KR100673504B1 - 빛 누설 및 그림자 보상을 가지는 균일성 보정 시스템 - Google Patents

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Abstract

빛 누설 및 그림자 보상을 가지는 균일성 보정 시스템 및 방법이 제공된다. 상기 시스템은 복수의 보정 엘리먼트(correction element) 및 광학적 보상 플레이트(optical compensation plate)를 포함한다. 이웃하는 보정 엘리먼트들은 갭(gap)에 의해 분리된다. 상기 광학적 보상 플레이트는 복수의 갭 보상 세그먼트(gap compensation segment)를 가지는 패턴을 포함한다. 상기 패턴은 상기 광학적 보상 플레이트의 나머지 부분의 감쇠와 다른 감쇠를 가진다. 상기 보상 플레이트 상에서의 각각의 보상 세그먼트의 위치는, 조명 슬롯 내에서의 이웃하는 보정 엘리먼트들 사이의 대응하는 갭의 위치에 대응한다. 각각의 보상 세그먼트의 폭은 상기 보정 시스템에 입사하는 빛의 각도에 의존적이다. 상기 패턴은 상기 보상 플레이트의 상단 표면 또는 하단 표면 상에 위치될 수 있다. 또한, 상기 보상 플레이트는 상기 복수의 보정 엘리먼트 위에 또는 아래에 위치될 수 있다.
균일성 보정, 보정 엘리먼트, 갭, 광학적 보상 플레이트, 갭 보상 세그먼트, 감쇠

Description

빛 누설 및 그림자 보상을 가지는 균일성 보정 시스템 {UNIFORMITY CORRECTION SYSTEM HAVING LIGHT LEAK AND SHADOW COMPENSATION}
여기에 편입되며 명세서의 일부를 형성하는 첨부 도면은 본 발명을 도시한다. 또한, 발명의 상세한 설명과 함께 첨부 도면은 발명의 원리를 설명하고, 당업자가 본 발명을 실시할 수 있도록 한다.
도 1은 본 발명의 하나의 실시예에 따른, 균일성 보정을 가지는 예시적인 리소그래피(lithography) 시스템을 도시한다.
도 2a 내지 2d는 본 발명의 실시예에 따른, 예시적인 균일성 보정 시스템의 하이 레벨 블록도(high level block diagram)를 나타낸다.
도 3은 이웃하는 보정 엘리먼트들 사이의 갭에 의해 생성되는 광학적 이펙트(optical effect)를 나타낸다.
도 4는 갭 리플(gap ripple)의 원인을 더 도시한다.
도 5a 내지 5c는 본 발명의 하나의 실시예에 따른, 셰브론 구성(chevron configuration) 및 예시적인 광학적 보상 플레이트를 가지는 보정 시스템을 나타낸다.
도 6은 본 발명의 하나의 실시예에 따른, 보정 엘리먼트(620)의 기울어진 구성(tilted configuration) 및 광학적 보상 플레이트(650)를 가지는 예시적인 균일 성 보정 시스템을 나타낸다.
도 7은 본 발명의 하나의 실시예에 따른, 예시적인 광학적 보상 플레이트를 나타낸다.
본 발명은 첨부 도면을 참조하여 서술될 것이다. 도면에서, 유사한 도면 부호는 동일하거나 기능적으로 유사한 구성요소를 지시한다. 또한, 도면 부호의 가장 좌측의 숫자는 그 도면 부호가 처음으로 나타나는 도면을 식별시킨다.
본 발명은 일반적으로, 리소그래피(lithography) 시스템에서의 균일성 보정에 관한 것이다.
종래의 리소그래피 시스템은, 여러 가지 중에서도 특히, 수신된 레이저 빔의 균일한 세기(intensity) 분포를 생성하는 조명(illumination) 시스템을 포함한다. 결과 조명은 가능한 한 균일하게, 그리고 균일성 오차는 가능한 한 작게 유지되는 것이 바람직하다. 조명 균일성은, 조명 시스템이 전체 노출 범위(exposure field)에 걸쳐 균일한 선 폭(line width)을 생성하는 능력에 영향을 미친다. 조명 균일성 오차는 리소그래피 시스템에 의해 생성되는 소자(device)의 품질에 상당한 영향을 미칠 수 있다.
균일성을 보정하는 기법은, 조명 슬롯(illumination slot)의 맞은편들로부터 삽입된 플레이트(plate)와 같은 복수의 보정 엘리먼트(correction element)를 가지 는 보정 시스템을 포함한다. 이러한 보정 엘리먼트는 0이 아닌 감쇠(attenuation)(예컨대, 90%)를 가진다. 하지만, 다양한 제약으로 인해, 이웃하는 보정 엘리먼트들 사이에 갭(gap)이 존재한다. 이웃하는 보정 엘리먼트들 사이의 갭은, 갭 리플(gap ripple) 및 그림자(shadow)와 같은 바람직하지 않은 광학적 이펙트(effect)를 발생시킨다. 각각의 갭은 0% 감쇠(또는 100% 투과)를 가지며, 보정 엘리먼트는 0이 아닌 감쇠를 가지기 때문에, 갭을 통과하는 빛은 기판(substrate) 상에 스트리크(streak) 또는 더 큰 세기의 밴드(band)를 발생시킨다. 더 큰 세기의 밴드는 노출 범위 내의 선 폭에 영향을 미친다. 또한, 각각의 보정 엘리먼트는 유한한 두께를 가진다. 그러므로, 각각의 보정 엘리먼트는 복수의 에지(edge)를 가진다. 만약 빛이 어떤 각도(즉, 더 큰 시그마)로 들어온다면, 그 빛의 일부는 에지에서 반사되어, 기판 상에 그림자를 드리우게 된다.
