CN115220142A - 光学层叠体 - Google Patents

Abstract

本发明的目的在于提供一种光学层叠体，其为薄型，并且在转印至被转印体时抑制贴合偏移、褶皱的产生，能够容易地转印至任意的被转印体。所述光学层叠体依次包含第1基材膜、第1应力缓和层、偏振层、粘合粘接层、相位差层、第2应力缓和层和第2基材膜，位于第1应力缓和层与第2应力缓和层之间的层的合计厚度为20μm以下，第1基材膜在23℃时的弹性模量为2,500～6,000MPa，第1应力缓和层能够在与第1应力缓和层的与第1基材膜相反侧的面所相邻的层之间剥离，第2基材膜为能够剥离的基材膜。

Description

光学层叠体

技术领域

本发明涉及可转印的光学层叠体。

背景技术

在有机EL显示装置等平板显示装置(FPD)中，广泛使用包含偏振膜和相位差膜的圆偏振板。作为这样的圆偏振板，已知有偏振膜和/或相位差膜为包含通过将聚合性液晶化合物涂布在基材上并使其聚合而得到的涂覆层的光学各向异性层的光学层叠体(专利文献1～5)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2014-63143号公报

专利文献2：日本特开2017-83843号公报

专利文献3：日本特开2020-56834号公报

专利文献4：日本特开2019-91088号公报

专利文献5：日本特开2020-13164号公报

发明内容

发明要解决的课题

上述专利文献中公开的光学层叠体可以通过将形成于基材上的光学各向异性层转印至被转印体、即剥离上述基材并隔着粘合粘接层等贴合于被转印体而组装于显示装置等。

然而，如果光学层叠体被薄型化，则有处理变难的趋势，在剥离基材而将光学各向异性层转印至被转印体时，有时出现产生贴合偏移、褶皱等不良情况。

本发明的目的在于提供一种光学层叠体，其为薄型，并且在转印至被转印体时抑制贴合偏移、褶皱的产生，能够容易地转印至任意的被转印体。

用于解决课题的手段

本发明人等为了解决上述课题而进行了深入研究，结果完成了本发明。即，本发明包括以下的方式。

[1]一种光学层叠体，其依次包含第1基材膜、第1应力缓和层、偏振层、粘合粘接层、相位差层、第2应力缓和层和第2基材膜，

位于第1应力缓和层与第2应力缓和层之间的层的合计厚度为20μm以下，

第1基材膜在23℃时的弹性模量为2,500～6,000MPa，

第1应力缓和层能够在与第1应力缓和层的与第1基材膜相反侧的面所相邻的层之间剥离，第2基材膜为能够剥离的基材膜。

[2]根据[1]所述的光学层叠体，其中，在第1应力缓和层与偏振层之间还包含防扩散层。

[3]根据[1]或[2]所述的光学层叠体，其中，偏振层为包含显示近晶液晶相的聚合性液晶化合物和二色性色素的聚合性液晶组合物的液晶固化层。

[4]根据[1]～[3]中任一项所述的光学层叠体，其中，相位差层是聚合性液晶化合物在相对于基材面内沿水平方向取向了的状态下固化而成的水平取向液晶固化层。

[5]根据[1]～[4]中任一项所述的光学层叠体，其中，第1基材膜的厚度为30～120μm。

[6]根据[2]～[5]中任一项所述的光学层叠体，其中，由从第1基材膜到第1应力缓和层为止的层形成的层叠体(层叠体a)的膜厚(T1)与由从位于第1应力缓和层与偏振层之间的防扩散层到第2应力缓和层为止的层形成的层叠体(层叠体b)的膜厚(T2)满足式(1)：

T1/T2≥1.5 (1)。

[7]根据[1]～[6]中任一项所述的光学层叠体，其中，将由从第1基材膜到第1应力缓和层为止的层形成的层叠体(层叠体a)从光学层叠体剥离时的剥离力(F1)与从光学层叠体剥离第2基材膜时的剥离力(F2)满足式(2)：

0.02(N/25mm)≤|F1-F2| (2)。

[8]根据[2]～[7]中任一项所述的光学层叠体，其中，防扩散层的厚度为5μm以下。

[9]根据[1]～[8]中任一项所述的光学层叠体，其中，在偏振层与第2应力缓和层之间还包含垂直取向液晶固化层，所述垂直取向液晶固化层是聚合性液晶化合物在相对于基材面内沿垂直方向取向了的状态下固化而成的。

发明效果

根据本发明，能够提供一种光学层叠体，其为薄型，并且在转印至被转印体时抑制贴合偏移、褶皱的产生，能够容易地转印至任意的被转印体。

附图说明

图1是表示本发明的光学层叠体的层构成的一个例子的示意截面图。

图2是表示本发明的光学层叠体的层构成的一个例子的示意截面图。

附图标记说明

1：第1基材膜

2：第1应力缓和层

3：偏振层

4：粘合粘接层

5：相位差层

6：第2应力缓和层

7：第2基材膜

8、9：防扩散层

11：光学层叠体

12、13：层叠体结构。

具体实施方式

以下，对本发明的实施方式进行详细说明。需要说明的是，本发明的范围并不限定于在此说明的实施方式，可以在不损害本发明的主旨的范围内进行各种变更。

本发明的光学层叠体依次包含第1基材膜、第1应力缓和层、偏振层、粘合粘接层、相位差层、第2应力缓和层和第2基材膜。以下，基于图1和图2说明本发明的光学层叠体的层构成的一个例子，但本发明的层叠体并不限定于这些方式。

图1所示的光学层叠体11依次层叠第1基材膜1、第1应力缓和层2、偏振层3、粘合粘接层4、相位差层5、第2应力缓和层6和第2基材膜7而成。在图1所示的光学层叠体11中，能够在第1应力缓和层2与第1应力缓和层2的与第1基材膜1相反侧的面所相邻的层之间(在图1中为第1应力缓和层2与偏振层3之间)剥离，并且能够剥离第2基材膜7。可以从光学层叠体11剥离能够剥离的第2基材膜7，将由第1基材膜1、第1应力缓和层2、偏振层3、粘合粘接层4、相位差层5、第2应力缓和层6形成的层叠体结构12转印至例如OLED基板等被转印体(基板)。然后，在层叠有第1基材膜的状态下剥离第1应力缓和层2，得到包含由偏振层3、粘合粘接层4、相位差层5和第2应力缓和层6形成的层叠体结构13的显示装置。可以在通过剥离第1应力缓和层2而露出的偏振层3的面上贴合例如带粘合剂的前面板等。需要说明的是，从本发明的光学层叠体剥离第1应力缓和层和第2基材膜的顺序未必受限定，但在先剥离向基板贴合的一侧的层的情况下，可以更显著地得到本发明的效果，因此在本发明的一个实施方式中，先剥离第2基材膜并向基板贴合后，将第1应力缓和层与第1基材膜一起剥离。

在本发明的优选的一个实施方式中，本发明的光学层叠体在第1应力缓和层与偏振层之间还包含防扩散层。图2所示的光学层叠体11在第1应力缓和层2与偏振层3之间具有防扩散层8。为了提高抑制来自于偏振片的二色性色素的扩散的效果，可以在偏振层3的与第1应力缓和层2相反侧的面也具有防扩散层9。

本发明的光学层叠体除了第1基材膜、第1应力缓和层、偏振层、粘合粘接层、相位差层、第2应力缓和层和第2基材膜和防扩散层以外，只要不影响本发明的效果，则也可以进一步包含其他层而构成。作为其他层，例如可举出用于形成偏振层的取向膜、用于形成相位差层的取向膜、第2相位差层、偏振层和相位差层间的粘合粘接层以外的粘合粘接层、具有UV吸收能力的树脂层等。

以下，对本发明的光学层叠体的各构成进行详细说明。

〔第1基材膜和第2基材膜〕

在本发明的光学层叠体中，第1基材膜是以能够与第1应力缓和层一起从光学层叠体的第1应力缓和层的与第1基材膜相反侧的面所相邻的层剥离的方式层叠于光学层叠体的层。从第1基材膜到第1应力缓和层的层优选以在剥离时能够成为一体地剥离的方式具有一定程度的密合性地层叠。一般而言，无需在与转印至基板的一侧(在本发明的光学层叠体中通常为第2基材侧)相反的一侧设置基材膜。在本发明中，在剥离第2基材膜并转印至基板时，存在于与进行转印的一侧相反的一侧的最外层的第1基材膜与层叠于第1基材膜的第1应力缓和层成为一体而发挥增强层叠体结构的作用，由此即使为薄型，也能够得到针对剥离第2基材膜并转印至基板时的气泡、褶皱的产生、与基板的贴合偏移的高抑制效果。另一方面，第2基材膜是以能够剥离的方式层叠于光学层叠体的层。

在本发明的一个实施方式中，第1基材膜在23℃时的弹性模量为2,500～6,000MPa。如果第1基材膜的该弹性模量为上述下限以上，则强度容易变高，可以说是所谓的“韧性(日文：コシ)”强的膜。通过将这种基材膜配置于与第2基材膜相反侧的最外层，在剥离第2基材膜并转印至基板时，存在不易产生气泡、褶皱的趋势。另外，如果弹性模量为上述上限以下，则相对于应力的强度、刚性的平衡良好，具有适度的弹性(日文：しなり)，从而有在剥离第2基材膜并转印至基板时抑制与基板的贴合偏移的效果优异的趋势。在本发明中，第1基材膜在23℃时的弹性模量更优选为3,000MPa以上，进一步优选为3,500MPa以上，另外，更优选为5,500MPa以下。

在本发明的一个实施方式中，第2基材膜在23℃时的弹性模量优选为2500～6000MPa。如果第2基材膜的该弹性模量为上述范围内，则容易确保剥离第2基材膜时的剥离性，容易实现对于基板的良好的贴合。在本发明中，第2基材膜在23℃时的弹性模量更优选为3000MPa以上，进一步优选为3500MPa以上，更优选为5500MPa以下。

基材膜的弹性模量可以使用拉伸试验机进行测定。详细而言，例如可以通过后述的实施例中记载的方法进行测定。

第1基材膜的厚度根据基材膜的材料、基材膜的弹性模量、与该基材膜相邻的层的构成等适当确定即可，优选为30～120μm。如果第1基材膜的厚度为上述范围内，则容易更有效地增强剥离第2基材膜并转印至基板的层叠体结构，能够期待对贴合偏移、褶皱的产生的高抑制效果。从进一步提高该效果的观点出发，第1基材膜的厚度优选为30μm以上，更优选为50μm以上，进一步优选为70μm以上，另外，更优选为120μm以下，进一步优选为100μm以下。

第2基材膜的厚度没有特别限定，根据基材膜的构成、与该基材膜相邻的层的构成等适当确定即可，从涂布、干燥时的膜面品质的观点出发，优选为20μm以上，更优选为30μm以上，另外，优选为100μm以下，更优选为80μm以下，进一步优选为50μm以下。在本发明的光学层叠体中，第1基材膜与第2基材膜的厚度可以相互相同也可以不同。

基材膜的厚度可以利用激光显微镜、膜厚计等进行测定，以下，构成光学层叠体的偏振层、相位差层等各层、膜的厚度的测定也同样。

第1基材膜和第2基材膜例如可以使用在光学膜的领域中以往公知的树脂膜等。作为构成第1基材膜和第2基材膜的树脂，例如可举出聚乙烯、聚丙烯和降冰片烯系聚合物之类的聚烯烃；环状烯烃系树脂；聚乙烯醇；聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚对苯二甲酸丁二醇酯、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯；聚甲基丙烯酸酯；聚丙烯酸酯；三乙酰纤维素、二乙酰纤维素和纤维素乙酸酯丙酸酯之类的纤维素系树脂；聚碳酸酯；聚砜；聚醚砜；聚醚酮；聚苯硫醚和聚苯醚之类的塑料。其中，从平滑性、作为涂布基材的品质的观点出发，优选选自纤维素系树脂、环状烯烃系树脂和聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂中的至少1种。这些可以单独使用，也可以组合使用2种以上。可以通过溶剂流延法、熔融挤出法等公知的方法将这样的树脂制膜而制成树脂膜。第1基材膜第2基材膜可以相同，也可以不同。需要说明的是，在本说明书中，在仅记载为“基材膜”的情况下，作为该“基材膜”，包括第1基材膜和第2基材膜。

为了容易对基材膜表面赋予所期望的脱模性、密合性，可以根据相邻的层的构成等，通过电晕处理、等离子体处理、火焰处理等对基材膜表面实施改性处理。在本发明的光学层叠体中，在对第1基材膜和第2基材膜进行表面改性处理的情况下，其处理方法可以彼此相同也可以不同。

另外，也可以在第2基材膜的与应力缓和层相邻的一侧设置具有控制从光学层叠体剥离基材膜时的剥离力的功能的层(以下也称为“剥离力调整层”)。剥离力调整层例如可以通过在成为第2基材膜的树脂膜的表面涂布剥离力调整层形成用组合物而形成，所述剥离力调整层形成用组合物包含可以调整第2基材膜相对于层叠于该基材膜的第2应力缓和层的密合性的成分。剥离力调整层只要能够确保所期望的剥离力，则可以使用该领域中以往公知的材料等。作为本发明中可以形成剥离力调整层的剥离力调整层形成用组合物，例如可举出包含硅烷化合物的溶液；含有二氧化硅粉等的溶液；固化性树脂组合物；包含氟系材料、长链烷基系材料、脂肪酸酰胺系材料等脱模材料的组合物等。其中，从为薄膜且容易地形成可赋予所期望的剥离力的层的观点出发，优选由包含硅烷化合物的溶液形成。

作为可构成剥离力调整层的硅烷化合物，例如可举出聚硅烷之类的硅聚合物、硅油和有机硅树脂之类的有机硅树脂、以及有机硅低聚物、倍半硅氧烷和烷氧基硅烷之类的有机无机硅烷化合物，更具体而言，可举出硅烷偶联剂等包含Si元素的非离子性的化合物。这些硅烷化合物可以单独使用1种，或者也可以组合使用2种以上。其中，优选硅烷偶联剂。

作为硅烷偶联剂，优选为具有选自乙烯基、氨基、脲基、巯基、(甲基)丙烯酰基、异氰酸酯基、咪唑基和环氧基中的至少1种官能团的硅烷化合物，更优选为具有上述至少1种官能团和至少1个烷氧基甲硅烷基或硅醇基的包含Si元素的化合物。乙烯基、氨基、脲基、巯基、(甲基)丙烯酰基、异氰酸酯基、咪唑基和环氧基具有极性，通过适当选择这些官能团，能够控制基材膜与应力缓和层的密合性。从该观点出发，硅烷偶联剂优选为具有烷氧基甲硅烷基和上述至少1种官能团的硅烷偶联剂。需要说明的是，为了控制硅烷偶联剂的反应性，上述官能团可以具有适当的取代基或保护基。

作为硅烷偶联剂，例如可举出乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(2-甲氧基乙氧基)硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、N-(2-氨基乙基)-3-氨基丙基三甲氧基硅烷、3-氨基丙基三乙氧基硅烷、3-三乙氧基甲硅烷基-N-(1,3-二甲基-亚丁基)丙胺、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、2-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、3-氯丙基甲基二甲氧基硅烷、3-氯丙基三甲氧基硅烷、3-丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、3-巯基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、3-环氧丙氧基丙基二甲氧基甲基硅烷和3-环氧丙氧基丙基乙氧基二甲基硅烷。

也可使用市售的硅烷偶联剂，例如可举出KP321、KP323、KP324、KP326、KP340、KP341、X22-161A、KF6001、KBM-1003、KBE-1003、KBM-303、KBM-402、KBM-403、KBE-402、KBE-403、KBM-1403、KBM-502、KBM-503、KBE-502、KBE-503、KBM-5103、KBM-602、KBM-603、KBM-903、KBE-903、KBE-9103、KBM-573、KBM-575、KBM-9659、KBE-585、KBM-802、KBM-803、KBE-846和KBE-9007之类的信越化学工业株式会社制的硅烷偶联剂。

作为剥离力调整层发挥功能的包含硅烷化合物的层例如可以由将硅烷化合物混合溶解于适当的溶剂而成的含硅烷化合物的溶液形成。

含硅烷化合物的溶液中使用的溶剂可以根据所使用的硅烷化合物的溶解性等适当选择。具体而言，例如可举出水、甲醇、乙醇、乙二醇、异丙醇、丙二醇、甲基溶纤剂、丁基溶纤剂、丙二醇单甲醚等醇溶剂、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ-丁内酯、丙二醇甲基醚乙酸酯、乳酸乙酯等酯溶剂、丙酮、甲乙酮、环戊酮、环己酮、甲基戊基酮、甲基异丁基酮等酮溶剂、戊烷、己烷、庚烷等脂肪族烃溶剂、甲苯、二甲苯等芳香族烃溶剂、乙腈等腈溶剂、四氢呋喃、二甲氧基乙烷等醚溶剂、以及氯仿、氯苯等氯化烃溶剂等。这些溶剂可以单独使用或组合使用2种以上。

从容易控制剥离力的观点出发，含硅烷化合物的溶液中的硅烷化合物的含量相对于含硅烷化合物的溶液的总质量优选为0.01质量％以上，更优选为0.1质量％以上，进一步优选为0.2质量％以上。硅烷化合物的含量相对于含硅烷化合物的溶液的总质量优选为30质量％以下，更优选为10质量％以下，进一步优选为5质量％以下。

作为剥离力调整层发挥功能的包含硅烷化合物的层例如可以是通过将含硅烷化合物的溶液涂布于第2基材膜的形成剥离力调整层的面后，将溶剂干燥、除去而形成的。

作为在形成剥离力调整层的面涂布含硅烷化合物的溶液的方法，例如可举出旋涂法、挤出法、凹版涂布法、模涂法、棒涂法、涂敷器法等涂布法、柔版法等印刷法等公知的方法。

作为将由含硅烷化合物的溶液得到的涂膜中所含的溶剂除去的干燥方法，可举出自然干燥法、通风干燥法、加热干燥和减压干燥法等。干燥温度和干燥时间等各条件可以根据含硅烷化合物的溶液的组成、基材膜的材料等适当确定。

