JP7085895B2 - 帯材の厚みを制御する方法および装置 - Google Patents
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Description
- 加熱されかつ軟化された状態で材料を帯材に引き出す引き出し装置、および
- 帯材を形成しかつ引き出す付形プロセスの間に材料を加熱するための加熱素子を備える帯材の製造装置において、この加熱素子は熱放射を用いた加熱のために形成されていて、この熱放射が、加熱されたもしくは加熱されるべき材料に向かい合うように配置された加熱素子の表面から放射され、かつこの装置は、レーザのレーザビームが加熱素子に向けられていてかつ加熱素子を局所的に加熱するように配置されているレーザを含む、
帯材の製造装置を予定する。
リドロー装置内で、屈折率>1.7を有する、14mmの厚みおよび380mmの幅を有する光学ガラスからなるプリフォーム6を、300μmの厚みのガラスリボンに引き出す。
比較例1のリドロー装置内で、加熱管は、炉室内とは反対側に420mmの幅および20mmの高さでスリットが入れられる。炉の断熱は、SiC加熱管の内側にレーザビームを向けることができるように変更されるため、図3の概略図にしたがった配置が存在する。3kWの定格出力を有するCO2レーザのレーザビームを利用する。レーザビーム70は、光学系を用いて、20m/sの速度で、管の内側で振動するように案内される。この場合、この制御が、加熱管上でのビームのそれぞれの位置に対するレーザビーム出力の適切な制御を可能にする。このビームは、加熱管で<20mmの直径を有する。
冷却領域の中央を通過するように帯材を案内するために、ヒータの縁部領域内で非対称のエネルギを供給する。30Wの加熱出力の60mmの区間にわたる配分は、この場合、30mmのガラスリボンの姿勢の修正を生じる。この結果は、図8のグラフに明確に示されている。このグラフは、帯材の長さ位置の関数としての帯材中央の位置を示す。ほぼ長さ位置424での垂直方向の線の形の印で、レーザ出力を切り替えた。この結果、どのようにほぼ410mm付近のより高い値で帯材中央の位置が生じるかを明らかに認識することができる。
ガラスリボンの正味幅を拡げるために、適切にレーザ出力を耳部の側部内に導入する。30の区間にわたる22Wの加熱出力の付加が、この場合、ガラスリボンの正味幅の20%の増加を引き起こす。
正味幅内で生じる厚み偏差を、レーザ出力の適切な付加/除去により修正する。20mmの区間にわたる22Wの加熱出力の付加が、この場合、3%の範囲内で、ガラスリボンの厚みの低下を引き起こす。それにより、ガラスリボンの厚み偏差を、Warpに不利に影響を及ぼすことなしに、±0.5μm未満に調節することができる。
ディスプレ用に適したガラス板を製造するための700μmの厚みを有するアルミノケイ酸塩ガラスリボンを製造するために、ガラス溶融バス内で溶融されたガラスを、オーバフロー溝の形の容器19(イソパイプ(Isopipe))を介して供給し、かつ両側に溢れ出るガラスストランドを溝の下側の引き出し融合部21内で再び合一する。したがって、このガラスリボンは、図5の実施例に相当するオーバフローフュージョン法で製造される。この場合、イソパイプ上のおよび引き出し融合部内のガラス層の温度分布は特に重要である。均一な温度分布は、区画されかつ機械的に調節可能なヒータまたはクーラならびに放射プレートにより達成される。ヒータ必要な空間的拡がりにより、数センチメートルのオーダの領域に対するヒータの作用も観察することができる。
断熱材は変更され、加熱装置は図5の配置に相応して、加熱素子に置き換えられ、この加熱素子は、炉内部空間とは反対側から、走査するレーザビーム70により、位置に依存して調節可能なレーザ出力が加えられる。それにより、高温付形においてガラス流に沿って横方向温度分布が適切に調節することができる。加熱素子51の熱慣性により、一般に、レーザ7を用いて作業することが可能である。
例えばディスプレ用の、またアルミノケイ酸塩ガラスからなる700μmの厚みを有するガラスリボンを製造するために、ガラス溶融バス内で溶融されたガラスを、ソードもしくは図7で示された実施例の場合のように中央のオリフィスボディ26を備えたスリットオリフィスを通過するように案内し、かつオリフィスボディの両側に流れ落ちるガラスストランドを引き出し融合部21内で再び合一する。この場合、オリフィスボディ26上のおよび引き出し融合部21内のガラス層の温度分布は特に重要である。均一な温度分布は、区画されかつ機械的に調節可能な加熱装置22、ならびにプレート55の形の加熱装置5により達成される。加熱装置22の必要な空間的拡がりにより、数センチメートルのオーダの領域に対する加熱装置の作用も観察することができる。
