KR100659572B1 - 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물 및 평판 인쇄용 원판 - Google Patents

평판 인쇄판용 감광성 수지조성물 및 평판 인쇄용 원판 Download PDF

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Abstract

본 발명은 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물중에, 적어도 친수기를 갖는 친수성 폴리머를 10중량% 이상 90중량% 이하, 친수성 폴리머의 분자내 및/또는 분자간의 수소결합을 저해하는 화합물을 친수성 폴리머에 대하여 0.5중량% 이상 20중량% 이하 함유하는 것을 특징으로 하는 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물에 관한 것이다. 또한, 평판 인쇄용 원판은, 적어도 친수기를 갖는 친수성 폴리머를 10중량% 이상 90중량% 이하, 친수성 폴리머의 분자내 및/또는 분자간의 수소결합을 저해하는 화합물을 친수성 폴리머에 대하여 0.5중량% 이상 20중량% 이하 함유하는 감광성 수지조성물을 가교하여 이루어지는 친수성 수지 감광층을 갖는 것이 바람직하다. 명실에서 취급하는 것이 가능하고, 현상이나 닦아내는 조작이 불필요하고, 또한 친수성이 우수하고, 습수량을 감소하여도 바탕오염되기 어려운 CTP용의 원판을 제공한다.
평판 인쇄판용 감광성 수지조성물, 친수성 폴리머

Description

평판 인쇄판용 감광성 수지조성물 및 평판 인쇄용 원판{PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION FOR LITHOGRAPHIC PRINTING FORME AND ORIGINAL FORME FOR LITHOGRAPHIC PRINTING}
본 발명은 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물 및 인쇄용의 원판, 특히 습수(濕水)(fountain solution)를 사용하는 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물 및 평판 인쇄용 원판에 관한 것이다. 더욱 자세하게는, 근적외 영역의 광(光)에 감광하여, 명실(明室)에서도 취급하는 것이 가능하고, 판에 직접 레이저광으로 묘화(描畵)할 수 있고, 또한 현상(現像)이나 닦아내는 조작이 불필요하게 되는 것이 가능한, 여러가지의 인쇄 특성이 뛰어난 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물 및 평판 인쇄용 원판에 관한 것이다.
평판인쇄, 소위 오프셋(offset) 인쇄는 종이에의 인쇄에 있어서 주류이며, 널리 이용되고 있다. 종래, 이 오프셋 인쇄에서 사용되는 쇄판(刷版)은 인쇄 원고를 일단 종이 등으로 출력한 후, 이 원고를 사진촬영하여 판하(版下) 필름을 작성하고, 이 판하 필름을 통하여 감광성의 쇄판을 노광(露光), 현상하는 것에 의해 만들어지고 있었다.
그러나, 최근 정보의 디지털화와 레이저의 고출력화에 의해, 쇄판의 작성에 있어서 상기한 판하 필름을 사용하지 않고, 레이저를 주사해서 직접 쇄판에 묘화해서 판을 작성하는 방법, 소위 CTP(Computer To Plate)법이 실용에 제공되고 있다.
현재 실용화되어 있는 CTP용의 원판으로서는, 500nm 전후의 가시광에 의한 광반응을 이용한 포토폴리머(photopolymer)형의 쇄판이 있지만, 이 판은 물론 현상을 필요로 할 뿐만 아니라, 해상도가 뒤떨어지고, 또한 명실에서의 취급이 가능하지 않다고 하는 문제점이 있다.
따라서, 이러한 문제점을 개량하기 위해서, 특개평 7-20629호 공보에는, 근적외선 영역의 광에 의한 열반응을 이용한 평판 인쇄용 원판이 개시되어 있고, 상기 판은 이미 시장에 제공되어 있다. 그러나, 이 판은 명실에서 취급할 수 있고, 또한 해상도도 뛰어나지만, 여전히 현상 처리를 필요로 하고 있다.
그리고, 습식 현상 처리가 불필요한 평판 인쇄용 원판으로서, 특개평 9-127683호 공보에는, 노광 영역에서 자기분산성 수지입자가 용융·융착하여 화상(畵像)을 형성하는 원판이 개시되어 있다. 이 원판은 감광층의 비화선부(非畵線部)가 습수로 제거가 가능한 원판이며, 소위 인쇄기상에서 현상할 수 있어, 전용의 현상기를 필요로 하지는 않는다. 그러나, 인쇄기상에서 현상한 경우, 습수나 잉크를 오염할 뿐만 아니라, 보존시의 습도관리에 엄격함이 요구된다고 하는 결점을 갖는다.
습식현상도 인쇄기상 현상도 필요로 하지 않는 평판 인쇄용 원판으로서, 미국특허 제3476937호에는, 독립하고, 또한 접촉 관계에 있는 소수성 열가소성 수지미립자를 함유하는 친수성 수지층을 갖고, 열에 의해 소수성 열가소성 수지 입자가 융착하여 친수성이 변화하는 원판이 개시되어 있다. 그러나, 이 원판은 특히 광조 사로 묘화한 때에는, 감도가 낮고, 또한 친수성 수지층은 강도가 약하여 내쇄성(耐刷性)이 뒤떨어진다. 또한, 착잉크성을 개선하기 위해서, 소수성 열가소성 수지의 양을 늘리면, 간단히 바탕오염(地汚)(scumming)되어 버린다고 하는 결점을 갖는다.
더욱이, 특개평 7-314934호 공보에는, 티타늄 또는 티타늄 산화물 등의 무기계의 광흡수층상에 실리콘 수지의 발(撥)잉크층을 적층한 구성의 원판도 개발되어 시판되고 있다. 그러나, 이 원판은 실리콘 수지층에 잉크가 겉돌아 비화선부가 되고, 근적외광의 조사에 의해 화선부가 형성되지만, 광의 조사만으로는 조사부의 실리콘 수지층은 제거되지 않고, 인쇄시에는 광을 조사한 부분의 실리콘 수지를 제거하기 위해서 닦아내는 조작을 필요로 한다. 이 실리콘 수지의 닦아내기가 불충분한 경우에는 조사부에 잉크가 충분히 부착되지 않고, 화선부에 결함이 생겨, 잘 인쇄할 수 없다.
따라서, 본 발명자들은 친수성 폴리머, 가교제 및 광흡수제로 이루어지는 감광성 수지조성물, 또는 친수성 폴리머, 가교제, 광흡수제 및 소수성 폴리머로 이루어지는 감광성 수지조성물을 가교한 친수성 수지 감광층으로 이루어지고, 광의 조사에 의해 친수성으로부터 친잉크성으로 변화하는 평판 인쇄용 원판을 국제공개 제01/83234호에 개시했다. 이 원판은 현상이나 닦아내는 조작이 불필요하고, 또한 광조사부의 표면만이 변화하기 때문에, 감도, 해상도가 우수하다. 이 판의 새로운 성능향상을 위하여, 친수층의 보수성(保水性)을 향상시키는 것이 요망된다.