따라서, 이웃하는 보정 엘리먼트들 사이의 갭에 의해 발생하는 광학적 이펙트를 보상하고, 슬롯에 걸쳐서 향상된 균일성을 제공하고, 크리티컬 디멘젼(critical dimensions)을 향상시키기 위한 균일성 보정 시스템이 필요하게 된다.
본 발명은 빛 누설 및 그림자 보상을 가지는 균일성 보정 시스템 및 방법에 대한 것이다. 본 발명의 한 측면에 따르면, 균일성 보정 시스템은 복수의 보정 엘리먼트와, 광학적 보상 플레이트(optical compensation plate)를 포함한다. 하나의 실시예에서, 상기 보정 엘리먼트는 조명 슬롯 내에서 이동 가능하다. 이웃하는 보정 엘리먼트들은 갭에 의해 분리된다. 광학적 보상 플레이트는 복수의 갭 보상 세그먼트(gap compensation segment)를 가지는 패턴을 포함한다. 상기 패턴은 광학적 보상 플레이트의 나머지 부분의 감쇠와 다른 감쇠를 가진다.
각각의 갭 보상 세그먼트는 이웃하는 보정 엘리먼트들 사이의 갭 중 하나에 대응한다. 광학적 보상 플레이트 상에서의 각각의 갭 보상 세그먼트의 위치는, 조명 슬롯 내에서의 이웃하는 보정 엘리먼트들 사이의 갭 중 상기 세그먼트와 대응되는 갭의 위치에 실질적으로 대응한다. 각각의 갭 보상 세그먼트의 폭은 보정 시스템에 입사되는 빛의 각도에 의존적이다. 본 발명의 측면에서, 각각의 갭 보상 세그먼트의 폭은 대응되는 갭의 폭보다 더 크다. 갭 보상 세그먼트는 어떤 길이든 가질 수 있다. 본 발명의 일 측면에서, 갭 보상 세그먼트는 광학적 보상 플레이트의 제1 에지부터 광학적 보상 플레이트의 제2 에지까지 걸쳐 있다.
본 발명의 일 측면에서, 상기 패턴은 광학적 보상 플레이트의 상단 (또는 상부) 표면 상에 있다. 본 발명의 대안적인 측면에서, 상기 패턴은 광학적 보상 플레이트의 하단 (또는 하부) 표면 상에 있다. 상기 패턴은 감쇠를 가지는 어떤 물질로든 형성될 수 있다.
본 발명의 일 측면에서, 상기 광학적 보상 플레이트는 복수의 보정 엘리먼트 위에 위치된다. 본 발명의 대안적인 측면에서, 상기 광학적 보상 플레이트는 복수의 보정 엘리먼트 아래에 위치된다.
도 1은 본 발명의 하나의 실시예에 따른, 예시적인 리소그래피 시스템(100)을 도시한 것이다. 하나의 실시예에서, 리소그래피 시스템(lithography system)(100)은 레티클(reticle)이나 마스크(mask)를 사용하는 시스템이다. 대안적인 실시예에서, 시스템(100)은 마스크레스(maskless) 리소그래피 시스템이다.
리소그래피 시스템(100)은 조명 시스템(110), 균일성 보정 시스템(120), 콘트라스트 장치(contrast device)(130), 프로젝션 광학계(projection optics)(150), 기판 스테이지(substrate stage)(160) 및 보정 모듈(170)을 포함한다.
조명 시스템(110)은 콘트라스트 장치(130)를 조명한다. 조명 시스템(110)은 리소그래피 시스템에 필요한 대로 어떤 유형의 조명(예컨대, 4극(quadrapole), 고리모양(annular) 등)이라도 사용할 수 있다. 또한, 조명 시스템(110)은 부분적 간섭성(partial coherence) 또는 필(fill) 지오메트리(geometry)와 같은 다양한 조명 특성의 변경을 지원할 수 있다. 조명 시스템의 상세 내용은 당업자에게 잘 알려져 있으며, 따라서 여기서는 더 설명하지 않는다.
콘트라스트 장치(130)는 기판 스테이지(160)에 의해 유지되는 기판(165)(예컨대, 웨이퍼 또는 유리판)의 일 부분 상에 패턴을 비추기 위해 사용된다. 제1 실시예에서, 콘트라스트 장치(130)는 레티클과 같은 스태틱 마스크(static mask)이며, 기판(165)은 웨이퍼이다. 제2의 마스크레스(maskless) 실시예에서, 콘트라스트 장치(135)는 프로그래머블 어레이(programmable array)이다. 프로그래머블 어레이는 공간 광 변조기(spatial light modulator: SLM) 또는 임의의 다른 적절한 마이크로-미러 어레이(micro-mirror array)를 포함할 수 있다. 대안적으로, SLM은 반사형 또는 투과형 액정 디스플레이(liquid crystal display: LCD) 또는 그레이팅 라이트 밸브(grating light valve: GLV)를 포함할 수 있다. 제2 실시예에서, 기판 (165)은 한 장의 유리, 평판 디스플레이(flat panel display), 또는 이와 유사한 것이 될 수 있다.
