KR100664338B1

KR100664338B1 - 액처리장치 및 액처리방법

Info

Publication number: KR100664338B1
Application number: KR1020000073254A
Authority: KR
Inventors: 카미카와유지; 타나카코지
Original assignee: 동경 엘렉트론 주식회사
Priority date: 1999-12-06
Filing date: 2000-12-05
Publication date: 2007-01-02
Also published as: US6708702B2; KR20010062127A; TW473799B; US20010003067A1

Abstract

본 발명은 액처리장치와 액처리방법에 있어서 처리실내에 수용되어진 피처리체로서의 반도체웨이퍼(W)에 대하여 처리액으로서의 약액에 의한 세정처리등을 실시하는 처리장치이다. 약액을 저유하는 약액탱크(10)은 외측탱크(2)와, 상기 외측탱크(2)내에 수용되어진 내측탱크(1)을 가진 2중조 구조를 이루고 있다.

외측탱크(2) 및 내측탱크(1)에서 처리실로 각각 약액을 공급하기 위한 공급관로(14a, 14b) 및 (14c)등이 설치되어 있다. 또한, 처리실에서 외측탱크(2)로 약액을 되돌리기 위한 되돌림관로(56)이 설치되어 있다. 외측탱크(2)의 외주는 히터(4)에 의해 둘러싸여 있는 기술이 제시된다.

Description

액처리장치 및 액처리방법{LIQUID PROCESSING APPARATUS AND LIQUID PROCESSING METHOD}

도 1 은 본 발명에 있어서 처리장치의 제 1 실시형태로서의 세정 ·건조처리장치의 개략구성도이다.

도 2 는 도 1에 도시하는 장치에 있어서 처리액의 배관계통을 도시하는 개략배관도이다.

도 3 은 도에 도시하는 장치의 약액공급부의 상세를 도시하는 도이다.

도 4 는 도 3에 도시하는 약액탱크의 단면도이다.

도 5 는 약액탱크에 대한 온도제어계의 구성을 도시하는 블럭도이다.

도 6A 는 약액탱크에 대한 히터의 취부상태를 도시하는 수평단면도이다.

도 6B 는 약액탱크에 대한 히터의 취부상태를 도시하는 측면도이다.

도 7 은 도 6A에 도시하는 히터의취부부를 확대하여 도시하는 도이다.

도 8 은 본 발명의 제 2 실시형태에 있어서 처리장치에 설치되어진 액면검출장치를 도시하는 부분단면도이다.

도 9 는 도 8의 D 표시도이다.

도 10 은 도 9의 요부확대도이다.

도 11 은 도 10의 E 표시도이다.

도 12 는 도 10의 F선에 따르는 단면도이다.

도 13 은 도 12의 스토퍼부를 도시하는 도이고 (a)는 정면도 (b)는 (a)의 B - B 선에 따르는 단면도 (c)는 (b)의 C - C 선에 따르는 단면도이다.

도 14 는 도 13에 있어서 클립을 도시하는 분해정면도이다.

도 15 는 다른 클립을 도시하는 정면도이다.

도 16 은 도 9의 요부를 도시하는 도이고 (a)는 아래에서 3번째의 스토퍼부까지 액면이 상승하고 있는 상태를 도시하고 (b)는 최하위치의 스토퍼부까지만 액면이 상승하고 있지 않은 상태를 도시하는 도이다.

도 17 은 본 발명의 제 3 실시형태에 있어서 처리장치에 설치되어진 액면검출장치의 요부를 일부단면으로 도시하는 정면도이다.

도 18 은 도 17의 G 표시도이다.

도 19 는 도 17의 H - H선에 따르는 단면도이다.

도 20 은 본 발명의제 4 실시형태에 있어서 처리장치에 설치되어진 액면검출장치의 요부단면도이다.

도 21 은 도 20의 I 표시도이다.

도 22 는 도 20의 J - J선에 따르는 단면도이다.

도 23 은 위치센서의 다른 구성예를 도시하는 단면도이다.

도 24 는 플로트의 다른 예 (a) ~ (d) 의 사시도이고 상이한 모따기 형태의 플로트 (e) 및 (f)의 정면도를 도시하는 도이다.

도 25 는 위치센서의다른 구성예를 도 19에 대응하는 단면으로 도시하는 도 이다.

<도면의 주요부호에 대한 설명>

3 : 약액공급원 3a : 약액개폐변

3b : 약액관로 15a ~15g : 제 1 ~ 7의 절환개폐변

18 : 순환관로 20 : 처리장치

21a, 21b : 제 1의 회전판 22 : 모터

22a : 구동축 23 : 내챔버

24 : 외챔버 25 : 내통체

26 : 외통체 27 : 제 1의실린더

28 : 제 2의실린더 29 : 웨이퍼 수수핸드

30 : 중앙연산처리 31, 32 : 웨이퍼 누름봉

34, 38 : 제 2의 고정벽 37 : 냉각수단

37a, 37b : 냉각파이프 37c : 열교환기

40a, 40b : 제 2의 씰 부재 41 : 제 1의 배액포트

42 : 제 1의 배액관 43 : 제 1의 배기포트

44 : 제 1의 배기관 46 : 제 2의 배액관

47 : 비저항계 48 : 제 2의 배기포트

49 : 제 2의 배기관 50 : 약액공급수단

53 : 약액공급관로 82 : 질소가스의 공급원

83 : 건조유체공급로 84 : 개페변

85 : 필터 86 : 질소가스온도조정기

87 : 절환변 110 : 린스액공급수단

W : 웨이퍼

본 발명은 처리액을 이용하는 처리장치 및 처리방법에 관한 것으로 더욱 상세하게는 예를들면 반도체 웨이퍼와 LCD용 유리기판등의 피처리체에 처리액으로서의 약액등을 공급하여 세정등의 처리를 하는 처리장치 및 처리방법에 관한다.

일반적으로 반도체 디바이스의 제조공정과 LCD용 제조공정에 있어서는 반도체웨이퍼와 LCD용 유리등의 피처리체 (이하 웨이퍼등으로 말함)에 부착한 레지스트와 드라이처리 후의 폴리머등의 잔사를 제거하기 위하여 처리액을 이용하는 처리장치 및 처리방법이 폭넓게 채용되고 있다.

종래의 상기 종류의 액처리에 있어서 고가의 약액등의 처리액을 유효하게 이용하기 위하여 처리에 사용하는 처리액을 리사이클액으로서 재이용하는 세정처리방법이 알려져 있다.

상기 리사이클액과 신규처리액을 이용하는 방법에서는 신규처리액을 저유하는 탱크와 리사이클액을 저유하는 탱크의 2종류를 용의한다. 그리고 예를들면 처리 초기시에는 리사이클액을 처리실에 공급하여 웨이퍼등을 일차 처리한 후 신규처리액을 2차 처리에 이용하는 것에 의해 처리액을 유효하게 이용하고 있다.

그러나 종래의 상기 종류의 액처리 방법에 있어서는 신규처리액을 저유하는 탱크와 리사이클액을 저유하는 탱크의 2종류를 설치하는 필요가 있다. 또한 각 탱크에 대하여 온도컨트롤러와 공급펌프등의 기기류를 장비하거나 공급관로등을 배관하거나 하는 필요가 있다. 따라서 탱크의 설치스페이스 온도컨트롤러와 공급펌프등의 기기류의 설치 스페이스와 배관스페이스가 커지고 장치전체가 대형이 될 뿐이고 장치가 고가가 되는 문제가 있다.

본 발명은 상기 종래기술의 문제점을 해결하기 위한 것으로서, 처리실에 공급되는 처리액을 저유하는 복수의 탱크 및 배관등의 소 스페이스화에 의한 장치를 소형으로 하는 동시에 처리액의 유효이용을 도모하도록 한 처리장치 및 처리방법을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은 하나의 관점에 있어서(청구항 1의 내용)처리장치에 있어서 피처리체에 대하여 처리액에 의한 처리를 실시하는 처리실과 외측탱크와 상기 외측탱크내에 수용되어진 내측탱크를 갖고 상기 처리액을 저유하는 처리액탱크와 상기 외측탱크 및 상기 내측탱크에서 상기 처리실로 각각 상기 처리액을 공급하기 위한 공급관로와 상기 처리실에서 상기 외측탱크로 상기 처리액을 되돌리기 위한 되돌림관로를 제공하는 것이다.

상기 처리장치에 의하면 처리에 이용되는 처리액을 처리액 탱크의 내측탱크 및 외측탱크내에 저유하고 외측탱크내의 처리액을 처리실에 공급하여 처리를 실시하고 당해 처리에 사용된 처리액을 외측탱크내에 돌리고 상기 후 내측 탱크내의 신 규처리액을 처리실에 공급하는 것이 가능하다. 이와 같이 종래는 복수의 처리액 탱크가 필요하였던 액처리를 하나의 처리액탱크에서 실시하는 것이 가능하다. 따라서 처리액탱크의 설치스페이스와 관로의 배관스페이스를 작게하는 것이 가능하기 때문에 장치의 소형화를 도모하는 것이 가능하다.

또한, 상기 관점에 있어서, 본 발명은(청구항 8의 내용)처리장치에 있어서 외측탱크와 상기 외측탱크내에 수용되어진 내측탱크를 갖고 피처리체에 대하여 처리를 실시하기 위한 처리액을 저유하는 처리액탱크와 상기 외측탱크를 포위하는 히터를 제공하는 것이다.

상기 처리장치에 의하면 하나의 히터에 의해 외측탱크 및 내측탱크내의 처리액을 가열 ·보온하는 것이 가능하다.

상기 처리장치에 있어서는 (청구항 9의 내용) 상기 히터의 가열온도를 검출하는 가열온도센서와 상기 외측탱크내의 처리액의 온도를 검출하는 외측탱크 액온센서와 상기 가열온도센서와 상기 외측탱크 액온센서의 검출치에 기초하여 상기 처리액탱크내의 처리액의 온도를 제어하는 온도컨트롤러를 구비하는 것이 바람직하다.

상기에 의해 외측탱크내 및 내측탱크내의 처리액의 온도를 적절한 온도로 제어하는 것이 가능하다.

상기의 경우 (청구항 10의 내용)상기 히터는 상기 외측탱크의 주(周)방향으로 분할되어진 복수의 가열체를 갖고 근접하는 상기 가열체동사가 상기 주방향으로 접리(接離)가능하게 연결되어 있는 것이 바람직하다.

상기에 의해 히터의 가열에 의한 외측탱크의 팽창 ·수축에 가열체를 추종시키는 것으로 가열효율의 향상을 도모하는 것이 가능하다.

이상의 처리장치에 있어서는 (청구항 2의 내용)상기 처리액의 공급원과 상기 처리액공급원에서 상기 내측탱크에 상기 처리액을 공급하기 위한 처리액관로와 상기 내측탱크에서 오버플로우한 처리액을 상기 외측탱크에 공급하기 위한 오버플로우 관로를 구비하는 것이 바람직하다.

