에는 판유리를 생산하기 위한 기구가 개시되어 있는데, 여기서 유리 용융물은 공급장치(피더)나 정련기의 바닥에 구비된 슬릿을 통하여 하방향으로 인발된다. 상기 슬릿 노즐은 간접적인 방식으로 가열될 수 있으며, 유리 용융물의 흐름은 상기 슬릿의 상부에 배치되는 플런져에 의하여 차단된다. 유리 리본을 안정화시키기 위해서, 데비튜스는 평판 형상의 내부 인발봉을 구비하고 있으며, 이러한 내부 인발봉은 양측에서 고정되며 위치 조정이 가능하다. 또한 상기 내부 인발봉의 상부는 데비튜스로 돌출되어 있으며 하부는 밀봉되어 있다.
미국 특허 1,829,639호는 노즐 시스템의 기하학적 배치, 노즐 부근에서의 유리 용융물의 점성 및 노즐을 통과하는 유리 용융물의 압력에 의해서만 총 처리량과 선형 처리량이 조절되는 장치와 방법에 대하여 기술하고 있다. 노즐에서 막 배출된 유리 용융물은 낮은 수위를 갖는 개방형 저장 시스템때문에 약간의 초과 압력을 갖는다. 이러한 기구 및 제조방법에서의 가장 중요한 단점은 총 처리량과 선형 처리량이 연계된다데 있다.
현재까지 알려진 인발봉을 채용한 슬릿노즐을 사용하는 생산 방법은 슬릿노즐을 사용하지 않는 인발 방법으로 달성 가능한 우수한 표면 품질을 달성할 수 없다. 특히, 높은 선형 처리량과 높은 처리공정 온도에서, 유리 필름이 인발봉에서 계류하는 시간은 표면의 미세 굴곡을 제거하기에는 충분하지 않다. 이러한 현상은 선단의 부근에서 노즐이 젖음으로 인하여 발생된다.
종래의 인발봉 없이 슬릿 노즐만으로 판유리를 생산하는 방법에서는 총 처리량의 조정과 선형 처리량(인발방향의 횡방향으로의 두께 분포)의 조정은 서로 연계 된다.
형태와 처리량의 변경에 있어, 노즐의 기하학적 배치 및 노즐 부근에서의 온도조절은 정확한 조정을 위하여 일반적으로 경험론적 방식으로 지속적으로 갱신되어야 한다. 따라서, 공정의 개시에는 많은 시간이 소요되며, 제품 생산의 유동성도 극히 제한된 부분에서만 이루어질 수 있다.
지정된 두께 분포를 조절하기 위해서는, 노즐 부근에서 인발방향에 대한 횡방향으로 소정의 온도 프로필이 맞춰져야 한다. 유리 리본에 부여되는 온도 분포는 부분적으로만 어닐링 영역에서 유지될 수 있다. 이는 실온으로 냉각하는 과정에서 유리 리본에 간과할 수 없는 변형을 일으킬 수 있다.
본 발명의 목적은 현저한 결정화 경향 또는 세라믹화 경향을 갖는 유리를 생산하는데 사용될 수 있으며, 박판 유리의 품질을 향상시키고 생산성을 증가시킬 수 있는 판유리 제조방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 목적은 이러한 방법을 수행할 수 있는 장치를 제공하는 것이다.
이러한 목적은 청구항1에 기재된 특징을 갖는 방법에 의하여 달성될 수 있다. 본 발명에 따른 제조방법은 상기에 언급된 생산 품질과 경제성에 관한 요건을 만족시킨다.
본 발명에 따른 제조방법은 노즐을 사용하는 인발 방법과 노즐을 사용하지 않는 인발 방법의 장점을 조합하여 이루어진다. 즉, 본 발명의 제조방법은 20㎛에 서 3000㎛의 다양한 두께를 가지는 판 유리를 제조할 수 있으며, 인발 방향 및 인발 방향의 횡방향으로도 고른 두께 분포를 갖으며 두께의 변동폭 또한 20㎛ 이내가 되고 작은 경계폭을 가지는 것을 특징으로 한다. 또한, 본 발명의 제조방법은 미세 주름이 20nm 이하인 우수한 표면 품질을 달성할 수 있다. 또한, 왜곡 또한 극히 미미하다. 높은 공정 온도와 낮은 공정 점성(5×103에서 3×104 dPas)은 결정화가 용이한 유리나 유리 세라믹의 생산을 가능케 한다. 또한, 형태에 관련된 유동성도 높아 제조 가능한 판 유리의 폭이 300mm에서 2000mm로 다양하다. 또한, 높은 공정 안정성을 가지면서도 향상된 선형 처리량 (단위시간 및 유리 리본폭 당의 유리질량이 5g/(mm×min)이상)을 달성할 수 있다. 반면에, 본 발명은 노즐을 사용하는 인발방법 및 노즐을 사용하지 않는 인발방법의 단점들 대부분을 회피할 수 있다.
유입구, 인발 탱크 및 노즐 시스템은 폐쇠 시스템으로 구성되는 것이 바람직하다. 총 처리량은 유입구의 길이 및 단면, 유입구에 배치되는 유리 용융물의 점성에 의하여 결정된다. 한편, 유리 리본의 횡방향으로의 단위 길이당 처리량은 노즐 시스템의 기하학적 배치와 노즐을 따라 흐르는 유리 용융물의 점성에 의하여 정해지는 확정 두께에 의하여 결정된다. 노즐 시스템의 높이와 유리 용융물의 자유 표면 높이의 표고 차에 의하여 발생되는 유리 용융물의 압력은 본 발명, 특히 유입구에서 이루어지는 공정 단계에 의하여 감소된다. 노즐 시스템 부근에서의 압력 저하가 적기 때문에 유리 용융물이 슬릿 노즐에서 방출될 때 단지 미세한 정도로만 폭이 넓어진다. 절단부 부근에서의 노즐의 젖음으로 인하여 기존에 알려진 인발 방법 에 비하여 향상된 표면 품질을 달성할 수 있다.