프로젝션 광학계(150)는 기판 상에 (콘트라스트 장치에 의해 정의된) 패턴의 이미지를 프로젝션하도록 구성된다. 프로젝션 광학계(150)의 상세 내용은 사용되는 리소그래피 시스템의 유형에 의존적이다. 프로젝션 광학계의 구체적인 기능적 상세 내용은 당업자에게 잘 알려져 있으며, 따라서 여기서는 더 설명하지 않는다.
기판 스테이지(160)는 이미지 평면(image plane)(180) 상에 위치된다. 기판 스테이지(160)는 기판(165)을 지지한다. 하나의 실시예에서, 기판은 레지스트(resist) 코팅된 웨이퍼이다. 대안적인 실시예에서, 기판은 한 장의 유리, 평판 디스플레이, 또는 이와 유사한 것이다.
균일성 보정 시스템(120)은 시스템(100)과 관련된 조명 범위의 특정 구역들 내의 조명 레벨(illumination level)을 제어하는 장치이다. 균일성 보정 시스템(120)은 조명 광학계(110)와 콘트라스트 장치 스테이지(contrast device stage)(130) 사이의 보정 평면에 위치한다. 하나의 실시예에서, 보정 평면은 콘트라스트 장치 스테이지(예컨대, 레티클 스테이지)에 근접하게 위치된다. 대안적인 실시예에서, 보정 평면은 보정 광학계(110)와 콘트라스트 장치 스테이지(130) 사이의 아무 위치에나 위치될 수 있다.
도 2a 내지 2d는 예시적인 균일성 보정 시스템(220)의 하이 레벨 블록도(high level block diagram)를 나타낸다. 도 2a 내지 2d에 나타난 바와 같이, 균일성 보정 시스템은 복수의 보정 엘리먼트(220a-n), 선택적인(optional) 복수의 보 정 엘리먼트(222a-n), 그리고 광학적 보상 플레이트(250)를 포함한다. 복수의 보정 엘리먼트(220a-n, 222a-n)는 정의된 구성 내의 조명 슬롯에 삽입된다. 복수의 보정 엘리먼트(220, 222)는 균일성에 영향을 미치는 어떤 메커니즘이라도 될 수 있다. 하나의 실시예에서, 복수의 보정 엘리먼트(220a-n, 222a-n)는 투과성의 물질로 구성된 (핑거(finger)라고도 불리는) 플레이트(plate)이다. 예컨대, 하나의 실시예에서, 각각의 핑거는 10% 감쇠(즉, 90% 투과)를 가진다. 대안적인 실시예에서, 핑거는 비투과성(opaque)(즉, 0% 투과성)이다. 당업자가 알 수 있는 바와 같이, 다른 감쇠 값이 보정 엘리먼트에 대해 사용될 수도 있다. 또한, 보정 엘리먼트는 가변적인 감쇠를 가질 수도 있다.
도 2a는 보정 시스템(220a)의 탑다운 뷰(top down view)이다. 보정 시스템(220a)에서, 복수의 보정 엘리먼트(220a-n, 222a-n)는 기울어진 구성(tilted configuration)을 가진다. 이 구성에서, 복수의 보정 엘리먼트(220a-n)는 조명 슬롯의 제1 측면(예컨대, 왼쪽 측면)으로부터 스캔 방향(또는 Y축)에 대하여 각도 α로 삽입된다. 복수의 보정 엘리먼트(222a-n)는 조명 슬롯의 반대 측면(예컨대, 오른쪽 측면)으로부터 스캔 방향(또는 Y축)에 대하여 각도 -α로 삽입된다. 하나의 실시예에서, 보정 엘리먼트(220a-n 및 222a-n)의 최대 삽입은 중립점(neutral point)까지이다. 즉, 각각의 보정 엘리먼트는, 보정 엘리먼트(220)의 끝(tip)이 보정 엘리먼트(222)의 끝에 근접하는 점까지의 어떤 양만큼이라도 삽입될 수 있다. 본 실시예에서, 보정 엘리먼트(220a-n)는 보정 엘리먼트(222a-n)와 오버랩(overlap)되지 않는다.
도 2a에서 볼 수 있는 바와 같이, 본 구성에서, 각각의 보정 엘리먼트(220a-n)는 그것이 상응하는 보정 엘리먼트(222a-n)와 마주보게 된다 (예컨대, 보정 엘리먼트(220a)는 보정 엘리먼트(222a)와 마주보고, 보정 엘리먼트(220b)는 보정 엘리먼트(222b)와 마주보고, 등). 그러므로, 각각의 보정 엘리먼트(220a-n) 및 그것의 상응하는 보정 엘리먼트(222a-n)는 동일한 보정 슬롯에 존재하는 것으로 간주될 수 있다. 비록 도 2a는 한 측면 당 네 개의 보정 엘리먼트만을 나타내고 있지만, 본 발명에서는 한 측면 당 어떤 개수의 핑거라도 사용될 수 있다.
