KR100803418B1 - 반도체처리장치에 사용될 수 있는 가변 간격멈춤기 및 가변 간격멈춤방법, 이를 이용한 반도체처리장치 - Google Patents

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Abstract

반도체 웨이퍼가 반도체 처리장비 내에서 고정되는 척(21)을 이동시키는 실린더와 같이, 구동유니트의 이동을 멈출 수 있는 가변간격멈춤장치(30, 32). 상기 구동유니트는 적어도 하나의 위치조정면을 포함한다. 이동가능한 간격멈춤유니트 (33,34)는 적어도 하나의 멈춤면을 포함하고, 바람직한 실시예에서는 각각 다른 높이에 2 개 이상의 다른 멈춤면을 포함할 수 있다. 실린더(31)는 이동가능한 간격멈춤유니트를 이동시켜, 구동유니트의 적어도 하나의 위치조정면(24)과 정렬 및 비정렬되도록 적어도 멈춤면의 위치를 조정한다. 그러한 구조와 동작으로, 구동유니트의 적어도 하나의 위치조정면은 이동가능한 간격멈춤유니트의 가변멈춤면을 지지할 수 있다. 구동유니트의 위치조정면이 지지하는 복수의 멈춤면들에 근거하여, 실린더가 척을 이동시키는 높이와, 그 결과 반도체 처리챔버 내에서의 척의 높이는 제어될 수 있다. 그럼으로써, 쉽게 실행가능한 제어가, 반도체 웨이퍼와 같은 목적물이 쉽고 효율적으로 처리챔버와 같은 장치 내의 가변높이에서 위치될 수 있도록 얻어진다.

Description

반도체처리장치에 사용될 수 있는 가변 간격멈춤기 및 가변 간격멈춤방법, 이를 이용한 반도체처리장치{VARIABLE GAP STOP DEVICE WHICH CAN BE USED IN A SEMICONDUCTOR PROCESSING DEVICE, PROCESS THEREOF AND SEMICONDUCTOR PROCESSING DEVICE USING THE SAME}
본 발명은, 한 예로, 반도체처리챔버 내에서 원하는 높이로 반도체 웨이퍼를 이동시키는 구동유니트용 가변간격멈춤장치에 관한 것이다.
반도체 웨이퍼의 처리에 있어, 반도체 웨이퍼는 다양한 시간에 처리챔버, 증착챔버 등의 내부에 위치된다. 그러한 챔버내에서, 반도체 웨이퍼가 다른 처리들을 받게된다.
예를 들면, 에칭공정챔버 내에서 반도체 웨이퍼는, 또한 하부전극역할을 하는 척과 같은 반도체 지지요소 상에 위치된다. 상부전극은 척 위에 놓인다. 더하여, 회전마그네틱은 척과 상부전극 둘레에 위치된다. 척, 상부전극 및 회전마그네틱은 척 상에 위치된 반도체 웨이퍼를 에칭하기 위해 사용된다.
그러한 에칭처리챔버 내에서, 반도체 웨이퍼는 상부전극으로부터 일정거리에 위치되어야 한다. 그러한 동작을 하기 위해, 반도체 웨이퍼가 장착된 척은 처리챔버 내에서 구동시스템에 의해 상부전극 아래로 원하는 높이까지 상하부로 이동된다.
도 1은 반도체 처리시스템 내의 원하는 높이에 척을 위치시키기 위한 종래의 구동시스템을 나타낸다. 도 1은 척(도시되지 않음)이 장착되는 실린더(10)를 나타내고, 반도체 웨이퍼(도시되지 않음)는 차례대로 척 상에서 고정된다. 도 1에서, 세 개의 구동나사들(12)이 회전될 때 실린더(10)를 상하로 구동하도록 설치된다. 세 개의 구동나사(12) 둘레에는, 상기 세 개의 구동나사(12)를 회전시키기 위한 구동체인(도시하지 않음)이 형성되고, 구동체인은 차례로 모터(도시하지 않음)에 의해 구동된다.