본 발명에 있어서, 총 처리량의 조절은 대체적으로 선형 처리량의 조절과 연계되지 않는다. 총 처리량은 유입구의 가열과 냉각을 통해 조절되며, 선형 처리량과 유리 리본 방향의 횡방향 두께 분포는 인발 탱크 부근, 슬릿 노즐 및 인발봉을 가열 및 냉각함으로써 조절된다. 이는 결국, 인발 탱크와 노즐 부근에서의 온도변화에 따른 압력 저하는 총 처리량에 거의 영향을 미치지 않는다는 것을 의미한다. 따라서, 총 처리량의 안정성이 증가되며, 또한 Z축방향 (도1의 좌표 시스템 참조)으로의 유리 리본의 두께 분포 안정성이 증가된다. 본 발명과 같이 서로 다른 공정 단계가 연계되지 않은 경우,그 공정의 제어가 단순화될 수 있다. 또한, 공정의 초기화에 소요되는 시간이 줄어들며, 총 처리량 또는 유리 리본의 두께 변경과 같은 생산 유동성이 기존에 알려진 인발 방법에 비하여 월등히 향상된다. 또한, 사용되는 장비는 유리 리본의 기하학적 형상의 변화나 공정 변수의 변경에 따라 새로이 변경될 필요가 없다.
하기의 유입구 온도범위(ZR), 인발 탱크의 온도범위(ZT) 및 슬릿 노즐의 온도범위(SD)는, 대략 700℃의 전이온도 Tg, 약 2.5 g/cm3의 밀도 및 약 37×10-7/K의 열팽창도를 갖는 무 알카리 보로실리케이트(borosilicate) 유리를 제조하는데 적합한 것으로 판명되었다.
TZR1=Tg+670K 에서 TZR2=Tg+590K
TZT1=Tg+590K 에서 TZT2=Tg+570K
TSD=Tg+570K 에서 Tg+550K
상기 식에서 Tg는 유리 전이온도를 나타낸다.
본 발명에 따른 제조방법은 인발봉없이도 표면 품질에 대하여 만족할 만한 결과를 나타내지만, 인발봉을 사용함으로써 표면 품질을 더욱 향상시킬 수 있다. 상기 인발봉은 유리 용융물이 슬릿 노즐을 통과할 때 이를 분할하는 역할을 한다. 상기 유리 용융물은 인발봉의 양면을 따라 하방향으로 유동한다. 이렇게 나뉜 두개의 유리 필름은 상기 인발봉의 하단부에서 다시 하나의 유리 리본으로 합쳐지게 된다.
바람직하게, 상기 인발봉 상에서의 유리 필름의 점성 및 계류 시간은 이상적인 표면 윤곽과의 편차를 완전하게 제거할 수 있을 정도로 조절된다. 이를 달성하기 위하여, 상기 유리 필름은 인발봉 상에서 선택적으로 가열 및/또는 냉각된다.
유리 용융물의 점성을 낮게 유지하면서, 인발봉에서의 두 유리 필름의 계류시간을 증가시켜, 표면장력을 통하여 이상적인 표면 윤곽과의 편차를 거의 완전하게 제거한다. 이러한 방법을 사용함으로써, 노즐을 사용하지 않는 인발 방법을 이용하여 생산된 제품의 표면 품질(미세굴곡<20mm)에 비견할 만한 표면 품질을 달성할 수 있다.
이와 관련하여, 하기와 같이 인발봉(LK)의 온도범위를 선정하는 것이 바람직하다.
TLK=Tg+560K 에서 Tg+540K, 이는 유리 점성 1×104dPas 대응된다.
일예로, 슬릿 노즐과 인발봉 사이의 슬릿 폭은 10mm 이며, 두 유리 필름의 두께는 8mm이다. 이는 두 유리 필름이 슬릿 노즐의 하부를 적시지 않는다는 것을 의미한다.
슬릿 노즐의 파단면의 기하학적 형상에 요구되는 정밀도는 노즐만을 사용하는 기존의 인발 방법에 비하여 낮다. 따라서, 기존의 인발 방법과 달리, 본 발명의 노즐은 여러번 사용될 수 있으며, 생산 공정의 일시 중지 후에도 재사용될 수 있다. 결과적으로 생산 단가를 낮출 수 있는 효과가 있다.
인발봉에 의한 유리 필름의 안정화와 오니온 구역에서 두 유리 필름이 융합된 후의 신속한 냉각으로 인하여, 인발봉을 사용하지 않는 인발 방법에서보다 훨씬 높은(100K 이상) 공정온도를 선택할 수 있어, 노즐을 사용하지 않는 인발방법에서의 공정 온도에 필적할 만한 온도가 된다. 이러한 공정 온도의 상승은 현저한 결정화 경향을 지닌 특수 유리의 생산이나 세라믹 유리의 생산을 가능케한다.
바람직하게, 유리 리본은 오니온 부근에서 선택적으로 냉각된다.
인발봉에 의한 유리 필름의 안정화와 오니온 구역에서의 신속한 냉각으로 인하여,오니온 구역 부근에서의 유리 질량은 낮아진다. 결과적으로 최대 5g/(mm×min)까지 공정 안정성을 유지하면서 선형 처리량을 조정할 수 있다. 예를 들면, 상기에서 언급된 온도범위의 셋팅에서, 3.5g/(mm×min)의 선형 처리량을 달성할 수 있다. 이는 결정적으로 생산성을 향상시킨다.
