WO2021235330A1

WO2021235330A1 - 偏光板、表示装置及び偏光板ロールの製造方法

Info

Publication number: WO2021235330A1
Application number: PCT/JP2021/018340
Authority: WO
Inventors: 隆建部; 崇南條
Original assignee: コニカミノルタ株式会社
Priority date: 2020-05-20
Filing date: 2021-05-14
Publication date: 2021-11-25
Also published as: JPWO2021235330A1

Abstract

本発明の課題は、偏光板を構成する基材フィルムの不純物起因によるデバイスの欠陥及び劣化の抑制と、折り曲げ耐性の向上を両立した偏光板、表示装置及び偏光板ロールの製造方法を提供することである。　本発明の偏光板は、１μｍ以上１０μｍ未満の基材フィルム、及び重合性液晶化合物および二色性色素を含む重合性液晶組成物を含む偏光子層、を有する。前記基材フィルムは、分子量１０００以下の添加剤を０．０００１～０．０１質量％の範囲内で含有する。

Description

偏光板、表示装置及び偏光板ロールの製造方法

　本発明は、偏光板、表示装置及び偏光板ロールの製造方法に関する。より詳しくは、偏光板を構成する基材フィルムの不純物起因によるデバイスの欠陥及び劣化の抑制と、折り曲げ耐性の向上を両立した偏光板等に関する。

　従来、太陽電池やディスプレイ等の各種表示部材の基材及び前面板等の透明部材の材料として、ガラスが用いられてきた。しかしながら、ガラスは、割れやすい、重いといった欠点があった。また、近年のディスプレイの薄型化及び軽量化や、フレキシブル化に関して、十分な材質を有していなかったため、ガラスに代わるフレキシブルデバイス用の透明部材が要望されている。

　フレキシブルデバイスに搭載される偏光板の技術として、特許文献１には二色性色素の拡散による偏光性能の経時的な低下、特に高温又は高温高湿などの過酷な環境下における経時的な低下を効果的に抑制できる薄型の偏光板が開示されている。

　しかしながら、上記発明にて用いられる基材フィルムは可塑剤等を含有し、かつ数十μｍの膜厚であるため、前記基材フィルム中の添加剤、特に分子量が低い成分（「低分子量成分」ともいう。）が偏光子層（偏光板）側に析出することによって、デバイスにて表示した際に表示欠点等の光学的欠陥が発生し、収率（歩留まり）が低いことが問題となっていた。加えて、昨今のフレキシブルデバイスにおいては、デバイス素子自体に高い折り曲げ耐性が必要とされるが、折り曲げ時に前述の析出物の影響によって破断等が発生しやすく、さらに収率（歩留まり）が低くなるという問題があった。

特開２０２０－４６６２２号公報

　本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、偏光板を構成する基材フィルムの不純物起因によるデバイスの欠陥及び劣化の抑制と、折り曲げ耐性の向上を両立した偏光板、表示装置及び偏光板ロールの製造方法を提供することである。

　本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、特定の基材フィルム、及び重合性液晶化合物および二色性色素を含む重合性液晶組成物を含む偏光子層を、有する偏光板によって、偏光板を構成する基材フィルムの不純物起因によるデバイスの欠陥及び劣化の抑制と、折り曲げ耐性の向上を両立した偏光板が得られることを見出した。

　すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。

　１．１μｍ以上１０μｍ未満の基材フィルム、及び重合性液晶化合物および二色性色素を含む重合性液晶組成物を含む偏光子層、を有する偏光板。

　２.前記基材フィルムが、分子量１０００以下の添加剤を０．０００１～０．０１質量％の範囲内で含有することを特徴とする第１項に記載の偏光板。

　３.前記添加剤が、酸化防止剤であることを特徴とする第２項に記載の偏光板。

　４.前記基材フィルムの膜厚が、下記式１を満たすことを特徴とする第１項に記載の偏光板。
　式１：　５＜｜幅方向の無作為に選択した３点の膜厚の平均値（Ｂ）－平均膜厚値（Ａ）｜／平均膜厚値（Ａ）×１００＜２０（％）

　５.前記基材フィルムと前記偏光子層との間に、液晶配向層を有することを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の偏光板。

　６.第１項から第５項までのいずれか一項に記載の偏光板を具備することを特徴とする表示装置。

　７. 第１項から第５項までのいずれか一項に記載の偏光板がロール状に巻き取られた偏光板ロールの製造方法であって、
　前記基材フィルムを支持体上に形成する工程、
　前記基材フィルム上に重合性液晶化合物および二色性色素を含む重合性液晶組成物を塗布、硬化して偏光子層を形成する工程、及び
　ロールの内側から前記偏光子層、前記基材フィル及び前記支持体の順になるように、巻き取る工程を含むことを特徴とする偏光板ロールの製造方法。

　本発明の上記手段により、偏光板を構成する基材フィルムの不純物起因によるデバイスの欠陥及びデバイス劣化の抑制と、折り曲げ耐性の向上を両立した偏光板、表示装置及び偏光板ロールの製造方法を提供することができる。

　本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。

　本発明の偏光板は、１μｍ以上１０μｍ未満の基材フィルム、及び重合性液晶化合物および二色性色素を含む重合性液晶組成物を含む偏光子層、を有する。

　前述のように、可塑剤等を含有し、かつ数十μｍの膜厚である基材フィルムを用いた場合は、当該基材フィルム中の添加剤、特に分子量が低い成分が偏光子層（偏光板）側に析出することによって、デバイスにて表示した際に表示欠点等の光学的欠陥が発生し、収率（歩留まり）が低いという問題があった。本発明に係る基材フィルムは、従来よりも著しく薄膜化されたフィルムとすることで、基材フィルムからの前述の低分子量成分の析出を抑制し、偏光板作製時における当該成分の偏光子層への影響を小さくすることで、前記光学的欠陥を抑制できたものと考えられる。さらに、前記低分子量成分の析出も抑えることができることにより、デバイスの折り曲げ耐性も向上するものと推測される。

　さらに、前記低分子量成分の析出を抑制するため、前記基材フィルムが、分子量１０００以下の添加剤を０．０００１～０．０１質量％の範囲内で含有することが好ましいという実験結果を得ている。

本発明の偏光板の基本的な層構成について、その一例を示す断面図本発明の偏光板の基本的な層構成について、別の一例を示す断面図本発明の一実施の形態に係る基材フィルムの製造方法を示す模式図支持体の付いた本発明の偏光板の断面図支持対を剥離した本発明の偏光板の断面図位相差フィルムが重合性液晶化合物の重合体を含む重合性液晶組成物によって構成されている偏光板の一例を示す断面図偏光子層劣化評価における層構成を示す断面図偏光板１１６の層構成を示す断面図偏光板１１６の別の層構成を示す断面図

　本発明の偏光板は、１μｍ以上１０μｍ未満の基材フィルム、及び重合性液晶化合物および二色性色素を含む重合性液晶組成物を含む偏光子層、を有する。この特徴は、下記実施態様に共通する又は対応する技術的特徴である。

　本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記基材フィルムが、分子量１０００以下の添加剤を０．０００１～０．０１質量％の範囲内で含有することが、好ましい。また、前記添加剤が、酸化防止剤であることが、基材フィルム中の残留溶媒に含まれるハロゲンや可塑剤に含まれる酸成分等により重合性液晶化合物および二色性色素を含む偏光子層が分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、基材フィルム中に含有させるのが好ましい。

　前記基材フィルムの膜厚が、前記式１を満たすことが、基材フィルムと偏光子層、又は液晶配向層との密着性を向上する観点から、好ましい。

　また、前記基材フィルムと前記偏光子層との間に、液晶配向層を有することが、偏光子層の重合性液晶化合物が硬化する際の配向特性を制御する観点から、好ましい。

　本発明の偏光板がロール状に巻き取られた偏光板ロールの製造方法は、前記基材フィルムを支持体上に形成する工程、前記基材フィルム上に重合性液晶化合物および二色性色素を含む重合性液晶組成物を塗布、硬化して偏光子層を形成する工程、及びロールの内側から前記偏光子層、前記基材フィル及び前記支持体の順になるように、巻き取る工程を含むことを特徴とする。当該偏光板ロールの製造方法によって、支持体が基材フィルムのプロテクトフィルムとして兼ねることができ、部品点数の削減や加工工程の簡略化につながる。

　以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「～」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。

　≪本発明の積層フィルムの概要≫
　本発明の偏光板は、１μｍ以上１０μｍ未満の基材フィルム、及び重合性液晶化合物および二色性色素を含む重合性液晶組成物を含む偏光子層、を有する。

　（偏光板の層構成）
　図１に本発明の偏光板の層構成の基本的な構成について、その一例を示す。

　図１Ａに示す本発明の偏光板１は、基材フィルム２及び当該基材フィルム２上に重合性液晶化合物および二色性色素を含む重合性液晶組成物を含む偏光子層４を有する。基材フィルム２と偏光子層４の間には液晶配向層３を形成することが好ましい。さらに、偏光子層４の表面には、プライマー層（不図示）やバリア機能を有する保護層（不図示）等の他の機能層を有していてもよい。

　また、本発明の偏光板１は図１Ｂに示すように、基材フィルム２の偏光子層４とは反対側の面に、基材フィルム２を形成するための支持体５を配置してもよい。上記支持体５は基材フィルム２から剥離可能な機能を有することが好ましく、支持体５と基材フィルム２の間には剥離層（不図示）を設けてもよい。

　因みに本発明でいう「剥離可能な機能」とは、通常生産時、又は一般使用時には支持体５と基材フィルムは２密着しており容易には剥離しないが、偏光板加工時や偏光板加工後において基材フィルム２のみ使用したいときに、外部応力によって基材フィルム２から支持体５を剥離できる態様をいう。

　例えば、支持体を基材フィルムから剥離する際の応力は、幅２５ｍｍ、長さ８０ｍｍに裁断したフィルムにおいて、基材フィルムの支持体側界面とは反対側の面を、アクリル系粘着剤シートを介してガラス基材に貼合して固定した後に、引張り試験機（（株）エー・アンド・デイ製ＲＴＦ－１２１０）を用いて、試験片の長さ方向一端（幅２５ｍｍの一辺）の支持体をつかみ、温度２３℃、湿度６０％ＲＨの雰囲気下、クロスヘッドスピード（つかみ移動速度）２００ｍｍ／分で、９０°剥離試験（ＪＩＳ　Ｋ　６８５４－１：１９９９　「接着剤－はく離接着強さ試験方法－第１部：９０度はく離」に準拠する。）を実施することで剥離応力評価したときに、０．０５～２.００Ｎ／２５ｍｍの範囲の応力で支持体と基材フィルムが剥離可能な状態を一例として挙げることができる。上記応力が０．０５Ｎ／２５ｍｍ以上であれば、偏光板加工プロセスの途中において剥がれが生じにくくなるため好ましく、２．００Ｎ／２５ｍｍ以下であれば、支持体を剥離する際に、偏光板に折れが発生しないため好ましい。

　以下、本発明の偏光板の構成について詳細に説明する。

　〔１〕基材フィルム
　本発明に係る基材フィルムは、その膜厚が、１μｍ以上１０μｍ未満の範囲内であることを特徴とし、係る特定範囲の膜厚によって、基材フィルム中の添加剤、特に分子量が低い成分が偏光板（偏光板）側に析出することによって、デバイスにて表示した際に表示欠点等の光学的欠陥が発生し、収率（歩留まり）が低いという問題を解決するものである。

　前記膜厚は、１μｍ未満では、基材フィルムとして腰が弱くなり偏光板の強度が低下する。また、１０μｍ以上であると、基材フィルムから偏光子層への低分子量成分の析出が多くなり、光学的欠陥が発生しやすいことから上記範囲内であることが必要である。

　すなわち、本発明に係る基材フィルムは、従来よりも著しく薄膜化されたフィルムとすることで、基材フィルムからの前述の低分子量成分の析出を抑制し、偏光板作成時における当該成分の偏光子層への影響を小さくすることで、前記光学的欠陥を抑制できるものと考えられる。さらに、前記低分子量成分の析出も抑えることができることにより、デバイスの折り曲げ耐性も向上するものである。

　さらに、基材フィルムが添加剤を含む場合には、分子量１０００以下の添加剤を０．０００１～０．０１質量％の範囲内で含有することが好ましく、前記添加剤が、酸化防止剤であることが、前述の観点から好ましい態様である。

　〔１．１〕樹脂
　本発明に係る基材フィルムの用いられる樹脂は、特に制限されず、セルロースエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、フマル酸ジエステル系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、及びスチレン系樹脂又はその複合樹脂を挙げることができるが、カルボニル基を側鎖に有する直鎖状高分子材料を含有すること、又は環状構造を主鎖に有する高分子材料を含有することが、折り曲げ耐性等の物理特性を制御し、かつ光学特性を向上する観点から好ましい。したがって、好ましい樹脂としては、シクロオレフィン系樹脂、フマル酸ジエステル系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、又はスチレン・（メタ）アクリレート共重合体などでありうる。

　〈シクロオレフィン系樹脂〉
　基材フィルムに用いられるシクロオレフィン系樹脂は、シクロオレフィン単量体の重合体、又はシクロオレフィン単量体とそれ以外の共重合性単量体との共重合体であることが好ましい。

　シクロオレフィン単量体としては、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体であることが好ましく、下記一般式（Ａ－１）又は（Ａ－２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体であることがより好ましい。

　一般式（Ａ－１）中、Ｒ¹～Ｒ⁴は、各々独立して、水素原子、炭素原子数１～３０の炭化水素基、又は極性基を表す。ｐは、０～２の整数を表す。ただし、Ｒ¹～Ｒ⁴の全てが同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ¹とＲ²が同時に水素原子を表すことはなく、Ｒ³とＲ⁴が同時に水素原子を表すことはないものとする。

　一般式（Ａ－１）においてＲ¹～Ｒ⁴で表される炭素原子数１～３０の炭化水素基としては、例えば、炭素原子数１～１０の炭化水素基であることが好ましく、炭素原子数１～５の炭化水素基であることがより好ましい。炭素原子数１～３０の炭化水素基は、例えば、ハロゲン原子、酸素原子、窒素原子、硫黄原子又はケイ素原子を含む連結基をさらに有していてもよい。そのような連結基の例には、カルボニル基、イミノ基、エーテル結合、シリルエーテル結合、チオエーテル結合等の二価の極性基が含まれる。炭素原子数１～３０の炭化水素基の例には、メチル基、エチル基、プロピル基及びブチル基等が含まれる。

　一般式（Ａ－１）においてＲ¹～Ｒ⁴で表される極性基の例には、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基及びシアノ基が含まれる。中でも、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基が好ましい。

　一般式（Ａ－１）におけるｐは、光学フィルムの耐熱性を高める観点から、１又は２であることが好ましい。ｐが１又は２であると、得られる重合体がかさ高くなり、ガラス転移温度が向上しやすいためである。また、湿度に対して若干応答できるようになり、積層体としてのカールバランスを制御しやすくなるというメリットもある。

　一般式（Ａ－２）中、Ｒ⁵は、水素原子、炭素数１～５の炭化水素基、又は炭素数１～５のアルキル基を有するアルキルシリル基を表す。Ｒ⁶は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基、又はハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子若しくはヨウ素原子）を表す。ｐは、０～２の整数を表す。

　一般式（Ａ－２）におけるＲ⁵は、炭素数１～５の炭化水素基を表すことが好ましく、炭素数１～３の炭化水素基を表すことがより好ましい。

　一般式（Ａ－２）におけるＲ⁶は、カルボキシ基、ヒドロキシ基、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基を表すことが好ましく、溶液製膜時の溶解性を確保する観点から、アルコキシカルボニル基及びアリールオキシカルボニル基がより好ましい。

　一般式（Ａ－２）におけるｐは、光学フィルムの耐熱性を高める観点から、１又は２を表すことが好ましい。ｐが１又は２を表すと、得られる重合体がかさ高くなり、ガラス転移温度が向上しやすいためである。

　一般式（Ａ－２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体は、有機溶媒への溶解性を向上させる点から好ましい。一般的に有機化合物は対称性を崩すことによって結晶性が低下するため、有機溶媒への溶解性が向上する。一般式（Ａ－２）におけるＲ⁵及びＲ⁶は、分子の対称軸に対して片側の環構成炭素原子のみに置換されているので、分子の対称性が低く、すなわち、一般式（Ａ－２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体は溶解性が高いため、光学フィルムを溶液流延法によって製造する場合に適している。

　シクロオレフィン単量体の重合体における一般式（Ａ－２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の含有割合は、シクロオレフィン系樹脂を構成する全シクロオレフィン単量体の合計に対して例えば、７０モル％以上、好ましくは８０モル％以上、より好ましくは１００モル％とし得る。一般式（Ａ－２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を一定以上含むと、樹脂の配向性が高まるため、位相差（リターデーション）値が上昇しやすい。

　以下、一般式（Ａ－１）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の具体例を例示化合物１～１４に示し、一般式（Ａ－２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体の具体例を例示化合物１５～３４に示す。

　シクロオレフィン単量体と共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロオレフィン単量体と開環共重合可能な共重合性単量体、及びシクロオレフィン単量体と付加共重合可能な共重合性単量体等が含まれる。

　開環共重合可能な共重合性単量体の例には、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン及びジシクロペンタジエン等のシクロオレフィンが含まれる。

　付加共重合可能な共重合性単量体の例には、不飽和二重結合含有化合物、ビニル系環状炭化水素単量体及び（メタ）アクリレート等が含まれる。不飽和二重結合含有化合物の例には、炭素原子数２～１２（好ましくは２～８）のオレフィン系化合物が含まれ、その例には、エチレン、プロピレン及びブテン等が含まれる。ビニル系環状炭化水素単量体の例には、４－ビニルシクロペンテン及び２－メチル－４－イソプロペニルシクロペンテン等のビニルシクロペンテン系単量体が含まれる。（メタ）アクリレートの例には、メチル（メタ）アクリレート、２－エチルヘキシル（メタ）アクリレート及びシクロヘキシル（メタ）アクリレート等の炭素原子数１～２０のアルキル（メタ）アクリレートが含まれる。

　シクロオレフィン単量体と共重合性単量体との共重合体におけるシクロオレフィン単量体の含有割合は、共重合体を構成する全単量体の合計に対して例えば、２０～８０ｍｏｌ％の範囲、好ましくは３０～７０ｍｏｌ％の範囲とし得る。

　シクロオレフィン系樹脂は、前述のとおり、ノルボルネン骨格を有するシクロオレフィン単量体、好ましくは一般式（Ａ－１）又は（Ａ－２）で表される構造を有するシクロオレフィン単量体を重合又は共重合して得られる重合体であり、その例には、以下のものが含まれる。

　１）シクロオレフィン単量体の開環重合体
　２）シクロオレフィン単量体と、それと開環共重合可能な共重合性単量体との開環共重合体
　３）上記１）又は２）の開環（共）重合体の水素添加物
　４）上記１）又は２）の開環（共）重合体をフリーデルクラフツ反応により環化した後、水素添加した（共）重合体
　５）シクロオレフィン単量体と、不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体
　６）シクロオレフィン単量体のビニル系環状炭化水素単量体との付加共重合体及びその水素添加物
　７）シクロオレフィン単量体と、（メタ）アクリレートとの交互共重合体

　上記１）～７）の重合体は、いずれも公知の方法、例えば、特開２００８－１０７５３４号公報や特開２００５－２２７６０６号公報に記載の方法で得ることができる。例えば、上記２）の開環共重合に用いられる触媒や溶媒は、例えば、特開２００８－１０７５３４号公報の段落００１９～００２４に記載のものを使用できる。上記３）及び６）の水素添加に用いられる触媒は、例えば、特開２００８－１０７５３４号公報の段落００２５～００２８に記載のものを使用できる。上記４）のフリーデルクラフツ反応に用いられる酸性化合物は、例えば、特開２００８－１０７５３４号公報の段落００２９に記載のものを使用できる。上記５）～７）の付加重合に用いられる触媒は、例えば、特開２００５－２２７６０６号公報の段落００５８～００６３に記載のものを使用できる。上記７）の交互共重合反応は、例えば、特開２００５－２２７６０６号公報の段落００７１及び００７２に記載の方法で行うことができる。