도 2b는 보정 시스템(220b)의 탑다운 뷰이다. 보정 시스템(220b)에서, 복수의 보정 엘리먼트(220a-n, 222a-n)는 셰브론 구성(chevron configuration)을 가진다. 이 구성에서, 복수의 보정 엘리먼트(220a-n)는 조명 슬롯의 제1 측면(예컨대, 왼쪽 측면)으로부터 스캔 방향(또는 Y축)에 대하여 각도 α로 삽입된다. 복수의 보정 엘리먼트(222a-n)는 조명 슬롯의 반대 측면(예컨대, 오른쪽 측면)으로부터 스캔 방향(또는 Y축)에 대하여 동일한 각도 α로 삽입된다. 본 구성에서, 보정 엘리먼트(220, 222)는 보정 엘리먼트(220)가 보정 엘리먼트(222)와 오버랩되는 깊이까지 삽입될 수 있다. 본 실시예에서, 각각의 보정 엘리먼트는 최대 삽입 점까지의 어떤 양만큼이라도 삽입될 수 있다.
도 2c는 보정 시스템(220c)의 부분의 측면 뷰(side view)의 하이 레벨 블록도이다. 도 2c에 보이는 바와 같이, 광학적 보상 플레이트(250)는 복수의 보정 엘리먼트(220, 222)를 포함하는 평면과 평행하다. 하나의 실시예에서, 보정 엘리먼트의 바닥면은 광학적 보상 플레이트의 윗면과 근접한다. 보정 엘리먼트의 바닥면 과 광학적 보상 플레이트의 윗면 사이의 간격은 0.1mm 미만이다. 당업자가 알 수 있는 바와 같이, 다른 간격 거리가 본 발명과 함께 사용될 수 있다.
도 2d는 보정 시스템(220d)의 부분의 측면 뷰의 하이 레벨 블록도이다. 본 실시예에서, 광학적 보상 플레이트의 바닥면은 복수의 보정 엘리먼트(220, 222)의 윗면과 근접한다. 보정 엘리먼트의 윗면과 광학적 보상 플레이트의 바닥면 사이의 간격은 0.1mm 미만이다. 당업자가 알 수 있는 바와 같이, 다른 간격 거리가 본 발명과 함께 사용될 수 있다.
본 발명의 하나의 실시예에서, 광학적 보상 플레이트(250)는 0% 감쇠(즉, 100% 투과)를 가진다. 당업자가 알 수 있는 바와 같이, 다른 감쇠 값을 가지는 광학적 보상 플레이트가 본 발명과 함께 사용될 수 있다.
도 2a 내지 2d에서 볼 수 있는 바와 같이, 이웃하는 보정 엘리먼트들(예컨대, 220a-n 및 222a-n)은 갭(225a-n)에 의해 분리된다. 당업자가 알 수 있는 바와 같이, 이웃하는 핑거들은 보상 시스템의 제약(constraints)에 의해 요구되는 어떤 크기의 갭에 의해서도 분리될 수 있다. 하나의 실시예에서, 각각의 갭(225a-n)은 동일한 크기이다.
이웃하는 보정 엘리먼트들 간의 갭은 갭 리플 및 그림자와 같은 바람직하지 않은 광학적 이펙트를 생성한다. 이들 이펙트의 일례가 도 3에 도시된다. 도 3은 복수의 이웃하는 보정 엘리먼트들(320a-c)을 가지는 보정 시스템(330)의 일부분을 나타낸다. 이웃하는 보정 엘리먼트들(320a-c)은 갭(325a,b)에 의해 분리된다. 각각의 갭은 0% 감쇠(또는 100% 투과)를 가지기 때문에, 갭을 통과하는 빛은 스트리 크 또는 더 큰 세기의 밴드를 기판 상에 생성한다. 스트리크의 세기는 입사광의 각도에 의존적이다. 예컨대, 도 3에서 빛(390)에 의해 보여지는 바와 같이, 광선(light beam)이 실질적으로 평행한 경우 (즉, 빛이 작은 시그마를 가지는 경우), 갭을 통해 최대의 양의 빛이 인입된다. 도 3에서 빛(395)에 의해 보여지는 바와 같이, 빛이 다양한 각도에 걸쳐 퍼져 있을 경우 (즉, 빛이 더 큰 시그마를 가지는 경우), 빛의 일부분이 반사되어, 스트리크의 세기의 감소를 야기한다. 각도가 증가함에 따라 (즉, 시그마가 증가함에 따라), 더 적은 빛이 갭을 통과하여, 스트리크의 세기를 더 감소시킨다. 영역(360a)은 입사광이 가장 작은 시그마를 가질 때에 갭으로 인한 더 큰 세기의 영역이다. 영역(360b)은 입사광이 가장 큰 시그마를 가질 때에 갭으로 인한 더 큰 세기의 영역이다. 도시된 바와 같이, 영역(360a)은 영역(360b)보다 더 좁다. 하지만, 영역(360a)의 빛은 영역(360b)의 빛보다 더 큰 세기를 가진다.
도 3에서 볼 수 있는 바와 같이, 각각의 보정 엘리먼트는 유한한 두께를 가진다. 그러므로, 각각의 보정 엘리먼트는 복수의 에지(322)를 가진다. 만약 빛이 어떤 각도(즉, 더 큰 시그마)로 인입되고 있다면, 빛의 일부는 에지(322)에서 반사되어, 기판 상에 그림자를 드리우게 된다. 두 개의 보정 엘리먼트(320b,c)가 이웃하고, 빛이 한쪽 측면으로부터 어떤 각도로 인입되고 있다면, 제1 핑거(320b)의 에지(322)에 의해 그림자가 드리워지고, 제2 핑거(320c)의 에지(322)에 의해 제2의 그림자가 드리워진다. 그림자 이펙트는 사용되는 조명 모드(mode)에 의해 악화될 수 있다. 예컨대, 2극(dipole) 조명이 사용된다면, 빛은 제1 방향으로부터, 그리 고 제1 방향과 반대되는 제2 방향으로부터 보정 엘리먼트 상에 입사한다. 그러므로, 이웃하는 핑거들의 에지는, 갭에 의해 야기되는 더 큰 세기의 스트리크에 부가적으로, 기판 상에 드리워지는 네 개의 그림자를 야기한다.