슬릿 노즐을 따라 변하는 유리 용융물의 온도 편차 ΔTSD 는 20K 이내로 조정 되는 것이 바람직하다. 노즐을 사용하는 기존의 인발 방법과 달리, 노즐 부근에서의 온도는 확실히 보다 균일하게 유지된다. 따라서, 본 발명에서는, 냉각 공정에서 발생하는 유리 리본의 횡방향 수축률은 노즐을 사용한 기존의 인발 방법에서보다 훨씬 균일하게 유지된다. 따라서, 실온으로 냉각 과정에서 발생되는 유리 리본의 변형은 분명하게 감소한다. 결과적으로, 평면도에 관해 높은 품질을 요구를 만족하는 판유리를 제조할 수 있다.
유리 필름은 양단을 따라 횡적으로 유도되는 것이 바람직하다. 인발봉의 측면 제한기와 노즐 노(爐)의 냉각 시스템 부근에서의 온도 제어를 통하여, 경계부분의 폭과 이로 인한 유리 손실을 적절한 수준으로 낮출 수 있도록 공정을 제어할 수 있다. 이로써, 소정의 폭을 설정하기 위해서, 노즐 부근과 보더 롤러 상에서의 비균일 온도 제어를 제거할 수 있다. 이러한 수율의 향상은 생산성 증대로 이어진다.
상기 노즐 노(爐)에서, 주 냉각기는 오니온 부근에서의 유리의온도를 대략 Tg+290K 정도로 냉각시킨다.
선형 처리량에서의 약간의 불균일은 유리 리본의 인발방향에 대한 횡방향으로 미세한 두께의 변동을 초래할 수 있다. 본 발명에 따르면, 유리의 두께 분포는 주 냉각기 하부에 위치하는 노즐 노(爐) 냉각 시스템으로 보정가능하며, 이러한 냉각 시스템은 X 축방향으로 분할되어 있다. 때문에, 유리 리본의 각기 다른 구역들은 필요에 따라 약간씩 다르게 냉각되어지며, Z 축방향으로의 유리 리본의 신장은 비교적 서늘한 구역에서보다 비교적 뜨거운 구역에서 훨씬 크다. 따라서 유리 리본의 신장 시에, 보다 서늘한 구역에서의 두께의 감소가 뜨거운 구역에서의 두께의 감소에 비하여 적절한 속도로 이루어진다. 따라서 노즐 노(爐)의 분할된 가열 및 냉각 요소들은 유리 리본 방향과 유리 리본의 횡방향으로의 결정온도 프로필을 선정하는데 사용된다. 이는 두께 분포의 품질 기준에 대하여 향상된 결과를 도출할 수 있다.
장치에 관해 살펴보면, 유리 리본은 점탄성 상태일때 필요에 따라 노즐 노(爐)의 하단에 위치한 롤러를 통하여 유리 리본의 횡방향으로 신장되어, 잔류 응력이 없는 상태의 평면으로 인발 축에 위치한 열 흡수장치로 이송된다. 이는 고온 성형 구역에서 야기될 수 있는 평면도 편차를 정정할 수 있다. 또한, 실린더나 롤러는 탄성 구역에서의 변형이 고온 성형 구역에 영향을 미치지 않도록한다. 분할된 가열 및 냉각 요소들이 유리 리본의 횡방향에서의 결정 온도 프로필을 결정하는데 사용될 수 있는 롤링 노(爐) 내부 또는 인발통 내부에는 실린더나 롤러가 배치된다. 이는 평면도 왜곡에 관한 품질 기준에 대하여 향상된 결과를 도출한다.
본 발명에 따르면, 유리 리본은 노즐 노(爐)의 하부의 인발 롤러에 의하여 수직 하방으로 인발된다. 예를 들어, 상기 인발 롤러는 유리 리본을 1.6m/min의 속도로 인발하여, 3.5g/(min×mm)의 선형 처리량을 유지하며, 전체적으로 0.7mm의 두께를 가진 판유리를 대략 800mm정도 생산한다. 바람직하게, 상기 유리 리본의 두께는 연속적으로 측정되며, 인발 속도는 측정된 두께 수치에 의하여 제어된다.
상기 인발 속도는 유리의 냉각 후에 실행되는 실시간 두께 측정 함수에 의해서도 조정될 수 있다. 이는 유리의 평균두께의 품질 기준에 관하여 향상된 결과를 도출할 수 있게 한다.
유리 리본의 두께가 두꺼운 경우, 즉, 무거운 유리 리본에 인발력이 약한 경우, 만약 일정 두께의 유리를 생산하는데 필요한 인발력이 유리 리본의 중량을 감당하지 못하면, 인발 롤러가 유리 리본의 중량 일부를 보상할 수 있다. 이러한 경우, 상기 인발 롤러는 반드시 롤링 노(爐) 또는 인발통 내부에 위치되는 것이 바람직하다.
본 발명의 또 다른 실시예에 있어서, 유리 리본은 롤링 노(爐) 및/또는 인발통에서 유리 리본의 횡방향 및 리본의 방향 양쪽으로, 선택적으로 가열 및/또는 냉각된다.
제1 급속 냉각구역에서 유리리본은 바람직하게 Tg+50K로 냉각되며, 어닐링 구역에서는 잔류 열응력을 조절하기 위하여 Tg-50K로 서서히 냉각되며, 급속 냉각구역 에서는 450K로 급속하게 냉각된다.