作为剥离力调整层发挥功能的包含硅烷化合物的层的厚度通常为10nm～1000nm，优选为10nm～500nm，更优选为30nm～300nm。

〔第1应力缓和层和第2应力缓和层〕

本发明的光学层叠体在第1基材膜的偏振层侧的面具有第1应力缓和层，在第2基材膜的相位差层侧的面具有第2应力缓和层。在本发明中，应力缓和层是指形成于第1基材膜的偏振层侧的面和第2基材膜的相位差层侧的面的、并且具有缓和从光学层叠体剥离第2基材膜时施加于光学层叠体的应力的功能的层。在本发明中，第1基材膜和第2基材膜分别隔着应力缓和层而构成光学层叠体，在组装(转印)到显示装置内的层叠体结构的一个外层存在与基材膜层叠的第1应力缓和层，在另一个外层存在第2应力缓和层。本发明的光学层叠体通过这样的结构，成为转印对象的薄型的层叠体结构的强度提高，抑制将第2基材膜剥离并转印至基板时可能产生的褶皱、贴合偏移、气泡的产生等的效果优异。其理由尚不确定，但认为通过具有上述结构，从而成为转印对象的薄型的层叠体结构的强度提高，并且各应力缓和层相互作用而缓和从光学层叠体剥离基材膜时施加于光学层叠体的应力，由此与不存在应力缓和层、或仅在一侧存在应力缓和层的光学层叠体相比，贴合偏移、褶皱等的产生抑制效果变高。为了充分得到该效果，在本发明的光学层叠体中，优选第1基材膜与第1应力缓和层相邻地配置。另外，优选第2基材膜与第2应力缓和层相邻地配置或仅隔着剥离力调整层配置。需要说明的是，在本说明书中，在仅记载为“应力缓和层”的情况下，作为该“应力缓和层”，包含第1应力缓和层和第2应力缓和层。

应力缓和层是能够缓和在剥离基材膜时在光学层叠体中产生的应力的层。另外，第2应力缓和层优选是能够缓和上述应力的层，并且是在剥离基材膜后作为用于与基板、前面板等被转印体贴合的粘合层发挥功能的层。应力缓和层中的应力的缓和性和对被转印体的粘合性可以通过构成应力缓和层的成分的种类、其含量比、厚度等来控制。具有这样的功能的应力缓和层可以使用该领域中以往公知的材料等来制备。例如，可举出以(甲基)丙烯酸系、橡胶系、氨基甲酸酯系、酯系、有机硅系、聚乙烯基醚系之类的树脂为主成分的组合物(以下，也称为“应力缓和层形成用组合物”)。其中，从透明性、粘合性、耐候性、耐热性等优异的观点出发，应力缓和层优选由以(甲基)丙烯酸系树脂为基础聚合物的组合物形成。

作为应力缓和层形成用组合物中使用的(甲基)丙烯酸系树脂(基础聚合物)，例如适宜使用以(甲基)丙烯酸丁酯、(甲基)丙烯酸乙酯、(甲基)丙烯酸异辛酯、(甲基)丙烯酸2-乙基己酯之类的(甲基)丙烯酸酯的1种或2种以上为单体的聚合物或共聚物。优选使极性单体与基础聚合物共聚。作为极性单体，例如可举出(甲基)丙烯酸、(甲基)丙烯酸2-羟基丙酯、(甲基)丙烯酸羟基乙酯、(甲基)丙烯酸8-羟基辛酯、(甲基)丙烯酰胺、(甲基)丙烯酸N,N-二甲基氨基乙酯、(甲基)丙烯酸缩水甘油酯之类的具有羧基、羟基、酰胺基、氨基、环氧基等的单体。

在本发明的一个实施方式中，构成应力缓和层的(甲基)丙烯酸系树脂中的来自于(甲基)丙烯酸酯的结构单元相对于构成(甲基)丙烯酸系树脂的全部结构单元的总质量优选为80～99.9质量％，更优选为85质量％以上，进一步优选为90质量％以上。另外，在(甲基)丙烯酸系树脂包含来自于极性单体的结构单元的情况下，该来自于极性单体的结构单元相对于构成(甲基)丙烯酸系树脂的全部结构单元的总质量优选为0.1～10质量％，更优选为0.5质量％以上，进一步优选为1质量％以上，另外，更优选为8质量％以下。

构成应力缓和层的(甲基)丙烯酸系树脂例如可以通过溶液聚合法、乳液聚合法、本体聚合法、悬浮聚合法等公知的各种方法来制造。在该丙烯酸类树脂的制造中，通常使用聚合引发剂。聚合引发剂的含量相对于(甲基)丙烯酸系树脂的制造中使用的全部单体的合计100质量份优选为0.001～5质量份。

作为聚合引发剂，可以使用热聚合引发剂、光聚合引发剂等。作为热聚合引发剂，例如可举出2,2’-偶氮二异丁腈、2,2’-偶氮双(2-甲基丁腈)、1,1’-偶氮双(环己烷-1-甲腈)、2,2’-偶氮双(2,4-二甲基戊腈)、2,2’-偶氮双(2,4-二甲基-4-甲氧基戊腈)、二甲基-2,2’-偶氮双(2-甲基丙酸酯)和2,2’-偶氮双(2-羟甲基丙腈)等偶氮系化合物；月桂基过氧化物、叔丁基过氧化氢、过氧化苯甲酰、叔丁基过氧化苯甲酸酯、枯烯过氧化氢、二异丙基过氧化二碳酸酯、二丙基过氧化二碳酸酯、叔丁基过氧化新癸酸酯、叔丁基过氧化新戊酸酯和(3,5,5-三甲基己酰基)过氧化物等有机过氧化物；过硫酸钾、过硫酸铵和过氧化氢等无机过氧化物等。作为光聚合引发剂，例如可举出4-(2-羟基乙氧基)苯基(2-羟基-2-丙基)酮等。

在通过溶液聚合法制备丙烯酸系树脂的情况下，可举出将所期望的单体和有机溶剂混合，在氮气氛下添加热聚合引发剂，在40～90℃、优选50～80℃下进行搅拌的方法。另外，为了控制反应，可以在聚合中连续地或间歇地添加单体、聚合引发剂，或者将单体、聚合引发剂以溶解于有机溶剂的状态添加。在此，作为有机溶剂，例如可以使用甲苯、二甲苯等芳香族烃系溶剂；乙酸乙酯、乙酸丁酯等酯系溶剂；丙醇、异丙醇等脂肪族醇系溶剂；丙酮、甲乙酮和甲基异丁基酮等酮系溶剂等。

应力缓和层可以仅包含上述丙烯酸系树脂，也可以组合使用交联剂而形成。作为交联剂，可例示作为2价以上的金属离子、且在与羧基之间形成羧酸金属盐的交联剂；作为多胺化合物、且在与羧基之间形成酰胺键的交联剂；作为多环氧化合物、多元醇、且在与羧基之间形成酯键的交联剂；作为多异氰酸酯化合物、且在与羧基之间形成酰胺键的交联剂。

应力缓和层中除了上述丙烯酸系树脂成分以外，还可以根据需要包含对于控制应力缓和层与相邻的层的剥离性、密合性有用的成分等。作为这样的成分，例如可举出异氰酸酯系化合物、硅烷系化合物、抗静电成分等。在应力缓和层形成用组合物包含这些成分的情况下，其含量根据配合的成分、所期望的效果等适当确定即可。

在本发明的一个实施方式中，第1应力缓和层优选以能够从在该层的与第1基材膜相反侧的面相邻的层剥离的方式包含如上所述的有用的成分而构成。另外，作为其他方法，例如可以对第1基材膜适当实施表面处理等，以提高第1基材膜与第1应力缓和层间的密合力。

另一方面，第2应力缓和层是将第2基材膜剥离后组装到显示装置内部的层，优选为与在该层的与第2基材膜相反侧的面相邻的层具有适度的密合性而层叠的层。

应力缓和层例如可以通过如下方法来设置：利用棒涂法等将使作为主成分的上述丙烯酸系树脂溶解于溶剂而成的应力缓和层形成用组合物涂布于要层叠应力缓和层的基材膜或剥离力调整层上，并使其干燥。作为溶剂，可举出与在丙烯酸系树脂的制备方法中例示的溶剂相同的溶剂。

应力缓和层的厚度根据应力缓和层的构成、显示装置的构成、大小等适当确定即可。

在本发明的一个实施方式中，第1应力缓和层和第2应力缓和层的厚度分别优选为5～80μm，更优选为10μm以上，进一步优选为15μm以上，另外，更优选为50μm以下，进一步优选为30μm以下。第1应力缓和层的厚度与第2应力缓和层的厚度可以相同也可以不同。

〔偏振层〕

在本发明中，偏振层为具有偏振功能的层(偏振片)。偏振层包含作为具有吸收各向异性的色素的二色性色素，从有利于光学层叠体的薄型化的观点出发，在本发明的光学层叠体中，偏振层优选为涂覆层，优选为由包含至少1种液晶化合物、优选包含聚合性液晶化合物和二色性色素的聚合性液晶组合物(以下，也称为“偏振层形成用组合物”)形成的固化层。

形成本发明的偏振层的偏振层形成用组合物中所含的聚合性液晶化合物(以下，也称为“聚合性液晶化合物(A)”)是具有至少1个聚合性基团的化合物。在此，聚合性基团是指能够通过由聚合引发剂产生的活性自由基、酸等而参与聚合反应的基团。作为聚合性液晶化合物(A)所具有的聚合性基团，例如可举出乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、(甲基)丙烯酰基、环氧乙烷基、氧杂环丁基等。其中，优选自由基聚合性基团，更优选(甲基)丙烯酰基、乙烯基、乙烯氧基，进一步优选(甲基)丙烯酰基。如果形成偏振层的聚合性液晶化合物具有与形成后述的用于形成偏振层的取向膜的化合物所具有的官能团相同的官能团(聚合性基团)、例如(甲基)丙烯酰基，则取向膜和偏振层间的相容性高，能够显现层间的优异的密合性。

在本发明中，聚合性液晶化合物(A)优选为显示近晶液晶性的化合物。通过使用显示近晶液晶性的聚合性液晶化合物，能够形成取向有序度高的偏振层。从能够实现更高的取向有序度的观点出发，聚合性液晶化合物(A)所显示的液晶状态更优选为高阶近晶相(高阶近晶液晶状态)。在此，高阶近晶相是指近晶B相、近晶D相、近晶E相、近晶F相、近晶G相、近晶H相、近晶I相、近晶J相、近晶K相和近晶L相，其中，更优选近晶B相、近晶F相和近晶I相。液晶性可以为热致性液晶，也可以为溶致性液晶，从能够进行致密的膜厚控制的方面考虑，优选热致性液晶。另外，聚合性液晶化合物(A)可以为单体，也可以为聚合性基团聚合而成的低聚物，还可以为聚合物。

作为聚合性液晶化合物(A)，只要是具有至少1个聚合性基团的液晶化合物就没有特别限定，可以使用公知的聚合性液晶化合物，优选显示近晶液晶性的化合物。作为这样的聚合性液晶化合物，例如可举出下述式(A1)所示的化合物(以下，有时称为“聚合性液晶化合物(A1)”)。

U¹-V¹-W¹-(X¹-Y¹)_n-X²-W²-V²-U² (A1)

[式(A1)中，

X¹和X²各自独立地表示2价的芳香族基团或2价的脂环式烃基，在此，该2价的芳香族基团或2价的脂环式烃基中包含的氢原子可以被卤素原子、碳原子数1～4的烷基、碳原子数1～4的氟烷基、碳原子数1～4的烷氧基、氰基或硝基取代，构成该2价的芳香族基团或2价的脂环式烃基的碳原子可以被氧原子或硫原子或氮原子置换。其中，X¹和X²中的至少1个为可以具有取代基的1,4-亚苯基或可以具有取代基的环己烷-1,4-二基。

Y¹为单键或二价的连接基团。

n为1～3，在n为2以上的情况下，多个X¹可以彼此相同，也可以不同。X²可以与多个X¹中的任一个或全部相同，也可以不同。另外，在n为2以上的情况下，多个Y¹可以彼此相同，也可以不同。从液晶性的观点出发，n优选为2以上。

U¹表示氢原子或聚合性基团。

U²表示聚合性基团。

W¹和W²各自独立地为单键或二价的连接基团。

V¹和V²各自独立地表示可以具有取代基的碳原子数1～20的烷二基，构成该烷二基的-CH₂-可以被-O-、-CO-、-S-或NH-置换。]

聚合性液晶化合物(A1)中，X¹和X²各自独立地优选为可以具有取代基的1,4-亚苯基或可以具有取代基的环己烷-1,4-二基，X¹和X²中的至少1个为可以具有取代基的1,4-亚苯基或可以具有取代基的环己烷-1,4-二基，优选为反式-环己烷-1,4-二基。作为可以具有取代基的1,4-亚苯基或可以具有取代基的环己烷-1,4-二基任选地具有的取代基，可举出甲基、乙基和丁基等碳原子数1～4的烷基、氰基和氯原子、氟原子等卤素原子。优选为未经取代。

另外，从容易显现近晶液晶性的方面考虑，聚合性液晶化合物(A1)优选在式(A1)中由式(A1-1)表示的部分〔以下，也称为部分结构(A1-1)〕为非对称结构，

-(X¹-Y¹)_n-X²- (A1-1)

〔式中，X¹、Y¹、X²和n分别表示与上述相同的含义。〕。

作为部分结构(A1-1)为非对称结构的聚合性液晶化合物(A1)，例如可举出n为1、1个X¹与X²为彼此不同的结构的聚合性液晶化合物(A1)。另外，还可举出n为2、2个Y¹为彼此相同的结构、且2个X¹为彼此相同的结构、1个X²为与这2个X¹不同的结构的聚合性液晶化合物(A1)；2个X¹中的与W¹键合的X¹为与另一个X¹和X²不同的结构、且另一个X¹与X²彼此相同的结构的聚合性液晶化合物(A1)。此外，可举出n为3、3个Y¹彼此为相同的结构、3个X¹和1个X²中的任1个为与其他3个全部不同的结构的聚合性液晶化合物(A1)。

Y¹优选-CH₂CH₂-、-CH₂O-、-CH₂CH₂O-、-COO-、-OCOO-、单键、-N＝N-、-CR^a＝CR^b-、-C≡C-、-CR^a＝N-或-CO-NR^a-。R^a和R^b各自独立地表示氢原子或碳原子数1～4的烷基。Y¹更优选为-CH₂CH₂-、-COO-或单键，在存在多个Y¹的情况下，与X²键合的Y¹更优选为-CH₂CH₂-或CH₂O-。在X¹和X²全部为相同结构的情况下，优选存在彼此为不同的键合方式的2个以上的Y¹。在存在为彼此不同的键合方式的多个Y¹的情况下，成为非对称结构，因此有容易表现出近晶液晶性的趋势。

U²为聚合性基团。U¹为氢原子或聚合性基团，优选为聚合性基团。优选U¹和U²均为聚合性基团，优选均为自由基聚合性基团。作为聚合性基团，可举出与作为聚合性液晶化合物(A)所具有的聚合性基团而在前面例示的基团同样的基团。U¹所示的聚合性基团与U²所示的聚合性基团可以彼此不同，但优选为相同种类的基团，优选U¹和U²中的至少一者为(甲基)丙烯酰基，更优选两者为(甲基)丙烯酰基。另外，聚合性基团可以为进行了聚合的状态，也可以为未聚合的状态，优选为未聚合的状态。

作为V¹和V²所示的烷二基，可举出亚甲基、亚乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、癸烷-1,10-二基、十四烷-1,14-二基和二十烷-1,20-二基等。V¹和V²优选为碳原子数2～12的烷二基，更优选为碳原子数6～12的烷二基。

作为该烷二基所任选具有的取代基，可举出氰基和卤素原子等，该烷二基优选为未经取代，更优选为未经取代的直链状烷二基。

W¹和W²相互独立地优选为单键、-O-、-S-、-COO-或-OCOO-，更优选为单键或-O-。

作为聚合性液晶化合物(A)，只要是具有至少1个聚合性基团的聚合性液晶化合物就没有特别限定，可以使用公知的聚合性液晶化合物，优选显示近晶液晶性，作为容易显示近晶液晶性的结构，优选在分子结构中具有非对称性的分子结构，具体而言，更优选为具有下述(A-a)～(A-i)的部分结构且显示近晶液晶性的聚合性液晶化合物。从容易显示高阶近晶液晶性的观点出发，更优选具有(A-a)、(A-b)或(A-c)的部分结构。需要说明的是，在下述(A-a)～(A-i)中，＊表示连接键(单键)。

【化学式1】

作为聚合性液晶化合物(A)，具体而言，例如可举出式(A-1)～式(A-25)所示的化合物。在聚合性液晶化合物(A)具有环己烷-1,4-二基的情况下，该环己烷-1,4-二基优选为反式体。

【化学式2】

【化学式3】

【化学式4】

其中，优选选自式(A-2)、式(A-3)、式(A-4)、式(A-5)、式(A-6)、式(A-7)、式(A-8)、式(A-13)、式(A-14)、式(A-15)、式(A-16)和式(A-17)所示的化合物中的至少1种。作为聚合性液晶化合物(A)，可以单独使用1种，也可以组合使用2种以上。

聚合性液晶化合物(A)例如可以是通过Lub等、Recl.Trav.Chim.Pays-Bas，115，321-328(1996)、或日本专利第4719156号等中记载的公知的方法制造的。

在本发明中，偏振层形成用组合物可以包含除了聚合性液晶化合物(A)以外的其他聚合性液晶化合物，从得到取向有序度高的偏振层的观点出发，相对于偏振层形成用组合物中包含的全部聚合性液晶化合物的总质量，聚合性液晶化合物(A)的比例优选为51质量％以上，更优选为70质量％以上，进一步优选为90质量％以上。

在偏振层形成用组合物包含2种以上的聚合性液晶化合物(A)的情况下，可以是其中的至少1种为聚合性液晶化合物(A1)，也可以是其全部为聚合性液晶化合物(A1)。通过组合多种聚合性液晶化合物，有时即使在液晶-结晶相变温度以下的温度下也能够暂时保持液晶性。

相对于偏振层形成用组合物的固体成分，偏振层形成用组合物中的聚合性液晶化合物的含量优选为40～99.9质量％，更优选为60～99质量％，进一步优选为70～99质量％。如果聚合性液晶化合物的含量为上述范围内，则存在聚合性液晶化合物的取向性变高的趋势。需要说明的是，此处所说的“固体成分”是指从偏振层形成用组合物中除去溶剂等挥发成分后的成分，以下，在本说明书中称为“固体成分”的情况下，同样地是指从作为对象的组合物中除去溶剂等挥发性成分后的成分。