상기 처리장치에 의하면 외측 및 내측탱크내가 비어있는 상태에 있어서는 처리액 공급원에서의 처리액을 내측탱크내에 저유하는 동시에 내측탱크에서 오버플로우시켜서 외측탱크내에 저유시키는 것이 가능하다.

상기 외측탱크는 동체부와 상기 동체부의 위쪽에 설치되어진 개구부를 갖는 것이 가능하다.

상기의 경우 (청구항 3의 내용)상기 외측탱크는 동체부와 상기 동체부의 위쪽에 설치되어진 개구부를 갖고 상기 외측탱크의 개구부에 있어서 상기 내측탱크간의 간격수치는 2분의 1인치 보다도 크고 또한 상기 외측탱크의 상기 개구부에 있어서 단면적이 상기 동체부에 있어서의 단면적보다 작다.

상기에 의해 외측탱크내의 처리액이 기상과 접촉하는 면적을 작게하는 것으로 처리액의 화학반응 및 쇠화를 억제하고 처리액의 품질과 성능의 유지를 도모하는 것이 가능하다.

또한, 상기의 경우 (청구항 4의 내용)상기 외측탱크는 동체부와 상기 동체부의 위쪽에 설치되어진 개구부를 갖고, 당행 처리장치는 상기 외측탱크의 개구부에 접속되어진 상기 외측탱크내에 퍼지가스를 공급하기 위한 퍼지가스공급관로와 상기 퍼지가스 공급관로에서 상기 외측탱크내에 공급되어진 퍼지가스를 배출하기 위한 가스배출관로를 구비하는 것이 바람직하다.

상기에 의해 외측탱크내의 처리액이 외기에 노출되어 상기 분위기가 변화하는 것을 방지하는 것이 가능하다.

또한 (청구항 5의 내용)처리장치에 있어서 상기 공급관로는 상기 외측탱크에 접속되는 제 1의 공급관로와 상기 내측탱크에 접속되는 제 2의 공급관로와 상기 제1의 공급관로와 상기 제 2의 공급관로가 합류하는 주공급관로와 상기 주공급관로에 연결하는 관로를 상기 제 1의 공급관로와 상기 제 2의 공급관로간에서 절환하는 공급관로절환장치와 상기 주공급관로에 개설되어진 공급펌프를 갖는 것이 바람직하다.

상기에 의해 외측탱크와 내측냉크에서 공급관로의 일부와 공급펌프를 공용하여 장치의 소형화 및 장치의 저렴화를 도모하는 것이 가능하다.

상기의 경우 (청구항 6의 내용)상기 주공급관로에 있어서 상기 공급펌프의 토출측과 상기 외측탱크의 사이를 접속하는 순환관로를 구비하는 것이 바람직하다.

상기 순환관로에 의해서 처리액의 공급대기중에 외측탱크내의 처리액을 순환시키는 것으로 공급개시할 때 즉시 처리액을 처리실에 공급하는 것이 가능하다. 따라서 처리의 시간적 효율의 향상을 도모하는 것이 가능하다. 또한 외측탱크내의 처리액을 순환시키는 것으로 당해 처리액의 온도분포의 균일성을 높이는 동시에 당해 처리액과의 사이에서 열교환되는 내측탱크내의 처리액의 온도분포의 균일성도 높이는 것이 가능하다. 상기에 의해 처리성능 및 처리의 신뢰성의 향상이 도모된다.

상기의 경우 또한 (청구항 7의 내용)상기 공급관로는 상기 주공급관로에 있어서 상기 공급펌프의 토출측에 상기 주공급관로를 바이패스하도록 접속되어진 바이패스관로와 상기 공급펌프에서의 상기 처리액의 흐름을 상기 주공급관로와 상기 바이패스관로의 사이에서 절환하는 바이패스절환장치와 상기 바이패스관로에 개설된 필터를 갖는 것이 바람직하다.

상기에 의해 예를들면 신규처리액과 처리에 이용한 리사이클액에서 공급경로를 주공급관로와 바이패스관로에 절환하는 것이 가능하다. 상기의 경우 처리에 이용한 리사이클액만을 바이패스관로에 흐르게하여 필터에서 여과하는 등의 절환이 가능해지고 공급관로의 수명연장등을 도모하는 것이 가능하다.

다른 관점에 있어서 본 발명은 (청구항 17의 내용)외측탱크와 상기 외측탱크내에 수용되어진 내측탱크를 갖는 처리액탱크에서 처리실로 처리액을 공급하고 상기 처리실내에서 피처리체에 대하여 상기 처리액에 의한 액처리를 실시하는 처리방법에 있어서 처리액공급원에서 공급되는 신규처리액을 상기 내측탱크에 저유하는 동시에 상기 내측탱크에서 오버플로우한 신규처리액을 상기 외측탱크에 저유하는 공정과 ; 상기 외측탱크내의 신규처리액을 상기 처리실에 공급하여 상기 액처리를 실시하는 제1의 액처리공정과 ; 상기 제 1의 액처리 공정에서 처리에 이용된 처리액을 상기 외측탱크내에 돌리는 공정과 ; 상기 제1의 액처리공정 후에 상기 내측탱크내의 신규처리액을 상기 처리실에 공급하여 상기 액처리를 실시하는 제 2의 액 처리공정을 제공하는 것이다.

또한, 상기 관점에 있어서 본 발명은 (청구항 19의 내용) 외측탱크와 상기 외측탱크내에 수용되어진 내측탱크를 갖는 처리액탱크에서 처리실로 처리액을 공급하고 상기 처리실내에서 피처리체에 대하여 상기 처리액에 의한 액처리를 실시하는 처리방법에 있어서 적어도 한번 상기 액처리에 사용되어진 리사이클처리액을 상기 외측탱크에 저유하는 공정과 ; 상기 외측탱크내의 리사이클처리액을 상기 처리실에 공급하여 상기 액처리를 실시하는 액처리공정과 ; 상기 액처리공정 후에 상기 내측탱크내의 신규처리액을 상기 처리실에 공급하여 상기 액처리를 실시하는 신규액처리공정을 제공하는 것이다.

이상의 처리방법에 있어서 (청구항 18의 내용) 상기 외측탱크를 포위하는 히터에 의해 상기 외측탱크내의 처리액을 가열하고 상기 외측탱크내의 처리액에서의 전도열에서 상기 내측탱크내의 처리액을 가열하는 동시에 상기 히터의 가열온도와 상기 외측탱크내의 처리액의 온도를 검출하고 상기의 가열온도 및 처리액온도의 검출치에 기초하여 상기 외측 및 내측탱크내의 처리액의 온도를 제어하도록 하는 것이 바람직하다.

이하 본 발명에 의한 처리장치 및 처리방법을 반도체 웨이퍼의 세정 ·건조처리장치에 적용한 경우의 실시형태에 대해서 도면을 참조하여 설명한다.

제 1실시형태

우선 본 발명의 제 1 실시형태이다 . 세정 ·건조처리장치로서의처리장치에 대해서 도 1 ~ 도 7을 참조하여 설명한다. 상기 처리장치(20)은 도 1에 도시한 바와 같이 이하의 요소에 따라서 주요부가 구성되어 있다 ;

- 피처리체인 반도체웨이퍼(W)를 지지하는 회전가능한 지지수단으로서의 로터(21) ;

- 로터(21)을 수평축을 중심으로서 회전구동하는 구동수단인 모터(22) ;

- 로터(21)에서 지지되는 웨이퍼(W)를 포위하는 복수 여기에서는 2개의 처리실로서의 내챔버(23) 및 외챔버(24) ;

- 내챔버(23) 및 외챔버(24)내에 수용되어진 웨이퍼(W)에 대하여 처리액으로서의 약액(예를들면 레지스트박리액 및 폴리머제거액등)을 공급하는 약액공급수단(50) ;

- 상기 약액의 용제로서의 이소프로필 알코올(Isopropyl Alchol)(IPA)의 공급수단(60) ;

- 린스액으로서의 순수의 공급수단(110) ; 및

- 건조유체로서의 질소가스의공급수단(80)

또한, 상기 처리장치(20)은 제 1 및 제 2의 실린더(27, 28)과 웨이퍼수도 핸드(29)를 구비하고 있다. 상기 가운데 제 1, 제 2의 실린더(27, 28)은 내챔버(23)을 구성하는 내통체(內筒體)(25)와 외챔버(24)를 구성하는 외통체(外筒體)(26)을 각각 웨이퍼(W)의 포위위치와 웨이퍼(W)의 포위위치에서 떨어진 대기위치의 사이에서 이동 시키는 이동수단을 구성하고 있다. 또한 웨이퍼수수핸드(29)는 도시않은 웨이퍼 반송 척과 로터(21)의 사이에서 웨이퍼(W)의 수도를 실시하는 수도수단을 구성하고 있다.

상기와 같이 구성되는 처리장치(20)에 있어서 모터(22) 처리유체의 각공급수단(50, 60, 110, 80) 및 웨이퍼 수도핸(29)등은 제어장치로서의 중앙연산처리장치 (30)(이하 CPU(30)으로 함)에 의해 제어되고 있다.

또한 상기 로터(21)는 수평으로 배설되는 모터(22)의 구동축(22a)에 외지지상태로 연결되어 웨이퍼(W)의 처리면이 연직이 되도록 지지하고 수평층을 중심으로서 회전가능하게 형성되어 있다. 상기의 경우, 로터(21)은 제 1의 회전판(21a)와 상기 제 1의 회전파(21a)와 대치하는 제 2의 회전판(21b)와 제 1 및 제 2의 회전판 (21a, 21b)간에 가설되는 복수 여기에서는 4개의 고정지지봉(31)을 구비하고 있다. 상기 가운데 제 1의 회전판(21a)는 모터(22)의 구동축(22a)에 컵링(도시안됨)을 사이에 두고 연결되는 회전축(도시안됨)을 갖고 있다. 또한, 고정지지봉(31)에는 지지구(도시안됨)이 일렬 설치되어 있다. 그리고 상기의 지지구에 따라서 지지되어진 웨이퍼(W)의 하부를 누르는 한쌍의 누름봉(32)가 설치되어 있다. 상기 누름봉 (32)는 도시않은 로크수단 및 로크해제수단에 따라서 누름위치와 비 누름위치간에서 절환이동하도록 되어 있다.

모터(22)는 미리 CPU(30)에 기억되어진 프로그램에 기초하여 소정의 고속회전과 저속회전을 선택적으로 반복하고 실시하도록 제어되어 있다. 모터(22)는 냉각수단(37)에 따라 과열이 억제되도록 되어 있다. 상기의 경우 냉각수단(37)은 냉각파이프(37a)와 냉각수 공급파이프(37b)와 열교환기(37c)를 구비하여 이루어진다.

한편 처리실의 내챔버(23)은 제 1의 고정벽(34)와 상기 제 1의 고정벽(34)와 대치하는 제 2의 고정벽(38)과 상기 제 1 및 제 2의 고정벽(34, 38)사이에 제 1 및 제 2의 씰 부재(40a, 40b)를 사이에두고 계합하는 내통체(25)에서 형성되어 있다. 즉 내통체(25)는 제 1의 실린더(27)의 신장(伸張)동작에 의해 로터(21)과 함께 웨이퍼(W)를 포위하는 위치까지 이동되어 제 1의 고정벽(34)의 사이에 제 1의 씰 부재(40a)를 사이에 두고 씰 되는 동시에 제 2의 고정벽(38)간에 제 2의 씰 부재 (40b)를 사이에두고 씰 되어진 상태에서 내챔버(23)을 형성한다.

