KR100688809B1 - 액정 셀 기판 - Google Patents

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Abstract

본 발명은 대단히 얇고 경량일 수 있으며, 내열성, 내충격성 및 품질 안정성이 탁월한, 편광 작용을 갖는 액정 셀 기판에 관한 것이다. 상기 액정 셀 기판은 수지 기판 및 상기 기판 상에 밀착된 하나 이상의 기체 차단 층, 가교 결합된 수지 층 및 편광 층(코팅 층을 포함한다)을 포함한다. 편광 작용과 고도의 내구성을 갖는 상기 셀 기판은, 탁월한 내열성을 갖는 대단히 얇은 편광 층을 코팅에 의해 수지 기판 상에 침착시킬 수 있고 또한 기체 차단 층 및 가교 결합된 수지 층을 용이하게 형성시킬 수 있기 때문에 효율적으로 제조될 수 있다. 상기 셀 기판은 내습성, 기체 저항성 및 내충격성이 탁월하며, 대단히 얇고 경량일 수 있으며, 탁월한 내열성을 갖는다. 이러한 액정 셀 기판을 사용하여 디스플레이 품질의 장기적인 안정성이 탁월한 액정 셀을 제조할 수 있다.

Description

액정 셀 기판{LIQUID CRYSTAL CELL SUBSTRATE}
도 1은 본 발명에 따른 액정 셀 기판의 하나의 실시태양을 나타내는 단면도이다.
도 2는 본 발명에 따른 액정 셀 기판의 또 다른 실시태양을 나타내는 단면도이다.
도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명
1: 수지 기판
2: 기체 차단층
3: 가교결합된 수지 층
4: 편광 층
본 발명은 편광 작용을 갖고, 내열성, 내습성, 기체 차단성, 내구성 등이 탁 월하며, 대단히 얇고 경량일 수 있으며, 액정 디스플레이의 제작에 사용하기 적합한 수지-기판의 액정 셀 기판에 관한 것이다.
편광 작용을 갖는 통상적인 액정 셀은 편광 판이 결합된 셀 기판을 사용한다. 이러한 셀 기판에, 디스플레이의 크기가 증가하는 경향에 대처하기 위해서 무겁고 깨지기 쉬운 유리 기판 대신에 대단히 얇고 경량일 수 있는 수지 기판을 사용할 것이 제안되었다. 그러나, 상기 제안된 수지 기판은, 통상적인 편광 판이 투명한 보호막을 접착 층을 통해 편광자의 양쪽 면에 결합시킴으로써 형성된 5-층 구조를 가져서 전체 두께가 일반적으로 100 ㎛ 이상이기 때문에 중량과 두께가 충분히 감소될 수 없다는 문제점과 상기 편광 판이 불충분한 내열성을 갖기 때문에 100 ℃ 이상의 온도에서 사용하기 어렵다는 문제점을 갖고 있다.
따라서, 본 발명의 목적은 편광 작용을 가지며, 대단히 얇고 경량일 수 있으며, 내열성, 내충격성 및 품질 안정성이 탁월한 액정 셀 기판을 제공하는 것이다.
본 발명은 수지 기판, 및 상기 기판 상에 밀착되어 있는 기체 차단 층, 가교 결합된 수지 층 및 편광 층(코팅 층을 포함한다)을 포함하는 액정 셀 기판을 제공한다.
본 발명에 따라, 편광 작용 및 고도의 내구성을 갖는 액정 셀 기판을 효율적으로 제조할 수 있는데, 이는 탁월한 내열성을 갖는 대단히 얇은 편광 층을 코팅에 의해 수지 기판 상에 침착시킬 수 있고 기체 차단 층 및 가교 결합된 수지 층을 또한 용이하게 형성시킬 수 있기 때문이다. 상기 셀 기판은 내습성, 기체 저항성 및 내충격성이 탁월하며, 대단히 얇고 경량일 수 있으며, 탁월한 내열성을 갖는다. 이러한 액정 셀 기판을 사용하여 디스플레이 품질의 장기적인 안정성이 탁월한 액정 셀을 제조할 수 있다.
본 발명에 따른 액정 셀 기판은 수지 기판을 포함하고 상기 기판 상에 기체 차단 층, 가교 결합된 수지 층 및 편광 층(코팅 층을 포함한다) 중 하나 이상이 밀착되어 있다. 본 발명의 실시태양들이 도 1 및 2에 도시되어 있으며, 도면에서 도면 번호 1은 수지 기판을 나타내고, 2는 기체 차단 층을 나타내고, 3은 가교 결합된 수지 층을 나타내고, 4는 편광 층을 나타낸다.
수지 기판은 상기 기판 상에 배치된 층들, 예를 들어 기체 차단 층을 지지하기 위한 셀 기판의 기부로서 작용한다. 이는 열가소성 수지 또는 열경화성 수지와 같은 적합한 수지로부터 제조될 수 있다. 상기 수지 기판상에 편광 층, 투명한 전도성 필름 및 다른 층들을 배치시키는데 필요한 내열성의 관점 및 기타 다른 관점으로부터, 바람직한 수지 기판은 유리 전이 온도가 일반적으로 130 ℃ 이상, 바람직하게는 150 ℃ 이상, 보다 바람직하게는 160 ℃ 이상인 수지로 제조된 것이다.
수지 기판은 투명성 및 내충격성이 탁월한 것이 바람직하다. 광 투과율이 80% 이상인 수지 기판이 특히 바람직하다. 액정 셀에 있어서 액정의 품질 변화를 방지하고 내구성 및 다른 성질들을 얻고자 하는 관점에서, 바람직한 수지 기판은 탁월한 화학물질 내성, 광학 등방성, 낮은 수 흡수성, 낮은 수분 흡수성 및 산소를 포함한 기체에 대한 차단 성질을 갖는 기판이다.