도 1의 구동시스템으로, 반도체처리장비의 조작자는 챔버내에서 반도체 웨이퍼의 원하는 높이를 설정할 수 있다. 그러면, 모터는 구동체인을 구동하여, 반도체처리챔버 내에서 원하는 높이로 실린더(10)을 차례로 이동시키는 세 개의 구동나사들(12)을 차례로 구동한다. 더하여, 척이 반도체 웨이퍼를 원하는 높이로 지지하는 것을 확보하기 위해, 다양한 센서들과 귀환시스템들은 처리챔버 내에서 척의 높이를 감시하도록 사용될 수 있다. 그리하여, 도 1에 나타난 척을 지지하는 실린더 (10)용 구동시스템의 사용은, 반도체 웨이퍼가 처리챔버내에서 가변의 높이로 대체될 수 있도록 한다.
그러나, 도 1의 체인구동시스템은 반도체 처리에 있어 몇 가지 단점들로 피해를 받는다. 첫 째, 반도체 처리는 극도로 정교한 동작을 요구하며, 또한 매우 높은 수준의 청정도를 요구한다. 도 1의 체인구동기는, 반도체 장비에 해를 끼칠 수 있는 반도체 장비내의 진동을 종종 발생시키는 결점을 가진다. 더욱이, 체인구동기는 반도체 장비내로의 통로에서 발견되는 오염물을 야기하는 윤활유를 필요로 할 수 있으며, 반도체 장비내의 어떠한 오염물들도 피처리 반도체 웨이퍼에 오염을 야 기할 수 있다.
반도체 지지요소의 위치를 정하는 대안적인 시스템이 도 2에 나타난다. 도 2는 반도체 웨이퍼가 고정되는 척(21)을 나타낸다. 척(21)은 차례로 상부지지브래킷 (27)과 하부지지브래킷(25)을 통과하기 위해 상하로 움직이는 실린더(22)에 의해 지지된다. 실린더(22)는 또한 실린더와 함께 움직이기 위해 그에 부착된 하부베이스(26)를 포함한다. 실린더(22)는 표준적인 방식으로, 공기흐름의 조절에 의하여 상하부로 이동하는 공기구동실린더일 수 있다.
척(21)이 처리챔버 내의 적절한 높이에 있도록 하기 위해, 하부베이스(26)는 세 개의 멈춤나사(24)들을 포함한다. 멈춤나사(24)는, 도 2에서 음영선으로 나타낸 것처럼, 적절한 높이를 가질 수 있다. 실린더(22)가 척(21) 상에 고정된 반도체 웨이퍼를 처리챔버 내부로 이동시키기 위해 상부로 이동될 때, 멈춤나사(24)는 하부지지브래킷 (25)의 바닥을 떠받들어 실린더(22)가 적절한 높이에서 멈추도록 하여, 결과적으로, 처리챔버 내부에서 적절한 높이로 척(21)을 정지시킨다. 도 2의 구동시스템을 포함하는 반도체 장비의 조작자는 손으로 멈춤나사(24)의 위치를 조정하여, 척(21)이 처리챔버 내에서 멈추는 높이를 조절할 수 있다. 이러한 장치에서, 실린더(22)의 움직임은 단지 하부지지브래킷(25)을 떠받치는 멈춤나사(24)에 의해 멈춰진다.
도 1의 구동시스템에 대한, 도 2의 구동시스템의 잇점은 체인구동기를 필요로 하지않아, 체인구동시스템의 진동과 잠재적인 오염을 피하는 것이다. 도 2의 구동시스템에서의 단점은, 조작자가 처리챔버 내의 실린더(22)의 높이를 조절하는 것 이 더욱 어렵고, 성가시다는 것으로, 그 이유는 그러한 조절하는 것이 조작자에게 멈춤나사(24)의 위치를 적절하게 손으로 조절하도록 요구하기 때문이다.
본 발명의 하나의 관점은, 반도체 처리장비에서, 목적물지지의 높이를 다양하게 변경할 수 있는 특별한 응용을 얻을 수 있는 신규한 구동시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 반도체 처리장비에서, 목적물지지의 높이를 조작자에 의해 진동이나 오염없이 쉽게 변경할 수 있는 특별한 응용을 얻을 수 있는 구동시스템을 제공하는 것이다.