발명의 개시
본 발명의 목적은, 명실에서 취급하는 것이 가능하고, 현상이나 닦아내는 조작이 불필요하게 되는 것이 가능하고, 또한 친수성이 뛰어나고, 습수의 양을 감소해도 바탕오염되기 어려운 친수성이 개량된 CTP용의 감광성 수지조성물 및 CTP용의 원판을 제공하는 것이다.
본 발명자들은 예의 검토한 결과, 친수성 폴리머를 함유하는 감광성 수지조성물중에 친수성 폴리머의 분자내 및/또는 분자간의 수소결합성을 저해시킬 수 있는 화합물을 적량 함유시키고, 그 감광성 수지조성물을 가교하여 친수성 수지감광층을 형성하는 것에 의해 상기의 목적을 달성할 수 있음을 발견하여, 본 발명에 도달했다.
즉, 본 발명은 아래와 같다.
1) 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물중에, 적어도 친수기를 갖는 친수성 폴리머를 10중량% 이상 90중량% 이하, 친수성 폴리머의 분자내 및/또는 분자간의 수소결합을 저해하는 화합물을 친수성 폴리머에 대하여 0.5중량% 이상 20중량% 이하 함유하는 것을 특징으로 하는 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물.
2) 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물중에, 적어도 친수기를 갖는 친수성 폴리머를 10중량% 이상 90중량% 이하, 일반식 (1)로 표시되는 화합물을 친수성 폴리머에 대하여 0.5중량% 이상 20중량% 이하 함유하는 것을 특징으로 하는 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물.
Figure 112005003881302-pct00001
......(1)
(식중, X는 CHR1=CR2-, N(R3)(R4)을 나타내고, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립하여 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 복소환류(複素環類)를 나타낸다. 또한, Y1, Y2는 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 아릴기를 나타내고, 더욱이 Y1과 Y2는 결합하여 질소원자와 환을 형성해도 좋고, 환에는 헤테로 원자를 함유해도 좋다.)
3) 일반식 (1)로 표시되는 화합물의 적어도 일종이 N,N-2치환(메타)아크릴아미드계 화합물인 2) 기재의 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물.
4) 일반식 (1)로 표시되는 화합물의 적어도 일종이 요소인 2) 기재의 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물.
5) 상기 N,N-2치환(메타)아크릴아미드계 화합물이 상기 친수성 폴리머와 공중합하고 있는 것인 3) 기재의 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물.
6) 습수를 사용하고, 친수성 수지감광층을 갖는 평판 인쇄용 원판에 있어서, 상기 친수성 수지감광층이, 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물중에, 적어도 친수기를 갖는 친수성 폴리머를 10중량% 이상 90중량% 이하, 일반식 (1)로 표시되는 화합물을 친수성 폴리머에 대하여 0.5중량% 이상 20중량% 이하 함유하는 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물로부터 얻어지는 것임을 특징으로 하는 평판 인쇄용 원판.
Figure 112005003881302-pct00002
......(1)
(식중, X는 CHR1=CR2-, N(R3)(R4)을 나타내고, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립하여 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 복소환류를 나타낸다. 또한, Y1, Y2 는 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 아릴기를 나타내고, 더욱이 Y1과 Y2는 결합하여 질소원자와 환을 형성해도 좋고, 환에는 헤테로 원자를 함유해도 좋다.)
7) 상기 친수성 수지감광층이 가교된 것인 6) 기재의 평판 인쇄용 원판.
8) 일반식 (1)로 표시되는 화합물의 적어도 일종이 N,N-2치환(메타)아크릴아미드계 화합물인 6) 기재의 평판 인쇄용 원판.
9) 일반식 (1)로 표시되는 화합물의 적어도 일종이 요소인 6) 기재의 평판 인쇄용 원판.
10) 상기 N,N-2치환(메타)아크릴아미드계 화합물이 상기 친수성 폴리머와 공중합하고 있는 것인 8) 기재의 평판 인쇄용 원판.
11) 상기 친수성 수지감광층이, 광의 조사에 의해 조사부 표면의 친수성이 친잉크성으로 변화하는 성질을 갖는 것을 특징으로 하는 6) 기재의 평판 인쇄용 원판.
12) 6) 기재의 평판 인쇄용 원판에 광을 조사하여, 조사부 표면을 친잉크성으로 변화시켜 얻어진 평판 인쇄용의 판.
13) 습수를 사용하고, 친수성 수지감광층을 갖는 평판 인쇄용 원판에 있어서, 상기 친수성 수지감광층이, 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물중에, 적어도 친수기를 갖는 친수성 폴리머를 10중량% 이상 90중량% 이하, 친수성 폴리머의 분자내 및/또는 분자간의 수소결합을 저해하는 화합물을 친수성 폴리머에 대하여 0.5중량% 이상 20중량% 이하 함유하는 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물로부터 얻어지는 것을 특징으로 하는 평판 인쇄용 원판.
본 발명의 평판 인쇄용 원판을 이용하면, 현상이나 닦아내기 등의 공정이 불필요하고, 또한 친수성이 뛰어나고, 바탕오염되지 않는 평판 인쇄판을 제공하는 것이 가능하다.
발명을 실시하기 위한 최선의 형태
이하에, 본 발명을 상세히 설명한다.
본 발명은, 첫째로 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물중에 적어도 친수기를 갖는 친수성 폴리머를 10중량% 이상 90중량% 이하, 친수성 폴리머의 분자내 및/ 또는 분자간의 수소결합을 저해하는 화합물을 친수성 폴리머에 대하여 0.5중량% 이상20중량% 이하 함유하는 것을 특징으로 하는 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물이다.
본 발명의 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물은, 상기 조건을 만족시키면 특별히 한정되지 않고, 현상 유(有) 타입, 현상 무(無) 타입 중 어느 것의 평판 인쇄용으로서도 사용가능하다.
본 발명에 있어서는, 감광성 수지조성물중에 적어도 친수기를 갖는 친수성 폴리머와 친수성 폴리머의 분자내 및/또는 분자간의 수소결합을 저해할 수 있는 화합물을 적정량 함유시키는 것이 특징이다. 상기 화합물을 적정량 함유시키는 것에 의해, 감광층의 친수성이 향상한다. 구체적으로는, 친수성 폴리머를 10중량% 이상 90중량% 이하, 바람직하게는 20중량% 이상 80중량% 이하 함유하는 감광성 수지조성물중에, 상기 화합물을 친수성 폴리머에 대하여 0.5중량% 이상 20중량% 이하 함유시키는 것이 바람직하다. 더 바람직하게는, 1중량% 이상 15중량% 이하 함유시키는 것이 바람직하다. 여기서,「친수성 폴리머에 대하여」란 친수성 폴리머와 상기 화 합물을 합한 중량을 100중량%로 하고 있다. 또한, 친수성 폴리머중에 상기 화합물을 공중합시키는 경우는, 공중합한 친수성 폴리머중의 상기 화합물의 존재량을 기재하고 있다. 감광성 수지조성물중에 친수성 폴리머가 상기 범위내에 있으므로써, 친수성과 내수성, 내쇄성의 양립을 얻을 수 있다. 또한, 친수성 폴리머의 분자내 및/또는 분자간의 수소결합을 저해할 수 있는 화합물이 상기 범위내에 있는 것에 의해, 친수성 폴리머의 친수성이 비약적으로 향상하고, 또한 내쇄성을 악화시키는 등의 문제가 일어날 가능성이 낮다. 본 발명에 있어서, 친수성 폴리머의 분자내 및/또는 분자간의 수소결합을 저해할 수 있는 화합물로는 친수성 폴리머와의 상용성이 있고, 친수성 폴리머내 및/또는 친수성 폴리머 분자간의 관능기끼리의 수소결합을 저해하는 것이면 특별히 한정은 없고, 구체예로서 메틸(메타)아크릴레이트, N-비닐포름아미드, 아세트알데히드, 구아니딘, 초산비닐 등을 들 수 있다. 또한, 바람직하게는, 하기 일반식 (1)
Figure 112005003881302-pct00003
......(1)
(식중, X는 CHR1=CR2-, N(R3)(R4)을 나타내고, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립하여 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 복소환류를 나타낸다. 또한, Y1, Y2는 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 아릴기를 나타내고, 더욱이 Y1과 Y2는 결합하여 질소원자와 환을 형성해도 좋고, 환에는 헤테로 원자를 함유해도 좋다.)로 표시되는 화합물이다.