　中でも、上記１）～３）及び５）の重合体が好ましく、上記３）及び５）の重合体がより好ましい。すなわち、シクロオレフィン系樹脂は、得られるシクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度を高くし、かつ光透過率を高くすることができる点で、下記一般式（Ｂ－１）で表される構造単位と下記一般式（Ｂ－２）で表される構造単位の少なくとも一方を含むことが好ましく、一般式（Ｂ－２）で表される構造単位のみを含むか、又は一般式（Ｂ－１）で表される構造単位と一般式（Ｂ－２）で表される構造単位の両方を含むことがより好ましい。一般式（Ｂ－１）で表される構造単位は、前述の一般式（Ａ－１）で表されるシクロオレフィン単量体由来の構造単位であり、一般式（Ｂ－２）で表される構造単位は、前述の一般式（Ａ－２）で表されるシクロオレフィン単量体由来の構造単位である。

　一般式（Ｂ－１）中、Ｘは、－ＣＨ＝ＣＨ－又は－ＣＨ₂ＣＨ₂－を表す。Ｒ¹～Ｒ⁴及びｐは、それぞれ一般式（Ａ－１）のＲ¹～Ｒ⁴及びｐと同義である。

　一般式（Ｂ－２）中、Ｘは、－ＣＨ＝ＣＨ－又は－ＣＨ₂ＣＨ₂－を表す。Ｒ⁵～Ｒ⁶及びｐは、それぞれ一般式（Ａ－２）のＲ⁵～Ｒ⁶及びｐと同義である。

　本発明に用いられるシクロオレフィン系樹脂は、市販品であってもよい。シクロオレフィン系樹脂の市販品の例には、ＪＳＲ（株）製のアートン（Ａｒｔｏｎ）Ｇ（例えば、Ｇ７８１０等）、アートンＦ、アートンＲ（例えば、Ｒ４５００、Ｒ４９００及びＲ５０００等）、及びアートンＲＸ（例えば、ＲＸ４５００等）が含まれる。

　シクロオレフィン系樹脂の固有粘度〔η〕ｉｎｈは、３０℃の測定において、０．２～５ｃｍ³／ｇであることが好ましく、０．３～３ｃｍ³／ｇであることがより好ましく、０．４～１．５ｃｍ³／ｇであることがさらに好ましい。

　シクロオレフィン系樹脂の数平均分子量（Ｍｎ）は、８０００～１０００００の範囲であることが好ましく、１００００～８００００の範囲であることがより好ましく、１２０００～５００００の範囲であることがさらに好ましい。シクロオレフィン系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、２００００～３０００００の範囲であることが好ましく、３００００～２５００００の範囲であることがより好ましく、４００００～２０００００の範囲であることがさらに好ましい。シクロオレフィン系樹脂の数平均分子量や重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）にてポリスチレン換算にて測定することができる。

　＜ゲルパーミエーションクロマトグラフィー＞
　溶媒：　　　メチレンクロライド
　カラム：　　Ｓｈｏｄｅｘ　Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
　カラム温度：２５℃
　試料濃度：　０．１質量％
　検出器：　　ＲＩ　Ｍｏｄｅｌ　５０４（ＧＬサイエンス社製）
　ポンプ：　　Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
　流量：　　　１．０ｍＬ／ｍｉｎ
　校正曲線：　標準ポリスチレンＳＴＫ　ｓｔａｎｄａｒｄ　ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝５００～２８０００００の範囲内の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。

　固有粘度〔η〕ｉｎｈ、数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲にあると、シクロオレフィン系樹脂の耐熱性、耐水性、耐薬品性、機械的特性、及び基材フィルムとしての成形加工性が良好となる。

　シクロオレフィン系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、通常、１１０℃以上であり、１１０～３５０℃の範囲であることが好ましく、１２０～２５０℃の範囲であることがより好ましく、１２０～２２０℃の範囲であることがさらに好ましい。Ｔｇが１１０℃以上であると、高温条件下での変形を抑制しやすい。一方、Ｔｇが３５０℃以下であると、成形加工が容易となり、成形加工時の熱による樹脂の劣化も抑制しやすい。

　シクロオレフィン系樹脂の含有量は、基材フィルムに対して７０質量％以上であることが好ましく、８０質量％以上であることがより好ましい。

　〈フマル酸ジエステル系樹脂〉
　基材フィルムに用いられるフマル酸ジエステル系樹脂は、フマル酸ジイソプロピル残基単位及び炭素数１又は２のアルキル基を有するフマル酸ジエステル残基単位を含むフマル酸ジエステル系樹脂である。

　ここで、炭素数１又は２のアルキル基を有するフマル酸ジエステル残基単位における炭素数１又は２のアルキル基は、それぞれ独立しており、例えばメチル基、エチル基が挙げられる。また、これらはフッ素、塩素などのハロゲン基；エーテル基；エステル基もしくはアミノ基で置換されていてもよい。炭素数１又は２のアルキル基を有するフマル酸ジエステル残基単位としては、例えばフマル酸ジメチル残基単位、フマル酸ジエチル残基単位が挙げられる。また、これらは１種又は２種以上含まれていてもよい。

　具体的なフマル酸ジエステル系樹脂としては、例えばフマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジメチル共重合体樹脂、フマル酸ジイソプロピル／フマル酸ジエチル共重合体樹脂等が挙げられる。

　前記フマル酸ジエステル系樹脂は、本発明の範囲を超えない限り、他の単量体残基単位を含有していてもよく、他の単量体残基単位としては、例えばスチレン残基単位、α－メチルスチレン残基単位等のスチレン類残基単位；（メタ）アクリル酸残基単位；（メタ）アクリル酸メチル残基単位、（メタ）アクリル酸エチル残基単位、（メタ）アクリル酸ブチル残基単位等の（メタ）アクリル酸エステル残基単位；酢酸ビニル残基単位、プロピオン酸ビニル残基単位等のビニルエステル類残基単位；アクリロニトリル残基単位；メタクリロニロリル残基単位；メチルビニルエーテル残基単位、エチルビニルエーテル残基単位、ブチルビニルエーテル残基単位等のビニルエーテル類残基単位；Ｎ－メチルマレイミド残基単位、Ｎ－シクロヘキシルマレイミド残基単位、Ｎ－フェニルマレイミド残基単位等のＮ－置換マレイミド類残基単位；エチレン残基単位、プロピレン残基単位等のオレフィン類残基単位；あるいはフマル酸ジｎ－ブチル残基単位、フマル酸ビス（２－エチルヘキシル）残基単位等の前記フマル酸ジエステル残基単位以外のフマル酸ジエステル類残基、及び桂皮酸及び桂皮酸エステル単位より選ばれる１種又は２種以上を挙げることができる。

　本発明に用いられるフマル酸ジエステル系樹脂の配合割合はフマル酸ジイソプロピル残基単位５０～９９モル％及び炭素数１又は２のアルキル基を有するフマル酸ジエステル残基単位１～５０モル％が好ましく、位相差フィルムとした時の位相差特性や強度が優れたものとなることからフマル酸ジイソプロピル残基単位６０～９５モル％及び炭素数１又は２のアルキル基を有するフマル酸ジエステル残基単位５～４０モル％からなる
フマル酸ジエステル系樹脂が特に好ましい。

　本発明に用いられるフマル酸ジエステル系樹脂は、前記ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィーにより測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量が５００００～２５００００の範囲内であることが好ましい。

　（フマル酸ジエステル系樹脂の合成例）
　攪拌機、冷却管、窒素導入管及び温度計を備えた１Ｌのオートクレーブに、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（信越化学社製、商品名メトローズ６０ＳＨ－５０）２ｇ、蒸留水６００ｇ、フマル酸ジイソプロピル３３０ｇ、フマル酸ジエチル７０ｇ、及び重合開始剤であるｔ－ブチルパーオキシピバレート３ｇを入れ、窒素バブリングを１時間行なった後、４００ｒｐｍで攪拌しながら５０℃で２４時間保持することによりラジカル懸濁重合を行なった。室温まで冷却し、生成したポリマー粒子を含む懸濁液をろ別し、蒸留水及びメタノールで洗浄することによりフマル酸ジエステル系樹脂を得た（収率：７５％）。

　得られたフマル酸ジエステル系樹脂の数平均分子量は１２００００であった。また、１Ｈ－ＮＭＲ測定により、樹脂組成はフマル酸ジイソプロピル残基単位／フマル酸ジエチル残基単位＝８４／１６（モル％）であることを確認した。

　〈（メタ）アクリル系樹脂〉
　基材フィルムに用いられる（メタ）アクリル系樹脂は、少なくともメタクリル酸メチルに由来する構造単位（Ｕ１）と、フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）とを含むことが好ましい。フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）を含む（メタ）アクリル系樹脂は、基材フィルムの光弾性係数を小さくし、吸湿膨張してもムラの発生が起こりにくいという利点もある。

　（メタ）アクリル系樹脂は、上記以外の他の構造単位をさらに含んでもよい。そのような他の構造単位の例には、アクリル酸アダマンチルなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル；アクリル酸２－エチルヘキシルなどの（メタ）アクリル酸シクロアルキルエステルなどが含まれる。中でも、フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）を含むことによる脆性の悪化を低減する観点などから、アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）をさらに含むことが好ましい。

　すなわち、（メタ）アクリル系樹脂は、メタクリル酸メチルに由来する構造単位（Ｕ１）と、フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）と、アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）とを含むことがより好ましい。

　メタクリル酸メチルに由来する構造単位（Ｕ１）の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂を構成する全構造単位に対して５０～９５質量％の範囲であることが好ましく、７０～９０質量％の範囲であることがより好ましい。

　フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）は、比較的剛直な構造を有するため、基材フィルムの機械的強度を向上しうる。また、フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）は、比較的嵩高い構造を有するため、樹脂マトリクス中にゴム粒子を移動させうるミクロな空隙を有しうるため、ゴム粒子を、基材フィルムの表層部に偏在させやすくしうる。

　フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂を構成する全構造単位に対して１～２５質量％の範囲であることが好ましい。フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）の含有量が１質量％以上であると、基材フィルムの高湿度環境下での保存性に優れる。２５質量％以下であると、基材フィルムの脆性が過度には損なわれにくい。フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）の含有量は、上記観点から、７～１５質量％の範囲であることがより好ましい。

　アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）は、樹脂に適度な柔軟性を付与しうるため、例えばフェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）を含むことによる脆さを改善しうる。

　アクリル酸アルキルエステルは、アルキル部分の炭素原子数が１～７、好ましくは１～５のアクリル酸アルキルエステルであることが好ましい。アクリル酸アルキルエステルの例には、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸２－ヒドロキシエチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸２－エチルヘキシルなどが含まれる。

　アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）の含有量は、（メタ）アクリル系樹脂を構成する全構造単位に対して１～２５質量％の範囲であることが好ましい。アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）の含有量が１質量％以上であると、（メタ）アクリル樹脂に適度な柔軟性を付与しうるため、基材フィルムが脆くなりすぎず、破断しにくい。アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）の含有量が２５質量％以下であると、基材フィルムのＴｇが低くなりすぎず、基材フィルムの高湿度環境下での保存性に優れる。アクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）の含有量は、上記観点から、５～１５質量％の範囲であることがより好ましい。

　フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）の、フェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）とアクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）の合計量に対する比率は、２０～７０質量％の範囲であることが好ましい。当該比率が２０質量％以上であると、基材フィルムの引張弾性率を高めやすく、７０質量％以下であると、基材フィルムが脆くなりすぎない。

　（メタ）アクリル系樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、１００℃以上であることが好ましく、１２０～１５０℃の範囲であることがより好ましい。（メタ）アクリル系樹脂のＴｇが上記範囲内にあると、基材フィルムの耐熱性を高めやすい。（メタ）アクリル系樹脂のＴｇを調整するためには、例えばフェニルマレイミドに由来する構造単位（Ｕ２）やアクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位（Ｕ３）の含有量を調整することが好ましい。

　（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、特に制限されず、目的に応じて調整することができる。（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量は、例えば樹脂分子同士の絡み合いを促進して基材フィルムの靱性を高めて破断しにくくする観点や、湿度膨張係数（「ＣＨＥ比」ともいう。）を適度に大きくし、接着に好ましい程度のカール量に調整しやすくする観点では、１０万以上であることが好ましく、１００万以上であることがより好ましい。（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量が１００万以上であると、得られる基材フィルムの靱性を高めうる。それにより、積層フィルムに搬送する際に、搬送張力によって基材フィルムが破断するのを抑制することができ、搬送安定性を高めうる。（メタ）アクリル系樹脂の重量平均分子量は、同様の観点から、１５０万～３００万の範囲であることがさらに好ましい。重量平均分子量の測定方法は、前述の通りである。

　〈スチレン・（メタ）アクリレート共重合体〉
　スチレン・（メタ）アクリレート共重合体（以下、スチレン・アクリル樹脂ともいう。）は、基材フィルムに用いたときに透明性に優れる。また、スチレン部分の共重合比率によって吸湿膨張係数を調整することもできるため、これらの比率を変更することによって積層体としてのカールを制御することができる。

　スチレン・アクリル樹脂は、少なくとも、スチレン単量体と（メタ）アクリル酸エステル単量体とを付加重合させて形成される。スチレン単量体は、ＣＨ₂＝ＣＨ－Ｃ₆Ｈ₅の構造式で表されるスチレンの他に、スチレン構造中に公知の側鎖や官能基を有するスチレン誘導体を含む。

　また、（メタ）アクリル酸エステル単量体は、ＣＨ（Ｒ₁）＝ＣＨＣＯＯＲ₂（Ｒ₁は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ₂は炭素数が１～２４のアルキル基を表す。）で表されるアクリル酸エステルやメタクリル酸エステルの他に、これらのエステルの構造中に公知の側鎖や官能基を有するアクリル酸エステル誘導体やメタクリル酸エステル誘導体を含む。

　スチレン単量体の例には、スチレン、ｏ－メチルスチレン、ｍ－メチルスチレン、ｐ－メチルスチレン、α－メチルスチレン、ｐ－フェニルスチレン、ｐ－エチルスチレン、２，４－ジメチルスチレン、ｐ－ｔｅｒｔ－ブチルスチレン、ｐ－ｎ－ヘキシルスチレン、ｐ－ｎ－オクチルスチレン、ｐ－ｎ－ノニルスチレン、ｐ－ｎ－デシルスチレン及びｐ－ｎ－ドデシルスチレンが含まれる。

　（メタ）アクリル酸エステル単量体の例には、メチルアクリレート、エチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ－ブチルアクリレート、ｔ－ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｎ－オクチルアクリレート、２－エチルヘキシルアクリレート（２ＥＨＡ）、ステアリルアクリレート、ラウリルアクリレート及びフェニルアクリレートなどのアクリル酸エステル単量体；メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、ｎ－ブチルメタクリレート、イソプロピルメタクリレート、イソブチルメタクリレート、ｔ－ブチルメタクリレート、ｎ－オクチルメタクリレート、２－エチルヘキシルメタクリレート、ステアリルメタクリレート、ラウリルメタクリレート、フェニルメタクリレート、ジエチルアミノエチルメタクリレート、ジメチルアミノエチルメタクリレートなどのメタクリル酸エステル；が含まれる。

　なお、本明細書中、「（メタ）アクリル酸エステル単量体」とは、「アクリル酸エステル単量体」と「メタクリル酸エステル単量体」との総称であり、それらの一方又は両方を意味する。例えば、「（メタ）アクリル酸メチル」は、「アクリル酸メチル」及び「メタクリル酸メチル」の一方又は両方を意味する。

　上記（メタ）アクリル酸エステル単量体は、１種でもそれ以上でもよい。例えば、スチレン単量体と２種以上のアクリル酸エステル単量体とを用いて共重合体を形成すること、スチレン単量体と２種以上のメタクリル酸エステル単量体とを用いて共重合体を形成すること、及び、スチレン単量体とアクリル酸エステル単量体及びメタクリル酸エステル単量体とを併用して共重合体を形成すること、のいずれも可能である。

　上記スチレン・アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、可塑性を制御しやすい観点から、５０００～１５００００の範囲であることが好ましく、３００００～１２００００の範囲であることがより好ましい。

　本発明に用いられるスチレン・アクリル樹脂は、市販品であっても良く、デンカ株式会社製ＭＳ樹脂「ＴＸ３２０ＸＬ」を一例として挙げることができる。

　〈ポリアリレート系樹脂〉
　ポリアリレート系樹脂は、基材フィルムに用いたときに靱性に優れる。当該ポリアイレート系樹脂は、少なくとも芳香族ジアルコール由来の構成単位と芳香族ジカルボン酸由来の構成単位とを含む。

　本発明に用いられるポリアリレート系樹脂は、市販品であっても良く、ユニチカ株式会社製ＰＡＲ樹脂「Ｕ－１００」、重量平均分子量（Ｍｗ）１０００００を一例として挙げることができる。

　〔１．２〕添加剤
　基材フィルムは、必要に応じて上記以外の他の成分をさらに含んでもよい。他の成分の例には、酸化防止剤、ゴム粒子、及び後述するマット剤（微粒子）、可塑剤、紫外線吸収剤などが含まれる。中でも、酸化防止剤は基材フィルムの経時保存性向上に寄与し、ゴム粒子は基材フィルムに靱性（しなやかさ）を付与する観点から、含有することが好ましい。

　〈酸化防止剤〉
　本発明においては、分子量１０００以下の添加剤を基材フィルム中に０．０００１～０．０１質量％の範囲内で含有することが析出物の拡散を抑制する観点から好ましく、前記添加剤が、酸化防止剤であることが好ましい態様である。

　本発明に係る酸化防止剤としては、通常知られているものを使用することができる。特に、ラクトン系、イオウ系、フェノール系、二重結合系、ヒンダードアミン系、リン系の各化合物を好ましく用いることができる。

　上記ラクトン系化合物としては、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「ＩｒｇａｆｏｓＸＰ４０、ＩｒｇａｆｏｓＸＰ６０（商品名）」等が挙げられる。

　上記イオウ系化合物は、例えば、住友化学株式会社から市販されている「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ　ＴＰＬ－Ｒ」及び「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ　ＴＰ－Ｄ」を挙げることができる。

　上記フェノール系化合物としては、２，６－ジアルキルフェノールの構造を有するものが好ましく、例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「Ｉｒｇａｎｏｘ（登録商標）１０７６」、「Ｉｒｇａｎｏｘ（登録商標）１０１０」、株式会社ＡＤＥＫＡから市販されている「アデカスタブ（登録商標）ＡＯ－５０」等を挙げることができる。

　上記二重結合系化合物は、住友化学株式会社から「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ（登録商標）　ＧＭ」及び「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ（登録商標）　ＧＳ」という商品名で市販されている。一般には、樹脂に対して、０．０５～２０質量％の範囲、好ましくは０．１～１質量％の範囲で添加される。

　上記ヒンダードアミン系化合物は、例えば、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１４４」及び「Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）７７０」、株式会社ＡＤＥＫＡから市販されている「ＡＤＫ　ＳＴＡＢ（登録商標）　ＬＡ－５２」を挙げることができる。

　上記リン系化合物は、例えば、住友化学株式会社から市販されている「Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ（登録商標）ＧＰ」、株式会社ＡＤＥＫＡから市販されている「ＡＤＫ　ＳＴＡＢ（登録商標）　ＰＥＰ－２４Ｇ」、「ＡＤＫ　ＳＴＡＢ（登録商標）　ＰＥＰ－３６」及び「ＡＤＫ　ＳＴＡＢ（登録商標）　３０１０」、ＢＡＳＦジャパン株式会社から市販されている「ＩＲＧＡＦＯＳ　Ｐ－ＥＰＱ」、堺化学工業株式会社から市販されている「ＧＳＹ－Ｐ１０１」を挙げることができる。