본 발명에 따른 방법으로 생산된 판 유리는 표시장치(휴대전화, 평면 스크린 등)와 같은 전자 장치의 기재 유리 또는 컴퓨터 대용량 저장장치의 기재 유리로서 사용하기에 적합하다.
본 발명의 장치와 관련하여, 본 발명의 목적은 청구항 15에 기재된 기술요소들에 의하여 달성된다.
본 발명의 경우, 유입구, 인발 탱크 및 노즐 시스템이 폐쇄 시스템을 이룬다. 상기 유입구는 백금 합금으로 구성되거나 내화성 물질로 구성되며, 여러 구획으로 분할된 직/간접 가열 또는 냉각 튜브 구역을 구비하고 있다. 상기 튜브 시스템은 약 2~5미터의 길이를 가지며, 50~80mm의 직경의 원형단면을 갖는다. 이러한 튜브는 수직으로 배치되는 것이 바람직하다.
유리 용융물의 소정의 점성 커브는 튜브 내에서 가열과 냉각의 조합을 통해 설정된다. 유입구의 하단부에서 상기 유리 용융물은 인발 탱크로 공급된다.
인발 탱크 내에서 상기 유리 용융물은 인발 방향의 횡방향으로 균일하게 분포된다. 상기 인발 탱크는 바람직하게는 백금 합금으로 이루어진 저장소로서, 냉각과 가열의 조합을 통하여 저장된 유리 용융물의 점성 커브를 요구치로 설정하는 곳이다. 유리는 인발 탱크 하부에 위치한 노즐 시스템으로 공급된다.
상기 노즐 시스템은 바람직하게 하나 또는 두개의 슬릿 노즐을 구비하고 있으며, 백금 합금으로 만들어진 인발봉을 구비하는 것도 가능하다. 상기 슬릿 노즐은 가열 수단을 구비하는 것이 바람직하다. 또한, 상기 인발봉은 백금 합금으로 구성될 수 있으며, 저면을 향하여 점점 가늘어지져 끝단에서 점으로 수렴되는 형상으로 구성된다. 또, 상기 인발봉은 바람직하게는 가열 수단을, 필요하다면 냉각수단까지도 구비할 수 있다. 일정한 선형 처리량의 설정은 인발 탱크, 슬릿 노즐 및 인발봉의 정확한 가열 및 냉각을 통하여 이루어진다.
상기 인발봉은 슬릿 노즐에서 수직으로 배치되며, 바람직하게는 슬릿 노즐의 틈사이를 통해 인발 탱크로 돌출된다. 이러한 인발봉은 유리 용융물이 인발 탱크 내에 체류하는 동안 그 유동을 Y축 방향으로로 분할한다. (도면1에 도식된 좌표 시스템 참조). 유리 필름의 동일한 두께는 이러한 인발봉의 유동 분할과 노즐 슬릿의 위치에 대하여 인발봉의 위치를 X축 및 Y축 방향으로, 또는 Z축 방향으로도 조절 가능하게 하는 외부 조정 시스템에 의하여 보장된다. 두께의 왜곡을 낮추기 위해서 는, 유리 필름의 두께는 가능한한 동일할 필요가 있다.
아울러, 특히, 폭이 넓은 리본과 장시간 공정의 경우, 인발봉의 직진성(straightness)은 X축 방향으로 인장력을 가함으로써 보장될 수 있다. 결과적으로 폭이 넓은 유리 리본을 오랜 시간 제조할 수 있기 때문에, 이 또한 생산성의 향상에 절대적으로 기여한다.
노즐 노(爐)는 슬릿 노즐의 바로 아래에 연결된다. 상기 인발봉은 상기 노즐 노(爐)까지 돌출연장된다. 이러한 노즐 노는 바람직하게 하나의 가열 장치와 두 개의 냉각 시스템을 구비한다.
상기 인발봉은 인발봉 상에서 유리 필름의 계류시간을 정확하게 설정하기 위해서 직접적으로 가열 및 냉각될 수 있다. 이 때문에, 인발봉은 가열 장치 및/또는 냉각 장치를 구비하는 것이 바람직하다. 아울러, 상기 유리 필름은 인발봉의 양면에서 노즐 노(爐)에 구비된 분할설치된 가열 수단에 의하여 가열될 수도 있다.
상기 노즐 노(爐)는 상기 인발봉의 부근 양쪽의 반대면에 방열판을 구비하는 것이 바람직하다.
본 발명의 또 다른 실시예에 있어서, 노즐 노(爐)는 상기 방열판의 하부에서상기 노즐 노(爐)의 축방향으로 이동 가능한 적어도 하나 이상의 차단벽을 구비한다.
오니언 구역을 작게하여, 주 냉각 유니트와 상기 주 냉각 유니트의 하부에 위치하는 분할된 냉각 유니트를 사용하여, 인발봉의 하부에서 유리로부터 직접적으로 열을 발산한다. 상기 주 냉각 유니트는 열량의 대부분을 발산시킨다. X축 방향 으로 미세하게 분할된 상기 냉각 유니트는 노즐 시스템에 의하여 야기되는 미세한 두께의 파동을 보정할 수 있도록 한다.
유리 리본은 수직 하방으로 신장되며, 또한 리본의 횡방향으로도 일부 신장된다. 이를 위해 필요한 인발 롤러와 워프(warp) 롤러는 노즐 노(爐)의 하부에 위치되며, 바람직하게는 롤링 노(爐), 인발통 또는 인발기의 내부에 설치되는 것이 좋다.
상기 인발 롤러는 두께를 조정하는데 사용되며, 상기 워프 롤러는 유리 리본과 판 유리의 평면도를 유지하는데 사용된다.