在本发明中，形成偏振层的偏振层形成用组合物通常包含二色性色素。在此，二色性色素是指具有分子的长轴方向上的吸光度与短轴方向上的吸光度不同的性质的色素。本发明中可以使用的二色性色素只要具有上述性质就没有特别限制，可以为染料，也可以为颜料。另外，可以分别组合使用2种以上的染料或颜料，也可以组合使用染料与颜料。另外，二色性色素可以具有聚合性，也可以具有液晶性。

作为二色性色素，优选在300～700nm的范围具有极大吸收波长(λ_MAX)的二色性色素。作为这样的二色性色素，例如可举出吖啶色素、噁嗪色素、花青色素、萘色素、偶氮色素和蒽醌色素等。

作为偶氮色素，可举出单偶氮色素、双偶氮色素、三偶氮色素、四偶氮色素和芪(stilbene)偶氮色素等，优选双偶氮色素和三偶氮色素，例如可举出式(I)所示的化合物(以下，也称为“化合物(I)”)。

K¹(-N＝N-K²)_p-N＝N-K³ (I)

[式(I)中，K¹和K³相互独立地表示可以具有取代基的苯基、可以具有取代基的萘基、可以具有取代基的苯甲酸苯酯基或可以具有取代基的1价的杂环基。K²表示可以具有取代基的对亚苯基、可以具有取代基的萘-1,4-二基、可以具有取代基的4,4’-亚芪基或可以具有取代基的2价的杂环基。p表示0～4的整数。在p为2以上的整数的情况下，多个K²可以彼此相同或不同。在可见光区域显示吸收的范围内，-N＝N-键合可以被-C＝C-、-COO-、-NHCO-、-N＝CH-键置换。]

作为1价的杂环基，例如可举出从喹啉、噻唑、苯并噻唑、噻吩并噻唑、咪唑、苯并咪唑、噁唑、苯并噁唑等杂环化合物中除去1个氢原子而得到的基团。作为2价的杂环基，可举出从上述杂环化合物中除去2个氢原子而得到的基团。

作为K¹和K³中的苯基、萘基、苯甲酸苯酯基和1价的杂环基、以及K²中的对亚苯基、萘-1,4-二基、4,4’-亚芪基和2价的杂环基任选地具有的取代基，可举出碳原子数1～20的烷基、具有聚合性基团的碳原子数1～20的烷基、碳原子数1～4的烯基；甲氧基、乙氧基、丁氧基等碳原子数1～20的烷氧基；具有聚合性基团的碳原子数1～20的烷氧基；三氟甲基等碳原子数1～4的氟代烷基；氰基；硝基；卤素原子；氨基、二乙基氨基、吡咯烷基等取代或未经取代氨基(取代氨基是指具有1个或2个碳原子数1～6的烷基的氨基、具有1个或2个具有聚合性基团的碳原子数1～6的烷基的氨基、或者2个取代烷基相互键合而形成碳原子数2～8的烷二基的氨基。未经取代氨基为-NH₂。)等。需要说明的是，作为上述聚合性基团，可举出(甲基)丙烯酰基、(甲基)丙烯酰氧基等。

化合物(I)中，优选以下的式(I-1)～式(I-8)中的任一式所示的化合物。

【化学式5】

[式(I-1)～(I-8)中，

B¹～B³⁰各自独立地表示氢原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数1～6的烯基、碳原子数1～4的烷氧基、氰基、硝基、取代或未经取代的氨基(取代氨基和未经取代氨基的定义如上所述)、氯原子或三氟甲基。

n1～n4相互独立地表示0～3的整数。

在n1为2以上的情况下，多个B²彼此可以相同也可以不同，

在n2为2以上的情况下，多个B⁶彼此可以相同也可以不同，

在n3为2以上的情况下，多个B⁹彼此可以相同也可以不同，

在n4为2以上的情况下，多个B¹⁴彼此可以相同也可以不同。]

作为上述蒽醌色素，优选式(I-9)所示的化合物。

【化学式6】

[式(I-9)中，

R¹～R⁸各自独立地表示氢原子、-R^x、-NH₂、-NHR^x、-NR^x ₂、-SR^x或卤素原子。

R^x表示碳原子数1～6的烷基或碳原子数6～12的芳基。]

作为上述噁嗪酮(日文：オキサゾン)色素，优选式(I-10)所示的化合物。

【化学式7】

[式(I-10)中，

R⁹～R¹⁵各自独立地表示氢原子、-R^x、-NH₂、-NHR^x、-NR^x ₂、-SR^x或卤素原子。

R^x表示碳原子数1～6的烷基或碳原子数6～12的芳基。]

作为上述吖啶色素，优选式(I-11)所示的化合物。

【化学式8】

[式(I-11)中，

R¹⁶～R²³各自独立地表示氢原子、-R^x、-NH₂、-NHR^x、-NR^x ₂、-SR^x或卤素原子。

R^x表示碳原子数1～6的烷基或碳原子数6～12的芳基。]

在式(I-9)、式(I-10)和式(I-11)中，作为R^x的碳原子数1～6的烷基，可举出甲基、乙基、丙基、丁基、戊基和己基等，作为碳原子数6～12的芳基，可举出苯基、甲苯基、二甲苯基和萘基等。

作为上述花青色素，优选式(I-12)所示的化合物和式(I-13)所示的化合物。

【化学式9】

[式(I-12)中，

D¹和D²相互独立地表示式(I-12a)～式(I-12d)中的任一式所示的基团。

【化学式10】

n5表示1～3的整数。]

【化学式11】

[式(I-13)中，

D³和D⁴相互独立地表示式(I-13a)～式(1-13h)中的任一式所示的基团。

【化学式12】

n6表示1～3的整数。]

这些二色性色素中，偶氮色素的直线性高，因此适合于偏振性能优异的偏振层的制作。因此，在本发明的一个实施方式中，形成偏振层的偏振层形成用组合物中所含的二色性色素优选为偶氮色素。

在本发明中，二色性色素的重均分子量通常为300～2000，优选为400～1000。

在本发明的一个实施方式中，形成偏振层的偏振层形成用组合物中所含的二色性色素优选为疏水性。如果二色性色素为疏水性，则二色性色素与聚合性液晶化合物的相容性提高，形成二色性色素与聚合性液晶化合物均匀的相状态，能够得到具有高取向有序度的偏振层。需要说明的是，在本发明中，疏水性的二色性色素是指在25℃、100g的水中的溶解度为1g以下的色素。

偏振层形成用组合物中的二色性色素的含量可以根据所使用的二色性色素的种类等适当确定，相对于聚合性液晶化合物100质量份，优选为0.1～50质量份，更优选为0.1～20质量份，进一步优选为0.1～12质量份。如果二色性色素的含量为上述范围内，则不易扰乱聚合性液晶化合物的取向，能够得到具有高取向有序度的偏振层。

在本发明中，用于形成偏振层的偏振层形成用组合物可以含有聚合引发剂。聚合引发剂是能够引发聚合性液晶化合物的聚合反应的化合物，从能够在更低温条件下引发聚合反应的方面考虑，优选光聚合引发剂。具体而言，可举出通过光的作用而产生活性自由基或酸的光聚合引发剂，其中，优选通过光的作用而产生自由基的光聚合引发剂。聚合引发剂可以单独使用或组合使用两种以上。

作为光聚合引发剂，可以使用公知的光聚合引发剂，例如，作为产生活性自由基的光聚合引发剂，有自裂解型的光聚合引发剂、夺氢型的光聚合引发剂。

作为自裂解型的光聚合引发剂，可以使用自裂解型的苯偶姻系化合物、苯乙酮系化合物、羟基苯乙酮系化合物、α-氨基苯乙酮系化合物、肟酯系化合物、酰基氧化膦系化合物、偶氮系化合物等。另外，作为夺氢型光聚合引发剂，可以使用夺氢型的二苯甲酮系化合物、苯偶姻醚系化合物、苯偶酰缩酮系化合物、二苯并环庚酮(日文：ジベンゾスベロン)系化合物、蒽醌系化合物、呫吨酮系化合物、噻吨酮系化合物、卤代苯乙酮系化合物、二烷氧基苯乙酮系化合物、卤代双咪唑系化合物、卤代三嗪系化合物、三嗪系化合物等。

作为产生酸的光聚合引发剂，可以使用碘鎓盐和锍盐等。

其中，从防止色素溶解的观点出发，优选低温下的反应，从低温下的反应效率的观点出发，优选自裂解型的光聚合引发剂，特别优选苯乙酮系化合物、羟基苯乙酮系化合物、α-氨基苯乙酮系化合物，肟酯系化合物。

作为光聚合引发剂，具体而言，例如可举出以下物质。

苯偶姻、苯偶姻甲醚、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙基醚和苯偶姻异丁基醚等苯偶姻系化合物；

2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮、1,2-二苯基-2,2-二甲氧基乙烷-1-酮、2-羟基-2-甲基-1-〔4-(2-羟基乙氧基)苯基〕丙烷-1-酮、1-羟基环己基苯基酮和2-羟基-2-甲基-1-〔4-(1-甲基乙烯基)苯基〕丙烷-1-酮的低聚物等羟基苯乙酮系化合物；

2-甲基-2-吗啉代-1-(4-甲硫基苯基)丙烷-1-酮、2-二甲基氨基-2-苄基-1-(4-吗啉代苯基)丁烷-1-酮等α-氨基苯乙酮系化合物；

1,2-辛二酮、1-[4-(苯基硫基)-，2-(O-苯甲酰基肟)]、乙酮，1-[9-乙基-6-(2-甲基苯甲酰基)-9H-咔唑-3-基]-，1-(O-乙酰基肟)等肟酯系化合物；2,4,6-三甲基苯甲酰基二苯基氧化膦和双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)苯基氧化膦等酰基氧化膦系化合物；

二苯甲酮、邻苯甲酰基苯甲酸甲酯、4-苯基二苯甲酮、4-苯甲酰基-4’-甲基二苯硫醚、3,3’,4,4’-四(叔丁基过氧羰基)二苯甲酮和2,4,6-三甲基二苯甲酮等二苯甲酮化合物；

二乙氧基苯乙酮等二烷氧基苯乙酮系化合物；

2,4-双(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯基)-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-(4-甲氧基萘基)-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-(4-甲氧基苯乙烯基)-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-〔2-(5-甲基呋喃-2-基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-〔2-(呋喃-2-基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪、2,4-双(三氯甲基)-6-〔2-(4-二乙氨基-2-甲基苯基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪和2,4-双(三氯甲基)-6-〔2-(3,4-二甲氧基苯基)乙烯基〕-1,3,5-三嗪等三嗪系化合物。光聚合引发剂例如从上述光聚合引发剂中在与偏振层形成用组合物中所含的聚合性液晶化合物的关系中适当选择即可。

另外，可以使用市售的光聚合引发剂。作为市售的聚合引发剂，可举出Irgacure(イルガキュア)(注册商标)907、184、651、819、250、和369、379、127、754、OXE01、OXE02、OXE03(BASF公司制)；Omnirad BCIM、Esacure 1001M、Esacure KIP160(IDM Resins B.V.公司制)；SEIKUOL(注册商标)BZ、Z和BEE(精工化学株式会社制)；kayacure(カヤキュアー)(注册商标)BP100和UVI-6992(DOW Chemical株式会社制)；ADEKA OPTOMER SP-152、N-1717、N-1919、SP-170、ADEKA ARKLS NCI-831、ADEKA ARKLS NCI-930(株式会社ADEKA制)；TAZ-A和TAZ-PP(日本Siber Hegner株式会社制)；以及，TAZ-104(株式会社Sanwa Chemical制)等。

用于形成偏振层的偏振层形成用组合物中的聚合引发剂的含量相对于聚合性液晶化合物100质量份优选为1～10质量份，更优选为1～8质量份，进一步优选为2～8质量份，特别优选为4～8质量份。如果聚合引发剂的含量为上述的范围内，则能够不大幅扰乱聚合性液晶化合物的取向地进行聚合性液晶化合物的聚合反应。

另外，在本发明中，从制造时的生产线污染、处理的观点出发，聚合性液晶化合物的聚合率优选为60％以上，更优选为65％以上，进一步优选为70％以上。

偏振层形成用组合物还可以含有光敏剂。通过使用光敏剂，能够进一步促进聚合性液晶化合物的聚合反应。作为光敏剂，可举出呫吨酮、噻吨酮等呫吨酮化合物(例如2,4-二乙基噻吨酮、2-异丙基噻吨酮等)；蒽、含烷氧基的蒽(例如二丁氧基蒽等)等蒽化合物；吩噻嗪和红荧烯等。光敏剂可以单独使用或组合使用2种以上。

在偏振层形成用组合物包含光敏剂的情况下，其含量根据聚合引发剂和聚合性液晶化合物的种类及其量适当确定即可，相对于聚合性液晶化合物100质量份优选为0.1～30质量份，更优选为0.5～10质量份，进一步优选为0.5～8质量份。

另外，偏振层形成用组合物可以包含流平剂。流平剂具有调整偏振层形成用组合物的流动性、使通过涂布该偏振层形成用组合物而得到的涂膜更平坦的功能，具体而言，可举出表面活性剂。作为流平剂，优选选自以聚丙烯酸酯化合物为主成分的流平剂和以含氟原子化合物为主成分的流平剂中的至少1种。流平剂可以单独使用或组合使用2种以上。

作为以聚丙烯酸酯化合物为主成分的流平剂，例如可举出“BYK-350”、“BYK-352”、“BYK-353”、“BYK-354”、“BYK-355”、“BYK-358N”、“BYK-361N”、“BYK-380”、“BYK-381”和“BYK-392”(BYK Chemie公司)。

作为以含氟原子化合物为主成分的流平剂，例如可举出“MEGAFAC(注册商标)R-08”、MEGAFAC“R-30”、MEGAFAC“R-90”、MEGAFAC“F-410”、MEGAFAC“F-411”、MEGAFAC“F-443”、MEGAFAC“F-445”、MEGAFAC“F-470”、MEGAFAC“F-471”、MEGAFAC“F-477”、MEGAFAC“F-479”、MEGAFAC“F-482”和MEGAFAC“F-483”(DIC株式会社)；“Surflon(注册商标)S-381”、Surflon“S-382”、Surflon“S-383”、Surflon“S-393”、Surflon“SC-101”、Surflon“SC-105”、“KH-40”和“SA-100”(AGC Seimi Chemical株式会社)；“E1830”、“E5844”(株式会社Daikin FineChemical研究所)；“EFTOP EF301”、“EFTOP EF303”、“EFTOP EF351”和“EFTOP EF352”(Mitsubishi Materials Electronic Chemicals株式会社)。

在偏振层形成用组合物含有流平剂的情况下，其含量相对于聚合性液晶化合物100质量份优选为0.05～5质量份，更优选为0.05～3质量份。如果流平剂的含量为上述的范围内，则存在容易使聚合性液晶化合物取向、且不易产生不均、可以得到更平滑的偏振层的趋势。

偏振层形成用组合物，可以含有光敏剂和流平剂以外的其他添加剂。作为其他添加剂，例如可举出抗氧化剂、脱模剂、稳定剂、上蓝剂等着色剂、阻燃剂和润滑剂等。在偏振层形成用组合物含有其他添加剂的情况下，其他添加剂的含量相对于偏振层形成用组合物的固体成分优选为超过0％且20质量％以下，更优选为超过0％且10质量％以下。

偏振层形成用组合物可以通过以往公知的偏振层形成用组合物的制备方法来制造，通常可以通过将聚合性液晶化合物和二色性色素、以及根据需要的聚合引发剂和上述添加剂等混合、搅拌来制备。另外，通常显示近晶液晶性的化合物的粘度高，因此从提高偏振层形成用组合物的涂布性而使偏振层的形成变得容易的观点出发，可以通过在偏振层形成用组合物中加入溶剂来进行粘度调整。

用于偏振层形成用组合物的溶剂可以根据所使用的聚合性液晶化合物和二色性色素的溶解性等适当选择。具体而言，例如可举出水、甲醇、乙醇、乙二醇、异丙醇、丙二醇、甲基溶纤剂、丁基溶纤剂、丙二醇单甲醚等醇溶剂、乙酸乙酯、乙酸丁酯、乙二醇甲基醚乙酸酯、γ-丁内酯、丙二醇甲基醚乙酸酯、乳酸乙酯等酯溶剂、丙酮、甲乙酮、环戊酮、环己酮、甲基戊基酮、甲基异丁基酮等酮溶剂、戊烷、己烷、庚烷等脂肪族烃溶剂、甲苯、二甲苯等芳香族烃溶剂、乙腈等腈溶剂、四氢呋喃、二甲氧基乙烷等醚溶剂、以及氯仿、氯苯等氯化烃溶剂等。这些溶剂可以单独使用或组合使用2种以上。溶剂的含量相对于偏振层形成用组合物的固体成分100质量份优选为100～1900质量份，更优选为150～900质量份，进一步优选为180～600质量份。

在本发明中，偏振层优选为取向有序度高的偏振片。取向有序度高的偏振片在X射线衍射测定中可以得到来自于六角相、结晶相之类的高阶结构的布拉格峰。布拉格峰是指来自于分子取向的面周期结构的峰。因此，构成本发明的光学层叠体的偏振层优选在X射线衍射测定中显示布拉格峰。即，在构成本发明的光学层叠体的偏振层中，聚合性液晶化合物或其聚合物优选以在X射线衍射测定中该偏振层显示布拉格峰的方式取向，更优选聚合性液晶化合物的分子沿吸收光的方向取向的“水平取向”。在本发明中，优选分子取向的面周期间隔为

的偏振片。显示布拉格峰那样的高取向有序度可以通过控制所使用的聚合性液晶化合物的种类、二色性色素的种类或其量、以及聚合引发剂的种类或其量等来实现。

在本发明中，偏振层例如可以通过包括如下步骤的方法而得到：在基材或后述的取向膜上形成偏振层形成用组合物的涂膜，从该涂膜除去溶剂，升温至聚合性液晶化合物相变为液体相的温度以上后进行降温，使该聚合性液晶化合物相变为液晶相(近晶相)，以及在保持上述液晶相的状态下使聚合性液晶化合物聚合。