도 4는 갭 리플의 원인을 더 도시한다. 도 4는 왼쪽 측면으로부터 삽입된 복수의 이웃하는 보정 엘리먼트들(420a-c)을 가지는 조명 슬롯의 일 부분(435)을 나타낸다. 이웃하는 보정 엘리먼트들(420a-c)은 갭(425a,b)에 의해 분리된다. 도 4는 또한 보정 시스템과 관련된 크로스-슬롯 평균 감쇠(cross-slot averaged attenuation)을 나타낸다.
도 4에 나타난 바와 같이, 스캔 라인들(442)은 갭 영역(425a)에 들어가거나 가로지르지 않는다. 그 결과, 크로스 슬롯 감쇠는 (대략 8% 감쇠로) 보통이다. 스캔 라인들(444)은 갭 영역(425a)을 가로지른다. 그 결과, 더 많은 빛이 통과해 들어와, 세기를 증가시키고 감쇠를 감소시킨다. 스캔 라인들(446)은 갭 영역(425b)에 들어가지만, 갭 영역(425a 또는 b)을 가로지르지 않는다. 그 결과, 크로스 슬롯 감쇠는 변동한다. 스캔 라인들(448)도 또한 갭 영역(425b)에 들어가지만, 갭 영역(425a 또는 b)을 가로지르지 않는다. 그 결과, 크로스 슬롯 감쇠는 변동한다. 그러므로, 크로스-슬롯 평균 감쇠의 도면에서 볼 수 있는 바와 같이, 감쇠 리플(attenuation ripple)이 생성된다.
도 5a는 본 발명의 하나의 실시예에 따른, 셰브론 구성을 가지는 보정 시스템과 함께 사용되는 예시적인 광학적 보상 플레이트(550)를 나타낸다. 광학적 보상 플레이트(550)는 복수의 갭 보상 세그먼트(554a-j)를 가지는 패턴(552)을 포함 한다. 갭 보상 세그먼트(554a-j)는 광학적 보상 플레이트(550)의 나머지 영역과 다른 감쇠를 가진다. 예컨대, 광학적 보상 플레이트(550)의 나머지 영역이 0% 감쇠(즉, 100% 투과)를 가지는 한편으로, 갭 보상 세그먼트(554)는 3% 감쇠(즉, 97% 투과)를 가질 수 있다.
광학적 보상 플레이트(550)는 제1 표면(502) 및 제2 표면(504)을 가진다. 하나의 실시예에서, 패턴(552)은 제1 표면(502) 상에 있다. 대안적인 실시예에서, 패턴(552)은 제2 표면 상에 있다. 또 다른 실시예에서, 패턴(552)은 광학적 보상 플레이트 내에 포함된다.
패턴(552)은 0이 아닌 감쇠를 가지는 어떤 물질로든 형성될 수 있다. 예컨대, 패턴(552)은 일련의 도트(dot)로 구성된 코팅이 될 수 있다. 당업자가 알 수 있는 바와 같이, 패턴(552)은 다양한 방법에 의해 광학적 보상 플레이트(550)에 결합될 수 있다.
각각의 갭 보상 세그먼트(554a-j)는 이웃하는 보정 엘리먼트들 사이의 갭에 대응한다. 도 5b는 보정 엘리먼트의 예시적인 셰브론 구성을 나타낸다. 보상 플레이트의 바닥 에지에 대한 갭 보상 세그먼트(554a-j)의 각도 β(556)는, 조명 슬롯 Y축에 대한 대응하는 갭의 각도 α(526)와 같다. 도 5c에서 볼 수 있는 바와 같이, 광학적 보상 플레이트(550) 상에서의 각각의 갭 보상 세그먼트(554)의 위치는 조명 슬롯에서의 대응하는 갭의 위치에 대응한다.
각각의 갭 보상 세그먼트(554)의 폭은 입사광의 각도에 의존적이다. 예컨대, 입사광이 작은 시그마를 가지는 경우, 갭 보상 세그먼트(554)는 이웃하는 보정 엘리먼트들 사이의 갭의 폭과 같거나, 이보다 약간 큰 폭을 가진다. 입사광이 큰 시그마를 가지는 경우, 갭 보상 세그먼트는 더 큰 폭을 가진다. 일반적으로, 각각의 갭 보상 세그먼트(554)의 폭은, 이웃하는 보정 엘리먼트들 사이의 갭의 폭보다 더 크다.
각각의 갭 보상 세그먼트(554)의 길이는, 보정 엘리먼트의 구성 및 각각의 엘리먼트의 삽입의 최대 깊이를 포함하는 다양한 요인(factor)에 의존적이다. 도 5a 및 5c에서 볼 수 있는 바와 같이, 갭 보상 세그먼트는 광학적 보상 플레이트(550)를 가로질러 뻗어 있다. 당업자가 알 수 있는 바와 같이, 리소그래피 시스템의 필요에 따라, 갭 보상 세그먼트에 대해 어떤 길이라도 사용될 수 있을 것이다.