断熱材および加熱装置は変更され、放射プレートは、炉内部空間とは反対側に付加的に走査するレーザビーム70により、図7に示されているように、位置に依存して調節可能なレーザ出力が加えられる。それにより、高温付形においてガラス流に沿って横方向温度分布を適切に調節することができる。ヒータの熱慣性により、レーザを用いて作業することが可能である。
- 引き出しシャフトは、レーザビーム70に対して透過性の窓で閉鎖されている、
- 開口部は、シャフト状に形成されていて、カラーが開口部36を取り囲む、
- 引き出し方向の開口部36の寸法は、レーザビームの直径の最大でも3倍である。
2 材料
3 ガラス融液
5 加熱素子
6 プリフォーム
7 レーザ
8 センサ
9 ビーム変向装置
10 帯材の製造装置
12 引き出し装置
15 制御装置
17 断熱材
18 17内の開口部
19 容器
20 19の縁部
21 引き出し融合部
22 加熱装置
25 オリフィス
26 オリフィスボディ
29 フロートバス
30 溶融バス
31 引き出しロール
32 徐冷炉
33 出口
34 スズバス
35 引き出しシャフト
36 35内の開口部
37 窓
50 5の表面
51 加熱管
52 51の周面
53 52内の開口部
55 プレート
56,57 55の側面
59 金属部分
60 セラミック部分
61 横方向
70 レーザビーム
71 5上の70の衝突点
Claims (18)
- 加熱されかつ軟化された状態にある材料(2)を帯材(1)に引き出し、次いで冷却する帯材(1)の製造方法において、前記帯材(1)を形成しかつ引き出す付形プロセスの間に前記材料(2)を加熱し、前記付形プロセスの間に、熱エネルギを、少なくとも部分的に、前記材料(2)に向かい合うように配置された加熱された加熱素子(5)の表面(50)から放射される熱放射の形で前記材料(2)に供給し、前記加熱素子(5)の加熱を、少なくとも部分的に、前記加熱素子(5)に向けられていてかつ前記加熱素子(5)を局所的に加熱するレーザビーム(70)のエネルギによって行い、
前記レーザビーム(70)を前記帯材(1)の縦方向に対して横断方向に動かして、前記レーザビームのエネルギを、前記加熱素子(5)上で前記帯材(1)の縦方向に対して横断方向に分配する、帯材(1)の製造方法。 - 加熱されかつ軟化された状態にある材料(2)を帯材(1)に引き出し、次いで冷却する帯材(1)の製造方法において、前記帯材(1)を形成しかつ引き出す付形プロセスの間に前記材料(2)を加熱し、前記付形プロセスの間に、熱エネルギを、少なくとも部分的に、前記材料(2)に向かい合うように配置された加熱された加熱素子(5)の表面(50)から放射される熱放射の形で前記材料(2)に供給し、前記加熱素子(5)の加熱を、少なくとも部分的に、前記加熱素子(5)に向けられていてかつ前記加熱素子(5)を局所的に加熱するレーザビーム(70)のエネルギによって行い、
前記加熱素子(5)に沿った温度分布を決定し、かつ前記レーザビーム(70)の衝突点(71)を前記温度分布に依存して動かすことを特徴とする、帯材(1)の製造方法。 - 前記加熱素子(5)を、付加的に電気的にまたはバーナにより加熱することを特徴とする、請求項1または2記載の方法。
- 前記加熱素子の前記帯材(1)を向く表面(50)の、前記帯材(1)に対して横断方向の間隔は、前記帯材の縦方向に対して垂直方向の前記加熱素子の寸法よりも小さい、請求項1から3までのいずれか1項記載の方法。
- 前記帯材(1)は、ガラス溶解物(3)またはプリフォーム(6)から引き出されるガラスリボンであることを特徴とする、請求項1から4までのいずれか1項記載の方法。
- 前記加熱素子(5)の前記帯材(1)とは反対側の面を前記レーザビーム(70)で照射することを特徴とする、請求項1から5までのいずれか1項記載の方法。
- 前記帯材(1)を、ダウンドロー法、オーバフローフュージョン法、アップドロー法、またはフロート法で製造することを特徴とする、請求項6記載の方法。
- 前記帯材(1)を、加熱されたプリフォーム(6)から引き出すことを特徴とする、請求項1記載の方法。
- 帯材(1)を製造する装置(10)において、
- 加熱されかつ軟化された状態にある材料(2)を前記帯材(1)に引き出す引き出し装置(12)と、