이러한 수지 기판의 제조에 사용되는 수지의 예로는 열가소성 수지, 예를 들어 폴리카보네이트, 폴리아릴레이트, 폴리에테르설폰, 폴리에스테르, 폴리설폰, 폴리(메틸 메타크릴레이트), 폴리에테르이미드 및 폴리아미드; 및 열경화성 수지, 예를 들어 에폭시 수지, 불포화된 폴리에스테르, 폴리(디알릴 프탈레이트) 및 폴리(이소보닐 메타크릴레이트)가 있다. 이들 수지를 단독으로 또는 2개 이상의 상기 물질의 혼합물로서 사용할 수 있다.
상기 개시된 성능들의 관점에서 유리하게 사용될 수 있는 수지 기판은 에폭시 수지로부터 제조된 것이다. 다양한 에폭시 수지들을 특정한 제한 없이 에폭시 수지로서 사용할 수 있다. 이들의 예로는 비스페놀 유형, 예를 들어 비스페놀 A, 비스페놀 F 및 비스페놀 S 유형, 및 그의 수소화된 형태, 노볼락 유형, 예를 들어 페놀 노볼락 및 크레졸 노볼락 유형, 질소-함유 유형, 예를 들어 트리글리시딜 이소시아누레이트 유형 및 히단토인 유형, 지환족 유형, 지방족 유형, 방향족 유형, 예를 들어 나프탈렌 유형, 글리시딜 에테르 유형, 낮은 수-흡수성 유형, 예를 들어 비페닐(biphenyl) 유형, 디사이클로 유형, 에스테르 유형, 에테르에스테르 유형 및 이들의 변형물들이 있다.
투명성을 비롯한 광학 성질의 관점 및 기타 다른 관점들로부터 바람직한 에폭시 수지는 공액 이중 결합, 예를 들어 벤젠 고리를 함유하지 않고 만족할만한 내 변색성을 갖는 것들, 예를 들어 지환족 유형의 수지이다. 또한, 100 내지 1,000의 에폭시 당량 및 120 ℃ 이하의 연화점을 갖는 에폭시 수지가 일반적으로 상기 수지로부터 수득되는 수지 기판의 가요성, 강도 및 다른 성질들의 관점에서 유리하게 사용될 수 있다. 하나의 에폭시 수지 또는 2 개 이상의 에폭시 수지들의 배합물을 사용할 수도 있다. 액체 에폭시 수지와 고체 에폭시 수지의 배합물을 또한 사용할 수도 있다. 액체 에폭시 수지를 고체 에폭시 수지와 함께 사용하는 경우 강도와 내열성을 개선시킬 수 있다.
내열성 등의 관점에서 특히 바람직한 에폭시 수지 기판은 에폭시 수지를 경화제로 열 경화시켜 제조한 것이다. 그 예로는 지환족 에폭시 수지, 산 무수물 경화제 및 인 화합물 경화 촉매를 포함하는 에폭시 조성물을 열 경화시킴으로써 제조한 기판이 있다. 경화제는 특별히 제한되지 않으며, 에폭시 수지에 적합한 하나 이상의 경화제를 사용할 수 있다.
경화제의 예로는 유기 산 화합물, 예를 들어 테트라하이드로프탈산, 메틸테트라하이드로프탈산, 헥사하이드로프탈산 및 메틸헥사하이드로프탈산; 및 아민 화합물, 예를 들어 에틸렌디아민, 프로필렌디아민, 디에틸렌트리아민, 트리에틸렌테트라아민, 이들 아민의 아민 부가물, m-페닐렌디아민, 디아미노디페닐메탄 및 디아미노디페닐설폰이 있다.
경화제의 다른 예로는 아미드 화합물, 예를 들어 디시안디아미드 및 폴리아미드; 히드라지드 화합물, 예를 들어 디히드라지드; 및 이미다졸 화합물, 예를 들어 메틸이미다졸, 2-에틸-4-메틸이미다졸, 에틸이미다졸, 이소프로필이미다졸, 2,4-디메틸이미다졸, 페닐이미다졸, 운데실이미다졸, 헵타데실이미다졸 및 2-페닐- 4-메틸이미다졸이 있다.
경화제의 추가의 예로 이미다졸린 화합물, 예를 들어 메틸이미다졸린, 2-에틸-4-메틸이미다졸린, 에틸이미다졸린, 이소프로필이미다졸린, 2,4-디메틸이미다졸린, 페닐이미다졸린, 운데실이미다졸린, 헵타데실이미다졸린 및 2-페닐-4-메틸이미다졸린, 페놀 화합물, 우레아 화합물 및 폴리설파이드 화합물이 있다.
산 무수물 화합물도 또한 경화제의 추가의 예이다. 이들 산 무수물 경화제는 자극성의 감소에 근거하는 개선된 작업 분위기를 얻고, 내열성이 개선된 경화 층을 수득하며, 고온 내구성 및 내변색성을 생성시키는 등의 관점에서 바람직하다. 이들의 예에는 프탈산 무수물, 말레산 무수물, 트리멜리트산 무수물, 피로멜리트산 무수물, 나드산 무수물, 글루타르산 무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물, 메틸테트라하이드로프탈산 무수물, 헥사하이드로프탈산 무수물, 메틸헥사하이드로프탈산 무수물, 메틸나드산 무수물, 도데세닐숙신산 무수물, 디클로로숙신산 무수물, 벤조페논테트라카복실산 무수물 및 클로렌드산 무수물이 포함된다.