또한, 내통체(25)는 제 1의 실린더(27)의 수축동작에 따라서 고정통체(36)의 외주측위치(대기위치)에 이동되도록 구성되어 있다. 상기의 경우 내통체(25)의 선단개구부는 제 1의 고정벽(34) 사이에 제 1의 씰 부재(40a)를 사이에두고 씰 되고 내통체(25)의 기단부는 고정통체(36)의 중간부에 주설(周設)되어진 제 3의 씰 부재 (도시없음)을 사이에 두고 씰 된다. 상기에 의해 내챔버(23)내에 잔존하는 약액의 분위기가 외부에 누설하는 것이 방지된다.

또한, 내통체(25)는 내약품성 및 내강도성에 풍부한 스텐레스강(綱)에서 형성되고 있다. 또한, 내통체(25)는 스텐레스강(綱)의 표면에 예를들면 PTEE 와 PFA등의 플르오르화소계 합성수지를 코팅 혹은 접착한 것과 내통체(25) 자체를 PTFE 와 PFA등의 플르오르화소계 합성수지에서 형성하는 것에 의한 보온성 향상이 도모된다.

또한, 처리실로서의 외챔버(24)는 대기위치에 이동되어진 내통체(25)간에 씰 부재(40b)를 개재하는 제 1의 고정벽(34)와 제 2의 고정벽(38)과 제 2의 고정벽 (38)과 내통체(25)의 사이에 제 4 및 제 5의 씰 부재(40d, 40e)를 사이에 두고 계 합하는 외통체(26)에서 형성되고 있다. 즉 외통체(26)은 제 2의실린더(28)의 신장동작에 의해 로터(21)과 동시에 웨이퍼(W)를 포위하는 위치까지 이동되고 제 2의 고정벽(38)의 사이에 제 4의 씰 부재(40d)를 사이에 두고 씰 되는 동시에 내통체 (25)의 선단부 외쪽에 위치하는 제 5의 씰 부재(40e)를 사이에두고 씰 되어진 상태에서 외챔버(24)를 형성한다.

또한, 외통체(26)은 제 2의 실린더(28)의 수축동작에 따라서 고정통체(36)의 외주측 위치(대기위치)에 이동되도록 구성되어 있다. 상기의 경우 외통체(26)과 내통체(25)의 기단부간에는 제 5의 씰부재(40e)가 개재되고 씰 되고 있다. 따라서 내챔버(23)의 내측분위기와 외챔버(24)의 내측 분위기는 상호 기수밀한 상태로 이융되기 때문에 양챔버(23, 24)내의 분위기가 혼재하지 않고, 상이한 처리유체가 반응하여 생기는 크로스 ·콘타미네이션(Cross Contamination)을 방지하는 것이 가능하다.

또한 외통체(26)은 내통체(25)와 같은 상태로 내약품성 및 내강도성이 풍부한 스텐레스강(鋼)제 부재에서 형성되고 있다. 외통체(26)은 역시 내통체(25)와 같은 상태로 스텐레스강(鋼)의 표면에 예를들면 PTFE 와 PFA등의 플르오르화소계 합성수지를 코팅 혹은 점착한 것과 내통체(25) 자체를 PTFE 와 PFA 등의 플르오르화소계 합성수지에서 형성하는 것에 의해 보온성의 향상이 도모되기 때문에 호적하다.

상기와 같이 구성되는 내통체(25)와 외통체(26)은 모두 선단을 향하여 확개하는 테이퍼 상태로 형성되어 있다. 상기와 같이 내통체(25) 및 외통체(26)을 일 단으로 향하게 확개하는 테이퍼 상태로 형성하는 것에 의해 처리시에 내통체(25) 및 외통체(26)내에서 로터(21)이 회전되었을 경우에 발생하는 기류가 확개측으로 많이 말린 상태로 흐르고 내부의 약액등이 확개측으로 배출하기 쉽게 하는 것이 가능하다. 또한, 내통체(25)와 외통체(26)을 동일 축선상에 중합하는 구조로 하는 것에 의해 내통체(25)와 외통체(26) 및 내챔버(23) 및 외챔버(24)의 설치 스페이스를 작게하는 것이 가능한 동시에 장치의 소형화가 도모된다.

한편 폴리머제거액등의 약액의 공급수단(50)은 도 2에 나타나는 바와 같이 처리실로서 내통체(25)내에 취부되는 약액공급노즐(51)과 약액공급부(52)와, 상기 약액공급노즐(51)과 약액공급부(52)를 접속하는 약액공급관로(53)을 구비하고 있다.

상기 약액공급부(52)는 도 3에 나타나는 바와 같이 약액공급원 (처리액공급원)(3)과 상기 약액공급원(3)에서 공급되는 신규약액을 저유하는 동시에 처리에 이용된 약액(리사이클약액)을 저유가능한 약액탱크(처리액탱크)(10)에서 주요부가 구성되어 있다.

상기 탱크(10)은 신규약액을 저유하는 내측탱크(1)과 상기 내측탱크(1)을 수용하는 외측탱크(2)를 갖는 이중조 구조로 구성되어 있다. 내측탱크(1)은 유저(有底) 엔통(円筒)형의 스텐레스제 용기에서 형성되고 약액개폐변(3a)를 개설하는 약액관로(3b)를 사이에두고 약액공급원(3)에 접속되어 있다.

또한 외측탱크(2)는 동체부(2a)와 상기 동체부(2a)에 의해 소경의 개구부 (2b)와 상기 동체부(2a)와 개구부(2b)를 연결하는 견부(肩部)(2c)를 갖는 유저(有底) 엔통(円筒)형의 스텐레스제 용기에서 형성되고 있다. 견부(2c)는 동체부 (2a)에서 개구부(2b)에 향하여 점차 테이퍼 상태로 좁아져 있다. 여기에서 견부 (2c)를 개구부(2b)측에 향하여 점차 협소테이퍼 상태로 한 것은 외측 탱크 (2)내에 저유되는 약액이 개구부(2b)에 충만되는 과정으로 견부(2c)에 공기가 머무는 것을 방지하기 위한 것이다. 또한, 외측탱크(2)의 외주면을 포위하는 히터(4)가 설치되어 있다.

약액탱크(10)의 상단부에는 내측탱크(1)에서 오버플로우하는 약액을 외측탱크(2)내에 공급하는 오버플로우관로(5)가 배설되어 있다(도 4 참조). 따라서 약액공급원(3)에서 내측탱크(1)내에 공급되는 신규약액이 내측탱크(1)내를 채우고 난 후 오버플로우관로(5)를 사이에두고 외측탱크(2)내에 공급된다. 또한, 도 3 및 도 4에 나타나는 바와 같이 외측탱크(2)의 개구부(2b)에 있어서 내측탱크(1)과의 간격(S)가 좁게 형성되어 있다. 상기 간격(S)는 외측탱크(2)내에 저유되는 약액의 액면이 검출가능한 면적이면 가급적으로 좁은 쪽이 좋다.

상기 이유는 내측탱크(1)과 외측탱크(2)의 간격(S)가 좁은 만큼 외측탱크(2)내에 저유되는 약액의 액면이 기상과 접촉하는 면적(외측탱크(2)의 개구부(2b)에 있어서 단면적)이 작게되고 약액의 기상과의 접촉에 의한 화학반응과 쇠화를 억제하는 것이 가능하고 약액의 품질과 성능의 유지를 도모하는 것이 가능하기 때문이다. 구체적으로는 외측탱크(2)의 개구부(2b)에 있어서 단면적이 동체부(2a)에 있어서 단면적의 이분의 일이 되는 수치보다 작게 되도록 간격(S)의 수치를 설정하는 것이 바람직하다. 단, 외측탱크(2)의 개구부(2b)에 대응하여 다음에 기술하는 바와 같은 여러종류의 배관을 접속해야 할 필요가 있다. 그리고 배관의 실용 최소한의 직경이 이분의 일인치(약1.27cm)인 것을 고려하면 간격(S)의 수치도 이분의 일인치 보다 크게 할 필요가 있다.

외측탱크(2)의 개구부에는 퍼지가스공급관로(6)과 가스배출관로(6A)가 접속되어 있다. 그리고 양탱크(1, 2)내에 저유되어진 약액이 외기에 노출되어 분위기가 변화하는 것을 방지하기 위하여 퍼지가스로서의 질소가스가 퍼지가스 공급관로(6)에서 공급되고 가스배출관로(6A)로부터 배출되도록 되어 있다. 또한, 내측탱크(1)이 약액으로 채워져 있지 않을 경우 내측탱크(1)에는 외측탱크(2)에서 오버플로우관로(5)를 사이에두고 퍼지가스가 공급되는 경우가 된다.

외측탱크(2)의 바깥쪽에 근접하여 정전용량형의 위치센서로서의 상한센서(7a) 칭량(秤量)센서(적량센서)(7b) 히터오프 하한센서(보충센서)(7c) 및 하한센서(7d)가 배설되어 있다. 상기 센서 (7a ~ 7d)은 각각 CPU(30)에 접속되어 있다. 상기의 경우 센서(7a ~ 7d)는 반드시 정전용량형일 필요가 없이 액면을 검출가능하다면 예를들면 광굴절식파이버센서등의 그외의 형식의 센서이어도 좋다. 상기의 센서(7a ~ 7d)의 가운데 상한센서(7a)와 하한센서(7d)는 외측탱크(2)내에 저유되는 약액의 상한액면과 하한액면을 검출한다. 또한, 칭량센서(7b)는 외측탱크(2)내에 실제로 저유되고 있는 약액의 양을 검출할 수 있도록 되어 있다. 또한 히터오프한 하한센서(7c)는 히터(4)에 의한 가열가능한 약액량을 검출할수 있도록 되어 있다.

내측탱크(1)의 상단부에는 약액만배(藥液滿杯)센서(7e)가 배설되어 있고 상 기 약액만배센서(7e)에 의해 내측탱크(1)내에서 외측탱크(2)내에 흐르는 약액의 상태를 감시하는 것이 가능하도록 되어 있다. 즉, CPU(30)이 약액만배센서(7e)와 상기 칭량센서(7b)로 부터의 검출신호에 기초하여 제어신호를 약액개폐변(3a)에 전달하는 것으로 내측탱크(1) 및 외측탱크(2)내의 약액의 액량을 관리하는 것이 가능하다. 상기에 의해 외측탱크(2)에 있어서 리사이클약액이 부족해 온 경우에는 상기 부족분을 신규약액으로 보충하는 것이 가능하다.