　さらに、酸補足剤として米国特許第４１３７２０１号明細書に記載されているような、エポキシ基を有する化合物を含有させることも可能である。

　これらの酸化防止剤等は基材フィルムの主原料である樹脂に対して、０．０００１～０．０１質量％の範囲内で含有することが好ましく、より好ましくは０．００２～０．０１質量％の範囲で添加される。

　これらの酸化防止剤等は、１種のみを用いても数種の異なった系の化合物を併用することもできる。例えば、ラクトン系、リン系、フェノール系及び二重結合系化合物の併用は好ましい。

　〈ゴム粒子〉
　ゴム粒子は、ゴム状重合体を含む粒子である。ゴム状重合体は、ガラス転移温度が２０℃以下の軟質な架橋重合体である。そのような架橋重合体の例には、ブタジエン系架橋重合体、（メタ）アクリル系架橋重合体、及びオルガノシロキサン系架橋重合体が含まれる。中でも、（メタ）アクリル系樹脂との屈折率差が小さく、基材フィルムの透明性が損なわれにくい観点では、（メタ）アクリル系架橋重合体が好ましく、アクリル系架橋重合体（アクリル系ゴム状重合体）がより好ましい。

　すなわち、ゴム粒子は、アクリル系ゴム状重合体（ａ）を含む粒子であることが好ましい。

　アクリル系ゴム状重合体（ａ）について：
　アクリル系ゴム状重合体（ａ）は、アクリル酸エステルに由来する構造単位を主成分として含む架橋重合体である。主成分として含むとは、アクリル酸エステルに由来する構造単位の含有量が後述する範囲となることをいう。アクリル系ゴム状重合体（ａ）は、アクリル酸エステルに由来する構造単位と、それと共重合可能な他の単量体に由来する構造単位と、１分子中に２以上のラジカル重合性基（非共役な反応性二重結合）を有する多官能性単量体に由来する構造単位とを含む架橋重合体であることが好ましい。

　アクリル酸エステルは、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ－プロピル、アクリル酸ｎ－ブチル、アクリル酸ｓｅｃ－ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸２－エチルヘキシル、アクリル酸ｎ－オクチルなどのアルキル基の炭素数１～１２のアクリル酸アルキルエステルであることが好ましい。アクリル酸エステルは、１種類であってもよいし、２種類以上であってもよい。

　アクリル酸エステルに由来する構造単位の含有量は、アクリル系ゴム状重合体（ａ１）を構成する全構造単位に対して４０～８０質量％の範囲であることが好ましく、５０～８０質量％の範囲であることがより好ましい。アクリル酸エステルの含有量が上記範囲内であると、保護フィルムに十分な靱性を付与しやすい。

　共重合可能な他の単量体は、アクリル酸エステルと共重合可能な単量体のうち、多官能性単量体以外のものである。すなわち、共重合可能な単量体は、２以上のラジカル重合性基を有しない。共重合可能な単量体の例には、メタクリル酸メチルなどのメタクリル酸エステル；スチレン、メチルスチレンなどのスチレン類；（メタ）アクリロニトリル類；（メタ）アクリルアミド類；（メタ）アクリル酸が含まれる。中でも、共重合可能な他の単量体は、スチレン類を含むことが好ましい。共重合可能な他の単量体は、１種類であってもよいし、２種類以上であってもよい。

　共重合可能な他の単量体に由来する構造単位の含有量は、アクリル系ゴム状重合体（ａ）を構成する全構造単位に対して５～５５質量％の範囲であることが好ましく、１０～４５質量％の範囲であることがより好ましい。

　多官能性単量体の例には、アリル（メタ）アクリレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート、ジアリルフタレート、ジアリルマレート、ジビニルアジペート、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチルロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトロメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートが含まれる。

　多官能性単量体に由来する構造単位の含有量は、アクリル系ゴム状重合体（ａ）を構成する全構造単位に対して０．０５～１０質量％の範囲であることが好ましく、０．１～５質量％の範囲であることがより好ましい。多官能性単量体の含有量が０．０５質量％以上であると、得られるアクリル系ゴム状重合体（ａ）の架橋度を高めやすいため、得られる基材フィルムの硬度、剛性が損なわれすぎず、１０質量％以下であると、基材フィルムの靱性が損なわれにくい。

　アクリル系ゴム状重合体（ａ）を構成する単量体組成は、例えば熱分解ＧＣ－ＭＳにより検出されるピーク面積比により測定することができる。

　ゴム状重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、０℃以下であることが好ましく、－１０℃以下であることがより好ましい。ゴム状重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）が０℃以下であると、フィルムに適度な靱性を付与しうる。ゴム状重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、前述と同様の方法で測定される。

　ゴム状重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）は、ゴム状重合体の組成によって調整することができる。例えばアクリル系ゴム状重合体（ａ）のガラス転移温度（Ｔｇ）を低くするためには、アクリル系ゴム状重合体（ａ）中の、アルキル基の炭素原子数が４以上のアクリル酸エステル／共重合可能な他の単量体の質量比を多くする（例えば３以上、好ましくは４～１０とする）ことが好ましい。

　アクリル系ゴム状重合体（ａ）を含む粒子は、アクリル系ゴム状重合体（ａ）からなる粒子、又は、ガラス転移温度が２０℃以上の硬質な架橋重合体（ｃ）からなる硬質層と、その周囲に配置されたアクリル系ゴム状重合体（ａ）からなる軟質層とを有する粒子（これらを、「エラストマー」ともいう）であってもよいし；アクリル系ゴム状重合体（ａ）の存在下で、メタクリル酸エステルなどの単量体の混合物を、少なくとも１段以上重合して得られるアクリル系グラフト共重合体からなる粒子であってもよい。アクリル系グラフト共重合体からなる粒子は、アクリル系ゴム状重合体（ａ）を含むコア部と、それを覆うシェル部とを有するコアシェル型の粒子であってもよい。

　アクリル系ゴム状重合体を含むコアシェル型のゴム粒子について：
　（コア部）
　コア部は、アクリル系ゴム状重合体（ａ）を含み、必要に応じて硬質な架橋重合体（ｃ）をさらに含んでもよい。すなわち、コア部は、アクリル系ゴム状重合体からなる軟質層と、その内側に配置された硬質な架橋重合体（ｃ）からなる硬質層とを有してもよい。

　架橋重合体（ｃ）は、メタクリル酸エステルを主成分とする架橋重合体でありうる。すなわち、架橋重合体（ｃ）は、メタクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位と、それと共重合可能な他の単量体に由来する構造単位と、多官能性単量体に由来する構造単位とを含む架橋重合体であることが好ましい。

　メタクリル酸アルキルエステルは、前述のメタクリル酸アルキルエステルであってよく；共重合可能な他の単量体は、前述のスチレン類やアクリル酸エステルなどであってよく；多官能性単量体は、前述の多官能性単量体とした挙げたものと同様のものが挙げられる。

　メタクリル酸アルキルエステルに由来する構造単位の含有量は、架橋重合体（ｃ）を構成する全構造単位に対して４０～１００質量％の範囲でありうる。共重合可能な他の単量体に由来する構造単位の含有量は、他の架橋重合体（ｃ）を構成する全構造単位に対して６０～０質量％の範囲でありうる。多官能性単量体に由来する構造単位の含有量は、他の架橋重合体を構成する全構造単位に対して０．０１～１０質量％の範囲でありうる。

　（シェル部）
　シェル部は、アクリル系ゴム状重合体（ａ）にグラフト結合した、メタクリル酸エステルに由来する構造単位を主成分として含むメタクリル系重合体（ｂ）（他の重合体）を含む。主成分として含むとは、メタクリル酸エステルに由来する構造単位の含有量が後述する範囲となることをいう。

　メタクリル系重合体（ｂ）を構成するメタクリル酸エステルは、メタクリル酸メチルなどのアルキル基の炭素数１～１２のメタクリル酸アルキルエステルであることが好ましい。メタクリル酸エステルは、１種類であってもよいし、２種類以上であってもよい。

　メタクリル酸エステルの含有量は、メタクリル系重合体（ｂ）を構成する全構造単位に対して５０質量％以上であることが好ましい。メタクリル酸エステルの含有量が５０質量％以上であると、メタクリル酸メチルに由来する構造単位を主成分として含むメタクリル系樹脂との相溶性が得られやすい。メタクリル酸エステルの含有量は、上記観点から、メタクリル系重合体（ｂ）を構成する全構造単位に対して７０質量％以上であることがより好ましい。

　メタクリル系重合体（ｂ）は、メタクリル酸エステルと共重合可能な他の単量体に由来する構造単位をさらに含んでもよい。共重合可能な他の単量体の例には、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ－ブチルなどのアクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチルなどの脂環、複素環又は芳香環を有する（メタ）アクリル系単量体（環含有（メタ）アクリル系単量体）が含まれる。

　共重合可能な単量体に由来する構造単位の含有量は、メタクリル系重合体（ｂ）を構成する全構造単位に対して５０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることがより好ましい。

　本実施の形態では、基材フィルムは延伸されていないため、ゴム粒子の形状は、真球状に近い形状でありうる。すなわち、基材フィルムの断面又は表面を観察したときの、ゴム粒子のアスペクト比は、１～２程度でありうる。

　ゴム粒子の平均粒子径は、１００～４００ｎｍの範囲であることが好ましい。ゴム粒子の平均粒子径が１００ｎｍ以上であると、基材フィルムに十分な靱性や応力緩和性を付与しやすく、４００ｎｍ以下であると、基材フィルムの透明性が損なわれにくい。ゴム粒子の平均粒子径は、同様の観点から、１５０～３００ｎｍの範囲であることがより好ましい。

　ゴム粒子の平均粒子径は、以下の方法で算出することができる。

　ゴム粒子の平均粒子径は、積層フィルムの表面又は切片のＳＥＭ撮影又はＴＥＭ撮影によって得た粒子１００個の円相当径の平均値として測定することができる。円相当径は、撮影によって得られた粒子の投影面積を、同じ面積を持つ円の直径に換算することによって求めることができる。この際、倍率５０００倍のＳＥＭ観察及び／又はＴＥＭ観察によって観察されるゴム粒子を、平均粒子径の算出に使用する。

　ゴム粒子の含有量は、特に限定されないが、基材フィルムに対して５～４０質量％の範囲であることが好ましく、７～３０質量％の範囲であることがより好ましい。

　〔１．３〕物性
　〈位相差Ｒｏ及びＲｔ〉
　本発明に係る基材フィルムは、偏光子層を表面に積層して、位相差フィルムなどの光学フィルムとして機能しうる。

　基材フィルムは、例えばＩＰＳモード用の位相差フィルムとして用いる観点では、測定波長５９０ｎｍ、２３℃５５％ＲＨの環境下で測定される面内方向の位相差Ｒｏは、０～１０ｎｍの範囲であることが好ましく、０～５ｎｍの範囲であることがより好ましい。基材フィルムの厚さ方向の位相差Ｒｔは、－４０～４０ｎｍの範囲であることが好ましく、－２５～２５ｎｍの範囲であることがより好ましい。

　Ｒｏ及びＲｔは、それぞれ下記式で定義される。

　式（ａ）：Ｒｏ＝（ｎ_x－ｎ_y）×ｄ
　式（ｂ）：Ｒｔ＝（（ｎ_x＋ｎ_y）／２－ｎ_z）×ｄ
　（式中、
　ｎ_xは、基材フィルムの面内遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）の屈折率を表し、
　ｎ_yは、基材フィルムの面内遅相軸に直交する方向の屈折率を表し、
　ｎ_zは、基材フィルムの厚さ方向の屈折率を表し、
　ｄは、基材フィルムの膜厚（ｎｍ）を表す。）
　基材フィルムの面内遅相軸は、自動複屈折率計アクソスキャン（ＡｘｏＳｃａｎＭｕｅｌｌｅｒＭａｔｒｉｘＰｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）により確認することができる。

　Ｒｏ及びＲｔは、以下の方法で測定することができる。

　１）基材フィルムを２３℃５５％ＲＨの環境下で２４時間調湿する。このフィルムの平均屈折率をアッベ屈折計で測定し、膜厚ｄを市販のマイクロメーターを用いて測定する。

　２）調湿後のフィルムの、測定波長５９０ｎｍにおけるリターデーションＲｏ及びＲｔを、それぞれ自動複屈折率計アクソスキャン（ＡｘｏＳｃａｎＭｕｅｌｌｅｒＭａｔｒｉｘＰｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃５５％ＲＨの環境下で測定する。

　基材フィルムの位相差Ｒｏ及びＲｔは、例えば樹脂の種類や延伸条件、乾燥条件によって調整することができる。例えば、乾燥温度を高くすることで、Ｒｔを低くすることができる。

　〔１．４〕基材フィルムの製造方法
　本発明に係る基材フィルムの形態は、特に制限されないが、例えば帯状でありうる。すなわち、本発明に係る基材フィルムは、その幅方向に直交する方向にロール状に巻き取られて、ロール体とすることが好ましい。

　［製造方法］
　本発明に係る基材フィルムの製造方法は、１）基材フィルム用溶液を得る工程と、２）得られた基材フィルム溶液を、支持体の表面に付与する工程と、３）付与された基材フィルム用溶液から溶媒を除去して、基材フィルムを形成する工程とを有する。

　１）基材フィルム用溶液を得る工程
　前述の樹脂と、溶媒とを含む基材フィルム用溶液（「ドープ」ともいう。）を調製する。

　基材フィルム用溶液に用いられる溶媒は、樹脂を良好に分散又は溶解させうるものであればよく、特に制限されない。例えば、本発明に用いられる有機溶媒としては、アルコール類（メタノール、エタノールやジオール、トリオール、テトラフルオロプロパノール等）、グリコール類、セロソルブ類、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン等）、カルボン酸類（ギ酸、酢酸等）、カーボネート類（エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等）、エステル類（酢酸エチル、酢酸プロピル等）、エーテル類（イソプロピルエーテル、ＴＨＦ等）、アミド類（ジメチルスルホキシド等）、炭化水素類（ヘプタン等）、ニトリル類（アセトニトリル等）、芳香族類（シクロヘキシルベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等）、ハロゲン化アルキル類（ジクロロメタン（「塩化メチレン」ともいう。）等）、アミン類（１，４－ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、ジアザビシクロウンデセン等）、ラクトン系などが挙げられる。

　中でも、基材フィルムの溶媒として、沸点が大気圧下において１００℃以下であり、種類として塩素系溶媒であり、更には具体的にはジクロロメタン（「塩化メチレン」ともいう。）であることが、基材フィルム用のドープを調製し製膜する際において、扱いやすさの観点から、好ましい。これは基材フィルム用のドープを調製し製膜する際において、溶解性が高いこと及び乾燥速度が速く、それによって塗布膜の膜質を調整できるといった観点から好ましい。また親水性の溶媒を添加することも可能である。親水性の溶媒としてはケトン類、アルコール類が挙げられるが、アルコール類であることが好ましい。より好ましくはイソプロパノール、エタノール、メタノール等であり、最も好ましくはメタノールである。添加量としては１～２０質量％の範囲が好ましく、より好ましくは３～１０質量％の範囲である。

　基材フィルム用溶液の樹脂濃度は、粘度を後述する範囲に調整しやすくする観点では、例えば１．０～２０質量％の範囲であることが好ましい。さらに、塗膜の乾燥時の収縮量を少なくする観点では、基材フィルム用溶液の樹脂濃度は適度に高いことが好ましく、５質量％超２０質量％以下であることがより好ましく、５質量％超１５質量％以下であることがさらに好ましい。また溶液濃度を調整することで、膜が形成されるまでの時間が短くなり、それらの乾燥時間も基材フィルムの表面状態を制御する手段となりうる。高濃度化のためには適宜混合溶媒を用いてもよい。

　基材フィルム用溶液の粘度は、所望の膜厚の基材フィルムを形成しうる程度であればよく、特に制限されないが、例えば５～５０００ｍＰａ・ｓの範囲であることが好ましい。基材フィルム用溶液の粘度が５ｃＰ以上であると、適度な膜厚の基材フィルムを形成しやすく、５０００ｍＰａ・ｓ以下であると、溶液の粘度上昇によって、膜厚ムラが生じるのを抑制しうる。基材フィルム用溶液の粘度は、同様の観点から、１００～１０００ｍＰａ・ｓの範囲であることがより好ましい。基材フィルム用溶液の粘度は、２５℃で、Ｅ型粘度計で測定することができる。

　２）基材フィルム用溶液を付与する工程
　次いで、得られた基材フィルム用溶液を、支持体の表面に付与する。具体的には、得られた基材フィルム用溶液を、支持体の表面に塗布する。

　〈支持体〉
　支持体は、基材フィルム形成時に支持するものであり、通常、樹脂フィルムを含む。支持体の膜厚は、５０μｍ以下であることが好ましい。支持体の膜厚は、薄膜だがある程度の強度（腰や剛性）が支持体として必要であることから、好ましくは、１５～４５μｍの範囲であり、より好ましくは２０～４０μｍの範囲である。

　用いられる樹脂としては、セルロースエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリアリレート系樹脂、及びスチレン系樹脂又はその複合樹脂を挙げることができるが、中でも高湿度環境下での保存性に優れる樹脂として、ポリエステル系樹脂を使用することが好ましい。

　樹脂フィルムの例には、ポリエステル系樹脂（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリトリメチレンテレフタレート（ＰＴＴ）、ポリブチレンテレフタレート（ＰＢＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリブチレンナフタレート（ＰＢＮ）など）などが含まれる。中でも、扱いやすさの観点から、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）を含むポリエステル系樹脂フィルムが好ましい。

　樹脂フィルムは、熱処理（熱緩和）されたものであってもよいし、延伸処理されたものであってもよい。

　熱処理は、樹脂フィルムの残留応力（例えば延伸に伴う残留応力など）を低減させるためであり、特に制限されないが、樹脂フィルムを構成する樹脂のガラス転移温度をＴｇとしたとき、（Ｔｇ＋６０）～（Ｔｇ＋１８０）℃の範囲で行うことができる。

　延伸処理は、樹脂フィルムの残留応力を増加させるためであり、延伸処理は、例えば樹脂フィルムの２軸方向に行うことが好ましい。延伸処理は、任意の条件で行うことができ、例えば延伸倍率１２０～９００％程度で行うことができる。樹脂フィルムが延伸されているかどうかは、例えば面内遅層軸（屈折率が最大となる方向に延びた軸）があるかどうかによって確認することができる。延伸処理は、機能層を積層する前にされてもよいし、積層した後にされてもよいが、積層する前に延伸されていることが好ましい。

　ポリエステル系樹脂フィルム（簡単に、ポリエステルフィルムともいう。）は市販品を用いることができ、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムＴＮ１００（東洋紡社製）、ＭＥＬＩＮＥＸ　ＳＴ５０４（帝人デュポンフィルム社製）等を好適に用いることができる。

　支持体は、樹脂フィルムの表面に設けられた離型層をさらに有していてもよい。離型層は、偏光板を作製する際に、支持体を基材フィルムから剥離しやすくしうる。

　離型層は、公知の剥離剤を含むものであってよく、特に制限されない。離型層に含まれる剥離剤の例には、シリコーン系剥離剤、及び、非シリコーン系剥離剤が含まれる。

　シリコーン系剥離剤の例には、公知のシリコーン系樹脂が含まれる。非シリコーン系剥離剤の例には、ポリビニルアルコール又はエチレン－ビニルアルコール共重合体などに長鎖アルキルイソシアネートを反応させた長鎖アルキルペンダント型重合体、オレフィン系樹脂（例えば共重合ポリエチレン、環状ポリオレフィン、ポリメチルペンテン）、ポリアリレート樹脂（例えば、芳香族ジカルボン酸成分と二価フェノール成分との重縮合物）、フッ素樹脂（例えばポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）、ＰＦＡ（四フッ化エチレンとパーフルオロアルコキシエチレンとの共重合体）、ＦＥＰ（テトラフルオロエチレンとヘキサフルオロプロピレンの共重合体）、ＥＴＦＥ（テトラフルオロエチレンとエチレンの共重合体））などが含まれる。