作为将偏振层形成用组合物涂布于基材或取向膜的方法，例如可举出旋涂法、挤出法、凹版涂覆法、模涂法、棒涂法、涂敷器法等涂布法、柔印法等印刷法等已知的方法。

接下来，在由偏振层形成用组合物得到的涂膜中所含的聚合性液晶化合物不发生聚合的条件下，通过干燥等除去溶剂，由此形成干燥涂膜。作为干燥方法，可举出自然干燥法、通风干燥法、加热干燥和减压干燥法等。

此外，为了使聚合性液晶化合物相变为液体相，升温至聚合性液晶化合物相变为液体相的温度以上后进行降温，使该聚合性液晶化合物相变为液晶相(近晶相)。该相变可以在上述涂膜中的溶剂除去后进行，也可以与溶剂的除去同时进行。

通过在保持聚合性液晶化合物的液晶状态的状态下使聚合性液晶化合物聚合，从而以偏振层形成用组合物的固化物的形式形成偏振层。作为聚合方法，优选光聚合法。在光聚合中，作为向干燥涂膜照射的光，根据该干燥涂膜中所含的聚合性液晶化合物的种类(特别是该聚合性液晶化合物所具有的聚合性基团的种类)、聚合引发剂的种类和它们的量等适当选择。作为其具体例，可举出选自可见光、紫外光、红外光、X射线、α线、β线和γ射线中的1种以上的光、活性电子束。其中，从容易控制聚合反应推进的方面、作为光聚合装置可以使用在本领域中广泛使用的装置的方面考虑，优选紫外光，优选以能够通过紫外光进行光聚合的方式预先选择偏振层形成用组合物中含有的聚合性液晶化合物、聚合引发剂的种类。另外，聚合时，也可以通过一边利用适当的冷却方式将干燥涂膜冷却一边进行光照射，从而控制聚合温度。在进行光聚合时，也可以通过进行掩蔽、显影等，从而得到经图案化的偏振层。

作为上述活性能量射线的光源，可举出低压汞灯、中压汞灯、高压汞灯、超高压汞灯、氙灯、卤素灯、碳弧灯、钨灯、镓灯、准分子激光、发出波长范围380～440nm的LED光源、化学灯、黑光灯、微波激发汞灯、金属卤化物灯等。

紫外线照射强度通常为10～3,000mW/cm²。紫外线照射强度优选为对光聚合引发剂的活化有效的波长区域中的强度。照射光的时间通常为0.1秒～10分钟，优选为1秒～5分钟，更优选为5秒～3分钟，进一步优选为10秒～1分钟。如果以这样的紫外线照射强度照射1次或多次，则其累积光量为10～3,000mJ/cm²，优选为50～2,000mJ/cm²，更优选为100～1,000mJ/cm²。

通过进行光聚合，聚合性液晶化合物在保持为液晶相、特别是近晶相、优选高阶近晶相的液晶状态的状态下进行聚合，形成偏振层。对于聚合性液晶化合物在保持为近晶相的液晶状态的状态下进行聚合而得到的偏振层而言，也伴随着上述二色性色素的作用，与以往的主客体型偏振膜、即包含向列相的液晶状态的偏振层相比，具有偏振性能高的优点。此外，与仅涂布了二色性色素、溶致液晶的情况相比，还具有强度优异的优点。

偏振层的厚度可以根据所应用的显示装置适当选择，优选为0.1～5μm，更优选为0.3～4μm，进一步优选为0.5～3μm。如果偏振层的膜厚为上述的下限值以上，则容易防止无法得到所需的光吸收的情况，如果为上述的上限值以下，则容易抑制由取向膜引起的取向控制力的降低所导致的取向缺陷的产生。

偏振层可以形成于取向膜上。取向膜具有使聚合性液晶化合物沿所期望的方向进行液晶取向的取向控制力，通过在取向膜上涂布偏振层形成用组合物，容易得到精度良好地取向了的偏振层。作为取向膜，优选具有不会因上述偏振层形成用组合物的涂布等而溶解的耐溶剂性、并且具有为了进行溶剂的除去、聚合性液晶化合物的取向的加热处理中的耐热性。在本发明中，作为取向膜，从取向角的精度和品质、以及包含取向膜的光学层叠体的耐水性、耐弯曲性等观点出发，优选光取向膜。光取向膜在通过选择照射的偏振光的偏振方向而能够任意地控制取向控制力的方向的方面也是有利的。

光取向膜通常是通过将包含具有光反应性基团的聚合物、低聚物或单体(以下，也称为“具有光反应性基团的聚合物等”)和溶剂的组合物(以下，也称为“光取向膜形成用组合物”)涂布于基材或根据需要设置于基材上的防扩散层上，并照射偏振光(优选偏振UV光)而得到的。作为形成光取向膜的基材，可举出与本发明的光学层叠体的基材膜同样的基材。如果光取向膜形成用组合物中所含的聚合物等具有与形成偏振层的聚合性液晶化合物所具有的聚合性基团所具有的官能团相同的反应性基团(例如(甲基)丙烯酰基)，则存在与偏振层之间的密合性提高的趋势。

光反应性基团是指通过进行光照射而产生液晶取向能力的基团。具体而言，可举出参与通过光照射而发生的分子的取向诱发或异构化反应、二聚化反应、光交联反应或光分解反应等成为液晶取向能力的起源的光反应的基团。其中，参与二聚化反应或光交联反应的基团从取向性优异的方面考虑是优选的。作为光反应性基团，优选具有不饱和键、特别是双键的基团，特别优选具有选自碳-碳双键(C＝C键)、碳-氮双键(C＝N键)、氮-氮双键(N＝N键)和碳-氧双键(C＝O键)中的至少1种的基团。

作为具有C＝C键的光反应性基团，可举出乙烯基、多烯基、芪基、芪唑(日文：スチルバゾール)基、芪唑鎓(日文：スチルバゾリウム)基、查尔酮基和肉桂酰基等。作为具有C＝N键的光反应性基团，可举出芳香族希夫碱、芳香族腙等结构的基团。作为具有N＝N键的光反应性基团，可举出偶氮苯基、偶氮萘基、芳香族杂环偶氮基、双偶氮基、甲臜(formazan)基和具有氧化偶氮苯结构的基团等。作为具有C＝O键的光反应性基团，可举出二苯甲酮基、香豆素基、蒽醌基和马来酰亚胺基等。这些基团可以具有烷基、烷氧基、芳基、烯丙基氧基、氰基、烷氧基羰基、羟基、磺酸基、卤代烷基等取代基。

其中，优选参与光二聚化反应的光反应性基团，从光取向所需的偏振光照射量较少、并且容易得到热稳定性、经时稳定性优异的光取向膜的方面考虑，优选肉桂酰基和查尔酮基。作为具有光反应性基团的聚合物等，特别优选聚合物侧链的末端部具有成为肉桂酸结构那样的肉桂酰基的聚合物。

通过将光取向膜形成用组合物涂布于例如基材或设置于基材上的防扩散层上，能够形成光取向诱发层。作为该组合物中所含的溶剂，可举出与作为形成偏振层时可以使用的溶剂而在上文中例示的溶剂同样的溶剂，可以根据具有光反应性基团的聚合物等的溶解性而适当选择。

光取向膜形成用组合物中的具有光反应性基团的聚合物等的含量可以根据聚合物等的种类、目标光取向膜的厚度而适当调节，相对于光取向膜形成用组合物的质量优选至少设为0.2质量％，更优选设为0.3～10质量％的范围。在不显著损害光取向膜的特性的范围内，光取向膜形成用组合物可以包含聚乙烯醇、聚酰亚胺等高分子材料、光敏剂。

作为将光取向膜形成用组合物涂布于基材上或防扩散层上的方法、以及从所涂布的光取向膜形成用组合物中除去溶剂的方法，可举出与将偏振层形成用组合物涂布于基材等的方法和除去溶剂的方法相同的方法。

对于偏振光的照射而言，可以是对从光取向膜形成用组合物的涂膜除去溶剂后的产物直接照射偏振UV光的形式，也可以是从基材侧照射偏振光、使偏振光透射从而进行照射的形式。另外，该偏振光特别优选实质上为平行光。所照射的偏振光的波长为具有光反应性基团的聚合物等的光反应性基团能够吸收光能的波长区域的即可。具体而言，特别优选波长250～400nm的范围的UV(紫外线)。作为该偏振光照射中使用的光源，可举出氙灯、高压汞灯、超高压汞灯、金属卤化物灯、KrF、ArF等紫外光激光等，更优选高压汞灯、超高压汞灯和金属卤化物灯。其中，高压汞灯、超高压汞灯和金属卤化物灯由于波长313nm的紫外线的发光强度大，因此优选。使来自于上述光源的光通过适当的偏振片进行照射，由此能够照射偏振UV光。作为该偏振片，可以使用偏振滤光片、格兰-汤普森、格兰-泰勒等的偏振棱镜、线栅型的偏振片。

需要说明的是，在进行偏振光照射时，如果进行掩蔽，则也可以形成液晶取向的方向不同的多个区域(图案)。

光取向膜的数均分子量优选为20000～100000，更优选为25000以上，另外，更优选为90000以下，进一步优选为80000以下。如果光取向膜的数均分子量为上述范围内，则与相邻于光取向膜的层的密合性容易提高。光取向膜的数均分子量可以通过光取向膜形成用组合物中使用的单体的量、聚合引发剂的种类、量等来控制。

需要说明的是，这里所说的“光取向膜的数均分子量”实质上相当于构成固化的光取向膜的聚合物的数均分子量，是通过使用凝胶渗透色谱法等的测定设备来测定固化的光取向膜本身而算出的分子量。

光取向膜的厚度优选为10～5000nm，更优选为10～1000nm，进一步优选为30～300nm。如果光取向膜的厚度为上述范围，则能够在与偏振层的界面显现良好的密合性，并且发挥取向控制力，能够以高取向秩序形成偏振层。

〔防扩散层〕

本发明的光学层叠体可以在第1应力缓和层与偏振层之间和/或偏振层与粘合粘接层之间进一步包含防扩散层。通过在第1应力缓和层偏振层之间、偏振层与粘合粘接层之间存在防扩散层，能够有效地抑制偏振层中的二色性色素向其他层的扩散，在将本发明的光学层叠体组装到显示装置等的情况下，能够抑制由二色性色素的扩散引起的光学特性的经时降低。从充分得到该效果的观点出发，防扩散层优选在偏振层的第1应力缓和层侧与偏振层相邻地设置，更优选在偏振层的第1应力缓和层侧和相位差层侧这两侧分别与偏振层相邻地设置或仅隔着形成偏振层的取向膜而设置。在防扩散层设置于偏振层的第1应力缓和层侧和相位差层侧这两侧的情况下，它们可以相同，也可以不同。

作为防扩散层，只要是具有防止二色性色素扩散的功能的层就没有特别限定，例如可举出由包含水溶性聚合物的树脂组合物形成的层、由包含活性能量射线固化性树脂的固化性组合物形成的层等。

水溶性聚合物与二色性色素相比极性大不相同，因此能够妨碍二色性色素的扩散。作为能够形成防扩散层的水溶性聚合物，例如可举出聚丙烯酰胺系聚合物；聚乙烯醇和乙烯-乙烯醇共聚物、(甲基)丙烯酸或其酸酐-乙烯醇共聚物等乙烯醇系聚合物；羧基乙烯基系聚合物；聚乙烯吡咯烷酮；淀粉类；海藻酸钠；或聚环氧乙烷系聚合物等。这些聚合物可以单独使用，也可以组合使用2种以上。

在防扩散层为由包含水溶性聚合物的树脂组合物(以下，也称为“含水溶性聚合物的树脂组合物”)形成的层的情况下，该层中的水溶性聚合物的含量优选为75质量％以上，更优选为80质量％以上，进一步优选为85质量％以上。

在防扩散层为由含水溶性聚合物的树脂组合物形成的层的情况下，为了提高该层的致密性、提高防止二色性色素扩散的功能，可以通过使用交联剂来导入交联结构。作为这样的交联剂，例如，除了乙醛酸盐等离子键合性交联剂、环氧系交联剂等水溶性添加剂、交联剂以外，以赋予耐水性为目的，也可以使用异氰酸酯系交联剂、乙二醛、乙二醛衍生物等多元醛系交联剂、氯化锆系或乳酸钛系等金属化合物系交联剂等疏水性交联剂。

在为了向防扩散层导入交联结构而使用交联剂的情况下，其添加量根据所使用的交联剂的种类等适当确定即可。例如，相对于水溶性聚合物100质量份，可以为0.1～100质量份，优选为1～50质量份，更优选为10～30质量份。如果交联剂的含量为上述范围，则防扩散层变得致密，容易提高对于光吸收各向异性膜中的二色性色素的屏蔽效果。

可以形成防扩散层的含水溶性聚合物的树脂组合物通常以使水溶性聚合物溶解于溶剂而成的溶液的形式制备。溶剂根据所使用的水溶性聚合物选择即可，典型的是，可举出水、醇、水与醇的混合物等，优选水。

通过在水溶性聚合物、交联剂等构成防扩散层的成分中添加溶剂而得到的含水溶性聚合物的树脂组合物的固体成分浓度优选为1～50质量％，更优选为2～30质量％。如果含水溶性聚合物的树脂组合物的固体成分浓度为上述范围内，则该组合物的粘度变低，因此涂覆性、处理性变得良好。

含水溶性聚合物的树脂组合物中除了水溶性聚合物、交联剂和水等溶剂以外，还可以包含添加剂等其他成分。作为这样的其他成分，例如可举出防腐剂、流平剂等。在含水溶性聚合物的树脂组合物包含添加剂等其他成分的情况下，其量基于该树脂组合物的固体成分优选为10质量％以下，更优选为5质量％以下。

例如，在形成防扩散层的面涂覆含水溶性聚合物的树脂组合物，将该涂膜干燥使其固化，由此可以得到防扩散层。

涂布含水溶性聚合物的树脂组合物的方法没有特别限定，可举出与将偏振层形成用组合物涂布于基材等的方法相同的公知的方法。

用于由含水溶性聚合物的树脂组合物的涂膜形成防扩散层的干燥温度、时间等没有特别限定，根据所使用的含水溶性聚合物的树脂组合物的组成等适当确定即可。干燥处理例如可以通过吹送热风等来进行，其温度通常为40～100℃，优选为60～100℃的范围内。另外，干燥时间通常为10～600秒。

活性能量射线固化性树脂可以高度聚合，因此有防止二色性色素扩散的功能优异的趋势。作为包含可以形成防扩散层的活性能量射线固化性树脂的固化性组合物(以下，也称为“防扩散层形成用固化性组合物”)，可举出包含阳离子聚合性化合物作为固化性化合物阳离子聚合型的固化性组合物、包含自由基聚合性化合物作为固化性化合物的自由基聚合型的固化性组合物、包含阳离子聚合性化合物和自由基聚合性化合物这两者的混合型的固化性组合物等。作为阳离子聚合性化合物的具体例，可举出分子内具有1个以上环氧基的环氧化合物、分子内具有1个以上氧杂环丁烷环的氧杂环丁烷化合物、乙烯基化合物等。另外，作为自由基聚合性化合物的具体例，可举出分子内具有1个以上(甲基)丙烯酰基的(甲基)丙烯酸系化合物、乙烯基化合物等。防扩散层形成用固化性组合物可以包含1种或2种以上的阳离子聚合性化合物，并且/或者可以包含1种或2种以上的自由基聚合性化合物。

作为阳离子聚合型的固化性组合物的主成分的阳离子聚合性化合物是指通过紫外线、可见光、电子束、X射线等活性能量射线的照射、加热而推进阳离子聚合反应并固化的化合物或低聚物，可例示环氧化合物、氧杂环丁烷化合物、乙烯基化合物等。其中，优选的阳离子聚合性化合物为环氧化合物。

环氧化合物是指在分子内具有1个以上、优选2个以上环氧基的化合物。环氧化合物可以仅单独使用1种，也可以组合使用2种以上。作为环氧化合物，可举出脂环式环氧化合物、芳香族环氧化合物、氢化环氧化合物、脂肪族环氧化合物等。其中，从耐候性、固化速度和粘接性的观点出发，环氧化合物优选包含脂环式环氧化合物、脂肪族环氧化合物。

在本发明的一个实施方式中，在防扩散层形成用固化性组合物包含环氧化合物作为阳离子聚合性化合物的情况下，环氧化合物的含量相对于固化性组合物的固体成分100质量份优选为10质量份以上，更优选为15质量份以上，进一步优选为20质量份以上，优选为70质量份以下，更优选为60质量份以下，进一步优选为50质量份以下。

在将包含阳离子聚合性化合物的防扩散层形成用固化性组合物(包含混合型的情况)中所含的固化性化合物的总量设为100质量％时，阳离子聚合性化合物的含量(在包含2种以上的阳离子聚合性化合物时为它们的合计含量)优选为50质量％以上，更优选为60质量％以上，进一步优选为70质量％以上。另外，阳离子聚合型的固化性组合物可以进一步包含聚合物成分(热塑性树脂等)。

在防扩散层形成用固化性组合物包含阳离子聚合性化合物的情况下，优选含有光阳离子聚合引发剂。光阳离子聚合引发剂通过可见光线、紫外线、X射线或电子束之类的活性能量射线的照射而产生阳离子种或路易斯酸，引发阳离子固化性化合物的聚合反应。光阳离子聚合引发剂因光而引起催化剂作用，因此即使与光阳离子固化性化合物混合，保存稳定性、作业性也优异。作为通过活性能量射线的照射而产生阳离子种或路易斯酸的化合物，例如可举出芳香族碘鎓盐、芳香族锍盐之类的鎓盐、芳香族重氮盐、铁-芳烃络合物等。

光阳离子聚合引发剂可以仅单独使用1种，也可以组合使用2种以上。其中，芳香族锍盐即使在300nm附近的波长区域也具有紫外线吸收特性，因此能够提供固化性优异、具有良好的机械强度、粘接强度的固化物，因此优选使用。

防扩散层形成用固化性组合物中的光阳离子聚合引发剂的含量相对于固化性化合物的固体成分100质量份优选为1～10质量份，更优选为2～8质量份。如果光阳离子聚合引发剂的含量为上述范围内，则能够使阳离子聚合性化合物充分固化，能够对所得到的防扩散层赋予高的机械强度、粘接强度。

通过在阳离子聚合型的固化性组合物中除了阳离子聚合性化合物以外还含有自由基聚合性化合物，也能够制成混合型的固化性组合物。通过组合使用自由基聚合性化合物，能够期待提高防扩散层的硬度、机械强度的效果，进而更容易进行固化性组合物的粘度、固化速度等的调整。