이들 경화제중 특히 바람직한 것은 무색 내지 담황색이고 약 140 내지 200의 분자량을 갖는 산 무수물 경화제, 예를 들어 프탈산 무수물, 테트라하이드로프탈산 무수물, 헥사하이드로프탈산 무수물 및 메틸헥사하이드로프탈산 무수물이다.
사용되는 경화제의 양은 에폭시 수지의 통상적인 경화에서와 같이, 경화제의 종류, 에폭시 수지의 에폭시 당량 등에 따라 적합하게 결정할 수 있다. 예를 들어 산 무수물 경화제의 경우에, 상기 경화제를 색조, 내습성의 유지 등에서 만족할만한 경화 층을 얻고자 하는 관점에서, 에폭시 그룹 당 바람직하게는 0.5 내지 1.5 당량, 보다 바람직하게는 0.6 내지 1.4 당량, 가장 바람직하게는 0.7 내지 1.2 당량의 양으로 사용한다. 또한, 다른 경화제를 단독으로 또는 2 개 이상 혼합하여 사용하는 경우에, 그의 사용 량은 당량 비율 측면에서 상기 개시된 경우에서와 동일할 수 있다.
경화 촉진제를 에폭시 수지의 경화 필요에 따라 사용할 수 있다. 상기 경화 촉진제를 특별히 제한하지는 않는다. 이들의 예로는 3급 아민, 이미다졸 화합물, 4급 암모늄 염, 유기 금속 염, 인 화합물 및 우레아 화합물이 있다. 이러한 경화 촉진제를 에폭시 수지의 종류, 경화제의 종류 등에 따라 단독으로 또는 2 개 이상 혼합하여 적합하게 사용할 수 있다. 경화 촉진제를 사용함으로써 경화 속도를 증가시킬 수 있고, 이에 의해 경화에 필요한 처리 시간을 단축시킬 수 있다. 따라서, 사용되는 경화 촉진제의 양을 촉진 효과 등에 따라 적합하게 결정할 수 있다. 그러나, 내변색성 등의 관점에서, 경화 촉진제의 양은 에폭시 수지 100 중량부에 대해 일반적으로는 0.05 내지 7 중량부, 바람직하게는 0.1 내지 5 중량부, 보다 바람직하게는 0.2 내지 3 중량부이다.
수지 기판의 제조를 위해서, 적합한 기법들, 예를 들어 주조, 유동 주조, 사출 성형, 롤 코팅, 압출, 이동 성형 또는 반응성 사출 성형(RIM)을 사용할 수 있다. 이러한 성형에서, 적합한 첨가제들을 투명성을 손상시키지 않는 양으로 필요에 따라 적합하게 혼입시킬 수 있다. 첨가제의 예로는 염료, 개질제, 변색 억제제, 산화방지제, 자외선 흡수제, 이형제, 반응성 희석제 및 비-반응성 희석제가 있다.
에폭시 수지 기판의 대량 생산에 매우 적합한 제조 방법은, 예를 들어 코팅 성분들을 용매로 임의로 희석시킴으로써 펴 바를 수 있도록 조절된 에폭시 수지 코팅액을 시이트 형태로 적합한 기법에 의해, 예를 들어 커튼 코팅, 롤 코팅, 와이어가 감긴 봉 코팅, 압출 코팅 또는 분무 코팅에 의해 순환 벨트 또는 드럼과 같은 지지체 상에 펴 바르고 상기 펴 바른 수지를 경화시킴을 포함한다.
상기 개시된 방법에 따라, 에폭시 수지 기판을 연속적으로 제조할 수 있다. 이러한 경우에, 지지체 상에 형성된 에폭시 수지 기판의 회수는 상기 에폭시 수지 기판을 지지체 상에 형성시키기 전에 상기 지지체 위에 쉽게 벗겨낼수 있는 수지 층을 형성시킴으로써 수행할 수 있다. 수지 기판 위에 배치되는 가교 결합된 수지 층 또는 기체 차단 층을 쉽게 벗겨낼수 있는 수지 층으로서 제조하는 경우, 본 발명에 따른 액정 셀 기판을 효율적으로 제조할 수 있다.
에폭시 수지 액체의 제조 시, 코팅제의 온도보다 낮은 온도, 특히 통상적인 온도에서 액체인 2-팩(pack) 유형의 에폭시가 도포성, 시이트 형태로의 퍼짐성 등의 관점에서 바람직하게 사용된다. 이 경우에, 고체 에폭시 수지를 가하여 코팅 액체의 점도를 조절할 수 있다. 이와 같은 방식으로 코팅액의 점도를 증가시키는 것은 상기 펴 바른 층의 두께 조절 등을 용이하게 한다.
산 무수물 경화제 이외에, 하나 이상의 경화 촉매, 및 표면 장력을 감소시킬 수 있는 하나 이상의 적합한 평탄화제(leveling agent)를 필요에 따라 에폭시 수지 코팅 유체에 혼입시킬 수 있다. 경화 촉매의 예로는 인 화합물 경화 촉매, 예를 들어 알킬포스핀, 포스핀 산화물 및 포스포늄 염이 있다. 표면을 매끄럽게 하기 위해 사용되는 평탄화제의 예로는 실리콘, 아크릴 및 불소화합물 계면활성제를 포함한 다양한 계면활성제가 있다.