일반식 (1)중, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립해서 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 복소환류를 나타내고, 구체예로서, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기 등의 알킬기, 메톡시기, 에톡시기 등의 알콕시기, 페닐기, 톨릴기, 카바졸기 등의 아릴기, 피리딜기, 피롤기, 티오페닐기 등의 복소환류를 들 수 있다. 이것들 중에 알릴기, 에테르기, 카르복실기, 카바모일기 등의 관능기가 포함되어 있어도 좋다. 바람직하게는, 알킬기, 알콕시기, 수소원자이다. 또한, Y1, Y2는 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 아릴기를 나타내고, 구체예로서는, 메틸기, 에틸기, 이소프로필기 등의 알킬기, 메톡시기, 에톡시기 등의 알콕시기, 페닐기, 톨릴기, 카바졸기 등의 아릴기를 들 수 있다. 더욱이, Y1과 Y2는 결합하여 질소원자와 환을 형성해도 좋고, 환에는 헤테로 원자를 함유해도 좋다. 구체적으로는, Y1과 Y2는 메틸기, 이소프로필 기, 몰포리노기, 피페리디노기 등을 형성하고 있어도 좋다. 바람직하게는, 디메틸 기, 몰포리노기를 들 수 있다.
일반식 (1)로 표시되는 화합물은, 보다 바람직하게는 N,N-2치환(메타)아크릴아미드계 화합물, 요소이며, N,N-2치환(메타)아크릴아미드계 화합물의 바람직한 구체예로서, N,N-디메틸(메타)아크릴아미드, (메타)아크릴로일몰포린 등을 들 수 있다.
또한, 상기 화합물을 함유시키는 방법으로서는, 감광성 수지조성물중에 첨가해도 좋고, 친수성 폴리머와 공중합시켜 친수성 폴리머내에 함유시켜도 좋다. N,N-2치환(메타)아크릴아미드계 화합물을 함유시키는 경우는 후자의 쪽이 보다 바람직하다.
또한, 이것들을 함유시킨 감광성 수지조성물에서는, 광열변환제로서 색소를 첨가하고 있는 경우, 색소와의 분산성이 향상하고, 감광층중의 색소의 응집물이 감소하고, 생산성이 향상하였다. 친수성 폴리머의 분자내 및 분자간의 수소결합이 억제되어, 색소와 친수성 폴리머의 상용성이 향상한 것으로 생각되고, 색소가 균일하게 분산되어 있는 것도 친수성 향상의 1요인으로 추측된다.
이하에, 본 발명의 제2의 발명인 평판 인쇄용 원판에 대해서 상세히 설명한다.
본 발명의 평판 인쇄용 원판에 있어서는, 기판에, 물에 불용성인 친수성 폴리머로 이루어지는 감광층을 설치하여 이루어진다. 이때 사용할 수 있는 기판의 구체예로서는, 알루미늄판, 강판, 스테인레스판, 구리판 등의 금속판이나, 폴리에스테르, 나일론, 폴리에틸렌, 폴리프로필렌, 폴리카보네이트, ABS 수지 등의 플라스틱 필름이나, 종이, 알루미늄박 라미네이트지, 금속증착지, 플라스틱필름 라미네이트지 등을 들 수 있다. 이들 기재의 두께는 특별히 제한은 없지만, 보통 100~400μm 정도이다. 또한, 이들 기재는 밀착성의 개량 등을 위하여, 산화 처리, 크로메이트(chromate) 처리, 샌드블라스트(sandblast) 처리, 코로나 방전 처리 등의 표면 처리를 실시해도 좋다.
다음에, 본 발명의 물에 불용성인 친수성 폴리머로 이루어지는 감광층에 관해서 자세하게 설명한다. 본 발명의 평판 인쇄용 원판은 습수를 사용하는 오프셋 인쇄용의 판이며, 바람직하게는 무현상형의 판이다. 무현상형의 판인 경우, 감광층의 광조사부 이외는 비화상부가 된다. 따라서 이 경우, 본 발명의 감광층은 친수성 이며, 또한 물에 녹지 않는 것이 필요하다. 그리고, 본 발명의 원판은 광을 조사한 부분의 상기 감광층은 어브레이션(abrasion)에 의해 제거되는 경우는 없고, 감광층의 친수성이 친잉크성으로 변화한다. 이 때문에, 본 발명의 원판은 광의 조사후에 현상이나 닦아내기 등이 불필요하게 되지만, 상기한 바와 같은 특성의 변화를 구현화하기 위해서, 본 발명의 감광층은 친수성 폴리머, 더욱 바람직하게는 가교제 및 광흡수제를 함유하여 이루어지는 감광성 수지조성물, 보다 바람직하게는 친수성 폴리머, 가교제, 소수성 폴리머 및 광흡수제를 함유하여 이루어지는 감광성 수지조성물을 가교하여 이루어지는 것이다. 친수성 폴리머는 가교하는 것에 의해 물에 불용으로 된다. 현상을 하는 방식의 판에서는, 친수성의 표면상에 상기 감광성 수지조성물을 성막하고, 현상하는 것에 의해 미노광부의 감광층을 박리하고, 하지(下地)의 친수성 표면을 드러내게 되어, 감광성 수지조성물을 불용화시킬 필요는 없지만, 취급의 용이성, 현상에 의한 인쇄 품질의 편차, 인쇄공정에서 소요되는 코스트의 관점으로부터, 무현상형의 판이 보다 바람직하다.
본 발명의 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물에 사용하는 친수성 폴리머로는, 적어도 친수기를 갖고, 친수성을 나타내는 폴리머이며, 바람직하게는 친수성기 및 가교제와 반응하는 관능기(가교 관능기)를 갖는 폴리머이다. 친수성 폴리머의 친수성기로서는, 예컨대, 수산기, 아미드기, 아미노기, 술폰아미드기, 옥시메틸렌기, 옥시에틸렌기 등, 더욱이 카르복실기, 술폰산기, 포스폰산기 등의 산성기나, 이들 산성기의 알칼리금속염이나 아민염 등을 들 수 있다.