　離型層の厚さは、所望の剥離性を発現しうる程度であればよく、特に制限されないが、例えば０．１～１．０μｍの範囲であることが好ましい。

　支持体には、添加剤として、可塑剤を含有してもよい。可塑剤としては特に限定されないが、好ましくは、多価アルコールエステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、クエン酸系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、リン酸エステル系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤、及びポリエステル系可塑剤等から選択されることが好ましい。

　また、支持体は紫外線吸収剤を含有することもできる。用いられる紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、２－ヒドロキシベンゾフェノン系又はサリチル酸フェニルエステル系のもの等が挙げられる。例えば、２－（５－メチル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２－［２－ヒドロキシ－３，５－ビス（α，α－ジメチルベンジル）フェニル］－２Ｈ－ベンゾトリアゾール、２－（３，５－ジ－ｔ－ブチル－２－ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、２－ヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン、２－ヒドロキシ－４－オクトキシベンゾフェノン、２，２′－ジヒドロキシ－４－メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類を例示することができる。

　さらに、本発明に用いられる支持体は、搬送性を向上するために、微粒子を含有することも好ましい。

　微粒子としては、無機化合物の例として、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。また、有機化合物の微粒子も好ましく使用することができる。有機化合物の例としてはポリテトラフルオロエチレン、セルロースアセテート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリプピルメタクリレート、ポリメチルアクリレート、ポリエチレンカーボネート、アクリルスチレン系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、メラミン系樹脂、ポリオレフィン系粉末、ポリエステル系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、あるいはポリフッ化エチレン系樹脂、澱粉等の有機高分子化合物の粉砕分級物や懸濁重合法で合成した高分子化合物を用いることができる。

　微粒子はケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化ケイ素が好ましく、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。

　本発明に用いられる支持体の製造方法としては、通常のインフレーション法、Ｔ－ダイ法、カレンダー法、切削法、流延法、エマルジョン法、ホットプレス法等の製造法が使用できるが、着色抑制、異物欠点の抑制、ダイラインなどの光学欠点の抑制などの観点から製膜方法は、溶液流延法と溶融流延法が好ましい。さらに、溶液流延法であると、加工工程での温度が低く、このため種々の添加剤を用いることによる高機能化を付与することができる。

　溶液流延法により製膜する場合、支持体の製造方法は、熱可塑性樹脂及び上述した微粒子等の添加剤を溶媒に溶解、分散させてドープを調製する工程（溶解工程；ドープ調製工程）、ドープを無限に移行する無端の金属支持体上に流延する工程（流延工程）、流延したドープをウェブとして乾燥する工程（溶媒蒸発工程）、金属支持体から剥離する工程（剥離工程）、乾燥、延伸、幅保持する工程（延伸・幅保持・乾燥工程）、仕上がったフィルムをロール状に巻取る工程（巻き取り工程）を含むことが好ましい。

　以上のようにして製造された支持体を用いて、本発明に係る基材フィルムを下記方法によって、形成することが好ましい。

　基材フィルム用溶液の塗布方法は、特に制限されず、例えばバックロールコート法、グラビアコート法、スピンコート法、ワイヤーバーコート法、ロールコート法などでの公知の方法でありうる。中でも、薄くかつ均一な膜厚の塗膜を形成しうる観点から、バックコート法が好ましい。

　３）基材フィルムを形成する工程
　次いで、支持体に付与された基材フィルム用溶液から溶媒を除去して、基材フィルムを形成する。

　具体的には、支持体に付与された基材フィルム用溶液を乾燥させる。乾燥は、例えば送風又は加熱により行うことができる。中でも、基材フィルムのカールなどを抑制しやすくする観点では、送風により乾燥させることが好ましく、更には乾燥初期と乾燥後半においての風速差をつけることが、下記膜厚偏差を制御する点において好ましい。具体的には、初期の風速が高い方が膜厚偏差は大きくなり、初期の風速が低いと小さくなる傾向にある。

　したがって、乾燥条件（例えば乾燥温度、乾燥風量、乾燥時間など）を調整することにより、基材フィルムの疎密を制御し、前記基材フィルムの膜厚を下記式１を満たすように調整することができる。

　式１：　５＜｜幅方向の無作為に選択した３点の膜厚の平均値（Ｂ）－平均膜厚値（Ａ）｜／平均膜厚値（Ａ）×１００＜２０（％）
　ここで、平均膜厚値（Ａ）はフィルムから無作為に抽出した１０点の膜厚値の平均値である。

　式１で表される値が５％を超えることで、表面が適度に凹凸を有することで上層との密着性を向上する効果を得ることができ、２０％未満であることで、表面の凹凸が大きすぎることがなく、上層の塗布性、平滑性に影響しない。

　膜厚の測定は、市販の膜厚保測定装置を用いることができ、例えば、膜厚測定システムとしてはＦ２０－ＵＶ（フィルメトリクス社製）が挙げられる。

　また、前記基材フィルムの膜厚の偏差ρは、０．５±０．２μｍの範囲内に調整することが好ましい。膜質は疎になる方向に調整することが上層との密着性向上の観点から好ましく、具体的には乾燥速度を高くすることが好ましく、０．００１５～０．０５ｋｇ／ｈｒ・ｍ²の範囲であることが好ましく、０．００２～０．０５ｋｇ／ｈｒ・ｍ²の範囲であることがより好ましい。

　乾燥速度とは、単位時間、単位面積当たりに蒸発する溶媒の質量として表される。乾燥速度は、通常、乾燥温度によって調整することができる。乾燥温度は、使用する溶媒種にもよるが、例えば５０～２００℃の範囲であることが好ましく、使用する溶媒の沸点Ｔｂに対して（Ｔｂ－５０）～（Ｔｂ＋５０）℃の範囲であることが好ましい。温度制御は多段階で行ってもよい。ある程度乾燥が進んだ後は、より高温で乾燥することで乾燥速度、膜質を制御することができる。

　本実施の形態に係る基材フィルムは、前述の通り、帯状でありうる。したがって、本実施の形態に係る積層フィルムの製造方法は、４）帯状の積層フィルムをロール状に巻き取り、ロール体とする工程をさらに含むことが好ましい。

　４）基材フィルムを巻き取り、ロール体を得る工程
　得られた帯状の基材フィルムを、その幅方向に直交する方向にロール状に巻き取り、ロール体とする。

　帯状の基材フィルムの長さは、特に制限されないが、例えば１００～１００００ｍ程度でありうる。また、帯状の積層フィルムの幅は、１ｍ以上であることが好ましく、１．１～４ｍの範囲であることがより好ましい。フィルムの均一性を高める観点では、より好ましくは１．３～２．５ｍの範囲である。

　［製造装置］
　本発明に用いられる基材フィルムの製造方法は、例えば図２に示される製造装置によって行うことができる。

　図２は、本実施の形態に係る基材フィルムの製造方法を実施するための製造装置Ｂ２００の模式図である。製造装置Ｂ２００は、供給部Ｂ２１０と、塗布部Ｂ２２０と、乾燥部Ｂ２３０と、冷却部Ｂ２４０と、巻き取り部Ｂ２５０とを有する。Ｂａ～Ｂｄは、支持体Ｂ１１０を搬送する搬送ロールを示す。

　供給部Ｂ２１０は、巻き芯に巻かれた帯状の支持体Ｂ１１０のロール体Ｂ２０１を繰り出す繰り出し装置（不図示）を有する。

　塗布部Ｂ２２０は、塗布装置であって、支持体Ｂ１１０を保持するバックアップロールＢ２２１と、バックアップロールＢ２２１で保持された支持体Ｂ１１０に、基材フィルム用溶液を塗布する塗布ヘッドＢ２２２と、塗布ヘッドＢ２２２の上流側に設けられた減圧室Ｂ２２３とを有する。

　塗布ヘッドＢ２２２から吐出される基材フィルム用溶液の流量は、不図示のポンプにより調整可能となっている。塗布ヘッドＢ２２２から吐出する基材フィルム用溶液の流量は、予め調整した塗布ヘッドＢ２２２の条件で連続塗布したときに、安定して所定の膜厚の塗布層を形成できる量に設定されている。

　減圧室Ｂ２２３は、塗布時に塗布ヘッドＢ２２２からの基材フィルム用溶液と支持体Ｂ１１０との間に形成されるビード（塗布液の溜まり）を安定化するための機構であり、減圧度を調整可能となっている。減圧室Ｂ２２３は、減圧ブロワ（不図示）に接続されており、内部が減圧されるようになっている。減圧室Ｂ２２３は、空気漏れがない状態になっており、かつ、バックアップロールとの間隙も狭く調整され、安定した塗布液のビードを形成できるようになっている。

　乾燥部Ｂ２３０は、支持体Ｂ１１０の表面に塗布された塗膜を乾燥させる乾燥装置であって、乾燥室Ｂ２３１と、乾燥用気体の導入口Ｂ２３２と、排出口Ｂ２３３とを有する。乾燥風の温度及び風量は、塗膜の種類及び支持体Ｂ１１０の種類により適宜決められる。乾燥部Ｂ２３０で乾燥風の温度及び風量、乾燥時間などの条件を設定することにより、乾燥後の塗膜の残留溶媒量を調整することができる。乾燥後の塗膜の残留溶媒量は、乾燥後の塗膜の単位質量と、該塗膜を十分に乾燥した後の質量を比較することにより測定することができる。

　（残留溶媒量）
　基材フィルムは、基材フィルム用溶液を塗布して得られることから、当該溶液に由来する溶媒が残留していることがある。残留溶媒量は、使用溶媒・塗布液濃度、基材フィルムの乾燥に当てる風速、乾燥温度・時間、乾燥室の条件（外気か内気循環か）、塗布時のバックロールの加熱温度等によって制御しうる。

　前述のとおり、高速乾燥になると膜が疎になって表面状態を制御することができる。

　基材フィルムの残留溶媒量は、前記基材フィルムの残留溶媒量をＳ₁としたときに、下記式２を満たすことが、基材フィルムのカールバランスの観点から好ましい。

　式２　１０＜Ｓ₁＜１０００（ｐｐｍ）
　具体的には、基材フィルムの残留溶媒量は、８００ｐｐｍ未満であることがより好ましく、５００～７００ｐｐｍ未満であることが、基材フィルムのカールバランスを考慮するとより好ましい。また、支持体にも溶媒が残存するような溶媒・塗布プロセスを選ぶことで、支持体と基材フィルムとの密着性が向上する。支持体の残存溶媒量としては１０～１００ｐｐｍの範囲が好ましい。

　支持体及び基材フィルムの残留溶媒量は、ヘッドスペースガスクロマトグラフィーにより測定することができる。ヘッドスペースガスクロマトグラフィー法では、サンプルを容器に封入し、加熱し、容器中に揮発成分が充満した状態で速やかに容器中のガスをガスクロマトグラフに注入し、質量分析を行って化合物の同定を行いながら揮発成分を定量するものである。ヘッドスペース法では、ガスクロマトグラフにより、揮発成分の全ピークを観測することを可能にするとともに、電磁気的相互作用を利用した分析法を用いることによって、高精度で揮発性物質やモノマーなどの定量も併せて行うことができる。

　冷却部Ｂ２４０は、乾燥部Ｂ２３０で乾燥させて得られる塗膜（基材フィルムＢ１２０）を有する支持体Ｂ１１０の温度を冷却し、適切な温度に調整する。冷却部Ｂ２４０は、冷却室Ｂ２４１と、冷却風入口Ｂ２４２と、冷却風出口Ｂ２４３とを有する。冷却風の温度及び風量は、塗膜の種類及び支持体Ｂ１１０の種類により適宜決めうる。また、冷却部Ｂ２４０を設けなくても、適正な冷却温度になる場合は、冷却部Ｂ２４０はなくてもよい。

　巻き取り部Ｂ２５０は、基材フィルムＢ１２０が形成された支持体Ｂ１１０を巻き取り、ロール体Ｂ２５１を得るための巻き取り装置（不図示）である。

　〔２〕偏光板
　偏光板は、偏光子層と、その少なくとも一方の面に配置された基材フィルムとを有する。基材フィルムを形成する際に用いた支持体は、剥離しても、又剥離しなくてもよい。

　図３Ａ及び図３Ｂに本発明の偏光板の好ましい層構成について、その一例を示すがこれに限定されるものではない。

　図３Ａは、支持体付きの偏光板の断面図である。

　本発明の偏光板１０ａは、支持体１５及び基材フィルム１２側に、液晶配向層１３を介して偏光子層１４が積層される。偏光子層１４の本発明に係る基材フィルム１２側の面とは反対側の面には、必要であれば、接着層１６を介して対向フィルム１７が貼合される。対向フィルムは後述する位相差フィルムであることが好ましい。

　偏光板１０ａは、例えば、表示装置（不図示）に具備する場合、表示素子側に本発明に係る支持体１５が粘着層（不図示）を介して貼合されていてもよく、また、表示素子側に対向フィルム１７が粘着層（不図示）を介して貼合されていてもよい。

　図３Ｂは、支持体を剥離した偏光板の断面図である。

　本発明の偏光板１０ｂは、基材フィルム１２側に液晶配向層１３を介して偏光子層１４が積層される。偏光子層１４の本発明に係る基材フィルム１２側の面とは反対側の面には、必要であれば、接着層１６を介して対向フィルム１７が貼合される。

　偏光板１０ｂは、例えば、表示装置（不図示）に具備する場合、表示素子側に本発明に係る基材フィルム１２が粘着層（不図示）を介して貼合されていてもよく、また、表示素子側に対向フィルム１７が粘着層（不図示）を介して貼合されていてもよい。

　〔２．１〕偏光子層
　偏光子層は、一定方向の偏波面の光だけを通す素子である。

　本発明に係る偏光子層は、重合性液晶化合物および二色性色素を含む重合性液晶組成物を含む。

　本発明の偏光板を構成する偏光子層は、少なくとも１つの重合性基を有する重合性液晶化合物および二色性色素を含んでなる重合性液晶組成物を硬化して形成することができる。

　本発明の偏光板において、偏光子層を形成する重合性液晶組成物（以下、「重合性液晶組成物（Ａ）」ともいう）に含まれる重合性液晶化合物（以下、「重合性液晶化合物（Ａ）」ともいう）は、少なくとも１つの重合性基を有する液晶化合物である。ここで、重合性基とは、重合開始剤から発生する活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。重合性液晶化合物（Ａ）が有する重合性基としては、例えば、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、ラジカル重合性基が好ましく、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基がより好ましく、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基が好ましい。

　本発明において、重合性液晶化合物（Ａ）はスメクチック液晶性を示す化合物であることが好ましい。スメクチック液晶性を示す重合性液晶化合物を用いることにより、配向秩序度の高い偏光子層を形成することができる。重合性液晶化合物（Ａ）の示す液晶状態はスメクチック相（スメクチック液晶状態）であり、より高い配向秩序度を実現し得る観点から、高次スメクチック相（高次スメクチック液晶状態）であることがより好ましい。ここで、高次スメクチック相とは、スメクチックＢ相、スメクチックＤ相、スメクチックＥ相、スメクチックＦ相、スメクチックＧ相、スメクチックＨ相、スメクチックＩ相、スメクチックＪ相、スメクチックＫ相及びスメクチックＬ相を意味し、これらの中でも、スメクチックＢ相、スメクチックＦ相及びスメクチックＩ相がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよいが、緻密な膜厚制御が可能な点でサーモトロピック性液晶が好ましい。また、重合性液晶化合物（Ａ）はモノマーであってもよいが、重合性基が重合したオリゴマーであってもポリマーであってもよい。

　重合性液晶化合物（Ａ）としては、少なくとも１つの重合性基を有する液晶化合物であれば特に限定されず、公知の重合性液晶化合物を用いることができるが、スメクチック液晶性を示す化合物が好ましい。そのような重合性液晶化合物としては、例えば、下記式（Ａ１）で表される化合物（以下、「重合性液晶化合物（Ａ１）」ともいう）が挙げられる。

　（Ａ１）　Ｕ₁－Ｖ₁－Ｗ₁－（Ｘ₁－Ｙ₁－）_n－Ｘ₂－Ｗ₂－Ｖ₂－Ｕ₂
［式（Ａ１）中、Ｘ₁及びＸ₂は、互いに独立して、二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を表し、ここで、当該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のフルオロアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子又は硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。ただし、Ｘ₁及びＸ₂のうち少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基又は置換基を有していてもよいシクロヘキサン－１，４－ジイル基である。

　Ｙ₁は、単結合又は二価の連結基である。

　ｎは１～３であり、ｎが２以上の場合、複数のＸ₁は互いに同じであってもよいし、異なっていてもよい。Ｘ₂は、複数のＸ₁のうちのいずれか又は全てと同じであってもよいし、異なっていてもよい。また、ｎが２以上の場合、複数のＹ₁は互いに同じであってもよいし、異なっていてもよい。液晶性の観点からｎは２以上が好ましい。

　Ｕ₁は、水素原子又は重合性基を表わす。

　Ｕ₂は、重合性基を表わす。

　Ｗ₁及びＷ₂は、互いに独立して、単結合又は二価の連結基である。

　Ｖ₁及びＶ₂は、互いに独立して、置換基を有していてもよい炭素数１～２０のアルカンジイル基を表し、該アルカンジイル基を構成する－ＣＨ₂－は、－Ｏ－、－ＣＯ－、－Ｓ－又はＮＨ－に置き換わっていてもよい。］

　重合性液晶化合物（Ａ１）において、Ｘ₁及びＸ₂は、互いに独立して、好ましくは、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基、又は、置換基を有していてもよいシクロヘキサン－１，４－ジイル基であり、Ｘ₁及びＸ₂のうちの少なくとも１つは、置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基、又は、置換基を有していてもよいシクロヘキサン－１，４－ジイル基であり、トランス－シクロへキサン－１，４－ジイル基であることが好ましい。置換基を有していてもよい１，４－フェニレン基、又は、置換基を有していてもよいシクロへキサン－１，４－ジイル基が任意に有する置換基としては、メチル基、エチル基及びブチル基などの炭素数１～４のアルキル基、シアノ基及び塩素原子、フッ素原子などのハロゲン原子が挙げられる。好ましくは無置換である。

　また、重合性液晶化合物（Ａ１）は、式（Ａ１）中、式（Ａ１－１）：－（Ｘ₁－Ｙ₁－）_n－Ｘ₂－
〔式中、Ｘ₁、Ｙ₁、Ｘ₂及びｎはそれぞれ上記と同じ意味を示す。〕
で示される部分〔以下、「部分構造（Ａ１－１）」と称する。〕が非対称構造であることが、スメクチック液晶性を発現し易い点で好ましい。

　部分構造（Ａ１－１）が非対称構造である重合性液晶化合物（Ａ１）としては、例えば、ｎが１であり、１つのＸ₁とＸ₂とが互いに異なる構造である重合性液晶化合物（Ａ１）が挙げられる。また、ｎが２であり、２つのＹ₁が互いに同じ構造である化合物であって、２つのＸ₁が互いに同じ構造であり、１つのＸ₂はこれら２つのＸ₁とは異なる構造である重合性液晶化合物（Ａ１）、２つのＸ₁のうちのＷ₁に結合するＸ₁が、他方のＸ₁及びＸ₂とは異なる構造であり、他方のＸ₁とＸ₂とは互いに同じ構造である重合性液晶化合物（Ａ１）も挙げられる。さらに、ｎが３であり、３つのＹ₁が互いに同じ構造である化合物であって、３つのＸ₁及び１つのＸ₂のうちのいずれか１つが他の３つの全てと異なる構造である重合性液晶化合物（Ａ１）が挙げられる。