경화된 에폭시 수지에 함유시킬 수 있는 적합한 첨가제들을 또한 필요에 따라 혼입시킬 수 있다. 이들의 예로는 산화방지제, 예를 들어 페놀 화합물, 아민, 유기황 화합물 및 포스핀 화합물; 개질제, 예를 들어 글리콜, 실리콘 및 알콜; 소포제, 예를 들어 다가 알콜, 예를 들어 글리세롤, 하이드록실-함유 화합물; 염료; 변색 억제제; 및 자외선 흡수제가 있다.
수지 기판의 두께를 적합하게 결정할 수 있다. 그러나, 두께 감소, 중량 감소, 강도, 내변형성 등의 관점에서, 상기 기판의 두께는 바람직하게는 1 ㎜ 이하, 보다 바람직하게는 800 ㎛ 이하, 가장 바람직하게는 100 내지 500 ㎛이다. 디스플레이의 품질 등의 관점에서, 수지 기판은 고도의 두께 정밀도, 특히 ±10% 이내의 정밀도를 갖는 것이 바람직하다. 수지 기판은 단일 층 제품이거나 또는 동일하거나 상이한 수지들로 된 2 층 이상의 층상화된 제품일 수도 있다.
수지 기판 상에 배치된 기체 차단 층은 물, 산소, 및 액정을 변형시킬 수도 있는 다른 물질들을 차단하고자 하는 것이다. 상기 층은 기체 투과를 막을 수 있는 적합한 물질[JP-A-58-208039호(여기에 사용된 "JP-A"라는 용어는 "일본 특허 출원 공개 공보"를 의미한다), JP-A-2-169620호 및 JP-A-5-110639호를 참조하시오]로 제조될 수 있다. 내구성, 내변형성 등의 관점에서 상기 기체 차단 필름은 중합체 필름이 바람직하다. 중합체의 바람직한 예에는 낮은 산소 투과율을 갖는 것들, 예를 들어 폴리(비닐 알콜), 부분적으로 비누화된 폴리(비닐 알콜), 에틸렌/비닐 알 콜 공중합체, 폴리아크릴로니트릴 및 폴리(비닐리덴 클로라이드)가 포함된다. 기체 차단성, 균등한 수 확산 또는 흡수 등의 관점에서 비닐 알콜 중합체가 특히 바람직하다.
기체 차단 층은 예를 들어 중합체 용액을 적합한 코팅 기법, 예를 들어 주조 또는 회전 코팅에 의해 펴 바름으로써 형성시킬 수 있다. 기체 차단 층의 두께는 투명성, 착색 방지, 산소 및 수증기를 포함한 기체에 대한 차단성 등의 관점에서 15 ㎛ 이하가 바람직하며, 1 내지 10 ㎛가 보다 바람직하다.
수지 기판 상에 배치된 가교 결합된 수지 층은 경질 표면을 형성하여, 가시도를 저해하는 흠의 발생을 방지하고자 하는 것이다. 결과적으로, 상기 층은 투명한 경질 필름을 형성시킬 수 있는 적합한 가교결합성 수지로부터 제조될 수 있다. 특히 바람직하게 사용되는 것은 예를 들어 광 촉매의 도움으로 자외선 조사에 의해 3 차원적으로 가교결합가능한 다작용성 단량체를 포함하는 우레탄-아크릴 또는 에폭시 유형의 자외선-경화성 수지이다.
상기 가교 결합된 수지 층은 예를 들어 주조, 회전 코팅 또는 침지와 같은 적합한 코팅 기법에 의해 수지액을 주어진 표면에 펴 바르고 이어서 상기 수지를 가교결합시킴으로써 형성시킬 수 있다. 상기 가교 결합된 수지 층의 두께를 적합하게 결정할 수 있으며, 상기 두께는 일반적으로는 200 ㎛ 이하, 바람직하게는 100 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 1 내지 50 ㎛이다. 일반적으로는, 셀 기판에서 상기 가교 결합된 수지 층을 도면에 도시된 바와 같이 상기 층의 형성을 목적으로 하는 관점에서 예를 들어 기체 차단 층위에 표면 층으로서 배치시킨다.
기체 차단 층 및 가교 결합된 수지 층 각각을 수지 기판의 양쪽 면위에 배치시킬 수도 있다. 그러나, 상기 기체 차단 층 및 가교 결합된 수지 층을 이들의 작용 및 목적의 관점에서 일반적으로는 수지 기판의 한쪽 면위에, 특히 셀 기판이 적용되는 액정 셀의 외부 표면을 구성할 면위에 배치시킨다. 다른 한편으로, 편광 층을 또한 수지 기판의 양쪽 면위에 배치시킬 수도 있다. 그러나, 상기 편광 층을 그의 작용 및 목적의 관점에서 일반적으로 수지 기판의 한쪽 면위에 배치시킨다. 이러한 경우에, 편광 층(4)을 도면에 도시된 바와 같이 기체 차단 층(2)이 존재하는 수지 기판(1)의 면위에 배치시키거나, 또는 층(2)이 존재하지 않는 면위에 배치시킬 수도 있다. 편광 층을 수지 기판과 접촉되도록 배치시킬 수도 있다. 한편으로, 상기 층을 수지 기판 상에 배치된 층들 사이에, 예를 들어 도 2에 도시된 바와 같이 기체 차단 층(2)과 가교 결합된 수지 층(3) 사이에 삽입시킬 수도 있다.
편광 층은 액정 셀 기판에 편광 작용을 부여하고자 하는 것이 목적이다. 본 발명에서, 편광 층은 상기 층이 가능한 한 얇은 두께를 갖도록 주조 또는 회전 코팅과 같은 적합한 코팅 기법에 의해 형성시킨 코팅 층이다. 셀 기판의 두께 감소의 관점과 편광성, 내구성 등에 비추어, 상기 편광 층의 두께는 바람직하게는 10 ㎛ 이하, 보다 바람직하게는 0.1 내지 5 ㎛, 가장 바람직하게는 0.2 내지 3 ㎛이다.