본 발명의 또 다른 목적은, 반도체 처리장비에서, 반도체 웨이퍼가 위치되는 구동척용 공기실린더 구동유니트를 사용하는 반도체 처리장비에 제공될 수 있는 특별한 응용을 얻을 수 있는 구동시스템을 제공하는 것이다.
상기의 목적과 또 다른 목적을 얻기 위해, 본 발명은, 반도체 처리장비내에서 반도체 웨이퍼가 고정된 척을 움직이는 공기구동실린더와 같은 구동유니트의 움직임을 멈출 수 있는 신규의 가변간격멈춤장치를 제공한다. 본 발명에서, 구동유니트는 적어도 하나의 위치조정면을 포함한다. 이동가능한 간격멈춤유니트는 적어도 하나의 멈춤면 (Stop Surface)을 포함하고, 바람직한 실시예에서는 다른 높이에서 각각 2개 이상의 다른 멈춤면을 포함할 수 있다. 막대를 가진 실린더는 이동가능한 간격멈춤유니트를 움직여, 멈춤면의 적어도 하나를, 구동유니트의 적어도 하나의 위치조정면과 정렬 또는 비정렬되도록 위치시킨다.
본 발명의 구성과 동작으로, 구동유니트의 적어도 하나의 위치조정면은 이동가능한 간격멈춤유니트의 복수의 표면중의 하나를 지지할 수 있다. 구동유니트의 위치조정면이 지지하는 복수의 멈춤면에 의하여, 구동유니트는 위치조정면을 이동시키는 높이가 조절되며, 예를 들면, 실린더가 척을 이동시키는 높이, 결과적으로 반도체 처리챔버 내부에서의 척의 높이가 조절된다.
그럼으로써, 본 발명의 구조는 반도체 웨이퍼와 같은 목적물이 처리챔버와 같은 장치 내부에서 가변의 높이로 쉽고 효율적으로 위치조정될 수 있는, 쉽게 실행가능한 제어를 제공한다.
본 발명의 보다 완벽한 이해와 그에 부수하는 많은 장점들은, 첨부도면과 관련하여 고려될 때, 다음의 상세한 설명을 참고로 하여 보다 잘 이해됨에 따라 쉽게 얻어질 수 있다.
도 1은, 종래의 반도체지지장치용 체인구동시스템을 나타낸다.
도 2는, 더욱더 종래의 반도체지지장치용 구동시스템을 나타낸다.
도 3은, 구조적인 형태로, 본 발명의 반도체 지지장비용 구동시스템을 나타낸다.
도 4는, 블록도의 형태로, 본 발명의 반도체 지지장비용 구동시스템의 특정요소를 나타낸다.
도 5는, 본 발명의 가변간격멈춤시스템의 하나의 특정요소를 나타낸다.
도 6은, 제1의 위치에서의 본 발명의 가변간격멈춤시스템을 나타낸다.
도 7은, 제2의 위치에서의 본 발명의 가변간격멈춤시스템을 나타낸다.
도 8은, 제3의 위치에서의 본 발명의 가변간격멈춤시스템을 나타낸다.
이제 도면을 참고로 하면, 몇 개의 도면을 걸쳐 동일한 참고번호가 동일 또는 대응하는 부분을 지시하며, 더욱 특별하게 도 3에서, 본 발명의 가변간격멈춤장치를 포함하는 반도체 지지장치용 구동시스템이 나타난다.
도 3에 나타난 본 발명의 시스템은, 척(21)이 실린더(22)에 의해 적재되고 위치되는 도 2의 시스템과 유사하다. 실린더(22)는 차례로 멈춤나사(24)를 포함하는 하부베이스(26)를 적재한다. 실린더(22)는 공기조절되어 상하부로 이동한다. 그러나, 본 발명의 시스템은, 도 3에 나타난 바와 같이, 척(21)을 처리챔버(도시하지 않음) 내에서 가변의 높이에 위치되도록 하는 가변멈춤간격기구를 포함한다. 그러한 동작을 얻기 위해, 도 3에 나타난 본 발명에서, 링(32)은 가이드(30) 내부에 설치된다. 링(32)은, 도 5에 더욱 자세하게 나타난다. 링(32)은, 각각 다른 높이를 가지고, 실린더(22)가 상부로 이동될 때, 하부베이스(26)의 멈춤나사들에 접촉하거나 접촉하지 않은 채로 정렬 또는 비정렬되어 움직이도록 위치될 수 있는 다양한 멈춤면(33, 34)를 포함한다.
