JP2000232056A

JP2000232056A - 露光装置

Info

Publication number: JP2000232056A
Application number: JP11032260A
Authority: JP
Inventors: Tamotsu Kume; 保久米; Kazuyuki Nishi; 和幸西; Hirozo Tani; 博蔵谷; Hideki Osada; 英喜長田
Original assignee: Minolta Co Ltd
Current assignee: Minolta Co Ltd
Priority date: 1999-02-10
Filing date: 1999-02-10
Publication date: 2000-08-22

Abstract

(57)【要約】【課題】本発明は、製作が容易な照度分布補正手段に
より露光領域における均一な照度分布を得ることが可能
となる露光装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明は、光源と、前記光源からの光を
所望の大きさに集光する集光光学系とにより所定のパタ
ーンが形成されたマスクを照明し、前記マスクのパター
ン像を感光基板上に形成する露光装置において、前記光
源と前記マスクとの間に、均一な透過率分布を有する照
度分布補正手段が設けられている構成とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、露光装置に関し、
特に半導体素子または液晶表示素子等を製造するための
露光装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、半導体素子または液晶表示素
子等をフォトリソグラフィ工程で製造する際に、マスク
としてのレクチルに形成された転写用のパターンを、照
明装置で照明し、レクチルから出射される光を投影光学
系を介してウエハのような感光基板に転写する投影露光
装置が使用されている。

【０００３】上記のような投影露光装置においては、最
近の半導体素子等の集積度の向上に対応するために、感
光基板上の露光領域の全体に亘って極めて高い像均質性
が要求されるようになっている。すなわち、露光領域内
において、照度の均一性が極めて高いレベルで要求され
ている。

【０００４】露光領域内における照度すなわち露光量が
不均一の場合、感光基板上に形成されるパターンの線幅
が不均一になる。これを防ぐために、露光領域内での照
度分布は±１％以下が必要とされる。

【０００５】このような照度分布の照明を得るために
は、照度分布補正を目的とした光学素子を照明装置の中
に挿入する必要がある。従来より、様々な照度分布補正
手段が開示されている。例えば、特開平９−２２８６９
号公報に開示されている露光装置においては、透過率が
連続的に異なる透過率分布を有する照度分布補正手段が
感光基板と光学的にほぼ共役な位置に設けられている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、照度分
布補正手段において、透過率が連続的に異なる透過率分
布を有するような構成のものを実際に製造することは非
常に困難である。

【０００７】上記問題点を鑑みて、本発明は、製作が容
易な照度分布補正手段により露光領域における均一な照
度分布を得ることが可能となる露光装置を提供すること
を目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、請求項１に記載の発明は、光源と、前記光源からの
光を所望の大きさに集光する集光光学系とにより所定の
パターンが形成されたマスクを照明し、前記マスクのパ
ターン像を感光基板上に形成する露光装置において、前
記光源と前記マスクとの間に、均一な透過率分布を有す
る照度分布補正手段が設けられている構成とする。

【０００９】請求項２に記載の発明は、請求項１に記載
の露光装置において、前記照度分布補正手段の形状、大
きさ、光軸方向の位置、光軸垂直方向の位置のうち少な
くとも一つを調節することにより前記感光基板上の照度
の最適化を行う構成とする。

【００１０】請求項３に記載の発明は、請求項１または
２に記載の露光装置において、前記光源と前記マスクと
の間に前記光源からの光を複数の光束に分割する光源分
割手段を有し、前記照度分布補正手段は前記光源分割手
段より前記マスク側に位置する構成とする。

【００１１】請求項４に記載の発明は、請求項３に記載
の露光装置において、前記集光光学系は前記マスク近傍
に配置されたコンデンサーレンズを有し、前記照度分布
補正手段は前記コンデンサーレンズより前記光源側に位
置する構成とする。

【００１２】請求項５に記載の発明は、請求項１乃至４
いずれかに記載の露光装置において、前記照度分布補正
手段は、光を拡散させることにより透過率を調節する構
成とする。

【００１３】請求項６に記載の発明は、光源と、前記光
源からの光を所望の大きさに集光する集光光学系とによ
り所定のパターンが形成されたマスクを照明し、前記マ
スクのパターン像を感光基板上に形成する露光装置にお
いて、前記光源と前記マスクとの間に、位置により異な
る屈折力を有する照度分布補正手段が設けられている構
成とする。