또한, 가교 관능기로서는, 수산기, 아미드기, 아미노기, 이소시아네이트기, 글리시딜기, 옥사졸린기, 메티롤기, 및 메티롤기와 메탄올이나 부탄올 등의 알코올이 축합한 메톡시메틸기나 부톡시메틸기 등, 더욱이 카르복실기, 술폰산기, 포스폰산기 등의 산성기나, 이들 산성기의 알칼리금속염이나 아민염 등을 들 수 있다.
친수성 폴리머의 보다 구체적인 예로서는, 수용성인 이하의 폴리머를 들 수 있다. 즉, 셀룰로스류, 젤라틴, 상기한 친수성기나 가교 관능기를 갖는 불포화산 및 그 유도체류나 N-비닐아세트아미드, N-비닐포름아미드, 초산비닐, 비닐에테르 등을 중합, 공중합하여 되는 폴리머 및 이 폴리머의 가수분해 폴리머 등이다. 이것들중에서도, 가교의 용이성, 친수성과 내수성의 밸런스, 광조사에 의한 친잉크화의 용이성 등으로부터, 상기한 친수성기나 가교 관능기를 갖는 불포화산 및 그 유도체류나 N-비닐아세트아미드, N-비닐포름아미드 등을 주성분으로 하여 중합하여 이루어지는 폴리머가 바람직하다.
상기한 친수성기나 가교 관능기를 갖는 불포화산 및 그 유도체의 구체예로서는, 수산기를 갖는 불포화산 유도체로서는, 히드록시에틸(메타)아크릴레이트, 폴리에틸렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 히드록시프로필(메타)아크릴레이트, 폴리프로필렌글리콜모노(메타)아크릴레이트, 히드록시부틸(메타)아크릴레이트, 메티롤(메타)아크릴아미드나, 상기 메티롤(메타)아크릴아미드와 메틸알콜이나 부틸알코올의 축합물인 메톡시메틸(메타)아크릴아미드, 부톡시메틸(메타)아크릴아미드 등을 들 수 있다.
아미드기를 갖는 불포화산 유도체로서는, 무치환 또는 치환(메타)아크릴아미드, 무치환 또는 치환 이타콘산아미드, 무치환 또는 치환 푸마르산아미드, 무치환 또는 치환 프탈산아미드, N-비닐아세트아미드, N-비닐포름아미드 등을 들 수 있다.무치환 또는 치환 (메타)아크릴아미드의 보다 구체예로서는, (메타)아크릴아미드, N-메틸(메타)아크릴아미드, N-에틸(메타)아크릴아미드, N-이소프로필(메타)아크릴아미드, 다이아세톤(메타)아크릴아미드, 메티롤(메타)아크릴아미드, 메톡시메틸(메타)아크릴아미드, 부톡시메틸(메타)아크릴아미드, 술폰산프로필(메타)아크릴아미드 등을 들 수 있다. 상기 이타콘산아미드 등의 2염기산아미드의 경우는 한 쪽의 카르복실기가 아미드화된 모노아미드이여도 좋고, 양쪽의 카르복실기가 아미드화된 디아미드여도 좋다. 더욱이, 글리시딜기를 갖는 불포화산 유도체로서는, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 파라비닐페닐글리시딜에테르 등을 들 수 있다.
카르복실기를 갖는 불포화산으로서는, (메타)아크릴산 등의 1염기불포화산, 이타콘산, 푸마르산, 말레인산 및 그 무수물 등의 2염기불포화산이나, 이들 2염기불포화산의 모노에스테르, 모노아미드 등을 들 수 있다.
또한, 술폰산기를 갖는 불포화산으로서는, 술포에틸(메타)아크릴레이트, (메타)아크릴아미드메틸프로판술폰산, 비닐술폰산, 비닐메틸술폰산, 이소프로페닐메틸술폰산, (메타)아크릴산에 에틸렌옥사이드 또는 프로필렌옥사이드를 부가한 알코올의 황산에스테르(예컨대, 산요화성공업(주)의 에레미놀TM RS-30), (메타)아크릴로일옥시에틸술폰산, 모노알킬술포숙신산 에스테르와 알릴기를 갖는 화합물과의 에스테르, 모노알킬술포숙신산 에스테르와 글리시딜(메타)아크릴레이트와의 반응 생성물 등이, 포스폰산기를 갖는 중합성 불포화 모노머로서는, 비닐인산, 인산모노(2-히드 록시에틸)(메타)아크릴레이트, 인산모노알킬에스테르의 모노(2-히드록시에틸)(메타)아크릴레이트 등을 들 수 있다.
이들 카르복실기, 술폰산기나 포스폰산기는 알칼리금속, 알칼리토류금속이나 아민류로 중화되어 있어도 좋다. 중화에 사용되는 알칼리금속으로서는 나트륨, 칼륨, 리튬 등이, 알칼리토류금속으로서는 칼슘, 마그네슘 등이, 그리고 아민으로서는 암모니아, 메틸아민, 디메틸아민, 트리메틸아민, 에틸아민, 디에틸아민, 트리에틸아민, 모노에탄올아민, 디에탄올아민, 트리에탄올아민 등을 들 수 있다.
중합시에는, 상기한 이들 불포화산 및 그 유도체와 공중합 가능한 모노머를 병용해도 좋다. 공중합 가능한 모노머로서는, 예컨대 메틸(메타)아크릴레이트, 에틸(메타)아크릴레이트, 부틸(메타)아크릴레이트, 2-에틸헥실(메타)아크릴레이트, 글리시딜(메타)아크릴레이트, 디메틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 디에틸아미노에틸(메타)아크릴레이트, 페녹시에틸(메타)아크릴레이트, 벤질(메타)아크릴레이트, 아다만틸(메타)아크릴레이트, 시클로헥실(메타)아크릴레이트, 스틸렌, α-메틸스틸렌, 아크릴로니트릴, 메타크릴로니트릴, 초산비닐 등을 들 수 있다.
한편, 본 명세서의 기술(記述)에 있어서, (메타)아크릴아미드나 (메타)아크릴산 등에 있어서의 (메타)아크릴, (메타)아크릴로일, 또한 (메타)아크릴레이트 등은 아크릴과 메타크릴, 아크릴로일과 메타크릴로일, 아크릴레이트와 메타크릴레이트의 양자를 의미한다.
본 발명의 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물에는, 친수성 폴리머를 가교하는데에 가교제를 사용하는 것이 바람직하고, 가교제로서는 상기 친수성 폴리머와 가 교반응하여 친수성 폴리머를 물에 불용성으로 하는 것에 의해 친수성 수지감광층의 내쇄성을 향상시키는 것이면 좋고, 예컨대, 친수성 폴리머중의 가교성 관능기인 수산기, 카르복실기, 술폰산기, 글리시딜기, 경우에 따라서는 아미드기와 반응하는 공지의 다가 알코올 화합물류, 다가 카르복실산 화합물이나 그 무수물류, 다가 글리시딜 화합물류, 다가 아민, 다가 이소시아네이트 화합물이나 블록 이소시아네이트 화합물, 에폭시 수지, 옥사졸린 수지, 아미노 수지 등을 들 수 있다.