개시 공정 동안에, 유리 리본은 노즐 노의 하부에 위치하는 인발 롤러에 의하여 인발되어 삽입되는 것이 바람직하다. 이를 통하여 공정 개시 단계의 시간을 대폭 줄일 수 있다. 이러한 개시 공정을 순조롭게 하기 위하여 노즐 노(爐)는 리본의 횡방향으로 개방된다. 이러한 동작은 개시공정을 용이하게 한다.
또한, 개시 공정을 용이하게 하기 위하여, 인발통은 하방향으로 겹쳐지거나 측면으로 포개질 수 있다. 생산 과정동안 상기 인발통은 롤링 노(爐)의 하부에 연결된다. 이 역시 개시공정을 용이하게 하는데 일조한다.
도1은 본 발명에 따른 장치의 수직 단면도를 나타내며,
도2는 본 발명에 따른 장치의 슬릿 노즐 부분의 확대 수직 단면도이다.
하기에는 본 발명의 바람직한 실시예가 첨부된 도면을 참조하여 자세하게 설명된다.
도1 및 도2에는 공간 상에서 방향을 설정하기 위하여 공간 좌표 시스템이 도식되어있다. 여기에서, X축 방향은 유리 리본의 방향을 나타내며, Y축 방향은 이상적인 유리 리본 표면과의 수직방향(유리 리본 두께)을 나타내며, Z-방향은 인발 방향을 나타낸다.
도1은 본 발명에 따른 인발 장치의 수직 단면도로서, 개략적으로 묘사된 유입부(1), 인발 탱크(6), 노즐 노(爐)(18), 롤링 노(爐)(25) 및 인발통(32)를 포함하고 있다.
유리 용융물은 도면에는 도식되어 있지 않은 균일화 시스템으로부터 유입부 (1)을 지나 인발 탱크(6)으로 공급된다. 상기 유입부(1)은 수직 방향으로 배치된 튜브(2)를 포함하여 구성된다. 상기 튜브(2)는 백금 합금 또는 내화성 물질로 이루어지며, 대칭형의 튜브 부분(2a), (2b) 및 (2c)로 분할 구성된다. 여기서 상기 대칭형 튜브들은 직접 또는 간접적으로 가열 또는 냉각된다. 상기 튜브 부분 (2a), (2b) 및 (2c)에 따라, 이에 상응하는 분할된 가열 장치(3)과 냉각 장치(4)가 구비되며, 상기 가열장치 및 냉각장치는 절연체(5)로서 외부와 차폐되어 있다. 상기 가열은 직접 혹은 간접 전기 가열 수단을 통해 이루어진다. 상기 냉각 장치(4)는 냉매가 이송되는 냉각 튜브를 포함하여 구성된다. 이러한 냉각 튜브들은 상기 튜브(2)를 감싸고 있으며, 해당 냉각 유니트와 연결되어 있다.
상기 유입부(1)의 하부에 인접한 인발 탱크(6)는 백금 합금으로 형성된 유리 배분기(7)를 구비하고 있으며, 이 유리 배분기(7)는 하부 방향으로 가면서 역시 백금 합금으로 이루어진 유리 유입구(8)로 형태 전이된다. 상기 유리 배분기(7)는 슬릿 노즐(11)의 전체 길이에 대하여 유리 용융물을 배분하는 역할을 한다. 이는 하기에서 보다 자세하게 기술될 것이다. 상기 인발 탱크(6)는 가열 시스템(9)를 구비하고 있으며, 이는 마찬가지로 수직방향 및 횡방향으로 분할되어 있다. 상기 가열 시스템(9)는 직접 또는 간접 전기 가열 유니트로서 구현될 수 있다. 상기 인발 탱크(6)의 외부는 단열체(10)로 밀봉되어 있다.
상기 인발 탱크(6)의 하부에는 슬릿 노즐(11), 밀봉 부재(12) 및 (13)으로 구성된 노즐 시스템이 있다. 상기 슬릿 노즐(11)과 인발봉은 백금 합금으로 이루어져 있다. 노즐 홀더(14)는 상기 슬릿 노즐(11)을 인발 탱크(6)을 향하여 하부로부터 가압한다. 일반 밀봉 부재(12)와 유연성 밀봉 부재(13)은 확실한 마찰 결합을 보장한다.
상기 슬릿 노즐(11)은 전기적으로 노즐 홀더(14)에 배치되는 가열 유니트(15)에 의하여 직접 또는 간접적으로 가열된다. 유리 용융물의 유동을 최적화하기 위해서, 필요에 따라 백금 합금으로 만들어진 슬릿 노즐이 기존의 슬릿 노즐(11) 위에 추가적으로 배치될 수도 있다.
도2에서 도식된 바와 같이, 상기 슬릿 노즐(11)의 내부에는 백금 합금으로 만들어진 인발봉(16)이 배치되며, 상기 인발봉(16)은 하측 일단이 테이퍼 형상, 즉 하측으로 점점 가늘어지는 형상의 판형상의 부재로 구성된다. 상기 인발봉(16)은 측면 제한기(17)을 구비하고 있으며, 도1 및 도2에서는 도식되지 않았지만 X축, Y축 및 Z축 방향으로 조절 가능하다. 또한,이러한 인발봉(16)은 직접 가열 방식의 전기 가열 유니트를 구비하고 있으며, 바람직하게는 냉각 유니트를 구비하는 것도 가능하다.