　Ｙ₁は、－ＣＨ₂ＣＨ₂－、－ＣＨ₂Ｏ－、－ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ－、－ＣＯＯ－、－ＯＣＯＯ－、単結合、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲａ＝ＣＲｂ－、－Ｃ≡Ｃ－、－ＣＲａ＝Ｎ－又はＣＯ－ＮＲａ－が好ましい。Ｒａ及びＲｂは、互いに独立して、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表わす。Ｙ₁は、－ＣＨ₂ＣＨ₂－、－ＣＯＯ－又は単結合であることがより好ましく、複数のＹ₁が存在する場合、Ｘ₂と結合するＹ₁は、－ＣＨ₂ＣＨ₂－又はＣＨ₂Ｏ－であることがより好ましい。Ｘ₁及びＸ₂が全て同一構造である場合、互いに異なる結合方式である２以上のＹ₁が存在することが好ましい。互いに異なる結合方式である複数のＹ₁が存在する場合には、非対称構造となるため、スメクチック液晶性が発現しやすい傾向にある。

　Ｕ₂は、重合性基である。Ｕ₁は、水素原子又は重合性基であり、好ましくは重合性基である。Ｕ₁及びＵ₂がともに重合性基であることが好ましく、ともにラジカル重合性基であることが好ましい。重合性基としては、重合性液晶化合物（Ａ）が有する重合性基として先に例示した基と同様のものが挙げられる。Ｕ₁で示される重合性基とＵ₂で示される重合性基とは、互いに異なっていてもよいが、同じ種類の基であることが好ましい。また、重合性基は重合している状態であってもよいし、未重合の状態であってもよいが、好ましくは未重合の状態である。

　Ｖ₁及びＶ₂で表されるアルカンジイル基としては、メチレン基、エチレン基、プロパン－１，３－ジイル基、ブタン－１，３－ジイル基、ブタン－１，４－ジイル基、ペンタン－１，５－ジイル基、ヘキサン－１，６－ジイル基、ヘプタン－１，７－ジイル基、オクタン－１，８－ジイル基、デカン－１，１０－ジイル基、テトラデカン－１，１４－ジイル基及びイコサン－１，２０－ジイル基等が挙げられる。Ｖ₁及びＶ₂は、好ましくは炭素数２～１２のアルカンジイル基であり、より好ましくは炭素数６～１２のアルカンジイル基である。

　当該アルカンジイル基が任意に有する置換基としては、シアノ基及びハロゲン原子等が挙げられるが、該アルカンジイル基は、無置換であることが好ましく、無置換の直鎖状アルカンジイル基であることがより好ましい。

　Ｗ₁及びＷ₂は、互いに独立に、単結合、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＣＯＯ－又はＯＣＯＯ－が好ましく、単結合又はＯ－がより好ましい。

　重合性液晶化合物（Ａ）としては、少なくとも１つの重合性基を有する重合性液晶化合物であれば特に限定されず、公知の重合性液晶化合物を用いることができるが、スメクチック液晶性を示すことが好ましく、スメクチック液晶性を示しやすい構造としては、分子構造中に非対称性の分子構造を有することが好ましく、具体的には以下（Ａ－ａ）～（Ａ－ｉ）の部分構造を有する重合性液晶化合物であってスメクチック液晶性を示す重合性液晶化合物であることがより好ましい。高次スメクチック液晶性を示しやすいという観点から（Ａ－ａ）、（Ａ－ｂ）又は（Ａ－ｃ）の部分構造を有することがより好ましい。なお、下記（Ａ－ａ）～（Ａ－ｉ）において、＊は結合手（単結合）を表す。

　重合性液晶化合物（Ａ）としては、具体的には例えば、下記（Ａ－１）～（Ａ－２５）で表される化合物が挙げられる。重合性液晶化合物（Ａ）がシクロヘキサン－１，４－ジイル基を有する場合、そのシクロヘキサン－１，４－ジイル基は、トランス体であることが好ましい。

　これらの中でも、（Ａ－２）、（Ａ－３）、（Ａ－４）、（Ａ－５）、（Ａ－６）、（Ａ－７）、（Ａ－８）、（Ａ－１３）、（Ａ－１４）、（Ａ－１５）、（Ａ－１６）及び（Ａ－１７）で表される化合物からなる群より選ばれる少なくとも１種が好ましい。重合性液晶化合物（Ａ）として、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　重合性液晶化合物（Ａ）は、例えば、Ｌｕｂ等、Ｒｅｃｌ．Ｔｒａｖ．Ｃｈｉｍ．Ｐａｙｓ－Ｂａｓ、１１５、３２１－３２８（１９９６）、又は特許第４７１９１５６号公報などに記載の公知の方法で製造できる。

　本発明において、重合性液晶組成物（Ａ）は、重合性液晶化合物（Ａ）以外の他の重合性液晶化合物を含んでいてもよいが、配向秩序度の高い偏光膜を得る観点から、重合性液晶組成物（Ａ）に含まれる全重合性液晶化合物の総質量に対する重合性液晶化合物（Ａ）の割合は、好ましくは５１質量％以上であり、より好ましくは７０質量％以上であり、さらに好ましくは９０質量％以上である。

　また、重合性液晶組成物（Ａ）が２種以上の重合性液晶化合物（Ａ）を含む場合、そのうちの少なくとも１種が重合性液晶化合物（Ａ１）であってもよく、その全てが重合性液晶化合物（Ａ１）であってもよい。複数の重合性液晶化合物を組み合わせることにより、液晶－結晶相転移温度以下の温度でも一時的に液晶性を保持することができる場合がある。

　重合性液晶組成物（Ａ）における重合性液晶化合物の含有量は、重合性液晶組成物（Ａ）の固形分に対して、好ましくは４０～９９．９質量％の範囲であり、より好ましくは６０～９９質量％の範囲であり、さらに好ましくは７０～９９質量％の範囲である。重合性液晶化合物の含有量が上記範囲内であると、重合性液晶化合物の配向性が高くなる傾向がある。なお、本明細書において、重合性液晶組成物（Ａ）の固形分とは、重合性液晶組成物（Ａ）から溶剤を除いた成分の合計量をいう。

　本発明において、偏光子層を形成する重合性液晶組成物（Ａ）は二色性色素を含んでなる。ここで、二色性色素とは、分子の長軸方向における吸光度と、短軸方向における吸光度とが異なる性質を有する色素を意味する。本発明において用い得る二色性色素は、上記性質を有するものであれば特に制限されず、染料であっても、顔料であってもよい。また、２種以上の染料又は顔料をそれぞれ組み合わせて用いてもよいし、染料と顔料とを組み合わせて用いてもよい。

　二色性色素としては、有機二色性色素が好ましく、３００～７００ｎｍの範囲に極大吸収波長（λＭＡＸ）を有するものがより好ましい。このような二色性色素としては、例えば、アクリジン色素、オキサジン色素、シアニン色素、ナフタレン色素、アゾ色素及びアントラキノン色素等が挙げられる。

　アゾ色素としては、モノアゾ色素、ビスアゾ色素、トリスアゾ色素、テトラキスアゾ色素及びスチルベンアゾ色素等が挙げられ、ビスアゾ色素及びトリスアゾ色素が好ましく、例えば、式（Ｉ）で表される化合物（以下、「化合物（Ｉ）」ともいう。）が挙げられる。

　式（Ｉ）　Ｋ₁（－Ｎ＝Ｎ－Ｋ₂）_p－Ｎ＝Ｎ－Ｋ₃
［式（Ｉ）中、Ｋ₁及びＫ₃は、互いに独立に、置換基を有していてもよいフェニル基、置換基を有していてもよいナフチル基又は置換基を有していてもよい１価の複素環基を表わす。Ｋ₂は、置換基を有していてもよいｐ－フェニレン基、置換基を有していてもよいナフタレン－１，４－ジイル基又は置換基を有していてもよい二価の複素環基を表わす。ｐは１～４の整数を表わす。ｐが２以上の整数である場合、複数のＫ₂は互いに同一でも異なっていてもよい。可視域に吸収を示す範囲で－Ｎ＝Ｎ－結合が－Ｃ＝Ｃ－、－ＣＯＯ－、－ＮＨＣＯ－、－Ｎ＝ＣＨ－結合に置き換わっていてもよい。］

　１価の複素環基としては、例えば、キノリン、チアゾール、ベンゾチアゾール、チエノチアゾール、イミダゾール、ベンゾイミダゾール、オキサゾール、ベンゾオキサゾールなどの複素環化合物から１個の水素原子を除いた基が挙げられる。二価の複素環基としては、前記複素環化合物から２個の水素原子を除いた基が挙げられる。

　Ｋ₁及びＫ₃におけるフェニル基、ナフチル基及び１価の複素環基、並びにＫ₂におけるｐ－フェニレン基、ナフタレン－１，４－ジイル基及び二価の複素環基が任意に有する置換基としては、炭素数１～４のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ブトキシ基などの炭素数１～４のアルコキシ基；トリフルオロメチル基などの炭素数１～４のフッ化アルキル基；シアノ基；ニトロ基；ハロゲン原子；アミノ基、ジエチルアミノ基、ピロリジノ基などの置換又は無置換アミノ基（置換アミノ基とは、炭素数１～６のアルキル基を１つ又は２つ有するアミノ基、又は２つの置換アルキル基が互いに結合して炭素数２～８のアルカンジイル基を形成しているアミノ基を意味する。無置換アミノ基は－ＮＨ₂である。）等が挙げられる。

　化合物（Ｉ）の中でも、以下の式（Ｉ－１）～式（Ｉ－８）のいずれかで表される化合物が好ましい。

［式（Ｉ－１）～（Ｉ－８）中、Ｂ¹～Ｂ³⁰は、互いに独立して、水素原子、炭素数１～６のアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基、ニトロ基、置換又は無置換のアミノ基（置換アミノ基及び無置換アミノ基の定義は前記のとおり）、塩素原子又はトリフルオロメチル基を表わす。

　ｎ１～ｎ４は、互いに独立に０～３の整数を表わす。

　ｎ１が２以上である場合、複数のＢ²は互いに同一でも異なっていてもよく、
　ｎ２が２以上である場合、複数のＢ⁶は互いに同一でも異なっていてもよく、
　ｎ３が２以上である場合、複数のＢ⁹は互いに同一でも異なっていてもよく、
　ｎ４が２以上である場合、複数のＢ¹⁴は互いに同一でも異なっていてもよい。］
　前記アントラキノン色素としては、式（Ｉ－９）で表される化合物が好ましい。

［式（Ｉ－９）中、Ｒ¹～Ｒ⁸は、互いに独立して、水素原子、－Ｒ^x、－ＮＨ₂、－ＮＨＲ^x、－ＮＲ^x ₂、－ＳＲ^x又はハロゲン原子を表わす。Ｒ^xは、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数６～１２のアリール基を表わす。］
　前記オキサゾン色素としては、式（Ｉ－１０）で表される化合物が好ましい。

［式（Ｉ－１０）中、Ｒ⁹～Ｒ¹⁵は、互いに独立して、水素原子、－Ｒ^x、－ＮＨ₂、－ＮＨＲ^x、－ＮＲ^x ₂、－ＳＲ^x又はハロゲン原子を表わす。Ｒ^xは、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数６～１２のアリール基を表わす。］
　前記アクリジン色素としては、式（Ｉ－１１）で表される化合物が好ましい。

［式（Ｉ－１１）中、Ｒ¹⁶～Ｒ²³は、互いに独立して、水素原子、－Ｒ^x、－ＮＨ₂、－ＮＨＲ^x、－ＮＲ^x ₂、－ＳＲ^x又はハロゲン原子を表わす。Ｒ^xは、炭素数１～４のアルキル基又は炭素数６～１２のアリール基を表わす。］
　式（Ｉ－９）、式（Ｉ－１０）及び式（Ｉ－１１）において、Ｒ^xの炭素数１～６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基及びヘキシル基等が挙げられ、炭素数６～１２のアリール基としては、フェニル基、トルイル基、キシリル基及びナフチル基等が挙げられる。

　前記シアニン色素としては、式（Ｉ－１２）で表される化合物及び式（Ｉ－１３）で表される化合物が好ましい。

［式（Ｉ－１２）中、Ｄ¹及びＤ²は、互いに独立に、式（Ｉ－１２ａ）～式（Ｉ－１２ｄ）のいずれかで表される基を表わす。ｎ５は１～３の整数を表わす。］

［式（Ｉ－１３）中、Ｄ³及びＤ⁴は、互いに独立に、式（Ｉ－１３ａ）～式（１－１３ｈ）のいずれかで表される基を表わす。ｎ６は１～３の整数を表わす。］

　これらの二色性色素の中でも、アゾ色素は直線性が高いため偏光性能に優れる偏光子層の作製に好適であり、したがって偏光子層を形成する重合性液晶組成物に含まれる二色性色素は、好ましくはアゾ色素である。

　本発明において、二色性色素の重量平均分子量は、通常、３００～２０００の範囲であり、好ましくは４００～１０００の範囲である。

　重合性液晶組成物（Ａ）における二色性色素の含有量は、用いる二色性色素の種類などに応じて適宜決定し得るが、重合性液晶化合物１００質量部に対して、好ましくは０．１～５０質量部の範囲であり、より好ましくは０．１～２０質量部の範囲であり、さらに好ましくは０．１～１２質量部の範囲である。二色性色素の含有量が、上記範囲内であると、重合性液晶化合物の配向を乱し難く、高い配向秩序度を有する偏光子層を得ることができる。

　本発明において、偏光子層を形成するための重合性液晶組成物（Ａ）は、重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤は、重合性液晶化合物の重合反応を開始し得る化合物であり、より低温条件下で、重合反応を開始できる点で、光重合開始剤が好ましい。具体的には、光の作用により活性ラジカル又は酸を発生できる光重合開始剤が挙げられ、中でも、光の作用によりラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。重合開始剤は単独又は二種以上組み合わせて使用できる。

　光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を用いることができ、例えば、活性ラジカルを発生する光重合開始剤としては、自己開裂型の光重合開始剤、水素引き抜き型の光重合開始剤がある。

　自己開裂型の光重合開始剤として、自己開裂型のベンゾイン系化合物、アセトフェノン系化合物、ヒドロキシアセトフェノン系化合物、α－アミノアセトフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物、アシルホスフィンオキサイド系化合物、アゾ系化合物等を使用できる。また、水素引き抜き型光重合開始剤として、水素引き抜き型のベンゾフェノン系化合物、ベンゾインエーテル系化合物、ベンジルケタール系化合物、ジベンゾスベロン系化合物、アントラキノン系化合物、キサントン系化合物、チオキサントン系化合物、ハロゲノアセトフェノン系化合物、ジアルコキシアセトフェノン系化合物、ハロゲノビスイミダゾール系化合物、ハロゲノトリアジン系化合物、トリアジン系化合物等を使用できる。

　酸を発生する光重合開始剤としては、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩等を使用できる。

　この中でも、色素の溶解を防ぐ観点から低温での反応が好ましく、低温での反応効率の観点から自己開裂型の光重合開始剤が好ましく、特にアセトフェノン系化合物、ヒドロキシアセトフェノン系化合物、α－アミノアセトフェノン系化合物、オキシムエステル系化合物が好ましい。

　光重合開始剤としては、具体的には例えば、以下のものが挙げられる。

　ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル及びベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン系化合物；
　２－ヒドロキシ－２－メチル－１－フェニルプロパン－１－オン、１，２－ジフェニル－２，２－ジメトキシエタン－１－オン、２－ヒドロキシ－２－メチル－１－〔４－（２－ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン－１－オン、１－ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン及び２－ヒドロキシ－２－メチル－１－〔４－（１－メチルビニル）フェニル〕プロパン－１－オンのオリゴマー等のヒドロキシアセトフェノン系化合物；
　２－メチル－２－モルホリノ－１－（４－メチルチオフェニル）プロパン－１－オン、２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン等のα－アミノアセトフェノン系化合物；

　１，２－オクタンジオン，１－［４－（フェニルチオ）－，２－（Ｏ－ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１－［９－エチル－６－（２－メチルベンゾイル）－９Ｈ－カルバゾール－３－イル］－，１－（Ｏ－アセチルオキシム）等のオキシムエステル系化合物；　２，４，６－トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド及びビス（２，４，６－トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド等のアシルホスフィンオキサイド系化合物；

　ベンゾフェノン、ｏ－ベンゾイル安息香酸メチル、４－フェニルベンゾフェノン、４－ベンゾイル－４’－メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’－テトラ（ｔｅｒｔ－ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン及び２，４，６－トリメチルベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；

　ジエトキシアセトフェノンなどのジアルコキシアセトフェノン系化合物；
　２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシフェニル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシナフチル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－（４－メトキシスチリル）－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチ＿ル）－６－〔２－（５－メチルフラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（フラン－２－イル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン、２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（４－ジエチルアミノ－２－メチルフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン及び２，４－ビス（トリクロロメチル）－６－〔２－（３，４－ジメトキシフェニル）エテニル〕－１，３，５－トリアジン等のトリアジン系化合物。光重合開始剤は、例えば上記の光重合開始剤から重合性液晶組成物（Ａ）に含まれる重合性液晶化合物との関係において適宜選択すればよい。

　また、市販の光重合開始剤を用いてもよい。市販の光重合開始剤としては、イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）（登録商標）９０７、１８４、６５１、８１９、２５０、及び３６９、３７９、１２７、７５４、ＯＸＥ０１、ＯＸＥ０２、ＯＸＥ０３（以上、ＢＡＳＦ社製）；Ｏｍｎｉｒａｄ　ＢＣＩＭ、Ｅｓａｃｕｒｅ　１００１Ｍ、Ｅｓａｃｕｒｅ　ＫＩＰ１６０（以上、ＩＤＭ　Ｒｅｓｉｎｓ　Ｂ．Ｖ．社製）；セイクオール（登録商標）ＢＺ、Ｚ、及びＢＥＥ（以上、精工化学株式会社製）；カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）（登録商標）ＢＰ１００、及びＵＶＩ－６９９２（以上、ダウ・ケミカル株式会社製）；アデカオプトマーＳＰ－１５２、Ｎ－１７１７、Ｎ－１９１９、ＳＰ－１７０、アデカアークルズＮＣＩ－８３１、アデカアークルズＮＣＩ－９３０（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）；ＴＡＺ－Ａ、及びＴＡＺ－ＰＰ（以上、日本シイベルヘグナー株式会社製）；並びに、ＴＡＺ－１０４（株式会社三和ケミカル製）；等が挙げられる。

　偏光子層を形成するための重合性液晶組成物（Ａ）における重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して好ましくは１～１０質量部の範囲であり、より好ましくは１～８質量部の範囲、さらに好ましくは２～８質量部の範囲、特に好ましくは４～８質量部の範囲である。重合開始剤の含有量が上記上限下限値内であると、重合性液晶化合物の配向を大きく乱すことなく、重合性液晶化合物の重合反応を行うことができる。

　また、本発明中の重合性液晶化合物の重合率は、製造時のライン汚染や取扱いの観点から、６０％以上であることが好ましく、６５％以上がより好ましく、７０％以上がさらに好ましい。

　重合性液晶組成物（Ａ）は光増感剤をさらに含有していてもよい。光増感剤を用いることにより重合性液晶化合物の重合反応をより促進させることができる。光増感剤としては、キサントン、チオキサントンなどのキサントン化合物（例えば、２，４－ジエチルチオキサントン、２－イソプロピルチオキサントンなど）；アントラセン、アルコキシ基含有アントラセン（例えば、ジブトキシアントラセンなど）などのアントラセン化合物；フェノチアジン及びルブレン等が挙げられる。光増感剤は単独又は２種以上組み合わせて使用できる。