본 발명에 있어서는 상기한 가교제 중에서도, 경화 속도와 감광성 수지조성물의 실온에서의 안정성이나, 감광층의 친수성과 내쇄성의 밸런스 등으로부터 공지의 여러가지 수성 에폭시 수지, 공지의 옥사졸린 수지, 공지의 아미노 수지, 수성블록 이소시아네이트 화합물이 바람직하다. 아미노 수지로서는, 공지의 멜라민 수지, 요소 수지, 벤조구아나민 수지나 글리콜우릴 수지 등이나, 이들 수지의 변성수지, 예컨대 카르복시 변성 멜라민 수지 등을 들 수 있다. 또한, 가교반응을 촉진하기 위해서, 상기한 에폭시 수지를 사용하는 때에는 3급 아민류를, 아미노 수지를 사용하는 경우는 파라톨루엔술폰산, 알킬벤젠술폰산류, 염화암모니움 등의 산성 화합물을 병용해도 좋다.
상기 가교제의 주된 역할은, 상기 친수성 폴리머를 가교하고, 친수성 폴리머를 물에 불용성으로 하는 것이지만, 또한 가교제가 자기중합성을 갖는 경우에는, 감광층에 있어서 상기 가교제가 친수성 폴리머중에 도상(島相)을 형성하고, 감광층중의 광흡수제가 광을 흡수하여 광에너지를 열에너지로 변환했을 때, 발생한 열에 의해 도상이 발포하고, 광조사부 표면의 친수성을 친잉크성으로 변화시키는 것도 포함된다.
본 발명의 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물에는, 광의 조사에 의해 조사부 표면의 친수성이 친잉크성으로 변화하기 쉽도록 소수성 폴리머를 더 사용하는 것이 바람직하다. 소수성 폴리머로서는, 판의 감도, 광조사했을 때의 친잉크화의 용이성 등으로부터 동적 광산란법으로 측정한 평균 입자 지름이 0.005~0.5μm인 수분산 소수성 수지가 바람직하고, 0.01~0.2μm의 것이 더 바람직하다. 수분산 소수성 수지란, 미세한 폴리머 입자와 필요에 따라서 상기 입자를 덮는 보호제로 이루어지는 입자를 수성액에 분산시킨 소수성 폴리머를 의미하고, 불포화 모노머를 유화 중합이나 현탁 중합하는 것에 의해 만들어진 소수성 폴리머, 특히 산성기를 갖는 소수성 폴리머, 또는 상기 폴리머의 유기용제 용액을 필요하다면 산성기를 중화하거나, 분산 안정제를 가해서 수중에 분산시킨 폴리머, 필요하다면 유기용제를 증류제거한 폴리머 등을 들 수 있다. 수분산 소수성 수지는, 보다 구체적으로는 예컨대, 비닐폴리머계 라텍스, 공액 디엔폴리머계 라텍스, 아크릴계 라텍스, 수분산 폴리우레탄 수지, 수분산 에폭시 수지 등을 들 수 있다.
상기 소수성 폴리머의 역할은, 감광층에 있어서 상기 소수성 폴리머가 친수성 폴리머중에 도상(島相)으로서 형성되고, 감광층중의 광흡수제가 광을 흡수하여 광에너지를 열에너지로 변환했을 때, 발생한 열에 의해 도상의 소수성 폴리머가 열적으로 용융·융착하여, 광조사부 표면의 친수성을 친잉크성으로 변화시키는 것으로 추정된다. 이 용융·융착에 의한 친잉크성으로의 변화를 효율 좋게 행하게 하는 데에는, 소수성 폴리머의 평균 입자 지름이 상기한 바와 같이 O.005~0.5μm, 보다 바람직하게는 0.01~0.4μm가 바람직하다. 이 입자 지름의 범위내이면, 발생한 열로 소수성 폴리머가 용융·융착하기 쉽고, 감도가 뛰어나고, 감광층의 친수성이 저하하는 경우도 없다.
본 발명의 감광층에 상기 소수성 폴리머를 사용하는 경우, 소수성 폴리머양은 광조사부의 친잉크화의 관점으로부터는 많은 쪽이 바람직하지만, 지나치게 많게 되면 바탕오염을 일으켜 바람직하지 못하다. 이러한 관점으로부터, 본 발명에 있어서의 감광성 수지조성물중의 소수성 폴리머양은 고형분으로서 80중량% 이하인 것이 바람직하다. 보다 바람직하게는 70중량% 이하이다. 더 바람직하게는 60중량% 이하이다.
본 발명의 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물에는 광흡수제가 더 사용되는 것은 바람직한 태양이며, 광흡수제로서는 광을 흡수하여 열을 발생시키는 것이면 좋고, 광의 조사시에는, 광흡수제가 흡수하는 파장영역의 광을 적절히 사용하면 좋다. 광흡수제의 구체예로서는, 시아닌계 색소, 폴리메틴계 색소, 프탈로시아닌계 색소, 나프탈로시아닌계 색소, 안트라시아닌계 색소, 폴피린계 색소, 아조계 색소, 벤조퀴논계 색소, 나프토퀴논계 색소, 디티올 금속착체류, 디아민 금속착체류, 니그로신 등의 각종 색소 및 카본블랙 등을 들 수 있다.
이들 색소에 있어서는, 명실에서의 취급성, 노광기에 사용하는 광원의 출력이나 사용의 용이성의 관점으로부터, 750~1100nm의 영역의 광을 흡수하는 색소가 바람직하다. 색소의 흡수 파장영역에 관해서는 치환기나 π전자의 공액계의 길이 등에 의해 바꾸는 것이 가능하다. 이들 광흡수제는 감광성 수지조성물이 포함되는 수용액에 용해되어 있어도 좋고, 또는 분산되어 있어도 좋다. 상기한 광흡수제 중에서, 본 발명에 있어서는 친수성의 광흡수제가 바람직하다. 보다 구체적으로는 광흡수제의 흡수 파장과 친수성의 관점으로부터, 시아닌 색소가 바람직하다.
더욱이, 본 발명의 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물에는, 인쇄 조건에 대한 안정성을 넓히기 위해서, 여러가지의 계면활성제를 첨가하는 것이 바람직하다. 상기 계면활성제로서는, 음이온성 계면활성제, 양이온성 계면활성제, 비이온성 계면활성제 및 양성 계면활성제를 들 수 있다. 또한, 감광성 수지조성물 수용액의 도포성을 양호화하기 위해서, 반발 방지제(repelling inhibitor), 레벨링제 등의 첨가제를 첨가해도 좋다.