슬릿 노즐(11)에서 인발봉(16)의 외벽을 타고 수직 하방으로 유동되는 두개의 유리 필름은 상기 인발봉의 테이퍼 형상의 말단 부분에서 하나로 합쳐져 통상의 유리 리본을 형성한다. 오니언과 인발봉 상에서 및 유리 리본의 신장 구역에서의 유리 필름은 노즐 노(爐)(18)의 방열판(19) 사이에 위치되게 되며, 상기 노즐 노(爐)는 그 상부에 전기식 가열 유니트(20)와 그 하부에 냉각 시스템(23) 및 (24)를 구비하고 있다. 상기 방열판(19)은 온도의 균일성을 향상시키기 위하여 유리 리본으로부터 상기 가열 유니트(20)을 차폐시킨다.
오니온과 동일한 높이에 유치되며, Y축 방향으로 이동 가능한 차단벽(22)은 냉각 시스템(23), (24)에서 흡수되는 열량을 조절하기 위해서 사용된다. 상기 차단벽(22)의 아래에는 오니언 부근에서의 유리 리본의 온도를 조절하기 위한 주 냉각 유니트(23)이 구비된다. X축 방향으로 분할된 상기 냉각 시스템(24)는 유리 리본의 횡방향으로의 두께 분포를 조절하기 위하여 사용된다. 개시 공정을 용이하게 하기 위하여 상기 노즐 노(爐)는 필요에 따라 Y축 방향으로 개방될 수 있다.
상기 노즐 노(爐)(18)의 하부에는 롤링통(26)을 구비한 롤링 노(爐)(25)가 배치된다. 상기 롤링 노(爐)(25)는 x축 및 Y축 방향으로 분할된 전기 가열 유니트(27)과 냉각 유니트(28)을 포함한다. 온도의 균일성을 높이기 위해서, 상기 롤링통(26)은 유리 리본으로부터 가열수단을 차폐시킨다. 워프 롤러(29)는 상기 롤링 노(爐)(25)의 내부에 배치되며, 요구되는 평면도를 맞추기 위해서 유리 리본을 X축 방향으로 신장시킨다. 상기 롤링 노(爐)(25)는 추가로 하나 또는 그 이상의 인발 롤러(30)을 내장하고 있으며, 이러한 인발 롤러(30)은 소정의 두께를 맞추기 위하여 유리 리본을 Z축 방향으로 신장시킨다. 상기 롤링 노(爐)(25)는 외부에 대하여 절연체(31)로 절연되어 있다. 개시 공정을 용이하게 하기 위하여 상기 롤링 노(爐)(25)는 필요에 따라 Y축 방향으로 개방될 수 있다.
상기 롤링 노(爐)(25)의 하부에는 인발통(32)가 배치된다. 상기 인발통(32)는 x축 및 Y축 방향으로 분할된 전기 가열 유니트(35)과 냉각 유니트(36)을 구비하고 있다. 온도의 균일성을 높이기 위해서, 방열축(33)이 유리 리본으로부터 가열 유니트(35)를 차폐시킨다. 상기 방열축(33)은 불필요한 대류 현상을 막기 위하여 내부에 이동가능한 차단벽(34)를 구비하고 있다. 상기 인발통(32)는 Y축 방향으로 유리 리본의 위치를 안정시키는 안정화 롤러(37)을 구비할 수 있다. 상기 인발통(32)는 외부에 대하여 절연체(38)에 의하여 절연된다.
개시 공정을 용이하게 하기 위하여, 상기 인발통(32)는 필요에 따라 Y축 방향으로 개방되거나 단부에 위치한 도어가 개방될 수 있다. 또한, 인발통(32)는 초기 설정 동작들을 용이하게 하기 위하여 하방으로 포개질 수 있다. 생산 시에는, 인발통(32)는 하부로부터 롤링 노(爐)(25)로 결합된다.
상기 롤링 노(爐)(25)의 설치를 생략하는 것도 가능하다. 롤링 노(爐)(25)를 설치하지 않는 경우, 워프 롤러(29)와 인발 롤러(30)은 인발통(32)에 내장 설치하 면 된다. 또한, 판 유리의 두께가 얇은 경우, 즉, 유리 리본의 무게가 가벼워 적은 인발력이 필요한 경우, 인발통(32)에서 안정화 롤러(37) 및 인발 롤러(30)을 제거하는 것도 가능하다. 이러한 경우 인발 롤러(30)은 인발통(32) 하단에서 배치되게 된다.
모든 가열 시스템은 전기적으로 작동하도록 구성된다. 냉각 시스템들은 순환 유체 또는 가스 상태의 매체에 의하여 냉각된다.
TFT 표시장치에 사용되는 기재 유리를 생산하기 위한 실시예가 하기에 기재된다.
유리:
전이 온도 Tg가 700℃ 이상, 밀도 2.5g/cm3 이하 및 열팽창 37×10-7이하인, 무알카리 보로실리케이트(borosilicate) 유리
기하학적 형상에 관한 품질 기준:
- 길이: 670 mm
- 폭: 590 mm
- 두께: 0.7 mm
- 두께 분포: 0.025 mm 이하
- 왜곡(warp): 0.5 mm 이하
- 미세 주름(waviness): 50 nm 이하
공정관리
유입부:
유입부에서 유리 온도는 Tg(전이온도)+670K에서 Tg+590K 사이로 설정한다. (유입부를 따라 일정하게 떨어지도록) 총 처리량은 2.8kg/min이다.