作为自由基聚合型的固化性组合物的主成分的自由基聚合性化合物是指通过紫外线、可见光、电子束、X射线等活性能量射线的照射、加热而推进自由基聚合反应并固化的化合物或低聚物，具体而言，可举出具有烯属不饱和键的化合物。作为具有烯属不饱和键的化合物，除了在分子内具有1个以上(甲基)丙烯酰基的(甲基)丙烯酸系化合物以外，还可举出苯乙烯、苯乙烯磺酸、乙酸乙烯酯、丙酸乙烯酯、N-乙烯基-2-吡咯烷酮之类的乙烯基化合物等。其中，优选的自由基聚合性化合物为(甲基)丙烯酸系化合物。

(甲基)丙烯酸系化合物是在分子内具有至少1个(甲基)丙烯酰氧基的化合物，可以为单体、低聚物或聚合物。作为(甲基)丙烯酸类化合物，例如可举出单官能(甲基)丙烯酸酯化合物、多官能(甲基)丙烯酸酯化合物等(甲基)丙烯酸酯化合物；多官能氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物等氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物；多官能环氧(甲基)丙烯酸酯化合物等环氧(甲基)丙烯酸酯化合物；羧基改性环氧(甲基)丙烯酸酯化合物、聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物等。(甲基)丙烯酸系化合物可以仅单独使用1种，也可以组合使用2种以上。

作为(甲基)丙烯酸酯化合物，可举出在分子内具有1个(甲基)丙烯酰氧基的单官能(甲基)丙烯酸酯化合物、在分子内具有2个以上(甲基)丙烯酰氧基的多官能(甲基)丙烯酸酯化合物。

在使用多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的情况下，通过控制该化合物的交联点间分子量和交联点数，能够调整防扩散层的交联密度。更详细而言，交联点间分子量越小，则交联密度越提高，并且交联点数越多则交联密度越密，能够提高对光吸收各向异性膜中的二色性色素的屏蔽性。

氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物通常是指异氰酸酯化合物、多元醇化合物和(甲基)丙烯酸酯化合物的反应产物，优选为在分子内具有2个以上(甲基)丙烯酰氧基的多官能氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。多官能氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物能够形成交联结构，因此从提高防扩散层的防止二色性色素扩散的功能的观点出发是有利的，并且能够赋予适度的韧性。多官能氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物的官能团数优选为2～5。

作为环氧(甲基)丙烯酸酯化合物，例如可以通过多缩水甘油醚与(甲基)丙烯酸的加成反应而得到，可举出在分子内具有至少2个(甲基)丙烯酰氧基的多官能环氧(甲基)丙烯酸酯等。作为聚酯(甲基)丙烯酸酯化合物，例如可举出在分子内具有酯键和至少2个(甲基)丙烯酰基(典型的是(甲基)丙烯酰氧基)的化合物。

在本发明的一个实施方式中，在防扩散层形成用固化性组合物含有自由基聚合性化合物的情况下，作为自由基聚合性化合物，优选包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物。在这种情况下，多官能(甲基)丙烯酸酯化合物的含量相对于固化性组合物的固体成分100质量份优选为50质量份以上，更优选为60质量份以上，进一步优选为70质量份以上，优选为100质量份以下，更优选为95质量份以下，进一步优选为90质量份以下。

另外，在本发明的一个实施方式中，在防扩散层形成用固化性组合物含有自由基聚合性化合物的情况下，作为自由基聚合性化合物，优选包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物和多官能氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。这种情况下，优选以优选95：5～50：50、更优选90：10～70：30的比率(多官能(甲基)丙烯酸酯化合物：氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物，质量比)包含多官能(甲基)丙烯酸酯化合物和氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯化合物。

在防扩散层形成用固化性组合物含有自由基聚合性化合物的情况下，优选含有光自由基聚合引发剂。光自由基聚合引发剂是通过可见光线、紫外线、X射线、或电子束之类的活性能量射线的照射而引发自由基固化性化合物的聚合反应的引发剂。光自由基聚合引发剂可以仅单独使用1种，也可以组合使用2种以上。

作为光自由基聚合引发剂的具体例，可举出苯乙酮、3-甲基苯乙酮、苯偶酰二甲基缩酮、1-(4-异丙基苯基)-2-羟基-2-甲基丙烷-1-酮、2-甲基-1-[4-(甲硫基)苯基]-2-吗啉代丙烷-1-酮和2-羟基-2-甲基-1-苯基丙烷-1-酮等苯乙酮系引发剂；二苯甲酮、4-氯二苯甲酮和4,4’-二氨基二苯甲酮等二苯甲酮系引发剂；2,2-二甲氧基-1,2-二苯基乙烷-1-酮、1-羟基-环己基-苯基-酮等烷基苯酮系引发剂；苯偶姻丙醚和苯偶姻乙醚等苯偶姻醚系引发剂；4-异丙基噻吨酮等噻吨酮系引发剂；双(2,4,6-三甲基苯甲酰基)-苯基氧化膦等酰基氧化膦系引发剂；以及呫吨酮、芴酮、樟脑醌、苯甲醛、蒽醌等。

防扩散层形成用固化性组合物中的光自由基聚合引发剂的含量相对于固化性化合物的固体成分100质量份优选为1～10质量份，更优选为2～8质量份。如果光自由基聚合引发剂的含量为上述范围内，则充分表现出聚合引发能力，提高固化性，并且光自由基聚合引发剂不易残留，因此容易抑制可见光线透射率的降低等。

在本发明中，例如为了调整为适于所采用的涂覆方式的粘度，防扩散层形成用固化性组合物可以含有有机溶剂，也可以实质上不含溶剂(无溶剂)。需要说明的是，“实质上不含有”是指不排除不可避免地混入溶剂的情况。

作为溶剂，只要可溶解构成防扩散层的成分即可，可例示与可用于偏振层形成用组合物的溶剂相同的溶剂。这些溶剂可以单独使用，也可以组合使用2种以上。

溶剂的种类和含量根据构成防扩散层的成分的种类、含量、形状、涂布方法、防扩散层的厚度等适当选择。在包含溶剂的情况下，其量例如相对于固化性组合物的固体成分100质量份优选为3～1000质量份，更优选为5～100质量份，进一步优选为7～50质量份。

防扩散层形成用固化性组合物可以根据需要含有阳离子聚合促进剂、光敏剂、离子捕获剂、抗氧化剂、链转移剂、增粘剂、热塑性树脂、填充剂、流动调节剂、增塑剂、消泡剂、抗静电剂、流平剂等添加剂。

例如，在形成防扩散层的面上涂覆防扩散层形成用固化性组合物，向该涂膜照射活性能量射线，使该组合物固化，由此能够得到防扩散层。作为涂布防扩散层形成用固化性组合物的方法、固化中使用的活性能量射线的种类、光源、照射条件等，可以采用与涂布偏振层形成用组合物的方法和固化的方法相同的方法和条件等。

防扩散层的厚度优选为0.1μm以上且5μm以下，更优选为0.3μm以上且4μm以下，进一步优选为0.5μm以上且3μm以下。如果为上述范围内，则能够有效地抑制偏振层中的二色性色素向其他层的扩散。在偏振层的第1应力缓和层侧和相位差层侧这两侧包含防扩散层情况下，其厚度可以相同，也可以不同。

〔相位差层〕

本发明的光学层叠体中所含的相位差层为显现相位差的层。从光学层叠体的薄型化的观点出发，相位差层优选为涂覆层，更优选由包含至少1种聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物的固化层形成。本发明的光学层叠体在将第1基材膜和第2基材膜剥离而出现的2个外层面分别转印而组装到显示装置时，抑制贴合偏移、褶皱等的产生的效果优异，因此通过双面转印而组装到显示装置等后也能够期待高圆偏振功能。在本发明的光学层叠体中，相位差层可以为1个，也可以包含2个以上。

本发明的光学层叠体优选包含满足下述式(3)的相位差层。

120nm≤Re(550)≤170nm (3)

〔式中，Re(λ)表示波长λnm处的相位差层的面内相位差值。〕

如果相位差层的面内相位差Re(550)为式(3)的范围内，则该相位差层成为作为1/4波长板发挥功能的相位差层，将包含该相位差层的光学层叠体(圆偏振板)应用于有机EL显示装置等时使正面反射色调提高的效果(抑制着色的效果)容易提高。面内相位差值的进一步优选的范围为130nm≤Re(550)≤150nm。

另外，满足上述式(3)的相位差层优选满足下述式(4)和(5)。

Re(450)/Re(550)≤1.00 (4)

1.00≤Re(650)/Re(550) (5)

〔式中，Re(λ)表示波长λnm处的相位差层的面内相位差值。〕

在相位差层满足式(4)和(5)的情况下，该相位差层显示出短波长下的面内相位差值小于长波长下的面内相位差值的所谓的逆波长分散性。具有这样的相位差层的光学层叠体(圆偏振板)存在组装于有机EL显示装置等时的正面色调优异的趋势。从逆波长分散性提高、能够进一步提高正面方向的反射色调的提高效果的观点出发，Re(450)/Re(550)优选为0.70以上，更优选为0.78以上，另外，优选为0.92以下，更优选为0.90以下，进一步优选为0.87以下，特别优选为0.86以下，更特别优选为0.85以下。另外，Re(650)/Re(550)优选为1.01以上，更优选为1.02以上。

上述面内相位差值可以通过相位差层的膜厚d来调整。面内相位差值由上述式Re(λ)＝(nx(λ)-ny(λ))×d确定，因此为了得到所期望的面内相位差值(Re(λ)：波长λ(nm)处的相位差层的面内相位差值)，调整三维折射率和膜厚d即可。需要说明的是，在上述式中，d表示作为对象的相位差层的厚度，nx表示在该相位差层所形成的折射率椭圆体中与相位差层的平面平行的方向的波长λnm处的主折射率，ny表示在相位差层所形成的折射率椭圆体中与相位差层的平面平行且与上述nx的方向正交的方向的波长λnm处的折射率。

本发明的光学层叠体优选包含相位差层，该相位差层包含聚合性液晶化合物在相对于基材面内沿水平方向取向了的状态下固化而成的“水平取向液晶固化层”，更优选包含满足上述式(3)～(5)的水平取向液晶固化层。在本发明的光学层叠体包含1个相位差层的情况下，通常构成该相位差层的相位差层为“水平取向液晶固化层”。

本发明的光学层叠体除了包含作为水平取向液晶固化层的相位差层以外，还可以进一步包含作为正C板的液晶固化层(相位差层)的相位差层。作为正C板的液晶固化层是聚合性液晶化合物在相对于基材面沿垂直方向取向了的状态下固化而成的“垂直取向液晶固化层”。通过组合包含作为水平取向液晶固化层的相位差层和作为垂直取向液晶固化层的相位差层，从而在将该光学层叠体应用于有机EL显示装置等的情况下，除了正面反射色调的提高以外，还可以期待斜向反射色调的提高。在本发明的光学层叠体包含垂直取向液晶固化层的情况下，作为该垂直取向液晶固化层的相位差层优选配置于偏振层与第2应力缓和层之间。

在本发明的光学层叠体包含垂直取向液晶固化层的情况下，该液晶固化层优选满足式(6)。

-100nm≤Rth(550)≤-40nm (6)

〔式中，Rth(550)表示液晶固化层的波长550nm处的厚度方向的相位差值，Rth＝((nx(λ)+ny(λ))/2-nz)×d(d表示液晶固化层的厚度，nx表示在液晶固化层所形成的折射率椭圆体中与液晶固化层的平面平行的方向的波长λnm处的主折射率，ny表示在液晶固化层所形成的折射率椭圆体中与液晶固化层的平面平行且与上述nx的方向正交的方向的波长λnm处的折射率，nz表示在液晶固化层所形成的折射率椭圆体中与液晶固化层的平面垂直的方向的波长λnm处的折射率)。〕

在垂直取向液晶固化层满足式(6)的情况下，能够提高将包含该液晶固化层的光学层叠体(圆偏振板)应用于有机EL显示装置时的斜向反射色调。上述液晶固化层的膜厚方向的相位差值Rth(550)更优选为-90nm以上，进一步优选为-80nm以上，另外，更优选为-50nm以下。

在本发明中，相位差层(水平取向液晶固化层和垂直取向液晶固化层)由包含至少1种聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物(以下，也称为“相位差层形成用组合物”)的固化层形成。作为聚合性液晶化合物，可以根据所期望的光学特性，从相位差膜的领域中以往公知的聚合性液晶化合物中适当选择。

聚合性液晶化合物为具有聚合性基团的液晶化合物。作为聚合性液晶化合物，一般而言可举出，通过将该聚合性液晶化合物单独在沿特定方向取向的状态下聚合而得到的聚合物(固化物)显示正波长分散性的聚合性液晶化合物和显示逆波长分散性的聚合性液晶化合物。在本发明中，可以仅使用任一种聚合性液晶化合物，也可以混合使用两种聚合性液晶化合物。另外，在光学层叠体包含水平取向液晶固化层和垂直取向液晶固化层的情况下，构成它们的聚合性液晶化合物彼此可以相同，也可以不同。从容易提高作为光学层叠体的光学特性的观点出发，在本发明的一个实施方式中，水平取向液晶固化层优选为包含显示所谓的逆波长分散性的聚合性液晶化合物的聚合性液晶组合物的固化层。

在本发明中，形成相位差层的聚合性液晶化合物所具有的聚合性基团优选为光聚合性基团。光聚合性基团是指为聚合性基团，且能够通过由光聚合引发剂产生的反应活性种、例如活性自由基、酸等而参与聚合反应的基团。作为光聚合性基团，例如可举出乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、(甲基)丙烯酰基、环氧乙烷基、氧杂环丁基。其中，优选(甲基)丙烯酰基、乙烯氧基、环氧乙烷基和氧杂环丁基，更优选丙烯酰基。

聚合性液晶化合物所显示的液晶性可以是热致性液晶，也可以是溶致性液晶，从能够进行致密的膜厚控制的方面考虑，优选热致性液晶。另外，作为热致性液晶中的相序结构，可以是向列型液晶，也可以是近晶型液晶，还可以是盘状液晶。聚合性液晶化合物可以单独使用或组合使用两种以上。

具有所谓的T字型或H型的分子结构的聚合性液晶化合物在聚合而固化时容易显现出逆波长分散性，具有T字型的分子结构的聚合性液晶化合物有显现更强的逆波长分散性的趋势。

作为显现逆波长分散性的聚合性液晶化合物，优选为具有下述(A)～(D)的特征的化合物。

(A)为可以形成向列相或近晶相的化合物。

(B)在该聚合性液晶化合物的长轴方向(a)上具有π电子。

(C)在与长轴方向(a)交叉的方向〔交叉方向(b)〕上具有π电子。

(D)将存在于长轴方向(a)的π电子的合计设为N(πa)、将存在于长轴方向的分子量的合计设为N(Aa)，由下述式(i)定义的聚合性液晶化合物的长轴方向(a)的π电子密度：

D(πa)＝N(πa)/N(Aa) (i)

以及、将存在于交叉方向(b)的π电子的合计设为N(πb)、将存在于交叉方向(b)的分子量的合计设为N(Ab)，由下述式(ii)定义的聚合性液晶化合物的交叉方向(b)的π电子密度：

D(πb)＝N(πb)/N(Ab) (ii)

满足式(iii)的关系，

0≤〔D(πa)/D(πb)〕＜1 (iii)

〔即，交叉方向(b)的π电子密度大于长轴方向(a)的π电子密度〕。如上所记载，在长轴和与其交叉的方向上具有π电子的聚合性液晶化合物通常容易成为T字结构。

在上述(A)～(D)的特征中，长轴方向(a)和π电子数N如下定义。

·长轴方向(a)例如如果是具有棒状结构的化合物则为该棒状的长轴方向。

·存在于长轴方向(a)上的π电子数N(πa)不包含因聚合反应而消失的π电子。

·存在于长轴方向(a)上的π电子数N(πa)是长轴上的π电子和与其共轭的π电子的合计数，例如包含存在于长轴方向(a)上且满足休克尔定律的环上存在的π电子的数量。

·存在于交叉方向(b)的π电子数N(πb)不包含因聚合反应而消失的π电子。

满足上述条件的聚合性液晶化合物在长轴方向上具有介晶结构。通过该介晶结构，从而显现出液晶相(向列相、近晶相等)。

通过将满足上述(A)～(D)的聚合性液晶化合物加热至相变温度以上，能够形成向列相、近晶相。在该聚合性液晶化合物取向而形成的向列相或近晶相中，通常以聚合性液晶化合物的长轴方向相互平行的方式取向，该长轴方向成为向列相或近晶相的取向方向。如果将这样的聚合性液晶化合物设为膜状，并以向列相或近晶相的状态进行聚合，则可以形成包含以沿长轴方向(a)取向的状态聚合而成的聚合物的聚合物膜。该聚合物膜通过长轴方向(a)上的π电子和交叉方向(b)上的π电子来吸收紫外线。在此，将被交叉方向(b)上的π电子吸收的紫外线的吸收极大波长设为λbmax。λbmax通常为300nm～400nm。π电子的密度满足上述式(iii)，交叉方向(b)的π电子密度大于长轴方向(a)的π电子密度，因此成为在交叉方向(b)上具有振动面的直线偏振紫外线(波长为λbmax)的吸收大于在长轴方向(a)上具有振动面的直线偏振紫外线(波长为λbmax)的吸收的聚合物膜。该比(直线偏振紫外线的交叉方向(b)的吸光度/长轴方向(a)的吸光度之比)例如超过1.0，优选为1.2以上，通常为30以下，例如为10以下。

具有上述特征的聚合性液晶化合物通常在沿一个方向取向的状态下聚合时，其聚合物的双折射率显示逆波长分散性的情况较多。具体而言，例如可举出下述式(X)所示的化合物(以下，也称为“聚合性液晶化合物(X)”)。

【化学式13】

式(X)中，Ar表示具有可以具有取代基的芳香族基团的二价的基团。此处所说的芳香族基团例如可举出后述的(Ar-1)～(Ar-23)中例示的基团。另外，Ar可以具有2个以上的芳香族基团。该芳香族基团中可以包含氮原子、氧原子、硫原子中的至少1个以上。在Ar中所含的芳香族基团为2个以上的情况下，2个以上的芳香族基团可以彼此通过单键、-CO-O-、-O-等二价的键合基团键合。