도 6은 본 발명의 하나의 실시예에 따른, 보정 엘리먼트(620)의 기울어진 구성 및 광학적 보상 플레이트(650)를 가지는 예시적인 균일성 보정 시스템을 나타낸다. 광학적 보상 플레이트(650)는 패턴(652)을 포함한다. 본 실시예에서 보정 엘리먼트들은 마주보고 있기 때문에, 패턴(652)은 광학적 보상 플레이트(650)를 가로질러 뻗어 있는 복수의 평행한 갭 보상 세그먼트(654)를 포함한다.
도 7은 본 발명의 하나의 실시예에 따른, 예시적인 광학적 보상 플레이트를 나타낸다. 광학적 보상 플레이트(750)는 복수의 갭 보상 세그먼트(754)를 가지는 패턴(752)를 포함한다. 본 실시예에서, 갭 보상 세그먼트(754)는 광학적 보상 플레이트를 가로질러 뻗어 있지 않으며, 사실상 광학적 보상 플레이트의 중앙까지 뻗어 있지 않다. 그러므로, 본 실시예에서, 각각의 갭 보상 세그먼트의 길이는 광학적 보상 플레이트의 폭보다 작으며, 보정 엘리먼트의 최대 삽입 깊이보다 작다.
비록, 도 5 내지 7이 보정 엘리먼트의 기울어진 구성 및 셰브론 구성에 관해서 광학적 보상 플레이트 상의 패턴을 서술하고 있지만, 본 발명은 이웃하는 보정 엘리먼트들 사이에 갭을 가지는 어떤 보정 엘리먼트의 구성과도 사용될 수 있다. 일반적으로, 광학적 보상 플레이트 상의 패턴은 이웃하는 보정 엘리먼트들 사이의 갭에 대응한다. 플레이트 상에서의 갭 보상 세그먼트의 위치는 갭의 위치와 관련될 수 있다. 예컨대, 각각의 갭에 대한 중심축은, 갭의 중심과 일치하는 제1 평면과, 갭을 정의하는 이웃하는 보정 부재들을 포함하는 제2 평면의 교선(intersection)에 의해 정의될 수 있다. 제1 평면은 제2 평면에 수직이다. 이어서, 각각의 갭 보상 세그먼트의 중심 축은, 제1 평면과 광학적 보상 플레이트의 교선에 의해 정의되는 선과 대략 일치한다.
결론
본 발명의 다양한 실시예가 상기와 같이 서술되었지만, 이들은 단지 예로서 제시된 것일 뿐, 한정이 아니라는 점이 이해되어야 한다. 본 발명의 사상 및 범위를 벗어나지 않고, 형태 및 상세 내용에 있어서 다양한 변경이 가능하다는 점은 당업자에게 자명할 것이다. 그러므로, 본 발명의 폭 및 범위는 상기한 예시적인 실시예 중 어느 것에 의해서도 한정되지 않으며, 이하의 특허청구범위 및 그 균등 범위에 따라서만 정의되어야 한다.
본 발명에 따른 균일성 보정 시스템 및 방법은, 빛 누설 및 그림자 보상을 가져, 이웃하는 보정 엘리먼트들 사이의 갭에 의해 발생하는 광학적 이펙트를 보상 하고, 슬롯 전체에 걸쳐 향상된 균일성을 제공하고, 크리티컬 디멘젼을 향상시킬 수 있다.

Claims (20)

  1. 각각의 보정 부재가 이웃하는 보정 부재로부터 갭(gap)에 의해 분리되는 복수의 보정 부재; 및
    상기 복수의 보정 부재에 평행한 광학적 보상 플레이트(optical compensation plate)
    를 포함하며,
    상기 광학적 보상 플레이트는 감쇠를 가지는 패턴을 포함하고, 상기 패턴은 복수의 갭 보상 세그먼트(gap compensation segment)를 포함하며, 각각의 갭 보상 세그먼트는, 이웃하는 보정 부재들 사이의 갭 중의 하나에 대응하고,
    상기 광학적 보상 플레이트 상에서의 각각의 갭 보상 세그먼트의 위치는, 조명 슬롯(illumination slot) 내에서의 이웃하는 보정 부재들 사이의 상기 대응하는 갭의 위치에 실질적으로 대응하는
    균일성 보정 시스템.
  2. 제1항에 있어서, 각각의 갭 보상 세그먼트의 폭은 상기 균일성 보정 시스템에 입사하는 빛의 각도에 의존적인 균일성 보정 시스템.
  3. 제1항에 있어서, 각각의 갭 보상 세그먼트의 폭은 상기 갭 보상 세그먼트에 대응하는 갭의 폭보다 더 큰 균일성 보정 시스템.
  4. 제1항에 있어서, 각각의 갭 보상 세그먼트는 상기 광학적 보상 플레이트의 제1 측면으로부터 상기 광학적 보상 플레이트의 제2 측면에 걸쳐 뻗어 있는 균일성 보정 시스템.
  5. 제1항에 있어서, 상기 패턴의 감쇠는 상기 광학적 보상 플레이트의 감쇠보다 더 큰 균일성 보정 시스템.
  6. 제1항에 있어서, 상기 광학적 보상 플레이트는 제1 표면과 제2 표면을 가지며, 상기 패턴은 상기 제1 표면 상에 있는 균일성 보정 시스템.
  7. 제1항에 있어서, 상기 광학적 보상 플레이트는 제1 표면과 제2 표면을 가지며, 상기 패턴은 상기 제2 표면 상에 있는 균일성 보정 시스템.