결과적으로, 코팅을 통해 필름을 형성시킬 수 있는 적합한 물질을 편광 층의 형성을 위해 특별한 제한 없이 사용할 수 있다. 내열성 등이 탁월한 편광 층을 얻기 위한 관점에서, 특히 바람직한 상기 물질의 예로는 리오트로픽(lyotropic) 액정성을 갖는 2 색 염료, 2 색 염료를 함유하는 액정 중합체, 및 2 색 염료를 함유하는 리오트로픽 물질[예를 들어 옵티바 캄파니(Optiva Co.)에서 제조된 LC 편광자]이 있다(WO 97/39380호를 참조하시오).
리오트로픽 액정성을 갖는 2 색 염료의 예에는 화학식 (색원체)(SO3M)n으로 표시되는 수용성 유기 염료가 포함된다. 아조, 다환상 또는 또다른 화합물인 색원체는 액정성을 부여하는 반면, 설폰산 또는 그의 염은 수 용해성을 부여한다. 따라서, 상기 2 색 염료는 전체로서 리오트로픽 액정성을 나타낸다[JP-W-8-511109호(여기에 사용된 "JP-W"란 용어는 PCT 출원 공개 공보를 의미한다)를 참조하시오].
2 색 염료의 구체적인 예로는 하기 화학식 1 내지 7로 표시되는 화합물들이 있다:
Figure 112000020111694-pat00001
[상기 식에서,
R1은 수소 원자 또는 염소 원자를 나타내고,
R은 수소 원자, 알킬 그룹, ArNH 또는 ArCONH를 나타내며,
이때 알킬 그룹은 바람직하게는 탄소수 1 내지 4를 갖는 것이고, 보다 바람직하게 는 메틸 또는 에틸이며,
아릴 그룹(Ar)은 바람직하게는 치환되거나 비치환된 페닐 그룹, 보다 바람직하게는 4-클로로페닐이고,
M은 양이온, 바람직하게는 수소 이온, 1 족 금속, 예를 들어 리튬, 나트륨, 칼륨 또는 세슘의 이온, 암모늄 이온 등을 나타낸다(이후부터 동일하게 적용된다)]
Figure 112000020111694-pat00002
Figure 112000020111694-pat00003
Figure 112000020111694-pat00004
[상기 식에서,
는 일반식
Figure 112000020111694-pat00006
또는
Figure 112000020111694-pat00007
의 그룹이고,
R2는 수소 원자, 알킬 그룹, 할로겐 원자 또는 알콕시 그룹이고,
Ar은 치환되거나 비치환된 아릴 그룹이고,
이때 알킬 그룹은 바람직하게는 탄소수 1 내지 4를 갖는 것이며, 보다 바람직하게는 메틸 또는 에틸이고,
할로겐은 바람직하게는 브롬 또는 염소이며,
알콕시 그룹은 바람직하게는 탄소수 1 또는 2를 갖는 것이고, 보다 바람직하게는 메톡시이며,
아릴 그룹은 바람직하게는 치환되거나 비치환된 페닐 그룹, 보다 바람직하게는 비 치환된 페닐, 또는 4-번 위치에서 메톡시, 에톡시, 염소 또는 부틸로 치환되거나 또는 3-번 위치에서 메틸로 치환된 페닐 그룹이고,
n은 2 또는 3이다]
Figure 112000020111694-pat00008
[상기 식에서,
n은 바람직하게는 3 내지 5이다]
Figure 112000020111694-pat00009
Figure 112000020111694-pat00010
상기 화학식 1 내지 7에서 화학식 (색원체)(SO3M)n으로 표시되는 유기 염료는 상기 색원체에 기인하여 안정한 액정 상을 나타내며, 물 및 수용성 유기 용매들, 예를 들어 아세톤, 알콜 및 디옥산에 용해된다. 하나 이상의 이들 염료를 예를 들어 1 내지 20 중량%의 농도로 용해시켜 제조한 용액을 전단력을 가하는 적합한 코팅 기법, 예를 들어 닥터 블레이드 코팅에 의해 도포할 때, 배향 처리가 이루어진다. 배향되어 고형화된 생성 층은 2 색 편광 작용을 나타낸다.
다른 한편으로, 2 색 염료를 함유하고 편광 작용을 나타내는 액정 중합체는 단축 배향성을 나타내는 적합한 액정 중합체일 수 있다. 이들의 예로는 하기 화학식 8의 중합체가 있다(JP-A-11-101964호를 참조하시오):
Figure 112000020111694-pat00011
상기 식에서,
x는 2 내지 8이고,
R3는
Figure 112000020111694-pat00012
또는
Figure 112000020111694-pat00013
을 나타낸다.
상기 액정 중합체는 하기 일반식으로 표시되는 액정 단량체 하나 이상을 자외선 조사에 의해 중합시켜 수득한 것일 수도 있다(JP-A-11-101964호를 참조하시오):
Figure 112000020111694-pat00014
Figure 112000020111694-pat00015
Figure 112000020111694-pat00016
Figure 112000020111694-pat00017
상기 식에서, n은 3 내지 8이다.