- 前記帯材(1)を成形しかつ引き出す付形プロセスの間に、前記材料(2)を加熱するための加熱素子(5)と、を備え、
前記加熱素子(5)は、加熱された前記材料(2)に向かい合うように配置された前記加熱素子(5)の表面(50)から放射される熱放射による加熱用に形成されていて、かつ前記装置(10)はレーザ(7)を含み、前記レーザ(7)は、前記レーザ(7)のレーザビーム(70)が前記加熱素子(5)に向けられていて、かつ前記加熱素子(5)を局所的に加熱するように配置されており、
前記加熱素子(5)における前記レーザビーム(70)の衝突点を、前記帯材(1)の縦方向に対して横断方向に動かして、前記レーザビームのエネルギを前記加熱素子(5)上で前記帯材(1)の縦方向に対して横断方向に分配するビーム変向装置(9)をさらに備えることを特徴とする、帯材(1)を製造するための装置(10)。 - 帯材(1)を製造する装置(10)において、
- 加熱されかつ軟化された状態にある材料(2)を前記帯材(1)に引き出す引き出し装置(12)と、
- 前記帯材(1)を成形しかつ引き出す付形プロセスの間に、前記材料(2)を加熱するための加熱素子(5)と、を備え、
前記加熱素子(5)は、加熱された前記材料(2)に向かい合うように配置された前記加熱素子(5)の表面(50)から放射される熱放射による加熱用に形成されていて、かつ前記装置(10)はレーザ(7)を含み、前記レーザ(7)は、前記レーザ(7)のレーザビーム(70)が前記加熱素子(5)に向けられていて、かつ前記加熱素子(5)を局所的に加熱するように配置されており、
前記レーザビーム(70)の衝突点(71)を前記加熱素子(5)上で動かすためのビーム変向装置(9)を特徴とする、帯材(1)を製造するための装置(10)。 - 帯材(1)を製造する装置(10)において、
- 加熱されかつ軟化された状態にある材料(2)を前記帯材(1)に引き出す引き出し装置(12)と、
- 前記帯材(1)を成形しかつ引き出す付形プロセスの間に、前記材料(2)を加熱するための加熱素子(5)と、を備え、
前記加熱素子(5)は、加熱された前記材料(2)に向かい合うように配置された前記加熱素子(5)の表面(50)から放射される熱放射による加熱用に形成されていて、かつ前記装置(10)はレーザ(7)を含み、前記レーザ(7)は、前記レーザ(7)のレーザビーム(70)が前記加熱素子(5)に向けられていて、かつ前記加熱素子(5)を局所的に加熱するように配置されており、
前記レーザ(7)の前記レーザビーム(70)の衝突点(71)の位置を変えて、前記加熱素子(5)上の温度分布に影響を及ぼすように設置されている制御装置(15)を特徴とする、帯材(1)を製造するための装置(10)。 - 測定値を検知しかつ前記制御装置(15)と接続されている少なくとも1つのセンサ(8)を特徴とし、前記制御装置(15)は、レーザビーム(70)の位置、照射時間およびビーム出力のパラメータの少なくとも1つを、検知された測定値に基づき制御するように設置されている、請求項11記載の装置(10)。
- 前記加熱素子(5)は電気的に加熱される加熱管(51)を含むことを特徴とする、請求項11または12記載の装置(10)。
- 前記加熱管(51)の縦方向は、前記帯材(1)の縦方向に対して横断方向に延びることを特徴とする、請求項13記載の装置(10)。
- 前記加熱管の周面(52)の、前記帯材(1)とは反対側が開口部(53)を有し、前記レーザビーム(70)は前記開口部(53)および前記加熱管(51)を通過し、前記周面(52)の前記帯材(1)を向く側における内面に衝突することができることを特徴とする、請求項13または14記載の装置(10)。
- 前記加熱素子(5)はプレート(55)を含み、前記プレート(55)の一方の側面(56)は前記帯材(1)の材料(2)に向けられていて、前記プレート(55)の反対側の側面(57)は、レーザビーム(70)により加熱可能であることを特徴とする、請求項9から15までのいずれか1項記載の装置(10)。
- 前記加熱素子(5)は、前記帯材(1)とは反対側から前記帯材(1)を向く側への熱伝導率よりも低い、前記帯材(1)の縦方向に対して横断方向の熱伝導率を有することを特徴とする、請求項9から16までのいずれか1項記載の装置(10)。
- 前記加熱素子(5)は、50W/m・K未満の熱伝導率を有する材料を有することを特徴とする、請求項9から17までのいずれか1項記載の装置(10)。
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