또한, 내측탱크(1)내에 저유되는 약액과 외측탱크(2)내에 저유되는 약액은 외측탱크(2)의 외주를 포위하는 히터(4)에 의해 가열 ·보온되도록 되어 있다. 내측탱크(1)내의 약액의 온도는 내측탱크 액온도센서(Ta)에 의해 검출되고 외측탱크(2)내의 약액의 온도는 외측탱크 액온도센서(Tb)에 의해 검출되도록 되어 있다. 또한, 히터(4)의 가열온도는 가열온도센서로서의 컨트롤온도센서(Tc)와 오버히트온도센서(Td)에 의해 검출되도록 되어 있다.

도 5에 나타나는 바와 같이 상기 온도센서(Ta ~ Td)의 가운데 외측탱크 액온도센서(Tb) 컨트롤온도센서(Tc) 및 오버히트 온도센서(Td)의 검출신호에 기초하여 온도제어장치(C1 ~ C3)의 제어에 의해 외측탱크(2)내의 약액온도와 히터(4)의 가열도를 소정온도에 설정가능하도록 되어 있다.

즉, 외측탱크 액온도센서(Tb)의 검출신호는 온도제어장치(C1)에 전달되고 온도제어장치(C1)에서 외측탱크(2)내의 약액온도(T1)이 예를들면 80℃이하이거나 아닌 것이 판별된다. 상기 판별결과의 신호는 AND회로부(8)을 사이에 두어 솔리드 스테이트 릴레이(Solid State Relay)(SSR)에 전달된다. 상기 SSR(12)는 히터(4)와 전원(9)를 접속하는 리드선(11)에 개설되어 있다.

한편, 컨트롤온도센서(Tc)의 검출신호는 온도제어장치(C2)에 전달되고 온도제어장치(C2)에서 히터(4)의 가열온도(T2)가 예를 들면 150℃이하인지 아닌것이 판별된다. 상기 판별결과의 신호는 AND회로부(8)을 사이에두고 SSR(12)에 전달된다. 상기에 의해 외측탱크(2)내의 약액온도 T1 < 80℃ 이고 또한 히터(4)의 가열온도 T2 < 150℃의 경우 히터(4)가 ON상태가 되고 약액온도 T1 ≤ 80℃ 또는 T1 ≥150℃의 경우 히터(4)가 오프상태가 되도록 제어된다.

또한, 오버히트 온도센서(Td)의 검출신호는 온도제어장치(C3)에 전달되고 온도제어장치(C3)에서 히터온도(T3)가 예를들면 200℃보다 높거나 낮은 것이 판별된다. 그리고 T3 > 200℃의 경우 상기 신호가 리드선(11)에 개설되는 마그네트 컨택터(13)에 전달되어 히터(4)에 통신이 차단되도록 되어 있다.

상기와 같이 하여 온도센서(Tb ~ Td)에서 검출되어진 검출신호를 온도제어장치(C1 ~ C3)으로 제어하는 것에 의해 외측탱크(2)내의 약액온도(T1)을 소정온도 즉, 80℃ < T1 < 150℃ 로 제어하는 것으로 내측탱크(1)내의 약액의온도(T0)를 외측탱크(2)내의 약액온도(T1)으로 부터의 열전도에 의해(T1)과 거의 비등한 온도로 설정하는 것이 가능하다.

히터(4)는 도 6 및 도 7에 도시하는 바와 같이 외측탱크(2)를 포위하여 주변방향으로 복수 여기에서는 8개로 분할되어진 가열체(4a)를 갖고 있다. 주변방향으로 근접하는 가열체(4a)동사는 접리가능하게 연결되어 있다. 또한 도 4등에 있어서는 편의상 히터(4)의 단면형태가 다른 표현으로 되어 있다. 각 가열체(4a)는 외 측탱크(2)의 외주면에 대응하여 일측이 단면원호(斷面円弧)형으로 형성되어진 알루미늄제의 압출형재로 되어 있다. 각 가열체(4a)는 일단측에 히터선(4c)를 매설(관삽(貫揷))하는 히터 취부재(4b)를 갖고 타단측에는 연결용후랜지(4d)가 형성되어 있다. 각 가열체(4a)의 히터취부부(4b)와 연결용후랜지(4d)를 코일스프링(4e)를 개재시켜서 연결볼트(4f)에서 연결하는 것으로 각 가열체(4a)동사를 접리가능하게 연결하고 있다.

상기와 같이 히터(4)를 구성하는 것에 의해 히터(4)의 가열에 의해 외측탱크(2)가 팽창하거나 수축하여도 외측탱크(2)의 외주면에 가열체(4a)를 추종시키는 것이 가능하다. 따라서 히터(4)로부터의 열을 효율있게 외측탱크(2)에 전달하는 것이 가능하다.

한편, 처리실을 형성하는 내통체(25)내에 취부되어진 약액공급노즐(51)과 약액공급부(52)를 접속하는 약액공급관로(53)은 도 1 및 도 3에 나타나는 바와 같이 구성되어 있다. 즉 약액공급관로(53)은 내측탱크(1)내의 약액을 처리실에 공급하는 제 1의 공급관로(14a)와 외측탱크(2)내의 약액을 처리실에 공급하는 제 2의 공급관로(14b)와 상기 제 1 및 제 2의 공급관로(14a, 14b)를 합류시켜서 일체화하는 주공급관로(14c)를 갖고 있다. 제 1의 공급관로(14a)에는 제 1의 절환개폐변(공급관로절환장치)(15a)가 개설되고 제 2의 공급관로(14b)에는 제 2의 절환개폐변(공급관로절환장치)(15b)가 개설 되어 있다. 또한, 주공급관로(14c)에는 예를들면 다이어프램( Diaphragm)식의 공급펌프(16)이 개설되는 동시에 상기 공급펌프(16)의 토출측에 순차 제 3의 절환개폐변(바이어스절환장치)(15c) 필터(17) 및 제 4의 절환 개폐변(15d)가 개설되어 있다.

또한, 주공급관로(14c)에 있어서 공급펌프(16)의 토출측과 외측탱크(2)가 제 5의 절환개폐변(15e)를 개설한 순환관로(18)에 의해 접속되어 있다. 상기에 의해 외측탱크(2)내에서 공급되는 약액을 순환하여 얻을 수 있도록 구성되어 있다.

또한, 주공급관로(14c)에 있어서 공급펌프(16)의 토출측에 바이패스관로(19)가 접속되어 있다. 구체적으로는 바이패스관로(19)의 일단이 공급펌프(16)의 토출측과 제 3의 절환개폐변(15c)간의 부분에 접속되고 타단이 제 3의 절환개폐변(15c)와 순환관로(18)의 접속부간의 부분에 접속되어 있다. 상기 바이패스관로(19)에는 제 6의 절환개폐변(바이어스절환장치)(15f) 필터(19a) 및 제 7의 절환개폐변(바이패스절환장치)(15g)가 순차개설되어 있다. 또한, 외측탱크(2)의 개구부(2b)와 처리실간에는 처리실에서 처리에 이용된 약액을 외측탱크(2)내로 돌리고 리사이클에 이용하기 위한 되돌림관로(56)이 접속되어 있다.

상기와 같이하여 약액공급관로(53)을 형성하는 것에 의한 외측탱크(2)내에 저유되어진 약액을 제 2의 공급관로(14b) 주공급관로(14c) 바이패스관로(19) 및 주공급관로(14c)를 사이에 두고 처리실측에 공급하는 것이 가능하다. 또한, 내측탱크(1)내에 저유되어진 약액(신액)을 제 1의 공급관로(14a)와 주공급관로(14c)를 사이에 두고 처리실측에 공급하는 것이 가능하다. 또한, 웨이퍼(W)의 처리의 대기시에는 외측탱크(2)내에 저유되어진 약액을 순환관로(18)을 사이에 두고 순환하는 것이 가능하다.

또한, 도 3 및 도 4에 나타나는 바와 같이 외측탱크(2)의 저부에는 리사이클 약액을 배출하기 위한 배액취출관로(58)이 접속되어 있다. 상기 배액취출관로(58)에는 상기 튜브(71)에 약액을 공급하기 위한 하측관로(58a)와 배출처리를 위한 드레인관로(58b)가 접속되어 있다. 드레인관로(58b)에는 배액개폐변(57)이 개설되어 있다(도 4 참조).

다음으로 약액의 용제로서 IPA의 공급수단(60)은 도 2에 나타나는 바와 같이 (상기약액공급수단(50)과 공용) 공급노즐(51)과 용제공급부(61)과 상기 공급노즐(51)과 약액공급부(52)를 접속하는 IPA 공급관로(62)를 구비하고 있다. 상기 IPA공급관로(62)에는 펌프(54) 필터(55) 및 IPA공급변(63)이 개설되어 있다. 용제공급부(61)은 용제로서 IPA의 공급원(64)와 상기 IPA공급원(64)에서 공급되는 신규 IPA를 저유하는 IPA공급탱크(61a)와 처리에 이용되어진 IPA를 저유하는 순환공급탱크(61b)로 구성되어 있다.

상기 내챔버(23)의 확개측부위의 하부에 설치되어진 제 1의 배액포트(41)에 제 1의 배액관(42)가 접속되어 있다. 그리고 상기 제 1의 배액관(42)에서 분기한 순환관로(90)에 도시않은 절환변을 사이에 두고 IPA공급탱크(61b)가 접속되어 있다. IPA공급탱크(61a, 61b)를 별개로 배치하는 경우에 대해서 설명하였지만 상기 약액탱크(10)과 같은 상태로 IPA공급탱크(61a, 61b)도 2중조 구조로 하는편이 바람직하다.

다음으로 린스액으로서 순수의 공급수단(110)은 도 2에 나타나는 바와 같이 제 2의 고정벽(38)에 취부되는 순수공급노즐(111)과 순수공급원(112)와 순수공급노즐(111)과 순수공급원(112)를 접속하는 순수공급관로(113)을 구비하고 있다. 상기 순수공급관로(113)에는 공급펌프(114) 및 순수공급변(115)가 개설되어 있다. 순수공급노즐(111)은 내챔버(23)의 외측에 위치하는 동시에 외챔버(24)의 내측에 위치하여 구할 수 있도록 배설되어 있다. 상기에 의해 순수공급노즐(111)은 내통체(25)가 대기위치로 후퇴하고 외통체(26)이 로터(21)과 웨이퍼(W)를 포위하는 위치에 이동하여 외챔버(24)를 형성할 때에 외챔버(24)내에 위치하여 웨이퍼(W)에 대하여 순수를 공급하고 얻을 수 있도록 구성되어 있다. 또한, 순수공급노즐(111)은 외챔버(24)에 취부되어 있는 경우도 좋다.

또한, 외챔버(24)의 확개측부위의 하부에는 제 2의 배액포트(45)가 설치되어 있다. 상기 제 2의 배액포트(45)에는 도시않은 개폐변을 개설한 제 2의 배액관(46)이 접속되어 있다. 또한, 제 2의 배액관(46)에는 순수의 비저항치를 검출하는 비저항계(47)이 개설되어 있다. 상기 비저항계(47)에 의해 린스처리에 이용되어진 순수의 비저항치를 검출하고 상기 신호를 상기 CPU(30)에 전달하도록 구성되어 있다. 따라서 상기 비저항계(47)에서 린스처리의 상황을 감시하고 적정한 린스처리가 실시되어진 후 린스처리를 종료하는 것이 가능하다.