다른 한편으로, 액정 중합체 층에 혼입되는 2 색 염료를 특별히 제한하지는 않으며 적합한 2 색 염료일 수 있다. 내열성 및 다른 성질들이 탁월한 편광 층을 수득하기 위한 관점에서, 2 색 염료의 바람직한 예로는 하기 화학식 9 내지 11로 표시되는 염료들이 있다(JP-A-11-101964호를 참조하시오):
Figure 112000020111694-pat00018
Figure 112000020111694-pat00019
Figure 112000020111694-pat00020
상기 화학식 9 및 10에서, R4는 수소 원자, 할로겐 원자, CnH2n+1, COC nH2n+1, OCOCnH2n+1, COOCnH2n+1 또는 CH2COOCnH 2n+1를 나타낸다. R5 및 R6는 각각 수소 원자 또는 CnH2n+1을 나타내지만, 단 R6는 일반식
Figure 112000020111694-pat00021
또는
Figure 112000020111694-pat00022
로 표시되는 그룹일 수도 있으며, R5 및 R6가 함께 일반식
Figure 112000020111694-pat00023
로 표시되는 그룹을 형성할 수도 있다. 다른 한편으로, R7은 수소 원자, 할로겐 원자 또는 CnH2n+1을 나타낸다. 더욱 또한, n은 1 내지 8이고, m은 1 내지 5이다.
상기 화학식 11에서, A1은 CnH2n+1 또는 일반식
Figure 112000020111694-pat00024
(여기에서 n은 1 내지 8이다)의 그룹이다.
상기 화학식 11에서, B는 하기 일반식으로부터 선택된 임의의 일반식으로 표시되는 그룹이고, R8은 CnH2n+1 또는 CnH2nOCH3 (여기에서 n은 1 내지 8이다)이다:
Figure 112000020111694-pat00025
Figure 112000020111694-pat00026
Figure 112000020111694-pat00027
Figure 112000020111694-pat00028
예를 들어, 2 색 염료를 하나 이상의 액정 중합체를 함유하는 용액에 혼입시키고 생성된 조성물을 예를 들어 정렬 필름에 도포하여 액정 중합체(들)를 단축으로 배향시킴으로써 편광 층을 형성시킬 수 있다. 상기 액정 중합체 용액을 일반적으로는 용매를 사용하여 약 1 내지 20 중량%의 고체 농도를 갖도록 조절한다. 그러나, 액정 단량체를 자외선으로 중합시키는 경우에, 용매의 사용을 피할 수 있다. 2 색 염료를 단독으로 또는 편광 파장 범위 등에 따라 2 개 이상 혼합하여 사용할 수 있으며, 그의 사용량은 일반적으로 액정 중합체 또는 액정 단량체를 기준으로 1 내지 20 중량%이다.
2 색 염료를 함유하고 편광 작용을 나타내는 액정 중합체의 추가의 예로 하기 화학식 12로 표시되는 중합체들이 있다(문헌[Nitto Giho, Vol. 35, No. 1(1997), pp. 79-82]을 참조하시오):
Figure 112000020111694-pat00029
상기 식에서,
n은 1 내지 10이고,
R9는 시아노 또는 알콕시 그룹, 예를 들어 메톡시를 나타내고,
m은 1 내지 5이다.
본 발명에 따른 액정 셀 기판을 유리하게는 액정 디스플레이의 제작에 사용 하기 위한 액정 셀의 제조에 사용할 수 있다. 이 경우에, 본 발명의 액정 셀 기판을 액정 셀의 한쪽 면 또는 양쪽 면위에 사용할 수 있다. 도 1에 도시된 바와 같은 기판을 사용하는 경우, 액정 층을 내부에 갖는 액정 셀을 제조할 수 있다. 도 2에 도시된 바와 같은 기판을 사용하는 경우에는 액정 층을 외부에 갖는 액정 셀을 제조할 수 있다.
액정 셀 기판의 실용적인 용도를 위해, 다양한 작용성 층들, 예를 들어 투명한 전도성 필름 및 지연 플레이트를 상기 기판 위에 놓을 수도 있다. 투명한 전도성 필름의 제조를 위해 적합한 투명 전도성 물질, 예를 들어 산화 인듐, 산화 주석, 인듐-주석 혼합된 산화물, 금, 백금, 팔라듐 또는 투명한 전도성 코팅 조성물을 사용할 수도 있다. 상기 투명한 전도성 필름은 적합한 통상의 방법, 예를 들어 증착 기법, 예를 들어 진공 침착 또는 스퍼터링에 의해, 또는 코팅 조성물의 도포에 의해 상기와 같은 물질로부터 제조할 수 있다.
투명한 전도성 필름을 또한 편광 층위에 형성시킬 수 있다. 이 경우, 편광 층을 부식을 통해 패턴화시킬 수 있다. 더욱 또한, 예를 들어 실리카계 유리 층 또는 금속 알콕사이드의 가수분해성 중축합 생성물의 층을 포함하는 투명 층을 상기 편광 층의 보호, 상기 투명한 전도성 필름의 부착력의 개선 등을 위해 삽입시킬 수도 있다.
액정 셀을, 예를 들어 전극으로서 작용하도록 패턴화시킨 투명한 전도성 필름을 각각 갖는 2 개의 액정 셀 기판을 제조하고, 상기 기판들을 마주보게 배치시키고, 상기 기판들 사이의 공간을 액정으로 충전시키고, 생성된 구조물을 밀봉시킴 으로써 제조할 수 있다. 액정의 정렬을 위해 임의로 제조된 배향된 필름을 적합한 통상의 기법에 의해 예를 들어 투명한 전도성 필름 상에 배치시킬 수 있다. 제조하려는 액정 셀은 예를 들어 TN 유형, STN 유형, TFT 유형 또는 강유전성 유형의 임의의 목적하는 액정을 사용할 수도 있다.
본 발명을 하기의 실시예들을 참고로 보다 상세히 개시할 것이지만, 이들 실시예가 본 발명을 제한하는 것이 아님은 물론이다.
