KR100724485B1 - 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
Claims (31)
- 화소부를 구성하는 제1소자, 구동회로부를 구성하는 제2소자 및 제3소자가 형성되는 기판전면에 반도체층을 형성하는 단계;상기 반도체층을 결정화시키는 단계;상기 제3소자의 결정화된 반도체층의 소스 및 드레인영역에 제1도전형 불순물을 도핑하는 단계;상기 제1소자 및 제2소자의 결정화된 반도체층에 제2도전형 불순물을 도핑하는 단계;상기 기판전체에 도전층을 형성하고 상기 도전층과 그 하부의 결정화된 반도체층을 동시에 패터닝하여 상기 제1, 2 및 3소자의 소스 및 드레인, 활성영역을 형성하는 단계;상기 기판전체에 게이트절연막을 형성하는 단계;상기 게이트절연막상에 제1, 2 및 3소자의 게이트전극을 형성하는 단계;상기 기판전체에 보호막을 형성하는 단계;상기 보호막내에 상기 드레인을 노출시키는 드레인콘택홀을 형성하는 단계; 및상기 보호막상에 상기 드레인콘택홀을 통해 상기 드레인과 연결되는 화소전극을 형성하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 도전층은 상기 반도체층과 접촉하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 도전층과 반도체층을 패터닝하는 단계는, 회절패턴마스크를 사용한 회절노광에 의해 이루어지는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 도전층을 형성하는 단계이후, 에싱공정과 상기 제1, 2, 3소자의 채널영역에 위치하는 도전층을 패터닝하여 소스 및 드레인을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 상기 반도체층을 결정화시키는 단계는,기판상에 비정질실리콘층을 형성하는 단계와,상기 비정질실리콘층을 수소화처리하는 단계와,상기 비정질실리콘층을 레이저를 이용하여 결정화시키는 단계로 이루어지는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1도전성불순물은 p+ 불순물이고, 제2도전성불순물은 n+불순물인 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제2도전성불순물을 도핑한후 LDD 도핑공정을 진행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 에싱공정은 상기 LDD 도핑공정을 실시하기 전 공정인 제2불순물을 반도체층에 도핑한후 진행하는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 도전층과 반도체층을 패터닝하는 단계는, 감광막패턴을 형성하는 공정과, 이 감광막패턴을 회절패턴마스크를 이용한 회절노광에 의해 패터닝하는 공정으로 이루어지는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제9항에 있어서, 상기 회절노광공정시에 상기 제1, 2, 3 소자의 채널영역에 위치하는 감광막패턴부분은 소스 및 드레인영역에 위치하는 감광막패턴부분보다 많이 노광되는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제 7 항에 있어서, 상기 에싱공정은제2불순물을 반도체층에 도핑하기 전에 감광막패턴을 형성하는 단계와,상기 제2불순물을 반도체층에 도핑한후 상기 감광막패턴의 일정부분을 제거하는 단계로 이루어지는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제 1 항에 있어서, 게이트절연막을 형성하는 단계이후에 활성화 공정을 진행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 보호막을 수소화처리공정을 실시하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 반도체층을 형성하는 단계는,기판상에 비정질실리콘층을 형성하는 공정과,상기 비정질실리콘층을 탈수소화처리하는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 삭제
- 제1항에 있어서, 상기 도전층상에 감광막을 형성하는 단계와, 상기 감광막을 회절노광시켜 감광막패턴을 형성하는 단계와, 회절노광된 감광막패턴을 에싱처리하여 제1, 2 및 3 소자의 채널영역에 위치하는 회절노광된 감광막패턴을 부분식각하 는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제1항에 있어서, 상기 제1, 2 및 3 소자의 게이트를 형성한후 LDD 도핑공정을 진행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제17항에 있어서, 상기 LDD 도핑공정은 제 1, 2, 3 소자의 게이트를 마스크로 사용하여 자기정렬(self-align)되는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 화소부를 이루는 제1소자와, 구동회로부를 이루는 제2, 3 소자가 형성되는 기판 전면에 반도체층을 형성하는 단계;상기 제1소자와 구동회로부를 이루는 제2소자 전체 및 제3소자의 게이트 