  8. 제1항에 있어서, 상기 광학적 보상 플레이트는 상기 복수의 보정 부재 아래에 위치하는 균일성 보정 시스템.
  9. 제1항에 있어서, 상기 광학적 보상 플레이트는 상기 복수의 보정 부재 위에 위치하는 균일성 보정 시스템.
  10. 제1항에 있어서,
    상기 복수의 보정 부재 중의 제1의 복수 개는 제1 평면의 제1 측면에 위치하며, 제2의 복수 개의 보정 부재는 상기 제1 평면의 제2 측면에 위치하고,
    상기 조명 슬롯은 제1 방향축과 제2 방향축에 의해 정의되고,
    상기 제1의 복수의 보정 부재는 상기 제1 방향축에 대해 제1의 각도로 삽입되고, 상기 제2의 복수의 보정 부재는 상기 제2 방향축에 대해 제2의 각도로 삽입되는
    균일성 보정 시스템.
  11. 제10항에 있어서,
    상기 광학적 보상 플레이트는 제3 방향축과 제4 방향축을 가지고, 상기 제3 방향축은 상기 조명 슬롯의 상기 제1 방향축과 동등(equivalent)하며, 상기 제4 방향축은 상기 조명 슬롯의 상기 제2 방향축과 동등하고,
    제1의 복수의 갭 보상 세그먼트는 상기 제3 방향축에 대해 상기 제1의 각도를 가지며, 제2의 복수의 갭 보상 세그먼트는 상기 제4 방향축에 대해 상기 제2의 각도를 가지는
    균일성 보정 시스템.
  12. 보정 슬롯 내에서 이동 가능한 복수의 보정 부재로서, 각각의 보정 부재가 이웃하는 보정 부재로부터 갭에 의해 분리되며, 각각의 보정 부재가 제1 평면 내에 제1 표면을 가지는 복수의 보정 부재; 및
    상기 제1 평면에 평행한 광학적 보상 플레이트
    를 포함하며,
    상기 광학적 보상 플레이트는 감쇠를 가지는 패턴을 포함하고, 상기 패턴은 복수의 갭 보상 세그먼트를 포함하며, 각각의 갭 보상 세그먼트는, 이웃하는 보정 부재들 사이의 갭 중의 하나에 대응하고,
    이웃하는 보정 부재들 사이의 각각의 갭에 있어서, 상기 갭의 중심축은 상기 제1 평면과 제2 평면의 교선(intersection)에 의해 정의되며, 상기 갭에 대응하는 갭 보상 세그먼트의 중심축은 상기 제2 평면과 상기 광학적 보상 플레이트의 교선에 의해 정의되는 선과 대략 일치하는
    균일성 보정 시스템.
  13. 제12항에 있어서, 각각의 갭 보상 세그먼트의 폭은 상기 균일성 보정 시스템에 입사하는 빛의 각도에 의존적인 균일성 보정 시스템.
  14. 제12항에 있어서, 각각의 갭 보상 세그먼트의 폭은 상기 갭 보상 세그먼트에 대응하는 갭의 폭보다 더 큰 균일성 보정 시스템.
  15. 제12항에 있어서, 각각의 갭 보상 세그먼트는 상기 광학적 보상 플레이트의 제1 측면으로부터 상기 광학적 보상 플레이트의 제2 측면에 걸쳐 뻗어 있는 균일성 보정 시스템.
  16. 제12항에 있어서, 상기 패턴의 감쇠는 상기 광학적 보상 플레이트의 감쇠보다 더 큰 균일성 보정 시스템.
  17. 조명 슬롯 내에서 이동 가능한 복수의 보정 부재로서, 각각의 보정 부재가 이웃하는 보정 부재로부터 갭에 의해 분리되는 복수의 보정 부재; 및
    광학적 보상 플레이트
    를 포함하며,
    상기 광학적 보상 플레이트는 감쇠를 가지는 패턴을 포함하며, 상기 패턴은 복수의 패턴 세그먼트(pattern segment)를 가지고,
    상기 광학적 보상 플레이트 상에서의 상기 패턴의 배치는, 각각의 보정 부재가 상기 조명 슬롯 내에 최대 깊이까지 삽입되었을 때의, 이웃하는 보정 부재들 사이의 갭의 배치에 대응하는
    균일성 보정 시스템.
  18. 제17항에 있어서, 상기 패턴의 감쇠는 상기 광학적 보상 플레이트의 감쇠보다 더 큰 균일성 보정 시스템.
  19. 제17항에 있어서, 상기 광학적 보상 플레이트는 상기 복수의 보정 부재 아래 에 위치하는 균일성 보정 시스템.
  20. 제17항에 있어서, 상기 광학적 보상 플레이트는 상기 복수의 보정 부재 위에 위치하는 균일성 보정 시스템.
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Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7088527B2 (en) * 2004-12-28 2006-08-08 Asml Holding N.V. Uniformity correction system having light leak and shadow compensation
US20060139784A1 (en) * 2004-12-28 2006-06-29 Asml Holding N.V. Uniformity correction system having light leak compensation
DE102006038455A1 (de) * 2006-08-16 2008-02-21 Carl Zeiss Smt Ag Optisches System für die Halbleiterlithographie
NL1036162A1 (nl) * 2007-11-28 2009-06-02 Asml Netherlands Bv Lithographic apparatus and method.
