KR101087750B1 - 두가지 타입의 박막트랜지스터를 포함하는 액정표시장치용어레이기판 및 그 제조방법 - Google Patents
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Abstract
Description
이때, 상기 스위칭소자와 구동소자 박막트랜지스터는 NMOS소자이며, BCE(Back Channel Etched)방식인 것을 특징으로 하며, 상기 제 1차 순수비정질실리콘층은 100~1000Å의 두께인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명은 기판에 표시부와 구동소자부를 정의하는 단계와; 상기 표시부와 구동소자부에 대응하는 기판 상에 게이트전극을 형성하는 단계와; 상기 표시부와 구동소자부의 게이트전극이 형성된 기판의 전면에 1차순수비정질실리콘을 형성하는 단계와; 상기 구동소자부에 대응하는 1차순수비정질실리콘층을 결정화하여 다결정실리콘층을 형성하는 단계와; 상기 1차순수비정질실리콘층과 다결정실리콘층이 형성된 기판의 전면에 2차 순수비정질실리콘 및 불순물비정질실리콘층을 형성하는 단계와; 상기 불순물비정질실리콘층 상에 서로 이격되는 소스 및 드레인전극을 형성하는 단계와; 상기 구동소자부 및 표시부의 상부에 형성되고, 상기 표시부의 드레인전극의 일부를 노출되는 보호층을 형성하는 단계와; 상기 노출된 드레인전극과 전기적으로 접촉되도록 형성된 화소전극을 형성하는 단계를 포함하는 구동회로 일체형 액정표시장치용 어레이기판 제조방법을 제공한다.
또한, 본 발명은 기판에 표시부와 구동소자부를 정의하는 단계와; 상기 구동소자부와 표시부에 대응하는 기판 상에 게이트전극을 형성하는 제1마스크공정과 단계와; 상기 구동소자부와 표시부의 게이트전극이 형성된 기판의 전면에 1차 순수비정질실리콘층을 형성하고, 상기 구동소자부의 1차 순수비정질실리콘층을 결정화하여 다결정실리콘층을 형성하는 단계와; 상기 1차 순수비정질실리콘층과 다결정실리콘층이 형성된 기판의 전면에 2차 순수비정질실리콘층 및 불순물비정질실리콘층과 금속층을 형성하는 단계와; 상기 1차 및 2차실리콘층과 다결정실리콘층, 불순물비정질실리콘층, 금속층을 패터닝하여, 액티브층과 오믹콘택층을 형성하며, 상기 불순물비정질실리콘층 상부에 서로 이격되는 소스 및 드레인전극을 형성하는 제2마스크공정 단계와; 상기 표시부와 구동소자부에 대응하는 소스 및 드레인전극이 형성된 기판의 전면에 보호층을 형성하고, 상기 표시부의 드레인전극이 노출되도록 패터닝하는 제3마스크공정 단계와; 상기 노출된 드레인전극과 접촉되는 화소전극을 형성하는 제4마스크공정 단계를 포함하는 구동회로 일체형 액정표시장치용 어레이기판의 제조방법을 제공한다.
이때, 상기 스위칭소자와 구동소자 박막트랜지스터는 NMOS소자이며, BCE(Back Channel Etched)방식인 것을 특징으로 하며, 상기 구동소자부의 1차 순수비정질실리콘층을 결정화하는 방법은 엑시머레이져를 이용하여 결정화하는 것을 특징으로 한다.
그리고, 상기 1차 순수비정질실리콘층은 100~1000Å의 두께로 형성하는 것을 특징으로 하며, 상기 제2마스크공정 단계는 상기 금속층의 상부에 포토레지스트층을 형성하는 단계와; 상기 포토레지스트층의 이격된 상부에 투과부와 차단부와 회절부로 구성된 회절노광마스크를 위치시키는 단계와; 상기 회절노광마스크를 통해 빛을 조사하여 상기 포토레지스트층을 노광하고, 현상하여 단차가 존재하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와; 상기 포토레지스트 패턴의 주변으로 노출된 금속층과 그 하부의 불순물비정질실리콘층과 1차 및 2차 순수비정질실리콘층을 제거하는 단계와; 상기 게이트전극에 대응하는 상기 포토레지스트 패턴을 제거하여 하부의 금속층을 노출하는 단계와; 상기 노출된 금속층을 제거하여 이격된 소스 및 드레인전극을 형성하는 단계와; 상기 소스 및 드레인전극의 이격된 영역으로 노출된 하부의 불순물비정질실리콘을 제거하여, 그하부의 2차 비정질실리콘층을 노출하여 액티브층과 오믹콘택층을 형성하는 단계와; 상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 포함한다.
그리고, 상기 불순물실리콘층은 오믹콘택층이고, 상기 2차순수비정질실리콘층은 액티브층인 것을 특징으로 한다.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명에 따른 실시예를 상세히 설명한다.
Claims (11)
- 구동소자부와 표시부가 정의된 기판과;상기 기판 상의 구동소자부와 표시부에 각각 형성된 게이트전극과;상기 구동소자부의 게이트전극 상부에 형성된 다결정실리콘층과;상기 표시부의 게이트전극 상부에 형성된 1차순수비정질실리콘층과;상기 구동소자부에 형성된 다결정실리콘층과, 상기 표시부에 형성된 1차순수비정질실리콘층 상부에 형성된 2차순수비정질실리콘층과;상기 구동소자부와 표시부의 2차순수비정질실리콘층 상부에 형성된 불순물비정질실리콘층과;상기 구동소자부와 표시부의 불순물비정질실리콘층 상부에 서로 이격하여 형성된 소스 및 드레인전극과;상기 구동소자부 및 표시부의 상부에 형성되고, 상기 표시부의 드레인전극을 노출하는 보호층과;상기 노출된 드레인전극과 전기적으로 접촉하는 화소전극을 포함하는 구동회로 일체형 액정표시장치용 어레이기판.