　重合性液晶組成物（Ａ）が光増感剤を含む場合、その含有量は、重合開始剤及び重合性液晶化合物の種類及びその量に応じて適宜決定すればよいが、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．１～３０質量部の範囲が好ましく、０．５～１０質量部の範囲がより好ましく、０．５～８質量部の範囲がさらに好ましい。

　また、重合性液晶組成物（Ａ）はレベリング剤を含んでいてもよい。レベリング剤は、重合性液晶組成物の流動性を調整し、該重合性液晶組成物を塗布することにより得られる塗膜をより平坦にする機能を有し、具体的には、界面活性剤が挙げられる。重合性液晶組成物（Ａ）におけるレベリング剤としては、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤及びフッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤からなる群から選ばれる少なくとも１種が好ましい。レベリング剤は単独又は２種以上を組み合わせて使用できる。

　ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤としては、例えば、“ＢＹＫ－３５０”、“ＢＹＫ－３５２”、“ＢＹＫ－３５３”、“ＢＹＫ－３５４”、“ＢＹＫ－３５５”、“ＢＹＫ－３５８Ｎ”、“ＢＹＫ－３６１Ｎ”、“ＢＹＫ－３８０”、“ＢＹＫ－３８１”及び“ＢＹＫ－３９２”（以上、ＢＹＫ　Ｃｈｅｍｉｅ社）が挙げられる。

　フッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤としては、例えば、“メガファック（登録商標）Ｒ－０８”、同“Ｒ－３０”、同“Ｒ－９０”、同“Ｆ－４１０”、同“Ｆ－４１１”、同“Ｆ－４４３”、同“Ｆ－４４５”、同“Ｆ－４７０”、同“Ｆ－４７１”、同“Ｆ－４７７”、同“Ｆ－４７９”、同“Ｆ－４８２”及び同“Ｆ－４８３”（ＤＩＣ（株））；“サーフロン（登録商標）Ｓ－３８１”、同“Ｓ－３８２”、同“Ｓ－３８３”、同“Ｓ－３９３”、同“ＳＣ－１０１”、同“ＳＣ－１０５”、“ＫＨ－４０”及び“ＳＡ－１００”（以上、ＡＧＣセイミケミカル（株））；“Ｅ１８３０”、“Ｅ５８４４”（（株）ダイキンファインケミカル研究所）；“エフトップＥＦ３０１”、“エフトップＥＦ３０３”、“エフトップＥＦ３５１”及び“エフトップＥＦ３５２”（以上、三菱マテリアル電子化成（株））が挙げられる。

　重合性液晶組成物（Ａ）がレベリング剤を含有する場合、その含有量は、重合性液晶化合物１００質量部に対して、０．０５～５質量部の範囲が好ましく、０．０５～３質量部の範囲がより好ましい。レベリング剤の含有量が前記範囲内であると、重合性液晶化合物を水平配向させやすく、かつ、ムラが生じ難く、より平滑な偏光子層を得られる傾向がある。

　重合性液晶組成物（Ａ）は、光増感剤及びレベリング剤以外の他の添加剤を含有してよい。他の添加剤としては、例えば、酸化防止剤、離型剤、安定剤、ブルーイング剤等の着色剤、難燃剤及び滑剤などが挙げられる。重合性液晶組成物（Ａ）が他の添加剤を含有する場合、他の添加剤の含有量は、重合性液晶組成物（Ａ）の固形分に対して、０％を超えて２０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは０％を超えて１０質量％以下である。

　重合性液晶組成物（Ａ）は、従来公知の重合性液晶組成物（Ａ）の調製方法により製造することができ、通常、重合性液晶化合物および二色性色素、並びに、必要に応じて重合開始剤及び上述の添加剤等を混合、撹拌することにより調製することができる。

　本発明の偏光板において、偏光子層は配向秩序度の高い偏光子層であることが好ましい。配向秩序度の高い偏光子層は、Ｘ線回折測定においてヘキサチック相やクリスタル相といった高次構造由来のブラッグピークが得られる。ブラッグピークとは、分子配向の面周期構造に由来するピークを意味する。したがって、本発明の偏光板を構成する偏光子層はＸ線回折測定においてブラッグピークを示すことが好ましい。すなわち、本発明の偏光板を構成する偏光子層においては、重合性液晶化合物又はその重合体が、Ｘ線回折測定において該偏光子層がブラッグピークを示すように配向していることが好ましく、光を吸収する方向に重合性液晶化合物の分子が配向する「水平配向」であることがより好ましい。本発明においては分子配向の面周期間隔が３．０～６．０Åの範囲である偏光子層が好ましい。ブラッグピークを示すような高い配向秩序度は、用いる重合性液晶化合物の種類、二色性色素の種類やその量、及び重合開始剤の種類やその量等を制御することにより実現し得る。

　本発明において、偏光子層の厚さは適用される表示装置に応じて適宜選択でき、好ましくは０．１～５μｍの範囲の膜であり、より好ましくは０．３～４μｍの範囲であり、さらに好ましくは０．５～３μｍの範囲である。厚さがこの範囲よりも薄くなりすぎると、必要な光吸収が得られない場合があり、かつ、厚さがこの範囲よりも厚くなりすぎると、液晶配向層による配向規制力が低下し、配向欠陥を生じやすい傾向にある。

　また、偏光子層は液晶配向層を介して基材上に積層されることが、液晶配向度を上げる観点から好ましい。液晶配向層としては、配向角の精度及び品質、並びに、液晶配向層を含む偏光板の耐水性及び屈曲性等の観点から光液晶配向層が好ましい。液晶配向層を含む場合、液晶配向層の厚さは、好ましくは１０～５０００ｎｍの範囲であり、より好ましくは１０～１０００ｎｍの範囲である。

　本発明の偏光板は、重合性基を有する重合性液晶化合物および二色性色素を含む重合性液晶組成物（Ａ）の塗膜を形成し、前記塗膜から溶剤を除去し、次いで、重合性液晶化合物が液体相に相転移する温度以上まで昇温した後降温して、該重合性液晶化合物をスメクチック相に相転移させ、該スメクチック相を保持したまま重合性液晶化合物を重合させて偏光子層を得ること（以下、「偏光子層形成工程」ともいう）により製造することができる。

　偏光子層形成工程において、重合性液晶組成物（Ａ）の塗膜の形成は、本発明に係る基材フィルム上に直接又は後述する液晶配向層を介して重合性液晶組成物（Ａ）を塗布することにより行うことができる。一般にスメクチック液晶性を示す化合物は粘度が高いため、重合性液晶組成物（Ａ）の塗布性を向上させて偏光子層の形成を容易にする観点から、重合性液晶組成物（Ａ）に溶媒を加えることにより粘度調整を行ってもよい（以下、重合性液晶組成物に溶媒を加えた組成物を「偏光子層形成用組成物」ともいう）。

　偏光子層形成用組成物に用いる溶媒は、用いる重合性液晶化合物および二色性色素の溶解性等に応じて適宜選択することができる。具体的には例えば、水、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶媒、酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ－ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶媒、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒、ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶媒、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒、アセトニトリル等のニトリル溶媒、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒、及び、クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素化炭化水素溶媒などが挙げられる。これらの溶媒は、単独又は２種以上組み合わせて使用できる。溶媒の含有量は、重合性液晶組成物（Ａ）を構成する固形成分１００質量部に対して、好ましくは１００～１９００質量部の範囲であり、より好ましくは１５０～９００質量部の範囲であり、さらに好ましくは１８０～６００質量部の範囲である。

　偏光子層形成用組成物を基材等に塗布する方法としては、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法、アプリケータ法などの塗布法、フレキソ法などの印刷法などの公知の方法が挙げられる。

　次いで、偏光子層形成用組成物から得られた塗膜中に含まれる重合性液晶化合物が重合しない条件で、溶媒を乾燥等により除去することにより、乾燥塗膜が形成される。乾燥方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥及び減圧乾燥法等が挙げられる。

　さらに、重合性液晶化合物を液体相に相転移させるため、重合性液晶化合物が液体相に相転移する温度以上まで昇温した後降温し、該重合性液晶化合物をスメクチック相（スメクチック液晶状態）に相転移させる。かかる相転移は、前記塗膜中の溶媒除去後に行ってもよいし、溶媒の除去と同時に行ってもよい。

　重合性液晶化合物のスメクチック液晶状態を保持したまま、重合性液晶化合物を重合させることにより、重合性液晶組成物の硬化層として偏光子層が形成される。重合方法としては光重合法が好ましい。光重合において、乾燥塗膜に照射する光としては、当該乾燥塗膜に含まれる重合性液晶化合物の種類（特に、該重合性液晶化合物が有する重合性基の種類）、重合開始剤の種類及びそれらの量等に応じて適宜選択される。その具体例としては、可視光、紫外光、赤外光、Ｘ線、α線、β線及びγ線からなる群より選択される１種以上の活性エネルギー線や活性電子線が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点や、光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって、光重合可能なように、重合性液晶組成物に含有される重合性液晶化合物や重合開始剤の種類を選択しておくことが好ましい。また、重合時に、適切な冷却手段により乾燥塗膜を冷却しながら、光照射することで、重合温度を制御することもできる。このような冷却手段の採用により、より低温で重合性液晶化合物の重合を実施すれば、比較的耐熱性が低い基材を用いたとしても、適切に偏光子層を形成できる。光重合の際、マスキングや現像を行うなどによって、パターニングされた偏光子層を得ることもできる。

　前記活性エネルギー線の光源としては、例えば、低圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０～４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプ等が挙げられる。

　紫外線照射強度は、通常、１０～３０００ｍＷ／ｃｍ²の範囲である。紫外線照射強度は、好ましくは重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。光を照射する時間は、通常０．１秒～１０分の範囲であり、好ましくは１秒～５分の範囲、より好ましくは５秒～３分の範囲、さらに好ましくは１０秒～１分の範囲である。このような紫外線照射強度で１回又は複数回照射すると、その積算光量は、１０～３，０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲、好ましくは５０～２，０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲、より好ましくは１００～１，０００ｍＪ／ｃｍ²の範囲である。

　光重合を行うことにより、重合性液晶化合物は、スメクチック相、好ましくは高次のスメクチック相の液晶状態を保持したまま重合し、偏光子層が形成される。重合性液晶化合物がスメクチック相の液晶状態を保持したまま重合して得られる偏光子層は、前記二色性色素の作用にも伴い、従来のホストゲスト型偏光板、すなわち、ネマチック相の液晶状態からなる偏光子層と比較して、偏光性能が高いという利点がある。さらに、二色性色素やリオトロピック液晶のみを塗布したものと比較して、強度に優れるという利点もある。

　本発明において偏光子層は、液晶配向層を介して形成されることが好ましい。該液晶配向層は、重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものである。液晶配向層としては、重合性液晶化合物を含有する組成物の塗布等により溶解しない溶媒耐性を有し、また、溶媒の除去や重合性液晶化合物の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。本発明において、液晶配向層としては、配向角の精度及び品質、並びに、液晶配向層を含む偏光板の耐水性及び屈曲性等の観点から光液晶配向層が好ましい。光液晶配向層は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点でも有利である。

　光液晶配向層は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む組成物（以下、「光液晶配向層形成用組成物」ともいう）を基材に塗布し、偏光（好ましくは、「偏光ＵＶ」）を照射することで得られる。

　光反応性基とは、光照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光照射により生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応もしくは光分解反応等の液晶配向能の起源となる光反応に関与する基が挙げられる。中でも、二量化反応又は光架橋反応に関与する基が、配向性に優れる点で好ましい。光反応性基として、不飽和結合、特に二重結合を有する基が好ましく、炭素－炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素－窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素－窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）及び炭素－酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも１つを有する基が特に好ましい。

　Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾ－ル基、スチルバゾリウム基、カルコン基及びシンナモイル基等が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾンなどの構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基、及び、アゾキシベンゼン構造を有する基等が挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基等が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリ－ル基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基などの置換基を有していてもよい。

　中でも、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光液晶配向層が得られやすいという点で、シンナモイル基及びカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーとしては、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが特に好ましい。

　光液晶配向層形成用組成物を基材上に塗布することにより、基材上に光配向誘起層を形成することができる。該組成物に含まれる溶剤としては、偏光子層を形成する際に用い得る溶剤として先に例示した溶剤と同様のものが挙げられ、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの溶解性に応じて適宜選択することができる。

　光液晶配向層形成用組成物中の光反応性基を有するポリマー又はモノマーの含有量は、ポリマー又はモノマーの種類や目的とする光液晶配向層の厚さによって適宜調節できるが、光液晶配向層形成用組成物の質量に対して、少なくとも０．２質量％とすることが好ましく、０．３～１０質量％の範囲がより好ましい。光液晶配向層の特性が著しく損なわれない範囲で、光液晶配向層形成用組成物は、ポリビニルアルコ－ルやポリイミドなどの高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。

　光液晶配向層形成用組成物を基材上に塗布する方法、及び、塗布された光液晶配向層形成用組成物から溶剤を除去する方法としては、偏光子層形成用組成物を基材に塗布する方法及び溶剤を除去する方法と同様の方法が挙げられる。

　偏光ＵＶの照射は、基板上に塗布された光液晶配向層形成用組成物から溶剤を除去したものに直接偏光ＵＶを照射する形式でも、基材側から偏光ＵＶを照射し、偏光ＵＶを透過させて照射する形式でもよい。また、当該偏光ＵＶは、実質的に平行光であると特に好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長２５０～４００ｎｍの範囲のＵＶ（紫外線）が特に好ましい。当該偏光ＵＶ照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦなどの紫外光レーザーなどが挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプがより好ましい。これらの中でも、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ及びメタルハライドランプが、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。前記光源からの光を、適当な偏光子層を通過して照射することにより、偏光ＵＶを照射することができる。かかる偏光子層としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテーラーなどの偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子層を用いることができる。

　なお、ラビング又は偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。

　〔２．２〕偏光板の構成
　本発明は、本発明の偏光板と、他のフィルム（対向フィルム）として位相差フィルムとを備えてなる偏光板（楕円偏光板）を包含する。本発明の偏光板において前記位相差フィルムは、
　式Ｘ　１００≦Ｒｏ（５５０）≦１８０
〔式中、Ｒｏ（５５０）は波長５５０ｎｍにおける面内位相差値を表す〕
を満たすことが好ましい。位相差フィルムが上記式Ｘで表される面内位相差値を有すると、いわゆるλ／４板として機能する。光学性能の観点から、前記式Ｘは、好ましくは１００ｎｍ≦Ｒｏ（５５０）≦１８０ｎｍ、さらに好ましくは１２０ｎｍ≦Ｒｏ（５５０）≦１６０ｎｍである。

　本発明の偏光板において、前記位相差フィルムの遅相軸と偏光板の吸収軸との成す角度は、好ましくは実質的に４５°である。なお、本発明において「実質的に４５°」とは、４５°±５°を意味する。

　さらに、前記位相差フィルムが、
　式Ｙ　Ｒｏ（４５０）／Ｒｏ（５５０）＜１
〔式中、Ｒｏ（４５０）及びＲｏ（５５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ及び５５０ｎｍにおける面内位相差値を表す〕
を満たすことが好ましい。上記式Ｙを満たす位相差フィルムは、いわゆる逆波長分散性を有し、優れた偏光性能を示す。Ｒｏ（４５０）／Ｒｏ（５５０）の値は、好ましくは０．９３以下であり、より好ましくは０．８８以下、さらに好ましくは０．８６以下、好ましくは０．８０以上、より好ましくは０．８２以上である。

　前記位相差フィルムは、ポリマーを延伸することによって位相差を与える延伸フィルムであってもよいが、偏光板の薄型化の観点から、重合性液晶化合物の重合体を含む重合性液晶組成物（以下、「重合性液晶組成物（Ｂ）」ともいう）から構成されることが好ましい。

　図４は、位相差フィルムが重合性液晶化合物の重合体を含む重合性液晶組成物によって構成されている偏光板の一例を示す断面図である。

　位相差フィルム付き偏光板３０は、本発明に係る基材フィルム１２、液晶配向層１３及び偏光子層１４で構成されるユニットと、支持体１５、液晶配向層１３及び重合性液晶化合物含有層１８で構成される位相差フィルムユニットを接着剤層１６を介して貼合した構成である。なお、偏光子層１４に隣接してバリア層（不図示）を形成してもよい。

　前記位相差フィルムにおいて重合性液晶化合物は、通常、配向した状態において重合している。位相差フィルムを形成する重合性液晶化合物（以下、「重合性液晶化合物（Ｂ）」ともいう）は、重合性官能基、特に光重合性官能基を有する液晶化合物を意味する。光重合性官能基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸などによって重合反応に関与し得る基のことをいう。光重合性官能基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられる。中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック性液晶でもよく、相秩序構造としてはネマチック液晶でもスメクチック液晶でもよい。重合性液晶化合物として、１種のみを用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。

　重合性液晶化合物（Ｂ）としては、成膜の容易性及び前記式（Ｙ）で表される位相差性を付与するという観点から、下記（ア）～（エ）の特徴を有する化合物であることが好ましい。

　（ア）サーモトロピック液晶性を有する化合物である。
　（イ）該重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）上にπ電子を有する。
　（ウ）長軸方向（ａ）に対して交差する方向〔交差方向（ｂ）〕上にπ電子を有する。
　（エ）長軸方向（ａ）に存在するπ電子の合計をＮ（πａ）、長軸方向に存在する分子量の合計をＮ（Ａａ）として下記式（ｉ）で定義される重合性液晶化合物の長軸方向（ａ）のπ電子密度：
　式（ｉ）　Ｄ（πａ）＝Ｎ（πａ）／Ｎ（Ａａ）
と、交差方向（ｂ）に存在するπ電子の合計をＮ（πｂ）、交差方向（ｂ）に存在する分子量の合計をＮ（Ａｂ）として下記式（ii）で定義される重合性液晶化合物の交差方向（ｂ）のπ電子密度：
　式（ii）　Ｄ（πｂ）＝Ｎ（πｂ）／Ｎ（Ａｂ）
とが、０≦〔Ｄ（πａ）／Ｄ（πｂ）〕≦１
の関係にある〔すなわち、交差方向（ｂ）のπ電子密度が、長軸方向（ａ）のπ電子密度よりも大きい。〕。

　なお、上記（ア）～（エ）を満たす重合性液晶化合物（Ｂ）は、例えば、ラビング処理により形成した液晶配向層上に塗布し、相転移温度以上に加熱することにより、ネマチック相を形成することが可能である。この重合性液晶化合物（Ｂ）が配向して形成されたネマチック相では通常、重合性液晶化合物の長軸方向が互いに平行になるように配向しており、この長軸方向がネマチック相の配向方向となる。

　上記特性を有する重合性液晶化合物（Ｂ）は、一般に逆波長分散性を示すものであることが多い。上記（ア）～（エ）の特性を満たす化合物として、具体的には、例えば、下記式（II）で表される化合物が挙げられる。

　前記式（II）で表される化合物は単独又は２種以上組み合わせて使用できる。

　式（II）中、Ａｒは置換基を有していてもよい二価の芳香族基を表す。ここでいう芳香族基とは、平面性を有する環状構造の基であり、該環状構造が有するπ電子数がヒュッケル則に従い［４ｎ＋２］個であるものをいう。ここで、ｎは整数を表す。－Ｎ＝や－Ｓ－等のヘテロ原子を含んで環構造を形成している場合、これらヘテロ原子上の非共有結合電子対を含めてヒュッケル則を満たし、芳香族性を有する場合も含む。該二価の芳香族基中には窒素原子、酸素原子、硫黄原子のうち少なくとも１つ以上が含まれることが好ましい。

　式（II）中、Ｇ¹及びＧ²はそれぞれ独立に、二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を表す。ここで、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１～４のアルキル基、炭素数１～４のフルオロアルキル基、炭素数１～４のアルコキシ基、シアノ基又はニトロ基に置換されていてもよく、該二価の芳香族基又は二価の脂環式炭化水素基を構成する炭素原子が、酸素原子、硫黄原子又は窒素原子に置換されていてもよい。