링(32)의 위치는, 막대(Rod, 37)를 가진 실린더(31)에 의해 외주방향으로 움직일 수 있다. 링(32)이 외주방향으로 움직일 때, 링(32)은, [1]멈춤면(33)이 멈춤나사 (24)의 맞은편에 정렬되도록 위치되고, [2]중간높이의 멈춤면(34)의 바닥이 멈춤나사(24)의 맞은편에 정렬되도록 위치되거나, [3]링(32)의 어떤 표면도 멈춤나사 (24)의 맞은편에 위치되지 않아 멈춤나사(24)가, 실린더(22)가 완전히 상부로 이동된 때 하부브래킷 (25)의 하부면을 지지할 수 있도록, 이동될 수 있다.
그러한 방식으로, 링(32)의 위치를 변경함에 의해, 실린더(22)는 [1]처리챔버내의 가장 하부위치에 위치된 척(21)에 대응하는, 멈춤면(33)을 떠받치는 멈춤나사(24), [2]처리챔버내의 상대적으로 중간위치에 위치하는 척(21)에 대응하는, 중간높이의 멈춤면(34)을 떠받치는 멈춤나사(24) 및, [3]처리챔버내의 가장 상부위치에 위치된 척(21)에 대응하는, 도 2의 실시예와 같은, 하부브래킷(25)를 떠받치는 멈춤나사 (24), 에 대응하는 세 개의 다른 위치에서 멈춰질 수 있다.
본 발명에서와 같은 가변간격멈춤배열을 사용함에 의해, 척(21)은 처리챔버내의 세 개의 다른 위치에서 멈춰질 수 있다. 더욱이, 본 발명에서와 같은 가변간격멈춤배열을 사용함에 의해, 멈춤나사(24)의 위치는, 척이 처리챔버내에 위치될 수 있는, 절대값으로 세 개의 위치를 변경하기 위해 더욱 조정될 수 있다.
도 3에 나타난 실시예에서, 링(32)은 하부브래킷(25)에 부착된 가이드(30)내에 형성된다. 가이드(30)는 외주방향에서의 링(32)의 부드러운 움직임을 확보하기 위해 구비된다.
도 3의 실시예에서, 실린더(31)은 상기에서 언급된 세 개의 다른 위치에서 링(32)의 위치를 정하도록 구비된다. 그러한 동작을 얻기 위해 발견된 하나의 실린더는 글로벌 시리즈(Global SeriesTM) 공기실린더라는 이름으로 제조된 옵션 (Option) XC11 또는 XC12를 가진 세로로 연결된 실린더이다. 그러한 실린더(31)는 세 개의 구별되는 막대위치가 요구될 때 사용된 세로로 연결된 실린더일 수 있다. 실린더(31)는 앞쪽의 실린더의 뒤탭 적재구멍 내부로 관통된 볼트를 가진 조합된, 선단과 꼬리가 연결된 두 개의 실린더로 형성될 수 있다. 보다 짧은 행정인 뒤쪽 실린더에 위치하는, 두 개의 다른 행정을 가진 실린더는 단일의 막대(37)가 연장되지 않거나, 정(Positive)의 중간위치에 연장되거나, 완전히 연장될 수 있도록 한다.
실린더(31)는 다양한 공기라인(36)에 의해 공기가 공급된 공기구동실린더일 수 있다. 실린더(31)로의 공기의 공급은, 공기라인(36) 내에서의 공기의 공급을 조절함에 의해, 세 개의 위치조정실린더(31)의 동작을 제어하는 솔레노이드밸브(39)에 의해 제어된다.