式(X)中，G¹和G²各自独立地表示二价的芳香族基团或二价的脂环式烃基。在此，该二价的芳香族基团或二价的脂环式烃基中所含的氢原子可以被卤素原子、碳原子数1～4的烷基、碳原子数1～4的氟烷基、碳原子数1～4的烷氧基、氰基或硝基取代，构成该二价的芳香族基团或二价的脂环式烃基的碳原子可以被氧原子、硫原子或氮原子置换。

式(X)中，L¹、L²、B¹和B²各自独立地为单键或二价的连接基团。

式(X)中，k、l各自独立地表示0～3的整数，满足1≤k+l的关系。在此，在2≤k+l的情况下，B¹和B²、G¹和G²分别可以彼此相同，也可以不同。

式(X)中，E¹和E²各自独立地表示碳原子数1～17的烷二基，更优选碳原子数4～12的烷二基。另外，烷二基中所含的氢原子可以被卤素原子取代，该烷二基中所含的-CH₂-可以被-O-、-S-、-C(＝O)-置换。

式(X)中，P¹和P²相互独立地表示聚合性基团或氢原子，至少1个为聚合性基团。

G¹和G²各自独立地优选为可以被选自卤素原子和碳原子数1～4的烷基中的至少1个取代基取代的1,4-亚苯二基、可以被选自卤素原子和碳原子数1～4的烷基中的至少1个取代基取代的1,4-环己烷二基，更优选为被甲基取代的1,4-亚苯二基、未经取代的1,4-亚苯二基、或未经取代的1,4-反式-环己烷二基，特别优选为未经取代的1,4-亚苯二基、或未经取代的1,4-反式-环己烷二基。

另外，优选存在多个的G¹和G²中的至少1个为二价的脂环式烃基，另外，更优选与L¹或L²键合的G¹和G²中至少1个为二价的脂环式烃基。

L¹和L²各自独立地优选为单键、碳原子数1～4的亚烷基、-O-、-S-、-R^a1OR^a2-、-R^a3COOR^a4-、-R^a5OCOR^a6-、-R^a7OC＝OOR^a8-、-N＝N-、-CR^c＝CR^d-、或-C≡C-。在此，R^a1～R^a8各自独立地表示单键、或碳原子数1～4的亚烷基，R^c和R^d表示碳原子数1～4的烷基或氢原子。L¹和L²各自独立地更优选为单键、-OR^a2-1-、-CH₂-、-CH₂CH₂-、-COOR^a4-1-、或-OCOR^a6-1-。在此，R^a2-1、R^a4-1、R^a6-1各自独立地表示单键、-CH₂-、-CH₂CH₂-的任一个。L¹和L²各自独立地进一步优选为单键、-O-、-CH₂CH₂-、-COO-、-COOCH₂CH₂-、或-OCO-。

B¹和B²各自独立地优选为单键、碳原子数1～4的亚烷基、-O-、-S-、-R^a9OR^a10-、-R^a11COOR^a12-、-R^a13OCOR^a14-、或-R^a15OC＝OOR^a16-。在此，R^a9～R^a16各自独立地表示单键、或碳原子数1～4的亚烷基。B¹和B²各自独立地更优选为单键、-OR^a10-1-、-CH₂-、-CH₂CH₂-、-COOR^{a12 -1}-、或-OCOR^a14-1-。在此，R^a10-1、R^a12-1、R^a14-1各自独立地表示单键、-CH₂-、-CH₂CH₂-中的任一个。B¹和B²各自独立地进一步优选为单键、-O-、-CH₂CH₂-、-COO-、-COOCH₂CH₂-、-OCO-、或-OCOCH₂CH₂-。

从显现逆波长分散性的观点出发，k和l优选2≤k+l≤6的范围，优选为k+l＝4，更优选为k＝2且l＝2。如果k＝2且l＝2，则成为对称结构，因此优选。

作为P¹或P²所示的聚合性基团，可举出环氧基、乙烯基、乙烯氧基、1-氯乙烯基、异丙烯基、4-乙烯基苯基、(甲基)丙烯酰基、环氧乙烷基和氧杂环丁基等。其中，优选(甲基)丙烯酰基、乙烯基和乙烯氧基，更优选(甲基)丙烯酰基。

Ar优选具有选自可以具有取代基的芳香族烃环、可以具有取代基的芳香族杂环、和吸电子性基团中的至少1个。作为该芳香族烃环，例如可举出苯环、萘环、蒽环等，优选苯环、萘环。作为该芳香族杂环，可举出呋喃环、苯并呋喃环、吡咯环、吲哚环、噻吩环、苯并噻吩环、吡啶环、吡嗪环、嘧啶环、三唑环、三嗪环、吡咯啉环、咪唑环、吡唑环、噻唑环、苯并噻唑环、噻吩并噻唑环、噁唑环、苯并噁唑环、和菲咯啉环等。其中，优选具有噻唑环、苯并噻唑环、或苯并呋喃环，进一步优选具有苯并噻唑环。另外，在Ar包含氮原子的情况下，该氮原子优选具有π电子。

式(X)中，Ar所示的基团所具有的π电子的合计数N_π通常为6以上，优选为8以上，更优选为10以上，进一步优选为14以上，特别优选为16以上。另外，优选为36以下，更优选为32以下，进一步优选为26以下，特别优选为24以下。

作为Ar中所含的芳香族基团，例如可举出以下的基团。

【化学式14】

式(Ar-1)～式(Ar-23)中，*标记表示连接部，Z⁰、Z¹和Z²各自独立地表示氢原子、卤素原子、碳原子数1～12的烷基、氰基、硝基、碳原子数1～12的烷基亚磺酰基、碳原子数1～12的烷基磺酰基、羧基、碳原子数1～12的氟烷基、碳原子数1～12的烷氧基、碳原子数1～12的烷基硫基、碳原子数1～12的N-烷基氨基、碳原子数2～12的N,N-二烷基氨基、碳原子数1～12的N-烷基氨磺酰基或碳原子数2～12的N,N-二烷基氨磺酰基。另外，Z⁰、Z¹和Z²可以包含聚合性基团。

式(Ar-1)～式(Ar-23)中，Q¹和Q²各自独立地表示-CR²’R³’-、-S-、-NH-、-NR²’-、-CO-或-O-，R²’和R³’各自独立地表示氢原子或碳原子数1～4的烷基。

式(Ar-1)～式(Ar-23)中，J¹和J²各自独立地表示碳原子、或氮原子。

式(Ar-1)～式(Ar-23)中，Y¹、Y²和Y³各自独立地表示可以被取代的芳香族烃基或芳香族杂环基。

式(Ar-1)～式(Ar-23)中，W¹和W²各自独立地表示氢原子、氰基、甲基或卤素原子，m表示0～6的整数。

作为Y¹、Y²和Y³中的芳香族烃基，可举出苯基、萘基、蒽基、菲基、联苯基等碳原子数6～20的芳香族烃基，优选苯基、萘基，更优选苯基。作为芳香族杂环基，可举出呋喃基、吡咯基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基等包含至少1个氮原子、氧原子、硫原子等杂原子的碳原子数4～20的芳香族杂环基，优选呋喃基、噻吩基、吡啶基、噻唑基、苯并噻唑基。

Y¹、Y²和Y³可以各自独立地为可以被取代的多环系芳香族烃基或多环系芳香族杂环基。多环系芳香族烃基是指稠合多环系芳香族烃基、或来自于芳香环集合的基团。多环系芳香族杂环基是指稠合多环系芳香族杂环基、或来自于芳香环集合的基团。

Z⁰、Z¹和Z²各自独立地优选为氢原子、卤素原子、碳原子数1～12的烷基、氰基、硝基、碳原子数1～12的烷氧基，Z⁰进一步优选为氢原子、碳原子数1～12的烷基、氰基，Z¹和Z²进一步优选为氢原子、氟原子、氯原子、甲基、氰基。另外，Z⁰、Z¹和Z²可以包含聚合性基团。

Q¹和Q²优选-NH-、-S-、-NR²’-、-O-，R²’优选氢原子。其中，特别优选-S-、-O-、-NH-。

式(Ar-1)～(Ar-23)中，从分子的稳定性的观点出发，优选式(Ar-6)和式(Ar-7)。

式(Ar-16)～(Ar-23)中，Y¹可以与其所键合的氮原子和Z⁰一起形成芳香族杂环基。作为芳香族杂环基，可举出作为Ar可以具有的芳香族杂环而在上文中例示的基团，例如可举出吡咯环、咪唑环、吡咯啉环、吡啶环、吡嗪环、嘧啶环、吲哚环、喹啉环、异喹啉环、嘌呤环、吡咯烷环等。该芳香族杂环基可以具有取代基。另外，Y¹可以与其所键合的氮原子和Z⁰一起为上述的可以被取代的多环系芳香族烃基或多环系芳香族杂环基。例如，可举出苯并呋喃环、苯并噻唑环、苯并噁唑环等。

式(X)所示的化合物例如可以根据日本特开2010-31223号公报中记载的方法来制造。

在本发明中，作为形成相位差层的聚合性液晶化合物，例如可以使用包含下述式(Y)所示的基团的化合物(以下，也称为“聚合性液晶化合物(Y)”)。聚合性液晶化合物(Y)通常有显示正波长分散性的趋势。这些聚合性液晶化合物可以单独使用或组合使用2种以上。

P11-B11-E11-B12-A11-B13-(Y)

[式(Y)中，P11表示聚合性基团。

A11表示2价的脂环式烃基或2价的芳香族烃基。

B11表示-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-、-O-CO-O-、-CO-NR¹⁶-、-NR¹⁶-CO-、-CO-、-CS-或单键。R¹⁶表示氢原子或碳原子数1～6的烷基。

B12和B13各自独立地表示-C≡C-、-CH＝CH-、-CH₂-CH₂-、-O-、-S-、-C(＝O)-、-C(＝O)-O-、-O-C(＝O)-、-O-C(＝O)-O-、-CH＝N-、-N＝CH-、-N＝N-、-C(＝O)-NR¹⁶-、-NR¹⁶-C(＝O)-、-OCH₂-、-OCF₂-、-CH₂O-、-CF₂O-、-CH＝CH-C(＝O)-O-、-O-C(＝O)-CH＝CH-、-H、-C≡N或单键。

E11表示碳原子数1～12的烷二基，该烷二基中包含的氢原子可以被碳原子数1～5的烷氧基取代，该烷氧基中包含的氢原子可以被卤素原子取代。另外，构成该烷二基的-CH₂-可以被-O-或-CO-置换。]

A11的芳香族烃基和脂环式烃基的碳原子数优选为3～18的范围，更优选为5～12的范围，特别优选为5或6。A11所示的2价的脂环式烃基和2价的芳香族烃基中包含的氢原子可以被卤素原子、碳原子数1～6的烷基、碳原子数1～6烷氧基、氰基或硝基取代，该碳原子数1～6的烷基和该碳原子数1～6烷氧基中所含的氢原子可以被氟原子取代。作为A11，优选环己烷-1,4-二基、1,4-亚苯基。

作为E11，优选直链状的碳原子数1～12的烷二基。构成该烷二基的-CH₂-可以被-O-置换。

具体而言，可举出亚甲基、亚乙基、丙烷-1,3-二基、丁烷-1,4-二基、戊烷-1,5-二基、己烷-1,6-二基、庚烷-1,7-二基、辛烷-1,8-二基、壬烷-1,9-二基、癸烷-1,10-二基、十一烷-1,11-二基和十二烷-1,12-二基等碳原子数1～12的直链状烷烃二基；-CH₂-CH₂-O-CH₂-CH₂-、-CH₂-CH₂-O-CH₂-CH₂-O-CH₂-CH₂-和-CH₂-CH₂-O-CH₂-CH₂-O-CH₂-CH₂-O-CH₂-CH₂-等。

作为B11，优选-O-、-S-、-CO-O-、-O-CO-，其中，更优选-CO-O-。

作为B12和B13，各自独立地优选-O-、-S-、-C(＝O)-、-C(＝O)-O-、-O-C(＝O)-、-O-C(＝O)-O-，其中，更优选-O-或-O-C(＝O)-O-。

作为P11所示的聚合性基团，从聚合反应性、特别是光聚合反应性高的方面考虑，优选自由基聚合性基团或阳离子聚合性基团，从处理容易且液晶化合物的制造本身也容易的方面出发，聚合性基团优选为下述的式(P-11)～式(P-15)所示的基团。

【化学式15】

[式(P-11)～(P-15)中，

R¹⁷～R²¹各自独立地表示碳原子数1～6的烷基或氢原子。]

作为式(P-11)～式(P-15)所示的基团的具体例，可举出下述式(P-16)～式(P-20)所示的基团。

【化学式16】

P11优选为式(P-14)～式(P-20)所示的基团，更优选为乙烯基、对芪基(日文：p－スチルベン基)、环氧基或氧杂环丁基。

P11-B11-所示的基团进一步优选为丙烯酰氧基或甲基丙烯酰氧基。

作为聚合性液晶化合物(Y)，可举出式(I)、式(II)、式(III)、式(IV)、式(V)或式(VI)所示的化合物。

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-B16-E12-B17-P12 (I)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-A14-F11 (II)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-B15-E12-B17-P12(III)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-A13-F11 (IV)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-B14-E12-B17-P12 (V)

P11-B11-E11-B12-A11-B13-A12-F11 (VI)

[式中，

A11、B11～B13和P11与上述含义相同，

A12～A14各自独立地与A11含义相同，B14～B16各自独立地与B12含义相同，B17与B11含义相同，E12与E11含义相同，P12与P11含义相同。

F11表示氢原子、碳原子数1～13的烷基、碳原子数1～13的烷氧基、氰基、硝基、三氟甲基、二甲基氨基、羟基、羟甲基、甲酰基、磺基(-SO₃H)、羧基、碳原子数1～10的烷氧基羰基或卤素原子，构成该烷基和烷氧基的-CH₂-可以被-O-置换。]

作为聚合性液晶化合物(Y)的具体例，可举出液晶便览(液晶便览编辑委员会编，丸善株式会社平成12年10月30日发行)的“3.8.6网络(完全交联型)”、“6.5.1液晶材料b.聚合性向列液晶材料”中记载的化合物中具有聚合性基团的化合物、日本特开2010-31223号公报、日本特开2010-270108号公报、日本特开2011-6360号公报和日本特开2011-207765号公报记载的聚合性液晶。

聚合性液晶化合物(X)和聚合性液晶化合物(Y)均可以进行水平取向而使用，也可以进行垂直取向而使用。另外，聚合性液晶化合物(X)和聚合性液晶化合物(Y)可以分别单独使用，也可以使用2种以上，还可以将两者组合使用。

相位差层形成用组合物中的聚合性液晶化合物的含量相对于相位差层形成用组合物的固体成分100质量份例如为70～99.5质量份，优选为80～99质量份，更优选为85～98质量份，进一步优选为90～95质量份。如果聚合性液晶化合物的含量为上述范围内，则从所得到的相位差层的取向性的观点出发是有利的。需要说明的是，在相位差层形成用组合物包含2种以上的聚合性液晶化合物的情况下，优选相位差层形成用组合物中所含的所有液晶化合物的总量为上述含量的范围内。

相位差层形成用组合物可以包含用于引发聚合性液晶化合物的聚合反应的聚合引发剂。作为聚合引发剂，可以从该领域中以往使用的聚合引发剂中适当选择使用，可以为热聚合引发剂，也可以为光聚合引发剂，从能够在更低温条件下引发聚合反应的方面考虑，优选光聚合引发剂。可适宜举出与作为可以在偏振层形成用组合物中使用的光聚合引发剂而在上文中例示的光聚合引发剂相同的光聚合引发剂。

相位差层形成用组合物通常以溶解于溶剂的状态涂布于基材膜等，因此优选包含溶剂。作为溶剂，优选可以溶解聚合性液晶化合物的溶剂，另外，优选对聚合性液晶化合物的聚合反应为非活性的溶剂。作为溶剂，可举出与作为可以在偏振层形成用组合物中使用的溶剂而在上文中例示的溶剂相同的溶剂。

另外，相位差层形成用组合物根据需要可以含有光敏剂、流平剂和作为偏振层形成用组合物中所含的添加剂而例示的添加剂等。作为光敏剂和流平剂，可举出与作为可以在偏振层形成用组合物中使用的光敏剂和流平剂而在上文中例示的光敏剂和流平剂相同的光敏剂和流平剂。

相位差层形成用组合物例如可以通过将聚合性液晶化合物和根据需要的聚合引发剂、溶剂、添加剂等混合和搅拌来制备。

相位差层例如可以是通过将相位差层形成用组合物涂布于基材或取向膜上，将所得到的涂膜干燥且使该相位差层形成用组合物中的聚合性液晶化合物取向后，在保持取向状态的状态下通过光照射等使聚合性液晶化合物聚合而得到的。作为基材，可举出与构成本发明的光学层叠体的基材膜相同的基材。作为取向膜，除了作为在制作本发明的偏振层时可以使用的取向膜而例示的光取向膜以外，还可举出包含取向性聚合物的取向膜、在表面具有凹凸图案、多个槽的凹槽取向膜等，根据所期望的取向控制力等适当选择即可。

作为取向性聚合物，例如可举出在分子内具有酰胺键的聚酰胺、明胶类、在分子内具有酰亚胺键的聚酰亚胺和作为其水解物的聚酰胺酸、聚乙烯醇、烷基改性聚乙烯醇、聚丙烯酰胺、聚噁唑、聚乙撑亚胺、聚苯乙烯、聚乙烯吡咯烷酮、聚丙烯酸及聚丙烯酸酯类。其中，优选聚乙烯醇。取向性聚合物可以单独使用或组合使用2种以上。

包含取向性聚合物的取向膜通常是通过将取向性聚合物溶解于溶剂而成的组合物(以下，也称为“取向性聚合物组合物”)涂布于基材膜等应形成取向膜的表面并除去溶剂、或者将取向性聚合物组合物涂布于基材并除去溶剂，并进行摩擦(摩擦法)得到的。作为溶剂，可举出与作为可以在偏振层形成用组合物中使用的溶剂而在上文中例示的溶剂相同的溶剂。

取向性聚合物组合物中的取向性聚合物的浓度只要是取向性聚合物材料能够完全溶解于溶剂的范围即可，相对于溶液，以固体成分换算计优选为0.1～20％，进一步优选为0.1～10％左右。