형성영역상에 위치하는 반도체층상에 제1감광막패턴을 형성하는 단계;상기 제1감광막패턴을 마스크로 상기 구동회로부를 구성하는 제3소자의 반도체층에 제1도전형 불순물을 도핑하는 단계;상기 제1감광막패턴을 제거한후, 상기 제1소자의 게이트 형성영역과 제2소자의 게이트 형성영역 및, 상기 제3소자부분에 제2감광막패턴을 형성하는 단계;상기 제2감광막패턴을 마스크로 상기 제1소자의 반도체층 및 제2소자의 반도체층에 제2도전형 불순물을 도핑하는 단계;결정화공정을 진행하여 상기 제1, 2, 3 소자의 반도체층을 결정화시키는 단계;상기 기판 전면에 도전층 및 감광막을 적층한후 회절노광공정을 통해 상기 감광막을 부분식각하여 제3감광막패턴을 형성하는 단계;상기 제3감광막패턴을 마스크로 상기 도전층 및 결정화된 반도체층을 패터닝하여 소스/드레인영역 및 활성영역을 동시에 정의하는 단계;상기 제1소자, 제2 및 3 소자의 채널지역에 위치하는 회절노광된 제3감광막패턴부분을 제거하는 단계;남아 있는 제3감광막패턴을 마스크로 상기 도전층을 선택적으로 제거하여 소스/드레인을 형성하는 단계;상기 제3감광막패턴을 제거한후 기판전면에 게이트절연막을 형성하는 단계;상기 게이트절연막상에 도전층을 형성한후 상기 도전층상에 제4감광막패턴을 형성하는 단계;상기 제4감광막패턴을 마스크로 상기 도전층을 식각하여 상기 제1, 2 및 3 소자의 게이트를 각각 형성하는 단계;상기 제4감광막패턴을 제거한후 기판전면에 보호막을 형성하는 단계;상기 보호막상에 제5감광막패턴을 형성한후 상기 제5감광막패턴을 마스크로 상기 보호막을 식각하여 상기 화소부의 소스/드레인을 노출시키는 단계;상기 제5감광막패턴을 제거한후 상기 보호막상에 상기 화소부의 소스/드레인에 연결되는 투명전극층을 형성하는 단계; 및상기 투명전극층상에 제6감광막패턴을 형성한후 상기 제6마스크로 상기 투명전극층을 식각하여 화소전극을 형성하는 단계;를 포함하여 구성되는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제19항에 있어서, 상기 반도체층을 결정화시키는 단계는,기판상에 비정질실리콘층을 형성하는 공정과,상기 비정질실리콘층을 탈수소화처리하는 공정과,상기 비정질실리콘층을 레이저 결정화공정을 통해 폴리실리콘화시키는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제19항에 있어서, 상기 제1도전성불순물은 p+불순물이고, 제2도전성불순물은 n+불순물인 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제19항에 있어서, 상기 회절노광공정은 소자의 채널형성부분상에 위치하는 감광막부분에 노광되는 빛이 소스/드레인 형성부분상에 위치하는 감광막부분에 노광되는 빛보다 많은 회절패턴마스크를 이용하여 진행하는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제 19 항에 있어서, 상기 게이트절연막을 형성하는 단계이후에 활성화 공정을 진행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스 터 제조방법.
- 제 19 항에 있어서, 상기 제5감광막패턴 형성전에 보호막을 수소화처리하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제 19 항에 있어서, 상기 반도체층을 형성하는 단계는,기판상에 비정질실리콘층을 형성하는 공정과,상기 비정질실리콘층을 탈수소화처리하는 공정을 포함하여 이루어지는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제 19 항에 있어서, 상기 제2감광막패턴을 선택적으로 제거한후 LDD영역을 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제26항에 있어서, 상기 LDD도핑을 실시하는 단계이후에 제2감광막패턴을 제거한후 레이저 결정화공정을 실시하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제26항에 있어서, 상기 제2감광막패턴을 선택적으로 제거하여 제2도전성 불순물이 도핑된 반도체층과 인접하는 반도체층부분에 LDD도핑을 실시하는 단계는, 상기 제2감광막패턴을 에싱공정에 의해 선택적으로 식각하는 공정이후에 이루어지는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제19항에 있어서, 상기 제1, 2 및 3 소자의 게이트를 형성한후 LDD 도핑공정을 진행하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제29항에 있어서, 상기 LDD 도핑공정은 제 1, 2, 3 소자의 게이트를 마스크로 사용하여 자기정렬(self-align)되는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
- 제19항에 있어서, 상기 제1, 2, 3소자의 채널지역에 위치하는 도전층 부분은 회절노광된 제3감광막패턴을 에싱처리하여 노출시키는 것을 특징으로하는 액정표시장치의 박막트랜지스터 제조방법.
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