인발 탱크, 노즐 시스템 및 노즐 노(爐)의 가열:
인발 탱크(6)에서 유리 온도는 Tg+590K에서 Tg+570K 사이로 설정하고, 슬릿 노즐(11)에서의 유리 온도는 Tg+570K에서 Tg+550K 사이로 설정하고, 인발봉(16)에서의 유리 온도는 Tg+560K에서 Tg+540K 사이가 되도록 설정한다. 이러한 설정으로 3.5g/(min×mm)의 유리 리본의 횡방향에 대한 일정한 선형 처리량을 얻을 수 있다. 인발봉(16) 상에서의 유리 필름의 두께는 각기 8mm이다. 슬릿 폭(슬릿 노즐(11)과 인발봉(16) 사이의 거리)을 10mm로 설정함으로써, 인발봉(16) 상에서의 유리 필름은 슬릿 노즐(11)의 하면을 적시지 않는다.
냉각, 노즐 노(爐) 및 롤링 노(爐):
주 냉각 유니트(23)(냉매: 물)은 오니언 부근에서의 유리 온도를 대략 Tg+290K로 냉각한다. 유리는 롤링 노(25)의 인발 롤러(30)에 의하여 1.6m/min의 인발 속도로 신장되며, 0.7mm의 두께를 가지며 총 폭이 800mm에 이르는 유리 리본을 생산하게 된다. 분할된 냉각 유니트(23) 및 (24) (냉매: 물/공기)는 요구되는 소정의 두께 분포를 확실하게 달성할 수 있도록 설정된다. 롤링 노(爐)(25)의 분할된 냉각 및 가열 장치는 항상 유리 리본의 온도를 Tg+140K로 냉각한다.
인발통:
인발통(32)에 구비된 분할 냉각 및 가열 장치를 사용하여, 제1 급속 냉각 구역에서의 유리 리본의 온도를 Tg+50K로 냉각하고,잔류 열응력을 조절하기 위해서 파인 어닐링 구역에서 유리 리본을 Tg-50K로 어닐링하고, 제2 급속 냉각구역 B에서 유리 리본은 450K로 급속 냉각된다. 인발통(32)의 내부와 하부에, 유리 리본의 위치를 안정화시키기 위한 추가 롤러가 장착된다. 담금질(급냉)후 길이에 맞게 절단하면 표면 왜곡에 관한 요구조건을 만족하게 된다.
본 발명의 목적은 현저한 결정화 경향 또는 세라믹화 경향을 갖는 유리를 생산하는데 사용될 수 있으며, 박판 유리의 품질을 향상시키고 생산성을 증가시킬 수 있는 판유리 제조방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 또 다른 목적은 이러한 방법을 수행할 수 있는 장치를 제공하는 것이다.

Claims (35)

  1. 박판 유리를 수직 하방으로 인발하여 제조하는 방법에서, 유리 용융물은 용융노로부터 유입부를 통하여 적어도 하나의 슬릿 노즐을 장착한 노즐 시스템을 구비하고 있는 인발 탱크로 이송되도록 한 방법에 있어서,
    총 처리량은 수직 유입부의 단면 및 길이와, 상기 유입부의 정확한 가열과 냉각을 통해 상기 유리 용융물의 자유 계면과 상기 노즐 시스템의 높이 차이에 의하여 발생되는 유리 용용물의 압력이 현저하게 감소될 수 있도록 하는 방식으로 상기 유입부에 배치된 유리 용용물의 점성에 의하여 결정되고,
    선형 처리량이라고 불리는 유리 리본의 횡방향 단위 길이당 처리량은 노즐 시스템의 기하학적 조건과, 슬릿 노즐과 인발 탱크의 가열 및 냉각에 의한 노즐 시스템에서의 유리 용융물의 점성에 의하여 결정되어,
    유리가 노즐 시스템으로부터 배출될 때, 유리는 슬릿 노즐의 파단부의 부근에서 상기 슬릿 노즐의 하부면을 적시지 않게됨을 특징으로 하는 박판 유리의 제조방법.
  2. 제 1항에 있어서, 유리 용융물의 유입부에서의 온도범위(TZR)는 TZR1=Tg+670K에서 TZR2=Tg+590K로 설정하는 것을 특징으로 하는 박판 유리의 제조방법.
  3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 유리 용융물의 인발 탱크에서의 온도범위(TZT)는 TZT1=Tg+590K에서 TZT2=Tg+570K로 설정하는 것을 특징으로 하는 박판 유리의 제조방법.
  4. 제 1항에 있어서, 상기 슬릿 노즐에서의 유리 용융물의 온도(TSD) 범위는 TSD=Tg+570K에서 Tg+550K로 설정하는 것을 특징으로 하는 박판 유리의 제조방법.
  5. 제 4항에 있어서, 상기 슬릿 노즐에 따른 유리 용융물의 온도 편차 ΔTSD가 20K 이하가 되도록 설정하는 것을 특징으로 하는 박판 유리의 제조방법.
  6. 제 1항에 있어서, 유리 용융물의 유동은 상기 슬릿 노즐을 통과하면서 적어도 하나의 인발봉에 의하여 분할되고, 이렇게 분할된 유리 용융물은 유리 필름의 형태로 상기 인발봉의 양면을 타고 하방향으로 이동하게 되며, 상기 인발봉의 하단에서 융합되어 하나의 유리 리본을 형성하도록 구성된 것을 특징으로 하는 박판 유리의 제조방법.
  7. 제 6항에 있어서, 상기 인발봉 상에서 상기 유리 필름의 점성과 계류 시간은 이상적인 표면 윤곽과의 편차를 완전하게 제거할 수 있도록 조절되는 것을 특징으로 하는 박판 유리의 제조방법.
  8. 제 6항 또는 제 7항에 있어서, 상기 유리 필름은 상기 인발봉 상에서 선택적으로 가열되거나 냉각되거나 또는 가열되고 냉각되는 것을 특징으로 하는 박판 유리의 제조방법.