또한, 도 3에 나타나 것과 같이, 세 개의 센서들(38)이 실린더(31)에 적재된다. 상기 센서(38)는 실린더(31)의 막대(37)의 위치를 감시하기 위해 구비된다. 센서(38)의 사용은 실린더(31)의 막대(37)의 위치를 확인하고, 차례로 링(32)의 위치를 확인하기 위해 귀환제어를 설치할 수 있다.
도 4는 본 발명의 제어시스템의 최종적인 블록도를 나타낸다.
도 4에 나타낸 바와 같이, 실린더(31)는 링(32)의 위치를 제어한다. 상기 실린더(31)는 차례로 제어유니트(40)에 의해 제어된다. 제어유니트(40)는, 조작자가 키패드나 터치스크린 등으로 처리챔버내에서의 척(21)의 원하는 높이를 입력함에 의해 일반적으로 얻어질 수 있는 높이입력(41)을 수신한다. 제어유니트(40)가 높이입력(41)을 수신할 때, 제어유니트(40)는 실린더(31)를 제어하여 막대(37)을 원하 는 높이까지 연장시키고, 그럼으로써 실린더(31)는 링(32)을 둘레에 걸쳐 원하는 위치로 이동시키도록 제어한다. 제어유니트(40)는 또한 센서(38)으로부터의 귀환신호를 수신한다. 상기에 언급한 것처럼, 센서(38)는 실린더(31) 내부의 막대(37)의 위치를 확인하는 센서이다. 그러한 방식으로 제어유니트(40)가, 실린더(31) 내부의 막대(37)가 원하는 위치에 있도록 확인할 수 있다.
또한, 제어유니트(40)는 실린더(22)에 인접하거나 처리챔버 내부에 구비될 수 있으며, 실린더(22)의 위치나 처리챔버 내부에 척(21)의 위치를 감지하는, 제 2의 일련의 센서(42)들로부터 신호를 수신할 수 있다. 센서(42)는, 척(21)이 본 실시예의 처리챔버 내부에 위치될 수 있는 세 개의 높이 각각에 구비되어야 한다. 그러한 센서들(42)은 제어유니트(40)가 처리챔버 내부의 척(21)의 위치를 확인할 수 있는 추가적인 방식을 제공할 수 있다.
도 6∼8은, 분리되어 각각 링(32)이 가질 수 있는 세 개의 다른 위치를 나타내는 가변간격멈춤시스템을 나타낸다.
더욱 구체적으로, 도 6은, 실린더(31)의 막대(37)가, 실린더(31)가 링(32)의 멈춤면이 멈춤나사(24)와 정렬되어 위치되도록 하는 위치에 있도록, 연장되지 않는, 본 발명의 분리된 가변간격멈춤시스템을 나타낸다. 도 6에 나타난 바와 같은 위치조정으로, 실린더(22)가 척(21)상에 적재된 반도체 웨이퍼가 처리챔버내에 있도록 하는 위치로 상승할 때, 실린더(22)의 하부베이스(26) 상에 적재된 멈춤나사 (24)는 실린더(22)의 움직임을 정지시키도록 링(32)의 멈춤면(33)을 떠받칠 것이다. 상기에 논의한 바와 같이, 그러한 위치에서 척(21)은 처리챔버 내부의 가장 낮은 위치에 있을 것이다.
도 7은, 실린더(31)의 막대(37)가 중간위치까지 연장된, 본 발명의 가변가스멈춤시스템을 나타낸다. 도 7에 나타난 위치에서, 링(32)의 중간높이의 멈춤면(34)은 멈춤나사(24)와 정렬되어 위치된다. 그러한 동작으로, 실린더(22)가 상승할 때, 멈춤나사(24)는 중간높이의 멈춤면(34)를 지지하여, 척(21)은 처리챔버 내부의 중간위치에 위치될 것이다.
도 8은, 링(32)의 어느 부분도 멈춤나사(24)와 정렬되지 않도록, 실린더 (31)의 막대(37)가 최대레벨까지 연장된, 본 발명의 가변가스멈춤시스템을 나타낸다. 도 8의 위치에서, 실린더(22)가 상승할 때, 멈춤나사(24)의 상부는 하부브래킷(25)의 바닥을 지지할 것이다. 그러한 위치에서, 척(21)은 처리챔버내에서 가장 높은레벨에 있을 것이다.