作为取向性聚合物组合物，可以直接使用市售的取向膜材料。作为市售的取向膜材料，可举出SUNEVER(注册商标，日产化学工业株式会社制)、Optomer(注册商标，JSR株式会社制)等。

作为将取向性聚合物组合物涂布于基材等应形成取向膜的表面的方法和除去涂膜中的溶剂的方法，可以采用与将偏振层形成用组合物涂布于基材膜等的方法和除去涂膜中的溶剂的方法相同的方法。

通过对所得到的取向性聚合物组合物的干燥涂膜实施摩擦处理，可以得到摩擦取向膜。作为摩擦处理方法，例如可举出如下方法：使上述取向性聚合物组合物的干燥涂膜与卷绕有摩擦布并旋转的摩擦辊接触的方法。在进行摩擦处理时，如果进行掩蔽，则也可以在取向膜上形成取向方向不同的多个区域(图案)。

凹槽(groove)取向膜是在膜表面具有凹凸图案或多个凹槽(槽)的膜。在具有以等间隔排列的多个直线状的凹槽的膜上涂布聚合性液晶化合物的情况下，液晶分子在沿着该槽的方向上取向。

作为得到凹槽取向膜的方法，可举出在感光性聚酰亚胺膜表面经由具有图案形状的狭缝的曝光用掩模进行曝光后，进行显影和冲洗处理而形成凹凸图案的方法、在表面具有槽的板状的原盘上形成固化前的UV固化性树脂的层，并将所形成的树脂层移至基材等之后进行固化的方法、以及在形成于应形成取向膜的表面的固化前的UV固化性树脂的膜上按压具有多个槽的辊状的原盘而形成凹凸，然后进行固化的方法等。

用于形成相位差层的取向膜(包含取向性聚合物的取向膜或光取向膜)的厚度通常为10～10000nm的范围，优选为10～2500nm的范围，更优选为10～1000nm以下，进一步优选为10～500nm，特别优选为50～250nm的范围。

在本发明的光学层叠体中，相位差层的厚度可以根据所应用的显示装置而适当选择，但从薄膜化的观点出发，优选为0.1～10μm，更优选为0.5～5μm，进一步优选为1～3μm。在本发明的光学层叠体包含多个相位差层的情况下，该相位差层中所含的各相位差层的厚度可以彼此相同，也可以不同，优选分别在上述范围内。

在本发明的光学层叠体包含由水平取向液晶固化层形成的相位差层和由垂直取向液晶固化层形成的相位差层的情况下，垂直取向液晶固化层优选配置于偏振层与第2应力缓和层之间。在包含由水平取向液晶固化层形成的相位差层和由垂直取向液晶固化层形成的相位差层的情况下，优选按照偏振层、粘合粘接层、第1相位差层、第2相位差层和第2应力缓和层的顺序进行层叠。这种情况下，作为水平取向液晶固化层的相位差层和作为垂直取向液晶固化层的相位差层中的任一者可以配置于偏振层侧(即，第1相位差层)。由水平取向液晶固化层形成的相位差层和由垂直取向液晶固化层形成的相位差层可以隔着粘合粘接层贴合，也可以在水平取向液晶固化层上隔着或不隔着具有垂直取向控制力的取向膜层叠有垂直取向液晶固化层、或者在垂直取向液晶固化层上隔着或不隔着具有水平取向控制力的取向膜层叠有水平取向液晶固化层。

〔粘合粘接层〕

在本发明中，配置于偏振层与相位差层之间的粘合粘接层是由粘合粘接剂形成的层。该粘合粘接层只要能够作为将偏振层与相位差层贴合的层发挥功能，则可以由公知的粘合粘接剂形成。粘合剂或粘接剂没有特别限定，可以没有特别限制地使用以往公知的粘合剂和粘接剂。作为粘合剂，例如可举出具有丙烯酸系、橡胶系、氨基甲酸酯系、有机硅系、聚乙烯基醚系等基础聚合物的粘合剂。另外，也可以是能量射线固化型粘合剂、热固化型粘合剂等。作为粘接剂，可举出活性能量射线固化型粘接剂、水系粘接剂、有机溶剂系粘接剂和无溶剂系粘接剂。在本发明的一个实施方式中，该粘合粘接层由粘合剂形成。

粘合粘接层的厚度通常为1～40μm，优选为3～25μm。

在层叠偏振层与相位差层的情况下，优选以使相位差层的慢轴(光轴)与偏振层的吸收轴实质上成为45°的方式进行层叠。通过以相位差层的慢轴(光轴)与偏振层的吸收轴实质上成为45°的方式进行层叠，能够得到作为圆偏振板的功能。需要说明的是，实质上45°通常为45±5°的范围。

〔光学层叠体〕

本发明的光学层叠体可以根据其用途等以成为所期望的构成的方式将第1基材膜、第1应力缓和层、偏振层、粘合粘接层、相位差层、第2应力缓和层和第2基材膜、以及根据需要的取向膜、防扩散层等按照针对各层而在上文中记载的制造方法等，按照适当的顺序形成、层叠而制造。

本发明的光学层叠体例如在具有防扩散层的情况下，可以通过如下步骤制造：在形成于基材膜上的防扩散层上形成取向膜，在该取向膜上形成偏振层后，进一步在该偏振层上形成防扩散层，制作在2个防扩散层之间设置有偏振层的层叠体；另外，通过在基材膜上隔着取向膜形成相位差层来制作具有相位差层的层叠体，利用粘合粘接剂使该具有相位差层的层叠体与上述具有偏振层的层叠体粘接，由此制作依次包含基材膜/防扩散层/取向膜/偏振层/防扩散层/粘合粘接剂层/相位差层/取向膜/基材膜的层叠体(A)；此外，在第1基材膜上形成第1应力缓和层，制作由第1基材膜/第1应力缓和层/基材膜形成的层叠体(B)，并在第2基材膜上形成第2应力缓和层，制作由第2基材膜/第2应力缓和层/基材膜形成的层叠体(C)；将层叠体(A)的基材膜和层叠体(B)的基材膜剥离，贴合防扩散层与第1应力缓和层，将层叠体(A)的两外层的基材膜、层叠体(B)的基材膜和层叠体(C)的基材膜分别剥离，分别贴合防扩散层与第1应力缓和层、相位差层与第2应力缓和层，由此得到依次包含第1基材膜/第1应力缓和层/防扩散层/取向膜/偏振层/防扩散层/粘合粘接剂层/相位差层/取向膜/第2应力缓和层/第2基材膜的光学层叠体。

在本发明的光学层叠体中，位于第1应力缓和层与第2应力缓和层之间的层的合计厚度为20μm以下。本发明构成适于抑制在薄型的光学层叠体中在转印时容易产生的贴合偏移、褶皱的产生，在配置于第1应力缓和层与第2应力缓和层之间的、由偏振层和相位差层等形成的用于带来圆偏振功能的结构(层叠体)的厚度薄的层叠体中，容易得到本发明的更显著的效果。在本发明中，位于第1应力缓和层与第2应力缓和层之间的层的合计厚度根据所期望的层构成而不同，但优选为18μm以下，更优选为16μm以下。位于第1应力缓和层与第2应力缓和层之间的层的合计厚度的下限没有特别限定，通常为5μm以上。

在本发明的一个实施方式中，由从第1基材膜至第1应力缓和层为止的层形成的层叠体(以下，也称为“层叠体a”)的膜厚(T1)与由从位于第1应力缓和层与偏振层之间的防扩散层至第2应力缓和层为止的层形成的层叠体(以下，也称为“层叠体b”)的膜厚(T2)优选满足式(1)：

T1/T2≥1.5 (1)。

如果层叠体a的膜厚T1与层叠体b的膜厚T2处于满足式(1)的关系，则容易更有效地增强剥离第2基材膜并转印至基板的层叠体结构，能够进一步提高对贴合偏移、褶皱的产生的高抑制效果。从进一步提高该效果的观点出发，T1/T2的值更优选为1.8以上，进一步优选为2.0以上，也可以为2.5以上。

另外，在本发明的一个实施方式中，第1基材膜的厚度T3与层叠体b的膜厚T2优选满足式(7)：

T3/T2≥1.0 (7)。

如果第1基材膜的厚度T3与层叠体b的膜厚T2处于满足式(7)的关系，则剥离第2基材膜并转印至基板的层叠体结构容易被更牢固地增强，能够进一步提高对贴合偏移、褶皱的产生的抑制效果。从进一步提高该效果的观点出发，T3/T2的值更优选为1.2以上，进一步优选为1.5以上，也可以为2.0以上。

在本发明的一个实施方式中，将由第1基材膜至第1应力缓和层为止的层形成的层叠体(层叠体a)从光学层叠体剥离时的剥离力(F1)与将第2基材膜从光学层叠体剥离时的剥离力(F2)优选满足式(2)：

0.02(N/25mm)≤|F1-F2| (2)。

如果剥离力F1与剥离力F2满足上述式(2)所示的关系，则光学层叠体中的第1应力缓和层的密合力与光学层叠体中的第2基材膜的密合力之间产生适度的强弱关系。因此，在满足上述关系的情况下，能够以期望的顺序容易地从光学层叠体剥离第2基材膜或层叠体a。特别是在先从光学层叠体剥离第2基材膜的情况下，第2基材膜容易剥离，不易产生向被转印体转印时的贴合偏移、褶皱。由此，能够期待抑制因转印而产生的光学层叠体的光学性能降低的效果。从该效果更容易提高的观点出发，本发明中的F1-F2的绝对值优选为0.03N/25mm以上，更优选为0.04N/25mm以上。另外，F1-F2的绝对值的上限值通常为0.3N/25mm以下，优选为0.2N/25mm以下，更优选为0.08N/25mm以下。F1-F2的值可以通过分别调整剥离力F1和剥离力F2来控制。通常，剥离力F1和剥离力F2以先剥离的一侧的剥离力小于后剥离的一侧的剥离力的方式设计。

在本发明中，剥离力F1优选小于0.30N/25mm，更优选为0.25N/25mm以下，进一步优选为0.15N/25mm以下。如果剥离力F1的上限为上述范围内，则容易将层叠体a从光学层叠体剥离，在与剥离力F2的关系中，容易将剥离力F1控制在对抑制贴合偏移、褶皱的产生等有效的范围。另外，剥离力F1优选为0.04N/25mm以上，更优选为0.06N/25mm以上，进一步优选为0.08N/25mm以上。如果剥离力F1为上述下限以上，则能够确保从光学层叠体剥离层叠体a时的易剥离性，并且能够抑制组装到显示装置等中的转印前的层叠体a的意外剥离。

在本发明中，剥离力F2优选小于0.30N/25mm，更优选为0.25N/25mm以下，进一步优选为0.15N/25mm以下。如果剥离力F2的上限为上述范围内，则容易从光学层叠体剥离第2基材膜，容易提高抑制在剥离第2基材膜并转印至基板时可能产生的褶皱、贴合偏移、气泡的产生等的效果。另外，剥离力F2优选为0.01N/25mm以上，更优选为0.02N/25mm以上，进一步优选为0.03N/25mm以上。如果剥离力F2为上述下限以上，则能够确保从光学层叠体剥离第2基材膜时的易剥离性，并且抑制将层叠体组装到显示装置等的转印前的第2基材膜的意外剥离。

剥离力F1和F2分别是在将作为测定对象的光学层叠体的、剥离了与测定剥离力的基材膜相反侧的基材膜或层叠体(例如，F1测定时为第2基材膜、F2测定时为层叠体a)的面通过粘合粘接剂贴合于玻璃板等而固定的试验片中，作为为了将测定剥离力的层叠体a或第2基材膜从试验片的光学层叠体剥离所需的剥离力而测定的值。上述剥离力的测定可以依据JIS K 6854-1：1999中规定的90°剥离试验法来进行。剥离力F1和F2的详细的测定方法记载于后述的实施例中。

剥离力F1和剥离力F2例如可以通过与层叠体a和第2基材膜分别相邻的层的构成及其厚度、第1应力缓和层和第2基材膜的种类或其厚度、第1应力缓和层、第2基材膜和/或与这些层或基材膜相邻的层的表面处理等来调整。例如，通过在第1应力缓和层和/或第2基材膜表面上实施改性处理、或者设置剥离力调整层作为相邻的层，能够控制层叠体a或第2基材膜从光学层叠体剥离的剥离力。

在本发明的光学层叠体中，构成该光学层叠体的可剥离的层叠体a、以及可剥离的第2基材膜均被剥离，仅将具有圆偏振板功能的层叠体结构转印至被转印体来利用。本发明的光学层叠体具备第1应力缓和层和第2应力缓和层，抑制剥离基材膜并转印至基板时的贴合偏移、褶皱的产生的效果优异。本发明的光学层叠体能够使用为了制造光学膜、光学层叠体等而在该领域中以往被广泛使用的通常的装置，以所期望的顺序从光学层叠体连续地且容易地剥离层叠体a和第2基材膜。

本发明的光学层叠体为薄型，并且不易产生由基材膜剥离引起的贴合偏移、褶皱，可以期待转印后的层叠体的高光学性能。因此，本发明的光学层叠体能够适合用于各种显示装置的制造。

显示装置是指具有显示元件的装置，包含发光元件或发光装置作为发光源。作为显示装置，可举出液晶显示装置、有机电致发光(EL)显示装置、无机电致发光(EL)显示装置、触摸面板显示装置、电子发射显示装置(例如场发射显示装置(FED)、表面场发射显示装置(SED))、电子纸(使用了电子墨、电泳元件的显示装置、等离子体显示装置、投射型显示装置(例如光栅光阀(GLV)显示装置、具有数字微镜器件(DMD)的显示装置)和压电陶瓷显示器等。液晶显示装置包括透射型液晶显示装置、半透射型液晶显示装置、反射型液晶显示装置、直视型液晶显示装置和投射型液晶显示装置等中的任一种。这些显示装置可以是显示二维图像的显示装置，也可以是显示三维图像的立体显示装置。

【实施例】

以下，通过实施例和比较例进一步详细地说明本发明。实施例和比较例中的“％”和“份”只要没有特别说明，则为“质量％”和“质量份”。

1.层叠体A1的制作

(1)水溶性聚合物(1)的制备

按照以下的合成方案，得到包含下述结构单元的水溶性聚合物(1)。

【化学式17】

在二甲基亚砜400g中溶解分子量1000的聚乙烯醇(和光纯药工业株式会社制)20g、作为亲核剂的N,N-二甲基-4-氨基吡啶0.55mg、三乙胺4.6g，一边搅拌一边升温至60℃。然后，用1小时滴加在二甲基亚砜50g中溶解有甲基丙烯酸酐10.5g的溶液，在60℃下加热搅拌14小时，由此使其反应。将所得到的反应溶液冷却至室温后，向反应溶液中加入甲醇481g，以完全混合的方式进行搅拌，由此将反应溶液与甲醇的比率(质量)调整为1：1。向该溶液中缓慢加入1500mL的丙酮，由此利用晶析法使水溶性聚合物(1)结晶化。将所得到的包含白色结晶的溶液过滤，用丙酮充分清洗后进行真空干燥，由此得到水溶性聚合物(1)20.2g。使所得到的水溶性聚合物(1)溶解于水，制备3质量％的水溶性聚合物(1)水溶液。

(2)光取向膜形成用组合物的制备

混合下述成分，将所得到的混合物在80℃下搅拌1小时，由此得到光取向膜形成用组合物。

·光取向性聚合物：日本特开2013-033249号公报中记载的聚合物(数均分子量：约28200，Mw/Mn：1.82)2份

【化学式18】

·溶剂：邻二甲苯 98份

(3)偏振层形成用组合物的制备

将以下各成分混合，在80℃下搅拌1小时，由此得到偏振层形成用组合物。二色性色素使用了日本特开2013-101328号公报的实施例中记载的偶氮色素。

·聚合性液晶化合物：A1 75份

【化学式19】

·聚合性液晶化合物：A2 25份

【化学式20】

·二色性色素：偶氮色素1 2.5份

【化学式21】

·二色性色素：偶氮色素2 2.5份

【化学式22】

·二色性色素：偶氮色素3 2.5份

【化学式23】

·聚合引发剂：2-二甲基氨基-2-苄基-1-(4-吗啉代苯基)丁烷-1-酮(Irgacure369；Ciba Specialty Chemicals株式会社制)6份

·流平剂：聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N；BYK-Chemie公司制) 1.2份

·溶剂：邻二甲苯 250份

(4)相位差层形成用组合物的制备

将以下的各成分混合，在80℃下搅拌1小时，由此得到相位差层形成用组合物。

·聚合性液晶化合物：X1 100份

【化学式24】

·聚合性液晶化合物：X2 33份

【化学式25】

·聚合引发剂：2-二甲基氨基-2-苄基-1-(4-吗啉代苯基)丁烷-1-酮(Irgacure(注册商标)369；BASF Japan公司制) 8份

·流平剂：聚丙烯酸酯化合物(BYK-361N；BYK-Chemie公司制) 0.1份

·其他添加剂：LALOMER LR9000(BASF Japan公司制)6.7份

·溶剂：环戊酮 546份

·溶剂：N-甲基吡咯烷酮 364份

(5)偏振板(1)的制作

在作为基材1的脱模聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(Unitika株式会社制“FF-50”，单面脱模处理PET膜，基材的厚度：50μm)的脱模处理面用棒涂机涂布上述制备的3质量％的水溶性聚合物(1)水溶液，在100℃下干燥2分钟，形成由水溶性聚合物(1)的膜形成的2μm的防扩散层A。

对所得到的防扩散层A的表面实施等离子体处理后，使用棒涂机涂布上述光取向膜形成用组合物，形成涂布膜。将该涂布膜在100℃下干燥2分钟，由此除去溶剂而形成干燥被膜。以成为20mJ/cm²(313nm基准)的强度的方式对该干燥被膜照射偏振UV光，由此赋予取向控制力，形成50nm的光取向膜A。

在所得到的光取向膜A上，使用棒涂机涂布上述偏振层形成用组合物，形成涂布膜。此外，通过在110℃下干燥2分钟而除去溶剂，并且使聚合性液晶化合物相变为液体相后，冷却至室温，使该聚合性液晶化合物相变为近晶液晶状态。然后，使用高压汞灯对所得到的干燥被膜以1000mJ/cm²(365nm基准)照射紫外光，在保持上述干燥被膜中所含的聚合性液晶化合物的近晶液晶状态下使其聚合，由此形成3μm的偏振层。