본 발명의 물에 불용인 친수성 수지로 이루어지는 감광층은, 친수성 폴리머, 가교제 및 광흡수제를 함유하는 감광성 수지조성물이 포함되는 용액, 바람직하게는 친수성 폴리머, 가교제, 소수성 폴리머 및 광흡수제를 함유하는 감광성 수지조성물이 포함되는 용액을 기판에 도포하고, 건조, 경화하면 좋다. 도포하는 방법으로서는, 도포하는 용액의 점도나 도포 속도 등에 따라 다르지만, 통상 예컨대, 롤 코터, 블레이드 코터, 그라비아 코터, 커텐 플로우 코터, 다이 코터 및 스프레이법 등을 사용하면 좋다. 도포 용액을 도포한 후, 가열하여 건조 및 친수성 폴리머의 가교를 행한다. 가열 온도는 통상 50~200℃ 정도이다. 감광층의 막두께는 특별히 제한은 없지만, 통상 0.5~10μm 정도가 바람직하다.
본 발명의 인쇄 원판에 있어서는, 친수성 수지로 이루어지는 감광층을 형성한 후 카렌다 가공하거나, 또한 상기 감광층을 보호하기 위해서 감광층상에 필름을 적층해도 좋다.
본 발명의 평판 인쇄용 원판은 광흡수제의 흡수 파장영역의 광, 예컨대 750~1100nm의 영역의 광을 조사하면, 광흡수제가 상기 광을 흡수해서 발열한다. 이 발열에 의해 감광층의 광조사부는 자기중합한 가교제가 발포하거나, 소수성 폴리머가 열융착해서 친수성을 잃어 친잉크화한다. 이때, 광의 조사량을 지나치게 크게 하거나, 또한 광흡수제를 다량으로 첨가하거나 하면 감광층이 분해, 연소 등에 의해 제거, 용융 제거되어버려, 조사부의 주변에 분해물이 비산하므로, 이러한 것은 피하지 않으면 안된다.
이와 같이, 본 발명의 평판 인쇄용 원판은 광을 조사한 부분의 감광층의 친수성이 친잉크성으로 특성이 변화하고, 현상이나 닦아내는 조작을 하지 않아도 광의 조사부에는 잉크가 부착하여, 인쇄가 가능해진다.
본 발명의 평판 인쇄용 원판의 광의 조사에 사용되는 광의 파장은 특별히 한정은 없고, 광흡수제의 흡수 파장영역에 합치하는 광을 사용하면 좋다. 조사시에는 조사 속도의 관점으로부터 수속광(收束光)을 고속으로 주사하는 것이 바람직하고, 사용하기 쉽고, 또한 고출력인 광원이 적합하고, 이러한 관점으로부터 조사하는 광으로서는 레이저광, 특히 750~1100nm의 파장영역의 발진(發振) 파장을 갖는 레이저광이 바람직하고, 예컨대 830nm의 고출력 반도체 레이저나 1064nm의 YAG 레이저를 사용할 수 있다. 이들 레이저를 탑재한 노광기는 소위 써멀(thermal)용 플레이트 셋터(setter)(노광기)로서 이미 시장에 제공되어 있다.
실시예 1
(친수성 폴리머 P-1의 합성)
1000cc의 플라스크에 물 400g을 넣고, 질소를 버블링하여 용존산소를 제거한 후, 80℃로 승온하였다. 질소 가스를 상기 플라스크에 흘리면서, 여기에 아크릴아미드 90.3g, N-비닐포름아미드 11.3g, 히드록시에틸메타크릴레이트 18.4g, 물 130g으로 이루어지는 모노머 용액과, 과황산칼륨 1.0g을 물 100g에 용해한 개시제의 수용액을, 내부온도를 80℃로 유지하면서 각각 2시간에 걸쳐 연속 적하하였다. 적하 종료후, 80℃에서 3시간 중합을 계속하였다. 최후에 물 50g을 가하고, 친수성 폴리머 P-1의 15% 수용액을 합성하였다.
(평판 인쇄용의 원판의 작성)
두께 0.2mm의 폴리에스테르 필름에 하기 조성(단위:중량부와 중량%, 이하 같음)으로 이루어지는 감광성 수지조성물이 포함되는 수용액을 닥터 블레이드를 사용하여 도포한 후, 120℃에서 30분간 건조하여, 2μm의 막두께의 감광층을 성막하여, 평판 인쇄용의 원판을 작성했다(아크릴로일몰포린:친수성 폴리머에 대하여 15%, 친수성 폴리머:감광성 수지조성물에 대하여 52%).
상기 친수성 폴리머 P-1의 수용액(고형분 15%）400부
메틸화 멜라민 수지(미쓰이사이테크(주)제 사이멜TM 385, 고형분 80%）50부
시아닌 색소 수용액(일본감광성색소(주)제 IR-125, 고형분 5%）100부
음이온성 계면활성제(다이이치공업제약(주)제 네오콜TM YSK, 고형분 70%） 0.15부
아크릴로일몰포린 10.5부
(묘화)
이 원판에 파장 830nm의 반도체 레이저광을 350mJ/cm2의 조사 에너지 밀도가 되도록 집광(集光)하면서 주사 조사하여, 200선/인치의 화상정보의 묘화를 행하였다.
(인쇄 평가)
이 노광한 판을 오프셋 인쇄기(미쓰비시중공제 다이아 1F-4)에 세트, 습수로서 (주)니켄화학연구소제의 H액 아스트로마크 3의 2% 수용액, 잉크로서 도요잉크제조(주)제의 하이에코TM SOY를 사용하여 인쇄를 행하였다. 그 결과, 습수량을 PS판과 같은 정도의 인쇄기의 능력의 50%로 줄여도, 광의 미조사부에는 잉크가 전혀 부착되지 않고, 한편, 조사부에는 잉크가 충분히 부착하여, 묘화한 화상이 인쇄용지상에 재현되었다. 5천매 인쇄후에도, 미조사부에는 잉크가 전혀 부착되지 않고, 조사부에의 잉크 부착성도 손상되지 않았다.
실시예 2
실시예 1의 아크릴로일몰포린을 요소 수용액(고형분 15%）70부로 바꾼 이외는, 실시예 1과 동일하게 하여 인쇄 원판을 만들고, 묘화 및 인쇄 평가를 행하였다(요소:친수성 폴리머에 대하여 15%, 친수성 폴리머:감광성 수지조성물에 대하여 52%). PS판과 같은 정도의 인쇄기의 능력의 50%로 습수량을 줄여도, 광의 미조사부 에는 잉크가 전혀 부착되지 않고, 한편, 조사부에는 잉크가 충분히 부착하여, 묘화한 화상이 인쇄용지상에 재현되었다. 5천매 인쇄후에도, 미조사부에는 잉크가 전혀 부착되지 않고, 조사부에의 잉크 부착성도 손상되지 않았다.
실시예 3
(친수성 폴리머 P-2의 합성)
1000cc의 플라스크에 물 500g을 넣고, 질소를 버블링하여 용존산소를 제거한 후, 80℃로 승온하였다. 질소 가스를 상기 플라스크에 흘리면서, 여기에 아크릴아미드 137.1g, 아크릴로일몰포린 7.9g, 2-히드록시에틸아크릴레이트 5g, 물 150g, 포스핀산나트륨 수화물 0.3g으로 이루어지는 모노머 용액과, 과황산칼륨 1.5g을 물 100g에 용해한 개시제의 수용액을, 내부온도를 80℃로 유지하면서 각각 2시간에 걸쳐 연속 적하하였다. 적하 종료후, 80℃에서 3시간 중합을 계속하였다. 최후에 물 100g을 가하고, 친수성 폴리머 P-2의 15% 수용액을 합성하였다(아크릴로일몰포린:친수성 폴리머에 대하여 5.3%).