【００１４】請求項７に記載の発明は、請求項６に記載
の発明において、前記照度分布補正手段の屈折力は回折
格子によって得られる構成とする。

【００１５】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態の投影露
光装置について図面を参照しながら説明する。

【００１６】〈第１の実施形態〉図１は、本発明の第１
の実施形態の照明装置を備えた投影露光装置の全体構成
を概略的に示す縦断面図である。図示の露光装置は、た
とえば超高圧水銀ランプからなる光源１を備えている。
光源１から射出された照明光束は、直接又は回転楕円面
からなる反射面を有するリフレクター２により反射さ
れ、インテグレータ３に入射する。

【００１７】インテグレータ３に入射した光束は、イン
テグレータ３を構成する複数のレンズエレメントにより
二次元的に分割され、インテグレータ３の射出面近傍に
複数の光源像を形成する。このように、インテグレータ
３は、光源１からの光束に基づいて複数の光源像を形成
する光源分割手段となっている。

【００１８】複数の光源像からの光束は、照度補正板４
１を介してコンデンサーレンズ５に入射する。照度補正
板４１は、後述の照明領域及び露光領域の照度分布を補
正する。照度補正板４１の、光軸Ａｘ方向の位置及び光
軸Ａｘに対して垂直方向の位置は、自由に調節可能であ
り、その位置により補正作用が異なる。尚、照度補正板
４１の詳細な構成、作用については、後述する。コンデ
ンサーレンズ５により集光された光は、投影露光用のパ
ターンが形成されたマスク６を重畳的に照明する。

【００１９】マスク６を透過した光束は、投影光学系７
を介して、感光基板であるウエハ８に達する。こうし
て、ウエハ８上には、マスク６のパターン像が形成され
る。ウエハ８は、投影光学系７の光軸Ａｘに対して垂直
な平面内において二次元的に移動可能なウエハステージ
（不図示）上に指示されている。したがって、ウエハ８
を二次元的に移動させながら露光を行うことにより、ウ
エハ８の各露光領域にマスク６のパターンを逐次転写す
ることができる。以下、照度補正板４１について説明す
る。

【００２０】図２に、本実施形態の照度補正板４１の上
面斜視図を示す。照度補正板４１は、ガラスなどの材質
からなる矩形の平板５１の中央部に、遮光部（照度分布
補正手段）６１が形成されて構成されている。遮光部６
１は、例えば黒色の塗膜で形成される光吸収部であって
もよいし、反射材料の塗膜で形成される光反射部であっ
てもよい。照度補正板４１上において、遮光部６１の透
過率は他の領域と異なり、光をほとんど透過させない。
本実施形態では、このような構成の照度補正板４１を用
いてウエハ８上の露光領域の照度分布を調整する。

【００２１】照度補正板４１の、遮光部６１の位置（形
成位置及び照度補正板４１の位置により可変）、大き
さ、形状等によって、複数の光源像のうち遮光部６１に
よって影響を受ける光源像が異なり、また影響を受ける
程度が異なる。照度補正板４１による影響を受ける範囲
及び程度が最適となり、露光領域での照度分布が均一化
されるようにするために、照度補正板４１を挿入しない
状態の露光領域の照度分布を参照して遮光部６１を形成
する。

【００２２】例えば、露光領域の照度分布が図３（ａ）
に示すようであったとする。本明細書において、照度分
布を表す図は、横軸を露光領域の中心を原点とする図１
の紙面上の方向又は紙面に垂直な方向の位置、縦軸を照
度とする。図３（ａ）に示すような中心に近づく程照度
が高い中心凸型照度分布を均一化する補正を行うために
は、遮光部６１の形状は、図２に示すような円形のもの
が最も適している。露光領域の中心付近に到達する光を
重点的に不透過とすることが可能となるからである。

【００２３】照度分布補正の微調節は、不図示の検出手
段により検出される露光領域の照度分布を参照しなが
ら、照度補正板４１の位置を調節することにより行えば
よい。遮光部６１の大きさ、形状等をすぐに調節できる
場合は、これにより微調節を行えばよい。例えば、黒色
塗装により光吸収部を設けている場合は、簡単に調節を
行うことができる。