또한, 상기 외챔버(24)의 확개측부위의 상부에는 제 2의 배기포트(48)이 설치되어 있다. 상기 제 2의 배기포트(48)에는 도시않은 개폐변을 개설한 제 2의 배기관(49)가 접속되어 있다.

건조유체공급수단(80)은 도 1 및 도 2에 나타나는 바와 같이 제 2의 고정벽(38)에 취부되는 건조유체공급노즐(81)과 건조유체로서의 질소가스의 공급원(82)와 건조유체공급노즐(81)과 질소가스공급원(82)를 접속하는 건조유체공 급관로(83)을 구비하고 있다. 상기 건조유체공급관로(83)에는 개폐변(84), 필터(85) 및 질소가스온도조정기(86)이 개설되어 있다. 건조유체공급관로(83)에 있어서 질소가스온도조정기(86)의 2차측에는 절환변(87)을 사이에두고 상기 IPA공급관로(62)에서 분기되는 분기관로(88)이 접속되어 있다.

건조유체공급노즐(81)은 상기 순수공급노즐(111)과 같은 상태로 내챔버(23)의외측에 위치하는 동시에 외챔버(24)의 내측에 위치하여 얻을 수 있도록 배설되어 있다. 상기에 의해 내통체(25)가 대기위치에 후퇴하고 외통체(26)이 로터(21)과 웨이퍼(W)를 포위하는 위치에 이동하여 외챔버(24)를 형성할 경우에 외챔버(24)내에 위치하여 웨이퍼(W)에 대하여 질소가스와 IPA의 혼합유체를 안개상태로 공급하여 얻을 수 있도록 구성되어 있다. 상기의 경우 질소가스와 IPA의 혼합유체에서 건조한 후에 또한 질소가스만으로 건조한다. 또한, 여기에서는 건조유체가 질소가스와 IPA의 혼합유체인 경우에 대해서 설명하였지만 상기 혼합유체 대신에 질소가스만을 공급하도록 하여도 좋다.

또한, 상기의 약액공급수단(50) IPA공급수단(60) 순수공급수단(110) 및 건조유체공급수단(80)에 있어서 공급펌프(16, 54) 약액공급부(52)의 제 1 ~ 제 7의 절환개폐변(15a ~ 15g) 온도조정기(56) 질소가스온도조정기(86) IPA공급변(63) 및 절환변(87)은 CPU(30)에 의해 제어되고 있다(도 1 참조).

다음으로 이상과 같은 구성의 세정 ·건조처리장치의 동작에 대해서 설명한다. 우선 웨이퍼(W)를 반입 ·반출부(도시없음)측에서 처리장치(20)의 위쪽 즉 내통체(25) 및 외통체(26)이 대기위치에 후퇴한 상태에 있어서 로터(21)의 위쪽위치 까지 반송한다. 그리하면 웨이퍼수수핸드(29)가 상승하여 웨이퍼반송척(10)에서 반송되어진 웨이퍼(W)를 수취하고 상기 후 하강하여 웨이퍼(W)를 로터(21)의 고정지지봉(31)상에 수수한다. 고정지지봉(31)상에 웨이퍼(W)를 수수한 후 도시않은 록수단이 작동하여 웨이퍼 누름봉(32)가 웨이퍼(W)의 상측연부까지 이동하여 웨이퍼(W)의 상부를 지지한다.

이상과 같이 로터(21)에 웨이퍼(W)가 세트되면 내통체(25) 및 외통체(26)이 로터(21) 및 웨이퍼(W)를 포위하는 위치까지 이동하여 처리실로서의 내챔버(23)내에 웨이퍼(W)를 수용한단. 상기 상태에 있어서 우선 내챔버(23)내의 웨이퍼(W)의 약액을 공급하여 약액처리를 실시한다. 상기 약액처리는 로터(21) 및 웨이퍼(W)를 저속회전 예를들면 1 ~ 500rpm으로 회전시켜 상기 상태에서 예를들면 수십초의 소정시간 동안만 약액을 공급한다. 약액의 공급을 정지한 후 로터(21) 및 웨이퍼(W)를 수초간 고속회전 예를 들면 100 ~ 3000rpm으로 회전시켜서 웨이퍼(W) 표면에 부착하는 약액을 떼어내어 제거한다. 상기 약액공급공정과 약액박리공정을 수회에서 수천회 반복하여 약액처리를 완료한다.

상기 약액처리공정에 있어서 내측탱크(1) 및 외측탱크(2)내에 신규약액이 저유되어진 상태의 통상처리에서는 최초로 공급되는 신규약액으로서는 외측탱크(2)내에 저유되어진 약액이 사용된다. 즉 제 2, 제 6, 제 7 및 제 4의 절환개폐변 (15b, 15f, 15g, 15d)가 열린상태에서 공급펌프(16)이 작동하는 것에 의해 외측탱크(2)내의 약액은 제 2의 공급관로(14b) 주공급관로(14c) 바이패스관로(19) 및 주공급관로(14c)를 흐르게하여 처리실측에 공급된다. 이 때, 공급펌프(16)을 통과한 약액은 필터(19a)에 의해 여과되어 약액중에 혼입하는 불순물과 협잡물등이 제거된다. 어느 일정시간내는 최초로 사용되어진 약액이 제 1의 배액관(42)에서 폐기된다. 상기 이외의 약액은 일정시간처리에 사용되어진 후 외측탱크(2)내에 되돌려지고 이후 리사이클약액으로서 순환공급된다.

소정시간약액을 순환공급하여 처리를 실시한 후 내측탱크(1)내의 신규약액이 처리실측에 공급되어 약액처리가 종료한다. 또한, 여기에서 약액처리에 사용되어진 신규약액은 외측탱크(2)에 되돌러지고 최초로 폐기되어진 분량과 같은량만 떨어진다. 상기에 의해 외측탱크(2)내의 약액의 분량은 처리의 전후에서 항상 일정해지고 약액온도의 변동이 작아진다. 내측탱크(1)내의 신규약액을 처리실측으로 공급하는 경우에는 상기 제 2, 제 6 및 제 7의 절환개폐변(15b, 15f, 15g)가 열리고 제 1 , 제 3 및 제 4의 절환개폐변((15a, 15c, 15d)가 열린다. 상기 상태에서 공급펌프(16)이 작동하는 것에 의해 내측탱크(1)내의 신규약액은 제 1의 공급관(14a) 및 주공급관(14c)에 흐르게 하여 처리실측에 공급된다. 이 때 공급펌프(16)을 통과한 신규약액은 필터(17)에 의해 여과되고 약액중에 혼입하는 불순물과 협잡물등이 제거된다. 또한, 전회의 처리시에 공급되어 주공급관로(14c)에 잔류한 신규약액은 차회의 신규약액과 동시에 필터(17)에 의해 여과된다. 또한, 처리에 사용되어진 약액은 되돌림관로(56)을 사이에 두고 외측탱크(2)내에 되돌려지고 리사이클약액으로서 저유된다.

상기 설명에서는 내측탱크(1)내와 외측탱크(2)내에 약액이 저유되어진 상태의 통상의 약액처리에 대해서 설명하였지만 내측탱크(1) 및 외측탱크(2)내에 약액 이 저유되어져 있지않은 비어있는 상태에서는 이하와 같이하여 약액처리를 실시한다.

우선, 약액개폐변(3a)를 열어 약액공급원(3)에서 약액을 내측탱크(1)내에 공급하는 동시에 내측탱크(1)에서 오버플로우관로(5)를 사이에두고 외측탱크(2)내에 소정량의 약액을 저유한다. 그리고 외측탱크(2)내의 신규약액을 처리실측에 공급하여 최초의 약액처리를 실시한다. 상기후는 상기 통상의 약액처리와 같은 상태로 외측탱크(2)내의 약액을 순환공급한 후 내측탱크(1)내의 신규약액을 처리실측에 공급하여 약액처리를 종료한다. 또한, 여기에서 약액처리에 사용되어진 신규약액은 외측탱크(2)에 되돌아가 최초로 폐기된 분량과 동량만이 떨어진다. 상기에 의해 외측탱크(2)내의 약액의 분량은 처리의 전후에서 항상 일정해지고 약액온도의 변동이 적어진다.

또한, 약액처리공정의 경우에는 약액처리에 사용되어진 약액은 제 1의 배액포트(41)에 배출되고 절환변(도시없음)의 동작에 의해 되돌림관로(56)을 사이에두고 약액공급부(52)에 되돌려지거나 또는 제 1의 배액관(42)에 배출된다. 약액에서 발생하는 가스는 제 1의 배기포트(43)을 사이에 두고 제 1의 배기관(44)에서 배기된다.

약액처리를 실시한 후 내챔버(23)내에 웨이퍼(W)를 수용한 상태로 IPA공급수단(60)의 IPA의 공급노즐을 겸용하는 약액공급노즐(51)에서 저속회전 예를들면 1 ~ 500rpm으로 회전시킨다. 상기 상태에서 소정시간 예를들면 수십초간 IPA를 공급한다. IPA의 공급을 정지한 후 로터(21) 및 웨이퍼(W)를 수초간 고속 예를들면 100 ~ 3000rpm으로 회전시켜서 웨이퍼(W) 표면에 부착하는 IPA를 떼어내어 제거한다. 상기 IPA공급공정과 IPA 박리공정을 수회에서 수천회 반복하여 약액제거처리를 완료한다. 상기 약액제거처리에 있어서도 상기 약액처리공정과 같은 상태로 최초로 공급되는 IPA는 순환공급탱크(61b)내에 저유되어진 IPA가 사용된다. 상기 최초에 사용되어진 IPA는 제 1의 배액관(42)에서 폐기된다. 이후의 처리에 이용되는 IPA로서는 공급탱크(61b)내에 저유되어진 IPA를 순환공급한다. 그리고 약액제거처리의 최후에 IPA공급원(64)에서 공급탱크(61a)내에 공급되어진 신규의 IPA가 사용되고 약액제거처리가 종료한다.

또한 약액제거처리에 있어서 약액제거처리에 이용되어진 IPA는 제 1의 배액포트(41)에 배출되어 절환변(도시없음)의 동작에 의해 용제공급부(61)의 순환관로(90) 및 제 1의 배액관(42)에 배출된다. IPA가스는 제 1의 배기포트(43)을 사이에두고 제 1의 배기관(44)에서 배기된다.

약액처리 및 린스처리가 종료한 후 내통체(25)가 대기위치에 후퇴하여 로터(21) 및 웨이퍼(W)가 외통체(26)에 의해 포위 즉 외챔버(24)내에 웨이퍼(W)가 수용된다. 따라서, 내챔버(23)내에서 처리되어진 웨이퍼(W)로부터 액이 한두방울 떨어져도 외챔버(24)에서 멈추게 하는 것이 가능하다. 상기 상태에 있어서 우선 린스공급수단의 순수공급노즐(111)에서 회전하는 웨이퍼(W)에 대하여 린스액으로서의 순수가 공급되어 린스처리된다. 상기 린스처리에 사용되어진 순수와 제거되어진 IPA는 제 2의 배액포트(45)를 사이에 두고 제 2의 배액관(46)에서 배출된다. 또한 외챔버(24)내에 발생하는 가스는 제 2의 배기포트(48)을 사이에 두고 제 2의 배기관(49)에서 외부에 배출된다.