실시예 1
Figure 112000020111694-pat00030
상기 일반식의 에폭시 수지 100 부(이하 중량 부를 의미함), 메틸헥사하이드로프탈산 무수물 125 부 및 트리-n-부틸옥틸포스포늄 브로마이드 1 부의 혼합물을 금형에 붓고 120 ℃에서 2 시간 동안 경화시켜 400 ㎛의 두께를 갖는 수지 기판을 수득하였다.
폴리(비닐 알콜)의 5 중량% 수용액을 회전 코팅에 의해 상기 수지 기판의 한쪽 면위에 도포하고, 상기 코팅 필름을 건조시켜 5 ㎛의 두께를 갖는 기체 차단 층을 형성시켰다. 하기 일반식의 우레탄-아크릴 수지를 상기 기체 차단층위에 도포하고 자외선 조사에 의해 가교 결합시켜 5 ㎛의 두께를 갖는 가교 결합된 수지 층을 형성시켰다:
Figure 112000020111694-pat00031
상기 수득된 수지 기판을 2 색 염료를 함유하는 리오트로픽 액정 수용액(상기 용액은 옵티바 캄파니에 의해 제조된 LC 편광자이며, 고체 농도가 8.7 중량%이다)으로 와이어가 감긴 봉(7 번)을 사용하여 다른쪽 면 위에 코팅시켰다. 상기 도포된 용액을 130 ℃에서 건조시켜 1.3 ㎛의 두께를 갖는 편광 층을 형성시켰다. 이렇게 하여, 액정 셀 기판을 수득하였다.
상기 액정 셀 기판은 411 ㎛의 전체 두께, 400 내지 700 ㎚의 파장 범위에서 40%의 광 투과율, 및 상기 파장 범위에서 90%의 편광도를 가졌으며, 탁월한 내충격성을 가졌다. 상기 기판에 대해 120 ℃에서 500 시간 동안의 내구성 시험을 수행하였다. 그 결과, 상기 기판은 광학 성질의 어떠한 변화도 없었으며 변형 등도 없었다.
실시예 2
폴리(비닐 알콜)로 제조된 5 ㎛ 두께의 기체 차단 층을 실시예 1에서와 동일한 방식으로 수지 기판의 한 면 위에 형성시켰다. 상기 기체 차단 층의 표면을 레이온 천으로 문질렀다. 2 색 염료를 함유하는 액정 중합체 용액을 회전 코팅에 의해 상기 문지른 표면 위에 도포하고 상기 코팅 필름을 120 ℃에서 건조시켜 상기 중합체를 배향시키고 1.5 ㎛의 두께를 갖는 편광 층을 형성시켰다. 5 ㎛의 두께를 갖는 가교 결합된 수지 층을 실시예 1에서와 동일한 방식으로 우레탄-아크릴 수지로부터 형성시켰다. 이렇게 하여, 액정 셀 기판을 수득하였다.
하기 일반식의 측쇄 유형 액정 중합체 26 부, 염료 G-202[니폰 칸코 시키소 캄파니 리미티드(Nippon Kanko Shikiso Co., Ltd.)에서 제조, 이하 동일함] 0.37 부, 염료 G-207 0.73 부 및 염료 G-472 1.46 부를 100 부의 테트라클로로에탄과 함께 균일하게 혼합시켜 액정 중합체 용액을 수득하였다:
Figure 112000020111694-pat00032
상기 액정 셀 기판은 412 ㎛의 전체 두께, 400 내지 700 ㎚의 파장 범위에서 36%의 광 투과율, 및 상기 파장 범위에서 87%의 편광도를 가졌으며, 탁월한 내충격성을 가졌다. 상기 기판에 대해 120 ℃에서 500 시간 동안의 내구성 시험을 수행하였다. 그 결과, 상기 기판은 광학 성질의 어떠한 변화도 없었으며 변형 등도 없었다.
비교 실시예
실시예 1의 편광 층 대신에 215 ㎛의 두께를 갖는 편광자[NPF-G1225DUN, 니토 덴코 코포레이션(Nitto Denko Corp.)에서 제조]를 아크릴 감압성 접착 층을 통 해 가교 결합된 수지 층 위에 놓는 것을 제외하고 상기 실시예 1에서와 동일한 방식으로 액정 셀 기판을 수득하였다.
상기 액정 셀 기판은 610 ㎛의 전체 두께, 400 내지 700 ㎚의 파장 범위에서 38%의 광 투과율, 및 상기 파장 범위에서 99%의 편광도를 가졌다. 상기 기판에 대해 120 ℃에서 500 시간 동안의 내구성 시험을 수행하였다. 그 결과, 편광자가 상기 기판로부터 박리되었으며, 이는 실용적인 용도에 부적합한 것임을 나타낸다.
본 발명에 의해, 편광 작용을 갖고, 대단히 얇고 경량일 수 있으며, 내열성, 내충격성 및 품질 안정성이 탁월한 액정 셀 기판을 제공할 수 있다.

Claims (8)

  1. 수지 기판; 및 상기 기판 상에 밀착된 기체 차단 층, 가교 결합된 수지 층, 및 편광 층을 포함하고, 상기 편광 층은 리오트로피(lyotropic) 액정성을 갖는 2 색 염료(dichroic dye), 2 색 염료를 함유하는 액정 중합체 층 또는 2 색 염료를 함유하는 리오트로픽 물질을 포함하는 코팅층을 갖는 것을 특징으로 하는 액정 셀 기판.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 수지 기판이 열경화성 에폭시 수지를 포함하는 액정 셀 기판.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 편광 층이 5 ㎛ 이하의 두께를 갖는 액정 셀 기판.