【００２４】このような照度補正板４１により、例えば
図３（ａ）に示す照度分布を図３（ｂ）に示す照度分布
に補正するとができ、照度の均一化が図られる。

【００２５】一方、露光領域の照度分布が、図４（ａ）
に示すように中心近傍が最も高い照度を有する中心凹型
照度分布を有するとする。このような照度分布を均一化
する補正を行うためには、図５に示すような、平板４１
ａ上にドーナツ形の遮光部６１ａが形成されている照度
補正板４１ａが適している。露光領域の中心近傍に到達
する光を重点的に下げることができるからである。図５
に示すような照度補正板４１ａにより、例えば図４
（ａ）に示す照度分布を図４（ｂ）に示す照度分布に補
正することができ、照度の均一化が図られる。

【００２６】尚、照度補正板４の挿入位置は、インテグ
レータ３とコンデンサレンズ５の間が最も適している。
光源分割後でかつ被照明体であるマスク６から離れてい
る方が、補正効果が高いからである。

【００２７】以下、第２〜第５の実施形態について説明
するが、第１の実施形態とは、照度補正板４１の代わり
に異なる構成の照度補正板が挿入されている点のみが異
なるだけである。各実施形態において、第１の実施形態
と重複する説明は省略する。

【００２８】〈第２の実施形態〉図６に、本実施形態の
照度補正板４２の上面斜視図を示す。照度補正板４２
は、ガラスなどの透明部材からなる矩形の平板５２上に
光拡散部６２を形成して構成する。光拡散部６２は、例
えば平板５２表面をやすりでこすることにより、又は平
板５２表面に拡散材料を塗布することにより形成するこ
とができる。照度補正板４２において、光拡散部６２
は、他の領域とは透過率が異なり、光を拡散させる。

【００２９】本実施形態では、このような構成の照度補
正板４２を用いてウエハ８上の露光領域の照度分布を補
正する。照度補正板４２の、光拡散部６２の位置（形成
位置及び照度補正板４２の位置により可変）、大きさ、
形状等によって、複数の光源像のうち光拡散部６２によ
って影響を受ける光源像が異なり、また影響を受ける程
度が異なるのは第１の実施形態と同様である。照度補正
板４２による影響を受ける範囲及び程度が最適となり、
露光領域での照度分布が均一化されるようにするため
に、照度補正板４２を挿入しない状態の露光領域の照度
分布を参照して光拡散部６２を形成する。

【００３０】本実施形態においても、図３（ａ）に示す
ような中心に近づく程照度が高い中心凸型照度分布を均
一化する補正を行うためには、光拡散部６２の形状は、
図６に示すような円形のものが最も適している。

【００３１】照度分布補正の微調節は、不図示の検出手
段により検出される露光領域の照度分布を参照しなが
ら、照度補正板４２の位置を調節することにより行えば
よい。このような照度補正板４２により、例えば図３
（ａ）に示す照度分布を図３（ｂ）に示す照度分布に補
正するとができ、照度の均一化が図られる。

【００３２】一方、露光領域の照度分布が、図４（ａ）
に示すように中心近傍が最も高い照度を有する中心凹型
照度分布を有するとする。このような照度分布を均一化
する補正を行うためには、光拡散部の形状は、図７に示
すような、平板５２ａ上にドーナツ形の光拡散部６２ａ
が形成されている照度補正板４２ａが適している。ドー
ナツ形の光拡散部６２ａを有する照度補正板４２ａによ
り、例えば図４（ａ）に示す照度分布を図４（ｂ）に示
す照度分布に補正することができ、照度の均一化が図ら
れる。

【００３３】尚、光拡散部６２、６２ａは、光を拡散さ
せることにより照度補正を行うものなので、光を不透過
とすることにより照度補正を行う第１の実施形態の場合
より、露光領域全体の照度の低下量は少なくなる。

【００３４】〈第３の実施形態〉図８に、本実施形態の
照度補正板４３の上面斜視図を示す。照度補正板４３
は、中央部がレンズ６３となっているガラスなどの矩形
の透明部材５３からなる。照度補正板４３において、レ
ンズ６３部分は、他の領域とは光に与える作用が異な
り、屈折力を有する。