그리하여, 상기에서 언급한 도면에서 나타낸 본 발명의 동작으로, 척(21)은 처리챔버내에서 다양한 높이 위치를 가지도록 제어될 수 있다.
상기에서 논의한 바와 같이, 본 발명의 실시예는, 세 개의 다른 간격멈춤위치 또는 높이가 가능하도록 두 개의 다른 멈춤면(33과 34)을 포함하는 링(32)를 나타낸다. 링(32)은, 분명하게 원하는 바대로, 단 하나의 간격멈춤면, 또는 3개, 또는 그 이상의 간격멈춤면들을 포함하도록 변형될 수 있다.
더욱이, 멈춤면(33과 34)은 링(32)에 필수적인 부분으로 형성되거나, 링(32)에 부착된 별개의 요소로 형성될 수 있다. 만약, 멈춤면(33과 34)이 링(32)에 부착된 별개의 요소로 형성되면, 그때 다른 멈춤면(33과 34)들이 사용될 수 있다. 즉, 다양한 높이의 다른 일련의 멈춤면(33과 34)이 선택될 수 있으며, 본 발명의 장치의 유연성을 증가시키기 위해 링 내부에 합체될 수 있다.
더욱이, 실린더(31)는 공기구동실린더일 필요가 없으며, 다양한 위치로 링 (32)를 이동시킬 수 있는 여하의 실린더일 수 있다.
더욱이, 간격멈춤면(33, 34)은 링(32)의 부분으로서 나타나 있지만, 상기 간격멈춤면 (33, 34)는 원하는 경우, 비주위형상(Non-circumferential)의 장치상에 형성될 수 있다. 본 발명은 물론, 다른 형태의 장치로 사용될 수 있으나, 본 발명의 응용은, 본 발명에서의 그러한 장치가 특별히 반도체 처리장비에 사용될 수 있을 것으로 평가된다.
분명히, 본 발명의 수많은 추가적인 수정과 변형이, 상기 시사의 관점에서 가능하다. 그러므로, 첨부되는 청구항의 범위내에서, 본 발명은 여기서 특별히 설명된 것과 다르게 실시될 수 있다.

Claims (19)

  1. 적어도 하나의 위치조정면을 포함하는 구동유니트의 이동을 정지시키기 위한 가변간격멈춤장치로서,
    각각 다른 높이에 위치한 적어도 제1 및 제2멈춤면을 포함하는 이동가능한 간격멈춤유니트와;
    상기 이동가능한 간격멈춤유니트를 이동시켜, 상기 적어도 제1 및 제2멈춤면이 상기 구동유니트의 적어도 하나의 위치조정면과 접촉하는 위치에서 정렬되거나 또는 정렬이 해제되도록 위치시키는 실린더를 구비하는 가변간격멈춤장치.
  2. 삭제
  3. 제 1 항에 있어서, 상기 이동가능한 간격멈춤유니트는, 상기 적어도 제 1 및 제 2의 멈춤면을 지지하는 링형상의 부재를 포함하며, 상기 실린더는 상기 링형상의 부재를 외주방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 가변간격멈춤장치.
  4. 제 1 항에 있어서, 상기 실린더는, 상기 이동가능한 유니트에 연결된 막대를 가진 세로로 연결된 실린더를 포함하여 구성되고, 상기 막대는 세 개의 다른 위치를 가질 수 있는 것을 특징으로 하는 가변간격멈춤장치.
  5. 제 4 항에 있어서, 상기 막대의 위치를 감지하기 위해 구성된 상기 실린더 상에 적어도 하나의 센서를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 가변간격멈춤장치.
  6. 반도체 처리장치로서 ;
    피처리 반도체 웨이퍼가 위치되는 지지체와;
    처리챔버 내에서 일정 높이로 상기 지지체를 위치시키도록 구성되고, 적어도 하나의 위치조정면을 포함하는 구동유니트와;
    각각 다른 높이에 위치한 적어도 제1 및 제2멈춤면을 포함하는 이동가능한 간격멈춤유니트 및;
    상기 이동가능한 간격멈춤유니트를 이동시켜, 상기 적어도 제1 및 제2멈춤면이 상기 구동유니트의 적어도 하나의 위치조정면과 접촉하는 위치에서 정렬되거나 또는 정렬이 해제되도록 위치시키는 실린더를 구비하는 반도체 처리장치.