(평판 인쇄용 원판의 작성)
두께 0.2mm의 폴리에스테르 필름에 하기 조성(단위:중량부와 중량%, 이하 같음)으로 이루어지는 감광성 수지조성물이 포함되는 수용액을 닥터 블레이드를 사용하여 도포한 후, 120℃에서 15분간 건조하여, 2μm의 막두께의 감광층을 성막하여, 평판 인쇄용 원판을 작성했다(친수성 폴리머:감광성 수지조성물에 대하여 57%).
상기 친수성 폴리머 P-2의 수용액(고형분 15%, 친수성 폴리머에 대하여 아크릴로일몰포린 5.3%）400부
메틸화 멜라민 수지(미쓰이사이테크(주)제 사이멜TM 701, 고형분 82%）49부
시아닌 색소(일본감광성색소(주)제 IR-125, 고형분 5%）100부
음이온성 계면활성제(다이이치공업제약(주)제 네오콜TM YSK, 고형분 70%）0.14부
(묘화)
이 원판에 파장 830nm의 반도체 레이저광을 350mJ/cm2의 조사 에너지 밀도가 되도록 집광하면서 주사 조사하여, 200선/인치의 화상정보의 묘화를 행하였다.
(인쇄 평가)
이 노광한 판을 습수를 사용하는 오프셋 인쇄기(미쓰비시중공제 다이아 1F-4)에 세트하고, 습수로서 (주)니켄화학연구소제의 H액 아스트로마크 3의 2% 수용액, 잉크로서 도요잉크제조(주)제의 하이에코TM SOY를 사용하여 인쇄를 행하였다. 그 결과, 습수량을 PS판과 같은 정도의 인쇄기의 능력의 50%로 줄여도, 광의 미조사부에는 잉크가 전혀 부착되지 않고, 한편, 조사부에는 잉크가 충분히 부착하여, 묘화한 화상이 인쇄용지상에 재현되었다. 5천매 인쇄후에도, 미조사부에는 잉크가 전혀 부착되지 않고, 조사부에의 잉크 부착성도 손상되지 않았다.
실시예 4
실시예 3에 있어서, 기판을 폴리에스테르 필름으로부터, 접착성 향상을 위하여 미리 프라이머로서 1μm의 두께의 우레탄 수지(다이이치공업제약(주)제 슈퍼플 렉스TM 410)를 도포한 두께 0.3mm의 알루미늄판으로 치환한 이외에는 실시예 1과 동일하게 하여 평판 인쇄용 원판을 만들고, 묘화 및 인쇄 평가를 행한 결과, PS판과 같은 정도로 습수량을 줄여도 광의 미조사부에는 잉크가 전혀 부착되지 않고, 한편, 조사부에는 잉크가 충분히 부착하여, 묘화한 화상이 인쇄용지상에 재현되었다. 1만매 인쇄후에도, 미조사부에는 잉크가 전혀 부착되지 않고, 조사부에의 잉크 부착성도 손상되지 않았다.
실시예 5
실시예 3의 감광성 수지조성물을 하기 조성으로 바꾼 이외에는, 실시예 3과 동일하게 하여 평판 인쇄용 원판을 만들었다(친수성 폴리머:감광성 수지조성물에 대하여 36%).
상기 친수성 폴리머 P-2의 수용액(고형분 15%, 친수성 폴리머에 대하여 아크릴로일몰포린 5.3%）270부
메틸화 멜라민 수지(미쓰이사이테크(주)제 사이멜TM 385, 고형분 80%）13부
수분산 우레탄 수지(다이이치공업제약(주)제 슈퍼플렉스TM 410, 고형분 40%) 125부
시아닌 색소(일본감광성색소(주)제 IR-125, 고형분 5%）200부
음이온성 계면활성제(다이이치공업제약(주)제 네오콜TM YSK, 고형분 70%）0.14부
이 판에 파장 830nm의 반도체 레이저광을 200mJ/cm2의 조사 에너지 밀도가 되도록 집광하면서 주사 조사하여, 200선/인치의 화상정보의 묘화를 행하고, 인쇄 평가를 행한 결과, PS판과 같은 정도로 습수량을 줄여도 광의 미조사부에는 잉크가 전혀 부착되지 않고, 한편, 조사부에는 잉크가 충분히 부착하여, 묘화한 화상이 인쇄용지상에 재현되었다.
실시예 6
실시예 5에 있어서, 친수성 폴리머 P-2의 아크릴로일몰포린의 첨가량을 1.5g으로 바꾼 이외에는, 실시예 5와 동일하게 하여 평판 인쇄용 원판을 만들고(아크릴로일몰포린:친수성 폴리머에 대하여 1%, 친수성 폴리머:감광성 수지조성물에 대하여 36%), 묘화 및 인쇄 평가를 한 결과, PS판과 같은 정도로 습수량을 줄여도 광의 미조사부에는 잉크가 전혀 부착되지 않고, 한편, 조사부에는 잉크가 충분히 부착하여, 묘화한 화상이 인쇄용지상에 재현되었다.
실시예 7
실시예 5에 있어서, 친수성 폴리머의 아크릴로일몰포린을 N,N-디메틸메타크릴아미드로 바꾼 이외에는, 실시예 5와 동일하게 하여 평판 인쇄용 원판을 만들고(디메틸메타크릴아미드:친수성 폴리머에 대하여 5.3%, 친수성 폴리머:감광성 수지조성물에 대하여 36%), 묘화 및 인쇄 평가를 한 결과, PS판과 같은 정도로 습수량을 줄여도 광의 미조사부에는 잉크가 전혀 부착되지 않고, 한편, 조사부에는 잉크가 충분히 부착하여, 묘화한 화상이 인쇄용지상에 재현되었다.
비교예 1
실시예 1의 아크릴로일몰포린을 첨가하지 않은 것 이외에는, 실시예 1과 동일하게 하여 평판 인쇄용의 원판을 만들고(아크릴로일몰포린:친수성 폴리머에 대하여 0%, 친수성 폴리머:감광성 수지조성물에 대하여 52%), 묘화 및 인쇄 평가를 행한 결과, 양호한 인쇄를 행하는 데에는 습수량이 인쇄기의 능력의 70%로 많이 필요하였다. 습수량을 PS판과 같은 정도의 인쇄기의 능력의 50%로 줄이면 바탕오염이 발생하였다.
비교예 2
실시예 2에 있어서, 요소 수용액(고형분 15%)의 첨가량을 120부로 바꾼 이외에는, 실시예 2와 동일하게 하여 평판 인쇄용의 원판을 만들고(요소:친수성 폴리머에 대하여 23%, 친수성 폴리머:감광성 수지조성물에 대하여 49%), 묘화 및 인쇄 평가를 행한 결과, 인쇄 평가 도중에 감광층이 일부 박리하여, 평가할 수 없었다.