【００３５】本実施形態では、このような構成の照度補
正板４３を用いてウエハ８上の露光領域の照度分布を補
正する。照度補正板４３の、レンズ６３の位置（形成位
置及び照度補正板４３の位置により可変）、大きさ、屈
折力等によって、複数の光源像のうちレンズ６３によっ
て影響を受ける光源像が異なり、また影響を受ける程度
が異なるのは第１の実施形態と同様である。照度補正板
４３による影響を受ける範囲及び程度が最適となり、露
光領域での照度分布が均一化されるようにするために、
照度補正板４３を挿入しない状態の露光領域の照度分布
を参照して照度補正板４３を作成する。

【００３６】本実施形態においては、図３（ａ）に示す
ような中心に近づく程照度が高い中心凸型照度分布を均
一化する補正を行うためには、レンズ６３は、図８に示
すような凹レンズが最も適している。図８においては、
片面のみが凹面であるレンズ６３を図示するが、両面が
凹面であってもかまわない。照度補正板４３は、凹面側
が光の出射面となるように光路内に挿入される。尚、凹
レンズ６３は、射出光を発散させる屈折力を有する。よ
って、露光領域の中心付近に到達する光を分散させるこ
とができ、照度の均一化が図られる。

【００３７】照度分布補正の微調節は、不図示の検出手
段により検出される露光領域の照度分布を参照しなが
ら、照度補正板４３の位置を調節することにより行えば
よい。このような照度補正板４３により、例えば図３
（ａ）に示す照度分布を図３（ｂ）に示す照度分布に補
正するとができる。

【００３８】一方、露光領域の照度分布が、図４（ａ）
に示すように中心近傍が最も高い照度を有する中心凹型
照度分布を有するとする。このような照度分布を均一化
する補正を行うためには、図９に示すように、透明部材
５３ａに凸レンズ５３ａが形成されている照度補正板４
３ａが適している。照度補正板４３ａは、凸面が光の出
射面となるように光路内に挿入される。尚、凸レンズ５
３ａは、射出光を集光させる屈折力を有する。よって、
露光領域の中心近傍に到達する光の集光位置が中心にず
れるようにすることにより、照度の均一化が図られる。

【００３９】このような照度補正板４３ａにより、例え
ば図４（ａ）に示す照度分布を図４（ｂ）に示す照度分
布に補正することができる。

【００４０】尚、レンズ６３、６３ａは、光の露光領域
での到達位置を調節することにより照度補正を行うもの
なので、露光領域全体の照度の低下を生じさせずに照度
補正を行うことが可能である。

【００４１】〈第４の実施形態〉図９に、本実施形態の
照度補正板４４の上面斜視図を示す。照度補正板４４
は、中央部に円錐状の突出部であるプリズム６４が形成
されたガラスなどの矩形の透明部材５４からなる。照度
補正板４４は、凸部側が光の出射面となるように、光路
内に挿入される。照度補正板４４において、プリズム６
４は、他の領域とは光に与える作用が異なり、射出光を
拡散させる屈折力を有する。

【００４２】上記照度補正板４によると、第３の実施形
態の凹レンズ６３が形成されている照度補正板５３と同
様の作用、効果が得られる。

【００４３】また、プリズム６４は、図９に示すように
円錐状の突出部からなるような構成以外にも、図示しな
いが円錐状の切り欠き部からなるような構成であっても
よい。このようなプリズムは、他の領域とは光に与える
作用が異なり、射出光を集光させる屈折力を有する。

【００４４】切り欠き部を形成するプリズム６４を有す
る照度補正板４４によると、第３の実施形態の凸レンズ
６３ａが形成された照度補正板５３ａと同様の作用、効
果が得られる。

【００４５】〈第５の実施形態〉図１１に、本実施形態
の照度補正板４５の上面斜視図を示す。照度補正板４５
は、中央部に、回折格子を設けた構成である。照度補正
板４５は、ガラスなどの透明部材からなる矩形の平板５
５上にＤＯＥ型の回折格子６５を形成して構成する。照
度補正板４５において、回折格子部６５は、他の領域と
は屈折率が異なる。回折格子６５は格子定数等さまざま
なパラメータにより、ここを透過する光に与える作用が
異なる。