상기와 같이 실시하여 린스처리를 소정시간에 실시한 후 외챔버(24)내에 웨이퍼(W)를 수용한 상태에서 건조유체공급수단(80)의 질소가스공급원(82) 및 IPA공급원(64)에서 질소가스와 IPA의 혼합유체를 회전하는 웨이퍼(W)에 공급한다. 상기에 의해 웨이퍼 표면에 부착하는 순수를 제거하는 것으로 웨이퍼(W)와 외챔버(24)내의 건조를 실시하는 것이 가능하다. 또한, 질소가스와 IPA의 혼합유체의 의해 건조처리한 후 질소가스만을 웨이퍼(W)에 공급하는 것으로 웨이퍼(W)의 건조와 외챔버(24)내의 건조를 더 한층 효율있게 실시하는 것이 가능하다.

상기와 같이하여 웨이퍼(W)의 약액처리 약액제거처리 린스처리 및 건조처리가 종료한 후 외통체(26)이 내통체(25)의 외주측의 대기위치에 후퇴한다. 한편, 도시하지 않은 록해제수단이 동작하고 웨이퍼 누름봉(32)을 웨이퍼(W)의 누름위치에서 후퇴시킨다. 그리하면, 웨이퍼수수핸드(29)가 상승하여 로터(21)의 고정지지봉(31)에서 지지되어진 웨이퍼(W)를 수취하여 처리장치(20)의 위쪽에 이동한다. 처리장치의 위쪽으로 이동되어진 웨이퍼(W)는 위이퍼반송척에 수취되어 반입 ·반출부에 반송되어진 후 장치외부에 반송된다.

또한, 상기 실시형태에서는 본 발명에 있어서 처리장치 및 처리방법을 반도체웨이퍼의 세정 ·건조처리장치에 적용한 경우에 대해서 설명하였지만 반도체웨이퍼 이외의 LCD용 유리기판등에도 적용가능한 것은 물론이다. 또한, 세정 ·건조처리장치 이외의 약액등의 처리액을 이용한 처리장치에도 적용가능한 것은 물론이다.

제 2 실시형태

본 발명의 제 2 실시형태를 도 4 및 도 8 ~ 도 16을 참조하여 설명한다. 상기 실시형태에서 도시하는 액면검출장치(70)은 도 4 및 도 8에 나타나는 바와 같이 외측탱크(2)내의 액면수준과 동일 액면수준이 되도록 외측탱크(2)내의 약액이 전해지는 투명(광투과성)의 튜브(71)을 구비하고 있다. 상기 튜브(71)내에는 도 9 및 도 10에 도시하는 바와 같이 상기 길이방향으로 이동이 자유롭게 상기 약액에서 비중이 작은 플로트(72)가 배치되어 있다. 또한 튜브(71)의 소정의 위치에는 플로트(72)의 위쪽으로 이동을 제지하는 스토퍼부(71a)가 형성되어 있는 동시에 플로트(72)를 검지하는 위치센서(7)이 설치되어 있다. 위치센서(7)은 적어도 스토퍼부(71a)에 의해 정지하고 있는 플로트(72)를 검지하는 위치에 설치되어 있다.

상기 스토퍼부(71a)는 튜브(71)의 길이방향에 따라서 4개소의 위치에 설치되져 있고 플로트(72) 및 위치센서(7)도 스토퍼부(71a)에 대응하는 각 위치에 설치되어 있다. 도 10에 나타나는 바와 같이 스토퍼(71a)는 플로트(72)의 이동이 불능이되는 정도까지 유연한 튜브(71)의 일부를 내측으로 변형시킨 조임부에 의해 형성되어 있다. 상기 조임부로 이루는 스토퍼부(71a)는 튜브(71)의 일부를 양측에서 끼우는 클립(73)에 의해 형성되고 있다.

튜브(71)은 도 10에 나타나는 바와 같이 투명하고 유연성을 갖고 또한 고온에 견딜수 있는 재료 예를들면 PFA(테트라플루오로에틸렌 - 퍼플루오루 알킬비닐에테르(공중합체)로 형성되어 있다. 상기 PFA는 탄소원자와 플르오르화소 원자에서 이루는 주쇄(主鎖)에 퍼플루오르 알콕시기가 결합한 분자구조를 갖고 있고 폴리4 플르오르화에틸렌(PTFE)와 거의 같은 우수한 성능을 가지고 또한 투명성이 양호하 다. 또한, 고온에 있어서 역학적 성질에 우수해 있고 250℃에서 연속사용이 가능한 특징이 있다. 그리고 일반 열가소성수지와 같은 상태로 사출 압출하고 흡입등에 의해 성형품을 제조하는 것이 가능하다. 또한, 튜브(71)은 압출에 의해 성형한 것이다.

튜브(71)은 도 8에 도시하는 바와 같이 하단부가 하측관로(58a)를 사이에두고 외측탱크(2)의 아래에 접속되고 상단부가 상측관로(58c)를 사이에 두고 외측탱크(2)에 있어서 액면보다 상측의 공간부에 접속되어 있다. 또한 튜브(71)의 옆쪽에는 도 8 및 도 9에 나타나는 바와 같이 튜브(71)의 양측에 지지레일(115)가 설치되어 있다. 상기 지지레일(74)는 탱크(10)을 설치하는 기초(100)상에 수직으로 세워져 있다.

지지레일(74)에는 도10 ~ 도 12에 도시하는 바와 같이 위치센서(7)을 지지하는 브라켓(75)가 지지레일(74)에 따라서 이동이 자유롭게 설치되어 있다. 브라켓(75)는 위치센서(7)의 (후 기술함) 발광부(7A) 및 수광부(7B)를 삽입하기 위한 원통공(75a)를 갖고 있다. 상기 원통공(75a)에 삽입되어진 발광부(7A) 및 수광부(7B)는 멈춤나사(75b)에서 고정되어지도록 되어 있다. 또한, 브라켓(75) 자체는 손잡이부착 나사(75c)에 의해 지지레일(74)의 소정의 위치에 고정되도록 되어 있다.

위치센서(7)은 발광부(7A)와 상기 발광부(7A)에서의 빛을 받는 수광부(7B)를 구비한 광투과형의 것으로 구성되어 있다. 즉, 플로트(72)가 차광물체로 되고 발광부(7A)에서 수광부(7B)에 들어가는 빛을 차단하는 것에 의해 플로트(72)를 검출 하도록 되어 있다. 위치센서(7)은 브라켓(75)를 사이에 두고 위치를 조정하는 것에 의해 스토퍼부(71a)에 의해 멈추어진 구(球)형의 플로트(72)를 반드시 검출하는 위치에 설치되어 있다.

스토퍼부(71a)는 도 10 ~도 13에 나타나는 바와 같이 클립(73)에 의해 튜브(71)을 단면방향으로 눌러 짓누른 형태의 조임부로 되어 있다. 상기 조임부는 플로트(72)의 위쪽으로 이동을 제지하지만 약액의 이동을 방해받는 경우가 없도록 되어 있다.

클립(73)은 도 13 및 도 14에 도시하는 바와 같이 스프링탄성을 갖는 금속과 플라스틱등에 의해 형성되고 파지부(73a)와 유지부(73b)를 구비한 구성으로 되어 있다. 파지부(73a)는 도 14에 도시하는 바와 같이 소정의 반경으로 굴곡하는 기부(73c)와 상기 기부(73c)에서 V자형으로 늘어나는 한쌍의 단면원형형의 선재부(73d)에 의해 형성되어 있다. 유지부(73b)는 한쌍의 선재부(73d) 동사를 평행히 될 때까지 탄성변형시킨 상태에 있어서 상기 선재부(73d)의 선단부에 끼워서 한쌍의 선재부(73d)동사를 평행하게 유지하도록 되어 있다. 그리고 클립(73)은 상호 평행하게 유지되어진 한쌍의 선재부(73d)에 의해 상기 기술한 스토퍼부(71a)를 형성하도록 되어 있다.

또한, 클립(73)은 도 15에 도시하는 바와 같이 유지부(73b)에 있어서 한쪽의 감합부(73e)를 한쪽의 선재부(73d)의 선단부에 용접등으로 고정하도록 하여도 좋다. 상기의 경우에는 다른쪽의 선재부(73d)의 선단부는 유지부(73b)의 U자형의 구(73f)를 사이에 두고 같은 유지부(73b)에 있어서 다른 쪽의 감합부(73g)에 감합 하는 것이 된다.

상기와 같이 구성되어진 액면검출장치(70)에 있어서는 튜브(71)내의 액면의 상승에 따라서 플로트(72)도 상승한다. 상기 플로트(72)는 스토퍼부(71a)에 의해 위쪽으로의 이동이 제지되고 소정의 위치보다 위쪽에 이동하지 않는다. 또한, 플로트(72)는 위쪽으로의 이동의 과정에 있어서 위치센서(7)에 의해 검출되고 스토퍼부(71a)에 의해 정지한 후에도 위치센서(7)에 의해 검출되어 진행된다. 따라서 위치센서(7)에 의한 플로트(72)의 검출이 있으면 외측탱크(2)내의 액면이 위치센서(7)이 설치되어진 소정의 위치이상인 장소에 있고 상기 검출이 없으면 소정의 위치미만의 장소에 있다고 판정하는 것이 가능하다. 즉, 외측탱크(2)내의 액면이 소정의 위치에 대하여 어느 위치에 있는가를 확실하게 검출하는 것이 가능하다.

또한, 최초로 외측탱크(2)내에 약액이공급되어진 시점에서 검출이 개시된다. 우선, 하한센서(7d)가 플로트(72)를 검출한 시점에서 보충이 개시되고 적량센서(7b)에 의해 플로트(72)를 검출한 시점에서 약액의 공급이 정지한다. 또한, 보충의 방법은 예를 들면 ①보충센서(7c)가 OFF상태로 되면 적량센서(7b)가 플로트(72)를 검출할 때까지 보충하거나 혹은 ② 1회의 처리종료후에 적량센서(7b)가 플로트(72)를 검출할 때 까지 약액을 보충하는 등의 방법을 채용하는 것이 가능하다.

또한, 예를들면 도 16(a)에 도시하는 바와 같이 아래에서 3번째의 적량센서(7b)까지가 각각 플로트(72)를 검출하고 있는 경우에는 외측탱크(2)의 액 면이 적량센서(7b)에 대응하는 위치보다도 높고 상한센서(7a)에 대응하는 위치보다 낮은 위치에 있다고 판단하는 것이 가능하다. 즉 액면은 정상이라고 판단하는 것이 가능하다. 또한, 상한센서(7a)가 플로트(72)를 검출한 시점에서 오버플로의 위험이 있다고 판단하는 것이 가능하다. 이 경우 도시않은 제어장치에 의해 약액공급원(3)에서의 약액의 공급을 정지하는 동시에 알람을 내도록 제어된다.