  9. 제 6항 또는 제 7항에 있어서, 상기 유리 필름은 그 측단을 따라 횡적으로 유도되는 것을 특징으로 하는 박판 유리의 제조방법.
  10. 제 6항에 있어서, 상기 유리 리본은 그 오니온 부근에서 선택적으로 냉각되는 것을 특징으로 하는 박판 유리의 제조방법.
  11. 제 1항에 있어서, 상기 유리 리본의 중량의 적어도 일부분은 인발하는 동안 보상되는 것을 특징으로 하는 박판 유리의 제조방법.
  12. 제 1항에 있어서, 상기 유리 리본의 두께는 연속적으로 측정되며, 인발 속도는 상기 측정된 두께 값에 의하여 제어되는 것을 특징으로 하는 박판 유리의 제조방법.
  13. 제 1항에 있어서, 상기 유리 리본은 점탄성 구역에서 리본의 횡방향으로 신장되는 것을 특징으로 하는 박판 유리의 제조방법.
  14. 제 1항 또는 제 6항에 있어서, 상기 유리 리본은 롤링 노(爐) 또는 인발통에서 리본 방향과 리본의 횡방향 모두로 선택적으로 가열되거나 냉각되거나 또는 가열되고 냉각되는 것을 특징으로 하는 박판 유리의 제조방법.
  15. 박판 유리 제조를 위한 장치로서, 용융로, 균일화 시스템, 유입구 및 인발 탱크로 구성되며, 상기 인발 탱크는 적어도 하나의 슬릿 노즐을 구비한 노즐 시스템을 장착하고 있는 박판 유리 제조장치에 있어서,
    상기 유입부(1), 인발 탱크(6) 및 노즐 시스템은 폐쇄 시스템을 이루고 있으며,
    상기 유입부(1)는 분할된 튜브 구역(2a, 2b, 2c)으로 이루어지는 수직방향으로 배치되는 튜브(2)를 구비하고 있으며, 상기 튜브(2)는 길이가 2~5m 이고 단면이 원형으로 50~80mm의 직경을 가지며,
    상기 유입부(1)는 분할된 가열(3) 및 냉각 유니트(4)를 구비하고 있으며,
    상기 인발 탱크(6)은 수직 및 수평 방향으로 분할된 가열 시스템(9)를 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  16. 제 15항에 있어서, 상기 슬릿 노즐(11)은 가열 유니트(15)를 구비한 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  17. 제 15항 또는 제 16항에 있어서, 상기 슬릿 노즐(11)은 적어도 하나의 수직으로 배치되는 인발봉(16)을 포함하는 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  18. 제 17항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 인발봉(16)은 백금 합금으로 만들어진 판으로서, 하부로 갈수록 가늘어지는 테이퍼 형상으로 말단에서 점으로 수렴되는 형상으로 구성된 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  19. 제 17항에 있어서, 상기 인발봉(16)은 상기 슬릿 노즐(11)을 지나 상방향으로 돌출된 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  20. 제 17항에 있어서, 상기 인발봉(16)은 측면 제한기(17)을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  21. 제 17항에 있어서, 상기 인발봉(16)은 X축, Y축 및 Z축 방향으로 조절 가능한 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  22. 제 17항에 있어서, 상기 인발봉(16)은 인장력을 가함으로써 X축 방향으로 신장될 수 있는 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  23. 제 17항에 있어서, 상기 인발봉(16)은 가열 유니트 또는 냉각 유니트 또는 가열 유니트 및 냉각 유니트 둘 다를 구비한 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  24. 제 15항에 있어서, 상기 슬릿 노즐(11)의 하부는 분할된 가열(20) 및 냉각장치(23, 24)를 구비하고 있는 노즐 노(爐)(18)에 인접하게 위치된 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  25. 제 24항에 있어서, 상기 노즐 노(爐)(18)는 인발봉(16)의 반대면에 방열판(19)를 구비한 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  26. 제 24항 또는 제 25항에 있어서, 상기 노즐 노(爐)(18)는 상기 방열판(19) 하부에 적어도 하나의 이동 가능한 차단벽(22)을 구비한 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  27. 제 24항 또는 제 25항에 있어서, 상기 노즐 노(爐)(18)는 리본 방향에 대하여 횡방향으로 개방될 수 있도록 하는 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  28. 제 24항 또는 제 25항에 있어서, 상기 노즐 노(爐)(18)의 하부는 X축과 Y축 방향으로 분할된 가열(27) 및 냉각 유니트(28)를 구비한 롤링통(26)이 장착된 롤링 노(爐)(25)에 인접하게 구성된 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  29. 제 28항에 있어서, 상기 롤링통(26)은 적어도 한쌍의 워프 롤러(29) 또는 한쌍의 인발 롤러(30) 또는 한쌍의 워프 롤러(29) 및 한쌍의 인발 롤러(30) 둘 다를 내장하는 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  30. 제 28항에 있어서, 상기 롤링 노(爐)(25)는 리본 방향에 대하여 횡방향으로 개방될 수 있도록 하는 수단을 구비한 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  31. 제 28항에 있어서, 인발 롤러(30)의 인발 속도는 유리 리본 총 두께의 실시간 함수에 의하여 제어되는 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  32. 제 28항에 있어서, 롤링 노(爐)(25) 하부에 배치되는 인발통(32)은 하방 및 측방으로 포개지거나 전개될 수 있는 구조로 된 것을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  33. 제 1항에 있어서, 박판 유리는 두께가 1mm이하인 판 유리임을 특징으로 하는 박판 유리의 제조방법.
  34. 제 15항에 있어서, 박판 유리는 두께가 1mm이하인 판 유리임을 특징으로 하는 박판 유리 제조장치.
  35. 삭제
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