【００４６】本実施形態では、このような構成の照度補
正板４５を用いてウエハ８上の露光領域の照度分布を補
正する。照度補正板４５の、回折格子６５の位置（形成
位置及び照度補正板４５の位置により可変）、大きさ、
形状、格子定数等のパラメータによって、複数の光源像
のうち回折格子６５によって影響を受ける光源像が異な
り、また影響を受ける程度が異なるのは第１の実施形態
と同様である。照度補正板４５による影響を受ける範囲
及び程度が最適となり、露光領域での照度分布が均一化
されるようにするために、照度補正板４５を挿入しない
状態の露光領域の照度分布を参照して回折格子６５を形
成する。

【００４７】本実施形態においては、回折格子部６５の
構成によって、図３（ａ）に示すような中心に近い程照
度が高い中心凸型照度分布を図３（ｂ）に示すような均
一化した照度分布に補正することも可能であるし、図４
（ａ）に示すように中心近傍が最も高い照度を有する中
心凹型照度分布を図４（ｂ）に示すような均一化した照
度分布に補正することも可能である。

【００４８】尚、回折格子部６５は、ここを透過する光
が全て露光領域内に到達するように形成することができ
るので、照度補正板４５によると露光領域全体の照度の
低下を生じさせないように照度分布を補正できる。

【００４９】以上、露光領域での照度分布に与える作用
に注目して各実施形態について説明したが、これらの作
用は、被照明領域（マスク６）の照度分布に対しても当
てはまることである。被照明領域から射出される光がそ
のまま露光領域内に投影されるからである。よって、本
実施形態で示した投影露光装置内の照明部を照明装置と
して単独で用いた場合においても、被照明領域における
均一な照度分布の照明が得られるという効果がある。

【００５０】以下、上記実施形態における二つの実施例
を示す。（第１の実施例）本実施例は、第２の実施形態における
一実施例である。本実施例では、補正前が中心凹型の照
度分布であったための、ドーナツ形の光拡散部６２ａを
設けて照度補正板４２ａを構成した。表１に、補正前、
補正後の各位置における照度データを示す。補正後に関
しては、補正が不足、最適、過剰であった場合のデータ
をそれぞれ示す。照度データは、最も高い照度を１００
に換算した値で示す。位置は、露光領域の中心を０、露
光領域の端を１９に換算した値で示す。また、図１２
に、横軸を位置、縦軸を照度データとして表１のデータ
をプロットしたグラフを表す。図１２において、補正前
と、補正不足、最適、過剰の照度分布のグラフはそれぞ
れ曲線ｇ１１、ｇ１２、ｇ１３、ｇ１４で表されてい
る。

【００５１】さらに、表２に、補正前と補正後の、位置
１〜１９における照度データの最高値と最低値の差（差
データ１）、同じく位置１〜１８における照度データの
最高値と最低値の差（差データ２）、また位置１〜１９
における照度の総量を照度データの和である照度補正量
の換算値を表す。

【００５２】

【表１】

【００５３】

【表２】

【００５４】表１、図１２より本実施例において最適補
正がなされると、照度分布の均一化が図られることがわ
かる。また、表２より、補正前は照度分布が±１％以内
に収まっていなかったのに対し、最適補正後は、±１％
以内に収まるようになったことがわかる。位置１〜１８
を露光領域とした場合には、差データ２よりさらに高い
均一性の照度分布が得られることがわかる。また、最適
補正後の照度総量の低下量も、補正前と比較して露光量
不足の影響が出るほど大きな値とはなっていない。

【００５５】（第２の実施例）本実施例は、第３の実施
形態における一実施例である。本実施例では、補正前が
中心凸型の照度分布であったための、凹レンズ６３を設
けて照度補正板４３を構成した。表３、表４は本実施例
における表１、表２に対応するデータを示し、図１３に
表３のデータをプロットしたグラフを表す。図１３にお
いて、補正前と、補正不足、最適、過剰の照度分布のグ
ラフはそれぞれ曲線ｇ２１、ｇ２２、ｇ２３、ｇ２４で
表されている。

【００５６】

【表３】

【００５７】

【表４】

【００５８】表３、図１３より本実施例において最適補
正がなされると、照度分布の均一化が図られることがわ
かる。また、表４より、補正前は照度分布が±１％以内
に収まっていなかったのに対し、最適補正後は、±１％
以内に収まるようになったことがわかる。さらに、最適
補正後においても照度総量の低下は生じないことがわか
る。