또한 도 16(b)에 도시하는 바와 같이 하한센서(7d)에 의해 플로트(72)의 검출이 불가능한 시점으로 액면이 허용위치보다 낮아졌다고 판단하는 것이 가능하다. 이 경우 도시하지 않은 제어장치에 의해 외측탱크(2)의 가열을 정지하도록 제어된다. 또한, 보충센서(7c)에 의해 플로트(72)의 검출이 불가능한 시점에서 보급이 필요로 하다고 판단하는 것이 가능하고 상기 신호에 기초하여 외측탱크(2)에 약액이 공급되는 것이 된다. 상기 약액의 공급은 적량센서(7b)에 의해 플로트(72)를 검출할 때까지 실시된다.

또한 튜브(71)을 유연성을 갖는 것으로 구성하고 상기 튜브(71)의 일부를 내측으로 변형시킨 조임부에 의해 스토퍼부(71a)를 구성하고 있기 때문에 튜브(71)의 자유로운 위치에 스토퍼부(71a)를 구성하는 것이 가능하다. 따라서 액면의 위치가 다른 경우와 탱크가 다른 경우등에도 대응하는 것이 가능한 이점이 있다. 또한, 스토퍼부(71a)를 클립(73)에 의해 간단하게 형성하는 것이 가능하다. 상기의 경우 튜브(71)의 각 스토퍼부(71a)에 있어서 조임부는 각각 유량이 같아지도록 형성하는 것이 바람직하다.

제 3 실시형태

다음으로 본 발명의 제 3 실시형태를 도 17 ~ 도 19를 참조하여 설명한다. 그러나 제 2 실시형태의 구성요소와 공통하는 요소에는 동일 부호를 부여하고 상기 설명을 간략화한다. 상기 제 3 실시형태가 제 2 실시형태와 다른 주요한 점은 취부수단(76)을 사이에 두고 위치센서(7)을 튜브(71)에 취부하도록 구성하고 있는 점이다.

취부수단(76)은 튜브(71)의 외주면을 조이게하는 것에 의해 동튜브(71)에 고정하도록 되어 있다. 즉, 중심에 원형공(76c)를 갖는 원반을 상기 중심을 지나는 면으로 절반으로 절단한 형태의 제 1 및 제 2의 반원반부(76a, 76b)를 구비하고 있다. 각 반원반부(76a, 76b)는 도 19에 나타나는 바와 같이 상기 원형공(76c)가 튜브(71)의 외주면에 당접한 상태에 있어서 맞춤면(76d)간의 간격(S1)이 소정량(약 1 ~ 3mm)가 되도록 되어 있다.

또한, 각반원반부(76a, 76b)에는 발광부(7A) 및 수광부(7B)를 삽입하는 원통공(76e)가 형성되어 있다. 상기 원통공(76e)는 맞춤면(76d)에 대해서 직교하고 또한 원형공(76c)에서 반경방향으로 연장되도록 형성되어 있다. 발광부(7A) 및 수광부(7B)는 원통공(76e)에 삽입되어진 상태에서 멈춤나사(76f)에 의해 고정되어지도록 되어 있다. 또한, 한쪽의 반원반부(76a)에는 상기 각 맞춤면(76d)에 연결볼트(76g)의 나사부가 나합하는 나사공(76h)가 개구하고 있고 다른쪽의 반원반부(76b)에는 상기 각 맞춤면(76d)에 연결볼트(76g)의 나사부를 통과하는 관통공(76i)가 개구하고 있다. 상기 관통공(76i)에는 연결볼트(76g)의 두부를 수납하는 감기부(76j)가 형성되어 있다.

도 17에 도시하는 바와 같이 플로트(72)는 원주의 상하의 단부를 반구형으로 둥글린 장척의 것으로 형성되어 있다.

상기와 같이 구성되어진 액면검출장치(70)의 취부수단(76)에 있어서는 각반원반부(76a, 76b)의 원형공(76c)를 튜브(71)의 외주면에 끼우고나서 상기의 반원반부(76a, 76b)를 연결볼트(76g)로 연결한다. 각 반원반부(76a, 76b)는 연결볼트(76g)를 소정량 조여주는 것에 의해 튜브(71)에 확실하게 고정되어진 상태가 된다. 상기 후 발광부(7A) 및 수광부(7B)를 각 원통공(76e)에 삽입하여 멈춤나사(76f)에서 고정한다.

상기와 같이 취부수단(76)을 이용한 경우도 위치센서(7)을 튜브(71)에 있어서 자유스러운 위치에 설치하는 것이 가능하다. 또한, 취부수단(76)은 원형공(76c)에 의해 튜브(71)의 외주면을 안쪽으로 향하게 거의 균일하게 압박하는 것이 되기때문에 튜브(71)를 거의 원형으로 유지하는 것이 가능하다. 즉, 튜브(71)이 변형하여 플로트(72)의 이동을 방해하지 않는다.

또한, 취부수단(76)은 튜브(71)에 있어서 단면원형형의 부분에 취부되기 때문에 위치센서(7)이 스토퍼부(71a)에 대해서 비교적 아래쪽의 위치에 배치되는 것이 된다. 그러나, 플로트(72)가 장척의 것으로 형성되어 있기 때문에 스토퍼부(71a)에 의해 정지한 플로트(72)의 하단부를 위치센서(7)에 의해 확실하게 검출하는 것이 가능하다. 또한, 플로트(72)의 상하의 단부가 반구면형으로 형성되어 있기 때문에 스토퍼부(71a)에 있어서 튜브(71)의 내면을 손상하지 않는다.

제 4 실시형태

다음으로 본 발명의 제 4 실시형태에 대해서 도 20 ~ 도 22를 참조하여 설명한다. 그러나, 제 3 실시형태의 구성요소와 공통하는 요소에는 동일 부호를 부여하고 상기 설명을 간략화한다. 상기 제 4 실시형태가 제 3 실시형태와 다른 주요한 점은 복수의 투명한 경질관(71b) 동사를 이음매(71c)로 연결하는 것에 의해 장척의 튜브(71)을 형성하고 각 이음매(71c)에 스토퍼부(71a)를 형성한 점이다.

경질관(71b)는 통상의 유리와 석영유리에 의해 원통형으로 형성되어진 것이다. 이음매(71c)는 통상의 유리와 석영유리등에 의한 투명한 재료에서 형성되고 경질관(71b)의 외주면에 끼워지는 통부(71d)와 상기 통부(71d)의 축 방향의 중앙에 설치되어진 스토퍼부(71a)가 일체로 형성되어 있다. 스토퍼부(71a)는 경질관(71b)의 단면(端面)을 지지하도록 되어 있다. 또한, 스토퍼부(71a)의 중앙으로 열려진 원형의 조임 공(71e)는 구형의 플로트(72)가 통과불능한 크기의 지름으로 형성되어 있다. 그러나 조임공(71e)에는 구형의 플로트(72)가 당접한 상태에 있어서도 약액의 흐름이 가능하도록 복수의 홈(71f)(도 22)이 형성되어 있다. 그리고 경질관(71b)와 이음매(71c) 접착제에 의해 고정되어 있다.

또한, 취부수단(76)의 원형공(76c)는 이음매(71c)의 외주면에 감합하는 지름으로 형성되어 있다.

상기와 같이 구성되어진 액면검출장치(70)에 있어서는 투명한 경질관(71b) 및 이음매(71c)를 사이에 두고 플로트(72)를 검출하는 것이 가능하다. 또한, 경질관(71b)의 길이를 바꾸는 것에 의해 스토퍼부(71a)의 위치를 자유롭게 변경하는 것이 가능하다. 또한, 경질관(71b)로서는 유리등의 경질의 것을 사용하는 것이 가능 하기 때문에 보다 고온의 액체의 액면검출에도 이용하는 것이 가능하다.

또한, 상기 이음매(71c)는 스텐레스등의 내식성을 갖는 불투명한 재료로 형성하여도 좋다. 그러나, 상기의 경우에는 도 23 (a) 에 도시하는 바와 같이 위치센서(7)이 통과 가능한 크기의 공(71g)가 적어도 위치센서(7)의 빛이 통과가능한 크기의 공을 이음매(71c)에 형성하는 필요가 있다.

또한 도 23(b)에 도시하는 바와 같이 경질관(71b)에 취부수단(76)을 직접취부하는 것에 의해 상기와 같은 공(71g)를 형성하지 않아도 플로트(72)의 검출이 가능하다. 상기의 경우 위치센서(7)이 스토퍼부(71a)에 대해서 비교적 아래쪽의 위치에 배치되는 것이 되기 때문에 플로트(72)를 제 3 실시형태에서 도시한 것 (도 17 참조)와 같은 상태의 장척의 것으로 형성하는 것에 의한 스토퍼부(71a)에 의해 정지한 플로트(72)를 확실하게 검출하는 것이 가능하도록 하는 필요가 있다.

또한, 상기 각 실시형태에 있어서는 플로트(72)로서 구형의 것과 양단구형의 원주형의 것을 도시하였지만 도 24 (a)에 나타나는 원주형의 것과 도 24 (b)에 나타나는 원통형의 것과 도 24 (c)에 나타나는 외주면에 복주의 축 방향홈(72a)를 갖는 것과 도 24 (d)에 나타나는 육각주형의 것과 상기 외의 다각주형의 것으로 구성하여도 좋다. 그리고, 도 24 (a) ~ (d)에 도시하는 것에 대해서는 외주면과 단면과의 경계부에 도 24 (e)에 나타나는 경사면형의 모따기(72b)와 도 24 (f)에 나타나는 원호형으로 둥글린 모따기 (72c)를 설치한 것에 의해 스토퍼부(71a)에 대한 손상을 적게하는 것이 바람직하다. 또한 도 24 (b) ~ (d)에 도시하는 플로트(72)에 대해서는 단면적이 적어지고 플로트(72)를 갖는 부분을 약액이 통하기 쉽게 이 루어지기 때문에 외측탱크(2)내의 액면변화에 대한 튜브(71)내의 액면변화의 응답성을 향상시키는 것이 가능하다.

또한, 상기 각 실시형태에 있어서는 위치센서(7)로서 광투과형의 것을 도시하였지만 상기 위치센서(7)은 도 25에 도시하는 바와 같이 광반사형의 것으로 구성하여도 좋다. 즉, 도 25에 나타나는 위치센서(7)은 도 19에 도시하는 광투과형의것을 광반사형의 것으로 변경한 것이다. 광반사형의 위치센서(7)은 발광부(7A)에서 발한 빛이 플로트(72)의 표면으로 반사하여 수광부(7B)에 들어가는 것에 의해 플로트(72)를 검출하도록 되어 있다. 또한, 위치센서(7)로서는 광투과형의 것에 대해서도 광반사형의 것에 대해서도 광량이 강한 레이져광을 이용한 것으로 구성하는 것이 바람직하다.