　式（II）中、Ｌ¹、Ｌ²、Ｂ¹及びＢ²はそれぞれ独立に、単結合又は二価の連結基である。

　式（II）中、ｋ、ｌは、それぞれ独立に０～３の整数を表し、１≦ｋ＋ｌの関係を満たす。ここで、２≦ｋ＋ｌである場合、Ｂ¹及びＢ²、Ｇ¹及びＧ²は、それぞれ互いに同一であってもよく、異なっていてもよい。

　式（II）中、Ｅ¹及びＥ²はそれぞれ独立に、炭素数１～１７のアルカンジイル基を表し、ここで、アルカンジイル基に含まれる水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよく、該アルカンジイル基に含まれる－ＣＨ₂－は、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｓｉ－で置換されていてもよい。Ｐ¹及びＰ²は互いに独立に、重合性基又は水素原子を表し、少なくとも１つは重合性基である。

　式（II）中、Ｇ¹及びＧ²は、それぞれ独立に、好ましくは、ハロゲン原子及び炭素数１～４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４－フェニレンジイル基、ハロゲン原子及び炭素数１～４のアルキル基からなる群から選ばれる少なくとも１つの置換基で置換されていてもよい１，４－シクロヘキサンジイル基であり、より好ましくはメチル基で置換された１，４－フェニレンジイル基、無置換の１，４－フェニレンジイル基、又は無置換の１，４－ｔｒａｎｓ－シクロヘキサンジイル基であり、特に好ましくは無置換の１，４－フェニレンジイル基、又は無置換の１，４－ｔｒａｎｓ－シクロへキサンジイル基である。また、複数存在するＧ¹及びＧ²のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることが好ましく、また、Ｌ¹又はＬ²に結合するＧ¹及びＧ²のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であることがより好ましい。

　式（II）中、Ｌ¹及びＬ²はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１～４のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｒ^a1ＯＲ^a2－、－Ｒ^a3ＣＯＯＲ^a4－、－Ｒ^a5ＯＣＯＲ^a6－、Ｒ^a7ＯＣ＝ＯＯＲ^a8－、－Ｎ＝Ｎ－、－ＣＲ^c＝ＣＲ^d－、又はＣ≡Ｃ－である。ここで、Ｒ^a1～Ｒ^a8はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１～４のアルキレン基を表し、Ｒ^c及びＲ^dは炭素数１～４のアルキル基又は水素原子を表す。Ｌ¹及びＬ²はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、－ＯＲ^a2-1－、－ＣＨ₂－、－ＣＨ₂ＣＨ₂－、－ＣＯＯＲ^a4-1－、又はＯＣＯＲ^a6-1－である。ここで、Ｒ^a2-1、Ｒ^a4-1、Ｒ^a6-1はそれぞれ独立に単結合、－ＣＨ₂－、－ＣＨ₂ＣＨ₂－のいずれかを表す。Ｌ¹及びＬ²はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、－Ｏ－、－ＣＨ₂ＣＨ₂－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂－、又はＯＣＯ－である。

　本発明の好適な一実施態様において、式（II）中のＧ¹及びＧ²のうち少なくとも１つは二価の脂環式炭化水素基であり、該二価の脂環式炭化水素基が、置換基を有していてもよい二価の芳香族基Ａｒと－ＣＯＯ－であるＬ¹及び／又はＬ²により結合している重合性液晶化合物が用いられる。

　式（II）中、Ｂ¹及びＢ²はそれぞれ独立に、好ましくは、単結合、炭素数１～４のアルキレン基、－Ｏ－、－Ｓ－、－Ｒ^a9ＯＲ^a10－、－Ｒ^a11ＣＯＯＲ^a12－、－Ｒ^a13ＯＣＯＲ^a14－、又はＲ^a15ＯＣ＝ＯＯＲ^a16－である。ここで、Ｒ^a9～Ｒ^a16はそれぞれ独立に単結合、又は炭素数１～４のアルキレン基を表す。Ｂ¹及びＢ²はそれぞれ独立に、より好ましくは単結合、－ＯＲ^a10-1－、－ＣＨ₂－、－ＣＨ₂ＣＨ₂－、－ＣＯＯＲ^a12-1－、又はＯＣＯＲ^a14-1－である。ここで、Ｒ^a10-1、Ｒ^a12-1、Ｒ^a14-1はそれぞれ独立に単結合、－ＣＨ₂－、－ＣＨ₂ＣＨ₂－のいずれかを表す。Ｂ¹及びＢ²はそれぞれ独立に、さらに好ましくは単結合、－Ｏ－、－ＣＨ₂ＣＨ₂－、－ＣＯＯ－、－ＣＯＯＣＨ₂ＣＨ₂－、－ＯＣＯ－、又はＯＣＯＣＨ₂ＣＨ₂－である。

　式（II）中、ｋ及びｌは、逆波長分散性発現の観点から２≦ｋ＋ｌ≦６の範囲が好ましく、ｋ＋ｌ＝４であることが好ましく、ｋ＝２かつｌ＝２であることがより好ましい。ｋ＝２かつｌ＝２であると対称構造となるためさらに好ましい。

　式（II）中、Ｅ¹及びＥ²はそれぞれ独立に、炭素数１～１７のアルカンジイル基が好ましく、炭素数４～１２のアルカンジイル基がより好ましい。

　式（II）中、Ｐ¹又はＰ²で表される重合性基としては、例えばエポキシ基、ビニル基、ビニルオキシ基、１－クロロビニル基、イソプロペニル基、４－ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、及びオキセタニル基等が挙げられる。これらの中でも、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基及びオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。

　式（II）中、Ａｒは置換基を有していてもよい芳香族炭化水素環、置換基を有していてもよい芳香族複素環、及び電子吸引性基から選ばれる少なくとも１つを有することが好ましい。当該芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられ、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましい。当該芳香族複素環としては、フラン環、ベンゾフラン環、ピロール環、インドール環、チオフェン環、ベンゾチオフェン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、トリアゾール環、トリアジン環、ピロリン環、イミダゾール環、ピラゾール環、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、チエノチアゾール環、オキサゾール環、ベンゾオキサゾール環、及びフェナンスロリン環等が挙げられる。これらの中でも、チアゾール環、ベンゾチアゾール環、又はベンゾフラン環を有することが好ましく、ベンゾチアゾール基を有することがさらに好ましい。また、Ａｒに窒素原子が含まれる場合、当該窒素原子はπ電子を有することが好ましい。

　式（II）中、Ａｒで表される二価の芳香族基に含まれるπ電子の合計数Ｎπは８以上が好ましく、より好ましくは１０以上であり、さらに好ましくは１４以上であり、特に好ましくは１６以上である。また、好ましくは３０以下であり、より好ましくは２６以下であり、さらに好ましくは２４以下である。

　Ａｒで表される芳香族基としては、例えば以下の式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）の基が挙げられる。

　式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）中、＊印は連結部を表し、Ｚ⁰、Ｚ¹及びＺ²は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１２のアルキルスルフィニル基、炭素数１～１２のアルキルスルホニル基、カルボキシル基、炭素数１～１２のフルオロアルキル基、炭素数１～６のアルコキシ基、炭素数１～１２のアルキルチオ基、炭素数１～１２のＮ－アルキルアミノ基、炭素数２～１２のＮ，Ｎ－ジアルキルアミノ基、炭素数１～１２のＮ－アルキルスルファモイル基又は炭素数２～１２のＮ，Ｎ－ジアルキルスルファモイル基を表す。

　式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）中、Ｑ¹及びＱ²は、それぞれ独立に、－ＣＲ²´Ｒ³´－、－Ｓ－、－ＮＨ－、－ＮＲ^2'－、－ＣＯ－又はＯ－を表し、Ｒ²´及びびＲ³´は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１～４のアルキル基を表す。

　式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）中、Ｊ¹及びＪ²は、それぞれ独立に、炭素原子、又は窒素原子を表す。

　式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）中、Ｙ¹、Ｙ²及びＹ³は、それぞれ独立に、置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基を表す。

　式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）中、Ｗ¹及びＷ²は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、メチル基又はハロゲン原子を表し、ｍは０～６の整数を表す。

　Ｙ¹、Ｙ²及びＹ³における芳香族炭化水素基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナンスリル基、ビフェニル基等の炭素数６～２０の芳香族炭化水素基が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。芳香族複素環基としては、フリル基、ピロリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基等の窒素原子、酸素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を少なくとも１つ含む炭素数４～２０の芳香族複素環基が挙げられ、フリル基、チエニル基、ピリジニル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基が好ましい。

　Ｙ¹及びＹ²は、それぞれ独立に、置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。多環系芳香族炭化水素基は、縮合多環系芳香族炭化水素基、又は芳香環集合に由来する基をいう。多環系芳香族複素環基は、縮合多環系芳香族複素環基、又は芳香環集合に由来する基をいう。

　式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）中、Ｚ⁰、Ｚ¹及びＺ²は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基、ニトロ基、炭素数１～１２のアルコキシ基であることが好ましく、Ｚ⁰は、水素原子、炭素数１～１２のアルキル基、シアノ基がさらに好ましく、Ｚ¹及びＺ²は、水素原子、フッ素原子、塩素原子、メチル基、シアノ基がさらに好ましい。

　式（Ａｒ－１）～式（Ａｒ－２３）中、Ｑ¹及びＱ²は、－ＮＨ－、－Ｓ－、－ＮＲ^2'－、－Ｏ－が好ましく、Ｒ^2'は水素原子が好ましい。中でも－Ｓ－、－Ｏ－、－ＮＨ－が特に好ましい。

　式（Ａｒ－１）～（Ａｒ－２３）の中でも、式（Ａｒ－６）及び式（Ａｒ－７）が分子の安定性の観点から好ましい。

　式（Ａｒ－１７）～（Ａｒ－２３）において、Ｙ¹は、これが結合する窒素原子及びＺ⁰と共に、芳香族複素環基を形成していてもよい。芳香族複素環基としては、Ａｒが有していてもよい芳香族複素環として前記したものが挙げられるが、例えば、ピロール環、イミダゾール環、ピロリン環、ピリジン環、ピラジン環、ピリミジン環、インドール環、キノリン環、イソキノリン環、プリン環、ピロリジン環等が挙げられる。この芳香族複素環基は、置換基を有していてもよい。また、Ｙ¹は、これが結合する窒素原子及びＺ⁰と共に、前述した置換されていてもよい多環系芳香族炭化水素基又は多環系芳香族複素環基であってもよい。例えば、ベンゾフラン環、ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環等が挙げられる。なお、前記式（II）で表される化合物は、例えば、特開２０１０－３１２２３号公報に記載の方法に準じて製造することができる。

　位相差フィルムを構成する重合性液晶組成物（Ｂ）中の重合性液晶化合物（Ｂ）の含有量は、重合性液晶組成物（Ｂ）の固形分１００質量部に対して、例えば７０～９９．５質量部の範囲であり、好ましくは８０～９９質量部の範囲であり、より好ましくは９０～９８質量部の範囲である。含有量が上記範囲内であると、位相差フィルムの配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、重合性液晶組成物（Ｂ）から溶剤等の揮発性成分を除いた成分の合計量のことをいう。

　重合性液晶組成物（Ｂ）は、重合性液晶化合物（Ｂ）の重合反応を開始するための重合開始剤を含んでいてもよい。重合開始剤としては、当該分野で従来用いられているものから適宜選択して用いることができ、熱重合開始剤であっても、光重合開始剤であってもよいが、より低温条件下で重合反応を開始できる点で、光重合開始剤が好ましい。好適には、重合性液晶組成物（Ａ）において使用し得る光重合開始剤として先に例示したものと同様のものが挙げられる。また、重合性液晶組成物（Ｂ）は、必要に応じて、光増感剤、レベリング剤、及び、重合性液晶組成物（Ａ）に含まれる添加剤として例示した添加剤等を含有してもよい。光増感剤及びレベリング剤としては、重合性液晶組成物（Ａ）において使用し得るものとして先に例示したものと同様のものが挙げられる。

　位相差フィルムは、例えば、重合性液晶化合物（Ｂ）及び必要に応じて重合開始剤、添加剤等を含む重合性液晶組成物（Ｂ）に溶媒を加えて混合及び撹拌することにより調製される組成物（以下、「位相差フィルム形成用組成物」ともいう）を、基材又は液晶配向層上に塗布し、乾燥により溶媒を除去し、得られた塗膜中の重合性液晶化合物（Ｂ）を加熱及び／又は活性エネルギー線によって硬化させて得ることができる。位相差フィルムの作製に用いられる基材及び／又は液晶配向層としては、本発明に係る偏光子層を作製する際に用い得るものとして先に例示したものと同様のものが挙げられる。

　位相差フィルム形成用組成物に用いる溶媒、位相差フィルム形成用組成物の塗布方法、活性エネルギー線による硬化条件等は、いずれも、本発明に係る偏光子層の作製方法において採用し得るものと同様のものが挙げられる。

　位相差フィルムの膜厚は、適用される表示装置に応じて適宜選択できるが、薄型化及び屈曲性等の観点から、０．１～１０μｍの範囲であることが好ましく、１～５μｍの範囲であることがより好ましく、１～３μｍの範囲であることがさらに好ましい。

　また、本発明の偏光板は本発明の偏光板及び位相差フィルムに加えて、さらにこれら以外の他の層（粘接着剤層等）を含んでいてもよい。本発明の偏光板は、例えば、本発明の偏光板の偏光子層と位相差フィルムとが粘接着剤層を介して貼合されていてもよい。

　本発明の偏光板の厚さは、表示装置の屈曲性や視認性の観点から、好ましくは１０～１００μｍの範囲、より好ましくは２０～８０μｍの範囲、さらに好ましくは２５～５０μｍの範囲である。

　本発明の実施形態に係る偏光板は、帯状でありうる。したがって、帯状の基材フィルム上に偏光子層を形成し、帯状の他の保護フィルム（「対向フィルム」ともいう。）とが、それぞれロール体から巻き出されて、ロールｔｏロールで貼り合わせることによって偏光板加工を行うことが好ましい。

　また、作製された帯状の偏光板をロール状に巻き取り、ロール体とする工程をさらに行うことが好ましい。当該工程において、帯状の偏光板の長さや幅は、基材フィルムの長さや幅と同様である。

　本発明の偏光板ロールの製造方法では、前記基材フィルムを支持体上に形成する工程、前記基材フィルム上に重合性液晶化合物および二色性色素を含む重合性液晶組成物を塗布、硬化して偏光子層を形成する工程、及びロールの内側から前記偏光子層、前記基材フィル及び前記支持体の順になるように、巻き取る工程を含むことが、好ましい。

　この場合、本発明に係る支持体５は、偏光板ロールの外側に配置されることから、プロテクトフィルムとしての機能を発揮し、偏光板加工時に基材フィルムへの傷等の発生を防止したり、カーリングを抑制したりして、ハンドリングを容易にすることができる。またこのときに、偏光子層の基材フィルムとは反対側の面に必要であれば対向フィルムを接着層又は粘着剤層を介して偏光子層に貼合しながら巻き取って、偏光板ロールを形成してもよい。

　接着剤層は、接着剤層は、活性エネルギー線硬化性接着剤の硬化物層であってもよいし、水溶性ポリマーから得られる層であってもよい。接着剤層の厚さは、特に限定されないが、それぞれ０．０１～１０μｍの範囲であることが好ましく、０．０１～５μｍの範囲であることがより好ましい。

　粘着剤層は、ベースポリマー、プレポリマー及び／又は架橋性モノマー、架橋剤ならびに溶媒を含む粘着剤組成物を、乾燥及び部分架橋させたものであることが好ましい。すなわち、粘着剤組成物の少なくとも一部が架橋したものでありうる。

　粘着剤組成物の例には、（メタ）アクリル系ポリマーをベースポリマーとするアクリル系粘着剤組成物、シリコーン系ポリマーをベースポリマーとするシリコーン系粘着剤組成物、ゴムをベースポリマーとするゴム系粘着剤組成物が含まれる。中でも、透明性、耐候性、耐熱性、加工性の観点では、アクリル系粘着剤組成物が好ましい。粘着剤層の厚さは、通常、３～１００μｍ程度であり、好ましくは５～５０μｍの範囲である。

　〔３〕表示装置
　本発明の表示装置は、本発明の偏光板を具備する。本発明の表示装置は、例えば、粘接着剤層を介して本発明の偏光板又は偏光板を表示装置の表面に貼合することにより得ることができる。表示装置とは、表示機構を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（電場放出表示装置（ＦＥＤ等）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置）、プラズマ表示装置、投射型表示装置（グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置等）及び圧電セラミックディスプレイ等が挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置及び投写型液晶表示装置等の何れをも含む。これら表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に、本発明の表示装置としては、有機ＥＬ表示装置及びタッチパネル表示装置が好ましく、特に有機ＥＬ表示装置が好ましい。

　以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量％」を表す。

　実施例１
　[１]基材フィルムの作製
　＜基材フィルム１の作製＞
　（支持体）
　支持体として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）：（東洋紡社製ＴＮ１００、ノンシリコーン系剥離剤を含む離型層あり、膜厚３８μｍ）を用いた。

　（基材フィルム１用溶液の調製）
　下記成分を混合して、基材フィルム１用溶液を得た。
　塩化メチレン（沸点４１℃）：　　　　　　　　　　　　８６０質量部
　メタノール（沸点６５℃）：　　　　　　　　　　　　　　４０質量部
　ＣＯＰ（Ｇ７８１０：ＪＳＲ（株）製ＡＲＴＯＮ　Ｇ７８１０、Ｍｗ：１４万、カルボン酸基を有するシクロオレフィン系樹脂）　　１００質量部
　酸化防止剤（Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６：ＢＡＳＦ社製：分子量５３１）
　　　　　　　　基材フィルム中に０．００２質量％となる添加量を添加

　（基材フィルム１の作製）
　上記支持体の離型層上に、基材フィルム１用溶液を、バックコート法によりダイを用いて塗布した後、下記の乾燥ステップで基材フィルムの乾燥を行うことで膜厚５μｍの基材フィルムを形成し、基材フィルム１を得た。
　第１ステップ：４０℃で１分
　第２ステップ：７０℃で１分
　第３ステップ：１００℃で１分
　第４ステップ：１３０℃で２分

　＜式１で表される膜厚＞
　作製した基材フィルム１を用いて、本発明に係る下記式１で表される膜厚の範囲を満たすか否かを測定した。その結果、「｜幅方向の無作為に選択した３点の膜厚の平均値（Ｂ）－平均膜厚値（Ａ）｜／平均膜厚値（Ａ）×１００」の値は１５％であり、式１を満たすことが確認された。
　式１：　５＜｜幅方向の無作為に選択した３点の膜厚の平均値（Ｂ）－平均膜厚値（Ａ）｜／平均膜厚値（Ａ）×１００＜２０（％）
　ここで、平均膜厚値（Ａ）はフィルムから無作為に抽出した１０点の膜厚値の平均値である。膜厚は、膜厚測定システムとしてＦ２０－ＵＶ（フィルメトリクス社製）を用いて計測した。

　なお、実施例において、ガラス転移温度及び重量平均分子量は以下の方法にて測定した。

　（ガラス転移温度）
　樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）は、ＤＳＣ（ＤｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌＳｃａｎｎｉｎｇＣｏｌｏｒｉｍｅｔｒｙ：示差走査熱量法）を用いて、ＪＩＳＫ７１２１－２０１２に準拠して測定した。

　（重量平均分子量）
　樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲル浸透クロマトグラフィー（東ソー社製ＨＬＣ８２２０ＧＰＣ）、カラム（東ソー社製ＴＳＫ－ＧＥＬＧ６０００ＨＸＬ－Ｇ５０００ＨＸＬ－Ｇ５０００ＨＸＬ－Ｇ４０００ＨＸＬ－Ｇ３０００ＨＸＬ直列）を用いて測定
した。サンプル２０ｍｇ±０．５ｍｇをテトラヒドロフラン１０ｍＬに溶解し、０．４５ｍｍのフィルターで濾過した。この溶液をカラム（温度４０℃）に１００ｍＬ注入し、検出器ＲＩ温度４０℃で測定し、スチレン換算した値を用いた。