接下来，在所形成的偏振层上实施等离子体处理后，使用棒涂机，用棒涂机涂布3质量％的水溶性聚合物(1)水溶液，在100℃下干燥2分钟，形成由水溶性聚合物(1)的膜形成的2μm的防扩散层B，得到由基材1/防扩散层A/光取向膜A/偏振层/防扩散层B形成的偏振板(1)。

(6)相位差膜(1)的制作

对作为基材2的脱模聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(Unitika株式会社制“FF-50”，单面脱模处理PET膜，基材的厚度：50μm)的与脱模处理面相反侧的表面实施电晕处理后，利用棒涂机涂布上述光取向膜形成用组合物。使所得到的涂布膜在120℃下干燥2分钟后，冷却至室温而形成干燥被膜。然后，照射偏振紫外光100mJ(313nm基准)，形成100nm的光取向膜B。

在所得到的光取向膜B上，利用棒涂机涂布上述相位差层形成用组合物，形成涂布膜。将该涂布膜在120℃下加热干燥2分钟后，冷却至室温，得到干燥被膜。接下来，使用紫外光照射装置，对上述干燥被膜照射曝光量1000mJ/cm²(365nm基准)的紫外光，由此形成聚合性液晶化合物在相对于基材面内沿水平方向取向了的状态下固化而成的2μm的相位差层，得到由基材2/光取向膜B/相位差层(水平取向液晶固化层)形成的相位差膜(1)。

(7)层叠体A1的制作

将上述制作的偏振板(1)的防扩散层B面与相位差膜(1)的相位差层面经由粘合剂(琳得科公司制，压敏式粘合剂5μm厚)，以偏振板(1)的吸收轴与相位差膜(1)的慢轴所成的角度成为45°的方式贴合，得到由基材1/防扩散层A/光取向膜A/偏振层/防扩散层B/粘合层/相位差层/光取向膜B/基材2形成的层叠体A1。

2.层叠体A2的制作

(1)取向性聚合物组合物(1)的制备

按照表1所示的组成，在作为市售的取向性聚合物的Sunever SE-610(日产化学工业株式会社制)中加入2-丁氧基乙醇，制备取向性聚合物组合物(1)。需要说明的是，表1中的值表示各成分相对于所制备的组合物的总量的含有比例。对于SE-610，根据交货规格书中记载的浓度来换算固体成分量。

【表1】

	固体成分量	溶剂
			取向性聚合物组合物（1）	1％	99％

(2)垂直取向液晶固化层形成用组合物的制备

将垂直取向液晶固化层形成用组合物的组成示于表2。将各成分混合，将所得到的溶液在80℃搅拌1小时后，冷却至室温，得到垂直取向液晶固化层形成用组合物。

【表2】

表2中的括号内的值表示各成分相对于所制备的组合物的总量的含有比例。

表2中的LR9000表示BASF Japan公司制的Laromer(注册商标)LR-9000，Irg907表示BASF Japan公司制的Irgacure(注册商标)907，BYK361N表示BYK-Chemie Japan制的流平剂，LC242表示下述式所示的BASF公司制的聚合性液晶，PGMEA表示丙二醇1-单甲醚2-乙酸酯。

【化学式26】

(3)包含垂直取向液晶固化层的层叠体的制作

作为基材3，使用电晕处理装置在输出功率0.3kW、处理速度3m/分钟的条件下对环烯烃聚合物膜(COP)(ZF-14，日本ZEON株式会社制)的表面进行1次处理。在实施了电晕处理的表面，使用棒涂机涂布取向性聚合物组合物(1)，在90℃下干燥1分钟，得到取向膜C。用激光显微镜测定所得到的取向膜C的膜厚，结果为1μm。接下来，在取向膜C上使用棒涂机涂布垂直取向液晶固化层形成用组合物，在90℃干燥1分钟后，使用高压汞灯照射紫外线(氮气氛下，波长365nm处的累积光量：1000mJ/cm²)，由此形成聚合性液晶化合物在相对于基材面内沿垂直方向取向了的状态下固化而成的厚度500nm的垂直取向液晶固化层，得到由基材3/取向膜C/垂直取向液晶固化层形成的层叠体。

(4)粘接层形成用固化性组合物的制备

将下述所记载的阳离子聚合性化合物和阳离子聚合引发剂混合后，进行脱泡而制备了阳离子聚合型的粘接层形成用固化性组合物。

需要说明的是，阳离子聚合引发剂以50质量％碳酸亚丙酯溶液的形式配合，示出其固体成分量。

·1,6-己二醇二缩水甘油醚(商品名：EX-212L，Nagase Chemte X株式会社制) 25份

·4-羟基丁基乙烯基醚 10份

·双酚F型环氧树脂(商品名：EXA-830CRP，DIC株式会社制) 65份

·阳离子聚合引发剂(商品名：CPI-100P，San-Apro株式会社制，50质量％溶液) 3份

(5)层叠体A2的制作

对上述制作的由基材3/取向膜C/垂直取向液晶固化层形成的层叠体的垂直取向液晶固化层的表面实施电晕处理后，将层叠体A1的基材2剥离而露出的面与实施了上述电晕处理的垂直取向液晶固化层的面隔着粘接层形成用固化性组合物贴合，使用UV照射装置(SPOT CURE SP-7；USHIO电机株式会社制)，照射曝光量500mJ/cm²(365nm基准)的紫外线。由此，得到由基材1/防扩散层A/光取向膜A/偏振层/防扩散层B/粘合层/相位差层/光取向膜B/粘接层/垂直取向液晶固化层/取向膜C/基材3形成的层叠体A2。需要说明的是，粘接层的厚度为2μm。

3.包含应力缓和层的层叠体的制作

(1)聚合例1：丙烯酸类树脂溶液(1)的制备

向具备搅拌机、温度计、回流冷凝器和氮导入管的反应装置中导入氮气，将反应装置内的空气用氮气置换。然后，在反应装置中与丙烯酸2-乙基己酯93份、丙烯酸8-羟基辛酯5.5份、丙烯酸1.5份一起加入溶剂(乙酸乙酯)60份。然后，用2小时滴加作为聚合引发剂的偶氮二异丁腈0.1份，在65℃进行6小时反应，得到丙烯酸类树脂溶液(1)。丙烯酸类树脂溶液(1)中所含的丙烯酸系聚合物的重均分子量以基于凝胶渗透色谱的标准聚苯乙烯换算值计为约50万。

(2)聚合例2：丙烯酸类树脂溶液(2)的制备

在具备冷凝管、氮导入管、温度计和搅拌机的反应器中投入丙酮81.8份、丙烯酸丁酯98.4份、丙烯酸0.6份和丙烯酸2-羟基乙酯1.0份的混合溶液，一边用氮气置换装置内的空气而使其不含氧，一边将内温升高至55℃。然后，添加全部量的将偶氮二异丁腈(聚合引发剂)0.14份溶解于丙酮10份而得到的溶液。添加聚合引发剂1小时后，一边以添加速度17.3份/hr向反应器中连续添加丙酮以使不包含单体的丙烯酸类树脂的浓度成为35％，一边在内温54～56℃保温12小时，最后添加乙酸乙酯，将丙烯酸类树脂的浓度调节为20％。如此得到丙烯酸类树脂溶液(2)。

(3)包含应力缓和层A的层叠体A3的制作

(i)应力缓和层形成用组合物(1)的制备

相对于上述聚合例1中得到的丙烯酸类树脂溶液(1)中所含的丙烯酸系聚合物100份，加入作为抗静电剂的1-辛基吡啶鎓十二烷基苯磺酸盐2.0份并搅拌后，加入CoronateHX(六亚甲基二异氰酸酯化合物的异氰脲酸酯体：东曹株式会社制)1.5份并搅拌混合，得到应力缓和层形成用组合物(1)。

(ii)包含应力缓和层的层叠体A3的制作

将应力缓和层形成用组合物(1)涂布于经有机硅树脂涂布的由聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜形成的厚度15μm的隔离膜(基材B)上后，在90℃下干燥，由此除去溶剂，形成干燥后的厚度为15μm的应力缓和层A。然后，将对一个面实施了抗静电处理和防污处理的厚度38μm的聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)膜(基材A)中的与实施了抗静电处理和防污处理的面相反侧的面层叠于应力缓和层A，制作由基材A/应力缓和层A/基材B形成的具备应力缓和层A的层叠体A3。

(4)包含应力缓和层A的层叠体A4的制作

除了使用实施了抗静电处理和防污处理的厚度75μm的PET膜(基材C)以外，与由基材A/应力缓和层A/基材B形成的层叠体A3的制作同样地操作，制作由基材C/应力缓和层A/基材B形成的具备应力缓和层A的层叠体A4。

(5)包含应力缓和层B的层叠体A5的制作

在应力缓和层形成用组合物(1)中不配合1-辛基吡啶鎓十二烷基苯磺酸盐2.0份，除此以外，与由基材A/应力缓和层A/基材B形成的层叠体A3的制作同样地操作，制作由基材A/应力缓和层B/基材B形成的具备应力缓和层B的层叠体A5。

(6)包含应力缓和层C的层叠体A6的制作

(i)应力缓和层形成用组合物(2)的制备

按照下述组成，制备应力缓和层形成用组合物(2)。

将·聚合例2中得到的丙烯酸类树脂溶液(2)：100份(不挥发成分量)

·异氰酸酯系化合物：Coronate L、甲苯二异氰酸酯的三羟甲基丙烷加合物的乙酸乙酯溶液(固体成分浓度75％)(东曹株式会社制) 0.5份

·硅烷系化合物：KBM-403，3-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学工业株式会社制) 0.5份

混合，以固体成分浓度成为10％的方式添加乙酸乙酯，得到应力缓和层形成用组合物(2)。

(ii)包含应力缓和层C的层叠体A6的制作

利用涂抹器将应力缓和层形成用组合物(2)，以干燥后的厚度成为15μm的方式涂布于经脱模处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(厚度38μm)(基材D)的脱模处理面。将涂布层在100℃干燥1分钟，得到具备应力缓和层C的膜。然后，在应力缓和层C上贴合经脱模处理的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜(厚度38μm)(基材D)，在温度23℃、相对湿度50％RH的条件下熟化7天，制作由基材D/应力缓和层C/基材D形成的具备应力缓和层C的层叠体A6。

4.光学层叠体的制作

(1)实施例1

将由基材1/防扩散层A/光取向膜A/偏振层/防扩散层B/粘合层/相位差层/光取向膜B/基材2形成的层叠体A1的剥离基材2而露出的面、与由基材D/应力缓和层C/基材D形成的层叠体A6的剥离基材D而露出的面贴合，制作由基材1/防扩散层A/光取向膜A/偏振层/防扩散层B/粘合层/相位差层/光取向膜B/应力缓和层C/基材D形成的光学层叠体B1。此外，将上述光学层叠体B1的剥离基材1而露出的面、与由基材A/应力缓和层A/基材B形成的层叠体A3的剥离基材B而露出面贴合，得到由基材A/应力缓和层A/防扩散层A/光取向膜A/偏振层/防扩散层B/粘合层/相位差层/光取向膜B/应力缓和层C/基材D形成的光学层叠体(1)。

(2)实施例2

将由基材1/防扩散层A/光取向膜A/偏振层/防扩散层B/粘合层/相位差层/光取向膜B/粘接层/垂直取向液晶固化层/取向膜C/基材3形成的层叠体A2的剥离基材3而露出的面、与由基材D/应力缓和层C/基材D形成的层叠体A6的剥离基材D而露出的面贴合，制作由基材1/防扩散层A/光取向膜A/偏振层/防扩散层B/粘合层/相位差层/光取向膜B/粘接层/垂直取向液晶固化层/取向膜C/应力缓和层C/基材D形成的光学层叠体B2。此外，将上述光学层叠体B2的剥离基材1而露出的面、与由基材A/应力缓和层A/基材B形成的层叠体A3的剥离基材B而露出面贴合，得到由基材A/应力缓和层A/防扩散层A/光取向膜A/偏振层/防扩散层B/粘合层/相位差层/光取向膜B/粘接层/垂直取向液晶固化层/取向膜C/应力缓和层C/基材D形成的光学层叠体(2)。

(3)实施例3

使用层叠体A4代替层叠体A3，将光学层叠体B1的剥离基材1而露出的面与层叠体A4的剥离基材B而露出的面贴合，除此以外，与实施例1同样地操作，得到由基材C/应力缓和层A/防扩散层A/光取向膜A/偏振层/防扩散层B/粘合层/相位差层/光取向膜B/应力缓和层C/基材D形成的光学层叠体(3)。

(4)实施例4

使用层叠体A4代替层叠体A3，将光学层叠体B2的剥离基材1而露出的面与层叠体A4的剥离基材B而露出的面贴合，除此以外，与实施例2同样地操作，得到由基材C/应力缓和层A/防扩散层A/光取向膜A/偏振层/防扩散层B/粘合层/相位差层/光取向膜B/粘接层/垂直取向液晶固化层/取向膜C/应力缓和层C/基材D形成的光学层叠体(4)。

(5)实施例5

使用层叠体A5代替层叠体A3，将层叠体B1的剥离基材1而露出的面与层叠体A5的剥离基材B而露出的面贴合，除此以外，与实施例1同样地操作，得到由基材A/应力缓和层B/防扩散层A/光取向膜A/偏振层/防扩散层B/粘合层/相位差层/光取向膜B/应力缓和层C/基材D形成的光学层叠体(5)。

(6)比较例1

将与实施例1中的步骤同样地制作的光学层叠体B1的基材1剥离，得到由防扩散层A/光取向膜A/偏振层/防扩散层B/粘合层/相位差层/取向膜B/应力缓和层C/基材D形成的光学层叠体(6)。

5.光学层叠体的物性/特性评价

(1)第1基材膜的弹性模量(23℃)

从基材膜切出MD长度100mm×TD长度25mm的试验片。接下来，用拉伸试验机〔株式会社岛津制作所制AUTOGRAPH AG-1S试验机〕的上下夹具，以夹具的间隔成为5cm的方式夹持上述试验片的长边方向两端，在温度23℃、相对湿度55％的环境下，以拉伸速度1mm/分钟将试验片沿长边方向拉伸，根据所得到的应力-变形曲线中的初始直线的斜率算出23℃下的MD上的拉伸弹性模量〔MPa〕。

(2)由第1基材膜和第1应力缓和层形成的层叠体(层叠体a)的剥离力、以及第2基材膜的剥离力

在实施例1～5和比较例1中制作的光学层叠体(1)～(6)中，将偏振层侧的基材作为第1基材膜，将相位差侧的基材作为第2基材膜，分别通过以下方法测定将由从第1基材膜至与其相邻的应力缓和层为止的层形成的层叠体a从光学层叠体剥离时的剥离力F1、以及将第2基材膜从光学层叠体剥离时的剥离力F2。将结果示于表3。

使用拉伸试验机夹持试验片(宽度25mm×长度约150mm)的长度方向的一端，在温度23℃、相对湿度60％的气氛下，以十字头速度(夹头移动速度)200mm/分钟进行依据JIS K6854-1:1999“粘接剂-剥离粘接强度试验方法-第1部：90度剥离”的90°剥离试验，进行测定。

(3)贴合试验

将实施例和比较例中制作的各光学层叠体(1)～(6)分别切成160mm×80mm的片材，使用Haltec(三共公司制“Haltec HAL650”)，在使第1基材膜的面吸附的状态下剥离第2基材膜，将露出的第2应力缓和层的面贴合于玻璃。然后，检查外观，将确认到外观不良(贴合气泡、褶皱、第1基材的浮起、破损)的情况设为贴合失败，将未确认到外观不良的情况设为贴合成功，实施20次试验。根据成功率对试验结果进行分类。将结果示于表3。

＜评价基准＞

〇：成功率为90％以上

△：成功率为60％以上且小于90％

×：成功率小于60％

【表3】

表3中的层叠体a的膜厚T1为由从第1基材膜到第1应力缓和层为止的层形成的层叠体的合计膜厚，层叠体b的膜厚T2为由位于第1应力缓和层与偏振层之间的防扩散层至第2应力缓和层为止的层形成的层叠体的合计膜厚(关于T1和T2，表中的厚度为将小数点后第一位四舍五入的值)。另外，在第1应力缓和层与第2应力缓和层之间的层的厚度中，均不包含第1应力缓和层和第2应力缓和层的厚度。

Claims (9)

1.一种光学层叠体，其依次包含第1基材膜、第1应力缓和层、偏振层、粘合粘接层、相位差层、第2应力缓和层和第2基材膜，

位于第1应力缓和层与第2应力缓和层之间的层的合计厚度为20μm以下，

第1基材膜在23℃时的弹性模量为2500MPa～6000MPa，

第1应力缓和层能够在与第1应力缓和层的与第1基材膜相反侧的面所相邻的层之间剥离，第2基材膜为能够剥离的基材膜。

2.根据权利要求1所述的光学层叠体，其中，在第1应力缓和层与偏振层之间还包含防扩散层。

3.根据权利要求1或2所述的光学层叠体，其中，偏振层为包含显示近晶液晶相的聚合性液晶化合物和二色性色素的聚合性液晶组合物的液晶固化层。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的光学层叠体，其中，相位差层是聚合性液晶化合物在相对于基材面内沿水平方向取向了的状态下固化而成的水平取向液晶固化层。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的光学层叠体，其中，第1基材膜的厚度为30μm～120μm。

6.根据权利要求2～5中任一项所述的光学层叠体，其中，由从第1基材膜到第1应力缓和层为止的层形成的层叠体即层叠体a的膜厚T1与由从位于第1应力缓和层与偏振层之间的防扩散层到第2应力缓和层为止的层形成的层叠体即层叠体b的膜厚T2满足式(1)：

T1/T2≥1.5 (1)。

7.根据权利要求1～6中任一项所述的光学层叠体，其中，将由从第1基材膜到第1应力缓和层为止的层形成的层叠体即层叠体a从光学层叠体剥离时的剥离力F1与从光学层叠体剥离第2基材膜时的剥离力F2满足式(2)：

0.02(N/25mm)≤|F1-F2| (2)。

8.根据权利要求2～7中任一项所述的光学层叠体，其中，防扩散层的厚度为5μm以下。

9.根据权利要求1～8中任一项所述的光学层叠体，其中，在偏振层与第2应力缓和层之间还包含垂直取向液晶固化层，所述垂直取向液晶固化层是聚合性液晶化合物在相对于基材面内沿垂直方向取向了的状态下固化而成的。

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