  4. 제 2 항에 있어서,
    상기 편광 층이 5 ㎛ 이하의 두께를 갖는 액정 셀 기판.
  5. 삭제
  6. 삭제
  7. 제 1 항에 있어서,
    상기 편광 층이 수지 기판의 한쪽 면과 접해 있거나, 또는 기체 차단 층과 가교 결합된 수지 층 사이에 배치되어 있는 액정 셀 기판.
  8. 제 2 항에 있어서,
    상기 편광 층이 수지 기판의 한쪽 면과 접해 있거나, 또는 기체 차단 층과 가교 결합된 수지 층 사이에 배치되어 있는 액정 셀 기판.
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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3858755B2 (ja) 2002-05-15 2006-12-20 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置とその製造方法ならびに電子機器
JP3843907B2 (ja) 2002-07-23 2006-11-08 セイコーエプソン株式会社 液晶表示装置、及び電子機器
US20040036821A1 (en) * 2002-08-22 2004-02-26 Optiva, Inc. Liquid crystal shutter
JP4306269B2 (ja) * 2003-02-12 2009-07-29 住友化学株式会社 偏光板、その製造方法、光学部材及び液晶表示装置
US7128414B2 (en) * 2003-12-24 2006-10-31 Essilor International Compagnie Cenerale D'optique Methods for coating lenses
US7326437B2 (en) * 2003-12-29 2008-02-05 Asml Holding N.V. Method and system for coating polymer solution on a substrate in a solvent saturated chamber
EP1759238A4 (en) * 2004-05-24 2009-07-22 Colorlink Inc VERY PERMANENT AND HIGH-PERFORMANCE POLARIZATION OPTICS WITH AN ORGANIC LAYER OF LOW ELASTICITY
KR100881982B1 (ko) 2006-09-08 2009-02-05 주식회사 엘지화학 편광막용 이색성 염료, 이를 포함하는 편광막 조성물, 이를이용한 내구성이 우수한 편광판 제조방법 및 이에 따라제조된 편광판
CN101501145B (zh) * 2006-11-24 2013-07-10 Lg化学株式会社 用于滤色片的二向色染料、包含该染料的用于滤色片的组合物以及由该组合物制备的滤色片阵列
JP2012027107A (ja) * 2010-07-21 2012-02-09 Hitachi Displays Ltd 表示装置
KR101378913B1 (ko) * 2012-09-27 2014-03-28 신화인터텍 주식회사 광학 필름 및 그 제조 방법
TWI713619B (zh) * 2015-10-30 2020-12-21 日商住友化學股份有限公司 偏光板、具備該偏光板的顯示裝置，及其製造方法
KR102126682B1 (ko) * 2016-08-26 2020-06-25 주식회사 엘지화학 편광 소자 및 이의 용도
JP6814227B2 (ja) * 2017-01-17 2021-01-13 富士フイルム株式会社 流体セル、三次元構造流体セルおよび三次元構造流体セルの製造方法
CN107942554B (zh) * 2018-01-12 2020-07-14 京东方科技集团股份有限公司 一种显示屏检测装置
JP7109485B2 (ja) 2018-02-06 2022-07-29 富士フイルム株式会社 積層体、積層体の製造方法および画像表示装置
WO2021235330A1 (ja) * 2020-05-20 2021-11-25 コニカミノルタ株式会社 偏光板、表示装置及び偏光板ロールの製造方法

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6169028A (ja) * 1984-09-12 1986-04-09 Sharp Corp 液晶表示素子
JPH09189906A (ja) * 1996-01-09 1997-07-22 Nitto Denko Corp 光学フィルム及び液晶表示装置
KR19990045093A (ko) * 1997-11-07 1999-06-25 마크 에스. 아들러 전자표시장치 적용처용 플라스틱 기판
JP2000081514A (ja) * 1998-09-03 2000-03-21 Nitto Denko Corp 光学部材、セル基板及び液晶表示装置

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS60121551A (ja) * 1983-12-06 1985-06-29 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光学的記録媒体
JPH0258527A (ja) * 1988-08-24 1990-02-27 Sumitomo Bakelite Co Ltd 光ディスク用基板
JP3158667B2 (ja) * 1991-08-01 2001-04-23 セイコーエプソン株式会社 液晶表示素子の製造方法及び液晶表示素子の再生方法
RU2120651C1 (ru) * 1996-04-15 1998-10-20 Поларайзер Интернэшнл, ЛЛСи Жидкокристаллический индикаторный элемент
US6288840B1 (en) * 1999-06-22 2001-09-11 Moxtek Imbedded wire grid polarizer for the visible spectrum
JP3442006B2 (ja) * 1999-08-24 2003-09-02 日東電工株式会社 流延用エポキシ樹脂組成物

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6169028A (ja) * 1984-09-12 1986-04-09 Sharp Corp 液晶表示素子
JPH09189906A (ja) * 1996-01-09 1997-07-22 Nitto Denko Corp 光学フィルム及び液晶表示装置
KR19990045093A (ko) * 1997-11-07 1999-06-25 마크 에스. 아들러 전자표시장치 적용처용 플라스틱 기판
JP2000081514A (ja) * 1998-09-03 2000-03-21 Nitto Denko Corp 光学部材、セル基板及び液晶表示装置

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
1019990045093 *

Also Published As

Publication number Publication date
KR20010030490A (ko) 2001-04-16
JP2001091747A (ja) 2001-04-06
US6798487B1 (en) 2004-09-28
TW451079B (en) 2001-08-21

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