【００５９】

【発明の効果】本発明の露光装置によると、照度分布補
正手段を備えた例えば１枚の照度補正板を光学系に挿入
した構成とすることにより、露光面において照度の均一
性を確保することができる。よって、感光基板上に均一
なパターンの線幅を形成することが可能となる。

【００６０】さらに、請求項１に記載の発明によると、
均一な透過率分布を有する構成とすればよいので、照度
分布補正手段の製作は容易である。よって、たとえば半
導体製造のラインにおいて何らかの物理的影響によって
照度分布が必要使用を下回った場合、迅速に対応が可能
であるとともに低コストで補正をすることができる。

【００６１】また、請求項６に記載の発明によると、照
度補正手段による露光領域での照度の総量の低下を防ぐ
ことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】第１の実施形態の照明装置を備えた投影露光装
置の全体構成を概略的に示す縦断面図。

【図２】第１の実施形態の照度補正板の上面斜視図。

【図３】実施形態における補正前と補正後の照度分布の
一例を示す図。

【図４】実施形態における補正前と補正後の照度分布の
他の例を示す図。

【図５】第１の実施形態の他の構成の照度補正板の上面
斜視図。

【図６】第２の実施形態の照度補正板の上面斜視図。

【図７】第２の実施形態の他の構成の照度補正板の上面
斜視図。

【図８】第３の実施形態の照度補正板の上面斜視図。

【図９】第３の実施形態の他の構成の照度補正板の上面
斜視図。

【図１０】第４の実施形態の照度補正板の上面斜視図。

【図１１】第５の実施形態の照度補正板の上面斜視図。

【図１２】第１の実施例の照度分布を示す図。

【図１３】第２の実施例の照度分布を示す図。

【符号の説明】

１光源２リフレクター３インテグレータ５コンデンサーレンズ６マスク７投影光学系８ウエハ４１、４２、４３、４４、４５照度補正板５１、５２、５３、５４、５５平板６１遮光部６２光拡散部６３レンズ６４プリズム６５回折格子

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者谷博蔵大阪市中央区安土町二丁目３番13号大阪国際ビルミノルタ株式会社内 (72)発明者長田英喜大阪市中央区安土町二丁目３番13号大阪国際ビルミノルタ株式会社内Ｆターム(参考） 2H097 BB10 GB01 LA10 5F046 BA03 CB08 CB13 CB23 DA01

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】光源と、前記光源からの光を所望の大き
さに集光する集光光学系とにより所定のパターンが形成
されたマスクを照明し、前記マスクのパターン像を感光
基板上に形成する露光装置において、前記光源と前記マスクとの間に、均一な透過率分布を有
する照度分布補正手段が設けられていることを特徴とす
る露光装置。
【請求項２】前記照度分布補正手段の形状、大きさ、
光軸方向の位置、光軸垂直方向の位置のうち少なくとも
一つを調節することにより前記感光基板上の照度の最適
化を行うことを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】前記光源と前記マスクとの間に前記光源
からの光を複数の光束に分割する光源分割手段を有し、前記照度分布補正手段は前記光源分割手段より前記マス
ク側に位置することを特徴とする請求項１または２に記
載の露光装置。
【請求項４】前記集光光学系は前記マスク近傍に配置
されたコンデンサーレンズを有し、前記照度分布補正手段は前記コンデンサーレンズより前
記光源側に位置することを特徴とする請求項３に記載の
露光装置。
【請求項５】前記照度分布補正手段は、光を拡散させ
ることにより透過率を調節することを特徴とする請求項
１乃至４いずれかに記載の露光装置。
【請求項６】光源と、前記光源からの光を所望の大き
さに集光する集光光学系とにより所定のパターンが形成
されたマスクを照明し、前記マスクのパターン像を感光
基板上に形成する露光装置において、前記光源と前記マスクとの間に、位置により異なる屈折
力を有する照度分布補正手段が設けられていることを特
徴とする露光装置。
【請求項７】前記照度分布補正手段の屈折力は回折格
子によって得られることを特徴とする請求項６に記載の
露光装置。