클립(73)에 대해서는 V자형으로 연장되는 선부재(73d)의 선단부동사를 상호 가까이하여 유지부(73b)에서 고정하는 것에 의하고 혹은 튜브(71)에서 반력에 의한 선재부(73d)가 원호형으로 휘어지는 경우가 되어도 좋다. 그리고 선재부(73d)가 원호형으로 휘어진 경우에는 스토퍼부(71a)의 단면이 타원형 형태로 가깝게 되지만 상기 스토퍼부(71a)에 의해서도 플로트(72)의 이동을 제지가 가능하기 때문에 전혀 문제가 없다.

또한, 튜브(71)을 상기 경질관(71b)와 연질관을 연결한 것으로 구성하고 연잴관의 부분에 클립(73)에서 스토퍼부(71a)를 형성하도록 하여도 좋다.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 액처리장치 및 액처리방법에 의하면, 처리실에 공급되는 처리액을 저유하는 복수의 탱크 및 배관등의 소 스페이스화에 의한 장치를 소형으로 할 수 있음과 동시에 처리액의 유효한 이용을 도모할 수 있는 효과가 있다.

Claims

처리장치에 있어서,

피처리체에 대하여 처리액에 의한 처리를 실시하는 처리실과;

외측탱크와 상기 외측탱크내에 수용되어진 내측탱크를 갖고 상기 처리액을 저유하는 처리액탱크와;

상기 외측탱크 및 상기 내측탱크에서 상기 처리실로 각각 상기 처리액을 공급하기 위한 공급관로와;

상기 처리실에서 상기 외측탱크로 상기 처리액을 되돌리기 위한 되돌림관로를 구비한 것을 특징으로 하는 액처리장치.
청구항 1에 있어서,

상기 처리액의 공급원과;

상기 처리액공급원에서 상기 내측탱크에 상기 처리액을 공급하기 위한 처리액관로와;

상기 내측탱크에서 오버플로우한 처리액을 상기 외측탱크에 공급하기 위한 오버플로우 관로를 구비한 것을 특징으로 하는 액처리장치.
청구항 1에 있어서,

상기 외측탱크는 동체부와 상기 동체부의 위쪽에 설치된 개구부를 갖고,

상기 외측탱크의 개구부에 있어서의 상기 내측탱크간의 간격수치는 2분의 1인치 보다도 크고,

또한 상기 외측탱크의 상기 개구부에 있어서의 단면적이 상기 동체부에 있어서의 단면적보다 작은 것을 특징으로 하는 액처리장치.
청구항 1에 있어서,

상기 외측탱크는 동체부와 상기 동체부의 위쪽에 설치된 개구부를 갖고,

상기 처리장치는;

상기 외측탱크의 개구부에 접속되어진 상기 외측탱크내에 퍼지가스를 공급하기 위한 퍼지가스공급관로와;

상기 퍼지가스 공급관로에서 상기 외측탱크내에 공급되어진 퍼지가스를 배출하기 위한 가스배출관로를 구비한 것을 특징으로 하는 액처리장치.
청구항 1에 있어서,

상기 공급관로는,

상기 외측탱크에 접속되는 제 1의 공급관로와;

상기 내측탱크에 접속되는 제 2의 공급관로와;

상기 제1의 공급관로와 상기 제 2의 공급관로가 합류하는 주공급관로와;

상기 주공급관로에 연결하는 관로를 상기 제 1의 공급관로와 상기 제 2의 공 급관로간에서 절환하는 공급관로절환장치와;

상기 주공급관로에 개설되어진 공급펌프를 갖는 것을 특징으로 하는 액처리장치.
청구항 5에 있어서,

상기 주공급관로에 있어서,

상기 공급펌프의 토출측과 상기 외측탱크의 사이를 접속하는 순환관로를 구비한 것을 특징으로 하는 액처리장치.
청구항 6에 있어서,

상기 공급관로는,

상기 주공급관로에 있어서,

상기 공급펌프의 토출측에 상기 주공급관로를 바이패스하도록 접속되어진 바이패스관로와;

상기 공급펌프에서의 상기 처리액의 흐름을 상기 주공급관로와 상기 바이패스관로의 사이에서 절환하는 바이패스절환장치와;

상기 바이패스관로에 개설된 필터를 갖는 것을 특징으로 하는 액처리장치.
처리장치에 있어서,

피처리체에 대해 처리액에 의한 처리를 행하는 처리실과;

외측탱크와 상기 외측탱크내에 수용되어진 내측탱크를 갖고 상기 처리액을 저유하는 처리액탱크와;

적어도 상기 내측 탱크로부터 상기 처리실로 상기 처리액을 공급하기 위한 공급관로와;

상기 외측탱크를 포위하는 히터를 구비한 것을 특징으로 하는 액처리장치.
청구항 8에 있어서,

상기 히터의 가열온도를 검출하는 가열온도센서와;

상기 외측탱크내의 처리액의 온도를 검출하는 외측탱크 액온센서와;

상기 가열온도센서와 상기 외측탱크 액온센서의 검출치에 기초하여 상기 처리액탱크내의 처리액의 온도를 제어하는 온도컨트롤러를 구비한 것을 특징으로 하는 액처리장치.
청구항 9에 있어서,

상기 히터는 상기 외측탱크의 주(周)방향으로 분할되어진 복수의 가열체를 갖고, 인접하는 상기 가열체끼리가 상기 주방향으로 접속과 분리가 가능하게 연결되어 있는 것을 특징으로 하는 액처리장치.
청구항 8에 있어서,

상기 처리액의 공급원과;

상기 처리액공급원에서 상기 내측탱크에 상기 처리액을 공급하기 위한 처리액관로와;

상기 내측탱크에서 오버플로우한 처리액을 상기 외측탱크에 공급하기 위한 오버플로우 관로를 구비한 것을 특징으로 하는 액처리장치.
청구항 8에 있어서,

상기 외측탱크는 동체부와 상기 동체부의 위쪽에 설치된 개구부를 갖고,

상기 외측탱크의 개구부에 있어서의 상기 내측탱크간의 간격수치는 2분의 1인치 보다도 크고,

또한 상기 외측탱크의 상기 개구부에 있어서의 단면적이 상기 동체부에 있어서의 단면적보다 작은 것을 특징으로 하는 액처리장치.
청구항 8에 있어서,

상기 외측탱크는 동체부와 상기 동체부의 위쪽에 설치된 개구부를 갖고,

상기 처리장치는;

상기 외측탱크의 개구부에 접속되어진 상기 외측탱크내에 퍼지가스를 공급하기 위한 퍼지가스공급관로와;

상기 퍼지가스 공급관로에서 상기 외측탱크내에 공급되어진 퍼지가스를 배출하기 위한 가스배출관로를 더 구비한 것을 특징으로 하는 액처리장치.
청구항 8에 있어서,

상기 공급관로는,

상기 외측탱크에 접속되는 제 1의 공급관로와;

상기 내측탱크에 접속되는 제 2의 공급관로와;

상기 제1의 공급관로와 상기 제 2의 공급관로가 합류하는 주공급관로와;

상기 주공급관로에 연결하는 관로를 상기 제 1의 공급관로와 상기 제 2의 공급관로간에서 절환하는 공급관로절환장치와;

상기 주공급관로에 개설되어진 공급펌프를 갖는 것을 특징으로 하는 액처리장치.
청구항 14에 있어서,

상기 주공급관로에 있어서,

상기 공급펌프의 토출측과 상기 외측탱크의 사이를 접속하는 순환관로를 구비한 것을 특징으로 하는 액처리장치.
청구항 15에 있어서,

상기 공급관로는,

상기 주공급관로에 있어서 상기 공급펌프의 토출측에 상기 주공급관로를 바이패스하도록 접속되어진 바이패스관로와;

상기 공급펌프에서의 상기 처리액의 흐름을 상기 주공급관로와 상기 바이패스관로의 사이에서 절환하는 바이패스절환장치와;

상기 바이패스관로에 개설된 필터를 갖는 것을 특징으로 하는 액처리장치.
외측탱크와

상기 외측탱크내에 수용되어진 내측탱크를 갖는 처리액탱크에서 처리실로 처리액을 공급하고,

상기 처리실내에서 피처리체에 대하여 상기 처리액에 의한 액처리를 실시하는 처리방법에 있어서,

처리액공급원에서 공급되는 신규처리액을 상기 내측탱크에 저유하는 동시에,

상기 내측탱크에서 오버플로우한 신규처리액을 상기 외측탱크에 저유하는 공정과,

상기 외측탱크내의 신규처리액을 공급관로를 통해서 상기 처리실에 공급하여 상기 액처리를 실시하는 제1의 액처리공정과,

상기 제 1의 액처리 공정에서 처리에 이용된 처리액을 상기 처리실로부터 되돌림관로를 통해서 상기 외측탱크내로 되돌리는 공정과,

상기 제1의 액처리공정 후에 상기 내측탱크내의 신규처리액을 공급관로를 통해서 상기 처리실에 공급하여 상기 액처리를 실시하는 제 2의 액처리공정을 구비한 것을 특징으로 하는 액처리방법.
청구항 17에 있어서,

상기 외측탱크를 포위하는 히터에 의해 상기 외측탱크내의 처리액을 가열하고,

상기 외측탱크내의 처리액에서의 전도열에서 상기 내측탱크내의 처리액을 가 열하는 동시에,

상기 히터의 가열온도와 상기 외측탱크내의 처리액의 온도를 검출하고,

상기의 가열온도 및 처리액온도의 검출치에 기초하여,

상기 외측 및 내측탱크내의 처리액의 온도를 제어하도록 하는 것을 특징으로 하는 액처리방법.
외측탱크와,

상기 외측탱크내에 수용되어진 내측탱크를 갖는 처리액탱크에서 처리실로 처리액을 공급하고,

상기 처리실내에서 피처리체에 대하여 상기 처리액에 의한 액처리를 실시하는 처리방법에 있어서,

적어도 한번 상기 액처리에 사용되어진 리사이클처리액을 상기 처리실로부터 되돌림관로를 통해서 상기 외측탱크에 보내 저유하는 공정과 ;

상기 외측탱크내의 리사이클처리액을 공급관로를 통해서 상기 처리실에 공급하여 상기 액처리를 실시하는 액처리공정과 ;

상기 액처리공정 후에 상기 내측탱크내의 신규처리액을 공급관로를 통해서 상기 처리실에 공급하여 상기 액처리를 실시하는 신규액처리공정을 구비한 것을 특징으로 하는 액처리방법.
청구항 19에 있어서,

상기 외측탱크를 포위하는 히터에 의해 상기 외측탱크내의 처리액을 가열하고,

상기 외측탱크내의 처리액에서의 전도열에서 상기 내측탱크내의 처리액을 가열하는 동시에,

상기 히터의 가열온도와 상기 외측탱크내의 처리액의 온도를 검출하고,

상기의 가열온도 및 처리액온도의 검출치에 기초하여,

상기 외측 및 내측탱크내의 처리액의 온도를 제어하도록 하는 것을 특징으로 하는 액처리방법.