- 제 1항에 있어서,상기 스위칭소자와 구동소자 박막트랜지스터는 NMOS소자이며, BCE(Back Channel Etched)방식인 것을 특징으로 하는 구동회로 일체형 액정표시장치용 어레이기판.
- 제 1항에 있어서,상기 제 1차 순수비정질실리콘층은 100~1000Å의 두께인 것을 특징으로 하는 구동회로 일체형 액정표시장치용 어레이기판.
- 기판에 표시부와 구동소자부를 정의하는 단계와;상기 표시부와 구동소자부에 대응하는 기판 상에 게이트전극을 형성하는 단계와;상기 표시부와 구동소자부의 게이트전극이 형성된 기판의 전면에 1차순수비정질실리콘을 형성하는 단계와;상기 구동소자부에 대응하는 1차순수비정질실리콘층을 결정화하여 다결정실리콘층을 형성하는 단계와;상기 1차순수비정질실리콘층과 다결정실리콘층이 형성된 기판의 전면에 2차 순수비정질실리콘 및 불순물비정질실리콘층을 형성하는 단계와;상기 불순물비정질실리콘층 상에 서로 이격되는 소스 및 드레인전극을 형성하는 단계와;상기 구동소자부 및 표시부의 상부에 형성되고, 상기 표시부의 드레인전극의 일부를 노출되는 보호층을 형성하는 단계와;상기 노출된 드레인전극과 전기적으로 접촉되도록 형성된 화소전극을 형성하는 단계를 포함하는 구동회로 일체형 액정표시장치용 어레이기판 제조방법.
- 기판에 표시부와 구동소자부를 정의하는 단계와;상기 구동소자부와 표시부에 대응하는 기판 상에 게이트전극을 형성하는 제1마스크공정과 단계와;상기 구동소자부와 표시부의 게이트전극이 형성된 기판의 전면에 1차 순수비정질실리콘층을 형성하고, 상기 구동소자부의 1차 순수비정질실리콘층을 결정화하여 다결정실리콘층을 형성하는 단계와;상기 1차 순수비정질실리콘층과 다결정실리콘층이 형성된 기판의 전면에 2차 순수비정질실리콘층 및 불순물비정질실리콘층과 금속층을 형성하는 단계와;상기 1차 및 2차실리콘층과 다결정실리콘층, 불순물비정질실리콘층, 금속층을 패터닝하여, 액티브층과 오믹콘택층을 형성하며, 상기 불순물비정질실리콘층 상부에 서로 이격되는 소스 및 드레인전극을 형성하는 제2마스크공정 단계와;상기 표시부와 구동소자부에 대응하는 소스 및 드레인전극이 형성된 기판의 전면에 보호층을 형성하고, 상기 표시부의 드레인전극이 노출되도록 패터닝하는 제 3마스크공정 단계와;상기 노출된 드레인전극과 접촉되는 화소전극을 형성하는 제4마스크공정 단계를 포함하는 구동회로 일체형 액정표시장치용 어레이기판의 제조방법.
- 제 4항에 있어서,상기 스위칭소자와 구동소자 박막트랜지스터는 NMOS소자이며, BCE(Back Channel Etched)방식인 것을 특징으로 하는 구동회로 일체형 액정표시장치용 어레이기판 제조방법.
- 제 4항에 있어서,상기 구동소자부의 1차 순수비정질실리콘층을 결정화하는 방법은 엑시머레이져를 이용하여 결정화하는 것을 특징으로 하는 구동회로 일체형 액정표시장치용 어레이기판 제조방법.
- 제 4항에 있어서,상기 1차 순수비정질실리콘층은 100~1000Å의 두께로 형성하는 것을 특징으로 하는 구동회로 일체형 액정표시장치용 어레이기판 제조방법.
- 제 5항에 있어서,상기 제2마스크공정 단계는상기 금속층의 상부에 포토레지스트층을 형성하는 단계와;상기 포토레지스트층의 이격된 상부에 투과부와 차단부와 회절부로 구성된 회절노광마스크를 위치시키는 단계와;상기 회절노광마스크를 통해 빛을 조사하여 상기 포토레지스트층을 노광하고, 현상하여 단차가 존재하는 포토레지스트 패턴을 형성하는 단계와;상기 포토레지스트 패턴의 주변으로 노출된 금속층과 그 하부의 불순물비정질실리콘층과 1차 및 2차 순수비정질실리콘층을 제거하는 단계와;상기 게이트전극에 대응하는 상기 포토레지스트 패턴을 제거하여 하부의 금속층을 노출하는 단계와;상기 노출된 금속층을 제거하여 이격된 소스 및 드레인전극을 형성하는 단계와;상기 소스 및 드레인전극의 이격된 영역으로 노출된 하부의 불순물비정질실리콘을 제거하여, 그하부의 2차 비정질실리콘층을 노출하여 액티브층과 오믹콘택층을 형성하는 단계와;상기 포토레지스트 패턴을 제거하는 단계를 포함하는 구동회로 일체형 액정표시장치용 어레이기판의 제조방법.
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- 청구항 11은(는) 설정등록료 납부시 포기되었습니다.제9항에 있어서,상기 불순물실리콘층은 오믹콘택층이고, 상기 2차순수비정질실리콘층은 액티브층인 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 어레이기판의 제조방법.
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