  7. 삭제
  8. 제 6 항에 있어서, 상기 이동가능한 간격멈춤유니트는, 상기 적어도 제 1 및 제 2의 멈춤면을 지지하는 링형상의 부재를 포함하고, 상기 실린더는 상기 링형상의 부재를 외주방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 반도체 처리장치.
  9. 제 6 항에 있어서, 상기 실린더는 상기 이동가능한 유니트에 연결된 막대를 가진 세로로 연결된 실린더를 포함하여 구성되고, 상기 막대는 세 개의 다른 위치를 가질 수 있는 것을 특징으로 하는 반도체 처리장치.
  10. 제 9 항에 있어서, 상기 막대의 위치를 검출하기 위해 구성된 상기 실린더 상의 적어도 하나의 센서를 더욱 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 처리장치.
  11. 반도체 처리장치로서;
    피처리 반도체 웨이퍼를 지지하기 위한 지지수단과;
    처리챔버 내에서 일정높이로 상기 지지수단을 구동하며, 적어도 하나의 위치조정면수단을 포함하는 구동수단들과;
    각각 다른 높이에 위치한 적어도 제1 및 제2멈춤면수단을 포함하는 이동가능한 간격멈춤수단 및;
    상기 이동가능한 간격멈춤수단을 이동시켜, 상기 적어도 제1 및 제2멈춤면수단이 상기 구동수단의 적어도 하나의 위치조정면수단과 접촉하는 위치에서 정렬되거나 또는 정렬이 해제되도록 위치시키는 위치조정수단들을 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 반도체 처리장치.
  12. 삭제
  13. 제 11 항에 있어서, 상기 위치조정수단들이 상기 가변간격멈출수단들의 위치를 정하는 위치를 감지하기 위하여 상기 위치조정수단상에 적어도 하나의 센서수단을 포함하여 구성하는 것을 특징으로 하는 반도체 처리장치.
  14. 적어도 하나의 위치조정면을 포함하는 구동유니트의 이동을 멈추게 하는 방법으로서;
    각각 다른 높이에 위치한 적어도 제1 및 제2멈춤면을 포함하는 이동가능한 간격멈춤유니트를 설치하는 단계와;
    상기 적어도 제1 및 제2멈춤면이 상기 구동유니트의 적어도 하나의 위치조정면과 접촉하는 위치에서 정렬되거나 또는 정렬이 해제되도록 위치시키기 위하여, 상기 이동가능한 간격멈춤유니트를 이동시키는 단계를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 구동유니트의 이동을 멈추게 하는 방법.
  15. 삭제
  16. 제 14 항에 있어서, 상기 이동가능한 간격멈춤유니트는 적어도 제 1 및 제 2의 멈춤면을 지지하기 위한 링형상의 부재를 포함하고, 상기 이동단계는 상기 링형상의 부재를 외주방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 구동유니트의 이동을 멈추게 하는 방법.
  17. 제 14 항에 있어서, 상기 구동유니트는 피처리 반도체 웨이퍼가 위치되고, 처리챔버 내에서 일정 높이에 위치시키는 지지체를 포함하는 것을 특징으로 하는 구동유니트의 이동을 멈추게 하는 방법.
  18. 제 17 항에 있어서, 상기 이동가능한 간격멈춤유니트의 상기 적어도 하나의 멈춤면이 각각 다른 높이에 적어도 제 1 및 제 2의 멈춤면을 포함하는 것을 특징으로 하는 구동유니트의 이동을 멈추게 하는 방법.
  19. 제 17 항에 있어서, 상기 이동가능한 간격멈춤유니트는 적어도 제 1 및 제 2 의 멈춤면을 지지하는 링형상의 부재를 포함하고, 상기 이동단계는 상기 링형상의 부재를 외주방향으로 이동시키는 것을 특징으로 하는 구동유니트의 이동을 멈추게 하는 방법.
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