DE102008013229B4 (de) * 2007-12-11 2015-04-09 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für die Mikrolithographie
CN101221374B (zh) * 2008-01-25 2010-06-09 上海微电子装备有限公司 一种照明均匀性校正装置
CN101221373B (zh) * 2008-01-25 2010-06-02 上海微电子装备有限公司 一种照明均匀性校正装置
WO2009099280A2 (en) * 2008-02-05 2009-08-13 Lg Electronics Inc. Input unit and control method thereof
WO2010049020A1 (de) * 2008-10-31 2010-05-06 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungsoptik für die euv-mikrolithographie
NL2004770A (nl) * 2009-05-29 2010-11-30 Asml Holding Nv Lithographic apparatus and method for illumination uniformity correction and uniformity drift compensation.
JP6093753B2 (ja) 2011-03-23 2017-03-08 カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー Ｅｕｖミラー機構、ｅｕｖミラー機構を備えた光学系、及びｅｕｖミラー機構を備えた光学系を操作する方法
DE102011077234A1 (de) 2011-06-08 2012-12-13 Carl Zeiss Smt Gmbh EUV-Spiegelanordnung, optisches System mit EUV-Spiegelanordnung und Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems mit EUV-Spiegelanordnung
DE102011005940A1 (de) 2011-03-23 2012-09-27 Carl Zeiss Smt Gmbh EUV-Spiegelanordnung, optisches System mit EUV-Spiegelanordnung und Verfahren zum Betreiben eines optischen Systems mit EUV-Spiegelanordnung
CN107885038A (zh) * 2016-09-30 2018-04-06 上海微电子装备（集团）股份有限公司 照明均匀性校正装置、校正方法以及一种曝光投影系统
DE102017203647A1 (de) 2017-03-07 2018-09-13 Carl Zeiss Smt Gmbh Spiegel mit einer piezoelektrisch aktiven Schicht
CN109991815B (zh) * 2017-12-29 2020-10-16 上海微电子装备（集团）股份有限公司 一种泛曝补偿板、泛曝装置以及光刻装置
JP7249207B2 (ja) * 2019-05-28 2023-03-30 シャープ株式会社 シェーディング補正信号生成装置、複合機及びシェーディング補正信号生成方法

Family Cites Families (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0532311A (ja) 1991-02-13 1993-02-09 Kanebo Ltd 物品横倒装置
KR930006480A (ko) * 1991-09-11 1993-04-21 원본미기재 콘트라스트가 개선된 액정 표시판넬
US5508803A (en) * 1994-12-20 1996-04-16 International Business Machines Corporation Method and apparatus for monitoring lithographic exposure
JP3883601B2 (ja) * 1996-03-27 2007-02-21 富士通株式会社 光イコライザ
JP4310816B2 (ja) * 1997-03-14 2009-08-12 株式会社ニコン 照明装置、投影露光装置、デバイスの製造方法、及び投影露光装置の調整方法
JPH10282635A (ja) 1997-04-09 1998-10-23 Sony Corp パターンデータ補正方法、電子線描画方法、フォトマスク及びその作製方法、露光方法、半導体装置及びその製造方法、並びにパターンデータ補正装置
US5981962A (en) 1998-01-09 1999-11-09 International Business Machines Corporation Distributed direct write lithography system using multiple variable shaped electron beams
US6741394B1 (en) * 1998-03-12 2004-05-25 Nikon Corporation Optical integrator, illumination optical apparatus, exposure apparatus and observation apparatus
US6404499B1 (en) * 1998-04-21 2002-06-11 Asml Netherlands B.V. Lithography apparatus with filters for optimizing uniformity of an image
US6021009A (en) * 1998-06-30 2000-02-01 Intel Corporation Method and apparatus to improve across field dimensional control in a microlithography tool
JP2000232056A (ja) 1999-02-10 2000-08-22 Minolta Co Ltd 露光装置
JP2001217171A (ja) 2000-01-21 2001-08-10 Promos Technol Inc 高密度パターンと低密度パターンとの変差を解消する方法と装置
US6566016B1 (en) 2000-06-28 2003-05-20 Koninklijke Philips Electronics N.V. Apparatus and method for compensating critical dimension deviations across photomask
TW546699B (en) * 2000-02-25 2003-08-11 Nikon Corp Exposure apparatus and exposure method capable of controlling illumination distribution
JP2001319871A (ja) * 2000-02-29 2001-11-16 Nikon Corp 露光方法、濃度フィルタの製造方法、及び露光装置
JP3633506B2 (ja) 2001-05-24 2005-03-30 ソニー株式会社 露光方法および半導体装置の製造方法
KR100551209B1 (ko) * 2001-09-07 2006-02-14 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피장치 및 디바이스 제조방법
US7030958B2 (en) * 2003-12-31 2006-04-18 Asml Netherlands B.V. Optical attenuator device, radiation system and lithographic apparatus therewith and device manufacturing method
US20060139784A1 (en) * 2004-12-28 2006-06-29 Asml Holding N.V. Uniformity correction system having light leak compensation
US7088527B2 (en) * 2004-12-28 2006-08-08 Asml Holding N.V. Uniformity correction system having light leak and shadow compensation

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Publication number Publication date
EP1677148A3 (en) 2008-01-23
SG123771A1 (en) 2006-07-26
CN1797218A (zh) 2006-07-05
US7088527B2 (en) 2006-08-08
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