　＜基材フィル２の作製＞
　基材フィルム１の作製において、乾燥条件（乾燥温度又は乾燥時間）を調整し、式１の値が２１％になるように表面の凹凸を大きくした以外は同様にして、表Ｉに記載の基材フィルム２を作製した。

　＜基材フィル３及び４の作製＞
　基材フィルム１の作製において、酸化防止剤の添加量（０．００９質量％）、又は平均膜厚（９μｍ）に変更した以外は同様にして、表Ｉに記載の基材フィルム３及び４を作製した。

　＜基材フィル５～７の作製＞
　基材フィルム１の作製において、平均膜厚（１５μｍ又は０．５μｍ）、及び乾燥条件（乾燥温度又は乾燥時間）を調整し、式１の値がそれぞれ６．５％、４．５％又は２３％になるように調整した以外は同様にして、表Ｉに記載の基材フィル５～７を作製した。

　＜基材フィル８の作製＞
　（支持体）
　支持体として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）：（東洋紡社製ＴＮ１００、ノンシリコーン系剥離剤を含む離型層あり、膜厚３８μｍ）を用いた。

　（基材フィルム８用溶液の調製）
　下記成分を混合して、基材フィルム８用溶液を得た。
　塩化メチレン（沸点４１℃）：　　　　　　　　　　　　８００質量部
　エタノール（沸点７８℃）：　　　　　　　　　　　　　１００質量部
　ＴＡＣ（アセチル置換度２．９のアセチルセルロース）　　９０質量部
　可塑剤１トリメチロールプロパントリベンゾエート：分子量４４７））
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５質量部
　可塑剤２（エチルフタリルエチルグリコレート：分子量２８０）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５質量部

　（基材フィルム８の作製）
　上記支持体の離型層上に、基材フィルム８用溶液を、バックコート法によりダイを用いて塗布した後、下記の乾燥ステップで基材フィルムの乾燥を行うことで膜厚４０μｍの基材フィルムを形成し、基材フィルム８を得た。

　（初期乾燥）
　第１ステップ：４０℃で１分
　第２ステップ：７０℃で１分
　第３ステップ：１００℃で１分
　第４ステップ：１３０℃で２分

　（後乾燥）
　第５ステップ：１１０℃で１５分

　＜基材フィル９～１１の作製＞
　基材フィルム８の作製において、ＴＡＣフィルムの膜厚を２０μｍ又は１５μｍに変更した以外は同様にして、表II記載の基材フィル９～１１を作製した。

　＜基材フィル１２の作製＞
　（支持体）
　支持体として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）：（東洋紡社製ＴＮ１００、ノンシリコーン系剥離剤を含む離型層あり、膜厚３８μｍ）を用いた。

　＜ゴム粒子Ｒ１の調製＞
　以下の方法で調製したゴム粒子Ｒ１を用いた。

　撹拌機付き８Ｌ重合装置に、以下の物質を仕込んだ。

　脱イオン水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１８０質量部
　ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸　　　　０．００２質量部
　ホウ酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．４７２５質量部
　炭酸ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　０．０４７２５質量部
　水酸化ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　０．００７６質量部

　重合機内を窒素ガスで充分に置換した後、内温を８０℃にし、過硫酸カリウム０．０２１質量部を２％水溶液として投入した。次いで、メタクリル酸メチル８４．６質量％、アクリル酸ブチル５．９質量％、スチレン７．９質量％、メタクリル酸アリル０．５質量％、ｎ－オクチルメルカプタン１．１質量％からなる単量体混合物（ｃ′）２１質量部にポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸を０．０７質量部加えた混合液を、上記溶液に６３分間にかけて連続的に添加した。さらに、６０分重合反応を継続させることにより、最内硬質重合体（ｃ）を得た。

　その後、水酸化ナトリウム０．０２１質量部を２質量％水溶液として、過硫酸カリウム０．０６２質量部を２質量％水溶液としてそれぞれ添加した。次いで、アクリル酸ブチル８０．０質量％、スチレン１８．５質量％、メタクリル酸アリル１．５質量％からなる単量体混合物（ａ′）３９質量部にポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸０．２５質量部を加えた混合液を１１７分間にかけて連続的に添加した。添加終了後、過硫酸カリウム０．０１２質量部を２質量％水溶液で添加し、１２０分間重合反応を継続させて、軟質層（アクリル系ゴム状重合体（ａ）からなる層）を得た。軟質層のガラス転移温度（Ｔｇ）を、－３０℃であった。軟質層のガラス転移温度は、アクリル系ゴム状重合体（ａ）を構成する各モノマーの単独重合体のガラス転移温度を組成比に応じて平均して算出した。

　その後、過硫酸カリウム０．０４質量部を２質量％水溶液で添加し、メタクリル酸メチル９７．５質量％、アクリル酸ブチル２．５質量％からなる単量体混合物（ｂ′）２６．１質量部を７８分間かけて連続的に添加した。さらに３０分間重合反応を継続させて、重合体（ｂ）を得た。

　得られた重合体を３質量％硫酸ナトリウム温水溶液中へ投入して、塩析・凝固させた。次いで、脱水・洗浄を繰り返した後、乾燥させて、３層構造のアクリル系グラフト共重合体粒子（ゴム粒子Ｒ１）を得た。得られたゴム粒子Ｒ１の平均粒子径は２００ｎｍであった。

　ゴム粒子の平均粒子径は、以下の方法で測定した。

　（平均粒子径）
　得られた分散液中のゴム粒子の分散粒径を、ゼータ電位・粒径測定システム（大塚電子株式会社製　ＥＬＳＺ－２０００ＺＳ）で測定した。

　（基材フィルム１２用溶液の調製）
　下記成分を混合して、基材フィルム用溶液１２を得た。
　塩化メチレン（沸点４１℃）　　　　　　　　　　　　　８００質量部
　アクリル：ＭＭＡ／ＰＭＩ／ＭＡＤＡ共重合体（６０／２０／２０質量比）、Ｍｗ：１５０万、Ｔｇ：１３７℃（なお、略称は、以下を示す。ＭＭＡ：メタクリル酸メチル、ＰＭＩ：フェニルマレイミド及びＭＡＤＡ：アクリル酸アダマンチル）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　８０質量部
　ゴム粒子Ｒ１：　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２０質量部
　分散剤（ポリオキシエチレンラウリルエーテルリン酸ナトリウム：：分子量３３２）　　　基材フィルム中に０．００６質量％となる添加量を添加

　（基材フィルム１２の作製）
　（支持体）
　支持体として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）：（東洋紡社製ＴＮ１００、ノンシリコーン系剥離剤を含む離型層あり、膜厚３８μｍ）を用いた。

　上記支持体の離型層上に、基材フィルム１２用溶液を、バックコート法によりダイを用いて塗布した後、下記の乾燥ステップで基材フィルムの乾燥を行うことで膜厚５μｍの基材フィルムを形成し、基材フィルム１２を得た。

　（後乾燥）
　第５ステップ：１１０℃で１５分

　＜基材フィル１３～１５の作製＞
　基材フィルム１２の作製において、膜厚（９μｍ、１５μｍ）、添加剤の添加量（０．００６質量％、０．０２質量％）、又は乾燥条件による式１の値を調整した以外は同様にして、基材フィル１３～１５を作製した。

　[２]偏光板の作製
　＜偏光子層形成用組成物の調製＞
　下記の成分を混合し、８０℃で１時間攪拌することで、偏光子層形成用組成物を得た。二色性色素には、特開２０１３－１０１３２８号公報の実施例に記載のアゾ色素を用いた。
　〔重合性液晶化合物〕

　　　　　　　　　　（Ａ－６）　　　　　　　　　　　　　９０質量部

　　　　　　　　　　（Ａ－７）　　　　　　　　　　　　　１０質量部

〔二色性色素〕
　アゾ色素；

　　　　　　　　　　（二色性色素Ａ）　　　　　　　　　２．５質量部

　　　　　　　　　　（二色性色素Ｂ）　　　　　　　　　２．５質量部

　　　　　　　　　　（二色性色素Ｃ）　　　　　　　　　２．５質量部

　〔重合開始剤〕
・２－ジメチルアミノ－２－ベンジル－１－（４－モルホリノフェニル）ブタン－１－オン（イルガキュア３６９；チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６質量部

　〔レベリング剤〕
・ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ－３６１Ｎ；ＢＹＫ－Ｃｈｅｍｉｅ社製）
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１．２質量部

　〔溶剤〕
・ｏ－キシレン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４００質量部

　＜基材フィルム上への光液晶配向層の形成＞
　（光液晶配向層形成用組成物の調製）
　特開２０１３－０３３２４９号公報記載の下記成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光液晶配向層形成用組成物を得た。

　〔光配向性ポリマー〕

　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２質量部

　〔溶剤〕
・ｏ－キシレン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９８質量部

　＜光液晶配向層付き基材フィルムの作製＞
　基材として上記作製した基材フィルム１～１５を用いて、該フィルム表面にコロナ処理を施した後に、上記光液晶配向層形成用組成物を塗布して、１２０℃で乾燥して乾燥被膜を得た。この乾燥被膜上に偏光ＵＶを照射して光液晶配向層形成し、光液晶配向層付きフィルムを得た。偏光ＵＶ処理は、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ　ＣＵＲＥ　ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、波長３６５ｎｍで測定した強度が１００ｍＪの条件で行った。

　＜偏光子層の作製＞
　前記のようにして得た光液晶配向層付き基材フィルム上に、上記偏光子層形成用組成物をバーコート法（＃９　３０ｍｍ／ｓ）により塗布し、１２０℃の乾燥オーブンにて１分間加熱乾燥することにより重合性液晶化合物を液体相に相転移させた後、室温まで冷却して該重合性液晶化合物をスメクチック液晶状態に相転移させた。次いで、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ　ＣＵＲＥ　ＳＰ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量１０００ｍＪ／ｃｍ²（３６５ｎｍ基準）の紫外線を、偏光膜形成用組成物から形成された層に照射することにより、該乾燥被膜に含まれる重合性液晶化合物を、前記重合性液晶化合物のスメクチック液晶状態を保持したまま重合させ、該乾燥被膜から偏光子層を形成した。この際の偏光子層の厚さをレーザー顕微鏡（オリンパス株式会社製　ＯＬＳ３０００）により測定したところ、２．３μｍであった。かくして得られたものは、偏光子層と基材フィルムを含む偏光板１０１～１１５である。この偏光板に対して、Ｘ線回折装置Ｘ’Ｐｅｒｔ　ＰＲＯ　ＭＰＤ（スペクトリス株式会社製）を用いて偏光板の吸収軸方向からＸ線を照射してＸ線回折測定を行った結果、２θ＝２０．２°付近にピーク半価幅（ＦＷＨＭ）＝約０．１７°のシャープな回折ピーク（ブラッグピーク）が得られた。ピーク位置から求めた秩序周期（ｄ）は約４．４Åであり、高次スメクチック相を反映した構造を形成することを確認した。

　＜バリア層の形成＞
　上記作製した偏光板１０１～１１５の偏光子層表面にコロナ処理を施した後に、バーコーターを用いて、硬化後の厚さが約０．５μｍとなるように、バリア層（Ａ）形成用の硬化性組成物を塗布した。次いで、１００℃で１．５分間乾燥した。

　バリア層（Ａ）形成用の硬化性組成物は、純水１００質量部、ポリビニルアルコールフィルム（（株）クラレ製、「クラレポバール　ＫＬ３１８」（商品名）：カルボキシル基変性ポリビニルアルコール）３質量部、及び水溶性ポリアミドエポキシ樹脂（住化ケムテックス（株）製、「スミレーズレジン　６５０」（商品名）、固形分濃度３０％の使用液）１．５質量部を混合し、バリア層（Ａ）形成用の硬化性組成物を調製した。なお、「スミレーズレジン　６５０」の質量部は固形分の質量を示している。

　さらに、上記バリア層（Ａ）表面にコロナ処理を施した後、バリア層（Ｂ）形成用の硬化性組成物として、脂環式エポキシ化合物セロキサイド２０２１Ｐ（ダイセル化学（株）製）　３２．５質量部、ＥＨＰＥ３１５０（ダイセル化学（株）製）　１７．５質量部、オキセタン化合物ＯＸＴ２２１（東亞合成（株）製）　５０質量部、重合開始剤ＣＰＩ－１００Ｐ（サンアプロ（株）製）　２．５質量部、レベリング剤ＳＨ７１０（東レ・ダウコーニング（株）製）　０．２５質量部よりなる組成物を、バーコーターを用いて硬化後の厚さが約１．５μｍとなるように塗工した。次いで、ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴＣＵＲＥ　Ｐ－７；ウシオ電機株式会社製）を用いて、露光量５００ｍＪ／ｃｍ²（３６５ｎｍ基準）の紫外線を、バリア層（Ｂ）形成用の硬化組成物からなる層に照射することにより硬化させてバリア層を形成した。

　＜保護フィルムの貼合＞
　上記作製した偏光板１１２の作製において、上記バリア層（Ａ）、（Ｂ）の替わりに、上記作製した支持体、基材フィルム、及び偏光子層で構成される積層体の偏光子層側と、バリア層（Ａ）及び（Ｂ）の代わりとして基材フィルムとを、下記水溶性接着剤液１を介して接着し、偏光板１１６を作製した。その際、偏光子の長手方向と基材フィルム１２の長手方向の軸を合わせて貼合した。

　（水溶性接着剤液１の調製）
　下記の各成分を混合した後、脱泡して、水溶性接着剤液を調製した。
　純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００質量部
　株式会社日本触媒製「エポクロス　ＷＳ－３００」　　　７．５質量部
　ＭＥＮＡＤＩＯＮＡ社製「ＣＲＯＳＳＬＩＮＫＥＲ　ＣＬ－４２７」
　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１質量部
　なお、偏光板作製は、基材フィルム１２の接着側表面にコロナ出力強度２．０ｋＷ、ライン速度１８ｍ／分でコロナ放電処理を施し、コロナ放電処理面に、上記調製した水溶性接着剤液１を、乾燥後の厚さが約３μｍとなるようにバーコーターで塗工した後、５０℃、６０℃、７０℃でこの順番に６０秒ずつ乾燥し、次いで貼合後、基材フィルム１２の支持体を剥離して、偏光板１１６を得た（偏光板の層構成は図６Ａ参照。下記偏光子層劣化評価試料は図６Ｂ参照。）。

　得られた偏光板１０１～１１６を用いて以下の評価を実施した。
　《評価》
　〔光学的欠点評価〕
　得られた偏光板を１ｍ×１ｍに切り出し、クロスニコル下で輝点を観察した。観察は、任意な偏光板１０枚を切り出し、輝点の合計個数から以下の基準で評価した。なお、本発明でいう「光学的欠点」とは、表示デバイスにおいて表示欠点等の光学的欠陥をいい、上記「輝点」の位置に現れるものである。

　○：１個以下
　△：２～３個
　×：４個以上
　△以上であれば良好と判断した。

　〔折り曲げ評価〕
　得られた偏光板を、幅１５ｍｍ、長さ１５０ｍｍ（長さ方向がＭＤ方向）にカットし、試験片とした。この試験片を、温度２５℃、湿度６５％ＲＨの状態で１時間以上静置させた。その後、耐折度試験機（テスター産業株式会社製、ＭＩＴ、ＢＥ－２０１型、折り曲げ曲率半径０．３８ｍｍ）を用いて、ＪＩＳ　Ｐ８１１５：２００１に準拠して、荷重５００ｇの条件で折り目の方向がＴＤ方向となるように折り曲げて、試験片が破断するまでの折り曲げ回数を測定した。そして、偏光板のＭＩＴ屈曲性を、以下の基準で評価した。

　○：５０００回以上
　△：３０００回～４９９９回
　×：２９９９回以下
　破断するまでの折り曲げ回数が多いほど、屈曲性に優れており、繰り返しの折り曲げ耐性に優れていることを示す。
　△以上であれば良好と判断した。

　〔偏光子層劣化評価（通常劣化）〕
　得られた偏光板を、５０ｍｍ×５０ｍｍの偏光板に切り出し、偏光板の両側を綜研化学株式会社製粘着剤ＳＫダインＡを用いて、５５ｍｍ×５５ｍｍに切り出したガラスと接着し、２３℃５５％ＲＨの環境下で２４時間静置した。
　その後、周囲をアルミテープで密封し、温度６０℃、湿度９０％ＲＨで５００時間の処理を行い、以下の評価を行った。試験に用いた偏光板の評価用サンプル４０の構成は図５に示すとおりであり、端部はアルミテープ（不図示）で密封した。

　○：偏光子層の色抜け、変色が視認できない
　△：偏光子層の色抜け、変色が僅かに視認できる
　×：偏光子層の色抜け、変色が視認できる
　△以上であれば良好と判断した。

　〔偏光子層劣化評価（強制劣化）〕
　上記評価において、温度８０℃、湿度９０％ＲＨで５００時間の処理とした以外は上記と同じ評価を強制劣化試験として実施した。
　以上の基材フィルム、偏光板の構成及び評価結果を、表Ｉ及び表IIに示した。

　表Ｉ及び表IIの評価結果から、本発明の偏光板は、光学的欠点、折り曲げ耐性、及び偏光子層劣化評価において優れていることが確認された。

　本発明の偏光板は、偏光板を構成する基材フィルムの不純物起因によるデバイスの欠陥及び劣化の抑制と、折り曲げ耐性の向上を両立していることから、光学的欠点、折り曲げ耐性、及び偏光子層劣化に優れており、液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置等に好適に利用することができる。

　１　偏光板
　２　基材フィルム
　３　液晶配向層
　４　偏光子層
　５　支持体
　１０ａ、１０ｂ　偏光板
　１２　基材フィルム
　１３　液晶配向層
　１４　偏光子層
　１５　支持体
　１６　接着剤層又は粘着剤層
　１７　対向フィルム
　１８　重合性液晶化合物含有層
　１９　バリア層
　２０　ガラス
　３０　位相差フィルム付き偏光板
　４０　評価用サンプル
　Ｂ１１０　支持体
　Ｂ１２０　基材フィルム
　Ｂ２００　製造装置
　Ｂ２１０　供給部
　Ｂ２２０　塗布部
　Ｂ２３０　乾燥部
　Ｂ２４０　冷却部
　Ｂ２５０　巻き取り部

Claims

　１μｍ以上１０μｍ未満の基材フィルム、及び重合性液晶化合物および二色性色素を含む重合性液晶組成物を含む偏光子層、を有する偏光板。
　前記基材フィルムが、分子量１０００以下の添加剤を０．０００１～０．０１質量％の範囲内で含有することを特徴とする請求項１に記載の偏光板。
　前記添加剤が、酸化防止剤であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の偏光板。
　前記基材フィルムの膜厚が、下記式１を満たすことを特徴とする請求項１に記載の偏光板。
　式１：　５＜｜幅方向の無作為に選択した３点の膜厚の平均値（Ｂ）－平均膜厚値（Ａ）｜／平均膜厚値（Ａ）×１００＜２０
　前記基材フィルムと前記偏光子層との間に、液晶配向層を有することを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の偏光板。
　請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の偏光板を具備することを特徴とする表示装置。
　請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の偏光板がロール状に巻き取られた偏光板ロールの製造方法であって、
　前記基材フィルムを支持体上に形成する工程、
　前記基材フィルム上に重合性液晶化合物および二色性色素を含む重合性液晶組成物を塗布、硬化して偏光子層を形成する工程、及び
　ロールの内側から前記偏光子層、前記基材フィル及び前記支持体の順になるように、巻き取る工程を含むことを特徴とする偏光板ロールの製造方法。