비교예 3
실시예 3에 있어서, 친수성 폴리머 P-2의 아크릴로일몰포린의 첨가량을 0.6g으로 바꾼 이외에는, 실시예 5와 동일하게 하여 평판 인쇄용 원판을 만들고(아크릴로일몰포린:친수성 폴리머에 대하여 O.4%, 친수성 폴리머:감광성 수지조성물에 대하여 57%), 묘화 및 인쇄 평가를 행한 결과, 양호한 인쇄를 행하는 데에는 습수량이 인쇄기의 능력의 70%로 많이 필요하였다. 습수량을 PS판과 같은 정도의 인쇄기의 능력의 50%로 줄이면 바탕오염이 발생하였다.
비교예 4
실시예 5에 있어서, 친수성 폴리머 P-2의 아크릴로일몰포린의 첨가량을 38g으로 바꾼 이외에는, 실시예 5와 동일하게 하여 평판 인쇄용 원판을 만들고(아크릴로일몰포린:친수성 폴리머에 대하여 21%, 친수성 폴리머:감광성 수지조성물에 대하여 57%), 묘화 및 인쇄 평가를 행한 결과, 양호한 인쇄를 행하는 데에는 습수량이 인쇄기의 능력의 75%로 많이 필요하였다. 습수량을 PS판과 같은 정도의 인쇄기의 능력의 50%로 줄이면 바탕오염이 발생하였다.
친수성 폴리머 함유량 (중량%) 저해제 화합물 저해제 함유량 (중량%) 습수량 (%) 비고
실시예 1 52 아크릴로일몰포린 15 50 수지조성물중에 첨가
실시예 2 52 요소 15 50 수지조성물중에 첨가
실시예 3 57 아크릴로일몰포린 5.3 50 친수성 폴리머에 공중합
실시예 4 57 아크릴로일몰포린 5.3 50 친수성 폴리머에 공중합
실시예 5 36 아크릴로일몰포린 5.3 50 친수성 폴리머에 공중합
실시예 6 36 아크릴로일몰포린 1 50 친수성 폴리머에 공중합
실시예 7 36 N,N-디메틸메타크릴아미드 5.3 50 친수성 폴리머에 공중합
비교예 1 52 - 0 70 무첨가
비교예 2 49 요소 23 -(박리) 수지조성물중에 첨가
비교예 3 57 아크릴로일몰포린 0.4 70 친수성 폴리머에 공중합
비교예 4 57 아크릴로일몰포린 21 75 친수성 폴리머에 공중합
본 발명은 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물 및 인쇄용의 원판, 특히 습수를 사용하는 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물 및 평판 인쇄용 원판에 관한 것이다. 더 자세하게는, 근적외 영역의 광에 감광하여, 명실에서도 취급할 수 있고, 판에 직접 레이저광으로 묘화할 수 있고, 또한 현상이나 닦아내는 조작이 불필요하고, 여러가지 인쇄 특성이 뛰어난 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물 및 평판 인쇄용 원판에 관한 것이다.

Claims (13)

  1. 삭제
  2. 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물중에, 적어도 친수기를 갖는 친수성 폴리머를 10중량% 이상 90중량% 이하, 하기의 일반식 (1)로 표시되는 화합물을 친수성 폴리머에 대하여 0.5중량% 이상 20중량% 이하 함유하는 것을 특징으로 하는 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물.
    Figure 112005003881302-pct00004
    ......(1)
    (식중, X는 CHR1=CR2-, N(R3)(R4)을 나타내고, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립하여 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 복소환류를 나타낸다. 또한, Y1, Y2는 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 아릴기를 나타내고, 더욱이 Y1과 Y2는 결합하여 질소원자와 환을 형성해도 좋고, 환에는 헤테로 원자를 함유해도 좋다.)
  3. 제2항에 있어서, 상기 일반식 (1)로 표시되는 화합물의 적어도 일종이 N,N-2치환(메타)아크릴아미드계 화합물인 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물.
  4. 제2항에 있어서, 상기 일반식 (1)로 표시되는 화합물의 적어도 일종이 요소인 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물.
  5. 제3항에 있어서, 상기 N,N-2치환(메타)아크릴아미드계 화합물이 상기 친수성 폴리머와 공중합하고 있는 것인 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물.
  6. 습수를 사용하고, 친수성 수지감광층을 갖는 평판 인쇄용 원판에 있어서, 상기 친수성 수지감광층이, 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물중에, 적어도 친수기를 갖는 친수성 폴리머를 10중량% 이상 90중량% 이하, 하기 일반식 (1)로 표시되는 화합물을 친수성 폴리머에 대하여 0.5중량% 이상 20중량% 이하 함유하는 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물로부터 얻어지는 것임을 특징으로 하는 평판 인쇄용 원판.
    Figure 112005003881302-pct00005
    ......(1)
    (식중, X는 CHR1=CR2-, N(R3)(R4)을 나타내고, R1, R2, R3 및 R4는 각각 독립하여 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 아릴기, 복소환류를 나타낸다. 또한, Y1, Y2는 수소원자, 알킬기, 알콕시기, 아릴기를 나타내고, 더욱이 Y1과 Y2는 결합하여 질소원자와 환을 형성해도 좋고, 환에는 헤테로 원자를 함유해도 좋다.)
  7. 제6항에 있어서, 상기 친수성 수지감광층이 가교된 것인 평판 인쇄용 원판.
  8. 제6항에 있어서, 상기 일반식 (1)로 표시되는 화합물의 적어도 일종이 N,N-2치환(메타)아크릴아미드계 화합물인 평판 인쇄용 원판.
  9. 제6항에 있어서, 상기 일반식 (1)로 표시되는 화합물의 적어도 일종이 요소인 평판 인쇄용 원판.
  10. 제8항에 있어서, 상기 N,N-2치환(메타)아크릴아미드계 화합물이 상기 친수성 폴리머와 공중합하고 있는 것인 평판 인쇄용 원판.
  11. 제6항에 있어서, 상기 친수성 수지감광층이 광의 조사에 의해 조사부 표면의 친수성이 친잉크성으로 변화하는 성질을 갖는 것을 특징으로 하는 평판 인쇄용 원판.
  12. 제6항 기재의 평판 인쇄용 원판에 광을 조사하여, 조사부 표면을 친잉크성으로 변화시켜 얻어진 평판 인쇄용의 판.
  13. 습수를 사용하고, 친수성 수지감광층을 갖는 평판 인쇄용 원판에 있어서, 상기 친수성 수지감광층이, 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물중에, 적어도 친수기를 갖는 친수성 폴리머를 10중량% 이상 90중량% 이하, 친수성 폴리머의 분자내, 분자간, 또는 분자내 및 분자간의 수소결합을 저해하는 화합물을 친수성 폴리머에 대하여 0.5중량% 이상 20중량% 이하 함유하는 평판 인쇄판용 감광성 수지조성물로부터 얻어지는 것임을 특징으로 하는 평판 인쇄용 원판.
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